JP6788827B2 - Radio wave transmission / reception board and its manufacturing method - Google Patents

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Description

本実施の形態は、電波送受信用アンテナ等に用いられる電波送受信用基板及びその製造方法に関する。 The present embodiment relates to a radio wave transmission / reception substrate used for a radio wave transmission / reception antenna or the like and a method for manufacturing the same.

従来より、ラジアルラインスロットアレイアンテナ等の平板状アンテナが、電波送受信用アンテナとして用いられている。 Conventionally, a flat plate antenna such as a radial line slot array antenna has been used as an antenna for transmitting and receiving radio waves.

このような電波送受信用アンテナは、ガラス基板と、ガラス基板上に設けられたパターンを含むメタル層とを有する電波送受信用基板としての積層基板を備えて構成される。 Such a radio wave transmission / reception antenna is configured to include a laminated substrate as a radio wave transmission / reception substrate having a glass substrate and a metal layer including a pattern provided on the glass substrate.

このような積層基板は、一般に、ガラス基板に対してスパッタリング、蒸着または電解、無電解メッキを施してメタル層を形成し、このメタル層に対してエッチング処理を施すことにより得られる。 Such a laminated substrate is generally obtained by subjecting a glass substrate to sputtering, vapor deposition, electrolysis, or electroless plating to form a metal layer, and then etching the metal layer.

しかしながら、ガラス基板に対してスパッタリング、蒸着または電解、無電解メッキを施す工程はコスト高となり、製造時間が嵩むことで生産性が悪い。 However, the process of performing sputtering, vapor deposition or electrolysis, or electroless plating on a glass substrate is costly, and the production time is long, resulting in poor productivity.

特開2007−295044号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-295044

本実施の形態は、以上のような点を考慮してなされたものであり、コスト低減を図ることができる電波送受信用基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present embodiment has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to provide a radio wave transmission / reception substrate and a method for manufacturing the same, which can reduce costs.

本開示の一実施の形態は、基板と、前記基板に対して接着層を介して接着されたパターンを含むメタル箔と、を備えた、電波送受信用基板、である。 One embodiment of the present disclosure is a radio wave transmission / reception substrate comprising a substrate and a metal foil including a pattern adhered to the substrate via an adhesive layer.

前記電波送受信用基板においては、前記接着層が、前記基板上に塗布された塗膜であってよい。 In the radio wave transmission / reception substrate, the adhesive layer may be a coating film applied on the substrate.

前記電波送受信用基板においては、前記メタル箔の表面の最大高さRmaxが、100nm以下であってもよい。 In the radio wave transmission / reception substrate, the maximum height Rmax of the surface of the metal foil may be 100 nm or less.

前記電波送受信用基板において、前記メタル箔は、金、銀、銅、ニッケル、又はチタンであってもよい。 In the radio wave transmission / reception substrate, the metal foil may be gold, silver, copper, nickel, or titanium.

また、本開示の一実施の形態は、基板と、この基板上に設けられたパターンを含む電波送受信層とを有する電波送受信用基板の製造方法において、前記基板上に接着層を設ける工程と、前記接着層を介してメタル箔を前記基板に対して接着する工程と、前記基板上の前記メタル箔の所望部位を除去することにより、前記メタル箔にパターンを形成し、パターンを含む前記メタル箔によって前記電波送受信層を形成する工程と、を備えた、電波送受信用基板の製造方法、である。 Further, one embodiment of the present disclosure includes a step of providing an adhesive layer on the substrate in a method of manufacturing a radio wave transmission / reception substrate having a substrate and a radio wave transmission / reception layer including a pattern provided on the substrate. A pattern is formed on the metal foil by a step of adhering the metal foil to the substrate via the adhesive layer and a desired portion of the metal foil on the substrate is removed, and the metal foil containing the pattern is formed. This is a method for manufacturing a substrate for transmitting and receiving radio waves, which comprises a step of forming the radio wave transmitting and receiving layer.

前記電波送受信用基板の製造方法においては、前記接着層が、前記基板上に塗布された塗膜であってもよい。 In the method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate, the adhesive layer may be a coating film applied on the substrate.

前記電波送受信用基板の製造方法において、前記接着層は、スピンコーターまたはダイコーターによって塗布されてもよい。 In the method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate, the adhesive layer may be applied by a spin coater or a die coater.

前記電波送受信用基板の製造方法において、前記接着層は、その表面の最大高さRmaxが、100nm以下となるように塗布されてもよい。 In the method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate, the adhesive layer may be coated so that the maximum height Rmax of the surface thereof is 100 nm or less.

前記電波送受信用基板の製造方法においては、前記メタル箔の表面の最大高さRmaxが、100nm以下であってもよい。 In the method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate, the maximum height Rmax of the surface of the metal foil may be 100 nm or less.

前記電波送受信用基板の製造方法において、前記メタル箔は、金、銀、銅、ニッケル、又はチタンであってもよい。 In the method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate, the metal foil may be gold, silver, copper, nickel, or titanium.

本実施の形態によれば、電波送受信用基板のコスト低減を図ることができる。 According to this embodiment, it is possible to reduce the cost of the radio wave transmission / reception substrate.

図1は電波送受信用基板を備えるアンテナ基板を示す側断面図。FIG. 1 is a side sectional view showing an antenna board including a board for transmitting and receiving radio waves. 図2は電波送受信用基板を備えるアンテナ基板を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing an antenna board including a board for transmitting and receiving radio waves. 図3(a)〜(g)は実施の形態による電波送受信用基板の製造方法を示す図。3 (a) to 3 (g) are diagrams showing a method of manufacturing a radio wave transmission / reception substrate according to an embodiment.

以下、図面を参照して一実施の形態について説明する。
図1乃至図3は実施の形態を示す図であり、このうち図1は電波送受信用基板を備えるアンテナ基板を示す側断面図、図2は電波送受信用基板を備えるアンテナ基板を示す平面図、図3(a)〜(g)は、電波送受信用基板の製造方法を示す工程図である。
Hereinafter, one embodiment will be described with reference to the drawings.
1 to 3 are views showing an embodiment, of which FIG. 1 is a side sectional view showing an antenna board including a radio wave transmission / reception board, and FIG. 2 is a plan view showing an antenna board including a radio wave transmission / reception board. 3 (a) to 3 (g) are process diagrams showing a method of manufacturing a radio wave transmission / reception substrate.

図1および図2に示すように、アンテナ基板10は、電波を送受信するための電波送受信用基板20を備えることにより、例えば電波送受信用アンテナとして用いられるラジアルラインスロットアレイアンテナ等の平板状アンテナを構成する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the antenna board 10 includes a radio wave transmission / reception board 20 for transmitting / receiving radio waves, so that a flat antenna such as a radial line slot array antenna used as a radio wave transmission / reception antenna can be provided. Configure.

このようなアンテナ基板10は、ガラス基板11と、ガラス基板11の表面に接着層12を介して接着されたパターン13Pを含むメタル箔13と、メタル箔13に設けられた屈折層14と、屈折層14上に設けられたガラス基板15とを備えている。また、ガラス基板11の裏面には導波層16が設けられている。このうち、電波送受信用基板20は、ガラス基板11、接着層12、およびメタル箔13を備えてなる。 Such an antenna substrate 10 is refracted by a glass substrate 11, a metal foil 13 including a pattern 13P bonded to the surface of the glass substrate 11 via an adhesive layer 12, and a refracting layer 14 provided on the metal foil 13. It includes a glass substrate 15 provided on the layer 14. Further, a waveguide layer 16 is provided on the back surface of the glass substrate 11. Of these, the radio wave transmission / reception substrate 20 includes a glass substrate 11, an adhesive layer 12, and a metal foil 13.

上述の構成からなるアンテナ基板10は、例えば放送受信用アンテナ、衛星通信用アンテナ等の電波送受信用アンテナとして用いられる。 The antenna substrate 10 having the above configuration is used as an antenna for transmitting and receiving radio waves, for example, an antenna for broadcasting reception and an antenna for satellite communication.

また図1および図2に示すように、電波送受信用基板20のメタル箔13には、電波を伝搬するためのスロット状の開口を構成するパターン13Pが形成されている。メタル箔13に形成されたパターン13Pは、メタル箔13に対して島状の孤立領域を形成するものではないので、後述のようにメタル箔13からキャリア層23を剥離する際(図3(f)参照)、キャリア層23を容易かつ簡単に剥離することができる。 Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the metal foil 13 of the radio wave transmission / reception substrate 20 is formed with a pattern 13P forming a slot-shaped opening for propagating radio waves. Since the pattern 13P formed on the metal foil 13 does not form an island-shaped isolated region with respect to the metal foil 13, when the carrier layer 23 is peeled from the metal foil 13 as described later (FIG. 3 (f). ), The carrier layer 23 can be easily and easily peeled off.

ここで、「パターン13Pが島状の孤立領域を形成する」とは、メタル箔13に形成されたパターンが島状に閉じた領域を形成することをいい、パターンに囲まれた孤立領域が他の領域と連続しないことをいう。 Here, "the pattern 13P forms an island-shaped isolated region" means that the pattern formed on the metal foil 13 forms an island-shaped closed region, and the isolated region surrounded by the pattern is another. It means that it is not continuous with the area of.

また図1に示すように、メタル箔13の上面には、後述するようにメタル箔13から剥離されるキャリア層23とメタル箔13との間の界面13aが残存する。 Further, as shown in FIG. 1, an interface 13a between the carrier layer 23 and the metal foil 13 that is peeled off from the metal foil 13 remains on the upper surface of the metal foil 13.

さらにまた、メタル箔13の界面13a上には例えばITO(Indium Tin Oxide)等の酸化防止膜18が設けられている。さらに酸化防止膜18上には、上述のように屈折層14が設けられている。この屈折層14は誘電体または可変誘導率誘電体を含み、例えばガラス基板15側から受信される電波を屈折させて、この電波を適切な方向に向かせてメタル箔13に通したり、メタル箔13側から送られる電波を屈折させてガラス基板15側から送信するものである。 Furthermore, an antioxidant film 18 such as ITO (Indium Tin Oxide) is provided on the interface 13a of the metal foil 13. Further, the refraction layer 14 is provided on the antioxidant film 18 as described above. The refracting layer 14 includes a dielectric or a variable inductive dielectric, for example, refracting a radio wave received from the glass substrate 15 side and directing the radio wave in an appropriate direction to pass through the metal foil 13 or a metal foil. The radio wave transmitted from the 13 side is refracted and transmitted from the glass substrate 15 side.

次に各構成部材について更に詳述する。ガラス基板11、15としては、1.1mm以下の厚みをもつ石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、強化ガラスを用いることができる。このうち、非誘電率が低い石英ガラスを用いることが好ましい。 Next, each component will be described in more detail. As the glass substrates 11 and 15, quartz glass, non-alkali glass, soda glass, and tempered glass having a thickness of 1.1 mm or less can be used. Of these, it is preferable to use quartz glass having a low non-dielectric constant.

また、ガラス基板11、15の形状としては、G4、G5サイズ(730mm×920mm)、あるいはG8サイズ(2500mm×2200mm)のものを用いることができ、また多面付けされたガラス基板を用いることもできる。 Further, as the shapes of the glass substrates 11 and 15, G4, G5 size (730 mm × 920 mm) or G8 size (2500 mm × 2200 mm) can be used, and a multi-imposed glass substrate can also be used. ..

また接着層12としては、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ゴム系接着剤、シリコーンゴム系接着剤、プラスチック系接着剤を用いることができる。この場合、液状接着剤およびシート状接着剤のいずれを用いることができる。ここで、液状接着剤は、熱や光等によって硬化する硬化型接着等のことを意味し、シート状接着剤は、粘着剤、いわゆる感圧接着剤等を意味する。 Further, as the adhesive layer 12, an epoxy adhesive, an acrylic adhesive, a rubber adhesive, a silicone rubber adhesive, or a plastic adhesive can be used. In this case, either a liquid adhesive or a sheet-like adhesive can be used. Here, the liquid adhesive means a curable adhesive or the like that is cured by heat, light, or the like, and the sheet-like adhesive means a pressure-sensitive adhesive, a so-called pressure-sensitive adhesive or the like.

液状接着剤を用いた場合、スピンコーター、ダイコーター、スプレーコーター、ディップコーター等のコーター機を利用して接着剤を均一に塗布することができ、また接着剤の厚みを調整できる。ここで、本実施形態では、接着層12が液状接着剤を塗布することにより形成される塗膜となっている。この場合、塗膜の表面を精密に均一にするためには、スピンコーターまたはダイコーターを利用することが好ましい。 When a liquid adhesive is used, the adhesive can be uniformly applied using a coater machine such as a spin coater, a die coater, a spray coater, or a dip coater, and the thickness of the adhesive can be adjusted. Here, in the present embodiment, the adhesive layer 12 is a coating film formed by applying a liquid adhesive. In this case, it is preferable to use a spin coater or a die coater in order to make the surface of the coating film precisely uniform.

一方、シート状接着剤を用いた場合、シート状接着剤をガラス基板11上に貼合すれば良いので、接着層12を容易に形成することができる。シート状接着剤のガラス基板11上への貼合は、ロールラミネーター、真空加圧ラミネーター、オートクレーブ、加圧プレスなどによって行ってもよい。 On the other hand, when the sheet-shaped adhesive is used, the sheet-shaped adhesive may be bonded on the glass substrate 11, so that the adhesive layer 12 can be easily formed. The sheet-like adhesive may be attached to the glass substrate 11 by a roll laminator, a vacuum pressure laminator, an autoclave, a pressure press, or the like.

また、高周波帯の電波を送受信する場合は、接着層12として、適正な低比誘電率、適正な誘電正接をもつものを用いる。 When transmitting and receiving radio waves in the high frequency band, the adhesive layer 12 having an appropriate low relative permittivity and an appropriate dielectric loss tangent is used.

一般に、絶縁体(誘電体)に電界を加えた際に誘電分極が生じるが、誘電分極が生じて絶縁体の中で電界が変化する程度を「比誘電率」という。 Generally, dielectric polarization occurs when an electric field is applied to an insulator (dielectric), and the degree to which dielectric polarization occurs and the electric field changes in the insulator is called "relative permittivity".

また誘電正接とは、絶縁体(誘電体)内での電気エネルギー損失の度合いを表す数値をいう。 The dielectric loss tangent is a numerical value indicating the degree of electrical energy loss in an insulator (dielectric).

次にメタル箔13としては、金、銀、銅、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)等の金属を用いることができるが、コストと抵抗値を考慮すると、銅(Cu)を用いることが好ましい。このようなメタル箔13としては、例えば銅箔からなる18μmの厚みをもつ後述するキャリア層23上に、電解メッキを施して形成された1.5〜10μmの厚みをもつ銅製の電解メッキ層を用いることができる。また、メタル箔13は、圧延銅等であってもよい。 Next, as the metal foil 13, a metal such as gold, silver, copper, nickel (Ni), and titanium (Ti) can be used, but in consideration of cost and resistance value, copper (Cu) is preferably used. .. As such a metal foil 13, for example, a copper electrolytic plating layer having a thickness of 1.5 to 10 μm formed by electroplating on a carrier layer 23 having a thickness of 18 μm made of copper foil, which will be described later, is formed. Can be used. Further, the metal foil 13 may be rolled copper or the like.

このように銅箔からなるキャリア層23上に、電解メッキ層からなるメタル箔13を形成することにより、後述のように電波送受信用基板20を製造する際、メタル箔13に膨れ、うねり、シワ等を発生させることなく、精度良く基板10を製造することができる。 By forming the metal foil 13 made of the electrolytic plating layer on the carrier layer 23 made of copper foil in this way, when the radio wave transmission / reception substrate 20 is manufactured as described later, the metal foil 13 swells, swells, and wrinkles. The substrate 10 can be manufactured with high accuracy without generating the above.

また上述したキャリア層23とメタル箔13とから、2層の多層メタル箔13A(図3参照)を形成することができる。 Further, a two-layer multilayer metal foil 13A (see FIG. 3) can be formed from the carrier layer 23 and the metal foil 13 described above.

この場合、キャリア層23とメタル箔13との間に、キャリア層23とメタル箔13とを区画する界面13aが存在する。なお、本実施の形態では、後述のように電波送受信用基板20を製造する際、キャリア層23が、メタル箔13から剥離されるが、キャリア層23を容易に剥離するため、キャリア層23とメタル箔13との間に剥離層を介在させてもよい。 In this case, there is an interface 13a that separates the carrier layer 23 and the metal foil 13 between the carrier layer 23 and the metal foil 13. In the present embodiment, when the radio wave transmission / reception substrate 20 is manufactured as described later, the carrier layer 23 is peeled off from the metal foil 13, but the carrier layer 23 is easily peeled off from the carrier layer 23. A release layer may be interposed between the metal foil 13 and the metal foil 13.

このように多層メタル箔13Aを構成するキャリア層23とメタル箔13は、後述するエッチング工程を精度良く行うため、同一の金属、例えば同一の銅製となっていることが好ましい。 As described above, the carrier layer 23 and the metal foil 13 constituting the multilayer metal foil 13A are preferably made of the same metal, for example, the same copper, in order to perform the etching step described later with high accuracy.

また、メタル箔13の表面粗さについては、アンテナとしての機能を発揮するため、その表面の最大高さRmaxが100nm以下となっていることが好ましい。なお、最大高さRmaxは、JIS B0601:1982に準拠するものである。 Further, regarding the surface roughness of the metal foil 13, it is preferable that the maximum height Rmax of the surface is 100 nm or less in order to exert the function as an antenna. The maximum height Rmax conforms to JIS B0601: 1982.

他方、多層メタル箔13Aのキャリア層23は上述のように銅箔からなっているが、このような銅箔としては、三井金属株式会社製の銅箔、JX金属株式会社製の銅箔、または福田金属箔粉工業株式会社製の銅箔を用いることができる。 On the other hand, the carrier layer 23 of the multilayer metal foil 13A is made of copper foil as described above, and examples of such copper foil include copper foil manufactured by Mitsui Metal Co., Ltd., copper foil manufactured by JX Nippon Mining & Metal Co., Ltd., or Copper foil manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd. can be used.

次に電波送受信用基板の製造方法について、図3(a)〜(g)により説明する。
まず、ガラス基板11を準備し(図3(a))、このガラス基板11上に接着層12を設ける(図3(b))。
Next, a method of manufacturing the radio wave transmission / reception substrate will be described with reference to FIGS. 3A to 3G.
First, the glass substrate 11 is prepared (FIG. 3 (a)), and the adhesive layer 12 is provided on the glass substrate 11 (FIG. 3 (b)).

この場合、接着層12は、液状接着剤をコーター機でガラス基板11上に塗布するか、またはシート状接着剤をガラス基板11上に貼合することにより形成される。本例では、接着層12が、液状接着剤をスピンコーターによって塗布することにより形成される塗膜であり、接着層12の表面の最大高さRmaxが100nm以下となるように、接着層12が設けられる。 In this case, the adhesive layer 12 is formed by applying a liquid adhesive onto the glass substrate 11 with a coater machine or by adhering a sheet-like adhesive onto the glass substrate 11. In this example, the adhesive layer 12 is a coating film formed by applying a liquid adhesive with a spin coater, and the adhesive layer 12 is formed so that the maximum height Rmax of the surface of the adhesive layer 12 is 100 nm or less. Provided.

次に図3(c)に示すように、キャリア層23と、このキャリア層23上に設けられたメタル箔13とを有する多層メタル箔13Aを準備する。本例において、キャリア層23は耐熱性を有している。 Next, as shown in FIG. 3C, a multilayer metal foil 13A having a carrier layer 23 and a metal foil 13 provided on the carrier layer 23 is prepared. In this example, the carrier layer 23 has heat resistance.

ここで耐熱性をもつキャリア層23とは、後述のように電波送受信用基板に対して加熱処理を施して接着層12を硬化させる際、キャリア層23が容易に溶融または軟化しない特性をもつことをいい、例えば、キャリア層23は300℃以上の溶融温度をもつ材料、例えば銅箔からなることが好ましい。 Here, the heat-resistant carrier layer 23 has a property that the carrier layer 23 does not easily melt or soften when the adhesive layer 12 is cured by heat-treating the radio wave transmission / reception substrate as described later. For example, the carrier layer 23 is preferably made of a material having a melting temperature of 300 ° C. or higher, for example, copper foil.

次にこのような構成からなる多層メタル箔13Aを、ガラス基板11上に接着層12を介して接着する。このことにより、ガラス基板11と、ガラス基板11上に接着層12を介して接着された多層メタル箔13Aとを備えた積層基板10Aが得られる。この場合、多層メタル箔13Aのメタル箔13はガラス基板11側にあり、キャリア層23はガラス基板11と反対側にある。 Next, the multilayer metal foil 13A having such a structure is adhered onto the glass substrate 11 via the adhesive layer 12. As a result, a laminated substrate 10A including the glass substrate 11 and the multilayer metal foil 13A bonded to the glass substrate 11 via the adhesive layer 12 can be obtained. In this case, the metal foil 13 of the multilayer metal foil 13A is on the glass substrate 11 side, and the carrier layer 23 is on the opposite side of the glass substrate 11.

次にキャリア層23上にパターン形成を行うため、所望パターンを有するレジスト24が設けられる(図3(d))。 Next, in order to form a pattern on the carrier layer 23, a resist 24 having a desired pattern is provided (FIG. 3 (d)).

次に図3(e)に示すように、積層基板10Aの多層メタル箔13Aに対してエッチング処理が施され、多層メタル箔13Aの所望部位25が除去される。この所望部位25は後述するようにメタル箔13のパターン13Pとなる部位である。 Next, as shown in FIG. 3E, the multilayer metal foil 13A of the laminated substrate 10A is subjected to an etching treatment to remove the desired portion 25 of the multilayer metal foil 13A. The desired portion 25 is a portion that becomes the pattern 13P of the metal foil 13 as described later.

多層メタル箔13Aに対するエッチング処理としては、wetエッチングを用いることができ、この場合、エッチング液としてはエッチングレートが速い塩化第二鉄溶液を用いることができる。 Wet etching can be used as the etching treatment for the multilayer metal foil 13A, and in this case, a ferric chloride solution having a high etching rate can be used as the etching solution.

その後、積層基板10Aに対して加熱処理を施す。この加熱処理は、ガラス基板11上に設けられた接着層12を硬化させるキュア工程からなり、接着層12のガラス転位温度以上に積層基板10Aを加工する処理である。 Then, the laminated substrate 10A is heat-treated. This heat treatment comprises a curing step of curing the adhesive layer 12 provided on the glass substrate 11, and is a process of processing the laminated substrate 10A above the glass transition temperature of the adhesive layer 12.

積層基板10Aに対して加熱処理を施した場合、接着層12から発生するガスによりメタル箔13が加圧されてメタル箔13に膨れ、うねり、シワが発生することも考えられる。 When the laminated substrate 10A is heat-treated, it is conceivable that the metal foil 13 is pressed by the gas generated from the adhesive layer 12 to swell, swell, and wrinkle the metal foil 13.

しかしながら本実施の形態において、例えば3μmの厚みをもつメタル箔13は、18μmの厚みをもつキャリア層23により保持されて強度が補強されているため、接着層12からガスが発生してメタル箔13が加圧されても、メタル箔13に膨れ、うねり、シワ等が発生することはない。 However, in the present embodiment, for example, the metal foil 13 having a thickness of 3 μm is held by the carrier layer 23 having a thickness of 18 μm to reinforce its strength, so that gas is generated from the adhesive layer 12 and the metal foil 13 is generated. Even if the metal foil 13 is pressurized, the metal foil 13 does not swell, swell, wrinkle, or the like.

次に図3(f)に示すように、レジスト24およびキャリア層23を吸引盤31を有する吸引装置30を用いてメタル箔13から剥離する。この場合、キャリア層23はメタル箔13から界面13aを介して容易に剥離することができる。またメタル箔13のパターン13Pは島状の孤立領域を形成するものではないため、レジスト24およびキャリア層23を一回でメタル箔13から剥離することができる。このようにしてエッチング処理により除去された部位25からメタル箔13のパターン13Pを形成することができる。
このとき、メタル箔13のパターン13P部分には、接着層12が露出している。また本実施の形態では、メタル箔13の表面の最大高さRmaxが100nm以下となる。ここで、本実施の形態では、接着層12の表面の最大高さRmaxが100nm以下となるように接着層12が設けられることで、その表面に設けられるメタル箔13の表面の最大高さRmaxを容易に100nm以下とすることができる。
Next, as shown in FIG. 3 (f), the resist 24 and the carrier layer 23 are peeled from the metal foil 13 using a suction device 30 having a suction plate 31. In this case, the carrier layer 23 can be easily peeled off from the metal foil 13 via the interface 13a. Further, since the pattern 13P of the metal foil 13 does not form an island-shaped isolated region, the resist 24 and the carrier layer 23 can be peeled off from the metal foil 13 at one time. The pattern 13P of the metal foil 13 can be formed from the portion 25 removed by the etching process in this way.
At this time, the adhesive layer 12 is exposed on the pattern 13P portion of the metal foil 13. Further, in the present embodiment, the maximum height Rmax of the surface of the metal foil 13 is 100 nm or less. Here, in the present embodiment, the adhesive layer 12 is provided so that the maximum height Rmax of the surface of the adhesive layer 12 is 100 nm or less, so that the maximum height Rmax of the surface of the metal foil 13 provided on the surface thereof is Rmax. Can be easily set to 100 nm or less.

次にメタル箔13上および接着層12上に酸化防止膜18が設けられる(図3(g))。これにより、本実施の形態では、電波送受信用基板20が製造される。 Next, the antioxidant film 18 is provided on the metal foil 13 and the adhesive layer 12 (FIG. 3 (g)). As a result, in the present embodiment, the radio wave transmission / reception substrate 20 is manufactured.

その後、酸化防止膜18上に屈折層14が設けられ、屈折層14上にガラス基板15が設けられる。 After that, the refraction layer 14 is provided on the antioxidant film 18, and the glass substrate 15 is provided on the refraction layer 14.

次に、ガラス基板11の裏面に導波層16が設けられ、このようにして図1に示すアンテナ基板10が得られる。 Next, the waveguide layer 16 is provided on the back surface of the glass substrate 11, and the antenna substrate 10 shown in FIG. 1 is obtained in this way.

以上のように、本実施の形態に係る電波送受信用基板20は、ガラス基板11と、ガラス基板11に対して接着層12を介して接着されたパターン13Pを含むメタル箔13と、を備える。この電波送受信用基板20は、ガラス基板11上に接着層12を設け、接着層12を介してメタル箔13をガラス基板11に対して接着し、ガラス基板11上のメタル箔13の所望部位25を除去することにより、メタル箔13にパターン13Pを形成し、そしてパターン13Pを含むメタル箔13によって電波を送受信するための電波送受信層を形成することで、製造されている。このようにパターン13Pを含むメタル箔13が接着層12を介してガラス基板11に接着されているため、ガラス基板11に対してスパッタリング、蒸着または電解、無電解メッキによってメタル箔13が形成される場合に比較して、メタル箔13をガラス基板11に容易に設けることができ、その設置工程にかかる時間も短縮される。そのため、コスト低減を図ることができる。 As described above, the radio wave transmission / reception substrate 20 according to the present embodiment includes the glass substrate 11 and the metal foil 13 including the pattern 13P adhered to the glass substrate 11 via the adhesive layer 12. In the radio wave transmission / reception substrate 20, an adhesive layer 12 is provided on the glass substrate 11, the metal foil 13 is adhered to the glass substrate 11 via the adhesive layer 12, and a desired portion 25 of the metal foil 13 on the glass substrate 11 is attached. Is produced by forming a pattern 13P on the metal foil 13 and forming a radio wave transmission / reception layer for transmitting / receiving radio waves by the metal foil 13 including the pattern 13P. Since the metal foil 13 including the pattern 13P is adhered to the glass substrate 11 via the adhesive layer 12 in this way, the metal foil 13 is formed on the glass substrate 11 by sputtering, vapor deposition or electrolysis, or electroless plating. Compared with the case, the metal foil 13 can be easily provided on the glass substrate 11, and the time required for the installation process is also shortened. Therefore, the cost can be reduced.

また、接着層12が、ガラス基板11上に塗布された塗膜であるため、その表面を平滑にし易くなる。その結果、メタル箔13の表面も平滑にし易くなり、電波を送受信する際の安定性を確保し易くなる。とりわけ、本実施の形態では、接着層12が、スピンコーターによって塗布されており、接着層12の表面の最大高さRmaxが100nm以下となっている。これにより、接着層12上のメタル箔13の表面の最大高さRmaxも容易に100nm以下にすることができ、電波を送受信する際の安定性を十分に確保されている。 Further, since the adhesive layer 12 is a coating film applied on the glass substrate 11, the surface thereof can be easily smoothed. As a result, the surface of the metal foil 13 can be easily smoothed, and stability when transmitting and receiving radio waves can be easily ensured. In particular, in the present embodiment, the adhesive layer 12 is coated by a spin coater, and the maximum height Rmax of the surface of the adhesive layer 12 is 100 nm or less. As a result, the maximum height Rmax of the surface of the metal foil 13 on the adhesive layer 12 can be easily set to 100 nm or less, and the stability when transmitting and receiving radio waves is sufficiently ensured.

以上、実施の形態を説明したが、本実施の形態には、種々の変更を加えることができる。例えば、上述の実施の形態では、多層メタル箔13Aに対してエッチング処理を施して所望部位25を除去したが、多層メタル箔13Aに対してパンチング加工を施して所望部位25を除去してもよい。また、多層メタル箔13Aに対してレーザー加工を施すことにより、多層メタル箔13Aの所望部位25を除去してもよい。また、上述の実施の形態では、キャリア層23およびメタル箔13を有する多層メタル箔13Aが用いられているが、メタル箔13のみをガラス基板11に積層して、このメタル箔13において所望部位25を除去することで、パターン13Pを形成してもよい。 Although the embodiment has been described above, various changes can be made to the present embodiment. For example, in the above-described embodiment, the multilayer metal foil 13A is etched to remove the desired portion 25, but the multilayer metal foil 13A may be punched to remove the desired portion 25. .. Further, the desired portion 25 of the multilayer metal foil 13A may be removed by performing laser processing on the multilayer metal foil 13A. Further, in the above-described embodiment, the multilayer metal foil 13A having the carrier layer 23 and the metal foil 13 is used, but only the metal foil 13 is laminated on the glass substrate 11, and the desired portion 25 in the metal foil 13 is used. The pattern 13P may be formed by removing the above.

10…アンテナ基板
10A…積層基板
11…ガラス基板
12…接着層
13…メタル箔
13a…界面
13A…多層メタル箔
13P…パターン
14…屈折層
15…ガラス基板
16…導波層
20…電波送受信用基板
23…キャリア層
24…レジスト
25…所望部位
10 ... Antenna substrate 10A ... Laminated substrate 11 ... Glass substrate 12 ... Adhesive layer 13 ... Metal foil 13a ... Interface 13A ... Multilayer metal foil 13P ... Pattern 14 ... Refractive layer 15 ... Glass substrate 16 ... waveguide layer 20 ... Radio wave transmission / reception substrate 23 ... Carrier layer 24 ... Resist 25 ... Desired part

Claims (4)

基板と、この基板上に設けられたパターンを含む電波送受信層とを有する電波送受信用基板の製造方法において、
前記基板上に接着層を設ける工程と、
前記接着層を介してメタル箔を前記基板に対して接着する工程と、
前記基板上の前記メタル箔の所望部位を除去することにより、前記メタル箔にパターンを形成し、パターンを含む前記メタル箔によって前記電波送受信層を形成する工程と、を備え
前記接着層が、前記基板上に塗布された塗膜であり、
前記接着層は、その表面の最大高さRmaxが、100nm以下となるように塗布される、電波送受信用基板の製造方法。
In a method for manufacturing a radio wave transmission / reception board having a substrate and a radio wave transmission / reception layer including a pattern provided on the substrate.
The process of providing an adhesive layer on the substrate and
The step of adhering the metal foil to the substrate via the adhesive layer and
A step of forming a pattern on the metal foil by removing a desired portion of the metal foil on the substrate and forming the radio wave transmission / reception layer with the metal foil containing the pattern is provided .
The adhesive layer is a coating film applied on the substrate.
A method for manufacturing a substrate for transmitting and receiving radio waves , wherein the adhesive layer is applied so that the maximum height Rmax of the surface thereof is 100 nm or less .
前記接着層は、スピンコーターまたはダイコーターによって塗布される、請求項に記載の電波送受信用基板の製造方法。 The method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate according to claim 1 , wherein the adhesive layer is applied by a spin coater or a die coater. 前記メタル箔の表面の最大高さRmaxが、100nm以下である、請求項に記載の電波送受信用基板の製造方法。 The method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate according to claim 1 , wherein the maximum height Rmax of the surface of the metal foil is 100 nm or less. 前記メタル箔は、金、銀、銅、ニッケル、又はチタンである、請求項乃至のいずれかに記載の電波送受信用基板の製造方法。 The method for manufacturing a radio wave transmission / reception substrate according to any one of claims 1 to 3 , wherein the metal foil is gold, silver, copper, nickel, or titanium.
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