JP6794654B2 - Encoder device, drive device, stage device, and robot device - Google Patents

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    • G01D5/12Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means

Description

本発明は、エンコーダ装置、駆動装置、ステージ装置、及びロボット装置に関する。 The present invention relates to an encoder device, a drive device, a stage device, and a robot device.

回転情報(回転位置情報と称する場合もある。)を検出するエンコーダ装置は、駆動装置(例えば、モータ装置)などの各種装置に搭載されている(例えば、下記特許文献1参照)。エンコーダ装置は、例えば、駆動装置の回転軸に設けられて回転する回転部を備え、この回転部のパターンからの光又は磁気を検出部により検出して回転情報を取得する。 An encoder device that detects rotation information (sometimes referred to as rotation position information) is mounted on various devices such as a drive device (for example, a motor device) (see, for example, Patent Document 1 below). The encoder device includes, for example, a rotating unit provided on the rotating shaft of the driving device and rotates, and the detection unit detects light or magnetism from the pattern of the rotating unit to acquire rotation information.

特開2004−318439号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-318439

エンコーダ装置は、回転情報を精度よく取得可能なことが望まれる。エンコーダ装置は、例えば、回転軸の位置が変動すると、回転部(パターン)と検出部との位置ずれが生じる。この両者の位置ずれにより、取得する回転情報の精度が低下することがある。 It is desired that the encoder device can acquire rotation information with high accuracy. In the encoder device, for example, when the position of the rotating shaft fluctuates, the positional deviation between the rotating portion (pattern) and the detecting portion occurs. Due to the misalignment between the two, the accuracy of the acquired rotation information may decrease.

本発明の第1態様に従えば、測定対象の回転軸に固定され、パターンが形成された回転部と、パターンを検出する検出部と、検出部が取り付けられると共に回転部の回転を許容する基板と、回転部を収容するケースと基板との間を接続し、回転軸の移動に基板を追従させる接続部と、を有する支持部と、を備えるエンコーダ装置が提供される。また、測定対象の回転軸に固定され、パターンが形成された回転部と、パターンを検出し、回転軸の偏心移動、軸方向に対する傾き方向への移動、及び軸方向への移動のうち、少なくとも1つの移動に応じて移動する検出部と、検出部を支持する支持部と、を備えるエンコーダ装置が提供される。 According to the first aspect of the present invention, a rotating portion fixed to a rotating shaft to be measured and having a pattern formed, a detecting portion for detecting the pattern, and a substrate to which the detecting portion is attached and allowing rotation of the rotating portion are attached. And an encoder device including a support portion having a connection portion for connecting between a case accommodating the rotating portion and the substrate and causing the substrate to follow the movement of the rotating shaft. Further, at least of the rotating portion fixed to the rotating shaft to be measured and the pattern formed, the eccentric movement of the rotating shaft, the movement in the tilting direction with respect to the axial direction, and the movement in the axial direction by detecting the pattern An encoder device including a detection unit that moves in response to one movement and a support unit that supports the detection unit is provided.

本発明の第2態様に従えば、第1態様に従うエンコーダ装置と、回転軸に駆動力を供給する駆動部と、を備える駆動装置が提供される。 According to the second aspect of the present invention, there is provided a drive device including an encoder device according to the first aspect and a drive unit that supplies a driving force to the rotating shaft.

本発明の第3態様に従えば、移動体と、移動体を移動させる第2態様に従う駆動装置と、を備えるステージ装置が提供される。 According to the third aspect of the present invention, there is provided a stage device including a moving body and a driving device according to the second aspect of moving the moving body.

本発明の第4態様に従えば、第2態様に従う駆動装置を備えるロボット装置が提供される。 According to the fourth aspect of the present invention, a robot device including a driving device according to the second aspect is provided.

第1実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図、(c)は一部の側面図である。It is a figure which shows an example of the encoder device which concerns on 1st Embodiment, (a) is a sectional view, (b) is a plan view, (c) is a part of a side view. 回転軸の偏心移動した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which eccentricity moved of the rotation axis. 第2実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図、(c)は一部の側面図である。It is a figure which shows an example of the encoder device which concerns on 2nd Embodiment, (a) is a sectional view, (b) is a plan view, (c) is a part of a side view. 第3実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。It is a figure which shows an example of the encoder device which concerns on 3rd Embodiment, (a) is a sectional view, (b) is a plan view. 第4実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。It is a figure which shows an example of the encoder device which concerns on 4th Embodiment, (a) is a sectional view, (b) is a plan view. 第5実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。It is a figure which shows an example of the encoder device which concerns on 5th Embodiment, (a) is a sectional view, (b) is a plan view. 第6実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the encoder device which concerns on 6th Embodiment. (A)及び(B)は、第6実施形態において回転軸が移動した状態を示す断面図である。(A) and (B) are cross-sectional views showing a state in which the rotation axis is moved in the sixth embodiment. 第7実施形態に係るエンコーダ装置の一例を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。It is a figure which shows an example of the encoder device which concerns on 7th Embodiment, (a) is a sectional view, (b) is a plan view. 駆動装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a drive device. ステージ装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a stage apparatus. ロボット装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a robot apparatus.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。また、図面において、一部分を大きくまたは強調して記載するなど適宜縮尺を変更して表現する。また、以下の各図に示すXYZ座標系を適宜用いて方向を説明する。X方向、Y方向及びZ方向のそれぞれは、適宜、図中の矢印の方向が+方向(例、+X方向)であり、その反対方向が−方向(例、−X方向)であるとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this. In addition, in the drawings, the scale may be changed as appropriate, such as drawing a part larger or emphasized. In addition, the directions will be described using the XYZ coordinate systems shown in the following figures as appropriate. In each of the X direction, the Y direction, and the Z direction, it is assumed that the direction of the arrow in the drawing is the + direction (eg, the + X direction) and the opposite direction is the − direction (eg, the −X direction).

[第1実施形態]
図1は、第1実施形態に係るエンコーダ装置100の一例を示す図である。図1(A)はXZ平面に平行な平面による断面図、(B)は−Z方向に見たときの平面図である。図1(C)については後述する。図1(A)及び(B)に示すように、エンコーダ装置100は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部40と、を備えている。エンコーダ装置100は、例えば、モータ等の駆動部101に取り付けられる。エンコーダ装置100は、駆動部101の回転軸102の回転情報(回転位置情報)を検出する。回転軸102は、例えばモータのシャフト(回転子)であるが、負荷に接続される作用軸(出力軸)でもよい。作用軸は、例えば、モータのシャフトに変速機などの動力伝達部を介して接続される。エンコーダ装置100が検出した回転情報は、例えば、駆動部101の制御部に供給される。この制御部は、エンコーダ装置100から供給された回転情報を使って、回転軸102の回転を制御する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing an example of the encoder device 100 according to the first embodiment. FIG. 1A is a cross-sectional view taken along a plane parallel to the XZ plane, and FIG. 1B is a plan view when viewed in the −Z direction. FIG. 1C will be described later. As shown in FIGS. 1A and 1B, the encoder device 100 includes a rotating unit 10, a detecting unit 20, a case unit 30, and a supporting unit 40. The encoder device 100 is attached to, for example, a drive unit 101 such as a motor. The encoder device 100 detects rotation information (rotation position information) of the rotation shaft 102 of the drive unit 101. The rotary shaft 102 is, for example, a shaft (rotor) of a motor, but may be an action shaft (output shaft) connected to a load. The working shaft is connected to the shaft of the motor, for example, via a power transmission unit such as a transmission. The rotation information detected by the encoder device 100 is supplied to, for example, the control unit of the drive unit 101. This control unit controls the rotation of the rotation shaft 102 by using the rotation information supplied from the encoder device 100.

回転情報は、回転軸102の回転の数を表す多回転情報、及び回転軸102の1回転未満の角度位置(回転角)を表す角度位置情報を含む。多回転情報は、例えば、1回転、2回転というように回転の数を整数で表した情報でもよいし、360°、720°というように回転の数を角度(例、360°の整数倍)で表した情報でもよい。角度位置情報は、90°、120°、270°といった情報であり、回転情報は、例えば、1回転と90°(450°)というように、1回転未満の回転角と1回転以上の回転角とを区別可能な情報である。なお、回転情報、多回転情報、及び角度位置情報の少なくとも一つは、度(°)以外の次元(例、ラジアン)で表されてもよいし、その数値が2進数など(例、所定のビット数のデジタルデータ)で表されてもよい。 The rotation information includes multi-rotation information indicating the number of rotations of the rotation shaft 102 and angular position information indicating an angular position (rotation angle) of the rotation shaft 102 less than one rotation. The multi-rotation information may be information in which the number of rotations is expressed as an integer, for example, 1 rotation or 2 rotations, or the number of rotations is an angle (eg, an integral multiple of 360 °) such as 360 ° or 720 °. The information represented by may be used. The angular position information is information such as 90 °, 120 °, and 270 °, and the rotation information is a rotation angle of less than one rotation and a rotation angle of one rotation or more, for example, one rotation and 90 ° (450 °). It is information that can be distinguished from. At least one of the rotation information, the multi-rotation information, and the angular position information may be represented by a dimension (eg, radian) other than the degree (°), and the numerical value may be a binary number or the like (eg, a predetermined value). It may be represented by digital data of the number of bits).

回転部10は、スケール11を有する。スケール11は、例えばモータ等の駆動部101の回転軸102の反負荷側に固定される。反負荷側は、回転軸102のうち駆動部101の回転軸102によって駆動される回転対象物が接続される側とは反対側である。スケール11が反負荷側に配置される場合、回転対象物がある負荷等などからの汚れ(例、油)がスケール11まで飛散して付着することが抑制される。 The rotating unit 10 has a scale 11. The scale 11 is fixed to the counterload side of the rotating shaft 102 of the drive unit 101 of, for example, a motor or the like. The counterload side is the side of the rotating shaft 102 opposite to the side to which the rotating object driven by the rotating shaft 102 of the driving unit 101 is connected. When the scale 11 is arranged on the opposite side of the load, dirt (eg, oil) from a load or the like with a rotating object is prevented from scattering and adhering to the scale 11.

スケール11は、例えば、円盤状の部材であり、+Z側の上面及び−Z側の下面がXY平面に平行な板状のものが用いられる。スケール11は、回転軸102に固定され、回転軸102に対して垂直(XY平面に平行)またはほぼ垂直に配置される。また、スケール11中心は、回転軸102の回転の中心軸AXを通るように配置される。スケール11の素材は任意であり、例えば、金属、樹脂等により形成される。 The scale 11 is, for example, a disk-shaped member, and a plate-shaped scale whose upper surface on the + Z side and lower surface on the −Z side are parallel to the XY plane is used. The scale 11 is fixed to the rotation axis 102 and is arranged perpendicularly (parallel to the XY plane) or substantially perpendicular to the rotation axis 102. Further, the center of the scale 11 is arranged so as to pass through the central axis AX of the rotation of the rotating shaft 102. The material of the scale 11 is arbitrary, and is formed of, for example, metal, resin, or the like.

スケール11は、パターン12を備えている。パターン12は、スケール11の上面に円環状(リング状)に設けられる。パターン12の中心は、例えばスケール11の中心にほぼ一致する。パターン12は、同心円状に形成されるインクリメンタルパターン及びアブソリュートパターンの少なくとも一方を含む。パターン12は、例えば光反射パターンであるが、これに限定するものではなく、光透過パターンであってもよい。 The scale 11 includes a pattern 12. The pattern 12 is provided on the upper surface of the scale 11 in an annular shape (ring shape). The center of the pattern 12 substantially coincides with the center of the scale 11, for example. Pattern 12 includes at least one of an incremental pattern and an absolute pattern formed concentrically. The pattern 12 is, for example, a light reflection pattern, but is not limited to this, and may be a light transmission pattern.

検出部20は、スケール11のうちパターン12が形成された面に対向して配置される。検出部20は、パターン12に対して光を照射する光照射部と、パターン12に照射されて反射した光を検出する受光部と、を有している。光照射部は、例えば発光ダイオード(LED)等の固体光源を含む。光照射部は、発光ダイオード以外の固体光源(例、レーザダイオード)を含んでもよいし、ランプ光源を含んでもよい。受光部としては、例えば光電素子などが用いられる。受光部によって読み取られた光は、電気信号として有線または無線により例えば不図示の制御装置に送信される。 The detection unit 20 is arranged so as to face the surface of the scale 11 on which the pattern 12 is formed. The detection unit 20 includes a light irradiation unit that irradiates the pattern 12 with light, and a light receiving unit that detects the light that is irradiated and reflected by the pattern 12. The light irradiation unit includes a solid-state light source such as a light emitting diode (LED). The light irradiation unit may include a solid-state light source (eg, a laser diode) other than the light emitting diode, or may include a lamp light source. As the light receiving unit, for example, a photoelectric element or the like is used. The light read by the light receiving unit is transmitted as an electric signal by wire or wirelessly to, for example, a control device (not shown).

ケース部30は、回転部10及び検出部20を収容する。ケース部30は、駆動部101のうち本体部103に取り付けられる。ケース部30は、円筒部31及び蓋部32を有している。円筒部31は、ボルト等の不図示の固定部材により、本体部103の+Z側の面に固定されている。円筒部31は、回転部10の周囲を囲んで配置される。円筒部31は、中心軸が回転軸102の中心軸AXと一致するように配置される。蓋部32は、円筒部31の+Z側の端面に配置される。蓋部32は、例えば、不図示の固定部材により、円筒部31に固定されるが、円筒部31と一体に形成されたものでもよい。蓋部32は、回転部10のスケール11と対向するように配置される。 The case portion 30 accommodates the rotating portion 10 and the detecting portion 20. The case portion 30 is attached to the main body portion 103 of the drive units 101. The case portion 30 has a cylindrical portion 31 and a lid portion 32. The cylindrical portion 31 is fixed to the + Z side surface of the main body portion 103 by a fixing member (not shown) such as a bolt. The cylindrical portion 31 is arranged so as to surround the rotating portion 10. The cylindrical portion 31 is arranged so that the central axis coincides with the central axis AX of the rotating shaft 102. The lid portion 32 is arranged on the + Z side end face of the cylindrical portion 31. The lid portion 32 is fixed to the cylindrical portion 31 by, for example, a fixing member (not shown), but may be integrally formed with the cylindrical portion 31. The lid portion 32 is arranged so as to face the scale 11 of the rotating portion 10.

支持部40は、基板41及び接続部42を有する。基板41は、例えば矩形の板状であり、スケール11に対して中心軸AXの軸線方向に所定間隔を空けて配置される。基板41は、スケール11に平行またはほぼ平行に配置される。また、基板41は、蓋部32に対しても平行またはほぼ平行に配置される。 The support portion 40 has a substrate 41 and a connection portion 42. The substrate 41 has, for example, a rectangular plate shape, and is arranged at a predetermined interval in the axial direction of the central axis AX with respect to the scale 11. The substrate 41 is arranged parallel to or substantially parallel to the scale 11. Further, the substrate 41 is arranged parallel to or substantially parallel to the lid portion 32.

基板41の−Z側の面には、検出部20が取り付けられる。基板41は、検出部20に電気的に接続される回路を有してもよい。基板41は、中心軸AXの軸線方向に貫通された貫通部41aを有している。貫通部41aには、軸受43を介して回転軸102が貫通される。基板41は、軸受43によって回転軸102の中心軸AXの軸線周り方向に回転可能に支持されている。この軸受43により、回転軸102が回転した場合でも基板41が回転することなく回転軸102に基板が支持される。また、基板41は、軸受43で支持されることによりスケール11との間隔を一定に維持する。これにより、検出部20は、パターン12に対する距離を一定に維持することができる。 The detection unit 20 is attached to the −Z side surface of the substrate 41. The substrate 41 may have a circuit that is electrically connected to the detection unit 20. The substrate 41 has a penetrating portion 41a penetrating in the axial direction of the central axis AX. The rotating shaft 102 is passed through the penetrating portion 41a via the bearing 43. The substrate 41 is rotatably supported by the bearing 43 in the direction around the axis of the central axis AX of the rotating shaft 102. With this bearing 43, the substrate is supported by the rotating shaft 102 without rotating the substrate 41 even when the rotating shaft 102 rotates. Further, the substrate 41 is supported by the bearing 43 to maintain a constant distance from the scale 11. As a result, the detection unit 20 can maintain a constant distance from the pattern 12.

接続部42は、基板側ハブ44と、ケース側ハブ45と、スライダ46と、を有している。これら基板側ハブ44、ケース側ハブ45、及びスライダ46は、オルダムカップリング47を構成する。図1(C)は、接続部42を−X方向に見たときの一例を示す図である。図1(A)及び(C)に示すように、基板側ハブ44は、基板41の+Z側の上面に固定されている。基板側ハブ44は、例えば、Y方向に延びる凸部を備える。ケース側ハブ45は、蓋部32の−Z側の面に固定されている。ケース側ハブ45は、例えば、X方向に延びる凸部を備える。 The connection portion 42 has a substrate-side hub 44, a case-side hub 45, and a slider 46. The substrate-side hub 44, the case-side hub 45, and the slider 46 form the Oldham coupling 47. FIG. 1C is a diagram showing an example when the connecting portion 42 is viewed in the −X direction. As shown in FIGS. 1A and 1C, the substrate-side hub 44 is fixed to the upper surface of the substrate 41 on the + Z side. The substrate-side hub 44 includes, for example, a convex portion extending in the Y direction. The case-side hub 45 is fixed to the −Z-side surface of the lid portion 32. The case-side hub 45 includes, for example, a convex portion extending in the X direction.

スライダ46は、Z方向において基板側ハブ44とケース側ハブ45との間に配置される。スライダ46は、−Z側の面に基板側凹部46aを有している。基板側凹部46aは、Y方向に沿って溝状に形成されている。基板側凹部46aには、基板側ハブ44の凸部が嵌め込まれる。スライダ46は、基板側凹部46aに基板側ハブ44の凸部が嵌め込まれた状態で、基板側ハブ44に対してY方向に相対的に移動可能であり、また、基板側ハブ44に対してX方向への相対的な移動が規制される。 The slider 46 is arranged between the substrate side hub 44 and the case side hub 45 in the Z direction. The slider 46 has a substrate-side recess 46a on the −Z-side surface. The substrate-side recess 46a is formed in a groove shape along the Y direction. The convex portion of the substrate-side hub 44 is fitted into the substrate-side concave portion 46a. The slider 46 can move relative to the substrate-side hub 44 in the Y direction with the convex portion of the substrate-side hub 44 fitted in the substrate-side recess 46a, and the slider 46 can move relative to the substrate-side hub 44. Relative movement in the X direction is regulated.

スライダ46は、+Z側の面にケース側凹部46bを有している。ケース側凹部46bは、X方向に沿って溝状に形成されている。ケース側凹部46bには、ケース側ハブ45の凸部が嵌め込まれる。スライダ46は、ケース側凹部46bにケース側ハブ45の凸部が嵌め込まれた状態で、ケース側ハブ45に対してX方向に相対的に移動可能であり、また、ケース側ハブ45に対してY方向への相対的な移動が規制される。 The slider 46 has a case-side recess 46b on the + Z-side surface. The case-side recess 46b is formed in a groove shape along the X direction. The convex portion of the case-side hub 45 is fitted into the case-side concave portion 46b. The slider 46 can move relative to the case-side hub 45 in the X direction with the convex portion of the case-side hub 45 fitted in the case-side recess 46b, and also with respect to the case-side hub 45. Relative movement in the Y direction is regulated.

このように、スライダ46は、基板側ハブ44とケース側ハブ45とにそれぞれ連結されるため、基板41は、X方向またはY方向に移動可能であるが、例えば、中心軸AXを軸とする回転方向への移動は規制される。一方、基板41は、軸受43によって回転軸102に支持されているから、回転軸102が移動すると回転軸102の移動に伴って移動する。したがって、基板41は、オルダムカップリング47から一定の規制を受けつつ、回転軸102の移動に応じて移動することになる。基板41に固定されている検出部20も、基板41と同様に、オルダムカップリング47からの規制を受けつつ、回転軸102の移動に応じて移動する。 In this way, since the slider 46 is connected to the substrate-side hub 44 and the case-side hub 45, respectively, the substrate 41 can move in the X direction or the Y direction. For example, the central axis AX is used as an axis. Movement in the direction of rotation is restricted. On the other hand, since the substrate 41 is supported by the rotating shaft 102 by the bearing 43, when the rotating shaft 102 moves, it moves with the movement of the rotating shaft 102. Therefore, the substrate 41 moves according to the movement of the rotating shaft 102 while being subject to certain restrictions from the Oldham coupling 47. Like the substrate 41, the detection unit 20 fixed to the substrate 41 also moves according to the movement of the rotating shaft 102 while being regulated by the Oldham coupling 47.

回転軸102が偏心移動する場合、この回転軸102の移動に伴って基板41がXY面に沿って移動する。なお、回転軸102の偏心移動は、中心軸AXと直交する平面に沿った方向に回転軸102が移動することをいう。例えば、基板41が回転軸102とともにX方向に移動する場合、基板側ハブ44及びスライダ46がケース側ハブ45に対してX方向に移動する。また、例えば、基板41が回転軸102と一体でY方向に移動する場合、基板側ハブ44がスライダ46(及びケース側ハブ45)に対してY方向に移動する。このように、接続部42は、回転軸102が偏心移動する場合、検出部20のX方向及びY方向への移動を許容し、検出部20が中心軸AXまわりに回転するのを規制するように、検出部20を支持する。 When the rotating shaft 102 moves eccentrically, the substrate 41 moves along the XY plane as the rotating shaft 102 moves. The eccentric movement of the rotation axis 102 means that the rotation axis 102 moves in a direction along a plane orthogonal to the central axis AX. For example, when the substrate 41 moves in the X direction together with the rotation shaft 102, the substrate side hub 44 and the slider 46 move in the X direction with respect to the case side hub 45. Further, for example, when the substrate 41 moves in the Y direction integrally with the rotation shaft 102, the substrate side hub 44 moves in the Y direction with respect to the slider 46 (and the case side hub 45). In this way, when the rotation shaft 102 moves eccentrically, the connection unit 42 allows the detection unit 20 to move in the X and Y directions, and restricts the detection unit 20 from rotating around the central axis AX. In addition, the detection unit 20 is supported.

したがって、検出部20は、回転軸102が偏心移動する場合、基板41とともに回転軸102と一体なってX方向及びY方向に移動する。また、回転軸102が偏心移動する場合、回転部10は回転軸102とともに回転軸102と同一方向に移動する。これにより、回転軸102が偏心移動する場合、検出部20は、回転部10に追従してX方向及びY方向に移動する。このように、支持部40は、回転軸102の移動に追従して移動することにより、検出部20と回転部10のパターン12とを位置合わせする。 Therefore, when the rotating shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves together with the substrate 41 in the X direction and the Y direction together with the rotating shaft 102. When the rotating shaft 102 moves eccentrically, the rotating portion 10 moves together with the rotating shaft 102 in the same direction as the rotating shaft 102. As a result, when the rotation shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves in the X direction and the Y direction following the rotation unit 10. In this way, the support unit 40 aligns the detection unit 20 with the pattern 12 of the rotation unit 10 by moving following the movement of the rotation shaft 102.

次に、本実施形態に係るエンコーダ装置100において、回転軸102の偏心による検出誤差を低減する原理を説明する。図2は、偏心による検出誤差が生じる原理を説明する図である。まず、図2(A)には、検出部20が回転軸102の偏心移動に追従しない場合を示す。図2(A)に示すように、例えば、回転軸102は、中心軸AXがXY座標平面の位置J1(r,0)に配置され、回転時には、中心軸AXが原点(0,0)を中心とした円を描くように偏心移動するものとする。この場合において、検出部20は、例えばパターン12のうちX軸に重なる位置P1に配置されたパターン12aからの反射光を検出するとする。 Next, in the encoder device 100 according to the present embodiment, the principle of reducing the detection error due to the eccentricity of the rotating shaft 102 will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating a principle that a detection error occurs due to eccentricity. First, FIG. 2A shows a case where the detection unit 20 does not follow the eccentric movement of the rotation shaft 102. As shown in FIG. 2A, for example, in the rotation axis 102, the central axis AX is arranged at the position J1 (r, 0) on the XY coordinate plane, and the central axis AX has the origin (0,0) during rotation. It shall move eccentrically so as to draw a circle at the center. In this case, it is assumed that the detection unit 20 detects the reflected light from the pattern 12a arranged at the position P1 overlapping the X-axis of the pattern 12, for example.

この状態から、回転軸102が図中の反時計回りに角度θ回転する場合、中心軸AXが位置J2(rcosθ,rsinθ)に偏心移動する。仮に、中心軸AXがJ1に位置したまま回転軸102が回転した場合には、位置P1に対して時計回りに角度θ離れた位置Q1のパターン12bが反時計回りに移動し、位置P1に配置される。この場合、検出部20は、位置P1に配置される当該パターン12bからの反射光を検出する。 From this state, when the rotation axis 102 rotates counterclockwise by an angle θ in the drawing, the central axis AX eccentrically moves to the position J2 (rcosθ, rsinθ). If the rotation axis 102 rotates while the central axis AX is located at J1, the pattern 12b at the position Q1 which is at an angle θ away from the position P1 moves counterclockwise and is arranged at the position P1. Will be done. In this case, the detection unit 20 detects the reflected light from the pattern 12b arranged at the position P1.

しかしながら、偏心によって回転軸102の中心軸AXが位置J1から位置J2に移動する場合、パターン12bがX軸から+Y側にずれた位置Q2に配置される。このとき、検出部20はX軸上に配置されたままであるため、パターン12のうちX軸に重なる位置Q3には、パターン12cが配置される。したがって、検出部20は、パターン12cからの反射光を検出する。パターン12bの位置Q2に対して、パターン12cの位置Q3は、中心軸AXを中心として時計回りに角度βずれた位置である。よって、検出部20では、角度βに相当する検出誤差が生じる。 However, when the central axis AX of the rotation axis 102 moves from the position J1 to the position J2 due to the eccentricity, the pattern 12b is arranged at the position Q2 deviated from the X axis to the + Y side. At this time, since the detection unit 20 is still arranged on the X-axis, the pattern 12c is arranged at the position Q3 of the pattern 12 that overlaps the X-axis. Therefore, the detection unit 20 detects the reflected light from the pattern 12c. The position Q3 of the pattern 12c is a position shifted clockwise by an angle β with respect to the position Q2 of the pattern 12b with respect to the central axis AX. Therefore, in the detection unit 20, a detection error corresponding to the angle β occurs.

ここで、位置Q3の座標は、中心軸AXからパターン12aまでの半径をRとすると、
(rcosθ+Rcos(−β),rsinθ+Rsin(−β))
である。
Here, the coordinates of the position Q3 are calculated assuming that the radius from the central axis AX to the pattern 12a is R.
(Rcosθ + Rcos (-β), rsinθ + Rsin (-β))
Is.

位置Q3はX軸に重なる位置であるため、Y座標が0である。よって、
rsinθ+Rsin(−β)=0 であり、これより角度βは、
β=sin−1((rsinθ)/R) である。
Since the position Q3 is a position that overlaps the X axis, the Y coordinate is 0. Therefore,
rsinθ + Rsin (−β) = 0, from which the angle β is
β = sin -1 ((rsin θ) / R).

これに対して、第1実施形態に係るエンコーダ装置100は、回転軸102が偏心移動する場合、検出部20が回転部10及び回転軸102とともにX方向及びY方向に移動する。このため、図2(B)に示すように、偏心によって回転軸102の中心軸AXが位置J1から位置J2に移動した場合、検出部20が中心軸AXの移動方向と同一方向に追従して移動する。これにより、検出部20とパターン12との相対位置が変化することが抑制される。この場合、検出部20は、X軸上から移動して、位置Q2に配置されるパターン12bからの反射光を検出する。 On the other hand, in the encoder device 100 according to the first embodiment, when the rotation shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves in the X direction and the Y direction together with the rotation unit 10 and the rotation shaft 102. Therefore, as shown in FIG. 2B, when the central axis AX of the rotating shaft 102 moves from the position J1 to the position J2 due to eccentricity, the detection unit 20 follows the moving direction of the central axis AX. Moving. As a result, the relative position between the detection unit 20 and the pattern 12 is suppressed from changing. In this case, the detection unit 20 moves from the X-axis and detects the reflected light from the pattern 12b arranged at the position Q2.

以上のように、第1実施形態に係るエンコーダ装置100は、回転軸102(回転部10)の回転情報を精度よく取得可能である。エンコーダ装置100は、検出部20が回転軸102の中心軸AXに交差する方向(X方向、Y方向)に回転部10及び回転軸102とともに移動可能である。このため、回転軸102が偏心移動する場合であっても、回転部10のパターン12と検出部20との相対的な位置関係がずれることを抑制でき、回転軸102(回転部10)の回転情報を誤差なく取得することができる。 As described above, the encoder device 100 according to the first embodiment can accurately acquire the rotation information of the rotation shaft 102 (rotation unit 10). The encoder device 100 can move together with the rotating portion 10 and the rotating shaft 102 in the direction (X direction, Y direction) in which the detecting unit 20 intersects the central axis AX of the rotating shaft 102. Therefore, even when the rotating shaft 102 moves eccentrically, it is possible to prevent the relative positional relationship between the pattern 12 of the rotating portion 10 and the detecting portion 20 from shifting, and the rotation of the rotating shaft 102 (rotating portion 10). Information can be obtained without error.

なお、本実施形態において、オルダムカップリング47は上記した構成に限定されない。例えば、基板41が中心軸AXまわりに回転するのを規制しつつ、X方向及びY方向に移動可能とする任意の構成を適用することができる。また、オルダムカップリング47において、スライダ46が基板側ハブ44及びケース側ハブ45に対してX方向及びY方向にそれぞれ移動可能であることに限定されず、XY平面において直交する二方向に移動可能に設定されたものであれば適用可能である。また、基板41は、矩形板状の部材が用いられることに限定されず、例えば円盤状のものが使用されてもよい。 In the present embodiment, the Oldham coupling 47 is not limited to the above configuration. For example, any configuration can be applied that allows the substrate 41 to move in the X and Y directions while restricting rotation around the central axis AX. Further, in the Oldham coupling 47, the slider 46 is not limited to being movable in the X direction and the Y direction with respect to the substrate side hub 44 and the case side hub 45, respectively, and can be moved in two directions orthogonal to each other in the XY plane. It is applicable if it is set to. Further, the substrate 41 is not limited to the use of a rectangular plate-shaped member, and for example, a disk-shaped substrate 41 may be used.

[第2実施形態]
図3は、第2実施形態に係るエンコーダ装置200の一例を示す図である。図2(A)はXZ平面に平行な平面による断面図、(B)は−Z方向に見たときの平面図である。図2(A)及び(B)に示すように、エンコーダ装置200は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部140とを備えている。第2実施形態では、支持部140の構成が第1実施形態とは異なり、他の構成については第1実施形態と同様である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[Second Embodiment]
FIG. 3 is a diagram showing an example of the encoder device 200 according to the second embodiment. FIG. 2A is a cross-sectional view taken along a plane parallel to the XZ plane, and FIG. 2B is a plan view when viewed in the −Z direction. As shown in FIGS. 2A and 2B, the encoder device 200 includes a rotating unit 10, a detecting unit 20, a case unit 30, and a supporting unit 140. In the second embodiment, the configuration of the support portion 140 is different from that of the first embodiment, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified.

支持部140は、基板41及び接続部142を有している。基板41の構成は第1実施形態と同様である。接続部142は、基板側平行ばね144と、ケース側平行ばね145と、ばね支持部146とを有している。基板側平行ばね144は、基板41の+Z側の面に取り付けられている。基板側平行ばね144は、Y方向に延びた状態で配置されている。基板側平行ばね144は、Y方向の剛性が高く、Y方向に弾性変形をしない、またはY方向にほとんど弾性変形しないものであり、X方向に弾性変形可能である。 The support portion 140 has a substrate 41 and a connection portion 142. The configuration of the substrate 41 is the same as that of the first embodiment. The connecting portion 142 has a substrate-side parallel spring 144, a case-side parallel spring 145, and a spring support portion 146. The substrate-side parallel spring 144 is attached to the + Z-side surface of the substrate 41. The substrate-side parallel spring 144 is arranged so as to extend in the Y direction. The substrate-side parallel spring 144 has high rigidity in the Y direction, does not elastically deform in the Y direction, or hardly elastically deforms in the Y direction, and is elastically deformable in the X direction.

ケース側平行ばね145は、蓋部32の−Z側の面に取り付けられている。ケース側平行ばね145は、X方向に延びた状態で配置されている。ケース側平行ばね145は、X方向の剛性が高く、X方向に弾性変形をしない、またはX方向にほとんど弾性変形しないものであり、Y方向に弾性変形可能である。ばね支持部146は、基板側平行ばね144とケース側平行ばね145との間に配置される。ばね支持部146は、基板側平行ばね144及びケース側平行ばね145の両方にそれぞれ固定される。 The case-side parallel spring 145 is attached to the −Z-side surface of the lid portion 32. The case-side parallel spring 145 is arranged so as to extend in the X direction. The case-side parallel spring 145 has high rigidity in the X direction, does not elastically deform in the X direction, or hardly elastically deforms in the X direction, and is elastically deformable in the Y direction. The spring support portion 146 is arranged between the substrate side parallel spring 144 and the case side parallel spring 145. The spring support portion 146 is fixed to both the substrate side parallel spring 144 and the case side parallel spring 145, respectively.

上記のように構成されたエンコーダ装置200は、回転軸102が偏心移動する場合、この回転軸102とともに基板41が移動する点は第1実施形態と同様である。例えば、基板41が回転軸102とともにX方向に移動する場合、基板側平行ばね144がX方向に弾性変形して基板41の移動を許容する。また、例えば、基板41が回転軸102とともにY方向に移動する場合、ケース側平行ばね145がY方向に弾性変形して基板41の移動を許容する。 The encoder device 200 configured as described above is the same as in the first embodiment in that when the rotating shaft 102 moves eccentrically, the substrate 41 moves together with the rotating shaft 102. For example, when the substrate 41 moves in the X direction together with the rotating shaft 102, the substrate-side parallel spring 144 elastically deforms in the X direction to allow the substrate 41 to move. Further, for example, when the substrate 41 moves in the Y direction together with the rotating shaft 102, the case-side parallel spring 145 elastically deforms in the Y direction to allow the substrate 41 to move.

また、基板側平行ばね144、ケース側平行ばね145及びばね支持部146により、基板41及び検出部20のZ方向への移動が規制される。このように、接続部143は、回転軸102が偏心移動する場合、検出部20のX方向及びY方向への移動を許容し、検出部20のZ方向への移動を規制するように、検出部20を支持する。 Further, the substrate-side parallel spring 144, the case-side parallel spring 145, and the spring support portion 146 restrict the movement of the substrate 41 and the detection portion 20 in the Z direction. In this way, when the rotating shaft 102 moves eccentrically, the connecting unit 143 allows the detection unit 20 to move in the X and Y directions, and detects the detection unit 20 so as to restrict the movement in the Z direction. Supports part 20.

したがって、検出部20は、回転軸102が偏心移動する場合、基板41と共に回転軸102と一体でX方向及びY方向に移動する。また、回転軸102が偏心移動する場合、回転部10は回転軸102と一体でX方向及びY方向に移動する。よって、回転軸102が偏心移動する場合、検出部20は、回転部10及びパターン12に追従してX方向及びY方向に移動する。このように、支持部140は、回転軸102の移動に追従して移動することにより、検出部20と回転部10のパターン12とを位置合わせする。 Therefore, when the rotating shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves together with the substrate 41 in the X direction and the Y direction together with the rotating shaft 102. When the rotating shaft 102 moves eccentrically, the rotating portion 10 moves integrally with the rotating shaft 102 in the X and Y directions. Therefore, when the rotation shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves in the X direction and the Y direction following the rotation unit 10 and the pattern 12. In this way, the support unit 140 aligns the detection unit 20 with the pattern 12 of the rotation unit 10 by moving following the movement of the rotation shaft 102.

以上のように、第2実施形態に係るエンコーダ装置200は、回転軸102の回転情報を精度よく取得可能である。エンコーダ装置200は、検出部20が回転軸102の中心軸AXに交差する方向(X方向、Y方向)に回転部10及び回転軸102とともに移動し、回転軸102が偏心移動する場合であっても、回転部10のパターン12と検出部20との相対的な位置関係がずれることを抑制でき、回転軸102(回転部10)の回転情報を誤差なく取得することができる。 As described above, the encoder device 200 according to the second embodiment can accurately acquire the rotation information of the rotation shaft 102. In the encoder device 200, the detection unit 20 moves together with the rotating unit 10 and the rotating shaft 102 in the direction (X direction, Y direction) intersecting the central axis AX of the rotating shaft 102, and the rotating shaft 102 moves eccentrically. Also, it is possible to suppress the relative positional relationship between the pattern 12 of the rotating unit 10 and the detecting unit 20 from shifting, and it is possible to acquire the rotation information of the rotating shaft 102 (rotating unit 10) without error.

また、接続部142は、基板側平行ばね144及びケース側平行ばね145を用いるため、基板41が移動した場合は、基板側平行ばね144及びケース側平行ばね145の一方または双方が弾性変形している。従って、基板41が元の位置に戻った場合(すなわち回転軸102が元の位置に戻った場合)、基板41は、基板側平行ばね144及びケース側平行ばね145の一方または双方の弾性力により元の位置に復帰する。このように基板側平行ばね144及びケース側平行ばね145の弾性力を利用することにより、検出部20を容易に回転軸102の移動に追従させることができる。 Further, since the connecting portion 142 uses the substrate side parallel spring 144 and the case side parallel spring 145, when the substrate 41 moves, one or both of the substrate side parallel spring 144 and the case side parallel spring 145 are elastically deformed. There is. Therefore, when the substrate 41 returns to the original position (that is, when the rotating shaft 102 returns to the original position), the substrate 41 is subjected to the elastic force of one or both of the substrate side parallel spring 144 and the case side parallel spring 145. It returns to its original position. By utilizing the elastic force of the substrate-side parallel spring 144 and the case-side parallel spring 145 in this way, the detection unit 20 can be easily made to follow the movement of the rotation shaft 102.

[第3実施形態]
図4は、第3実施形態に係るエンコーダ装置300の一例を示す図である。図4(A)はXZ平面に平行な平面による断面図、(B)は−Z方向に見たときの平面図である。図4(A)及び(B)に示すように、エンコーダ装置300は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部40と、シール部50と、を備えている。第3実施形態では、シール部50が設けられている点で第1実施形態と異なり、他の構成については第1実施形態と同様である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[Third Embodiment]
FIG. 4 is a diagram showing an example of the encoder device 300 according to the third embodiment. FIG. 4A is a cross-sectional view taken along a plane parallel to the XZ plane, and FIG. 4B is a plan view when viewed in the −Z direction. As shown in FIGS. 4A and 4B, the encoder device 300 includes a rotating portion 10, a detecting portion 20, a case portion 30, a supporting portion 40, and a sealing portion 50. The third embodiment is different from the first embodiment in that the seal portion 50 is provided, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. In the following description, components that are the same as or equivalent to those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

シール部50は、基板41と円筒部31との間に配置されている。シール部50は、ゴムまたは樹脂等の弾性変形が可能な材料を用いて形成される。シール部50は、基板41のX方向及びY方向への移動に対して弾性変形可能である。シール部50は、基板41の外周及び円筒部31の内周に隙間なく設けられる。シール部50は、ケース部30に囲まれる空間のうち、基板41の−Z側の空間を基板41の+Z側の空間に対して封止する。シール部50は、弾性変形が可能であるため、基板41がX方向及びY方向に移動した場合でも伸縮することにより上記した封止を維持することができる。 The seal portion 50 is arranged between the substrate 41 and the cylindrical portion 31. The seal portion 50 is formed by using a material capable of elastic deformation such as rubber or resin. The seal portion 50 is elastically deformable with respect to the movement of the substrate 41 in the X direction and the Y direction. The seal portion 50 is provided on the outer circumference of the substrate 41 and the inner circumference of the cylindrical portion 31 without gaps. The seal portion 50 seals the space on the −Z side of the substrate 41 with respect to the space on the + Z side of the substrate 41 among the spaces surrounded by the case portion 30. Since the seal portion 50 can be elastically deformed, the above-mentioned sealing can be maintained by expanding and contracting even when the substrate 41 moves in the X direction and the Y direction.

このように、第3実施形態に係るエンコーダ装置300は、第1実施形態と同様に回転軸102の回転情報を精度よく取得可能であることに加えて、シール部50が設けられるため、オルダムカップリング47等から異物が発生した場合に、この異物が検出部20あるいはパターン12などに付着することを抑制できる。これにより、エンコーダ装置300は、高精度な回転情報の取得を長時間にわたって維持することができる。 As described above, the encoder device 300 according to the third embodiment can acquire the rotation information of the rotating shaft 102 with high accuracy as in the first embodiment, and is provided with the seal portion 50. When foreign matter is generated from the ring 47 or the like, it is possible to prevent the foreign matter from adhering to the detection unit 20 or the pattern 12. As a result, the encoder device 300 can maintain the acquisition of highly accurate rotation information for a long period of time.

[第4実施形態]
図5は、第4実施形態に係るエンコーダ装置400の一例を示す図である。図5(A)はXZ平面に平行な平面による断面図、(B)は−Z方向に見たときの平面図である。図5(A)及び(B)に示すように、エンコーダ装置400は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部340と、を備えている。第3実施形態では、支持部340の構成が第1実施形態とは異なり、他の構成については第1実施形態と同様である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[Fourth Embodiment]
FIG. 5 is a diagram showing an example of the encoder device 400 according to the fourth embodiment. FIG. 5A is a cross-sectional view taken along a plane parallel to the XZ plane, and FIG. 5B is a plan view when viewed in the −Z direction. As shown in FIGS. 5A and 5B, the encoder device 400 includes a rotating unit 10, a detecting unit 20, a case unit 30, and a supporting unit 340. In the third embodiment, the configuration of the support portion 340 is different from that of the first embodiment, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified.

支持部340は、基板341と、接続部42と、ガイド部343とを有している。基板341は、例えばスケール11とほぼ同一寸法及び同一形状の円盤状に形成される。基板341は、回転軸102の+Z側に離間して、中心位置が中心軸AXに一致またはほぼ一致するように配置される。基板341は、スケール11に対してZ方向に所定間隔をあけて配置される。基板341は、スケール11と平行またはほぼ平行に配置される。基板341の−Z側の面には、検出部20が取り付けられる。基板341は、検出部20に電気的に接続される回路を有してもよい。接続部42は、基板側ハブ44が基板341の+Z側の面に固定されている。接続部42の他の構成については、第1実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。 The support portion 340 has a substrate 341, a connection portion 42, and a guide portion 343. The substrate 341 is formed in a disk shape having substantially the same dimensions and shape as, for example, the scale 11. The substrate 341 is arranged so as to be separated from the + Z side of the rotation shaft 102 so that the center position coincides with or substantially coincides with the center axis AX. The substrates 341 are arranged at predetermined intervals in the Z direction with respect to the scale 11. The substrate 341 is arranged parallel to or substantially parallel to the scale 11. The detection unit 20 is attached to the −Z side surface of the substrate 341. The substrate 341 may have a circuit that is electrically connected to the detection unit 20. In the connection portion 42, the substrate side hub 44 is fixed to the + Z side surface of the substrate 341. Since the other configurations of the connecting portion 42 are the same as those of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

ガイド部343は、円筒状に形成される。ガイド部343は、スケール11の外縁に固定されており、スケール11と一体に回転する。また、ガイド部343の内周面は、基板341の外縁に当接している。基板341は、ガイド部343(スケール11)が回転する場合でも接続部42に保持されており回転しない。なお、ガイド部343と基板341との間に摩擦が生じるので、ガイド部343の内周面のうち基板341との当接部分は、摩擦を軽減するための構成や処理等が施されていてもよい。ガイド部343は、基板341をZ方向に支持する支持部343aを有している。この支持部343aにより、基板341とスケール11との間隔が維持される。なお、ガイド部343と駆動部101との間にも摩擦を軽減するための構成や処理等が施されていてもよい。この場合、例えば、すべり摩擦を転がり摩擦にするためにガイド部343と駆動部101との間に玉軸受のようにボールを入れてもよい。 The guide portion 343 is formed in a cylindrical shape. The guide portion 343 is fixed to the outer edge of the scale 11 and rotates integrally with the scale 11. Further, the inner peripheral surface of the guide portion 343 is in contact with the outer edge of the substrate 341. The substrate 341 is held by the connecting portion 42 and does not rotate even when the guide portion 343 (scale 11) rotates. Since friction is generated between the guide portion 343 and the substrate 341, the contact portion of the inner peripheral surface of the guide portion 343 with the substrate 341 is configured or treated to reduce the friction. May be good. The guide portion 343 has a support portion 343a that supports the substrate 341 in the Z direction. The support portion 343a maintains the distance between the substrate 341 and the scale 11. It should be noted that the guide unit 343 and the drive unit 101 may also be provided with a configuration or process for reducing friction. In this case, for example, a ball may be inserted between the guide portion 343 and the drive portion 101 like a ball bearing in order to convert the sliding friction into rolling friction.

上記のように構成されたエンコーダ装置400は、回転軸102が偏心移動する場合、回転軸102と一体で回転部10及びガイド部343が移動する。このガイド部343の移動により、基板341が回転部10及びガイド部343とともにX方向及びY方向に移動する。このため、回転軸102が偏心移動する場合でも、この移動に追従して検出部20が同一方向に移動する。これにより、検出部20は、回転軸102が偏心移動した場合に、スケール11のパターン12に対して位置合わせされた状態が維持される。すなわち、検出部20とパターン12との位置ずれが生じるのを抑制される。 In the encoder device 400 configured as described above, when the rotating shaft 102 moves eccentrically, the rotating portion 10 and the guide portion 343 move integrally with the rotating shaft 102. By the movement of the guide portion 343, the substrate 341 moves in the X direction and the Y direction together with the rotating portion 10 and the guide portion 343. Therefore, even when the rotation shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves in the same direction following this movement. As a result, the detection unit 20 is maintained in a state of being aligned with the pattern 12 of the scale 11 when the rotation shaft 102 is eccentrically moved. That is, it is possible to prevent the detection unit 20 and the pattern 12 from being displaced from each other.

以上のように、第4実施形態に係るエンコーダ装置400は、第1実施形態と同様に回転軸102の回転情報を精度よく取得可能である。エンコーダ装置400は、検出部20が回転軸102の中心軸AXに交差する方向(X方向、Y方向)に回転部10及び回転軸102とともに移動可能である。このため、回転軸102が偏心移動する場合であっても、回転部10のパターン12と検出部20との相対的な位置関係がずれることを抑制でき、回転軸102(回転部10)の回転情報を誤差なく取得することができる。 As described above, the encoder device 400 according to the fourth embodiment can accurately acquire the rotation information of the rotation shaft 102 as in the first embodiment. The encoder device 400 can move together with the rotating portion 10 and the rotating shaft 102 in the direction (X direction, Y direction) in which the detecting unit 20 intersects the central axis AX of the rotating shaft 102. Therefore, even when the rotating shaft 102 moves eccentrically, it is possible to prevent the relative positional relationship between the pattern 12 of the rotating portion 10 and the detecting portion 20 from shifting, and the rotation of the rotating shaft 102 (rotating portion 10). Information can be obtained without error.

なお、本実施形態では、ガイド部343と基板341とを摺動するようにしているがこれに限定されない。例えば、ガイド部343と基板341との間にローラまたはフリーボール等を配置して両者間の摩擦を低減してもよい。 In this embodiment, the guide portion 343 and the substrate 341 are slidable, but the present invention is not limited to this. For example, a roller, a free ball, or the like may be arranged between the guide portion 343 and the substrate 341 to reduce friction between the two.

[第5実施形態]
図6は、第5実施形態に係るエンコーダ装置500の一例を示す図である。図6(A)はXZ平面に平行な平面による断面図、(B)は−Z方向に見たときの平面図である。図6(A)及び(B)に示すように、エンコーダ装置500は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部440と、を備えている。第5実施形態では、支持部440の基板441構成が第4実施形態とは異なり、他の構成については第4実施形態と同様である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[Fifth Embodiment]
FIG. 6 is a diagram showing an example of the encoder device 500 according to the fifth embodiment. FIG. 6A is a cross-sectional view taken along a plane parallel to the XZ plane, and FIG. 6B is a plan view when viewed in the −Z direction. As shown in FIGS. 6A and 6B, the encoder device 500 includes a rotating unit 10, a detecting unit 20, a case unit 30, and a supporting unit 440. In the fifth embodiment, the substrate 441 configuration of the support portion 440 is different from that of the fourth embodiment, and other configurations are the same as those of the fourth embodiment. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified.

支持部440は、基板441と、接続部42と、ガイド部343と、を有している。基板441は、円板状であり、外径がスケール11よりも小径に形成される。基板441の−Z側の面には、検出部20が取り付けられる。基板441は、検出部20に電気的に接続される回路を有してもよい。基板441は、スケール11に対してZ方向に所定間隔をあけて配置される。基板441は、スケール11と平行に配置される。 The support portion 440 has a substrate 441, a connection portion 42, and a guide portion 343. The substrate 441 has a disk shape, and the outer diameter is formed to be smaller than that of the scale 11. The detection unit 20 is attached to the −Z side surface of the substrate 441. The substrate 441 may have a circuit that is electrically connected to the detection unit 20. The substrates 441 are arranged at predetermined intervals in the Z direction with respect to the scale 11. The substrate 441 is arranged parallel to the scale 11.

基板441の外周部には、径方向の外側に突出してガイド部343の内周面に当接する複数の突出部441aが設けられている。突出部441aは、中心軸AXの軸線周り方向に所定の間隔で複数設けられている。本実施形態では、突出部441aが中心軸AXの軸線周りの方向に等間隔で3つ設けられた構成を例に挙げているが、これに限定するものではなく、2つまたは4つ以上設けられてもよく、また、中心軸AXまわりに不等間隔に設けられてもよい。 A plurality of projecting portions 441a are provided on the outer peripheral portion of the substrate 441 so as to project outward in the radial direction and abut on the inner peripheral surface of the guide portion 343. A plurality of protrusions 441a are provided at predetermined intervals in the direction around the axis of the central axis AX. In the present embodiment, an example is given in which three protrusions 441a are provided at equal intervals in the direction around the axis of the central axis AX, but the present invention is not limited to this, and two or four or more protrusions are provided. It may be provided at unequal intervals around the central axis AX.

接続部42は、基板側ハブ44が基板441の+Z側の面に固定されている。接続部42の他の構成については、上記各実施形態と同様の構成であり、ガイド部343は第4実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。 In the connection portion 42, the substrate side hub 44 is fixed to the + Z side surface of the substrate 441. Since the other configurations of the connecting portion 42 are the same as those of the above-described embodiments and the guide portion 343 is the same as the fourth embodiment, the description thereof will be omitted.

上記のように構成されたエンコーダ装置500は、回転軸102が偏心移動する場合、回転軸102と一体で回転部10及びガイド部343が移動する。このガイド部343の移動により、基板441が回転部10及びガイド部343とともにX方向及びY方向に移動する。このため、回転軸102が偏心移動する場合でも、この移動に追従して検出部20が同一方向に移動する。これにより、検出部20は、回転軸102が偏心移動した場合に、スケール11のパターン12に対して位置合わせされた状態が維持される。すなわち、検出部20とパターン12との位置ずれが生じるのを抑制される。 In the encoder device 500 configured as described above, when the rotating shaft 102 moves eccentrically, the rotating portion 10 and the guide portion 343 move integrally with the rotating shaft 102. By the movement of the guide portion 343, the substrate 441 moves in the X direction and the Y direction together with the rotating portion 10 and the guide portion 343. Therefore, even when the rotation shaft 102 moves eccentrically, the detection unit 20 moves in the same direction following this movement. As a result, the detection unit 20 is maintained in a state of being aligned with the pattern 12 of the scale 11 when the rotation shaft 102 is eccentrically moved. That is, it is possible to prevent the detection unit 20 and the pattern 12 from being displaced from each other.

以上のように、第5実施形態に係るエンコーダ装置500は、第4実施形態と同様に、回転軸102の回転情報を精度よく取得可能である。また、エンコーダ装置500は、基板441とガイド部343との間が突出部441aによって部分的に当接されている。このため、基板の外縁全体がガイド部343に当接する場合に比べて、基板441とガイド部343との間の摩擦が低減される。 As described above, the encoder device 500 according to the fifth embodiment can accurately acquire the rotation information of the rotation shaft 102 as in the fourth embodiment. Further, in the encoder device 500, the substrate 441 and the guide portion 343 are partially in contact with each other by the protruding portion 441a. Therefore, the friction between the substrate 441 and the guide portion 343 is reduced as compared with the case where the entire outer edge of the substrate is in contact with the guide portion 343.

なお、本実施形態では、突出部441aとガイド部343とが摺動しているが、これに限定されない。例えば、突出部441aの先端部分にローラまたはフリーボール等を配置して両者間の摩擦を低減してもよい。また、突出部441aは、Z方向から見たときに円弧状に形成されるがこれに限定されない。例えば、突出部441aは、Z方向から見て三角形状に形成されてもよい。 In the present embodiment, the protruding portion 441a and the guide portion 343 are sliding, but the present invention is not limited to this. For example, a roller, a free ball, or the like may be arranged at the tip of the protruding portion 441a to reduce friction between the two. Further, the protruding portion 441a is formed in an arc shape when viewed from the Z direction, but the present invention is not limited to this. For example, the protrusion 441a may be formed in a triangular shape when viewed from the Z direction.

[第6実施形態]
図7は、第6実施形態に係るエンコーダ装置600の一例を示す図であり、XZ平面に平行な平面による断面図である。図7に示すように、エンコーダ装置600は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部540とを備えている。第6実施形態では、支持部540の構成が第1実施形態とは異なり、他の構成については第1実施形態と同様である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[Sixth Embodiment]
FIG. 7 is a diagram showing an example of the encoder device 600 according to the sixth embodiment, and is a cross-sectional view taken along the plane parallel to the XZ plane. As shown in FIG. 7, the encoder device 600 includes a rotating unit 10, a detecting unit 20, a case unit 30, and a supporting unit 540. In the sixth embodiment, the configuration of the support portion 540 is different from that of the first embodiment, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified.

支持部540は、基板541と、接続部42と、調心軸受543と、弾性部材551と、支持板552と、ギャップ用軸受553と、吸収部554と、を有している。基板541は、円盤状に形成されている。基板541の−Z側の面には、検出部20が取り付けられる。基板541は、検出部20に電気的に接続される回路を有してもよい。基板541は、後述するギャップ用軸受553により、スケール11に対してZ方向に所定間隔をあけて、スケール11と平行に配置される。 The support portion 540 includes a substrate 541, a connection portion 42, a centering bearing 543, an elastic member 551, a support plate 552, a gap bearing 555, and an absorption portion 554. The substrate 541 is formed in a disk shape. The detection unit 20 is attached to the −Z side surface of the substrate 541. The substrate 541 may have a circuit that is electrically connected to the detection unit 20. The substrate 541 is arranged in parallel with the scale 11 at a predetermined distance in the Z direction with respect to the scale 11 by a gap bearing 553 described later.

基板541は、中心が中心軸AXにほぼ一致するように配置され、中央部が開口されている。基板541の開口部分には、円筒状の軸受支持部541aを備えている。接続部42は、基板側ハブ44が基板541の+Z側の面に固定されている。また、接続部42は、ケース側ハブ46が吸収部554を介してケース部30の蓋部に固定されている。接続部42の他の構成については、上記各実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。 The substrate 541 is arranged so that the center substantially coincides with the central axis AX, and the central portion is open. A cylindrical bearing support portion 541a is provided in the opening portion of the substrate 541. In the connection portion 42, the substrate side hub 44 is fixed to the + Z side surface of the substrate 541. Further, in the connecting portion 42, the case-side hub 46 is fixed to the lid portion of the case portion 30 via the absorbing portion 554. Since the other configurations of the connecting portion 42 are the same as those of the above-described embodiments, the description thereof will be omitted.

調心軸受543は、内輪が回転軸102に取り付けられ、かつ、外輪が軸受支持部541aに固定されている。したがって、基板541は、調心軸受543を介して回転軸102に保持され、かつ、回転軸102が回転した場合でも回転しない。また、調心軸受543により、基板541は、中心軸AXと直交する平面に対して傾斜する方向に移動可能である。 In the centering bearing 543, the inner ring is attached to the rotating shaft 102, and the outer ring is fixed to the bearing support portion 541a. Therefore, the substrate 541 is held by the rotating shaft 102 via the centering bearing 543, and does not rotate even when the rotating shaft 102 rotates. Further, the centering bearing 543 allows the substrate 541 to move in a direction inclined with respect to a plane orthogonal to the central axis AX.

弾性部材551は、例えばコイルスプリング等が用いられ、基板541と支持板552との間に配置される。支持板552は、例えば円板状に形成され、例えばケース部30の円筒部31に固定される。支持板552の中央部には、開口部552aが形成されている。開口部552aは、少なくとも回転軸102の径よりも大きい径である。開口部552aは、図7に示すように、例えば軸受支持部541aの外径よりも大きい径であってもよい。例えば弾性部材551は、基板541に対して−Z方向に弾性力を作用させることで、当該弾性力により基板541を回転部10側に押し付ける。なお、弾性部材551の個数または配置は任意である。 For example, a coil spring or the like is used as the elastic member 551, and the elastic member 551 is arranged between the substrate 541 and the support plate 552. The support plate 552 is formed in a disk shape, for example, and is fixed to a cylindrical portion 31 of the case portion 30, for example. An opening 552a is formed in the central portion of the support plate 552. The opening 552a has a diameter larger than the diameter of the rotating shaft 102 at least. As shown in FIG. 7, the opening 552a may have a diameter larger than, for example, the outer diameter of the bearing support portion 541a. For example, the elastic member 551 exerts an elastic force on the substrate 541 in the −Z direction, and the substrate 541 is pressed against the rotating portion 10 by the elastic force. The number or arrangement of the elastic members 551 is arbitrary.

ギャップ用軸受553は、基板541とスケール11との間に配置される。ギャップ用軸受553は、基板541とスケール11とのZ方向の間隔を保持する。ギャップ用軸受553は、基板541に対してスケール11を回転可能に支持する。ギャップ用軸受553は、例えば、中心軸AXまわりの3カ所に配置されるが、基板541とスケール11との間隔を保持することができれば個数または配置は任意である。 The gap bearing 553 is arranged between the substrate 541 and the scale 11. The gap bearing 553 maintains a distance between the substrate 541 and the scale 11 in the Z direction. The gap bearing 553 rotatably supports the scale 11 with respect to the substrate 541. The gap bearings 553 are arranged at three places around the central axis AX, for example, but the number or arrangement is arbitrary as long as the distance between the substrate 541 and the scale 11 can be maintained.

吸収部554は、例えばゴム等の弾性変形可能な材料を用いて形成される。吸収部554は、オルダムカップリング47のZ方向への移動または傾きを吸収するものとして用いられる。ただし、吸収部554を配置するか否かは任意であり、吸収部554はなくてもよい。なお、吸収部554を配置しない場合、オルダムカップリング47のZ方向への移動または傾きは、オルダムカップリング47内で吸収させてもよい。 The absorbing portion 554 is formed by using an elastically deformable material such as rubber. The absorption unit 554 is used to absorb the movement or inclination of the Oldham coupling 47 in the Z direction. However, it is optional whether or not the absorption unit 554 is arranged, and the absorption unit 554 may not be provided. If the absorption unit 554 is not arranged, the movement or inclination of the Oldham coupling 47 in the Z direction may be absorbed in the Oldam coupling 47.

図8(A)は、エンコーダ装置600の回転軸102が傾斜する状態を示す図である。図8(A)では、一部の構成を省略して表している。図8(A)に示すように、エンコーダ装置600は、回転軸102が傾斜する場合、当該回転軸102と一体でスケール11が傾斜する。このとき、基板541は、弾性部材551の弾性力によりスケール11側に押し付けられ、かつ、ギャップ用軸受553によってスケール11と同様に傾斜する。 FIG. 8A is a diagram showing a state in which the rotation shaft 102 of the encoder device 600 is tilted. In FIG. 8A, some configurations are omitted. As shown in FIG. 8A, in the encoder device 600, when the rotating shaft 102 is tilted, the scale 11 is tilted integrally with the rotating shaft 102. At this time, the substrate 541 is pressed toward the scale 11 by the elastic force of the elastic member 551, and is tilted by the gap bearing 553 in the same manner as the scale 11.

基板541が傾くことより、オルダムカップリング47も傾くが、この傾きを吸収部554が変形することにより吸収する。なお、基板541は、ギャップ用軸受553によりスケール11との間隔が保持される。この場合、弾性部材551の弾性力により基板541がスケール11側に押し付けられるため、基板541がギャップ用軸受553に対して+Z側に離れることを抑制できる。このように、スケール11と検出部20との間の相対的な位置関係が保持される。したがって、回転軸102がZ方向から傾いた状態でも検出部20が正確にパターン12を読み取るので、検出誤差を抑制することができる。 Since the substrate 541 is tilted, the Oldham coupling 47 is also tilted, but this tilt is absorbed by the absorption portion 554 being deformed. The distance between the substrate 541 and the scale 11 is maintained by the gap bearing 553. In this case, since the substrate 541 is pressed against the scale 11 side by the elastic force of the elastic member 551, it is possible to prevent the substrate 541 from being separated from the gap bearing 553 on the + Z side. In this way, the relative positional relationship between the scale 11 and the detection unit 20 is maintained. Therefore, even when the rotation axis 102 is tilted from the Z direction, the detection unit 20 accurately reads the pattern 12, so that the detection error can be suppressed.

図8(B)は、エンコーダ装置600の回転軸102が中心軸AXの軸線方向に移動する状態を示す図である。図8(B)では、図8(A)と同様に、一部の構成を省略している。図8(B)に示すように、エンコーダ装置600は、回転軸102が中心軸AXの軸線方向に移動した場合、弾性部材551及びギャップ用軸受553によって回転部10のZ方向の移動に追従して基板541もZ方向に移動する。このとき、オルダムカップリング47もZ方向に移動するが、この移動を吸収部554が変形することにより吸収する。このように、スケール11と検出部20との間の相対的な位置関係が保持される。したがって、回転軸102がZ方向に移動した状態でも検出部20が正確にパターン12を読み取るので、検出誤差を抑制することができる。 FIG. 8B is a diagram showing a state in which the rotation axis 102 of the encoder device 600 moves in the axial direction of the central axis AX. In FIG. 8 (B), a part of the configuration is omitted as in FIG. 8 (A). As shown in FIG. 8B, when the rotating shaft 102 moves in the axial direction of the central axis AX, the encoder device 600 follows the movement of the rotating portion 10 in the Z direction by the elastic member 551 and the gap bearing 553. The substrate 541 also moves in the Z direction. At this time, the Oldham coupling 47 also moves in the Z direction, but this movement is absorbed by the absorption unit 554 being deformed. In this way, the relative positional relationship between the scale 11 and the detection unit 20 is maintained. Therefore, even when the rotation shaft 102 is moved in the Z direction, the detection unit 20 accurately reads the pattern 12, so that the detection error can be suppressed.

また、図示しないが、回転軸102が傾斜せずに、基板541が中心軸AXと直交する平面(XY平面)に対して傾く場合がある。基板541は、調心軸受543で支持されているので回転軸102に対してZ方向に揺動可能である。したがって、基板541が回転軸102に対して傾いた場合であっても、上記した図8(A)と同様に、弾性部材551及びギャップ用軸受553によって回転部10の傾きに追従して基板541も傾いた状態となる。これにより、スケール11と検出部20との間の相対的な位置関係が保持され、回転部10が傾いた状態でも検出部20が正確にパターン12を読み取るので、検出誤差を抑制することができる。 Further, although not shown, the rotating shaft 102 may not be tilted and the substrate 541 may be tilted with respect to a plane (XY plane) orthogonal to the central axis AX. Since the substrate 541 is supported by the centering bearing 543, it can swing in the Z direction with respect to the rotating shaft 102. Therefore, even when the substrate 541 is tilted with respect to the rotating shaft 102, the substrate 541 follows the tilt of the rotating portion 10 by the elastic member 551 and the gap bearing 553, as in FIG. 8A described above. Is also tilted. As a result, the relative positional relationship between the scale 11 and the detection unit 20 is maintained, and the detection unit 20 accurately reads the pattern 12 even when the rotating unit 10 is tilted, so that a detection error can be suppressed. ..

以上のように、第6実施形態に係るエンコーダ装置600は、第1実施形態と同様に、回転軸102の回転情報を精度よく取得可能である。エンコーダ装置600は、回転軸102がZ方向に対して傾斜する場合、または回転軸102がZ方向に移動する場合、回転部10が回転軸102に対して傾く場合であっても、検出部20が回転部10に追従して移動するため、回転部10のパターン12と検出部20との相対的な位置関係がずれることを抑制し、回転軸102(回転部10)の回転情報を誤差なく取得することができる。なお、第6実施形態では、調心軸受543を用いているがこれに限定されず、他の形態の軸受を用いてもよい。 As described above, the encoder device 600 according to the sixth embodiment can accurately acquire the rotation information of the rotation shaft 102 as in the first embodiment. The encoder device 600 has a detection unit 20 even when the rotating shaft 102 is tilted in the Z direction, the rotating shaft 102 moves in the Z direction, or the rotating unit 10 is tilted with respect to the rotating shaft 102. Moves following the rotating unit 10, so that the relative positional relationship between the pattern 12 of the rotating unit 10 and the detecting unit 20 is suppressed from shifting, and the rotation information of the rotating shaft 102 (rotating unit 10) can be obtained without error. Can be obtained. In the sixth embodiment, the centering bearing 543 is used, but the present invention is not limited to this, and bearings of other forms may be used.

[第7実施形態]
図9は、第7実施形態に係るエンコーダ装置700の一例を示す図である。図9(A)はXZ平面に平行な平面による断面図、(B)は−Z方向に見たときの平面図である。図6(A)及び(B)に示すように、エンコーダ装置700は、回転部10と、検出部20と、ケース部30と、支持部640と、を備えている。第7実施形態では、支持部640の構成が第1実施形態とは異なり、他の構成については第1実施形態と同様である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[7th Embodiment]
FIG. 9 is a diagram showing an example of the encoder device 700 according to the seventh embodiment. FIG. 9A is a cross-sectional view taken along a plane parallel to the XZ plane, and FIG. 9B is a plan view when viewed in the −Z direction. As shown in FIGS. 6A and 6B, the encoder device 700 includes a rotating unit 10, a detecting unit 20, a case unit 30, and a supporting unit 640. In the seventh embodiment, the configuration of the support portion 640 is different from that of the first embodiment, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified.

支持部640は、複数の駆動素子641と、素子支持部642と、を有している。駆動素子641は、それぞれ検出部20に取り付けられる。駆動素子641としては、例えば圧電素子等が用いられる。複数の駆動素子641は、検出部20をX方向、Y方向、Z方向、X方向を軸とする回転方向、Y方向を軸とする回転方向、及びZ方向を軸とする回転方向に移動させることができるように配置される。駆動素子641のそれぞれは、例えば制御部650によって駆動量または駆動タイミング等が制御される。駆動素子641は、素子支持部642を介してケース部30の円筒部31や蓋部32に支持される。 The support portion 640 has a plurality of drive elements 641 and an element support portion 642. Each of the drive elements 641 is attached to the detection unit 20. As the drive element 641, for example, a piezoelectric element or the like is used. The plurality of drive elements 641 move the detection unit 20 in the X direction, the Y direction, the Z direction, the rotation direction about the X direction, the rotation direction about the Y direction, and the rotation direction about the Z direction. Arranged so that it can be. For each of the drive elements 641, for example, the drive amount or drive timing is controlled by the control unit 650. The drive element 641 is supported by the cylindrical portion 31 and the lid portion 32 of the case portion 30 via the element support portion 642.

なお、図9(A)に示すように、エンコーダ装置700は、回転軸102の偏心移動、傾斜、Z方向への移動を検出して検出結果を制御部650に出力するセンサ651を備えてもよい。センサ651は、回転軸102に代えて回転部10の一部を検出することにより回転軸102の偏心移動等を検出してもよい。 As shown in FIG. 9A, the encoder device 700 may include a sensor 651 that detects eccentric movement, inclination, and movement of the rotating shaft 102 in the Z direction and outputs the detection result to the control unit 650. Good. The sensor 651 may detect the eccentric movement of the rotating shaft 102 by detecting a part of the rotating portion 10 instead of the rotating shaft 102.

制御部650は、センサ651の検出結果に基づいて駆動素子641を駆動し、検出部20を移動させて回転部10のパターン12と検出部20との相対位置が変動しないように制御する。なお、センサ651を配置するか否かは任意である。センサ651がない場合、制御部650は、不図示の記憶部に記憶された制御内容に基づいて各駆動素子641を駆動してもよい。また、制御部650は、例えば、検出部20における検出結果に基づいて、パターン12のうちインクリメンタルパターンとアブソリュートパターンとの位相差から回転軸102の偏心移動等を算出し、この算出結果を用いて各駆動素子641を駆動してもよい。 The control unit 650 drives the drive element 641 based on the detection result of the sensor 651, and moves the detection unit 20 to control the relative positions of the pattern 12 of the rotating unit 10 and the detection unit 20 so as not to fluctuate. It is optional whether or not the sensor 651 is arranged. In the absence of the sensor 651, the control unit 650 may drive each drive element 641 based on the control content stored in a storage unit (not shown). Further, the control unit 650 calculates, for example, the eccentric movement of the rotation shaft 102 from the phase difference between the incremental pattern and the absolute pattern in the pattern 12 based on the detection result in the detection unit 20, and uses this calculation result. Each drive element 641 may be driven.

以上のように、第7実施形態に係るエンコーダ装置700は、回転情報を精度よく取得可能である。エンコーダ装置700は、駆動素子641及び制御部650により、検出部20を回転軸102(回転部10)の移動に追従させることができる。このため、回転部10のパターン12と検出部20との相対的な位置関係がずれることを抑制し、回転軸102(回転部10)の回転情報を誤差なく取得することができる。 As described above, the encoder device 700 according to the seventh embodiment can accurately acquire rotation information. The encoder device 700 can make the detection unit 20 follow the movement of the rotation shaft 102 (rotation unit 10) by the drive element 641 and the control unit 650. Therefore, it is possible to suppress the relative positional relationship between the pattern 12 of the rotating unit 10 and the detecting unit 20 from shifting, and to acquire the rotation information of the rotating shaft 102 (rotating unit 10) without error.

[駆動装置]
次に、駆動装置について説明する。図10は、駆動装置MTRの一例を示す図である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。この駆動装置MTRは、電動モータを含むモータ装置である。駆動装置MTRは、回転軸102と、回転軸102を回転駆動する本体部(駆動部)BDと、回転軸102の回転情報を検出するエンコーダ装置ECと、本体部BDを制御する制御部MCと、を備える。
[Drive]
Next, the drive device will be described. FIG. 10 is a diagram showing an example of the drive device MTR. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified. This drive device MTR is a motor device including an electric motor. The drive device MTR includes a rotation shaft 102, a main body (drive unit) BD that rotationally drives the rotation shaft 102, an encoder device EC that detects rotation information of the rotation shaft 102, and a control unit MC that controls the main body BD. , Equipped with.

回転軸102は、負荷側端部SFaと、反負荷側端部SFbとを有する。負荷側端部SFaは、減速機など他の動力伝達機構に接続される。反負荷側端部SFbには、スケール(図示せず)が固定される。エンコーダ装置ECは、上述した実施形態で説明したエンコーダ装置である。 The rotating shaft 102 has a load-side end SFa and a non-load-side end SFb. The load side end SFa is connected to another power transmission mechanism such as a speed reducer. A scale (not shown) is fixed to the counter-load side end SFb. The encoder device EC is the encoder device described in the above-described embodiment.

この駆動装置MTRは、エンコーダ装置ECの検出結果を使って、制御部MCが本体部BDを制御する。駆動装置MTRは、誤差が抑制された回転情報を用いて本体部BDを制御するので、回転軸102の回転位置を精度よく制御することができる。駆動装置MTRは、モータ装置に限定されず、油圧や空圧を利用して回転する軸部を有する他の駆動装置であってもよい。 In this drive device MTR, the control unit MC controls the main body unit BD using the detection result of the encoder device EC. Since the drive device MTR controls the main body BD using the rotation information in which the error is suppressed, the rotation position of the rotation shaft 102 can be controlled with high accuracy. The drive device MTR is not limited to the motor device, and may be another drive device having a shaft portion that rotates by utilizing hydraulic pressure or pneumatic pressure.

[ステージ装置]
次に、ステージ装置について説明する。図11は、ステージ装置STGを示す図である。このステージ装置STGは、図10に示した駆動装置MTRの回転軸102のうち負荷側端部SFaに、回転テーブル(移動物体)TBを取り付けた構成である。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。
[Stage device]
Next, the stage device will be described. FIG. 11 is a diagram showing a stage device STG. This stage device STG has a configuration in which a rotary table (moving object) TB is attached to the load side end SFa of the rotary shaft 102 of the drive device MTR shown in FIG. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified.

ステージ装置STGは、駆動装置MTRを駆動して回転軸102を回転させると、この回転が回転テーブルTBに伝達される。その際、エンコーダ装置ECは、回転軸102の回転情報(例、回転位置)等を検出する。従って、エンコーダ装置ECからの出力を用いることにより、回転テーブルTBの角度位置を検出することができる。なお、駆動装置MTRの負荷側端部SFaと回転テーブルTBとの間に減速機等が配置されてもよい。 When the stage device STG drives the drive device MTR to rotate the rotation shaft 102, this rotation is transmitted to the rotary table TB. At that time, the encoder device EC detects rotation information (eg, rotation position) of the rotation shaft 102. Therefore, the angular position of the rotary table TB can be detected by using the output from the encoder device EC. A speed reducer or the like may be arranged between the load side end SFa of the drive device MTR and the rotary table TB.

このようにステージ装置STGは、エンコーダ装置ECが出力する回転情報において誤差が抑制されるので、回転テーブルTBの位置を精度よく制御することができる。なお、ステージ装置STGは、例えば、マシニングセンタ等の工作機械に備える回転テーブル等に適用できる。 In this way, the stage device STG can accurately control the position of the rotary table TB because the error is suppressed in the rotation information output by the encoder device EC. The stage device STG can be applied to, for example, a rotary table provided in a machine tool such as a machining center.

[ロボット装置]
次に、ロボット装置について説明する。図12は、ロボット装置RBTを示す斜視図である。なお、図12には、ロボット装置RBTの一部(関節部分)を模式的に示した。以下の説明において、上記した実施形態と同一または同等の構成部分については同一符号を付けて説明を省略または簡略化する。このロボット装置RBTは、第1アームAR1と、第2アームAR2と、関節部JTとを有している。第1アームAR1は、関節部JTを介して、第2アームAR2と接続されている。
[Robot device]
Next, the robot device will be described. FIG. 12 is a perspective view showing the robot device RBT. Note that FIG. 12 schematically shows a part (joint portion) of the robot device RBT. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the description will be omitted or simplified. This robot device RBT has a first arm AR1, a second arm AR2, and a joint portion JT. The first arm AR1 is connected to the second arm AR2 via the joint JT.

第1アームAR1は、腕部104、軸受104a、及び軸受104bを備えている。第2アームAR2は、腕部105および接続部105aを有する。接続部105aは、関節部JTにおいて、軸受104aと軸受104bの間に配置されている。接続部105aは、回転軸SF2と一体的に設けられている。回転軸SF2は、関節部JTにおいて、軸受104aと軸受104bの両方に挿入されている。回転軸SF2のうち軸受104bに挿入される側の端部は、軸受104bを貫通して減速機RGに接続されている。 The first arm AR1 includes an arm portion 104, a bearing 104a, and a bearing 104b. The second arm AR2 has an arm 105 and a connecting 105a. The connecting portion 105a is arranged between the bearing 104a and the bearing 104b in the joint portion JT. The connecting portion 105a is provided integrally with the rotating shaft SF2. The rotary shaft SF2 is inserted into both the bearing 104a and the bearing 104b at the joint portion JT. The end of the rotating shaft SF2 on the side inserted into the bearing 104b penetrates the bearing 104b and is connected to the speed reducer RG.

減速機RGは、駆動装置MTRに接続されており、駆動装置MTRの回転を例えば100分の1等に減速して回転軸SF2に伝達する。図12に図示しないが、駆動装置MTRの回転軸102のうち負荷側端部は、減速機RGに接続されている。また、駆動装置MTRの回転軸102のうち反負荷側端部には、エンコーダ装置ECのスケール(図示せず)が取り付けられている。 The speed reducer RG is connected to the drive device MTR, and reduces the rotation of the drive device MTR to, for example, 1/100 or the like and transmits it to the rotation shaft SF2. Although not shown in FIG. 12, the load side end of the rotating shaft 102 of the drive device MTR is connected to the speed reducer RG. Further, a scale (not shown) of the encoder device EC is attached to the counter-load side end of the rotating shaft 102 of the drive device MTR.

ロボット装置RBTは、駆動装置MTRを駆動して回転軸102を回転させると、この回転が減速機RGを介して回転軸SF2に伝達される。回転軸SF2の回転により接続部105aが一体的に回転し、これにより第2アームAR2が、第1アームAR1に対して回転する。その際、エンコーダ装置ECは、回転軸102の回転情報(例、回転位置等)を検出する。従って、エンコーダ装置ECからの出力を用いることにより、第2アームAR2の角度位置を検出することができる。 When the robot device RBT drives the drive device MTR to rotate the rotation shaft 102, this rotation is transmitted to the rotation shaft SF2 via the speed reducer RG. The rotation of the rotation shaft SF2 causes the connection portion 105a to rotate integrally, whereby the second arm AR2 rotates with respect to the first arm AR1. At that time, the encoder device EC detects rotation information (eg, rotation position, etc.) of the rotation shaft 102. Therefore, the angular position of the second arm AR2 can be detected by using the output from the encoder device EC.

このようにロボット装置RBTは、エンコーダ装置ECが誤差を抑制した回転情報を出力するので、第1アームAR1と第2アームAR2との相対位置を精度よく制御することができる。なお、ロボット装置RBTは、上記の構成に限定されず、駆動装置MTRは、関節を備える各種ロボット装置に適用できる。 In this way, in the robot device RBT, since the encoder device EC outputs the rotation information in which the error is suppressed, the relative positions of the first arm AR1 and the second arm AR2 can be accurately controlled. The robot device RBT is not limited to the above configuration, and the drive device MTR can be applied to various robot devices having joints.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の1つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the technical scope of the present invention is not limited to the embodiments described in the above-described embodiments and the like. One or more of the requirements described in the above embodiments and the like may be omitted. In addition, the requirements described in the above-described embodiments can be combined as appropriate.

また、上記した実施形態は、検出部20が1つであるがこれに限定されない。例えば、2つ以上の検出部20が配置されてもよい。この場合、各検出部20は同じ支持部40(基板41)等に支持されてもよく、また、別に形成された支持部(基板)に支持されてもよい。 Further, the above embodiment has one detection unit 20, but is not limited to this. For example, two or more detection units 20 may be arranged. In this case, each detection unit 20 may be supported by the same support unit 40 (board 41) or the like, or may be supported by a separately formed support unit (board).

また、上記した実施形態は、回転軸102に取り付けられた回転部10(スケール11)のパターン12を、ケース部30に保持された検出部20により検出する構成を示しているが、これに限定されない。例えば、検出部20が回転部10に固定され、パターン12が支持部40の基板41等に形成されたものでもよい。この場合であっても、回転軸102が移動するとパターン12も移動し、検出部20がパターン12の移動に追従することとなる。したがって、検出部20とパターン12との相対的な位置が変動しないので、回転軸102(回転部10)の回転情報を誤差なく取得することができる。 Further, the above-described embodiment shows a configuration in which the pattern 12 of the rotating portion 10 (scale 11) attached to the rotating shaft 102 is detected by the detecting portion 20 held by the case portion 30, but is limited to this. Not done. For example, the detection unit 20 may be fixed to the rotating unit 10 and the pattern 12 may be formed on the substrate 41 or the like of the support unit 40. Even in this case, when the rotation shaft 102 moves, the pattern 12 also moves, and the detection unit 20 follows the movement of the pattern 12. Therefore, since the relative positions of the detection unit 20 and the pattern 12 do not change, the rotation information of the rotation shaft 102 (rotation unit 10) can be acquired without error.

AX・・・中心軸、MTR・・・駆動装置、BD・・・本体部、EC、100、200、300、400、500、600、700・・・エンコーダ装置、STG・・・ステージ装置、RBT・・・ロボット装置、10・・・回転部、11・・・スケール、12・・・パターン、20・・・検出部、30・・・ケース部、40、340、440、540、640・・・支持部、41、341、441、541・・・基板、42・・・接続部、43・・・軸受、47・・・オルダムカップリング、50・・・シール部、543・・・調心軸受、551・・・弾性部材、553・・・ギャップ用軸受、554・・・吸収部 AX ... central axis, MTR ... drive device, BD ... main body, EC, 100, 200, 300, 400, 500, 600, 700 ... encoder device, STG ... stage device, RBT ... Robot device, 10 ... Rotating part, 11 ... Scale, 12 ... Pattern, 20 ... Detection part, 30 ... Case part, 40, 340, 440, 540, 640 ...・ Support part, 41, 341, 441, 541 ... Substrate, 42 ... Connection part, 43 ... Bearing, 47 ... Oldham coupling, 50 ... Seal part, 543 ... Alignment Bearing, 551 ... Elastic member, 535 ... Gap bearing, 554 ... Absorbent

Claims (15)

測定対象の回転軸に固定され、パターンが形成された回転部と、
前記パターンを検出する検出部と、
前記検出部が取り付けられると共に前記回転部の回転を許容する基板と、前記回転部を収容するケースと前記基板との間を接続し、前記回転軸の移動に前記基板を追従させる接続部と、有する支持部と、を備えるエンコーダ装置。
A rotating part that is fixed to the rotating shaft of the measurement target and has a pattern formed on it,
A detecting unit that issues test the pattern,
A substrate on which the detection unit is attached and allowing rotation of the rotating portion, a connecting portion that connects between the case accommodating the rotating portion and the substrate, and a connecting portion that follows the movement of the rotating shaft. An encoder device comprising, and a support having .
前記基板は、前記回転部に対して所定間隔をあけて平行に配置される、請求項に記載のエンコーダ装置。 The encoder device according to claim 1 , wherein the substrate is arranged in parallel with the rotating portion at a predetermined interval. 前記基板は、軸受を介して前記回転軸に保持される、請求項1又は請求項に記載のエンコーダ装置。 The encoder device according to claim 1 or 2 , wherein the substrate is held by the rotating shaft via a bearing. 前記基板は、前記回転部の外周を囲んで配置された筒状のガイド部の内側に保持される、請求項1又は請求項に記載のエンコーダ装置。 The encoder device according to claim 1 or 2 , wherein the substrate is held inside a tubular guide portion arranged so as to surround the outer periphery of the rotating portion. 前記基板は、前記ガイド部に対して、周方向に間隔をあけて複数個所で接触する、請求項に記載のエンコーダ装置。 The encoder device according to claim 4 , wherein the substrate contacts the guide portion at a plurality of locations at intervals in the circumferential direction. 前記基板は、調心軸受を介して前記回転軸に保持され、
前記基板と前記回転部との間に、両者の間隔を保持するギャップ用軸受が配置される、請求項1又は請求項に記載のエンコーダ装置。
The substrate is held by the rotating shaft via a centering bearing.
The encoder device according to claim 1 or 2 , wherein a gap bearing for maintaining a distance between the substrate and the rotating portion is arranged.
前記基板を前記回転軸に向けて押し付ける弾性部材を備える、請求項に記載のエンコーダ装置。 The encoder device according to claim 6 , further comprising an elastic member that presses the substrate toward the rotation axis. 前記接続部は、前記回転軸の軸方向と直交する面内において、直交する2方向に互いに移動可能なオルダムカップリングを含んで形成される、請求項から請求項のいずれか項に記載のエンコーダ装置。 The connecting portion in the rotation axis in a plane perpendicular to the axial direction of, formed by including a two-way movable to each other such Oldham couplings which are orthogonal, in any one of claims 1 to 7 The encoder device described. 前記接続部は、前記回転軸の軸方向と直交する方向に弾性変形可能な平行バネを含んで形成される、請求項から請求項のいずれか項に記載のエンコーダ装置。 Said connecting portion, said being in a direction perpendicular to the axial direction of the rotary shaft is formed to include an elastically deformable parallel springs, encoder device as claimed in any one of claims 1 to 7. 前記ケースと前記基板との間にシール部を備える、請求項から請求項のいずれか項に記載のエンコーダ装置。 Comprising a seal between the substrate and the casing, the encoder apparatus according to any one of claims 1 to 9. 前記パターンは光学パターンであり、
前記検出部は、前記光学パターンによる反射光または透過光を検出する、請求項1から請求項1のいずれか項に記載のエンコーダ装置。
The pattern is an optical pattern
The detector detects the reflected light or transmitted light by the optical pattern, the encoder apparatus according to any one of claims 1 0 to claim 1.
前記パターンは磁気パターンであり、
前記検出部は、前記磁気パターンによる磁場を検出する、請求項1から請求項1のいずれか項に記載のエンコーダ装置。
The pattern is a magnetic pattern
The detecting unit detects a magnetic field by said magnetic pattern, an encoder apparatus according to any one of claims 1 0 to claim 1.
請求項1から請求項1のいずれか項に記載のエンコーダ装置と、
前記回転軸に駆動力を供給する駆動部と、を備える駆動装置。
Claims 1 and encoder device according to any one of claims 1 2,
And a driving unit for supplying a driving force to the rotary shaft, the driving device.
移動体と、
前記移動体を移動させる請求項1に記載の駆動装置と、を備えるステージ装置。
With a mobile body
And a driving device according to claim 1 3 for moving the mobile stage device.
請求項1に記載の駆動装置を備えるロボット装置。 A driving device according to claim 1 3, the robotic device.
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