JP6792502B2 - Board processing system, control method and program of board processing system - Google Patents
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Description
本発明は、基板処理システム、基板処理システムの制御方法およびプログラムに関する。特に、薬液を含む処理液の寿命によって液交換の作業が生じる基板処理システムの制御技術に関する。処理対象となる基板には、例えば、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、FED(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。 The present invention relates to a substrate processing system, a control method and a program of the substrate processing system. In particular, the present invention relates to a control technique for a substrate processing system in which a liquid exchange operation occurs depending on the life of a treatment liquid containing a chemical liquid. The substrates to be processed include, for example, a semiconductor substrate, a liquid crystal display substrate, a plasma display substrate, a FED (Field Emission Display) substrate, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a photomagnetic disk substrate, and a photomask. Substrates, ceramic substrates, solar cell substrates, etc. are included.
基板処理装置では、薬液などの処理液を用いた処理が基板に施される。ただし、この処理液には寿命がある。このため、例えば、処理液の寿命を規定するライフタイムがアップした時点で液処理の交換作業が行われる(例えば、特許文献1参照)。 In the substrate processing apparatus, processing using a processing liquid such as a chemical solution is performed on the substrate. However, this treatment liquid has a limited life. Therefore, for example, the liquid treatment is replaced when the lifetime that defines the life of the treatment liquid is extended (see, for example, Patent Document 1).
特許文献1の技術では、例えば、基板処理の開始前に、処理液の寿命に到達する時点に合わせた液交換予定を配置し、この液交換予定に対して、複数の基板からなる各ロットの処理に用いる基板処理装置の各部位の使用タイミングが重複しないように、各部位の使用タイミングを配置する。そして、例えば、液交換予定と各ロットの処理に用いる各部位の使用タイミングとの間に待機時間が生じている場合には、その液交換予定を各部位の使用タイミングに合わせて後ろにずらすことで、処理液の寿命の無駄が低減される。
In the technique of
しかしながら、上記特許文献1の技術では、例えば、液交換予定を避けるように、各ロットの処理に用いる基板処理装置の各部位を使用するようにスケジュールを作成する。このため、例えば、処理液を交換する期間に、交換中の処理液を用いる基板処理を実行することができない。すなわち、基板処理装置における稼働率の低下を招く。
However, in the technique of
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、基板処理装置の稼働率を容易に向上させることが可能な、基板処理システム、基板処理システムの制御方法およびプログラムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing system, a control method and a program of the substrate processing system, which can easily improve the operating rate of the substrate processing apparatus. To do.
上記課題を解決するために、第1の態様に係る基板処理システムは、1つ以上の処理ユニットと、記憶部と、液貯留部と、取得部と、設定部と、検知部と、認識部と、検出部と、を備えている。前記1つ以上の処理ユニットは、処理液を用いて基板に処理を施す。前記記憶部は、前記1つ以上の処理ユニットにおける、第1基板群に含まれる複数枚の基板に対して順次に処理を施す第1連続処理と、第2基板群に含まれる複数枚の基板に対して順次に処理を施す第2連続処理と、を含む複数の基板群に係る複数の連続処理についての実行タイミングを示す処理計画情報を記憶する。前記液貯留部は、前記1つ以上の処理ユニットで使用する前記処理液を貯留している。前記取得部は、前記処理液の状態に係る数値を取得する。前記設定部は、前記取得部で取得された数値と、前記処理液の寿命に係る予め設定されたルールと、に基づいて、前記液貯留部に貯留されている前記処理液の交換時期を設定する。前記検知部は、前記交換時期において、前記1つ以上の処理ユニットで前記複数の連続処理の何れの連続処理も実行されていない待機状態を検知する。前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて、前記待機状態が継続する継続時間を認識する。前記検出部は、前記継続時間が予め設定された基準時間以上である液交換可能状態を検出する。 In order to solve the above problems, the substrate processing system according to the first aspect includes one or more processing units, a storage unit, a liquid storage unit, an acquisition unit, a setting unit, a detection unit, and a recognition unit. And a detection unit. The one or more processing units process the substrate with a processing liquid. The storage unit includes a first continuous process of sequentially processing a plurality of substrates included in the first substrate group in the one or more processing units, and a plurality of substrates included in the second substrate group. The processing plan information indicating the execution timing for the second continuous processing in which the processing is sequentially performed and the plurality of continuous processing related to the plurality of substrate groups including the second continuous processing is stored. The liquid storage unit stores the treatment liquid used in the one or more treatment units. The acquisition unit acquires a numerical value related to the state of the treatment liquid. The setting unit sets the replacement time of the treatment liquid stored in the liquid storage unit based on the numerical value acquired by the acquisition unit and the preset rule relating to the life of the treatment liquid. To do. The detection unit detects a standby state in which any continuous processing of the plurality of continuous processing is not executed by the one or more processing units at the replacement time. The recognition unit recognizes the duration of the standby state based on the processing plan information. The detection unit detects a liquid exchangeable state in which the duration is equal to or longer than a preset reference time.
第2の態様に係る基板処理システムは、第1の態様に係る基板処理システムであって、前記液貯留部に貯留されている前記処理液を交換する液交換処理を実行する液交換部、をさらに備え、前記液交換部は、前記検出部による前記液交換可能状態の検出に応答して、前記液交換処理を実行する。 The substrate processing system according to the second aspect is the substrate processing system according to the first aspect, which is a liquid exchange unit that executes a liquid exchange process for exchanging the processing liquid stored in the liquid storage unit. Further provided, the liquid exchange unit executes the liquid exchange process in response to the detection of the liquid exchangeable state by the detection unit.
第3の態様に係る基板処理システムは、第2の態様に係る基板処理システムであって、前記液交換部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記複数の連続処理のうちの前記1つ以上の処理ユニットにおいて実行中の連続処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する。 The substrate processing system according to the third aspect is the substrate processing system according to the second aspect, and the liquid exchange unit does not detect the liquid exchangeable state by the detection unit at the exchange time. When the exchange time has passed, the liquid exchange process is executed in response to the completion of the continuous process being executed in the one or more processing units of the plurality of continuous processes.
第4の態様に係る基板処理システムは、第2の態様に係る基板処理システムであって、キャリアに収容されている複数枚の基板を前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて搬出する搬送部、をさらに備え、前記液交換部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記搬送部によって前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて既に搬出されていた全ての基板に対して、前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する。 The substrate processing system according to the fourth aspect is the substrate processing system according to the second aspect, in which a plurality of substrates housed in a carrier are carried out from the carrier toward the one or more processing units. The liquid exchange unit is further provided with a transport unit, and when the exchangeable state is not detected by the detection unit at the exchange time and the exchange time has passed, the liquid exchange unit is used by the carrier unit to perform the above 1 from the carrier. The liquid exchange process is executed in response to the completion of the process in the one or more processing units for all the substrates that have already been carried out to the one or more processing units.
第5の態様に係る基板処理システムは、第4の態様に係る基板処理システムであって、前記搬送部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記交換時期の終了時から前記液交換処理の完了時まで、前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けた基板の搬出を中止する。 The substrate processing system according to the fifth aspect is the substrate processing system according to the fourth aspect, and the transport unit is described without the detection unit detecting the liquid exchangeable state at the exchange time. When the replacement period has passed, the unloading of the substrate from the carrier to the one or more processing units is stopped from the end of the replacement period to the completion of the liquid exchange process.
第6の態様に係る基板処理システムは、第2の態様に係る基板処理システムであって、前記液交換部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記1つ以上の処理ユニット内に既に位置している全ての基板に対して、前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する。 The substrate processing system according to the sixth aspect is the substrate processing system according to the second aspect, and the liquid exchange unit does not detect the liquid exchangeable state by the detection unit at the exchange time. When the replacement time has passed, all the substrates already located in the one or more processing units are exchanged in response to the completion of the processing in the one or more processing units. Execute the process.
第7の態様に係る基板処理システムは、第6の態様に係る基板処理システムであって、前記1つ以上の処理ユニットは、前記液交換部による前記液交換処理の実行の開始時から完了時まで、基板に対する処理の実行を停止する。 The substrate processing system according to the seventh aspect is the substrate processing system according to the sixth aspect, and the one or more processing units are from the start to the completion of the execution of the liquid exchange process by the liquid exchange unit. Until, the execution of processing on the board is stopped.
第8の態様に係る基板処理システムは、第1の態様に係る基板処理システムであって、前記検出部による前記液交換可能状態の検出に応答して、ユーザが認識可能な第1の出力を行う出力部、をさらに備えている。 The substrate processing system according to the eighth aspect is the substrate processing system according to the first aspect, and in response to the detection of the liquid exchangeable state by the detection unit, a user-recognizable first output is output. It also has an output unit to perform.
第9の態様に係る基板処理システムは、第8の態様に係る基板処理システムであって、前記出力部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたことに応答して、ユーザが認識可能な第2の出力を行う。 The substrate processing system according to the ninth aspect is the substrate processing system according to the eighth aspect, and the output unit is described without the detection unit detecting the liquid exchangeable state at the exchange time. In response to the replacement time having passed, a second output recognizable by the user is produced.
第10の態様に係る基板処理システムは、第1から第9の何れか1つの態様に係る基板処理システムであって、基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備えている。前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニット、前記液貯留部、前記取得部、前記設定部および前記検知部を含む。前記管理装置は、前記記憶部、前記認識部および前記検出部を含む。前記基板処理装置は、前記検知部による前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する送信部、をさらに含む。前記管理装置は、前記送信部からの前記第1信号を受信する受信部、をさらに含む。前記管理装置において、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部は、前記液交換可能状態を検出する。 The substrate processing system according to the tenth aspect is the substrate processing system according to any one of the first to ninth aspects, and is a substrate processing apparatus and a management apparatus communicably connected to the substrate processing apparatus. And have. The substrate processing apparatus includes the one or more processing units, the liquid storage unit, the acquisition unit, the setting unit, and the detection unit. The management device includes the storage unit, the recognition unit, and the detection unit. The substrate processing device further includes a transmission unit that transmits a first signal to the management device in response to detection of the standby state by the detection unit. The management device further includes a receiving unit that receives the first signal from the transmitting unit. In the management device, in response to the reception of the first signal by the receiving unit, the recognition unit recognizes the duration based on the processing plan information, and the detecting unit determines the liquid exchangeable state. To detect.
第11の態様に係る基板処理システムは、第10の態様に係る基板処理システムであって、前記送信部は、前記取得部で取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信し、前記管理装置において、前記受信部によって前記第2信号を受信した後に、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部は、前記液交換可能状態を検出する。 The substrate processing system according to the eleventh aspect is the substrate processing system according to the tenth aspect, and the transmission unit satisfies the specific conditions set in advance by the numerical values acquired by the acquisition unit. In response, the second signal is transmitted to the management device, and after the management device receives the second signal by the receiving unit, the recognition unit responds to the reception of the first signal by the receiving unit. Recognizes the duration based on the processing plan information, and the detection unit detects the liquid exchangeable state.
第12の態様に係る基板処理システムは、第1から第9の何れか1つの態様に係る基板処理システムであって、基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備えている。前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニット、前記液貯留部、前記取得部、前記設定部および前記検知部を含む。前記管理装置は、前記記憶部、前記認識部および前記検出部を含む。前記基板処理装置は、前記設定部によって設定された前記交換時期に係る交換時期情報を前記管理装置に送信し、前記検知部による前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する送信部、をさらに含む。前記管理装置は、前記送信部によって送信された前記交換時期情報および前記第1信号を受信する受信部、をさらに含む。前記管理装置において、前記交換時期に、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部は、前記液交換可能状態を検出する。 The substrate processing system according to the twelfth aspect is the substrate processing system according to any one of the first to ninth aspects, and is a substrate processing apparatus and a management apparatus communicably connected to the substrate processing apparatus. And have. The substrate processing apparatus includes the one or more processing units, the liquid storage unit, the acquisition unit, the setting unit, and the detection unit. The management device includes the storage unit, the recognition unit, and the detection unit. The substrate processing device transmits the replacement time information related to the replacement time set by the setting unit to the management device, and sends a first signal to the management device in response to the detection of the standby state by the detection unit. Further includes a transmitter to transmit. The management device further includes the exchange time information transmitted by the transmission unit and a reception unit that receives the first signal. In the management device, in response to the reception of the first signal by the receiving unit at the exchange time, the recognition unit recognizes the duration based on the processing plan information, and the detecting unit recognizes the duration. Detect the liquid exchangeable state.
第13の態様に係る基板処理システムは、第12の態様に係る基板処理システムであって、前記送信部は、前記取得部で取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信し、前記管理装置において、前記受信部によって前記第2信号を受信した後、前記交換時期に、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部が、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部が、前記液交換可能状態を検出する。 The substrate processing system according to the thirteenth aspect is the substrate processing system according to the twelfth aspect, and the transmission unit satisfies the specific conditions set in advance by the numerical values acquired by the acquisition unit. In response, the second signal is transmitted to the management device, and after the management device receives the second signal by the receiving unit, it responds to the reception of the first signal by the receiving unit at the exchange time. The recognition unit recognizes the duration based on the processing plan information, and the detection unit detects the liquid exchangeable state.
第14の態様に係る基板処理システムの制御方法は、処理液を用いて基板に処理を施す1つ以上の処理ユニットと、該1つ以上の処理ユニットにおける、第1基板群の複数枚の基板に対して順次に処理を施す第1連続処理および第2基板群の複数枚の基板に対して順次に処理を施す第2連続処理を含む複数の基板群に係る複数の連続処理についての実行タイミングを示す処理計画情報を記憶する記憶部と、前記1つ以上の処理ユニットで使用する前記処理液を貯留している液貯留部と、を備えている基板処理システムの制御方法であって、取得ステップと、設定ステップと、検知ステップと、認識ステップと、検出ステップと、を有している。前記取得ステップにおいて、前記処理液の状態に係る数値を取得する。前記設定ステップにおいて、前記取得ステップで取得された数値と、前記処理液の寿命に係る予め設定されたルールと、に基づいて、前記液貯留部に貯留されている前記処理液の交換時期を設定する。前記検知ステップにおいて、前記交換時期において、前記1つ以上の処理ユニットで前記複数の連続処理の何れの連続処理も実行されていない待機状態を検知する。前記認識ステップにおいて、前記処理計画情報に基づいて、前記待機状態が継続する継続時間を認識する。前記検出ステップにおいて、前記継続時間が予め設定された基準時間以上である液交換可能状態を検出する。 The control method of the substrate processing system according to the fourteenth aspect is that one or more processing units that process the substrates using the processing liquid and a plurality of substrates of the first substrate group in the one or more processing units. Execution timing for a plurality of continuous processes related to a plurality of board groups including a first continuous process in which processing is sequentially performed on a plurality of substrates and a second continuous processing in which a plurality of substrates in the second substrate group are sequentially processed. A control method for a substrate processing system including a storage unit for storing processing plan information indicating the above, and a liquid storage unit for storing the processing liquid used in the one or more processing units. It has a step, a setting step, a detection step, a recognition step, and a detection step. In the acquisition step, a numerical value related to the state of the treatment liquid is acquired. In the setting step, the replacement time of the treatment liquid stored in the liquid storage unit is set based on the numerical value acquired in the acquisition step and the preset rule relating to the life of the treatment liquid. To do. In the detection step, a standby state in which any continuous processing of the plurality of continuous processing is not executed by the one or more processing units is detected at the replacement time. In the recognition step, the duration of the standby state is recognized based on the processing plan information. In the detection step, a liquid exchangeable state in which the duration is equal to or longer than a preset reference time is detected.
第15の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第14の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記検出ステップによる前記液交換可能状態の検出に応答して、前記液貯留部に貯留されている前記処理液を交換する液交換処理を実行する第1液交換ステップ、をさらに有している。 The control method of the substrate processing system according to the fifteenth aspect is the control method of the substrate processing system according to the fourteenth aspect, and the liquid storage unit responds to the detection of the liquid exchangeable state by the detection step. It further comprises a first liquid exchange step of performing a liquid exchange process for exchanging the treatment liquid stored in the.
第16の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第15の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記複数の連続処理のうちの前記1つ以上の処理ユニットにおいて実行中の連続処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する第2液交換ステップ、をさらに有している。 The control method of the substrate processing system according to the sixteenth aspect is the control method of the substrate processing system according to the fifteenth aspect, in which the liquid exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time. When the exchange time has passed, a second liquid exchange step of executing the liquid exchange process in response to the completion of the continuous process being executed in the one or more processing units of the plurality of continuous processes. , Further have.
第17の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第15の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、キャリアに収容されている複数枚の基板を前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて搬出する搬出ステップ、をさらに有し、前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記搬出ステップにおいて前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて既に搬出されていた全ての基板に対して前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する第2液交換ステップ、をさらに有している。 The method for controlling the substrate processing system according to the seventeenth aspect is the method for controlling the substrate processing system according to the fifteenth aspect, in which a plurality of substrates housed in a carrier are processed by one or more of the above carriers. It further has a unloading step for unloading to the unit, and when the replacement time has passed without the liquid exchangeable state being detected in the detection step at the replacement time, the carrier to the unloading step A second liquid exchange step of executing the liquid exchange process in response to the completion of processing in the one or more processing units for all the substrates that have already been carried out to the one or more processing units. , Further have.
第18の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第17の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記交換時期の終了時から前記液交換処理の完了時まで、前記搬出ステップにおける、前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けた基板の搬出を中止する。 The control method of the substrate processing system according to the eighteenth aspect is the control method of the substrate processing system according to the seventeenth aspect, in which the liquid exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time. When the replacement period has passed, the unloading of the substrate from the carrier to the one or more processing units in the unloading step is stopped from the end of the replacement period to the completion of the liquid exchange process.
第19の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第15の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記1つ以上の処理ユニット内に既に位置している全ての基板に対して、前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する第2液交換ステップ、をさらに有している。 The control method of the substrate processing system according to the nineteenth aspect is the control method of the substrate processing system according to the fifteenth aspect, in which the liquid exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time. When the replacement time has passed, all the substrates already located in the one or more processing units are exchanged in response to the completion of the processing in the one or more processing units. It further has a second liquid exchange step, which performs the process.
第20の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第19の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記1つ以上の処理ユニットは、前記第2液交換ステップにおける前記液交換処理の実行の開始時から完了時まで、基板に対する処理の実行を停止する。 The control method of the substrate processing system according to the twentieth aspect is the control method of the substrate processing system according to the nineteenth aspect, and the one or more processing units are the liquid exchange processing in the second liquid exchange step. Stops the execution of processing on the board from the start to the end of the execution of.
第21の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第14の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記検出ステップにおける前記液交換可能状態の検出に応答して、ユーザが認識可能な第1の出力を行う第1出力ステップ、をさらに有している。 The control method of the substrate processing system according to the twenty-first aspect is the control method of the substrate processing system according to the fourteenth aspect, and can be recognized by the user in response to the detection of the liquid exchangeable state in the detection step. It also has a first output step, which produces a first output.
第22の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第21の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたことに応答して、ユーザが認識可能な第2の出力を行う第2出力ステップ、をさらに有している。 The control method of the substrate processing system according to the 22nd aspect is the control method of the substrate processing system according to the 21st aspect, in which the liquid exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time. It further has a second output step, which produces a second output recognizable by the user in response to the replacement time.
第23の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第14から第22の何れか1つの態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記基板処理システムは、基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備えている。前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニットおよび前記液貯留部を含む。前記管理装置は、前記記憶部を含む。前記基板処理システムの制御方法は、さらに、前記基板処理装置において、前記検知ステップにおける前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する第1信号送信ステップと、前記管理装置において、前記第1信号を受信する第1信号受信ステップと、を有し、前記管理装置において、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する。 The control method of the substrate processing system according to the 23rd aspect is the control method of the substrate processing system according to any one of the 14th to 22nd aspects, and the substrate processing system includes the substrate processing apparatus and the substrate. It includes a management device that is communicatively connected to the processing device. The substrate processing apparatus includes the one or more processing units and the liquid storage unit. The management device includes the storage unit. Further, the control method of the board processing system includes a first signal transmission step of transmitting a first signal to the management device in response to detection of the standby state in the detection step in the board processing device, and the management device. In response to the reception of the first signal in the first signal receiving step in the management device, the processing plan in the recognition step has a first signal receiving step for receiving the first signal. The duration is recognized based on the information, and the liquid exchangeable state is detected in the detection step.
第24の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第23の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記基板処理装置において、前記取得ステップで取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信する第2信号送信ステップと、前記管理装置において、前記第2信号を受信する第2信号受信ステップと、をさらに有し、前記管理装置において、前記第2信号受信ステップにおける前記第2信号の受信後に、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する。 The control method of the substrate processing system according to the 24th aspect is the control method of the substrate processing system according to the 23rd aspect, and the specific value acquired in the acquisition step is preset in the substrate processing apparatus. It further has a second signal transmission step of transmitting a second signal to the management device in response to satisfying the condition, and a second signal reception step of receiving the second signal in the management device. In the management device, after receiving the second signal in the second signal receiving step, in response to receiving the first signal in the first signal receiving step, based on the processing plan information in the recognition step. The duration is recognized, and the liquid exchangeable state is detected in the detection step.
第25の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第14から第22の何れか1つの態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記基板処理システムは、基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備えている。前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニットおよび前記液貯留部を含む。前記管理装置は、前記記憶部を含む。前記基板処理システムの制御方法は、さらに、前記基板処理装置において、前記設定ステップで設定された前記交換時期に係る交換時期情報を前記管理装置に送信する時期情報送信ステップと、前記基板処理装置において、前記検知ステップにおける前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する第1信号送信ステップと、前記管理装置において、前記交換時期情報を受信する時期情報受信ステップと、前記管理装置において、前記第1信号を受信する第1信号受信ステップと、を有し、前記管理装置において、前記交換時期に、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する。 The control method of the substrate processing system according to the 25th aspect is the control method of the substrate processing system according to any one of the 14th to 22nd aspects, and the substrate processing system includes the substrate processing apparatus and the substrate. It includes a management device that is communicatively connected to the processing device. The substrate processing apparatus includes the one or more processing units and the liquid storage unit. The management device includes the storage unit. Further, the control method of the board processing system includes a time information transmission step of transmitting the replacement time information related to the replacement time set in the setting step to the management device in the board processing device, and the board processing device. The first signal transmission step of transmitting the first signal to the management device in response to the detection of the standby state in the detection step, the time information receiving step of receiving the exchange time information in the management device, and the above. The management device has a first signal receiving step for receiving the first signal, and the management device responds to the reception of the first signal in the first signal receiving step at the exchange time. The recognition step recognizes the duration based on the processing plan information, and the detection step detects the liquid exchangeable state.
第26の態様に係る基板処理システムの制御方法は、第25の態様に係る基板処理システムの制御方法であって、前記基板処理装置において、前記取得ステップで取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信する第2信号送信ステップと、前記管理装置において、前記第2信号を受信する第2信号受信ステップと、をさらに有し、前記管理装置において、前記第2信号受信ステップで前記第2信号を受信した後、前記交換時期に、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する。 The control method of the substrate processing system according to the 26th aspect is the control method of the substrate processing system according to the 25th aspect, and the specific value acquired in the acquisition step is preset in the substrate processing apparatus. It further has a second signal transmission step of transmitting a second signal to the management device in response to satisfying the condition, and a second signal reception step of receiving the second signal in the management device. After receiving the second signal in the second signal receiving step in the management device, in response to the reception of the first signal in the first signal receiving step at the exchange time, the recognition step The duration is recognized based on the processing plan information, and the liquid exchangeable state is detected in the detection step.
第27の態様に係るプログラムは、基板処理システムに含まれる演算処理部によって実行されることで、該基板処理システムを、第1から第13の何れか1つの態様に係る基板処理システムとして機能させる。 The program according to the 27th aspect is executed by the arithmetic processing unit included in the substrate processing system to make the substrate processing system function as the substrate processing system according to any one of the first to thirteenth aspects. ..
第1から第13の態様に係る基板処理システム、第14から第26の態様に係る基板処理システムの制御方法および第27の態様のプログラムの何れによっても、例えば、処理液の状態に係る数値に基づいて設定される処理液の交換時期において、1つ以上の処理ユニットの待機状態が検知され、この待機状態の継続時間が基準時間以上である液交換可能状態が検出される。これにより、例えば、液交換可能状態の検出に応じて、液貯留部に貯留されている処理液を交換することができる。このため、例えば、ある程度の幅を持たせた交換時期において、1つ以上の処理ユニットが待機している十分な長さの継続時間を有効利用して、液貯留部の処理液を交換することができる。その結果、例えば、1つ以上の処理ユニットの稼働率が向上し得る。したがって、基板処理装置の稼働率を容易に向上させることができる。 By any of the substrate processing system according to the first to thirteenth aspects, the control method of the substrate processing system according to the fourteenth to twenty-sixth aspects, and the program according to the 27th aspect, for example, the numerical value related to the state of the processing liquid can be obtained. At the processing liquid replacement time set based on the above, the standby state of one or more processing units is detected, and the liquid exchangeable state in which the duration of this standby state is equal to or longer than the reference time is detected. Thereby, for example, the processing liquid stored in the liquid storage unit can be replaced in response to the detection of the liquid exchangeable state. Therefore, for example, the processing liquid in the liquid storage unit should be replaced by effectively utilizing a sufficiently long duration in which one or more processing units are on standby at the replacement period having a certain width. Can be done. As a result, for example, the operating rate of one or more processing units can be improved. Therefore, the operating rate of the substrate processing apparatus can be easily improved.
第2の態様に係る基板処理システムおよび第15の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、処理液の交換時期において、処理液の交換を行うための基準時間以上、待機状態が継続するのであれば、処理液の交換が自動で行われる。これにより、例えば、処理液を適正なタイミングで交換することができる。 Regardless of the control method of the substrate processing system according to the second aspect and the control method of the substrate processing system according to the fifteenth aspect, for example, at the time of exchanging the processing liquid, the standby state is longer than the reference time for exchanging the processing liquid. If the above continues, the treatment liquid is automatically replaced. Thereby, for example, the treatment liquid can be replaced at an appropriate timing.
第3の態様に係る基板処理システムおよび第16の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、液交換可能状態が検出されることなく処理液の交換時期が過ぎても、1つの基板群に対する連続処理が完了すれば、処理液が交換される。これにより、例えば、劣化した処理液を用いて処理が施される基板の数が低減される。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理が中断されず、1つ以上の処理ユニットの稼働率が低下しにくくなる。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the third aspect and the substrate processing system according to the sixteenth aspect, for example, even if the exchangeable state of the liquid is not detected and the exchange time of the processing liquid has passed, 1 When the continuous processing for one substrate group is completed, the processing liquid is replaced. This reduces, for example, the number of substrates that are treated with the degraded treatment liquid. Further, for example, continuous processing for one substrate group is not interrupted, and the operating rate of one or more processing units is less likely to decrease.
第4および第5の態様に係る基板処理システムならびに第17および第18の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、液交換可能状態が検出されることなく処理液の交換時期が過ぎても、キャリアから既に搬出済みの全ての基板に対する処理が完了すれば、処理液が交換される。これにより、例えば、劣化した処理液を用いて処理が施される基板の数が低減される。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理において、複数の基板に対する処理条件のばらつきが生じにくいため、処理後の基板の特性にばらつきが生じにくくなる。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the fourth and fifth aspects and the substrate processing system according to the seventeenth and eighteenth aspects, for example, the timing of exchanging the processing liquid without detecting the liquid exchangeable state is detected. Even after that, the processing liquid is replaced when the processing for all the substrates already carried out from the carrier is completed. This reduces, for example, the number of substrates that are treated with the degraded treatment liquid. Further, for example, in the continuous processing for one substrate group, the processing conditions for a plurality of substrates are less likely to vary, so that the characteristics of the substrates after the processing are less likely to vary.
第5の態様に係る基板処理システムおよび第18の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、液交換可能状態が検出されることなく処理液の交換時期が過ぎれば、交換時期の終了時から処理液の交換処理の完了時まで、キャリアから1つ以上の処理ユニットに向けた基板の搬出が中止される。これにより、例えば、キャリアに収容される複数の基板に対する搬送および処理の内容にばらつきが生じにくく、基板の搬送および処理の制御が容易となる。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the fifth aspect and the substrate processing system according to the eighteenth aspect, for example, if the exchangeable state of the liquid is not detected and the exchange time of the processing liquid has passed, the exchange time is reached. From the end of the process to the completion of the processing liquid exchange process, the transfer of the substrate from the carrier to one or more processing units is stopped. As a result, for example, the contents of transport and processing for a plurality of substrates accommodated in the carrier are less likely to vary, and the transfer and processing of the substrates can be easily controlled.
第6および第7の態様に係る基板処理システムならびに第19および第20の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、処理液の交換時期が過ぎても、1つ以上の処理ユニットに既に位置している全ての基板に対する処理が完了すれば、処理液が交換される。これにより、例えば、処理液の交換が早期に実行され、劣化した処理液を用いた基板処理が実行されにくくなる。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the sixth and seventh aspects and the substrate processing system according to the nineteenth and twentieth aspects, for example, one or more treatments even after the treatment liquid replacement time has passed. When the processing for all the substrates already located in the unit is completed, the processing liquid is replaced. As a result, for example, the replacement of the treatment liquid is executed at an early stage, and it becomes difficult to carry out the substrate treatment using the deteriorated treatment liquid.
第7の態様に係る基板処理システムおよび第20の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、処理液の交換の開始時から完了時まで、基板に対する処理の実行が停止される。これにより、例えば、1つ以上の処理ユニットにおける基板処理の制御が容易となる。 In any of the control methods of the substrate processing system according to the seventh aspect and the substrate processing system according to the twentieth aspect, the execution of the processing on the substrate is stopped from the start to the completion of the exchange of the treatment liquid, for example. .. This facilitates control of substrate processing in, for example, one or more processing units.
第8および第9の態様に係る基板処理システムおよび第21および第22の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、処理液の交換時期において、処理液の交換を行うための基準時間以上、待機状態が継続するのであれば、ユーザが認識可能な第1の出力が行われる。これにより、例えば、ユーザは、処理液の交換を開始しても良いタイミングを容易に知ることができる。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the eighth and ninth aspects and the substrate processing system according to the 21st and 22nd aspects, for example, for exchanging the treatment liquid at the time of exchanging the treatment liquid. If the standby state continues for the reference time or longer, the first output recognizable by the user is performed. Thereby, for example, the user can easily know when the exchange of the treatment liquid may be started.
第9の態様に係る基板処理システムおよび第22の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、液交換可能状態が検出されることなく処理液の交換時期が過ぎたことがユーザに報知され得る。これにより、劣化した処理液を用いた基板処理が行われにくくなる。 In any of the control methods of the substrate processing system according to the ninth aspect and the substrate processing system according to the 22nd aspect, for example, the user indicates that the processing liquid exchange time has passed without detecting the liquid exchangeable state. Can be notified to. This makes it difficult to process the substrate using the deteriorated processing liquid.
第10および第11の態様に係る基板処理システムならびに第23および第24の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、基板処理の計画を管理する管理装置において、基板処理装置における処理液の交換時期に係る情報が得られなくても、液交換可能状態が検出され得る。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the tenth and eleventh aspects and the substrate processing system according to the twenty-third and twenty-fourth aspects, for example, in the management apparatus for managing the substrate processing plan, the substrate processing apparatus The liquid exchangeable state can be detected even if the information regarding the exchange timing of the treatment liquid is not obtained.
第11の態様に係る基板処理システムおよび第24の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、基板処理の計画を管理する管理装置において、基板処理装置における処理液の交換時期に係る情報が得られなくても、処理液の交換時期の到来後に液交換可能状態が検出される。これにより、例えば、1つ以上の処理ユニットの稼働率を容易に向上させることができる。その結果、基板処理装置の稼働率を容易に向上させることができる。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the eleventh aspect and the control method of the substrate processing system according to the twenty-fourth aspect, for example, in a management device that manages a substrate processing plan, when the processing liquid in the substrate processing apparatus is replaced. Even if such information cannot be obtained, the liquid exchangeable state is detected after the time for exchanging the treatment liquid has arrived. Thereby, for example, the operating rate of one or more processing units can be easily improved. As a result, the operating rate of the substrate processing apparatus can be easily improved.
第12および第13の態様に係る基板処理システムならびに第25および第26の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、基板処理の計画を管理する管理装置において、基板処理装置における処理液の交換時期において、液交換可能状態が検出され得る。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the twelfth and thirteenth aspects and the substrate processing system according to the twenty-fifth and twenty-sixth aspects, for example, in the management apparatus for managing the substrate processing plan, the substrate processing apparatus. A liquid exchangeable state can be detected at the time when the treatment liquid is replaced.
第13の態様に係る基板処理システムおよび第26の態様に係る基板処理システムの制御方法の何れによっても、例えば、基板処理の計画を管理する管理装置において、処理液の交換時期の到来後に、基板処理装置における処理液の交換時期において、液交換可能状態が検出され得る。 By any of the control methods of the substrate processing system according to the thirteenth aspect and the substrate processing system according to the twenty-sixth aspect, for example, in a management device that manages a substrate processing plan, a substrate is used after the time for exchanging the processing liquid has arrived. A liquid exchangeable state can be detected at the time of exchanging the processing liquid in the processing apparatus.
基板処理装置では、薬液などの処理液を用いた処理が基板に施される。ただし、この処理液には寿命がある。このため、例えば、処理液の寿命を規定するライフタイムがアップした時点で、処理液の交換作業を行うことが考えられる。 In the substrate processing apparatus, processing using a processing liquid such as a chemical solution is performed on the substrate. However, this treatment liquid has a limited life. Therefore, for example, it is conceivable to perform the treatment liquid replacement work when the lifetime that defines the life of the treatment liquid is extended.
図20は、基板処理装置に、複数の基板をそれぞれ収容している4つの収容器(キャリアともいう)を保持する機構としての第1〜4ロードポートLP1〜LP4が存在する場合について、基板処理のタイミングと処理液の交換のタイミングとの関係の一例を示す図である。 FIG. 20 shows a case where the substrate processing apparatus has the first to fourth load ports LP1 to LP4 as a mechanism for holding four containers (also referred to as carriers) accommodating a plurality of substrates, respectively. It is a figure which shows an example of the relationship between the timing of the above and the timing of exchange of a treatment liquid.
図20で示されるように、例えば、時刻t01から時刻t02の期間に、第1ロードポートLP1から基板が順次搬出されながら処理ユニットで処理液を用いた基板処理が行われる。また、時刻t02から時刻t03の期間に、第2ロードポートLP2から基板が順次搬出されながら処理ユニットで処理液を用いた基板処理が行われる。時刻t03から時刻t04の期間に、第3ロードポートLP3から基板が順次搬出されながら処理ユニットで処理液を用いた基板処理が行われる。ここで、例えば、時刻t03と時刻t04との間の時刻t0cに処理液の寿命が到来した場合には、時刻t04から時刻t05にかけて処理液の交換が行われた後に、時刻t05から時刻t06の期間に、第4ロードポートLP4から基板が順次搬出されながら処理ユニットで処理液を用いた基板処理が行われる。このような処理が行われる場合には、本来は、時刻t04から時刻t06の期間に、第4ロードポートLP4から基板が順次搬出されながら処理ユニットで処理液を用いた基板処理が行われるところが、時刻t04から時刻t05にかけて処理液の交換が行われる。これにより、例えば、時刻t04から時刻t05までの時間が、基板処理を行うことができない待機時間となり、基板処理装置における稼働率の低下を招く。 As shown in FIG. 20, for example, during the period from time t01 to time t02, the substrate is sequentially carried out from the first load port LP1 while the substrate is processed by the processing unit using the processing liquid. Further, during the period from time t02 to time t03, the substrate is sequentially carried out from the second load port LP2, and the substrate is processed by the processing unit using the processing liquid. During the period from time t03 to time t04, the processing unit performs substrate processing using the processing liquid while sequentially carrying out the substrates from the third load port LP3. Here, for example, when the life of the treatment liquid reaches the end of the life of the treatment liquid at the time t0c between the time t03 and the time t04, the treatment liquid is exchanged from the time t04 to the time t05, and then from the time t05 to the time t06. During the period, the substrate is processed by the processing unit using the processing liquid while the substrates are sequentially carried out from the fourth load port LP4. When such processing is performed, originally, during the period from time t04 to time t06, the substrate processing using the processing liquid is performed in the processing unit while the substrates are sequentially carried out from the fourth load port LP4. The processing liquid is exchanged from time t04 to time t05. As a result, for example, the time from the time t04 to the time t05 becomes a standby time during which the substrate processing cannot be performed, which causes a decrease in the operating rate of the substrate processing apparatus.
このような問題に対して、例えば、複数の基板処理装置における基板処理の処理計画を管理するホストコンピュータにおいて、処理計画に基づいて基板処理装置で処理液を交換するスケジュールを最適化することが考えられる。 To solve such a problem, for example, in a host computer that manages a processing plan for board processing in a plurality of board processing devices, it is conceivable to optimize a schedule for exchanging the processing liquid in the board processing device based on the processing plan. Be done.
しかしながら、例えば、処理液が寿命に到達する時点と、基板処理装置の1日における稼働開始時または稼働終了時とは、必ずしも一致しない。また、例えば、処理液の寿命が数日以上にわたる場合も多い。これに対して、例えば、ホストコンピュータでは、処理計画が毎日作成される場合が多い。このため、ホストコンピュータにおいて、処理計画に基づいて基板処理装置で処理液を交換するスケジュールを最適化して、基板処理装置における稼働率を向上させることは難しい。 However, for example, the time when the treatment liquid reaches the end of its life does not always coincide with the time when the operation of the substrate processing apparatus starts or ends in one day. Further, for example, the life of the treatment liquid often extends to several days or more. On the other hand, for example, on a host computer, a processing plan is often created every day. Therefore, in the host computer, it is difficult to optimize the schedule for exchanging the processing liquid in the substrate processing apparatus based on the processing plan to improve the operating rate in the substrate processing apparatus.
このような場合には、例えば、基板処理装置において、個別に処理液の使用時間または使用回数などの処理液の寿命に係る値を管理して、処理液を交換するタイミングを決定することが考えられる。ただし、処理液には、交換すべき時期が到来してから処理液を交換することなくその処理液を用いた基板処理を継続しても構わない許容期間は、処理液の種類によって大きく異なる。また、例えば、基板処理装置のオペレータが、処理液の交換の前後で何が発生するのか予測することも難しい。したがって、例えば、基板処理装置のオペレータが、処理液を交換するタイミングを決定することは容易ではない。 In such a case, for example, in the substrate processing apparatus, it is conceivable to individually manage the values related to the life of the processing liquid such as the usage time or the number of times of use of the treatment liquid to determine the timing for replacing the treatment liquid. Be done. However, the permissible period during which the substrate treatment using the treatment liquid may be continued without replacing the treatment liquid after the time to replace the treatment liquid has arrived varies greatly depending on the type of the treatment liquid. It is also difficult for, for example, the operator of the substrate processing apparatus to predict what will occur before and after the exchange of the processing liquid. Therefore, for example, it is not easy for the operator of the substrate processing apparatus to determine the timing for exchanging the processing liquid.
そこで、本願発明者は、基板処理装置の稼働率を容易に向上させることが可能な技術を創出した。これについて、以下、一実施形態および各種変形例を図面に基づいて説明する。なお、図面においては同様な構成および機能を有する部分に同じ符号が付されており、下記説明では重複説明が省略される。また、図面は模式的に示されたものである。 Therefore, the inventor of the present application has created a technique capable of easily improving the operating rate of the substrate processing apparatus. Hereinafter, one embodiment and various modifications will be described with reference to the drawings. In the drawings, parts having the same configuration and function are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted in the following description. In addition, the drawings are schematically shown.
<1.基板処理システムの概略構成>
図1は、一実施形態に係る基板処理システム1の概略構成の一例を示す図である。
<1. Outline configuration of board processing system>
FIG. 1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a
図1で示されるように、基板処理システム1は、例えば、ホストコンピュータ10と、複数の基板処理装置20と、を備えている。複数の基板処理装置20には、例えば、第1の基板処理装置20a、第2の基板処理装置20bおよび第3の基板処理装置20cが含まれている。ここでは、ホストコンピュータ10と複数の基板処理装置20とが、通信回線5を介して通信可能に接続されている。通信回線5は、例えば、有線回線であってもよいし、無線回線であってもよい。
As shown in FIG. 1, the
<2.ホストコンピュータの構成>
図2は、ホストコンピュータ10の電気的な構成の一例を示すブロック図である。ホストコンピュータ10は、複数の基板処理装置20を統括的に管理するための装置(管理装置ともいう)である。
<2. Host computer configuration>
FIG. 2 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of the
図2で示されるように、ホストコンピュータ10は、例えば、コンピュータなどによって実現され、バスラインBu1を介して接続された、通信部11、入力部12、出力部13、記憶部14、制御部15およびドライブ16を備えている。
As shown in FIG. 2, the
通信部11は、例えば、通信回線5を介して各基板処理装置20に対して信号を送信することができる送信部としての機能を有する。また、通信部11は、例えば、通信回線5を介して各基板処理装置20からの信号を受信することができる受信部としての機能を有する。
The
入力部12は、例えば、ホストコンピュータ10を使用するユーザの動作などに応じた信号を入力することができる。入力部12には、例えば、操作部、マイクおよび各種センサなどが含まれ得る。操作部は、ユーザの操作に応じた信号を入力することができるマウスおよびキーボードなどを含み得る。マイクは、ユーザの音声に応じた信号を入力することができる。各種センサは、ユーザの動きに応じた信号を入力することができる。
The
出力部13は、例えば、各種情報を出力することができる。出力部13には、例えば、表示部およびスピーカなどが含まれ得る。表示部は、例えば、各種情報をユーザが認識することができる態様で可視的に出力することができる。ここで、この表示部は、入力部12と一体化されたタッチパネルの形態を有していても良い。スピーカは、例えば、各種情報をユーザが認識することができる態様で可聴的に出力することができる。
The
記憶部14は、例えば、各種の情報を記憶することができる。この記憶部14は、例えば、ハードディスクおよびフラッシュメモリなどの記憶媒体によって構成され得る。記憶部14では、例えば、1つの記憶媒体を有する構成、2つ以上の記憶媒体を一体的に有する構成、および2つ以上の記憶媒体を2つ以上の部分に分けて有する構成の何れが採用されても良い。記憶部14には、例えば、プログラムP1および処理計画の情報(処理計画情報ともいう)PP1などの各種情報が記憶され得る。記憶部14には、後述するメモリ15bが含まれても良い。処理計画情報PP1は、各基板処理装置20について、後述するN台(Nは自然数)の処理ユニット21(図3など参照)における、複数の基板群に係る複数の連続した基板処理(連続処理ともいう)を実行するタイミング(実行タイミングともいう)などを示す。ここで、基板群は、例えば、1つのロットを構成する複数枚の基板W(図4など参照)によって構成される。複数の基板群に係る複数の連続処理には、例えば、第1基板群に含まれる複数枚の基板Wに対して順次に処理を施す連続処理(第1連続処理ともいう)と、第2基板群に含まれる複数枚の基板Wに対して順次に処理を施す連続処理(第2連続処理ともいう)と、が含まれ得る。
The
制御部15は、例えば、プロセッサーとして働く演算処理部15aおよび情報を一時的に記憶するメモリ15bなどを含む。演算処理部15aとしては、例えば、中央演算部(CPU)などの電気回路が採用され、メモリ15bとしては、例えば、ランダムアクセスメモリ(RAM)などが採用され得る。演算処理部15aにおいて、例えば、記憶部14に記憶されているプログラムP1が読み込まれて実行されることで、基板処理システム1の機能が実現され得る。制御部15における各種情報処理によって一時的に得られる各種情報は、適宜メモリ15bなどに記憶され得る。
The
ドライブ16は、例えば、可搬性の記憶媒体RM1の脱着が可能な部分である。ドライブ16では、例えば、記憶媒体RM1が装着されている状態で、この記憶媒体RM1と制御部15との間におけるデータの授受が行われ得る。また、プログラムP1が記憶された記憶媒体RM1がドライブ16に装着されることで、記憶媒体RM1から記憶部14内にプログラムP1が読み込まれて記憶される態様が採用されても良い。
The
<3.基板処理装置の構成>
図3は、基板処理装置20の概略構成の一例を示す模式的な平面図である。基板処理装置20は、例えば、基板Wの表面に対して処理液を供給することで各種処理を行うことができる枚葉式の装置である。ここでは、基板Wの一例として、半導体基板(ウエハ)が用いられる。各種処理には、例えば、薬液などでエッチングを施す薬液処理、液体で汚れを除去する洗浄処理、水で洗い流すリンス処理およびレジストなどを塗布する塗布処理などが含まれる。
<3. Configuration of board processing equipment>
FIG. 3 is a schematic plan view showing an example of a schematic configuration of the
基板処理装置20は、収容器としての複数のキャリアCを保持する収容器保持機構としての第MロードポートLPM(Mは自然数、この実施形態ではMは1〜4)と、基板Wを処理するN台(この実施形態では、12台)の処理ユニット21と、を含む。具体的には、例えば、平面的に配置されている4台の処理ユニット21でそれぞれ構成されている3組の処理ユニット21が、上下方向に積層するように配置されている。ここで、第1〜4ロードポートLP1〜LP4には、例えば、キャリアCを搬送する機構(キャリア搬送機構ともいう)によってキャリアCが載置される。
The
基板処理装置20は、さらに、例えば、インデクサロボットIRと、センターロボットCRと、液貯留部22と、制御ユニット23と、液交換部24と、を含む。
The
インデクサロボットIRは、例えば、第1〜4ロードポートLP1〜LP4とセンターロボットCRとの間で基板Wを搬送することができる。センターロボットCRは、例えば、インデクサロボットIRと各処理ユニット21との間で基板Wを搬送することができる。換言すれば、インデクサロボットIRとセンターロボットCRとが、キャリアCに収容されている複数枚の基板WをキャリアCからN台の処理ユニット21に向けて搬出する、搬送部TRとして機能する。
The indexer robot IR can transfer the substrate W between the first to fourth load ports LP1 to LP4 and the center robot CR, for example. The center robot CR can, for example, convey the substrate W between the indexer robot IR and each
液貯留部22は、例えば、N台の処理ユニット21で使用する処理液Lq0(図4など参照)を貯留することができる。液貯留部22には、例えば、N台の処理ユニット21に対して1つ以上のタンクが含まれていてもよいし、N台の処理ユニット21のうちの1台以上の処理ユニット21ごとに1つ以上のタンクが含まれていてもよい。ここでは、各タンクに、同じ種類の処理液Lq0が貯留されていてもよいし、異なる種類の処理液Lq0が貯留されていてもよい。
The
制御ユニット23は、例えば、基板処理装置20に備えられた各部の動作およびバルブの開閉などを制御することができる。
The
液交換部24は、例えば、制御ユニット23からの指令に応じて、液貯留部22に貯留されている処理液を交換する処理(液交換処理ともいう)を実行することができる。この液交換部24は、例えば、液排出部241と液供給部242とを有している。液排出部241は、例えば、バルブの開閉などによって液貯留部22から処理液Lq0を排出することができる。液供給部242は、例えば、バルブの開閉などによって処理液Lq0の供給源から液貯留部22へ処理液Lq0を供給することができる。処理液Lq0の供給源は、例えば、基板処理システム1の外部に位置しており、処理液Lq0を貯留しているタンク、このタンクと液貯留部22とをつなぐ配管部、およびタンクから液貯留部22に向けて処理液Lq0を送出するポンプなどを有している。液交換部24によれば、例えば、液排出部241によって液貯留部22から処理液Lq0がすべて排出された後に、液供給部242によって液貯留部22に処理液Lq0が供給される。これにより、液交換処理が実行される。
For example, the
ここでは、図3で示されるように、第1〜4ロードポートLP1〜LP4と各処理ユニット21とは、水平方向に間隔を空けて配置されている。第1〜4ロードポートLP1〜LP4において、1つの基板群を成す複数枚の基板Wをそれぞれ収容する複数のキャリアCは、平面視したときに水平な配列方向Dに沿って配列されている。ここで、インデクサロボットIRは、例えば、キャリアCからセンターロボットCRに複数枚の基板Wを一枚ずつ搬送することができるとともに、センターロボットCRからキャリアCに複数枚の基板Wを一枚ずつ搬送することができる。同様に、センターロボットCRは、例えば、インデクサロボットIRから各処理ユニット21に複数枚の基板Wを一枚ずつ搬入することができるとともに、各処理ユニット21からインデクサロボットIRに複数枚の基板Wを一枚ずつ搬送することができる。また、例えば、センターロボットCRは、必要に応じて複数の処理ユニット21の間において基板Wを搬送することができる。
Here, as shown in FIG. 3, the first to fourth load ports LP1 to LP4 and each
図3の例では、インデクサロボットIRは、平面視U字状の2つのハンドHを有している。2つのハンドHは、異なる高さに配置されている。各ハンドHは、基板Wを水平な姿勢で支持することができる。インデクサロボットIRは、ハンドHを水平方向および鉛直方向に移動させることができる。さらに、インデクサロボットIRは、鉛直方向に沿った軸を中心として回転(自転)することで、ハンドHの向きを変更することができる。インデクサロボットIRは、受渡位置(図3でインデクサロボットIRが描かれている位置)を通る経路25において配列方向Dに沿って移動する。受渡位置は、平面視したときにインデクサロボットIRとセンターロボットCRとが配列方向Dに直交する方向において対向する位置である。インデクサロボットIRは、任意のキャリアCおよびセンターロボットCRにそれぞれハンドHを対向させることができる。ここで、例えば、インデクサロボットIRは、ハンドHを移動させることにより、キャリアCに基板Wを搬入する搬入動作と、キャリアCから基板Wを搬出する搬出動作と、を行うことができる。また、例えば、インデクサロボットIRは、センターロボットCRと協働して、インデクサロボットIRおよびセンターロボットCRの一方から他方に基板Wを移動させる受渡動作を受渡位置で行うことができる。
In the example of FIG. 3, the indexer robot IR has two U-shaped hands H in a plan view. The two hands H are arranged at different heights. Each hand H can support the substrate W in a horizontal posture. The indexer robot IR can move the hand H in the horizontal direction and the vertical direction. Further, the indexer robot IR can change the direction of the hand H by rotating (rotating) about an axis along the vertical direction. The indexer robot IR moves along the arrangement direction D in the
図3の例では、センターロボットCRは、インデクサロボットIRと同様に、平面視U字状の2つのハンドHを有している。2つのハンドHは、異なる高さに配置されている。各ハンドHは、基板Wを水平な姿勢で支持することができる。センターロボットCRは、各ハンドHを水平方向および鉛直方向に移動させることができる。さらに、センターロボットCRは、鉛直方向に沿った軸を中心として回転(自転)することで、ハンドHの向きを変更することができる。センターロボットCRは、平面視したときに、複数台の処理ユニット21に取り囲まれている。センターロボットCRは、任意の処理ユニット21およびインデクサロボットIRの何れかにハンドHを対向させることができる。ここで、例えば、センターロボットCRは、ハンドHを移動させることにより、各処理ユニット21に基板Wを搬入する搬入動作と、各処理ユニット21から基板Wを搬出する搬出動作と、を行うことができる。また、例えば、センターロボットCRは、インデクサロボットIRと協働して、インデクサロボットIRおよびセンターロボットCRの一方から他方に基板Wを移動させる受渡動作を行うことができる。
In the example of FIG. 3, the center robot CR has two U-shaped hands H in a plan view, similar to the indexer robot IR. The two hands H are arranged at different heights. Each hand H can support the substrate W in a horizontal posture. The center robot CR can move each hand H in the horizontal direction and the vertical direction. Further, the center robot CR can change the direction of the hand H by rotating (rotating) about an axis along the vertical direction. The center robot CR is surrounded by a plurality of
図4は、処理ユニット21の一構成例を模式的に示す図である。処理ユニット21は、処理液Lq0を用いて基板Wに処理を施すことができる。処理ユニット21では、例えば、平面内で回転している基板Wの一主面上(上面ともいう)Us1に処理液Lq0を供給することで、基板Wの上面Us1に対して各種処理を施すことができる。処理液Lq0には、例えば、粘度が比較的低い水または薬液などの流動性を有する基板の処理に用いるための液体一般が適用される。図4で示されるように、処理ユニット21は、例えば、保持部211と、回転機構212と、処理液供給系213と、を備えている。
FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration example of the
保持部211は、例えば、基板Wを略水平姿勢で保持して回転させることができる。保持部211には、例えば、基板Wの上面Us1の逆の他の一主面(下面ともいう)Bs1を真空吸着可能な上面211uを有する真空チャック、または基板Wの周縁部を挟持可能な複数個のチャックピンを有する挟持式のチャックなどが適用される。
The holding
回転機構212は、例えば、保持部211を回転させることができる。回転機構212には、例えば、上端部に保持部211が連結されて鉛直方向に沿って延在している回転支軸212sと、この回転支軸212sを鉛直方向に沿った仮想的な回転軸Ax1を中心として回転させることが可能なモータなどを有する回転駆動部212mと、を有する構成が適用される。ここでは、例えば、回転駆動部212mによって回転支軸212sが回転軸Ax1を中心として回転されることで、保持部211が略水平面内で回転される。これにより、例えば、保持部211上に保持されている基板Wが、回転軸Ax1を中心として回転される。ここで、例えば、基板Wの上面Us1および下面Bs1が略円形であれば、回転軸Ax1は、基板Wの上面Us1および下面Bs1の中心を通る。回転駆動部212mによる回転支軸212sの回転、すなわち保持部211および基板Wの回転の有無および速度は、例えば、制御ユニット23によって制御される。
The
処理液供給系213は、例えば、ノズル213nと、配管部213pと、吐出バルブ213vと、液送給部213tと、を備えている。ノズル213nは、例えば、保持部211に保持された基板Wに向けて処理液Lq0を吐出することができる。例えば、処理液Lq0が、リンス水または薬液である場合には、ノズル213nとしては、例えば、連続流の状態で処理液Lq0を吐出するストレートノズルが採用される。処理ユニット21の隔壁で区画された処理室(チャンバー)内には、例えば、少なくともノズル213nと保持部211とが配置されていればよい。配管部213pは、液送給部213tとノズル213nとをつないでおり、処理液Lq0が流れる経路を形成している。吐出バルブ213vは、例えば、配管部213pの途中に配されており、制御ユニット23からの信号に応じて開閉することができる。ここでは、例えば、吐出バルブ213vが開放されることで、液送給部213tとノズル213nとが連通している状態となる。また、例えば、吐出バルブ213vが閉鎖されることで、液送給部213tとノズル213nとが連通していない状態となる。液送給部213tは、例えば、制御ユニット23からの信号に応じて、液貯留部22から処理液Lq0を配管部213pに向けて送給することができる。液送給部213tには、例えば、ポンプが適用される。ここで、ノズル213nから基板Wに向けて吐出される処理液Lq0は、例えば、基板Wの側方から下方にかけて設けられたカップなどで回収され、液貯留部22に戻される。換言すれば、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0は、循環するように繰り返して基板処理に使用される。このとき、例えば、処理液Lq0は、徐々に劣化する傾向を示す。なお、処理ユニット21から液貯留部22に処理液Lq0が戻される際には、フィルタなどで処理液Lq0が浄化されてもよい。
The processing
図5は、制御ユニット23の電気的な構成の一例を示すブロック図である。図5で示されるように、制御ユニット23は、例えば、コンピュータなどによって実現され、バスラインBu2を介して接続された、通信部231、入力部232、出力部233、記憶部234、制御部235およびドライブ236を備えている。
FIG. 5 is a block diagram showing an example of the electrical configuration of the
通信部231は、例えば、通信回線5を介してホストコンピュータ10に対して信号を送信することができる送信部としての機能を有する。また、通信部231は、例えば、通信回線5を介してホストコンピュータ10からの信号を受信することができる受信部としての機能を有する。
The
入力部232は、例えば、基板処理装置20を使用するユーザの動作などに応じた信号を入力することができる。入力部232には、例えば、操作部、マイクおよび各種センサなどが含まれ得る。操作部は、ユーザの操作に応じた信号を入力することができるマウスおよびキーボードなどを含み得る。マイクは、ユーザの音声に応じた信号を入力することができる。各種センサは、ユーザの動きに応じた信号を入力することができる。
The
出力部233は、例えば、各種情報を出力することができる。出力部233には、例えば、表示部およびスピーカなどが含まれ得る。表示部は、例えば、各種情報をユーザが認識することができる態様で可視的に出力することができる。ここで、この表示部は、入力部232と一体化されたタッチパネルの形態を有していても良い。スピーカは、例えば、各種情報をユーザが認識することができる態様で可聴的に出力することができる。
The
記憶部234は、例えば、各種の情報を記憶することができる。この記憶部234は、例えば、ハードディスクおよびフラッシュメモリなどの記憶媒体によって構成され得る。記憶部234では、例えば、1つの記憶媒体を有する構成、2つ以上の記憶媒体を一体的に有する構成、および2つ以上の記憶媒体を2つ以上の部分に分けて有する構成の何れが採用されても良い。記憶部234には、例えば、プログラムP2および各種情報D2が記憶され得る。記憶部234には、後述するメモリ235bが含まれても良い。
The
制御部235は、例えば、プロセッサーとして働く演算処理部235aおよび情報を一時的に記憶するメモリ235bなどを含む。演算処理部235aとしては、例えば、中央演算部(CPU)などの電子回路が採用され、メモリ235bとしては、例えば、ランダムアクセスメモリ(RAM)などが採用され得る。演算処理部235aにおいて、例えば、記憶部234に記憶されているプログラムP2が読み込まれて実行されることで、基板処理システム1の機能が実現され得る。制御部235における各種情報処理によって一時的に得られる各種情報は、適宜メモリ235bなどに記憶され得る。
The
ドライブ236は、例えば、可搬性の記憶媒体RM2の脱着が可能な部分である。ドライブ236では、例えば、記憶媒体RM2が装着されている状態で、この記憶媒体RM2と制御部235との間におけるデータの授受が行われ得る。また、プログラムP2が記憶された記憶媒体RM2がドライブ236に装着されることで、記憶媒体RM2から記憶部234内にプログラムP2が読み込まれて記憶される態様が採用されても良い。
The
<4.基板処理システムの機能的な構成>
図6は、演算処理部15a,235aで実現される機能的な構成の一例を示すブロック図である。図6には、ホストコンピュータ10の演算処理部15aでプログラムP1の実行によって実現されるデータ処理に係る各種機能、および基板処理装置20の演算処理部235aでプログラムP2の実行によって実現されるデータ処理に係る各種機能が例示されている。
<4. Functional configuration of board processing system>
FIG. 6 is a block diagram showing an example of a functional configuration realized by the
図6で示されるように、演算処理部15aは、実現される機能的な構成として、認識部151と、検出部152と、を有している。これらの各部151,152での処理におけるワークスペースとして、例えば、メモリ15bが使用される。また、演算処理部235aは、実現される機能的な構成として、取得部2351と、設定部2352と、検知部2353と、判定部2354と、を有している。これらの各部2351〜2354での処理におけるワークスペースとして、例えば、メモリ235bが使用される。
As shown in FIG. 6, the
取得部2351は、例えば、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の状態に係る数値(液状態値ともいう)を取得することができる。液状態値としては、例えば、処理液Lq0の使用開始時からの経過時間、使用回数または使用時間、あるいは処理液Lq0の濃度または水素イオン指数(pH:power of hydrogen)などの測定値が採用される。ここで、処理液Lq0の使用開始時としては、例えば、処理液Lq0を液貯留部22に貯留した時刻が採用される。使用開始時は、例えば、制御ユニット23の時刻機能と液交換部24の制御タイミングとに基づいて取得され得る。使用開始時からの経過時間は、例えば、単純に時間が経過した時間であればよい。経過時間は、例えば、制御ユニット23の時刻機能と使用開示時の時刻情報とによって取得され得る。使用開始時からの使用回数は、例えば、処理ユニット21で処理液Lq0を用いて基板Wに処理を施した回数であればよい。使用回数は、例えば、制御ユニット23において処理ユニット21の制御回数の積算によって取得され得る。使用開始時からの使用時間は、例えば、処理ユニット21で処理液Lq0を用いて基板Wに処理を施した時間であればよい。使用時間は、例えば、制御ユニット23において処理ユニット21で処理液Lq0を使用した時間の累積によって取得され得る。また、処理液Lq0の濃度は、例えば、薬液濃度モニタでリアルタイムに取得され得る。処理液Lq0のpHは、例えば、pHメータでリアルタイムに取得され得る。
The
設定部2352は、例えば、取得部2351で取得された液状態値と、処理液Lq0の寿命に係る予め設定されたルール(寿命ルールともいう)と、に基づいて、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の交換時期を設定することができる。ここで、設定部2352では、例えば、液状態値と寿命ルールとに基づいて、処理液Lq0の交換時期が到来したか否か判定することができればよい。
The
ここで、交換時期が設定される処理液Lq0としては、例えば、フッ化水素酸(HF)水溶液、硫酸・過酸化水素水の混合溶液(SPM:Sulfuric acid/hydrogen Peroxide Mixture)、アンモニア水・過酸化水素水の混合溶液(APM(Ammonia Hydroxide/Hydrogen Peroxide Mixture),SC1(Standard Clean 1))、塩酸・過酸化水素水の混合溶液(HPM(Hydrochloride/Hydrogen Peroxide Mixture),SC2(Standard Clean 2))などが挙げられる。 Here, examples of the treatment liquid Lq0 for which the replacement time is set include, for example, an aqueous solution of hydrofluoric acid (HF), a mixed solution of sulfuric acid / hydrogen peroxide solution (SPM: Sulfuric acid / hydrogen peroxide Mixture), and aqueous ammonia / hydrogen peroxide. Mixed solution of hydrogen peroxide water (APM (Ammonia Hydroxide / Hydrogen Peroxide Mixture), SC1 (Standard Clean 1)), Mixed solution of hydrochloric acid / hydrogen peroxide solution (HPM (Hydrochloride / Hydrogen Peroxide Mixture), SC2 (Standard Clean 2)) ) And so on.
寿命ルールは、例えば、処理液Lq0を用いた実験結果またはシミュレーション結果などに基づいて規定される。寿命ルールは、例えば、プログラムP2などに記述されていればよい。交換時期は、基板処理装置20側で取得される液状態値によって、処理液Lq0の交換時期が到来した時点から処理液Lq0の交換を開始することなく処理液Lq0を用いた基板処理を継続しても問題ない期間を示す。交換時期の長さは、例えば、処理液Lq0の種類に対して予め規定されていてもよいし、オペレータが予め任意に設定してもよい。液貯留部22には、例えば、複数種類の処理液Lq0が貯留され、処理液Lq0の種類毎に交換時期の長さが設定されていてよい。ただし、以下の説明では、説明の複雑化を避けるために、液貯留部22に1種類の処理液Lq0が貯留されている場合を例にとって説明する。
The life rule is defined based on, for example, an experimental result or a simulation result using the treatment liquid Lq0. The life rule may be described in, for example, program P2. Depending on the liquid state value acquired on the
ここで、例えば、液状態値が経過時間であれば、寿命ルールで第1経過時間と第2経過時間とが規定されていてよい。この場合、例えば、設定部2352によって、経過時間が第1経過時間に到達した時点で、交換時期が到来したものと判定されて、第1経過時間から第2経過時間までの期間が、交換時期として設定される。また、例えば、液状態値が使用回数であれば、寿命ルールで第1使用回数と第2使用回数とが規定されていてよい。この場合、例えば、設定部2352によって、使用回数が第1使用回数に到達した時点で、交換時期が到来したものと判定されて、第1使用回数から第2使用回数までの期間が、交換時期として設定される。また、例えば、液状態値が使用時間であれば、寿命ルールで第1使用時間と第2使用時間とが規定されていてよい。この場合、例えば、設定部2352によって、使用時間が第1使用時間に到達した時点で、交換時期が到来したものと判定されて、第1使用時間から第2使用時間までの期間が、交換時期として設定される。また、例えば、液状態値が測定値であれば、寿命ルールで第1基準値と第2基準値とが規定されていてよい。この場合、例えば、設定部2352によって、測定値が第1基準値に到達した時点で、交換時期が到来したものと判定されて、測定値が第1基準値から第2基準値になるまでの期間が、交換時期として設定される。ここで、例えば、液状態値が測定値である場合、測定値の変化の度合いから交換時期の開始時点と終了時点とが規定されてもよい。開示時点および終了時点は、例えば、経過時間、使用回数および使用時間の何れによって規定されてもよい。このようにして、例えば、ある程度の幅を持たせた交換時期を設定することができる。
Here, for example, if the liquid state value is the elapsed time, the first elapsed time and the second elapsed time may be defined by the life rule. In this case, for example, the
検知部2353は、例えば、交換時期において、N台の処理ユニット21で複数の基板群に係る複数の連続処理のうちの何れの連続処理も実行されていない状態(待機状態ともいう)を検知することができる。ここで、待機状態は、例えば、制御ユニット23による処理ユニット21の制御状況に応じて検知され得る。待機状態としては、例えば、基板処理装置20内に存在していた全ての基板Wが第1〜4ロードポートLP1〜LP4に戻ってきたタイミングが採用される。
For example, the
本実施形態では、例えば、検知部2353による待機状態の検知に応答して、基板処理装置20における送信部としての機能を有する通信部231が、第1信号をホストコンピュータ10に送信する。第1信号は、例えば、待機状態が検知されたことをホストコンピュータ10に通知する信号であればよい。このとき、ホストコンピュータ10では、例えば、受信部としての機能を有する通信部11が、基板処理装置20の通信部231からの第1信号を受信することができる。これにより、ホストコンピュータ10に、N台の処理ユニット21の待機状態が通知され得る。
In the present embodiment, for example, in response to the detection of the standby state by the
認識部151は、例えば、記憶部14に記憶されている処理計画情報PP1に基づいて、待機状態が継続する時間(継続時間ともいう)を認識することができる。本実施形態では、ホストコンピュータ10において、例えば、通信部11による第1信号の受信に応答して、認識部151が、処理計画情報PP1に基づいて継続時間を認識することができる。
The
検出部152は、例えば、認識部151で認識された継続時間が予め設定された基準時間以上である状態(液交換可能状態ともいう)を検出することができる。ここで、基準時間は、例えば、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の交換に要する時間以上であればよい。本実施形態では、ホストコンピュータ10において、例えば、通信部11による第1信号の受信に応答して、検出部152が、認識部151で処理計画情報PP1に基づいて認識された継続時間の長さに応じて、液交換可能状態を検出することができる。これにより、例えば、基板処理の計画を管理するホストコンピュータ10では、基板処理装置20における処理液Lq0の交換時期に係る情報が得られなくても、液交換可能状態が検出され得る。
For example, the
また、例えば、検出部152による液交換可能状態の検出に応じて、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0を交換するようにすればよい。その結果、例えば、ある程度の幅を持たせた交換時期において、N台の処理ユニット21が待機している十分な長さの継続時間を有効利用して、液貯留部22の処理液Lq0を交換することができる。その結果、例えば、N台の処理ユニット21の稼働率が向上し得る。したがって、基板処理装置20の稼働率を容易に向上させることができる。
Further, for example, the processing liquid Lq0 stored in the
本実施形態では、例えば、液交換部24が、検出部152による液交換可能状態の検出に応答して、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0を交換する処理(液交換処理)を実行することができる。換言すれば、例えば、処理液Lq0の交換時期において、処理液Lq0の交換を行うための基準時間以上、待機状態が継続するのであれば、処理液Lq0の交換が自動で行われる。これにより、例えば、処理液Lq0が適正なタイミングで交換され得る。また、例えば、ユーザであるオペレータは、処理液Lq0を交換するための指示および作業を行わなくて済む。したがって、N台の処理ユニット21の稼働率が容易に向上し得る。なお、本実施形態では、例えば、検出部152による液交換可能状態の検出に応答して、通信部11によって基板処理装置20に液交換可能状態を通知するための第3信号が送信されれば、基板処理装置20において、液交換可能状態が認識され得る。
In the present embodiment, for example, the
また、ここでは、例えば、基板処理装置20における送信部としての機能を有する通信部231が、取得部2351で取得された液状態値が予め特定の条件(特定条件ともいう)を満たしていることに応答して第2信号をホストコンピュータ10に送信してもよい。特定条件としては、例えば、液状態値が、処理液Lq0の交換時期の到来に対応する数値に到達している条件が挙げられる。ここで、例えば、液状態値が経過時間であれば、特定条件として、液状態値が寿命ルールで規定された第1経過時間に到達している条件が採用され得る。例えば、液状態値が使用回数であれば、特定条件として、液状態値が寿命ルールで規定された第1使用回数に到達している条件が採用され得る。例えば、液状態値が使用時間であれば、特定条件として、液状態値が寿命ルールで規定された第1使用時間に到達している条件が採用される。例えば、液状態値が測定値であれば、特定条件として、測定値が寿命ルールで規定された第1基準値に到達している条件が採用される。また、第2信号は、例えば、液状態値が特定条件を満たしていることを示す信号、すなわち交換時期の到来を通知するための信号であればよい。
Further, here, for example, in the
ここで、ホストコンピュータ10では、例えば、受信部としての通信部11によって第2信号を受信した後に、受信部としての通信部11による待機状態に係る第1信号の受信に応答して、認識部151が処理計画情報PP1に基づいて継続時間を認識してもよい。この場合、例えば、ホストコンピュータ10では、この継続時間が認識された後に、検出部152が、継続時間の長さに応じて、液交換可能状態を検出することができる。これにより、例えば、ホストコンピュータ10では、基板処理装置20における処理液Lq0の交換時期に係る情報が得られなくても、処理液Lq0の交換時期の到来後に液交換可能状態が検出され得る。
Here, in the
図7は、本実施形態に係る基板処理システム1の動作の一例を示すタイミングチャートである。図7では、上から順に、ホストコンピュータ10の動作と、基板処理装置20の動作と、第1〜4ロードポートLP1〜LP4で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対するN台の処理ユニット21における連続処理と、が実行されるタイミングが示されている。
FIG. 7 is a timing chart showing an example of the operation of the
図7の例では、時刻t1から時刻t2の期間に、第1ロードポートLP1で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t2から時刻t4の期間に、第2ロードポートLP2で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t3から時刻t6の期間に、第4ロードポートLP4で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t4から時刻t7の期間に、第3ロードポートLP3で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。 In the example of FIG. 7, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the first load port LP1 during the period from time t1 to time t2. During the period from time t2 to time t4, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the second load port LP2. During the period from time t3 to time t6, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the fourth load port LP4. During the period from time t4 to time t7, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the third load port LP3.
ここで、時刻t5において、取得部2351で取得された液状態値が特定条件を満たしていることに応答して、通信部231によって基板処理装置20からホストコンピュータ10に処理液Lq0の交換時期が到来したことを通知する第2信号が送信される。このとき、設定部2352によって処理液Lq0の交換時期Tr0(時刻t5から時刻t12の期間)が設定される。その後、時刻t7において、第3ロードポートLP3で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が終了し、検知部2353によって待機状態が検知される。ここで、検知部2353による待機状態の検知に応答して、通信部231によって基板処理装置20からホストコンピュータ10に待機状態を通知する第1信号が送信される。このとき、ホストコンピュータ10では、通信部11による第1信号の受信に応答して、認識部151によって処理計画情報PP1に基づき継続時間(例えば、時刻t7から時刻t11までの期間)が認識される。次に、時刻t8において、検出部152によって、継続時間が予め設定された基準時間以上であれば、液交換可能状態が検出される。ここで、通信部11によってホストコンピュータ10から基板処理装置20に液交換可能状態を通知するための第3信号が送信される。基板処理装置20では、通信部231による第3信号の受信に応答して、時刻t9から時刻10の期間に、液交換部24によって液交換処理が行われる。その後、時刻t11から時刻13の期間に、第1ロードポートLP1で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t13から、第2ロードポートLP2で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が開始される。
Here, at time t5, in response to the liquid state value acquired by the
また、判定部2354は、例えば、設定部2352で設定された交換時期が終了したか否か判定することができる。
Further, the
ところで、例えば、検出部152で液交換可能状態が検出されずに、交換時期Tr0を過ぎる場合もある。この場合、例えば、交換時期を過ぎたとき、複数の連続処理のうちのN台の処理ユニット21において実行中の連続処理が完了したことに応答して、制御ユニット23の制御によって液交換部24が液交換処理を強制的に実行してよい。このような交換時期を過ぎた後の強制的な液交換処理を、以下では「第1強制液交換処理」ともいう。ここでは、例えば、液交換可能状態が検出されることなく交換時期を過ぎたときに、予め第1強制液交換処理を実行する設定(第1の設定ともいう)が指定されていれば、第1強制液交換処理が実行される。第1の設定の指定、例えば、オペレータによって実施され得る。この場合、第1の設定が指定されているか否か、および複数の連続処理のうちのN台の処理ユニット21において実行中の連続処理が完了したか否かは、例えば、判定部2354で判定されてよい。実行中の連続処理が完了したか否かを判定する際には、実行中の連続処理の対象となっているキャリアC内の基板群(対象基板群ともいう)の全ての基板Wに対する基板処理が終了したか否かを判定すればよい。ここでは、処理ユニット21で実行中の連続処理が完了したタイミングとして、例えば、実行中の連続処理に係る全ての基板Wが第1〜4ロードポートLP1〜LP4に戻ってきたタイミングが採用される。
By the way, for example, the replacement time Tr0 may be passed without the
上記のように、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎても、1つの基板群に対する連続処理の完了に応答して処理液Lq0が交換されれば、劣化した処理液Lq0を用いて処理が施される基板Wの数が低減される。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理が中断されず、N台の処理ユニット21の稼働率が低下しにくくなる。また、この場合、例えば、検出部152によって液交換可能状態が検出されることなく、交換時期を過ぎたときには、キャリア搬送機構による基板処理装置20の第1〜4ロードポートLP1〜LP4に対するキャリアCの載置が停止されてもよいし、キャリアCに係る処理内容の指示を示す情報(指示情報ともいう)のホストコンピュータ10から基板処理装置20に対する送信が停止されてもよい。
As described above, for example, if the treatment liquid Lq0 is replaced in response to the completion of continuous treatment for one substrate group even after the replacement time of the treatment liquid Lq0 has passed, the treatment can be performed using the deteriorated treatment liquid Lq0. The number of substrates W to be applied is reduced. Further, for example, continuous processing for one substrate group is not interrupted, and the operating rate of
図8は、本実施形態に係る基板処理システム1の動作の他の一例を示すタイミングチャートである。図8では、図7と同様に、上から順に、ホストコンピュータ10の動作と、基板処理装置20の動作と、第1〜4ロードポートLP1〜LP4で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対するN台の処理ユニット21における連続処理と、が実行されるタイミングが示されている。
FIG. 8 is a timing chart showing another example of the operation of the
図8の例では、時刻t1から時刻t2の期間に、第1ロードポートLP1で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t2から時刻t4の期間に、第2ロードポートLP2で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t3から時刻t6の期間に、第4ロードポートLP4で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t4から時刻t7の期間に、第3ロードポートLP3で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。 In the example of FIG. 8, during the period from time t1 to time t2, continuous processing is performed on the plurality of substrates W (substrate group) in the carrier C held by the first load port LP1. During the period from time t2 to time t4, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the second load port LP2. During the period from time t3 to time t6, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the fourth load port LP4. During the period from time t4 to time t7, continuous processing is performed on a plurality of boards W (board groups) in the carrier C held by the third load port LP3.
ここで、時刻t5において、取得部2351で取得された液状態値が特定条件を満たしていることに応答して、通信部231によって基板処理装置20からホストコンピュータ10に処理液Lq0の交換時期が到来したことを通知する第2信号が送信される。このとき、設定部2352によって処理液Lq0の交換時期Tr0(時刻t5から時刻t10の期間)が設定される。その後、時刻t7において、第3ロードポートLP3で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が終了し、検知部2353によって待機状態が検知される。このとき、検知部2353による待機状態の検知に応答して、通信部231によって基板処理装置20からホストコンピュータ10に待機状態を通知する第1信号が送信される。ここで、ホストコンピュータ10において、認識部151によって処理計画情報PP1に基づき継続時間(時刻t7から時刻t8までの期間)が認識される。そして、この継続時間が予め設定された基準時間未満であれば、検出部152によって液交換可能状態は検出されない。このとき、通信部11によって、ホストコンピュータ10から基板処理装置20に、液交換可能状態を通知する第3信号は送信されない。次に、時刻t8から時刻t11の期間に、第1ロードポートLP1で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。このとき、時刻t10において、交換時期Tr0が終了する。ただし、時刻t10から時刻t11までの間、第1ロードポートLP1で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が完了するまで、液交換部24は液交換処理を実行することなく待機する。そして、時刻t11において、基板処理装置20では、第1ロードポートLP1で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が完了したことに応答して、制御ユニット23の制御により液交換部24によって液交換処理が強制的に実行される。
Here, at time t5, in response to the liquid state value acquired by the
この強制的な液交換処理の実行によって、第2ロードポートLP2で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理の開始時刻が、時刻t11から時刻t12までずらされる。その後、時刻t12から時刻13の期間に、第2ロードポートLP2で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が行われる。時刻t13から、第3ロードポートLP3で保持されたキャリアC内の複数の基板W(基板群)に対する連続処理が開始される。
By executing this forced liquid exchange process, the start time of the continuous process for the plurality of substrates W (substrate group) in the carrier C held by the second load port LP2 is shifted from the time t11 to the time t12. Then, during the period from time t12 to
また、例えば、検出部152で液交換可能状態が検出されずに、交換時期を過ぎたとき、搬送部TRによってキャリアCからN台の処理ユニット21に向けて既に搬出されていた搬出済みの全ての基板Wに対して、N台の処理ユニット21における処理が完了したことに応答して、液交換部24が液交換処理を強制的に実行してもよい。このような交換時期を過ぎた後の強制的な液交換処理を、以下では「第2強制液交換処理」ともいう。ここでは、例えば、液交換可能状態が検出されることなく交換時期を過ぎたときに、予め第2強制液交換処理を実行する設定(第2の設定ともいう)が指定されていれば、第2強制液交換処理が実行される。第2の設定の指定は、例えば、オペレータによって実行され得る。この場合、第2の設定が指定されているか否か、および搬送部TRによってキャリアCからN台の処理ユニット21に向けて搬出されていた搬出済みの全ての基板Wに対する処理が終了したか否かは、例えば、判定部2354で判定されてよい。ここでは、搬出済みの全ての基板Wに対する処理が終了したタイミングとして、例えば、搬出済みの全ての基板Wが第1〜4ロードポートLP1〜LP4に戻ってきたタイミングが採用される。
Further, for example, when the exchangeable state is not detected by the
上記のように、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎたときに、キャリアCから既に搬出された基板Wに対する処理の完了に応答して、処理液Lq0が交換されれば、劣化した処理液Lq0を用いて処理が施される基板Wの数が低減される。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理において、複数の基板Wに対する処理条件のばらつきが生じにくいため、処理後の基板Wの特性にばらつきが生じにくくなる。また、この場合、例えば、検出部152によって液交換可能状態が検出されることなく、交換時期を過ぎたときは、制御ユニット23の制御により、交換時期の終了時から液交換処理の完了時まで、搬送部TRによるキャリアCからN台の処理ユニット21に向けた基板Wの搬出が中止されてよい。これにより、例えば、キャリアCに収容される複数の基板Wに対する搬送および処理の内容にばらつきが生じにくく、基板Wの搬送および処理の制御が容易となる。
As described above, for example, when the replacement time of the treatment liquid Lq0 has passed, if the treatment liquid Lq0 is replaced in response to the completion of the treatment on the substrate W already carried out from the carrier C, the deteriorated treatment liquid is deteriorated. The number of substrates W to be treated with Lq0 is reduced. Further, for example, in continuous processing for one substrate group, the processing conditions for a plurality of substrates W are less likely to vary, so that the characteristics of the substrate W after processing are less likely to vary. Further, in this case, for example, when the exchangeable state is not detected by the
また、例えば、検出部152で液交換可能状態が検出されずに、交換時期を過ぎたとき、N台の処理ユニット21内に既に位置している全ての基板Wに対して、N台の処理ユニット21における処理が完了したことに応答して、液交換部24が液交換処理を強制的に実行してもよい。このような交換時期を過ぎた後の強制的な液交換処理を、以下では「第3強制液交換処理」ともいう。ここでは、例えば、液交換可能状態が検出されることなく交換時期を過ぎたときに、予め第3強制液交換処理を実行する設定(第3の設定ともいう)が指定されていれば、第3強制液交換処理が実行される。第3の設定の指定は、例えば、オペレータによって実行され得る。この場合、第3の設定が指定されているか否か、およびN台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wに対する処理が終了したか否かは、例えば、判定部2354で判定されてよい。ここでは、N台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wに対する処理が終了したタイミングとして、例えば、N台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wに対して処理液Lq0を用いた基板処理が終了したタイミングが採用されてもよいし、N台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wが第1〜4ロードポートLP1〜LP4に戻ってきたタイミングが採用されてもよい。
Further, for example, when the exchangeable state is not detected by the
上記のように、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎたときは、N台の処理ユニット21内に既に位置していた全ての基板Wに対する処理の完了に応答して、処理液Lq0が交換されれば、処理液Lq0の交換が早期に実行される。これにより、例えば、劣化した処理液Lq0を用いた基板処理が実行されにくくなる。この場合、例えば、制御ユニット23の制御により、N台の処理ユニット21によって、液交換部24による液交換処理の実行の開始時から完了時まで、基板Wに対する処理の実行が停止されればよい。別の観点から言えば、例えば、液交換部24による液交換処理の実行の開始時から完了時まで、N台の処理ユニット21に対する基板Wの搬入が停止されてよい。これにより、例えば、N台の処理ユニット21における基板処理の制御が容易となる。
As described above, for example, when the replacement time of the treatment liquid Lq0 has passed, the treatment liquid Lq0 is replaced in response to the completion of the treatment for all the substrates W already located in the
なお、本実施形態では、例えば、キャリア搬送機構によって、第1〜4ロードポートLP1〜LP4にキャリアCが載置されると、ホストコンピュータ10から基板処理装置20に、載置されたキャリアCに係る処理内容の指示を示す指示情報が送られてくる。指示情報には、例えば、キャリアCに格納されている基板Wの枚数および基板処理の内容を示すレシピなどの情報が含まれる。基板処理装置20では、例えば、指示情報に基づいて、搬送部TRによる基板Wの搬送およびN台の処理ユニット21による基板処理が実行される。
In the present embodiment, for example, when the carrier C is mounted on the first to fourth load ports LP1 to LP4 by the carrier transport mechanism, the
<5.基板処理システムの液交換処理に係る制御方法>
図9から図12は、基板処理システム1の液交換処理に係る制御方法についての動作フローの一例を示す流れ図である。ここでは、例えば、ホストコンピュータ10の演算処理部15aでプログラムP1が実行され、基板処理装置20の演算処理部235aでプログラムP2が実行されることで、ホストコンピュータ10と基板処理装置20と協働により、液交換処理に係る動作フローが実現される。ここでは、本動作フローが開始される時点で、ホストコンピュータ10の記憶部14に処理計画情報PP1が記憶されており、液貯留部22に処理液Lq0が貯留されている例について説明する。
<5. Control method related to liquid exchange processing of substrate processing system>
9 to 12 are flow charts showing an example of an operation flow of the control method related to the liquid exchange process of the
まず、図9のステップSp1では、取得部2351が、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の状態に係る数値(液状態値)を取得する。
First, in step Sp1 of FIG. 9, the
次に、ステップSp2では、設定部2352が、ステップSp1で取得された液状態値と、処理液Lq0の寿命に係る寿命ルールと、に基づいて、処理液Lq0の交換時期が到来したか否か判定する。ここでは、例えば、液状態値が予め設定された特定条件を満たしていれば、交換時期が到来したものと判定されてよい。ここで、交換時期が到来していなければ、ステップSp1に戻る。一方、交換時期が到来していれば、ステップSp3に進む。 Next, in step Sp2, whether or not the replacement time of the treatment liquid Lq0 has arrived based on the liquid state value acquired in step Sp1 and the life rule related to the life of the treatment liquid Lq0. judge. Here, for example, if the liquid state value satisfies a preset specific condition, it may be determined that the replacement time has come. Here, if the replacement time has not arrived, the process returns to step Sp1. On the other hand, if the replacement time has come, the process proceeds to step Sp3.
ステップSp3では、基板処理装置20において、通信部231が、交換時期の到来を通知する第2信号をホストコンピュータ10に送信する。このとき、ホストコンピュータ10において、通信部11が、第2信号を受信する。これにより、例えば、ホストコンピュータ10側において、交換時期の到来が認識され得る。
In step Sp3, in the
次に、ステップSp4では、設定部2352が、ステップSp1で取得された液状態値と、処理液Lq0の寿命に係る寿命ルールと、に基づいて、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の交換時期を設定する。
Next, in step Sp4, the
次に、ステップSp5では、検知部2353が、交換時期において、N台の処理ユニット21で複数の連続処理の何れの連続処理も実行されていない待機状態を検知したか否か判定する。ここでは、待機状態を検知すれば、ステップSp6に進む。一方、待機状態を検知していなければ、ステップSp7に進む。
Next, in step Sp5, it is determined whether or not the
ステップSp6では、判定部2354が、交換時期が終了したか否か判定する。ここでは、交換時期が終了していなければ、ステップSp5に戻る。一方、交換時期が終了していれば、図10のステップSp21に進む。換言すれば、交換時期において検出部152によって液交換可能状態が検出されることなく、交換時期を過ぎたとき、図10のステップSp21に進む。
In step Sp6, the
ステップSp7では、基板処理装置20において、通信部231が、待機状態の検知に応答して待機状態を通知する第1信号をホストコンピュータ10に送信する。このとき、ホストコンピュータ10において、通信部11が、第1信号を受信する。これにより、例えば、ホストコンピュータ10側において、待機状態の到来が認識され得る。
In step Sp7, in the
次に、ステップSp8では、ホストコンピュータ10において、認識部151が、処理計画情報PP1に基づいて、待機状態が継続する継続時間を認識する。
Next, in step Sp8, in the
次に、ステップSp9では、ホストコンピュータ10において、検出部152が、ステップSp8で認識された継続時間が予め設定された基準時間以上である液交換可能状態を検出したか否か判定する。ここでは、液交換可能状態を検出しなければ、ステップSp10に進む。一方、液交換可能状態を検出すれば、ステップSp11に進む。このとき、ホストコンピュータ10では、例えば、基板処理装置20における処理液Lq0の交換時期に係る情報が得られていなくても、第1信号の受信に応答して、継続時間を認識し、液交換可能状態を検出することができる。
Next, in step Sp9, the
本動作フローでは、次の[条件1]から[条件3]の3条件が揃ったときに、検出部152によって液交換可能状態が検出される。
In this operation flow, when the following three conditions [Condition 1] to [Condition 3] are satisfied, the
[条件1]基板処理装置20からホストコンピュータ10に交換時期の到来を通知する第2信号が送信されている。
[Condition 1] A second signal for notifying the arrival of the replacement time is transmitted from the
[条件2]基板処理装置20からホストコンピュータ10に待機状態が検知されたことを通知する第1信号が送信されている。
[Condition 2] The
[条件3]N台の処理ユニット21において次のロットの基板処理が開始されるまでの待機状態が基準時間以上の十分な時間継続する。
[Condition 3] In the
ステップSp10では、判定部2354が、交換時期が終了したか否か判定する。ここでは、交換時期が終了していなければ、ステップSp9に戻る。一方、交換時期が終了していれば、図10のステップSp21に進む。換言すれば、交換時期において検出部152によって液交換可能状態が検出されることなく、交換時期を過ぎたとき、図10のステップSp21に進む。
In step Sp10, the
一方、例えば、検出部152による液交換可能状態の検出に応じて、以下のステップSp11〜Sp13の処理によって、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0を交換することができる。これにより、例えば、ある程度の幅を持たせた交換時期において、N台の処理ユニット21が待機している十分な長さの継続時間を有効利用して、液貯留部22の処理液Lq0を交換することができる。その結果、例えば、N台の処理ユニット21の稼働率が向上し得る。したがって、基板処理装置20の稼働率が容易に向上し得る。
On the other hand, for example, the processing liquid Lq0 stored in the
ステップSp11では、ホストコンピュータ10において、通信部11が、基板処理装置20に液交換可能状態を通知する第3信号を送信する。このとき、基板処理装置20において、通信部231が、第3信号の受信を受信する。これにより、例えば、基板処理装置20側において、液交換可能状態が認識され得る。
In step Sp11, in the
ステップSp12では、液交換部24が、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の液交換処理の実行を開始する。これにより、例えば、処理液Lq0の交換時期において、処理液Lq0の交換を行うための基準時間以上、待機状態が継続するときに、処理液Lq0の交換が自動で行われる。その結果、例えば、処理液Lq0が適正なタイミングで交換され得る。したがって、N台の処理ユニット21の稼働率が容易に向上し得る。
In step Sp12, the
ステップSp13では、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0について液交換部24による液交換処理の実行が完了したか否か判定する。この判定は、例えば、判定部2354などで実行され得る。ここでは、液交換処理の実行が完了するまで、ステップSp13の判定を繰り返す。一方、液交換処理の実行が完了すれば、ステップSp14に進む。
In step Sp13, it is determined whether or not the execution of the liquid exchange process by the
ステップSp14では、取得部2351が、液状態値を初期化し、ステップSp1に戻る。ここでは、例えば、液状態値が、処理液Lq0の使用開始時からの経過時間であれば、経過時間が0となるように経過時間をリセットする。例えば、液状態値が、使用開始時からの使用回数であれば、使用回数が0となるように使用回数をリセットする。例えば、液状態値が、使用開始時からの使用時間であれば、使用時間が0となるように使用時間がリセットされる。ただし、例えば、液状態値が、処理液Lq0の濃度またはpHなどのリアルタイムに取得され得る測定値であれば、液状態値を初期化しなくてもよい。
In step Sp14, the
図10のステップSp21では、判定部2354が、第1の設定が指定されているか否か判定する。ここでは、例えば、第1の設定から第3の設定のうち、第1強制液交換処理を実行する第1の設定がオペレータによって予め指定されていれば、ステップSp22に進む。一方、例えば、第1強制液交換処理を実行する第1の設定がオペレータによって予め指定されていなければ、図11のステップSp31に進む。
In step Sp21 of FIG. 10, the
ステップSp22からステップSp25では、液交換部24が、複数の連続処理のうちのN台の処理ユニット21において実行中の連続処理が完了したことに応答して、液交換処理を実行する。これにより、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎても、1つの基板群に対する連続処理の完了に応答して、処理液Lq0が交換されれば、劣化した処理液Lq0を用いて処理が施される基板Wの数が低減される。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理が中断されず、N台の処理ユニット21の稼働率が低下しにくくなる。
In steps Sp22 to Sp25, the
具体的には、ステップSp22では、搬送部TRが、第1〜4ロードポートLP1〜LP4に載置されるキャリアCからN台の処理ユニット21への新規な基板群に含まれる基板Wの搬出を中止する。
Specifically, in step Sp22, the transport unit TR carries out the substrate W included in the new substrate group from the carriers C mounted on the first to fourth load ports LP1 to LP4 to the
ステップSp23では、判定部2354が、複数の連続処理のうちのN台の処理ユニット21において実行中の連続処理の対象となっているキャリアC内の基板群(対象基板群)の全ての基板Wに対する基板処理が終了したか否か判定する。ここでは、例えば、対象基板群の全ての基板Wに対する処理が終了するまで、ステップSp23の判定が繰り返し行われ、対象基板群の全ての基板Wに対する処理が終了すれば、ステップSp24に進む。
In step Sp23, the
ステップSp24では、液交換部24が、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の液交換処理の実行を開始する。
In step Sp24, the
ステップSp25では、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0について液交換部24による液交換処理の実行が完了したか否か判定する。この判定は、例えば、判定部2354などで実行され得る。ここでは、液交換処理の実行が完了するまで、ステップSp25の判定を繰り返す。一方、液交換処理の実行が完了すれば、ステップSp26に進む。
In step Sp25, it is determined whether or not the execution of the liquid exchange process by the
ステップSp26では、取得部2351が、図9のステップSp14と同様に、液状態値を初期化し、ステップSp27に進む。
In step Sp26, the
次に、ステップSp27では、搬送部TRが、第1〜4ロードポートLP1〜LP4に載置されるキャリアC内の新規の基板群からのN台の処理ユニット21に向けた基板Wの搬出を再開し、図9のステップSp1に戻る。
Next, in step Sp27, the transport unit TR carries out the substrate W toward the
図11のステップSp31では、判定部2354が、第2の設定が指定されているか否か判定する。ここでは、例えば、第1の設定から第3の設定のうち、第2強制液交換処理を実行する第2の設定がオペレータによって予め指定されていれば、ステップSp32に進む。一方、例えば、第2強制液交換処理を実行する第2の設定がオペレータによって予め指定されていなければ、図12のステップSp41に進む。
In step Sp31 of FIG. 11, the
ステップSp32からステップSp35では、搬送部TRがキャリアCからN台の処理ユニット21に向けて既に搬出していた全ての基板Wに対してN台の処理ユニット21における処理が完了したことに応答して、液交換部24が、液交換処理を実行する。これにより、劣化した処理液Lq0を用いて処理が施される基板Wの数が低減される。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理において、複数の基板Wに対する処理条件のばらつきが生じにくいため、処理後の基板Wの特性にばらつきが生じにくくなる。
In steps Sp32 to Sp35, the transport unit TR responds to the completion of processing in the
具体的には、ステップSp32では、搬送部TRが、第1〜4ロードポートLP1〜LP4に載置されるキャリアCからN台の処理ユニット21に向けた新規の基板Wの搬出を中止する。これにより、例えば、1つのキャリアCに収容されている複数の基板Wによって構成されている同一ロットの基板Wに対する搬送および処理の内容にばらつきが生じにくく、基板の搬送および処理の制御が容易となる。
Specifically, in step Sp32, the transport unit TR stops carrying out the new substrate W from the carriers C mounted on the first to fourth load ports LP1 to LP4 to the
ステップSp33では、判定部2354が、キャリアCからN台の処理ユニット21に向けて既に搬出されていた搬出済みの全ての基板Wに対する処理が終了したか否か判定する。ここでは、例えば、搬出済みの全ての基板Wに対する処理が終了するまで、ステップSp33の判定が繰り返し行われ、搬出済みの全ての基板Wに対する処理が終了すれば、ステップSp34に進む。
In step Sp33, the
ステップSp34では、液交換部24が、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の液交換処理の実行を開始する。
In step Sp34, the
ステップSp35では、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0について液交換部24による液交換処理の実行が完了したか否か判定する。この判定は、例えば、判定部2354などで実行され得る。ここでは、液交換処理の実行が完了するまで、ステップSp35の判定を繰り返す。一方、液交換処理の実行が完了すれば、ステップSp36に進む。
In step Sp35, it is determined whether or not the execution of the liquid exchange process by the
ステップSp36では、取得部2351が、図9のステップSp14と同様に、液状態値を初期化する。
In step Sp36, the
ステップSp37では、搬送部TRが、第1〜4ロードポートLP1〜LP4に載置されるキャリアCからN台の処理ユニット21に向けた新規の基板Wの搬出を再開し、図9のステップSp1に戻る。
In step Sp37, the transport unit TR resumes carrying out the new substrate W from the carriers C mounted on the first to fourth load ports LP1 to LP4 toward the
ステップSp41からステップSp44では、N台の処理ユニット21に既に位置している全ての基板Wに対してN台の処理ユニット21における処理が完了したことに応答して、液交換部24が、液交換処理を実行する。これにより、例えば、処理液Lq0の交換が早期に実行され、劣化した処理液Lq0を用いた基板処理が実行されにくくなる。
In steps Sp41 to Sp44, the
具体的には、ステップSp41では、搬送部TRによるN台の処理ユニット21への新規の基板Wの搬送を中止する。
Specifically, in step Sp41, the transfer of the new substrate W to the
ステップSp42では、判定部2354が、N台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wに対する処理が終了したか否か判定する。ここでは、例えば、N台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wに対する処理が終了するまで、ステップSp42の判定が繰り返し行われ、N台の処理ユニット21に既に位置していた全ての基板Wに対する処理が終了すれば、ステップSp43に進む。
In step Sp42, the
ステップSp43では、液交換部24が、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0の液交換処理の実行を開始する。
In step Sp43, the
ステップSp44では、液貯留部22に貯留されている処理液Lq0について液交換部24による液交換処理の実行が完了したか否か判定する。この判定は、例えば、判定部2354などで実行され得る。ここでは、液交換処理の実行が完了するまで、ステップSp44の判定を繰り返す。一方、液交換処理の実行が完了すれば、ステップSp45に進む。
In step Sp44, it is determined whether or not the execution of the liquid exchange process by the
ステップSp45では、取得部2351が、図9のステップSp14と同様に、液状態値を初期化する。
In step Sp45, the
ステップSp46では、搬送部TRによるN台の処理ユニット21への新規の基板Wの搬送およびN台の処理ユニット21における基板処理を再開し、図9のステップSp1に戻る。このように、ここでは、N台の処理ユニット21は、液交換処理の実行の開始時から完了時まで、基板Wに対する処理の実行を停止している。これにより、例えば、N台の処理ユニット21における基板処理の制御が容易となる。
In step Sp46, the transfer of the new substrate W to the
<6.まとめ>
以上のように、第1実施形態に係る基板処理システム1およびその液交換処理に係る制御方法では、例えば、基板処理装置20で設定される処理液Lq0の交換時期において、基板処理装置20でN台の処理ユニット21の待機状態が検知され、この待機時間が継続する継続時間が基準時間以上である液交換可能状態がホストコンピュータ10によって検出される。これにより、例えば、液交換可能状態の検出に応じて、基板処理装置20の液貯留部22に貯留されている処理液Lq0を交換することができる。換言すれば、例えば、ホストコンピュータ10の処理計画情報PP1だけで処理液Lq0を交換するタイミングを決定するのではなく、基板処理装置20で処理液Lq0の状態に係る数値に応じて設定される交換時期と、ホストコンピュータ10で管理する処理計画情報PP1と、に基づいて液交換可能状態が検出される。このため、例えば、ある程度の幅を持たせた交換時期において、N台の処理ユニット21が待機している十分な長さの継続時間を有効利用して、液貯留部22の処理液Lq0を交換することができる。その結果、例えば、N台の処理ユニット21の稼働率が向上し得る。したがって、基板処理装置20の稼働率が容易に向上し得る。
<6. Summary>
As described above, in the
また、例えば、基板処理装置20において、通信部231が、取得部2351で取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号をホストコンピュータ10に送信する。このとき、ホストコンピュータ10において、通信部11で第2信号を受信した後、交換時期に、通信部11による待機状態を通知する第1信号の受信に応答して、認識部151が処理計画情報PP1に基づいて継続時間を認識し、検出部152が液交換可能状態を検出する。これにより、例えば、基板処理の計画を管理するホストコンピュータ10において、処理液Lq0の交換時期の到来後に、基板処理装置20における処理液Lq0の交換時期において、液交換可能状態が検出され得る。
Further, for example, in the
<7.変形例>
本発明は上述の一実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良などが可能である。
<7. Modification example>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and improvements can be made without departing from the gist of the present invention.
<7−1.第1変形例>
例えば、上記一実施形態において、基板処理装置20の通信部231が、設定部2352で設定された交換時期に係る交換時期情報をホストコンピュータ10に送信してもよい。この場合には、例えば、ホストコンピュータ10の通信部11が、交換時期情報を受信する。このとき、例えば、ホストコンピュータ10では、交換時期における通信部11による第1信号の受信に応答して、認識部151が処理計画情報PP1に基づいて待機状態の継続時間を認識し、検出部152が液交換可能状態を検出する。これにより、例えば、基板処理の計画を管理するホストコンピュータ10では、基板処理装置20における処理液Lq0の交換時期において、液交換可能状態が検出され得る。
<7-1. First modification>
For example, in the above embodiment, the
図13は、第1変形例に係る基板処理システム1の液交換処理に係る制御方法についての動作フローの一例を示す流れ図である。図13の動作フローは、図9の動作フローを基本として、ステップSp4がステップSp4a,Sp4bの2つのステップに分割され、ステップSp8がステップSp8Aに変更されたものである。
FIG. 13 is a flow chart showing an example of an operation flow of the control method related to the liquid exchange process of the
ここで、図13のステップSp4aでは、図9のステップSp4と同様に設定部2352が交換時期を設定する。次に、図13のステップSp4bでは、例えば、基板処理装置20の通信部231が、ステップSp4aで設定された交換時期に係る交換時期情報をホストコンピュータ10に送信するとともに、ホストコンピュータ10の通信部11が、交換時期情報を受信する。図13のステップSp8Aでは、例えば、ホストコンピュータ10において、交換時期に、ステップSp7における通信部11による第1信号の受信に応答して、認識部151が処理計画情報PP1に基づいて待機状態の継続時間を認識し、検出部152が液交換可能状態を検出する。
Here, in step Sp4a of FIG. 13, the
上記構成が採用される場合には、上記一実施形態における[条件1]から[条件3]の3条件に1つの条件(次の[条件4])を加えた4条件が揃ったときに、液交換可能状態が検出される。 When the above configuration is adopted, when four conditions obtained by adding one condition (next [condition 4]) to the three conditions [condition 1] to [condition 3] in the above embodiment are satisfied. A liquid exchangeable state is detected.
[条件4]基板処理装置20からホストコンピュータ10に交換時期が通知されている。
[Condition 4] The
<7−2.第2変形例>
例えば、上記一実施形態および上記第1変形例において、例えば、検出部152による液交換可能状態の検出に応答して、出力部13および出力部233の少なくとも一方が、ユーザとしてのオペレータが認識可能な第1の出力を行ってもよい。これにより、例えば、処理液Lq0の交換時期において、処理液Lq0の交換を行うための基準時間以上、待機状態が継続するのであれば、ユーザが認識可能な第1の出力が行われる。このため、オペレータは、例えば、処理液Lq0の交換を開始しても良いタイミングを容易に知ることができる。
<7-2. Second modification>
For example, in the above embodiment and the above first modification, for example, at least one of the
また、例えば、交換時期に検出部152によって液交換可能状態が検出されることなく、交換時期を過ぎたことに応答して、出力部13および出力部233の少なくとも一方が、ユーザとしてのオペレータが認識可能な第2の出力を行ってもよい。これにより、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎたことがユーザに報知されることで、ユーザは処理液Lq0を交換することができる。その結果、例えば、劣化した処理液Lq0を用いた基板処理が行われにくくなる。
Further, for example, at least one of the
ここで、例えば、ユーザが認識可能な第1の出力および第2の出力のそれぞれには、例えば、出力部13および出力部233の少なくとも一方による、可視的に認識可能な、テキスト情報の出力またはランプの点灯もしくは点滅、可聴的に認識可能な音声または警告音の出力などが、含まれ得る。また、ここで、例えば、ホストコンピュータ10の出力部13で第1の出力または第2の出力が行われる場合、ホストコンピュータ10のオペレータの動作に応じて入力部12で入力される信号に応答して、基板処理装置20の液交換部24による液交換処理が実行される態様が考えられる。また、ここで、例えば、基板処理装置20の出力部233で第1の出力または第2の出力が行われる場合、基板処理装置20のオペレータの動作に応じて入力部232で入力される信号に応答して、基板処理装置20の液交換部24による液交換処理が実行されてもよい。また、ここで、例えば、基板処理装置20のオペレータが、液貯留部22のタンクを入れ替えることで、液交換処理を行ってもよい。
Here, for example, each of the user-recognizable first output and the second output is a visually recognizable output of text information by, for example, at least one of the
図14から図17は、第2変形例に係る基板処理システム1の液交換処理に係る制御方法についての動作フローの一例を示す流れ図である。ここでは、第1の出力および第2の出力が基板処理装置20の出力部233によって行われる例を挙げて説明する。図14から図17の動作フローは、上記一実施形態に係る図9から図12の動作フローを基本として、図9のステップSp12が図14のステップSp12Bに変更され、図10のステップSp24が図15のステップSp24Bに変更され、図11のステップSp34が図16のステップSp34Bに変更され、図12のステップSp43が図17のステップSp43Bに変更されたものである。
14 to 17 are flow charts showing an example of an operation flow of the control method related to the liquid exchange process of the
ここで、図14のステップSp12Bでは、基板処理装置20の出力部233が、オペレータが認識可能な第1の出力を行う。これにより、例えば、オペレータは、処理液Lq0の交換を開始しても良いタイミングを容易に知ることができる。図15のステップSp24B、図16のステップSp34Bおよび図17のステップSp43Bでは、基板処理装置20の出力部233が、オペレータが認識可能な第2の出力を行う。これにより、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎたことがユーザに報知されるため、ユーザは処理液Lq0を交換することができる。
Here, in step Sp12B of FIG. 14, the
ただし、ここでは、例えば、図15のステップSp21からステップSp24Bで示されるように、交換時期において検出部152で液交換可能状態が検出されることなく、交換時期が過ぎた後に、複数の連続処理のうちのN台の処理ユニット21において実行中の連続処理が完了したことに応答して、出力部233が第2の出力を行ってもよい。これにより、例えば、処理液Lq0の交換時期が過ぎても、1つの基板群に対する連続処理が完了した後に、処理液Lq0を交換することで、例えば、1つの基板群に対する連続処理が中断されず、N台の処理ユニット21の稼働率が低下しにくくなる。
However, here, for example, as shown in steps Sp21 to Sp24B of FIG. 15, a plurality of continuous processes are performed after the replacement time has passed without the
また、例えば、図16のステップSp31からステップSp34Bで示されるように、交換時期において検出部152で液交換可能状態が検出されることなく、交換時期が過ぎた後に、搬送部TRがキャリアCからN台の処理ユニット21に向けて既に搬出していた全ての基板Wに対してN台の処理ユニット21における処理が完了したことに応答して、出力部233が第2の出力を行ってもよい。これにより、例えば、第2の出力に応じて、オペレータが液交換処理を行えば、劣化した処理液Lq0を用いて処理が施される基板Wの数が低減され得る。また、例えば、1つの基板群に対する連続処理において、複数の基板Wに対する処理条件のばらつきが生じにくいため、処理後の基板Wの特性にばらつきが生じにくくなる。
Further, for example, as shown in steps Sp31 to 34B of FIG. 16, the transport unit TR is transferred from the carrier C after the replacement time has passed without the
また、例えば、図17のステップSp41からステップSp43Bで示されるように、検出部152で液交換可能状態が検出されることなく、交換時期が過ぎた後に、N台の処理ユニット21に既に位置している全ての基板Wに対してN台の処理ユニット21における処理が完了したことに応答して、出力部233が第2の出力を行ってもよい。これにより、例えば、オペレータは、第2の出力に応じて処理液Lq0の交換を早期に行うことができ、劣化した処理液Lq0を用いた基板処理が実行されにくくなる。
Further, for example, as shown in steps Sp41 to Sp43B of FIG. 17, the
<7−3.その他>
また、上記一実施形態および上記各変形例において、例えば、図18および図19で示されるように、基板処理装置20の演算処理部235aは、記憶部234内のプログラムP2Cの実行によって実現される機能的な構成として、取得部2351、設定部2352、検知部2353および判定部2354に加えて、認識部151に対応する認識部2355Cおよび検出部152に対応する検出部2356Cを有していてもよい。この場合、例えば、ホストコンピュータ10から基板処理装置20に係る処理計画の情報(処理計画情報)PP2が送信されていれば、基板処理装置20において、認識部2355Cは、例えば、記憶部234に記憶されている処理計画情報PP2に基づいて、待機状態が継続する継続時間を認識することができる。また、基板処理装置20において、例えば、検出部2356Cは、認識部2355Cで認識された継続時間が予め設定された基準時間以上である液交換可能状態を検出することができる。この場合、例えば、ホストコンピュータ10と基板処理装置20との間における、第1の信号、第2の信号および第3の信号の送受信がされなくてよい。
<7-3. Others>
Further, in the above embodiment and each of the above modifications, for example, as shown in FIGS. 18 and 19, the
また、上記一実施形態および上記各変形例において、例えば、ホストコンピュータ10の記憶部14に寿命ルールに係る情報が記憶されていれば、ホストコンピュータ10の演算処理部15aが、寿命ルールに基づいて、処理液Lq0の交換時期を設定してもよい。この場合、例えば、基板処理装置20からホストコンピュータ10に対して、交換時期に係る交換時期情報を送信しなくてよい。
Further, in the above embodiment and each of the above modifications, for example, if the
なお、上記一実施形態および各種変形例をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。 Needless to say, all or a part of the above-described embodiment and various modifications can be combined as appropriate within a consistent range.
1 基板処理システム
5 通信回線
10 ホストコンピュータ
11 通信部(送信部、受信部)
12 入力部
13 出力部
14 記憶部
15 制御部
15a 演算処理部
20 基板処理装置
20a〜20c 第1〜第3の基板処理装置
21 処理ユニット
22 液貯留部
23 制御ユニット
24 液交換部
151,2355C 認識部
152,2356C 検出部
231 通信部(送信部、受信部)
232 入力部
233 出力部
234 記憶部
235 制御部
235a 演算処理部
2351 取得部
2352 設定部
2353 検知部
2354 判定部
C キャリア
LP1〜LP4 第1〜4ロードポート
Lq0 処理液
P1,P2,P2C プログラム
PP1,PP2 処理計画情報
TR 搬送部
Tr0 交換時期
W 基板
1 Board processing system 5
12
232
Claims (27)
前記1つ以上の処理ユニットにおける、第1基板群に含まれる複数枚の基板に対して順次に処理を施す第1連続処理と、第2基板群に含まれる複数枚の基板に対して順次に処理を施す第2連続処理と、を含む複数の基板群に係る複数の連続処理についての実行タイミングを示す処理計画情報を記憶する記憶部と、
前記1つ以上の処理ユニットで使用する前記処理液を貯留している液貯留部と、
前記処理液の状態に係る数値を取得する取得部と、
前記取得部で取得された数値と、前記処理液の寿命に係る予め設定されたルールと、に基づいて、前記液貯留部に貯留されている前記処理液の交換時期を設定する設定部と、
前記交換時期において、前記1つ以上の処理ユニットで前記複数の連続処理の何れの連続処理も実行されていない待機状態を検知する検知部と、
前記処理計画情報に基づいて、前記待機状態が継続する継続時間を認識する認識部と、
前記継続時間が予め設定された基準時間以上である液交換可能状態を検出する検出部と、を備えている、基板処理システム。 One or more processing units that process the substrate with the processing liquid
In the one or more processing units, the first continuous processing in which the plurality of substrates included in the first substrate group are sequentially processed, and the first continuous processing in which the plurality of substrates included in the second substrate group are sequentially processed. A storage unit that stores processing plan information indicating execution timing for a plurality of continuous processes related to a plurality of substrate groups including a second continuous process for performing the process.
A liquid storage unit that stores the treatment liquid used in the one or more treatment units, and a liquid storage unit.
An acquisition unit that acquires a numerical value related to the state of the treatment liquid, and
A setting unit for setting a replacement time of the processing liquid stored in the liquid storage unit based on a numerical value acquired by the acquisition unit and a preset rule relating to the life of the treatment liquid.
A detection unit that detects a standby state in which none of the continuous processing of the plurality of continuous processing is executed by the one or more processing units at the replacement time.
A recognition unit that recognizes the duration of the standby state based on the processing plan information,
A substrate processing system including a detection unit that detects a liquid exchangeable state in which the duration is equal to or longer than a preset reference time.
前記液貯留部に貯留されている前記処理液を交換する液交換処理を実行する液交換部、をさらに備え、
前記液交換部は、前記検出部による前記液交換可能状態の検出に応答して、前記液交換処理を実行する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 1.
A liquid exchange unit for executing a liquid exchange process for exchanging the treatment liquid stored in the liquid storage unit is further provided.
The liquid exchange unit is a substrate processing system that executes the liquid exchange process in response to the detection of the liquid exchangeable state by the detection unit.
前記液交換部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記複数の連続処理のうちの前記1つ以上の処理ユニットにおいて実行中の連続処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 2.
In the liquid exchange unit, when the exchangeable state is not detected by the detection unit at the exchange time and the exchange time has passed, in the one or more processing units of the plurality of continuous processes. A substrate processing system that executes the liquid exchange process in response to the completion of the continuous process being executed.
キャリアに収容されている複数枚の基板を前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて搬出する搬送部、をさらに備え、
前記液交換部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記搬送部によって前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて既に搬出されていた全ての基板に対して、前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 2.
A transport unit for carrying out a plurality of substrates housed in the carrier from the carrier toward the one or more processing units is further provided.
The liquid exchange unit is directed from the carrier to the one or more processing units by the transport unit when the exchangeable state is passed without the detection unit detecting the liquid exchangeable state at the exchange time. A substrate processing system that executes the liquid exchange processing in response to the completion of processing in the one or more processing units for all the substrates that have already been carried out.
前記搬送部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記交換時期の終了時から前記液交換処理の完了時まで、前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けた基板の搬出を中止する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 4.
When the exchangeable state is passed without the detection unit detecting the liquid exchangeable state at the exchange time, the transport unit is described from the end of the exchange period to the completion of the liquid exchange process. A substrate processing system that stops carrying out a substrate from a carrier to the one or more processing units.
前記液交換部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記1つ以上の処理ユニット内に既に位置している全ての基板に対して、前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 2.
All the liquid exchange units are already located in the one or more processing units when the exchange time has passed without the detection unit detecting the liquid exchangeable state at the exchange time. A substrate processing system that executes the liquid exchange processing on a substrate in response to the completion of processing in the one or more processing units.
前記1つ以上の処理ユニットは、前記液交換部による前記液交換処理の実行の開始時から完了時まで、基板に対する処理の実行を停止する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 6.
A substrate processing system in which the one or more processing units stop execution of processing on a substrate from the start to the end of execution of the liquid exchange processing by the liquid exchange unit.
前記検出部による前記液交換可能状態の検出に応答して、ユーザが認識可能な第1の出力を行う出力部、をさらに備えている、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 1.
A substrate processing system further comprising an output unit that outputs a first output recognizable by the user in response to the detection of the liquid exchangeable state by the detection unit.
前記出力部は、前記交換時期において前記検出部によって前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたことに応答して、ユーザが認識可能な第2の出力を行う、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 8.
The output unit outputs a second output recognizable by the user in response to the passage of the exchange time without detecting the liquid exchangeable state by the detection unit at the exchange time. Processing system.
基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備え、
前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニット、前記液貯留部、前記取得部、前記設定部および前記検知部を含み、
前記管理装置は、前記記憶部、前記認識部および前記検出部を含み、
前記基板処理装置は、前記検知部による前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する送信部、をさらに含み、
前記管理装置は、前記送信部からの前記第1信号を受信する受信部、をさらに含み、
前記管理装置において、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部は、前記液交換可能状態を検出する、基板処理システム。 The substrate processing system according to any one of claims 1 to 9.
A substrate processing apparatus and a management apparatus communicably connected to the substrate processing apparatus are provided.
The substrate processing apparatus includes the one or more processing units, the liquid storage unit, the acquisition unit, the setting unit, and the detection unit.
The management device includes the storage unit, the recognition unit, and the detection unit.
The substrate processing device further includes a transmission unit that transmits a first signal to the management device in response to detection of the standby state by the detection unit.
The management device further includes a receiving unit that receives the first signal from the transmitting unit.
In the management device, in response to the reception of the first signal by the receiving unit, the recognition unit recognizes the duration based on the processing plan information, and the detecting unit determines the liquid exchangeable state. A board processing system to detect.
前記送信部は、前記取得部で取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信し、
前記管理装置において、前記受信部によって前記第2信号を受信した後に、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部は、前記液交換可能状態を検出する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 10.
The transmitting unit transmits a second signal to the management device in response to the numerical value acquired by the acquiring unit satisfying a preset specific condition.
In the management device, after receiving the second signal by the receiving unit, in response to the reception of the first signal by the receiving unit, the recognition unit recognizes the duration based on the processing plan information. The detection unit is a substrate processing system that detects the liquid exchangeable state.
基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備え、
前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニット、前記液貯留部、前記取得部、前記設定部および前記検知部を含み、
前記管理装置は、前記記憶部、前記認識部および前記検出部を含み、
前記基板処理装置は、前記設定部によって設定された前記交換時期に係る交換時期情報を前記管理装置に送信し、前記検知部による前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する送信部、をさらに含み、
前記管理装置は、前記送信部によって送信された前記交換時期情報および前記第1信号を受信する受信部、をさらに含み、
前記管理装置において、前記交換時期に、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部は、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部は、前記液交換可能状態を検出する、基板処理システム。 The substrate processing system according to any one of claims 1 to 9.
A substrate processing apparatus and a management apparatus communicably connected to the substrate processing apparatus are provided.
The substrate processing apparatus includes the one or more processing units, the liquid storage unit, the acquisition unit, the setting unit, and the detection unit.
The management device includes the storage unit, the recognition unit, and the detection unit.
The substrate processing device transmits the replacement time information related to the replacement time set by the setting unit to the management device, and sends a first signal to the management device in response to the detection of the standby state by the detection unit. Including the transmitter to transmit
The management device further includes the exchange time information transmitted by the transmitter and a receiver that receives the first signal.
In the management device, in response to the reception of the first signal by the receiving unit at the exchange time, the recognition unit recognizes the duration based on the processing plan information, and the detecting unit recognizes the duration. A substrate processing system that detects the liquid exchangeable state.
前記送信部は、前記取得部で取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信し、
前記管理装置において、前記受信部によって前記第2信号を受信した後、前記交換時期に、前記受信部による前記第1信号の受信に応答して、前記認識部が、前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出部が、前記液交換可能状態を検出する、基板処理システム。 The substrate processing system according to claim 12.
The transmitting unit transmits a second signal to the management device in response to the numerical value acquired by the acquiring unit satisfying a preset specific condition.
In the management device, after receiving the second signal by the receiving unit, the recognition unit responds to the reception of the first signal by the receiving unit at the exchange time, based on the processing plan information. A substrate processing system that recognizes the duration and the detection unit detects the liquid exchangeable state.
前記処理液の状態に係る数値を取得する取得ステップと、
前記取得ステップで取得された数値と、前記処理液の寿命に係る予め設定されたルールと、に基づいて、前記液貯留部に貯留されている前記処理液の交換時期を設定する設定ステップと、
前記交換時期において、前記1つ以上の処理ユニットで前記複数の連続処理の何れの連続処理も実行されていない待機状態を検知する検知ステップと、
前記処理計画情報に基づいて、前記待機状態が継続する継続時間を認識する認識ステップと、
前記継続時間が予め設定された基準時間以上である液交換可能状態を検出する検出ステップと、を有している、基板処理システムの制御方法。 One or more processing units that process the substrates using the processing liquid, and the first continuous processing and the first continuous processing that sequentially process a plurality of substrates in the first substrate group in the one or more processing units. A storage unit that stores processing plan information indicating execution timing for a plurality of continuous processes related to a plurality of board groups including a second continuous process that sequentially processes a plurality of boards of the two board groups, and the above 1 A method for controlling a substrate processing system including a liquid storage unit for storing the processing liquid used in one or more processing units.
An acquisition step for acquiring a numerical value related to the state of the treatment liquid, and
A setting step for setting a replacement time of the treatment liquid stored in the liquid storage unit based on the numerical value acquired in the acquisition step and a preset rule relating to the life of the treatment liquid.
A detection step for detecting a standby state in which none of the continuous processes of the plurality of continuous processes is executed in the one or more processing units at the exchange time.
A recognition step that recognizes the duration of the standby state based on the processing plan information, and
A control method for a substrate processing system, comprising a detection step for detecting a liquid exchangeable state in which the duration is equal to or longer than a preset reference time.
前記検出ステップによる前記液交換可能状態の検出に応答して、前記液貯留部に貯留されている前記処理液を交換する液交換処理を実行する第1液交換ステップ、をさらに有している、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 14.
It further comprises a first liquid exchange step, which executes a liquid exchange process for exchanging the treatment liquid stored in the liquid storage unit in response to the detection of the liquid exchangeable state by the detection step. How to control the board processing system.
前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記複数の連続処理のうちの前記1つ以上の処理ユニットにおいて実行中の連続処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する第2液交換ステップ、をさらに有している、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 15.
When the exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time and the exchange time has passed, the continuous processing being executed in the one or more processing units of the plurality of continuous processes is performed. A method of controlling a substrate processing system, further comprising a second liquid exchange step, which performs the liquid exchange process in response to completion.
キャリアに収容されている複数枚の基板を前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて搬出する搬出ステップ、をさらに有し、
前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記搬出ステップにおいて前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けて既に搬出されていた全ての基板に対して前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する第2液交換ステップ、をさらに有している、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 15.
Further, it has a carry-out step of carrying out a plurality of substrates housed in the carrier from the carrier toward the one or more processing units.
The liquid exchangeable state was not detected in the detection step at the exchange time, and when the exchange time passed, the liquid was already carried out from the carrier toward the one or more processing units in the carry-out step. A method for controlling a substrate processing system, further comprising a second liquid exchange step of executing the liquid exchange process in response to the completion of processing in the one or more processing units for all the substrates. ..
前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記交換時期の終了時から前記液交換処理の完了時まで、前記搬出ステップにおける、前記キャリアから前記1つ以上の処理ユニットに向けた基板の搬出を中止する、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 17.
When the exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time and the exchange time has passed, from the end of the exchange time to the completion of the liquid exchange process, the said in the carry-out step. A control method for a substrate processing system that stops carrying out a substrate from a carrier to the one or more processing units.
前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたとき、前記1つ以上の処理ユニット内に既に位置している全ての基板に対して、前記1つ以上の処理ユニットにおける処理が完了したことに応答して、前記液交換処理を実行する第2液交換ステップ、をさらに有している、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 15.
The liquid exchangeable state is not detected in the detection step at the exchange time, and when the exchange time has passed, all the substrates already located in the one or more processing units are described. A method of controlling a substrate processing system, further comprising a second liquid exchange step of performing the liquid exchange process in response to the completion of the process in one or more processing units.
前記1つ以上の処理ユニットは、前記第2液交換ステップにおける前記液交換処理の実行の開始時から完了時まで、基板に対する処理の実行を停止する、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 19.
A method for controlling a substrate processing system, wherein the one or more processing units stop execution of processing on a substrate from the start to the end of execution of the liquid exchange processing in the second liquid exchange step.
前記検出ステップにおける前記液交換可能状態の検出に応答して、ユーザが認識可能な第1の出力を行う第1出力ステップ、をさらに有している、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 14.
A method of controlling a substrate processing system, further comprising a first output step of producing a user-recognizable first output in response to detection of the liquid exchangeable state in the detection step.
前記交換時期において前記検出ステップで前記液交換可能状態が検出されることなく、前記交換時期を過ぎたことに応答して、ユーザが認識可能な第2の出力を行う第2出力ステップ、をさらに有している、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 21.
Further, a second output step of performing a second output recognizable by the user in response to the passage of the exchange time without detecting the liquid exchangeable state in the detection step at the exchange time. A control method for the substrate processing system.
前記基板処理システムは、基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備え、
前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニットおよび前記液貯留部を含み、
前記管理装置は、前記記憶部を含み、
前記基板処理システムの制御方法は、さらに、
前記基板処理装置において、前記検知ステップにおける前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する第1信号送信ステップと、
前記管理装置において、前記第1信号を受信する第1信号受信ステップと、を有し、
前記管理装置において、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する、基板処理システムの制御方法。 The method for controlling a substrate processing system according to any one of claims 14 to 22.
The substrate processing system includes a substrate processing apparatus and a management apparatus communicably connected to the substrate processing apparatus.
The substrate processing apparatus includes the one or more processing units and the liquid storage unit.
The management device includes the storage unit.
The control method of the substrate processing system further describes.
In the substrate processing apparatus, a first signal transmission step of transmitting a first signal to the management apparatus in response to detection of the standby state in the detection step, and
The management device includes a first signal receiving step for receiving the first signal.
In the management device, in response to the reception of the first signal in the first signal reception step, the duration is recognized based on the processing plan information in the recognition step, and the liquid exchangeable state is recognized in the detection step. How to control the board processing system to detect.
前記基板処理装置において、前記取得ステップで取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信する第2信号送信ステップと、
前記管理装置において、前記第2信号を受信する第2信号受信ステップと、をさらに有し、
前記管理装置において、前記第2信号受信ステップにおける前記第2信号の受信後に、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する、基板処理システムの制御方法。 The control method for a substrate processing system according to claim 23.
In the substrate processing apparatus, a second signal transmission step of transmitting a second signal to the management apparatus in response to the numerical value acquired in the acquisition step satisfying a preset specific condition,
The management device further includes a second signal receiving step for receiving the second signal.
In the management device, after receiving the second signal in the second signal receiving step, in response to receiving the first signal in the first signal receiving step, the recognition step is based on the processing plan information. A control method for a substrate processing system that recognizes the duration and detects the liquid exchangeable state in the detection step.
前記基板処理システムは、基板処理装置と、該基板処理装置に通信可能に接続されている管理装置と、を備え、
前記基板処理装置は、前記1つ以上の処理ユニットおよび前記液貯留部を含み、
前記管理装置は、前記記憶部を含み、
前記基板処理システムの制御方法は、さらに、
前記基板処理装置において、前記設定ステップで設定された前記交換時期に係る交換時期情報を前記管理装置に送信する時期情報送信ステップと、
前記基板処理装置において、前記検知ステップにおける前記待機状態の検知に応答して第1信号を前記管理装置に送信する第1信号送信ステップと、
前記管理装置において、前記交換時期情報を受信する時期情報受信ステップと、
前記管理装置において、前記第1信号を受信する第1信号受信ステップと、を有し、
前記管理装置において、前記交換時期に、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する、基板処理システムの制御方法。 The method for controlling a substrate processing system according to any one of claims 14 to 22.
The substrate processing system includes a substrate processing apparatus and a management apparatus communicably connected to the substrate processing apparatus.
The substrate processing apparatus includes the one or more processing units and the liquid storage unit.
The management device includes the storage unit.
The control method of the substrate processing system is further described.
In the substrate processing apparatus, a timing information transmission step of transmitting exchange timing information related to the exchange timing set in the setting step to the management apparatus, and
In the substrate processing apparatus, a first signal transmission step of transmitting a first signal to the management apparatus in response to detection of the standby state in the detection step, and
In the management device, the time information receiving step of receiving the exchange time information and
The management device includes a first signal receiving step for receiving the first signal.
In the management device, at the exchange time, in response to the reception of the first signal in the first signal reception step, the recognition step recognizes the duration based on the processing plan information, and the detection step recognizes the duration. A control method for a substrate processing system that detects the liquid exchangeable state.
前記基板処理装置において、前記取得ステップで取得された数値が予め設定された特定条件を満たしていることに応答して第2信号を前記管理装置に送信する第2信号送信ステップと、
前記管理装置において、前記第2信号を受信する第2信号受信ステップと、をさらに有し、
前記管理装置において、前記第2信号受信ステップで前記第2信号を受信した後、前記交換時期に、前記第1信号受信ステップにおける前記第1信号の受信に応答して、前記認識ステップで前記処理計画情報に基づいて前記継続時間を認識し、前記検出ステップで前記液交換可能状態を検出する、基板処理システムの制御方法。 The control method of the substrate processing system according to claim 25.
In the substrate processing apparatus, a second signal transmission step of transmitting a second signal to the management apparatus in response to the numerical value acquired in the acquisition step satisfying a preset specific condition,
The management device further includes a second signal receiving step for receiving the second signal.
After receiving the second signal in the second signal receiving step in the management device, in response to the reception of the first signal in the first signal receiving step at the exchange time, the processing in the recognition step. A control method for a substrate processing system that recognizes the duration based on planning information and detects the liquid exchangeable state in the detection step.
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