JP6785538B2 - Polyorganosylsesquioxane, curable compositions, adhesive sheets, laminates and equipment - Google Patents

Polyorganosylsesquioxane, curable compositions, adhesive sheets, laminates and equipment Download PDF

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Description

本発明は、ポリオルガノシルセスキオキサン、硬化性組成物、前記硬化性組成物を用いて形成された接着剤層を有する接着シート、前記硬化性組成物の硬化物、および前記硬化性組成物を用いて被接着物を接着して得られる積層物、装置に関する。 The present invention comprises a polyorganosylsesquioxane, a curable composition, an adhesive sheet having an adhesive layer formed using the curable composition, a cured product of the curable composition, and the curable composition. The present invention relates to a laminate and an apparatus obtained by adhering an object to be adhered using.

半導体の積層や電子部品の接着に用いられる接着剤としては、ベンゾシクロブテン(BCB)、ノボラック系エポキシ樹脂、又はポリオルガノシルセスキオキサンを含有する硬化型接着剤が知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。 As an adhesive used for laminating semiconductors and adhering electronic components, a curable adhesive containing benzocyclobutene (BCB), a novolak epoxy resin, or polyorganosylsesquioxane is known (for example,). See Patent Documents 1 and 2).

しかし、BCBを含有する熱硬化型接着剤を硬化させるためには200〜350℃程度の高温で加熱することが必要であり、前記高温に曝されることで被接着物がダメージを受ける可能性があった。また、ノボラック系エポキシ樹脂を含有する熱硬化型接着剤は、鉛フリー半田リフローなどの高温プロセス(例えば、260〜280℃)に付した際に接着剤が分解して、接着性が低下する問題があった。 However, in order to cure the thermosetting adhesive containing BCB, it is necessary to heat it at a high temperature of about 200 to 350 ° C., and the adherend may be damaged by being exposed to the high temperature. was there. Further, the thermosetting adhesive containing a novolac epoxy resin has a problem that the adhesive decomposes when it is applied to a high temperature process (for example, 260 to 280 ° C.) such as lead-free solder reflow, and the adhesiveness deteriorates. was there.

一方、ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤は、BCBを含有する熱硬化型接着剤に比べて低温で硬化させることができ、基板に対して接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる。また、高温プロセスに付した際にも接着性を維持することができる。しかし、ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤の硬化物は、熱衝撃によりクラックが発生し易いことが問題であった。 On the other hand, the thermosetting adhesive containing polyorganosylsesquioxane can be cured at a lower temperature than the thermosetting adhesive containing BCB, and has excellent adhesiveness and adhesion to the substrate. A cured product can be formed. In addition, the adhesiveness can be maintained even when subjected to a high temperature process. However, the cured product of the thermosetting adhesive containing polyorganosylsesquioxane has a problem that cracks are likely to occur due to thermal shock.

特開2010−226060号公報JP-A-2010-226060 特開2014−101496号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-101496

従って、本発明の目的は、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性(若しくは耐熱衝撃性)、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができるポリオルガノシルセスキオキサンを提供することにある。
本発明の他の目的は、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性(若しくは耐熱衝撃性)、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる硬化性組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化性組成物の硬化物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化性組成物を用いて形成された接着剤層を有する接着シートを提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化性組成物で被接着体を接着して得られる積層物、及び該積層物を有する装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is a polyorganosyl that can be cured at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance (or heat impact resistance), adhesiveness to an object to be adhered, and adhesion. To provide sesquioxane.
Another object of the present invention is a curable composition capable of curing at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance (or heat impact resistance), adhesiveness to an object to be adhered, and adhesion. It is to provide things.
Another object of the present invention is to provide a cured product of the curable composition.
Another object of the present invention is to provide an adhesive sheet having an adhesive layer formed by using the curable composition.
Another object of the present invention is to provide a laminate obtained by adhering an object to be adhered with the curable composition, and an apparatus having the laminate.

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、重合性官能基を含むシルセスキオキサン構成単位(単位構造)及び非重合性官能基を含むシルセスキオキサン構成単位(単位構造)を有し、特定の構造の割合(T3体とT2体の割合)が特定範囲に制御され、かつ数平均分子量及び分子量分散度が特定範囲に制御されたポリオルガノシルセスキオキサンによると、該ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物が、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができ、半導体の積層や電子部品等の接着剤として優れた特性を有することを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have conducted a silsesquioxane structural unit (unit structure) containing a polymerizable functional group and a silsesquioxane structural unit (unit structure) containing a non-polymerizable functional group. According to polyorganosylsesquioxane, which has a specific structure ratio (ratio of T3 body and T2 body) controlled to a specific range, and a number average molecular weight and a molecular weight dispersion degree controlled to a specific range. A curable composition containing polyorganosylsesquioxane can be cured at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance, adhesiveness to an adherend, and adhesion to a semiconductor. It has been found that it has excellent properties as an adhesive for lamination and electronic parts. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、下記式(1) That is, the present invention has the following equation (1).

Figure 0006785538
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[式(1)中、R1は、重合性官能基を含有する基を示す。]
で表される構成単位、及び下記式(2)
[In formula (1), R 1 represents a group containing a polymerizable functional group. ]
The structural unit represented by and the following formula (2)

Figure 0006785538
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[式(2)中、R2は、非重合性官能基を含有する基を示す。]
で表される構成単位を有し、下記式(I)
[In formula (2), R 2 represents a group containing a non-polymerizable functional group. ]
It has a structural unit represented by the following formula (I).

Figure 0006785538
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[式(I)中、Raは、重合性官能基を含有する基、非重合性官能基を含有する基、又は水素原子を示す。]
で表される構成単位と、下記式(II)
[In the formula (I), Ra represents a group containing a polymerizable functional group, a group containing a non-polymerizable functional group, or a hydrogen atom. ]
The structural unit represented by and the following formula (II)

Figure 0006785538
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[式(II)中、Rbは、重合性官能基を含有する基、非重合性官能基を含有する基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.3であるポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。
[In formula (II), R b represents a group containing a polymerizable functional group, a group containing a non-polymerizable functional group, or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
The molar ratio of the structural units represented by (I) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion degree ( Provided are polyorganosylsesquioxane having a weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.0 to 3.3.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおいて、非重合性官能基は、置換若しくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基を少なくとも含んでいてもよい。 In the polyorganosylsesquioxane, the non-polymerizable functional group may contain at least a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおいて、シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する前記式(2)で表される構成単位及び下記式(5) In the polyorganosylsesquioxane, the structural unit represented by the above formula (2) and the following formula (5) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.

Figure 0006785538
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[式(5)中、R2は、前記式(2)におけるものと同じ。Rcは、前記式(II)におけるものと同じ。]
で表される構成単位の割合は、好ましくは5モル%以上であってもよい。
[In the formula (5), R 2 is the same as that in the formula (2). R c is the same as that in the above formula (II). ]
The ratio of the structural unit represented by is preferably 5 mol% or more.

前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおいて、重合性官能基は、エポキシ基を少なくとも含んでいてもよい。
また、前記ポリオルガノシルセスキオキサンにおいて、上記R1は、好ましくは、下記式(1a)
In the polyorganosylsesquioxane, the polymerizable functional group may contain at least an epoxy group.
Further, in the polyorganosylsesquioxane, the above R 1 is preferably represented by the following formula (1a).

Figure 0006785538
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[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
[In formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
The group represented by, the following formula (1b)

Figure 0006785538
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[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
The group represented by the following formula (1c)

Figure 0006785538
Figure 0006785538

[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、及び、下記式(1d)
[In formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
The group represented by and the following formula (1d)

Figure 0006785538
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[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基からなる群から選ばれる少なくとも一種であってもよい。
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
It may be at least one selected from the group consisting of the groups represented by.

また、本発明は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物を提供する。
前記硬化性組成物は、さらに、重合開始剤を含んでいてもよい。
前記硬化性組成物は、さらに、重合安定剤を含んでいてもよい。
前記硬化性組成物は、さらに、シランカップリング剤を含んでいてもよい。
前記硬化性組成物は、接着剤用組成物であってもよい。
The present invention also provides a curable composition containing the polyorganosylsesquioxane.
The curable composition may further contain a polymerization initiator.
The curable composition may further contain a polymerization stabilizer.
The curable composition may further contain a silane coupling agent.
The curable composition may be an adhesive composition.

また、本発明は、前記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物を提供する。
また、本発明は、基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、
前記接着剤層が、前記硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シートを提供する。
また、本発明は、3層以上で構成される積層物であって、
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、前記硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物を提供する。
さらに、本発明は、前記積層物を有する装置を提供する。
The present invention also provides a cured product obtained by curing the curable composition.
Further, the present invention is an adhesive sheet having a base material and an adhesive layer on the base material.
Provided is an adhesive sheet characterized in that the adhesive layer is a layer of the curable composition.
Further, the present invention is a laminate composed of three or more layers.
It has two layers to be adhered and an adhesive layer between the layers to be adhered.
Provided is a laminate characterized in that the adhesive layer is a layer of a cured product of the curable composition.
Furthermore, the present invention provides an apparatus having the laminate.

積層物中の接着層にクラックや剥離が生じると、被接着層が剥離したり、配線が破壊される原因となり、結果として積層物を備えた装置の故障の原因となるが、本発明の硬化物は耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れるため、接着層にクラックや剥離が生じることを防止することができ、装置の信頼性を向上することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。 If the adhesive layer in the laminate is cracked or peeled, the layer to be adhered may be peeled off or the wiring may be broken, resulting in a failure of the device provided with the laminate. Since the object is excellent in heat resistance, crack resistance, adhesiveness to the adherend, and adhesion, it is possible to prevent cracks and peeling from occurring in the adhesive layer, and it is possible to improve the reliability of the apparatus. When the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it has higher integration and power saving than the conventional semiconductor. Therefore, if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. Electronic devices can be provided.

硬化物の耐熱性の評価方法を示す説明図(熱重量分析結果の模式図)である。It is explanatory drawing (schematic diagram of the thermogravimetric analysis result) which shows the evaluation method of the heat resistance of a cured product.

[ポリオルガノシルセスキオキサン]
ポリオルガノシルセスキオキサンは、下記式(1)で表される構成単位及び下記式(2)で表される構成単位を有し;下記式(I)で表される構成単位(「T3体」と称する場合がある)と、下記式(II)で表される構成単位(「T2体」と称する場合がある)のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位;「T3体/T2体」と記載する場合がある]が5以上であり;数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度[重量平均分子量/数平均分子量]が1.0〜3.3であることを特徴とする。
[Polyorganosylsesquioxane]
The polyorganosylsesquioxane has a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2); a structural unit represented by the following formula (I) (“T3 body”). ”) And the molar ratio of the structural unit represented by the following formula (II) (sometimes referred to as“ T2 body ”) [constituent unit represented by formula (I) / formula (II) The structural unit represented by; [may be described as "T3 / T2"] is 5 or more; the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion [weight average molecular weight / number average molecular weight] is 1. It is characterized by being 0 to 3.3.

Figure 0006785538
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上記式(1)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(いわゆるT単位)である。なお、上記式中のRは、水素原子又は一価の有機基を示し、以下においても同じである。上記式(1)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(a)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (1) is a silsesquioxane structural unit (so-called T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. In addition, R in the above formula indicates a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the same applies to the following. The structural unit represented by the above formula (1) is formed by a hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, the compound represented by the formula (a) described later). Will be done.

式(1)中のR1は、重合性官能基を含有する基(一価の基)を示す。即ち、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、分子内に重合性官能基を少なくとも有する硬化性化合物(好ましくは、カチオン重合性化合物)である。 R 1 in the formula (1) represents a group (monovalent group) containing a polymerizable functional group. That is, the polyorganosylsesquioxane of the present invention is a curable compound (preferably a cationically polymerizable compound) having at least a polymerizable functional group in the molecule.

上記重合性官能基を含有する基における「重合性官能基」としては、重合性を有するものである限り特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、ビニルフェニル基等が挙げられる。
重合性官能基としては、硬化物の耐クラック性向上の観点から、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、ビニルフェニル基等が好ましく、エポキシ基がより好ましい。
The "polymerizable functional group" in the group containing the polymerizable functional group is not particularly limited as long as it has polymerizable properties, and examples thereof include an epoxy group, an oxetane group, a vinyl ether group, and a vinyl phenyl group. ..
As the polymerizable functional group, an epoxy group, an oxetane group, a vinyl ether group, a vinylphenyl group and the like are preferable, and an epoxy group is more preferable, from the viewpoint of improving the crack resistance of the cured product.

上記エポキシ基を含有する基としては、オキシラン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化性、硬化物の耐熱性の観点で、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、下記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは下記式(1a)で表される基、下記式(1c)で表される基、さらに好ましくは下記式(1a)で表される基である。 Examples of the group containing an epoxy group include known and commonly used groups having an oxylane ring, which are not particularly limited, but from the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, the following formula (1a) The group represented by the following formula (1b), the group represented by the following formula (1c), and the group represented by the following formula (1d) are preferable, and more preferably the following formula (1a). A group represented by the following formula (1c), more preferably a group represented by the following formula (1a).

Figure 0006785538
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上記式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。中でも、R1aとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. Examples of the linear or branched alkylene group include methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, decamethylene group and the like. Examples thereof include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Among them, as R 1a , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable, and more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. It is a trimethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group or a trimethylene group.

上記式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1bとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group, and a group similar to R 1a is exemplified. Among them, R 1b is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. It is a trimethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group or a trimethylene group.

上記式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1cとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group, and a group similar to R 1a is exemplified. Among them, R 1c is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. It is a trimethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group or a trimethylene group.

上記式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1dとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group, and a group similar to R 1a is exemplified. Among them, as R 1d , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable, and more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. It is a trimethylene group or a propylene group, more preferably an ethylene group or a trimethylene group.

エポキシ基を含有する基としては、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。 Examples of the group containing an epoxy group include a group represented by the above formula (1a) in which R 1a is an ethylene group [among others, a 2- (3', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl group. ] Is preferable.

上記オキセタン基を含有する基としては、オキセタン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、例えば、オキセタン基そのもの、アルキル基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)の水素原子(通常1つ以上、好ましくは1つの水素原子)をオキセタン基で置換してなる基が挙げられる。硬化性組成物の硬化性、硬化物の耐熱性の観点で、3−オキセタニル基、オキセタン−3−イルメチル基、2−(オキセタン−3−イル)エチル基等が好ましい。 Examples of the group containing an oxetane group include known and commonly used groups having an oxetane ring, and are not particularly limited. For example, the oxetane group itself and an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably carbon atoms). Examples thereof include a group formed by substituting a hydrogen atom (usually one or more, preferably one hydrogen atom) of (1 to 5 alkyl groups) with an oxetane group. From the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, a 3-oxetanyl group, an oxetane-3-ylmethyl group, a 2- (oxetane-3-yl) ethyl group and the like are preferable.

上記ビニルエーテル基を含有する基としては、ビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、例えば、ビニルエーテル基そのもの、アルキル基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)の水素原子(通常1つ以上、好ましくは1つの水素原子)をビニルエーテル基で置換してなる基が挙げられる。硬化性組成物の硬化性、硬化物の耐熱性の観点で、ビニルオキシメチル基、2−(ビニルオキシ)エチル基等が好ましい。 Examples of the group containing a vinyl ether group include known and commonly used groups having a vinyl ether group, and are not particularly limited. For example, the vinyl ether group itself and an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably carbon atoms). Examples thereof include a group formed by substituting a hydrogen atom (usually one or more, preferably one hydrogen atom) of (1 to 5 alkyl groups) with a vinyl ether group. From the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, a vinyloxymethyl group, a 2- (vinyloxy) ethyl group and the like are preferable.

上記ビニルフェニル基を含有する基としては、ビニルフェニル基を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、例えば、ビニルフェニル基そのもの、アルキル基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜5のアルキル基)の水素原子(通常1つ以上、好ましくは1つの水素原子)をビニルフェニル基で置換してなる基が挙げられる。硬化性組成物の硬化性、硬化物の耐熱性の観点で、4−ビニルフェニル基、3−ビニルフェニル基、2−ビニルフェニル基等が好ましい。 Examples of the group containing a vinylphenyl group include known and commonly used groups having a vinylphenyl group, and are not particularly limited. For example, the vinylphenyl group itself and an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably). Is a group formed by substituting a hydrogen atom (usually one or more, preferably one hydrogen atom) of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms with a vinylphenyl group. From the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, a 4-vinylphenyl group, a 3-vinylphenyl group, a 2-vinylphenyl group and the like are preferable.

式(1)中のR1としては、エポキシ基を含有する基が好ましく、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。 As R 1 in the formula (1), a group containing an epoxy group is preferable, and in particular, a group represented by the above formula (1a) in which R 1a is an ethylene group [among others, 2- ( 3', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl group] is preferable.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位を1種のみ有するものであってもよいし、上記式(1)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。 The polyorganosylsesquioxane of the present invention may have only one type of structural unit represented by the above formula (1), or may have two or more types of structural units represented by the above formula (1). It may have.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、シルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]として、上記式(1)で表される構成単位以外に、下記式(2)で表される構成単位を有することを特徴とする。 The polyorganosilsesquioxane of the present invention has a structural unit represented by the following formula (2) in addition to the structural unit represented by the above formula (1) as a structural unit [RSiO 3/2 ]. It is characterized by having.

Figure 0006785538
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上記式(2)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(T単位)である。即ち、上記式(2)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(b)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (2) is a silsesquioxane structural unit (T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. That is, the structural unit represented by the above formula (2) is the hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, the compound represented by the formula (b) described later). Is formed by.

上記式(2)中のR2は、非重合性官能基を含有する基(一価の基)を示す。
上記非重合性官能基を含有する基としては、重合性を示さないものである限り特に限定されず、例えば、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられる。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。上記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコサニル基、ヘンイコサニル基、ドコサニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、好ましくは直鎖又は分岐鎖状の炭素数1〜20のアルキル基である。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。
R 2 in the above formula (2) represents a group (monovalent group) containing a non-polymerizable functional group.
The group containing the non-polymerizable functional group is not particularly limited as long as it does not exhibit polymerizable properties, and is, for example, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted group. Cycloalkyl groups, substituted or unsubstituted alkyl groups, or substituted or unsubstituted alkenyl groups can be mentioned. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group and the like. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and the like. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an s-butyl group, a t-butyl group, an isopentyl group, a hexyl group, a heptyl group and an octyl group. A linear or branched chain such as a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, an octadecyl group, a nonadecil group, an icosanyl group, a henicosanyl group, or a docosanyl group. An alkyl group is mentioned, and a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. Examples of the alkenyl group include a linear or branched alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group.

上述の置換アリール基、置換アラルキル基、置換シクロアルキル基、置換アルキル基、置換アルケニル基としては、上述のアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基のそれぞれにおける水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基が挙げられる。 Examples of the above-mentioned substituted aryl group, substituted aralkyl group, substituted cycloalkyl group, substituted alkyl group, and substituted alkenyl group include hydrogen atoms or main ribs in each of the above-mentioned aryl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkyl group and alkenyl group. Part or all of the case consists of a group consisting of an ether group, an ester group, a carbonyl group, a siloxane group, a halogen atom (fluorine atom, etc.), an acrylic group, a methacryl group, a mercapto group, an amino group, and a hydroxy group (hydroxyl group). Examples include groups substituted with at least one selected.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(2)で表される構成単位を1種のみ有するものであってもよいし、上記式(2)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。 The polyorganosylsesquioxane of the present invention may have only one structural unit represented by the above formula (2), or may have two or more structural units represented by the above formula (2). It may have.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上述の各シルセスキオキサン構成単位(式(1)で表される構成単位、式(2)で表される構成単位)の割合は、これらの構成単位を形成するための原料(加水分解性三官能シラン)の組成により適宜調整することが可能である。 The ratio of each of the above-mentioned silsesquioxane structural units (the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2)) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention is these structural units. It is possible to appropriately adjust the composition of the raw material (hydrolyzable trifunctional silane) for forming the above.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外にも、さらに、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]、[R3SiO1/2]で表される構成単位(いわゆるM単位)、[R2SiO2/2]で表される構成単位(いわゆるD単位)、及び[SiO4/2]で表される構成単位(いわゆるQ単位)からなる群より選択される少なくとも1種のシロキサン構成単位を有していてもよい。なお、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位としては、例えば、下記式(3)で表される構成単位等が挙げられる。 The polyorganosylsesquioxane of the present invention is a structural unit represented by the above formula (1) and a structural unit represented by the above formula (1) in addition to the structural unit represented by the above formula (2). And the silsesquioxane structural unit [RSiO 3/2 ] other than the structural unit represented by the formula (2), the structural unit represented by [R 3 SiO 1/2 ] (so-called M unit), [R 2 SiO It has at least one siloxane structural unit selected from the group consisting of the structural unit represented by [ 2/2 ] (so-called D unit) and the structural unit represented by [SiO 4/2 ] (so-called Q unit). You may be doing it. As the silsesquioxane structural unit other than the structural unit represented by the above formula (1) and the structural unit represented by the formula (2), for example, the structural unit represented by the following formula (3) and the like are used. Can be mentioned.

Figure 0006785538
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本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記式(I)で表される構成単位(T3体)と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)の割合[T3体/T2体]は、上述のように5以上であり、好ましくは5〜18、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは7〜14である。上記割合[T3体/T2体]を5以上とすることにより、硬化物の接着性が著しく向上する。 The ratio of the structural unit (T3 body) represented by the above formula (I) to the structural unit (T2 body) represented by the above formula (II) in the polyorganosylsesquioxane of the present invention [T3 body / T2 body] ] Is 5 or more as described above, preferably 5 to 18, more preferably 6 to 16, and even more preferably 7 to 14. By setting the above ratio [T3 body / T2 body] to 5 or more, the adhesiveness of the cured product is remarkably improved.

なお、上記式(I)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(I’)で表される。また、上記式(II)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(II’)で表される。下記式(I’)で表される構造中に示されるケイ素原子に結合した3つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(I’)に示されていないケイ素原子)と結合している。一方、下記式(II’)で表される構造中に示されるケイ素原子の上と下に位置する2つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(II’)に示されていないケイ素原子)に結合している。即ち、上記T3体及びT2体は、いずれも対応する加水分解性三官能シラン化合物の加水分解及び縮合反応により形成される構成単位(T単位)である。 If the structural unit represented by the above formula (I) is described in more detail, it is represented by the following formula (I'). Further, if the structural unit represented by the above formula (II) is described in more detail, it is represented by the following formula (II'). Each of the three oxygen atoms bonded to the silicon atom represented in the structure represented by the following formula (I') is bonded to another silicon atom (silicon atom not represented by the formula (I')). .. On the other hand, the two oxygen atoms located above and below the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (II') become other silicon atoms (silicon atoms not shown in the formula (II')). It is combined. That is, both the T3 body and the T2 body are structural units (T units) formed by the hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compounds.

Figure 0006785538
Figure 0006785538
Figure 0006785538
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上記式(I)中のRa(式(I’)中のRaも同じ)及び式(II)中のRb(式(II’)中のRbも同じ)は、それぞれ、重合性官能基を含有する基、非重合性官能基を含有する基、又は水素原子を示す。Ra及びRbの具体例としては、上記式(1)におけるR1、上記式(2)におけるR2と同様のものが例示される。なお、式(I)中のRa及び式(II)中のRbは、それぞれ、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性三官能シラン化合物におけるケイ素原子に結合した基(アルコキシ基及びハロゲン原子以外の基;例えば、後述の式(a)〜(c)におけるR1、R2、水素原子等)に由来する。 R a in the above formula (I) (formula (I ') in the R a same) and formula (II) in the R b (wherein (II') in the R b versa), respectively, polymerizable Indicates a group containing a functional group, a group containing a non-polymerizable functional group, or a hydrogen atom. Specific examples of R a and R b include those similar to R 1 in the above formula (1) and R 2 in the above formula (2). R a in the formula (I) and R b in the formula (II) were each bonded to a silicon atom in the hydrolyzable trifunctional silane compound used as a raw material for the polyorganosylsesquioxane of the present invention. It is derived from a group (a group other than an alkoxy group and a halogen atom; for example, R 1 , R 2 , hydrogen atom in the formulas (a) to (c) described later).

上記式(II)中のRc(式(II’)中のRcも同じ)は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等の炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。式(II)中のRcにおけるアルキル基は、一般的には、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性シラン化合物におけるアルコキシ基(例えば、後述のX1〜X3としてのアルコキシ基等)を形成するアルキル基に由来する。 R c in the formula (II) (Formula (II ') in the R c versa) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and an isobutyl group. .. The alkyl group in Rc in formula (II) is generally an alkoxy group in the hydrolyzable silane compound used as a raw material for the polyorganosylsesquioxane of the present invention (for example, X 1 to X 3 described later). It is derived from an alkyl group that forms (such as an alkoxy group).

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]は、例えば、29Si−NMRスペクトル測定により求めることができる。29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位(T3体)におけるケイ素原子と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)におけるケイ素原子とは、異なる位置(化学シフト)にシグナル(ピーク)を示すため、これらそれぞれのピークの積分比を算出することにより、上記割合[T3体/T2体]が求められる。具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、上記式(1)で表され、R1が2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基である構成単位を有する場合には、上記式(I)で表される構造(T3体)におけるケイ素原子のシグナルは−64〜−70ppmに現れ、上記式(II)で表される構造(T2体)におけるケイ素原子のシグナルは−54〜−60ppmに現れる。従って、この場合、−64〜−70ppmのシグナル(T3体)と−54〜−60ppmのシグナル(T2体)の積分比を算出することによって、上記割合[T3体/T2体]を求めることができる。 The above ratio [T3 / T2] in the polyorganosylsesquioxane of the present invention can be determined by, for example, 29 Si-NMR spectrum measurement. 29 In the Si-NMR spectrum, the silicon atom in the structural unit (T3 body) represented by the above formula (I) and the silicon atom in the structural unit (T2 body) represented by the above formula (II) are at different positions. Since a signal (peak) is shown in (chemical shift), the above ratio [T3 / T2] can be obtained by calculating the integration ratio of each of these peaks. Specifically, for example, the polyorganosylsesquioxane of the present invention has a structural unit represented by the above formula (1) and R 1 is a 2- (3', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl group. In this case, the signal of the silicon atom in the structure (T3 body) represented by the above formula (I) appears at -64 to -70 ppm, and the signal of the silicon atom in the structure (T2 body) represented by the above formula (II) appears. The signal appears at -54-60 ppm. Therefore, in this case, the above ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integral ratio of the signal (T3 body) of -64 to -70 ppm and the signal (T2 body) of -54 to -60 ppm. it can.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「JNM−ECA500NMR」(日本電子(株)製)
溶媒:重クロロホルム
積算回数:1800回
測定温度:25℃
The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosylsesquioxane of the present invention can be measured, for example, by the following devices and conditions.
Measuring device: Product name "JNM-ECA500NMR" (manufactured by JEOL Ltd.)
Solvent: Deuterated chloroform Number of integrations: 1800 Measurement temperature: 25 ° C

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの上記割合[T3体/T2体]が5以上であることは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおいてT3体に対し一定以上のT2体が存在していることを意味する。このようなT2体としては、例えば、下記式(4)で表される構成単位、下記式(5)で表される構成単位、下記式(6)で表される構成単位等が挙げられる。下記式(4)におけるR1及び下記式(5)におけるR2は、それぞれ上記式(1)におけるR1及び上記式(2)におけるR2と同じである。下記式(4)〜(6)におけるRcは、式(II)におけるRcと同じく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。 The fact that the above ratio [T3 body / T2 body] of the polyorganosylsesquioxane of the present invention is 5 or more means that in the polyorganosylsesquioxane of the present invention, there are T2 bodies above a certain level with respect to the T3 body. Means to be. Examples of such a T2 body include a structural unit represented by the following formula (4), a structural unit represented by the following formula (5), a structural unit represented by the following formula (6), and the like. R 2 in R 1 and the following formula (5) in the following equation (4) is the same as R 2 in R 1 and the formula in the formula (1) (2). R c in the following formulas (4) to (6) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, like R c in the formula (II).

Figure 0006785538
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一般に、完全カゴ型シルセスキオキサンは、T3体のみにより構成されたポリオルガノシルセスキオキサンであり、分子中にT2体が存在しない。即ち、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.3であり、さらに後述のようにFT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有する場合の本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、不完全カゴ型シルセスキオキサン構造を有することが示唆される。 In general, the complete cage type silsesquioxane is a polyorganosylsesquioxane composed of only T3 bodies, and the T2 body is not present in the molecule. That is, the above ratio [T3 body / T2 body] is 5 or more, the number average molecular weight is 1000 to 3000, the molecular weight dispersion is 1.0 to 3.3, and further, in the FT-IR spectrum as described later. It is suggested that the polyorganosilsesquioxane of the present invention having one intrinsic absorption peak near 1100 cm -1 has an incomplete cage type silsesquioxane structure.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンがカゴ型(不完全カゴ型)シルセスキオキサン構造を有することは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有せず、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することから確認される[参考文献:R.H.Raney, M.Itoh, A.Sakakibara and T.Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409(1995)]。これに対して、一般に、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有する場合には、ラダー型シルセスキオキサン構造を有すると同定される。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)
測定方法:透過法
分解能:4cm-1
測定波数域:400〜4000cm-1
積算回数:16回
The fact that the polyorganosilsesquioxane of the present invention has a cage-type (incomplete cage-type) silsesquioxane structure means that the polyorganosilsesquioxane of the present invention has a 1050 cm -1 vicinity and 1150 cm in the FT-IR spectrum. respectively in the vicinity of -1 it does not have a specific absorption peak is confirmed by the fact that with a single specific absorption peak in the vicinity of 1100 cm -1 [ref: R. H. Laney, M.R. Itoh, A. Sakakibara and T.M. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409 (1995)]. On the other hand, in general, when the FT-IR spectrum has an intrinsic absorption peak near 1050 cm -1 and 1150 cm -1 , respectively, it is identified as having a ladder-type silsesquioxane structure. The FT-IR spectrum of the polyorganosylsesquioxane of the present invention can be measured by, for example, the following devices and conditions.
Measuring device: Product name "FT-720" (manufactured by HORIBA, Ltd.)
Measurement method: Transmission method Resolution: 4 cm -1
Wavenumber range: 400-4000 cm -1
Accumulation number: 16 times

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの第1の好ましい態様[以下、「ポリオルガノシルセスキオキサン(A)」という。]において、R2は、置換若しくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基である。R2が、置換若しくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基であることにより、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。
ポリオルガノシルセスキオキサン(A)において、「アルキル基」の炭素数は、硬化物の耐クラック性向上の観点から、4〜20個が好ましく、10〜20個がより好ましく、14〜20個がさらに好ましい。
ポリオルガノシルセスキオキサン(A)において、「アルキル基」は、直鎖でも分岐鎖あってもよいが、硬化物の耐クラック性向上の観点から、直鎖が好ましい。
The first preferred embodiment of the polyorganosylsesquioxane of the present invention [hereinafter referred to as "polyorganosylsesquioxane (A)". ], R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Since R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the crack resistance of the cured product obtained by curing the curable composition tends to be improved.
In the polyorganosylsesquioxane (A), the number of carbon atoms of the "alkyl group" is preferably 4 to 20, more preferably 10 to 20, and 14 to 20 from the viewpoint of improving the crack resistance of the cured product. Is even more preferable.
In the polyorganosylsesquioxane (A), the "alkyl group" may be a straight chain or a branched chain, but a straight chain is preferable from the viewpoint of improving the crack resistance of the cured product.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、1〜40モル%が好ましく、より好ましくは3〜30モル%、さらに好ましくは5〜25モル%である。上記割合を1モル%以上とすることにより、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。一方、上記割合を40モル%以下とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける各シロキサン構成単位の割合は、例えば、原料の組成やNMRスペクトル測定等により算出できる。 The above formula (2) with respect to the total amount of siloxane structural units in the polyorganosylsesquioxane (A) of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The ratio (total amount) of the structural unit represented by) and the structural unit represented by the above formula (5) is not particularly limited, but is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 3 to 30 mol%, still more preferably. Is 5 to 25 mol%. By setting the above ratio to 1 mol% or more, the crack resistance of the cured product obtained by curing the curable composition tends to be improved. On the other hand, by setting the above ratio to 40 mol% or less, the ratio of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (4) can be relatively increased, so that the curability is curable. The curability of the composition is improved, and the adhesiveness of the cured product tends to be higher. The ratio of each siloxane structural unit in the polyorganosylsesquioxane of the present invention can be calculated, for example, by measuring the composition of raw materials or NMR spectrum.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(4)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、50〜99モル%が好ましく、より好ましくは65〜97モル%、さらに好ましくは75〜95モル%である。上記割合を50モル%以上とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の接着性が著しく高くなる傾向がある。一方、上記割合を99モル%以下とすることにより、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。 The above formula (1) with respect to the total amount of siloxane structural units in the polyorganosylsesquioxane (A) of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The ratio (total amount) of the structural unit represented by) and the structural unit represented by the above formula (4) is not particularly limited, but is preferably 50 to 99 mol%, more preferably 65 to 97 mol%, still more preferably. Is 75-95 mol%. By setting the above ratio to 50 mol% or more, the curability of the curable composition tends to be improved, and the adhesiveness of the cured product tends to be remarkably increased. On the other hand, when the above ratio is 99 mol% or less, the crack resistance of the cured product obtained by curing the curable composition tends to be improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの第2の好ましい態様[以下、「ポリオルガノシルセスキオキサン(B)」という。]において、シロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、5モル%以上である。上記割合を5モル%以上とすることにより、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。
ポリオルガノシルセスキオキサン(B)において、上記割合の下限は、好ましくは10モル%以上、より好ましくは25%以上である。上記割合の上限は、特に限定されないが、好ましくは60モル%以下、より好ましくは55モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下である。上記割合の上限を60モル%以下とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性が向上し、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。
A second preferred embodiment of the polyorganosylsesquioxane of the present invention [hereinafter referred to as "polyorganosylsesquioxane (B)". ], The structural unit represented by the above formula (2) and the above formula with respect to the total amount of the siloxane structural unit [total siloxane structural unit; total amount of M unit, D unit, T unit, and Q unit] (100 mol%). The ratio (total amount) of the constituent units represented by (5) is 5 mol% or more. By setting the above ratio to 5 mol% or more, the crack resistance of the cured product obtained by curing the curable composition tends to be improved.
In polyorganosylsesquioxane (B), the lower limit of the above ratio is preferably 10 mol% or more, more preferably 25% or more. The upper limit of the above ratio is not particularly limited, but is preferably 60 mol% or less, more preferably 55 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less. By setting the upper limit of the above ratio to 60 mol% or less, the ratio of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (4) can be relatively increased, so that the curability can be increased. The curability of the composition is improved, and the adhesiveness of the cured product tends to be higher.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(B)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(4)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、40〜95モル%が好ましく、より好ましくは45〜90モル%、さらに好ましくは50〜75モル%である。上記割合を40モル%以上とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の接着性が著しく高くなる傾向がある。一方、上記割合を95モル%以下とすることにより、硬化性組成物を硬化させた硬化物の耐クラック性が向上する傾向がある。 The above formula (1) with respect to the total amount of siloxane structural units in the polyorganosylsesquioxane (B) of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The ratio (total amount) of the structural unit represented by) and the structural unit represented by the above formula (4) is not particularly limited, but is preferably 40 to 95 mol%, more preferably 45 to 90 mol%, still more preferably. Is 50-75 mol%. By setting the above ratio to 40 mol% or more, the curability of the curable composition tends to be improved, and the adhesiveness of the cured product tends to be significantly increased. On the other hand, when the above ratio is 95 mol% or less, the crack resistance of the cured product obtained by curing the curable composition tends to be improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(B)において、R2で表される非重合性官能基を含む基としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基がより好ましく、さらに好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、特に好ましくはフェニル基、炭素数1〜4のアルキル基(例、メチル基)である。 In the polyorganosylsesquioxane (B) of the present invention, the group containing the non-polymerizable functional group represented by R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted group. Substituted cycloalkyl groups, substituted or unsubstituted alkyl groups, or substituted or unsubstituted alkenyl groups are preferable, and substituted or unsubstituted aryl groups, substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted alkenyl groups are preferable. More preferably, it is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, particularly preferably a phenyl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group).

本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(ポリオルガノシルセスキオキサン(A)及び(B)を含む。以下、同様)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2)で表される構成単位、上記式(4)で表される構成単位、及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。上記割合を60モル%以上とすることにより、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。 Total amount of siloxane constituent units in the polyorganosylsesquioxane of the present invention (including polyorganosylsesquioxane (A) and (B); the same applies hereinafter) [total siloxane constituent units; M units, D units, T units , And the total amount of Q units] (100 mol%), the structural unit represented by the above formula (1), the structural unit represented by the above formula (2), the structural unit represented by the above formula (4), The ratio (total amount) of the structural units represented by the above formula (5) is not particularly limited, but is preferably 60 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, and further preferably 80 to 100 mol%. is there. By setting the above ratio to 60 mol% or more, the adhesiveness of the cured product tends to be higher.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、上述のように、1000〜3000であり、好ましくは1000〜2800、より好ましくは1100〜2600である。数平均分子量を1000以上とすることにより、硬化物の耐熱性、接着性がより向上する。一方、数平均分子量を3000以下とすることにより、硬化性組成物における他の成分との相溶性が向上し、硬化物の耐熱性がより向上する。 The standard polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) of the polyorganosylsesquioxane of the present invention by gel permeation chromatography is, as described above, 1000 to 3000, preferably 1000 to 2800, and more preferably 1100 to 1100. It is 2600. By setting the number average molecular weight to 1000 or more, the heat resistance and adhesiveness of the cured product are further improved. On the other hand, when the number average molecular weight is 3000 or less, the compatibility with other components in the curable composition is improved, and the heat resistance of the cured product is further improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度(Mw/Mn)は、上述のように、1.0〜3.3であり、好ましくは1.1〜2.0、より好ましくは1.2〜1.9であり、特に好ましくは1.45〜1.8である。分子量分散度を3.3以下とすることにより、硬化物の接着性がより高くなる。一方、分子量分散度を1.0以上(特に1.1以上)とすることにより、液状となりやすく、取り扱い性が向上する傾向がある。 The molecular weight dispersion (Mw / Mn) of the polyorganosylsesquioxane of the present invention in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography is 1.0 to 3.3, preferably 1.1, as described above. It is ~ 2.0, more preferably 1.2 to 1.9, and particularly preferably 1.45 to 1.8. By setting the molecular weight dispersion to 3.3 or less, the adhesiveness of the cured product becomes higher. On the other hand, when the molecular weight dispersity is 1.0 or more (particularly 1.1 or more), it tends to be liquid and the handleability tends to be improved.

なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量、分子量分散度は、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「Alliance HPLCシステム 2695」(Waters製)、「Refractive Index Detector 2414」(Waters製)
カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)
ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)
カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)
溶媒:THF
測定条件:40℃
分子量:標準ポリスチレン換算
The number average molecular weight and molecular weight dispersion of the polyorganosylsesquioxane of the present invention can be measured by the following devices and conditions.
Measuring device: Product name "Alliance HPLC System 2695" (manufactured by Waters), "Refractive Index Detector 2414" (manufactured by Waters)
Column: Tskgel GMH HR- M x 2 (manufactured by Tosoh Corporation)
Guard column: Tskgel guard column H HR L (Tosoh Co., Ltd.)
Column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai)
Solvent: THF
Measurement conditions: 40 ° C
Molecular weight: Standard polystyrene conversion

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの空気雰囲気下における5%重量減少温度(Td5)は、特に限定されないが、330℃以上(例えば、330〜450℃)が好ましく、より好ましくは340℃以上、さらに好ましくは350℃以上である。5%重量減少温度が330℃以上であることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.3であり、FT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有ピークを有するものであることにより、その5%重量減少温度は330℃以上に制御される。なお、5%重量減少温度は、一定の昇温速度で加熱した時に加熱前の重量の5%が減少した時点での温度であり、耐熱性の指標となる。上記5%重量減少温度は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定することができる。 The 5% weight loss temperature (T d5 ) of the polyorganosylsesquioxane of the present invention in an air atmosphere is not particularly limited, but is preferably 330 ° C. or higher (for example, 330 to 450 ° C.), and more preferably 340 ° C. or higher. , More preferably 350 ° C. or higher. When the 5% weight loss temperature is 330 ° C. or higher, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. In particular, the polyorganosylsesquioxane of the present invention has the above ratio [T3 / T2] of 5 or more, a number average molecular weight of 1000 to 3000, and a molecular weight dispersion of 1.0 to 3.3. The 5% weight loss temperature is controlled to 330 ° C. or higher by having one intrinsic peak near 1100 cm -1 in the FT-IR spectrum. The 5% weight loss temperature is the temperature at which 5% of the weight before heating is reduced when heated at a constant heating rate, and is an index of heat resistance. The 5% weight loss temperature can be measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere and a heating rate of 5 ° C./min.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、公知乃至慣用のポリシロキサンの製造方法により製造することができ、特に限定されないが、例えば、1種又は2種以上の加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。但し、上記加水分解性シラン化合物としては、上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(a)で表される化合物)及び上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(b)で表される化合物)を必須の加水分解性シラン化合物として使用する必要がある。 The polyorganosylsesquioxane of the present invention can be produced by a known or conventional method for producing a polysiloxane, and is not particularly limited, but for example, one or more hydrolyzable silane compounds are hydrolyzed and used. It can be produced by a method of condensing. However, the hydrolyzable silane compound includes a hydrolyzable trifunctional silane compound (a compound represented by the following formula (a)) for forming a structural unit represented by the above formula (1) and the above-mentioned above-mentioned hydrolyzable silane compound. It is necessary to use a hydrolyzable trifunctional silane compound (compound represented by the following formula (b)) for forming the structural unit represented by the formula (1) as an essential hydrolyzable silane compound.

より具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシルセスキオキサン構成単位(T単位)を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(a)で表される化合物、下記式(b)で表される化合物、必要に応じてさらに、下記式(c)で表される化合物を、加水分解及び縮合させる方法により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを製造できる。 More specifically, for example, a compound represented by the following formula (a), which is a hydrolyzable silane compound for forming a silsesquioxane structural unit (T unit) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention. The polyorganosylsesquioxane of the present invention can be produced by a method of hydrolyzing and condensing a compound represented by the following formula (b) and, if necessary, a compound represented by the following formula (c). ..

Figure 0006785538
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上記式(a)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(1)で表される構成単位を形成する化合物である。式(a)中のR1は、上記式(1)におけるR1と同じく、重合性官能基を含有する基を示す。即ち、式(a)中のR1としては、エポキシ基を含有する基が好ましく、上記式(1a)で表される基、上記式(1b)で表される基、上記式(1c)で表される基、上記式(1d)で表される基がより好ましく、さらに好ましくは上記式(1a)で表される基、上記式(1c)で表される基、さらにより好ましくは上記式(1a)で表される基、特に好ましくは上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基]である。 The compound represented by the above formula (a) is a compound forming a structural unit represented by the formula (1) in the polyorganosylsesquioxane of the present invention. R 1 in the formula (a), like that of R 1 in the formula (1), a group containing a polymerizable functional group. That is, as R 1 in the formula (a), a group containing an epoxy group is preferable, and the group represented by the above formula (1a), the group represented by the above formula (1b), and the above formula (1c). The group represented, the group represented by the above formula (1d) is more preferable, the group represented by the above formula (1a), the group represented by the above formula (1c), and even more preferably the above formula. A group represented by (1a), particularly preferably a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [among others, 2- (3', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl. Group].

上記式(a)中のX1は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X1におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基等が挙げられる。また、X1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。中でもX1としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 1 in the above formula (a) represents an alkoxy group or a halogen atom. Examples of the alkoxy group in X 1 include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group and an isobutyloxy group. Further, examples of the halogen atom in X 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like. Among them, as X 1 , an alkoxy group is preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are more preferable. Incidentally, three of X 1 may each be the same or may be different.

上記式(b)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2)で表される構成単位を形成する化合物である。式(b)中のR2は、上記式(2)におけるR2と同じく、非重合性官能基を示す。
ポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるR2は、置換若しくは無置換の炭素数1〜20のアルキル基であり、好ましくは炭素数4〜20のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数10〜20のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数14〜20のアルキル基である。
ポリオルガノシルセスキオキサン(B)におけるR2は、特に限定されないが、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、特に好ましくはフェニル基、炭素数1〜4のアルキル基(例、メチル基)である。
The compound represented by the above formula (b) is a compound forming a structural unit represented by the formula (2) in the polyorganosylsesquioxane of the present invention. R 2 in formula (b), like the R 2 in the formula (2) shows a non-polymerizable functional groups.
R 2 in the polyorganosylsesquioxane (A) is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably an alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, and more preferably 10 carbon atoms. It is an alkyl group of ~ 20, more preferably an alkyl group having 14 to 20 carbon atoms.
R 2 in polyorganosylsesquioxane (B) is not particularly limited, but is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group, and more preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group. It is an unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, particularly preferably a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group).

上記式(b)中のX2は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X2の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X2としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 2 in the above formula (b) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 2 include those exemplified as X 1 . Among them, as X 2 , an alkoxy group is preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are more preferable. Note that three X 2 may each be the same or may be different.

上記式(c)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(3)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(c)中のX3は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X3の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X3としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX3は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The compound represented by the above formula (c) is a compound forming a structural unit represented by the formula (3) in the polyorganosylsesquioxane of the present invention. X 3 in the above formula (c) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 3 include those exemplified as X 1 . Among them, the X 3, alkoxy groups are preferred, more preferably a methoxy group, an ethoxy group. Incidentally, the three X 3 may each be the same or may be different.

上記加水分解性シラン化合物としては、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性シラン化合物を併用してもよい。例えば、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性三官能シラン化合物、M単位を形成する加水分解性単官能シラン化合物、D単位を形成する加水分解性二官能シラン化合物、Q単位を形成する加水分解性四官能シラン化合物等が挙げられる。 As the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable silane compound other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c) may be used in combination. For example, hydrolyzable trifunctional silane compounds other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c), hydrolyzable monofunctional silane compounds forming M units, and hydrolyzable bifunctional silanes forming D units. Examples thereof include compounds, hydrolyzable tetrafunctional silane compounds forming Q units, and the like.

上記加水分解性シラン化合物の使用量や組成は、所望する本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの構造に応じて適宜調整できる。
例えば、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)における上記式(b)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、1〜40モル%が好ましく、より好ましくは3〜30モル%、さらに好ましくは5〜25モル%である。
また、ポリオルガノシルセスキオキサン(B)における上記式(b)で表される化合物の使用量の下限は、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、5モル%以上であり、好ましくは10モル%以上、より好ましくは25%以上であり、上記式(b)で表される化合物の使用量の上限は、特に限定されないが、好ましくは60モル%以下、より好ましくは55モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下である。
The amount and composition of the hydrolyzable silane compound used can be appropriately adjusted according to the desired structure of the polyorganosylsesquioxane of the present invention.
For example, the amount of the compound represented by the above formula (b) in the polyorganosylsesquioxane (A) is not particularly limited, but is based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. It is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 3 to 30 mol%, still more preferably 5 to 25 mol%.
The lower limit of the amount of the compound represented by the above formula (b) in the polyorganosylsesquioxane (B) is 5 mol% with respect to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. The above is preferably 10 mol% or more, more preferably 25% or more, and the upper limit of the amount of the compound represented by the above formula (b) used is not particularly limited, but is preferably 60 mol% or less. It is preferably 55 mol% or less, more preferably 50 mol% or less.

また、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)における上記式(a)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、50〜99モル%が好ましく、より好ましくは65〜97モル%、さらに好ましくは75〜95モル%である。
また、ポリオルガノシルセスキオキサン(B)における上記式(a)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、40〜95モル%が好ましく、より好ましくは45〜90モル%、さらに好ましくは50〜75モル%である。
The amount of the compound represented by the above formula (a) in the polyorganosylsesquioxane (A) is not particularly limited, but is based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. It is preferably 50 to 99 mol%, more preferably 65 to 97 mol%, still more preferably 75 to 95 mol%.
The amount of the compound represented by the above formula (a) in the polyorganosylsesquioxane (B) is not particularly limited, but is based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. It is preferably 40 to 95 mol%, more preferably 45 to 90 mol%, still more preferably 50 to 75 mol%.

さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物と式(b)で表される化合物の割合(総量の割合)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。 Further, the ratio (ratio of the total amount) of the compound represented by the formula (a) and the compound represented by the formula (b) to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used is not particularly limited. It is preferably 60 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, still more preferably 80 to 100 mol%.

また、上記加水分解性シラン化合物として2種以上を併用する場合、これらの加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うこともできるし、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。 When two or more kinds of the hydrolyzable silane compounds are used in combination, the hydrolysis and condensation reactions of these hydrolyzable silane compounds can be carried out simultaneously or sequentially. When the above reactions are carried out sequentially, the order in which the reactions are carried out is not particularly limited.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うこともできるし、非存在下で行うこともできる。中でも溶媒の存在下で行うことが好ましい。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。上記溶媒としては、中でも、ケトン、エーテルが好ましい。なお、溶媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be carried out in the presence of a solvent or in the absence of the solvent. Above all, it is preferable to carry out in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl acetate and ethyl acetate. , Esters such as isopropyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol. And so on. Of these, ketones and ethers are preferable as the solvent. It should be noted that one type of solvent may be used alone, or two or more types may be used in combination.

溶媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量100重量部に対して、0〜2000重量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。 The amount of the solvent used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted in the range of 0 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the hydrolyzable silane compound, depending on the desired reaction time and the like. ..

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。上記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。上記アルカリ触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩;酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン等のアミン類(第3級アミン等);ピリジン、2,2’−ビピリジル、1,10−フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。なお、触媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水や溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。 The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound is preferably carried out in the presence of a catalyst and water. The catalyst may be an acid catalyst or an alkali catalyst. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitrate, phosphoric acid and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid, formic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and p. -Sulfonic acids such as toluene sulfonic acid; solid acids such as active white clay; Lewis acids such as iron chloride can be mentioned. Examples of the alkali catalyst include hydroxides of alkali metals such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide and cesium hydroxide; and alkaline earth metals such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide and barium hydroxide. Hydroxides; Alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate; Alkali earth metal carbonates such as magnesium carbonate; Lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate , Alkali metal hydrogen carbonates such as cesium hydrogen carbonate; alkali metal organic acid salts such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate (eg acetate); alkaline earth metal organic acids such as magnesium acetate Salts (eg, acetates); alkali metal alkoxides such as lithium methoxyd, sodium methoxyd, sodium ethoxydo, sodium isopropoxide, potassium ethoxide, potassium t-butoxide; alkali metal phenoxides such as sodium phenoxide; triethylamine , N-Methylpiperidin, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nona-5-ene and other amines (tertiary amines) Etc.); Examples thereof include nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds such as pyridine, 2,2'-bipyridyl and 1,10-phenanthroline. It should be noted that one type of catalyst may be used alone, or two or more types may be used in combination. The catalyst can also be used in a state of being dissolved or dispersed in water, a solvent or the like.

上記触媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.002〜0.200モルの範囲内で、適宜調整することができる。 The amount of the catalyst used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within the range of 0.002 to 0.200 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.5〜20モルの範囲内で、適宜調整することができる。 The amount of water used in the hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within the range of 0.5 to 20 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量(全使用量)を一括で添加してもよいし、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加してもよいし、間欠的に添加してもよい。 The method for adding water is not particularly limited, and the total amount of water used (total amount used) may be added all at once, or may be added sequentially. When added sequentially, it may be added continuously or intermittently.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応を行う際の反応条件としては、特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]が5以上となるような反応条件を選択することが重要である。上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、特に限定されないが、40〜100℃が好ましく、より好ましくは45〜80℃である。反応温度を上記範囲に制御することにより、上記割合[T3体/T2体]をより効率的に5以上に制御できる傾向がある。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、特に限定されないが、0.1〜10時間が好ましく、より好ましくは1.5〜8時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。なお、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、特に限定されず、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。 The reaction conditions for hydrolyzing and condensing the hydrolyzable silane compound are particularly such that the ratio [T3 / T2] in the polyorganosylsesquioxane of the present invention is 5 or more. It is important to choose the conditions. The reaction temperature of the hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, but is preferably 40 to 100 ° C, more preferably 45 to 80 ° C. By controlling the reaction temperature within the above range, the ratio [T3 / T2] tends to be controlled to 5 or more more efficiently. The reaction time of the hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 hours, more preferably 1.5 to 8 hours. Further, the hydrolysis and condensation reactions can be carried out under normal pressure, under pressure or under reduced pressure. The atmosphere at which the hydrolysis and condensation reactions are carried out is not particularly limited, and may be, for example, any of an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere and an argon atmosphere, and an oxygen presence such as air. However, it is preferable to use an inert gas atmosphere.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが得られる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、エポキシ基の開環を抑制するために触媒を中和することが好ましい。また、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製してもよい。 The polyorganosylsesquioxane of the present invention can be obtained by the hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound. After completion of the hydrolysis and condensation reactions, it is preferable to neutralize the catalyst in order to suppress ring opening of the epoxy group. Further, the polyorganosylsesquioxane of the present invention can be separated by, for example, water washing, acid washing, alkaline washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography and the like, or a combination thereof. It may be separated and purified by a separation means or the like.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは上述の構成を有するため、該ポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い耐熱性、耐クラック性を有し、また、接着性に優れた硬化物を形成できる。 Since the polyorganosylsesquioxane of the present invention has the above-mentioned structure, it has high heat resistance and crack resistance by curing a curable composition containing the polyorganosylsesquioxane as an essential component. In addition, a cured product having excellent adhesiveness can be formed.

[硬化性組成物]
本発明の硬化性組成物は、上述の本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物(硬化性樹脂組成物)である。後述のように、本発明の硬化性組成物は、さらに、重合開始剤、重合安定剤、シランカップリング剤、その他のカチオン硬化性化合物、溶剤や表面調整剤あるいは表面改質剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
[Curable composition]
The curable composition of the present invention is a curable composition (curable resin composition) containing the above-mentioned polyorganosylsesquioxane of the present invention as an essential component. As will be described later, the curable composition of the present invention further comprises other polymerization initiators, polymerization stabilizers, silane coupling agents, other cationic curable compounds, solvents, surface conditioners, surface modifiers and the like. It may contain an ingredient.

本発明の硬化性組成物において本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 In the curable composition of the present invention, the polyorganosylsesquioxane of the present invention may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物における本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量(配合量)は、特に限定されないが、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、70重量%以上、100重量%未満が好ましく、より好ましくは80〜99.8重量%、さらに好ましくは90〜99.5重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の接着性がより向上する傾向がある。一方、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を100重量%未満とすることにより、硬化触媒を含有させることができ、これにより硬化性組成物の硬化をより効率的に進行させることができる傾向がある。 The content (blending amount) of the polyorganosylsesquioxane of the present invention in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is 70 with respect to the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. It is preferably 80% by weight or more and less than 100% by weight, more preferably 80 to 99.8% by weight, and further preferably 90 to 99.5% by weight. By setting the content of the polyorganosylsesquioxane of the present invention to 70% by weight or more, the adhesiveness of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of the polyorganosylsesquioxane of the present invention to less than 100% by weight, a curing catalyst can be contained, whereby the curing of the curable composition can proceed more efficiently. There is a tendency to be able to do it.

本発明の硬化性組成物に含まれるカチオン硬化性化合物の全量(100重量%)に対する本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの割合は、特に限定されないが、70〜100重量%が好ましく、より好ましくは75〜98重量%、さらに好ましくは80〜95重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の耐クラック性や接着性がより向上する傾向がある。 The ratio of the polyorganosylsesquioxane of the present invention to the total amount (100% by weight) of the cationically curable compound contained in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 70 to 100% by weight, more preferably 70% by weight. Is 75 to 98% by weight, more preferably 80 to 95% by weight. By setting the content of the polyorganosylsesquioxane of the present invention to 70% by weight or more, the crack resistance and adhesiveness of the cured product tend to be further improved.

[重合開始剤]
本発明の硬化性組成物は、さらに、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン等の硬化性化合物の重合反応を開始乃至促進することができる化合物である。重合開始剤にはカチオン重合開始剤とアニオン重合開始剤が含まれる。前記カチオン重合開始剤は加熱することによってカチオン種を発生して、重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物であり、前記アニオン重合開始剤は加熱することによってアニオン種を発生して、重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物である。本発明の硬化性組成物が重合開始剤を含有すると、タックフリーとなるまでの硬化時間を短縮することができる。尚、重合開始剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Polymerization initiator]
The curable composition of the present invention preferably further contains a polymerization initiator. The polymerization initiator is a compound capable of initiating or accelerating the polymerization reaction of a curable compound such as the polyorganosylsesquioxane of the present invention. The polymerization initiator includes a cationic polymerization initiator and an anionic polymerization initiator. The cationic polymerization initiator is a compound that generates a cationic species by heating to initiate a curing reaction of a polymerizable compound, and the anionic polymerization initiator generates an anionic species by heating to initiate a polymerizable compound. It is a compound that initiates the curing reaction of. When the curable composition of the present invention contains a polymerization initiator, the curing time until it becomes tack-free can be shortened. The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物としては、加熱乾燥することにより硬化反応を進行させること無く速やかに接着剤層を形成することができ、また、得られる接着剤層は50℃未満では接着性を有さないため切削刃に糊が付着することなく切削加工を行うことができ、半導体チップ等の被接着物へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現し、その後、速やかに硬化する特性を有する点で、次に記載の硬化特性を有する重合開始剤を使用することが好ましい。 As the curable composition of the present invention, an adhesive layer can be rapidly formed by heating and drying without advancing the curing reaction, and the obtained adhesive layer has adhesiveness at less than 50 ° C. Since it does not, the cutting process can be performed without adhesive adhering to the cutting blade, and the adhesiveness is developed by heating at a temperature at which damage to the object to be adhered such as semiconductor chips can be suppressed, and then promptly thereafter. From the viewpoint of having a curing property, it is preferable to use a polymerization initiator having the following curing property.

すなわち、カチオン重合開始剤の場合は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート[例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)]100重量部に対してカチオン重合開始剤を1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上(例えば3.5〜7.0分、好ましくは4.5〜6.0分)である重合開始剤を使用することが好ましい。 That is, in the case of a cationic polymerization initiator, with respect to 100 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate [for example, trade name "Ceroxide 2021P" (manufactured by Daicel Co., Ltd.)]. The thermosetting time of the composition obtained by adding 1 part by weight of the cationic polymerization initiator at 130 ° C. is 3.5 minutes or more (for example, 3.5 to 7.0 minutes, preferably 4.5 to 6.0 minutes). It is preferable to use a polymerization initiator which is.

また、アニオン重合開始剤の場合は、ビスフェノールAジグリシジルエーテル100重量部に対してアニオン重合開始剤を1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間(JIS K5909 1994準拠)が3.5分以上である重合開始剤を使用することが好ましい。 In the case of an anionic polymerization initiator, the thermosetting time (JIS K5909 1994 compliant) of the composition obtained by adding 1 part by weight of the anionic polymerization initiator to 100 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether at 130 ° C. It is preferable to use a polymerization initiator that lasts 3.5 minutes or longer.

尚、本発明における熱硬化時間とは、JIS K5909(1994年)に準拠した方法で求めた、前記組成物を熱板上で熱してゴム状になるまで(より具体的には、硬化が進み、針先に糸状について上がらなくなるまで)の時間である。熱硬化時間が上記範囲を下回る重合開始剤を使用すると、加熱乾燥する際にカチオン重合開始剤を使用した場合はカチオン種、アニオン重合開始剤を使用した場合はアニオン種が発生し、それ以降室温でも徐々に重合が進行するため、保存安定性を有する接着剤層の形成が困難となる。 The thermosetting time in the present invention is determined by a method based on JIS K5909 (1994) until the composition is heated on a hot plate to become rubbery (more specifically, curing proceeds). , Until the thread does not rise to the needle tip). When a polymerization initiator whose thermosetting time is less than the above range is used, cation seeds are generated when a cationic polymerization initiator is used during heating and drying, and anionic species are generated when an anionic polymerization initiator is used, and thereafter at room temperature. However, since the polymerization gradually proceeds, it becomes difficult to form an adhesive layer having storage stability.

本発明においては、とりわけ、カチオン重合開始剤を使用することが、タックフリーとなるまでの硬化時間がより短縮できる点で好ましい。カチオン重合開始剤には光カチオン重合開始剤と熱カチオン重合開始剤が含まれる。 In the present invention, it is particularly preferable to use a cationic polymerization initiator because the curing time until it becomes tack-free can be further shortened. Cationic polymerization initiators include photocationic polymerization initiators and thermal cationic polymerization initiators.

上記光カチオン重合開始剤としては、公知乃至慣用の光カチオン重合開始剤を使用することができ、例えば、スルホニウム塩(スルホニウムイオンとアニオンとの塩)、ヨードニウム塩(ヨードニウムイオンとアニオンとの塩)、セレニウム塩(セレニウムイオンとアニオンとの塩)、アンモニウム塩(アンモニウムイオンとアニオンとの塩)、ホスホニウム塩(ホスホニウムイオンとアニオンとの塩)、遷移金属錯体イオンとアニオンとの塩等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 As the photocationic polymerization initiator, a known or commonly used photocationic polymerization initiator can be used. For example, a sulfonium salt (a salt of a sulfonium ion and an anion) and an iodonium salt (a salt of an iodonium ion and an anion) can be used. , Selenium salt (salt of selenium ion and anion), ammonium salt (salt of ammonium ion and anion), phosphonium salt (salt of phosphonium ion and anion), salt of transition metal complex ion and anion, etc. .. These can be used alone or in combination of two or more.

上記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウム塩、トリ−p−トリルスルホニウム塩、トリ−o−トリルスルホニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム塩、1−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、2−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、トリス(4−フルオロフェニル)スルホニウム塩、トリ−1−ナフチルスルホニウム塩、トリ−2−ナフチルスルホニウム塩、トリス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム塩、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩、4−(p−トリルチオ)フェニルジ−(p−フェニル)スルホニウム塩等のトリアリールスルホニウム塩;ジフェニルフェナシルスルホニウム塩、ジフェニル4−ニトロフェナシルスルホニウム塩、ジフェニルベンジルスルホニウム塩、ジフェニルメチルスルホニウム塩等のジアリールスルホニウム塩;フェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩等のモノアリールスルホニウム塩;ジメチルフェナシルスルホニウム塩、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム塩、ジメチルベンジルスルホニウム塩等のトリアルキルスルホニウム塩等が挙げられる。 Examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium salt, tri-p-tolylsulfonium salt, tri-o-tolylsulfonium salt, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium salt, 1-naphthyldiphenylsulfonium salt, and 2-naphthyldiphenyl. Sulfonium salt, tris (4-fluorophenyl) sulfonium salt, tri-1-naphthylsulfonium salt, tri-2-naphthylsulfonium salt, tris (4-hydroxyphenyl) sulfonium salt, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt , 4- (P-trilthio) phenyldi- (p-phenyl) sulfonium salt and other triarylsulfonium salts; diphenylphenacil sulfonium salt, diphenyl4-nitrophenacil sulfonium salt, diphenylbenzylsulfonium salt, diphenylmethylsulfonium salt and the like Diarylsulfonium salt; monoarylsulfonium salt such as phenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-methoxyphenylmethylbenzylsulfonium salt; dimethylphenacil sulfonium salt, phenacyltetrahydrothiophenium salt, dimethylbenzyl Examples thereof include trialkyl sulfonium salts such as sulfonium salts.

上記ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩としては、例えば、商品名「CPI−101A」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート50%炭酸プロピレン溶液)、商品名「CPI−100P」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファート50%炭酸プロピレン溶液)等の市販品を使用できる。 Examples of the diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt include the trade name "CPI-101A" (manufactured by San-Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate 50% propylene carbonate solution. ), Commercial name such as "CPI-100P" (manufactured by San-Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate 50% propylene carbonate solution) and the like can be used.

上記ヨードニウム塩としては、例えば、商品名「UV9380C」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロアンチモネート45%アルキルグリシジルエーテル溶液)、商品名「RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074」(ローディア・ジャパン(株)製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート=[(1−メチルエチル)フェニル](メチルフェニル)ヨードニウム)、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製)、ジフェニルヨードニウム塩、ジ−p−トリルヨードニウム塩、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム塩等が挙げられる。 Examples of the iodonium salt include the trade name "UV9380C" (manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK, bis (4-dodecylphenyl) iodonium = hexafluoroantimonate 45% alkylglycidyl ether solution), and the trade name " RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074 "(manufactured by Rhodia Japan Co., Ltd., tetrakis (pentafluorophenyl) borate = [(1-methylethyl) phenyl] (methylphenyl) iodonium), trade name" WPI-124 "(Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Co., Ltd.), diphenyl iodonium salt, di-p-tolyl iodonium salt, bis (4-dodecylphenyl) iodonium salt, bis (4-methoxyphenyl) iodonium salt and the like.

上記セレニウム塩としては、例えば、トリフェニルセレニウム塩、トリ−p−トリルセレニウム塩、トリ−o−トリルセレニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)セレニウム塩、1−ナフチルジフェニルセレニウム塩等のトリアリールセレニウム塩;ジフェニルフェナシルセレニウム塩、ジフェニルベンジルセレニウム塩、ジフェニルメチルセレニウム塩等のジアリールセレニウム塩;フェニルメチルベンジルセレニウム塩等のモノアリールセレニウム塩;ジメチルフェナシルセレニウム塩等のトリアルキルセレニウム塩等が挙げられる。 Examples of the selenium salt include triaryl selenium salts such as triphenyl selenium salt, tri-p-tolyl selenium salt, tri-o-tolyl selenium salt, tris (4-methoxyphenyl) selenium salt, and 1-naphthyldiphenyl selenium salt. Salts; Diarylselenium salts such as diphenylphenacyl selenium salt, diphenylbenzyl selenium salt, diphenylmethyl selenium salt; Monoaryl selenium salts such as phenyl methyl benzyl selenium salt; Trialkyl selenium salts such as dimethyl phenacyl selenium salt and the like. ..

上記アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウム塩、エチルトリメチルアンモニウム塩、ジエチルジメチルアンモニウム塩、トリエチルメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、トリメチル−n−プロピルアンモニウム塩、トリメチル−n−ブチルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム塩;N,N−ジメチルピロリジウム塩、N−エチル−N−メチルピロリジウム塩等のピロリジウム塩;N,N’−ジメチルイミダゾリニウム塩、N,N’−ジエチルイミダゾリニウム塩等のイミダゾリニウム塩;N,N’−ジメチルテトラヒドロピリミジウム塩、N,N’−ジエチルテトラヒドロピリミジウム塩等のテトラヒドロピリミジウム塩;N,N−ジメチルモルホリニウム塩、N,N−ジエチルモルホリニウム塩等のモルホリニウム塩;N,N−ジメチルピペリジニウム塩、N,N−ジエチルピペリジニウム塩等のピペリジニウム塩;N−メチルピリジニウム塩、N−エチルピリジニウム塩等のピリジニウム塩;N,N’−ジメチルイミダゾリウム塩等のイミダゾリウム塩;N−メチルキノリウム塩等のキノリウム塩;N−メチルイソキノリウム塩等のイソキノリウム塩;ベンジルベンゾチアゾニウム塩等のチアゾニウム塩;ベンジルアクリジウム塩等のアクリジウム塩等が挙げられる。 Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium salt, ethyltrimethylammonium salt, diethyldimethylammonium salt, triethylmethylammonium salt, tetraethylammonium salt, trimethyl-n-propylammonium salt, trimethyl-n-butylammonium salt and the like. Alkylammonium salt; Pyrrolidium salt such as N, N-dimethylpyrrolidium salt, N-ethyl-N-methylpyrrolidium salt; N, N'-dimethylimidazolinium salt, N, N'-diethylimidazolinium salt, etc. Imidazolinium salt; tetrahydropyrimidium salt such as N, N'-dimethyltetrahydropyrimidium salt, N, N'-diethyltetrahydropyrimidium salt; N, N-dimethylmorpholinium salt, N, N Morphorinium salts such as −diethylmorpholinium salt; piperidinium salts such as N, N-dimethylpiperidinium salt, N, N-diethylpiperidinium salt; pyridinium salts such as N-methylpyridinium salt and N-ethylpyridinium salt. Imidazolium salts such as N, N'-dimethylimidazolium salt; quinolium salts such as N-methylquinolium salt; isoquinolium salts such as N-methylisoquinolium salt; thiazonium salts such as benzylbenzothiazonium salt; Examples thereof include acridium salts such as benzylacrydium salts.

上記ホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム塩、テトラ−p−トリルホスホニウム塩、テトラキス(2−メトキシフェニル)ホスホニウム塩等のテトラアリールホスホニウム塩;トリフェニルベンジルホスホニウム塩等のトリアリールホスホニウム塩;トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリブチルベンジルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウム塩、トリエチルフェナシルホスホニウム塩等のテトラアルキルホスホニウム塩等が挙げられる。 Examples of the phosphonium salt include tetraarylphosphonium salts such as tetraphenylphosphonium salt, tetra-p-tolylphosphonium salt and tetrakis (2-methoxyphenyl) phosphonium salt; triarylphosphonium salt such as triphenylbenzylphosphonium salt; triethyl. Examples thereof include tetraalkylphosphonium salts such as benzylphosphonium salt, tributylbenzylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetrabutylphosphonium salt and triethylphenacylphosphonium salt.

上記遷移金属錯体イオンの塩としては、例えば、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Cr+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Cr+等のクロム錯体カチオンの塩;(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Fe+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Fe+等の鉄錯体カチオンの塩等が挙げられる。 Examples of the salt of the transition metal complex ion include salts of chromium complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Cr + and (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Cr +. Examples thereof include salts of iron complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Fe + and (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Fe + .

上述の塩を構成するアニオンとしては、例えば、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、(CF3CF23PF3 -、(CF3CF2CF23PF3 -、(C654-、(C654Ga-、スルホン酸アニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン等)、(CF3SO23-、(CF3SO22-、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。 The anion constituting the salt described above, for example, SbF 6 -, PF 6 - , BF 4 -, (CF 3 CF 2) 3 PF 3 -, (CF 3 CF 2 CF 2) 3 PF 3 -, (C 6 F 5) 4 B -, (C 6 F 5) 4 Ga -, a sulfonate anion (trifluoromethanesulfonic acid anion, pentafluoroethanesulfonate anion, nonafluorobutanesulfonic acid anion, methanesulfonic acid anion, benzenesulfonic acid anion, p- toluenesulfonate anion, etc.), (CF 3 SO 2) 3 C -, (CF 3 SO 2) 2 N -, perhalogenated acid ion, a halogenated sulfonic acid ion, carbonate ion, aluminate Examples thereof include an ion, a hexafluorobismasic acid ion, a carboxylic acid ion, an arylborate ion, a thiocyanate ion and a nitrate ion.

上記熱カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩、アレン−イオン錯体、第4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。 Examples of the thermal cationic polymerization initiator include aryl sulfonium salts, aryl iodonium salts, allen-ion complexes, quaternary ammonium salts, aluminum chelates, boron trifluoride amine complexes and the like.

上記アリールスルホニウム塩としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩等が挙げられる。本発明の硬化性組成物においては、例えば、商品名「SP−66」、「SP−77」(以上、(株)ADEKA製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製)等の市販品を使用することができる。上記アルミニウムキレートとしては、例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。また、上記三フッ化ホウ素アミン錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素イミダゾール錯体、三フッ化ホウ素ピペリジン錯体等が挙げられる。 Examples of the aryl sulfonium salt include hexafluoroantimonate salt and the like. In the curable composition of the present invention, for example, trade names "SP-66" and "SP-77" (all manufactured by ADEKA Corporation); trade names "Sun Aid SI-60L" and "Sun Aid SI-80L". , "Sun Aid SI-100L", "Sun Aid SI-150L" (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and other commercially available products can be used. Examples of the aluminum chelate include ethyl acetoacetate aluminum diisopropyrate and aluminum tris (ethyl acetoacetate). Examples of the boron trifluoride amine complex include a boron trifluoride monoethylamine complex, a boron trifluoride imidazole complex, and a boron trifluoride piperidine complex.

アニオン重合開始剤としては、例えば、第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン、イミダゾール類、三フッ化ホウ素−アミン錯体等を挙げることができる。前記イミダゾール類には、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]エチル−s−トリアジン、2−フェニルイミダゾリン、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール等が挙げられる。また、前記第3級アミンには、例えば、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ベンジルジメチルアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7)等が挙げられる。 Examples of the anionic polymerization initiator include primary amines, secondary amines, tertiary amines, imidazoles, boron trifluoride-amine complexes and the like. Examples of the imidazoles include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, and 2,4-diamino-6- [2-]. Methylimidazolyl- (1)] ethyl-s-triazine, 2-phenylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl- 2-Undecylimidazole and the like can be mentioned. In addition, examples of the tertiary amine include tris (dimethylaminomethyl) phenol, benzyldimethylamine, DBU (1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7) and the like.

本発明の硬化性組成物における上記重合開始剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、0.01〜3.0重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜3.0重量部、さらに好ましくは0.1〜1.0重量部(例えば、0.3〜1.0重量部)である。重合開始剤の含有量を0.01重量部以上とすることにより、硬化反応を効率的に十分に進行させることができ、硬化物の接着性がより向上する傾向がある。一方、重合開始剤の含有量を3.0重量部以下とすることにより、硬化性組成物の保存性がいっそう向上したり、硬化物の着色が抑制される傾向がある。 The content (blending amount) of the above-mentioned polymerization initiator in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.01 to 3.0 weight by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosylsesquioxane of the present invention. Parts are preferable, more preferably 0.05 to 3.0 parts by weight, still more preferably 0.1 to 1.0 parts by weight (for example, 0.3 to 1.0 parts by weight). By setting the content of the polymerization initiator to 0.01 parts by weight or more, the curing reaction can proceed efficiently and sufficiently, and the adhesiveness of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the content of the polymerization initiator is 3.0 parts by weight or less, the storage stability of the curable composition tends to be further improved, and the coloring of the cured product tends to be suppressed.

[重合安定剤]
本発明の硬化性組成物は、さらに、重合安定剤を含むことが好ましい。上記重合安定剤は、カチオンをトラップすることによりカチオン重合の進行を抑制し、重合安定剤によるカチオンのトラップ能が飽和し、失活した段階で重合を進行させる作用を有する化合物である。本発明の硬化性組成物がカチオン重合開始剤と共に重合安定剤を含有する場合、塗布・乾燥して接着剤層を形成した後、長期に亘って重合の進行を抑制することができ、接着性が求められるタイミングで加熱することで優れた接着性を発現する、保存安定性に優れた接着剤層を形成することができる。
[Polymerization stabilizer]
The curable composition of the present invention preferably further contains a polymerization stabilizer. The above-mentioned polymerization stabilizer is a compound having an action of suppressing the progress of cation polymerization by trapping cations, and proceeding with polymerization at the stage where the ability of the polymerization stabilizer to trap cations is saturated and deactivated. When the curable composition of the present invention contains a polymerization stabilizer together with a cationic polymerization initiator, it is possible to suppress the progress of polymerization for a long period of time after coating and drying to form an adhesive layer, and the adhesiveness It is possible to form an adhesive layer having excellent storage stability, which exhibits excellent adhesiveness by heating at the required timing.

前記重合安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ポリ([6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルベンゾエート、(ミックスト2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ミックスト(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/β,β,β’,β’−テトラメチル−3−9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカン]ジエチル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ([6−N−モルホリル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、[N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]プロピオンアミド、商品名「LA−77」、「LA−67」、「LA−57」(以上、ADEKA製)、商品名「TINUVIN123」、「TINUVIN152」(以上、チバ・ジャパン(株)製)等のヒンダードアミン系化合物、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(サンエイドSI助剤、三新化学工業(株)製)等のスルホニウム硫酸塩系化合物、例えば、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジホスファイト(商品名「アデカスタブPEP−36」、(株)ADEKA製)、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(モノ、ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)ホスファイト、トリスフェニルホスファイト、トリス(モノノニルフェニル)ホスファイト、トリスイソデシルホスファイト等の亜リン酸エステル化合物等を挙げることができ、スルホニウム硫酸塩系化合物、亜リン酸エステル化合物が好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of the polymerization stabilizer include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and poly ([6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1, 3,5-Triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] Hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Imino]), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidi Nylbenzoate, (mixed 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl / tridecyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, mixed (2,2,6,6-tetramethyl) -4-piperidyl / β, β, β', β'-tetramethyl-3-9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro (5.5) undecane] diethyl) -1,2,3 4-Butanetetracarboxylate, poly ([6-N-morpholyl-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexa Methylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]), [N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -2-methyl-2- (2) , 2,6,6-Tetramethyl-4-piperidyl) imino] Propionamide, trade name "LA-77", "LA-67", "LA-57" (above, made by ADEKA), trade name "TINUVIN123" , "TINUVIN152" (above, Ciba Japan Co., Ltd.) and other hindered amine compounds, (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium methylsulfite (San Aid SI aid, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and other sulfonium Sulfate compounds such as 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol-diphosphite (Product name "Adecastab PEP-36", manufactured by ADEKA Co., Ltd.), Bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol-diphosphite, Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite , Tris (mono, dinonylphenyl) phosphite, tris (2-ethylhexyl) phosphite, trisphenylphosphite, tris ( Phosphite ester compounds such as monononylphenyl) phosphite and trisisodecylphosphite can be mentioned, and sulfonium sulfate compounds and phosphite ester compounds are preferable. These can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物がカチオン重合開始剤を含有する場合、重合安定剤の使用量は、カチオン重合開始剤100重量部に対して、例えば0.1重量部以上、好ましくは0.3〜20重量部、特に好ましくは0.5〜15重量部である。 When the curable composition of the present invention contains a cationic polymerization initiator, the amount of the polymerization stabilizer used is, for example, 0.1 parts by weight or more, preferably 0.3 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationic polymerization initiator. It is 20 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 15 parts by weight.

[シランカップリング剤]
本発明の硬化性組成物には、好ましくはシランカップリング剤が含有されていてもよい。シランカップリング剤を含有することにより、得られる硬化物に一層優れた密着性、耐候性、耐熱性等の特性を付与することができる。
[Silane coupling agent]
The curable composition of the present invention may preferably contain a silane coupling agent. By containing the silane coupling agent, it is possible to impart more excellent properties such as adhesion, weather resistance and heat resistance to the obtained cured product.

前記シランカップリング剤としては、例えば、3−トリメトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、3−トリエトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメトキシメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、3−ジエトキシメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。官能基が(メタ)アクリロイルオキシ基であるシランカップリング剤を用いる場合には、ラジカル重合開始剤を少量添加してもよい。 Examples of the silane coupling agent include 3-trimethoxysilylpropyl (meth) acrylate, 3-triethoxysilylpropyl (meth) acrylate, 3-dimethoxymethylsilylpropyl (meth) acrylate, and 3-diethoxymethylsilylpropyl. (Meta) acrylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane , 3-Glycydoxypropyltriethoxysilane and the like. These can be used alone or in combination of two or more. When a silane coupling agent in which the functional group is a (meth) acryloyloxy group is used, a small amount of a radical polymerization initiator may be added.

本発明においては、例えば、商品名「KBE−403」(3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、信越化学工業(株)製)、商品名「Z−6040」(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、東レ・ダウコーニング(株)製)等の市販品を使用することができる。 In the present invention, for example, the trade name "KBE-403" (3-glycidoxypropyltriethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the trade name "Z-6040" (3-glycidoxypropyltrimethoxy). Commercially available products such as silane and Toray Dow Corning Co., Ltd. can be used.

本発明の硬化性組成物がシランカップリング剤を含有する場合、その使用量としては、本発明の硬化性組成物に含まれる重合性化合物100重量部に対して、例えば0〜10重量部程度であり、その上限は、好ましくは5重量部、特に好ましくは3重量部、最も好ましくは1重量部である。下限は、好ましくは0.005重量部、特に好ましくは0.01重量部である。 When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent, the amount used thereof is, for example, about 0 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound contained in the curable composition of the present invention. The upper limit thereof is preferably 5 parts by weight, particularly preferably 3 parts by weight, and most preferably 1 part by weight. The lower limit is preferably 0.005 parts by weight, particularly preferably 0.01 parts by weight.

[その他のカチオン硬化性化合物]
本発明の硬化性組成物は、さらに、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン以外のカチオン硬化性化合物(「その他のカチオン硬化性化合物」と称する場合がある)を含んでいてもよい。その他のカチオン硬化性化合物としては、公知乃至慣用のカチオン硬化性化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン以外のエポキシ化合物(「その他のエポキシ化合物」と称する場合がある)、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。なお、本発明の硬化性組成物においてその他のカチオン硬化性化合物は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
[Other cationic curable compounds]
The curable composition of the present invention may further contain a cationic curable compound other than the polyorganosylsesquioxane of the present invention (sometimes referred to as "other cationic curable compounds"). As the other cation-curable compound, a known or commonly used cation-curable compound can be used, and is not particularly limited. For example, an epoxy compound other than the polyorganosylsesquioxane of the present invention (“other epoxy compound”). ”), Oxetane compounds, vinyl ether compounds and the like. In the curable composition of the present invention, one type of other cationic curable compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.

上記その他のエポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。 As the other epoxy compound, a known or commonly used compound having one or more epoxy groups (oxylan rings) in the molecule can be used, and the present invention is not particularly limited, but for example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic ring type). (Epoxy resin), aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin), aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin) and the like can be mentioned.

上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy compound include known and commonly used compounds having one or more alicyclics and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited, but for example, (1) in the molecule. A compound having an epoxy group (referred to as "alicyclic epoxy group") composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic; (2) The epoxy group is directly bonded to the alicyclic by a single bond. Compounds; (3) Compounds having an alicyclic and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like can be mentioned.

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006785538
Examples of the compound (1) having an alicyclic epoxy group in the molecule include a compound represented by the following formula (i).
Figure 0006785538

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。 In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and the like. Examples thereof include a group in which a plurality of groups are linked.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group and the like. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group and 1,3-. Examples thereof include a divalent cycloalkylene group (including a cycloalkylidene group) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group and a cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which a part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as "epoxidized alkenylene group") include a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , 2-Butenylene group, butazienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group and the like, such as a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, as the epoxidized alkenylene group, an alkenylene group in which the entire carbon-carbon double bond is epoxidized is preferable, and more preferably, the entire carbon-carbon double bond is epoxidized and has 2 to 4 carbon atoms. It is an alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、3,4,3',4'−ジエポキシビシクロヘキサン、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR'は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エタン、2,3−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)オキシラン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。 Typical examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) are 3,4,3', 4'-diepoxybicyclohexane, and the following formulas (i-1) to (i-10). Examples thereof include compounds represented by. In addition, l and m in the following formulas (i-5) and (i-7) represent integers of 1 to 30, respectively. R'in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and an isopropylene group. The shape of the alkylene group is preferable. N1 to n6 in the following formulas (i-9) and (i-10) represent integers of 1 to 30, respectively. In addition, examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane and 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethane, 2,3-bis (3,4-epoxycyclohexyl) oxylane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether and the like.

Figure 0006785538
Figure 0006785538
Figure 0006785538
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上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of the compound in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic (2) by a single bond include a compound represented by the following formula (ii).

Figure 0006785538
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式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In the formula (ii), R "is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (-OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R "(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms) and the like. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parentheses) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adducts of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example. , Product name "EHPE3150" (manufactured by Daicel Corporation), etc.] and the like.

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having an alicyclic and glycidyl ether group in the molecule (3) described above include glycidyl ether of an alicyclic alcohol (particularly, an alicyclic polyhydric alcohol). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy)). Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol A type epoxy compound such as propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) 3-Epoxy propoxy) Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol F type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F type epoxy compound); hydrided biphenol type epoxy compound; hydride hydrogenated phenol novolac type epoxy compound; hydride cresol Novolak type epoxy compound; bisphenol A hydride cresol novolak type epoxy compound; hydride naphthalene type epoxy compound; hydride epoxy compound of epoxy compound obtained from trisphenol methane; hydride epoxy compound of the following aromatic epoxy compound, etc. Be done.

上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the aromatic epoxy compound include epibis-type glycidyl ether-type epoxy resins obtained by a condensation reaction between bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, etc.] and epihalohydrin; High molecular weight epibis-type glycidyl ether-type epoxy resin obtained by further addition-reacting a bis-type glycidyl ether-type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [for example, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehydes [for example, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicylaldehyde, etc.] and polyhydric alcohols obtained by condensing reaction with epihalohydrin. Alkyl type glycidyl ether type epoxy resin; Two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring, and glycidyl is attached to the oxygen atom obtained by removing the hydrogen atom from the hydroxy group of these phenol skeletons, either directly or via an alkyleneoxy group. Examples thereof include an epoxy compound to which a group is bonded.

上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。 Examples of the aliphatic epoxy compound include glycidyl ethers of alcohols having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); monovalent or polyvalent carboxylic acids [eg, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, etc. Glycidyl ester of adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.; epoxidized fats and oils with double bonds such as epoxidized flaxseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefin (poly) such as epoxidized polybutadiene Examples thereof include epoxidized compounds (including alkadiene). Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-Propanediol, 1,4-Butanediol, Neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, Diethylene glycol, Triethylene glycol, Tetraethylene glycol, Dipropylene glycol, Polyethylene glycol, Polypropylene glycol and other dihydric alcohols; Examples thereof include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and sorbitol. Further, the q-valent alcohol may be a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol, a polyolefin polyol or the like.

上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。 Examples of the oxetane compound include known and commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited, but for example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane and 3-ethyl-3-3. (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3-ethyl (3-ethyl) Oxetane)] methyl} ether, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bicyclohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1 , 4-Bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3-{[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane , 3-Ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane, phenol novolac oxetane and the like.

上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。 As the vinyl ether compound, a known or commonly used compound having one or more vinyl ether groups in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy. Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutylvinyl ether, 2-hydroxyisobutylvinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexylvinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8- Octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexane Dimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, p-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, Pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene grease Cole divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanolborne divinyl ether, phenylvinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroquinone divinyl ether, 1,4-butanediol Divinyl Ether, Cyclohexanedimethanol Divinyl Ether, Trimethylol Propane Divinyl Ether, Trimethylol Propane Trivinyl Ether, Bisphenol A Divinyl Ether, Bisphenol F Divinyl Ether, Hydroxyoxanorbornane Methanol Divinyl Ether, 1,4-Cyclohexanediol Divinyl Ether, Pentaerythritol Tri Examples thereof include vinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether and the like.

また、その他のカチオン硬化性化合物として、特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物を使用した場合には、耐熱黄変性(加熱による黄変が生じにくい特性)に優れた硬化物が得られるという利点がある。このため、いっそう高品質かつ高耐久性の硬化物が得られる。分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物が分子内に有する水酸基の数は、特に限定されないが、1〜4個が好ましく、より好ましくは1又は2個である。 Further, as other cationic curable compounds, particularly when a vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is used, a cured product having excellent heat-resistant yellowing (characteristic that yellowing due to heating is unlikely to occur) is obtained. It has the advantage of being obtained. Therefore, a cured product having higher quality and higher durability can be obtained. The number of hydroxyl groups contained in the molecule of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited, but is preferably 1 to 4, and more preferably 1 or 2.

本発明の硬化性組成物におけるその他のカチオン硬化性化合物の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、50重量%以下(例えば、0〜50重量%)が好ましく、より好ましくは30重量%以下(例えば、0〜30重量%)、さらに好ましくは10重量%以下である。その他のカチオン硬化性化合物の含有量を上記範囲で配合することにより、硬化性組成物や硬化物に対して所望の性能(例えば、硬化性組成物に対する速硬化性や粘度調整等)を付与することができる場合がある。 The content (blending amount) of the other cationically curable compound in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is the total amount (100% by weight) of the polyorganosylsesquioxane of the present invention and other cationically curable compounds. 50% by weight or less (for example, 0 to 50% by weight), more preferably 30% by weight or less (for example, 0 to 30% by weight), still more preferably 10% by weight, based on the total amount of the cationically curable compound. % Or less. By blending the content of other cationically curable compounds in the above range, desired performance (for example, quick curing and viscosity adjustment for the curable composition) is imparted to the curable composition and the cured product. You may be able to.

[溶剤]
本発明の硬化性組成物には、好ましくは溶剤がさらに含有されていてもよい。溶剤としては、上記ポリオルガノシルセスキオキサン、及び必要に応じて使用される添加物を溶解することができ、且つ重合を阻害しないものであれば特に制限されることはない。
[solvent]
The curable composition of the present invention may preferably further contain a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the above-mentioned polyorganosylsesquioxane and additives used as necessary and does not inhibit polymerization.

溶剤は、スピンコートによって塗布するのに適した流動性を付与することができ、且つ重合の進行を抑制可能な温度において加熱することにより容易に除去できる溶剤を使用することが好ましく、沸点(1気圧における)が170℃以下の溶剤(例えば、トルエン、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、キシレン、メシチレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン等)を1種又は2種以上使用することが好ましい。 As the solvent, it is preferable to use a solvent that can impart fluidity suitable for coating by spin coating and can be easily removed by heating at a temperature at which the progress of polymerization can be suppressed, and has a boiling point (1). One or more solvents (eg, toluene, butyl acetate, methyl isobutyl ketone, xylene, mesitylene, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, etc.) with a temperature of 170 ° C. or lower (at atmospheric pressure) may be used. preferable.

溶剤は、硬化性組成物に含まれる不揮発分の濃度が例えば30〜80重量%程度、好ましくは40〜70重量%、特に好ましくは50〜60重量%となる範囲で使用することが、スピンコートする際に塗布性に優れる点で好ましい。溶剤の使用量が過剰であると、硬化性組成物の粘度が低くなり適度な膜厚(例えば、0.5〜30μm程度)の層を形成することが困難となる傾向がある。一方、溶剤の使用量が少なすぎると、硬化性組成物の粘度が高くなりすぎ、支持体若しくは被着物に均一に塗布することが困難となる傾向がある。 The solvent can be used in a spin coating range in which the concentration of the non-volatile component contained in the curable composition is, for example, about 30 to 80% by weight, preferably 40 to 70% by weight, and particularly preferably 50 to 60% by weight. It is preferable in that it is excellent in coatability. If the amount of the solvent used is excessive, the viscosity of the curable composition tends to be low, and it tends to be difficult to form a layer having an appropriate film thickness (for example, about 0.5 to 30 μm). On the other hand, if the amount of the solvent used is too small, the viscosity of the curable composition becomes too high, and it tends to be difficult to apply it uniformly to the support or the adherend.

本発明の硬化性組成物は、さらに、その他任意の成分として、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、硬化助剤、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤、重金属不活性化剤など)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤など)、難燃助剤、補強材(他の充填剤など)、核剤、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、透明化剤、レオロジー調整剤(流動性改良剤など)、加工性改良剤、着色剤(染料、顔料など)、帯電防止剤、分散剤、表面調整剤(消泡剤、レベリング剤、ワキ防止剤など)、表面改質剤(スリップ剤など)、艶消し剤、消泡剤、抑泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、光増感剤、発泡剤などの慣用の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。 The curable composition of the present invention further includes precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, and calcium carbonate as any other components. , Carbon black, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride and other inorganic fillers, and these fillers treated with organic silicon compounds such as organohalosilane, organoalkoxysilane and organosilazane; silicone resin, epoxy resin , Organic resin fine powder such as fluororesin; filler such as conductive metal powder such as silver and copper, curing aid, stabilizer (antioxidant, ultraviolet absorber, light resistance stabilizer, heat stabilizer, heavy metal Defoamers, etc.), flame retardants (phosphorus flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardants, reinforcing materials (other fillers, etc.), nucleating agents, lubricants, waxes, plastics Agent, mold release agent, impact resistance improver, hue improver, clearing agent, rheology adjuster (fluidity improver, etc.), processability improver, colorant (dye, pigment, etc.), antistatic agent, dispersant , Surface conditioners (defoamers, leveling agents, anti-armpits, etc.), surface modifiers (slip agents, etc.), matting agents, defoaming agents, defoaming agents, defoaming agents, antibacterial agents, preservatives, It may contain conventional additives such as viscosity modifiers, thickeners, photosensitizers and foaming agents. These additives may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で又は必要に応じて加熱しながら攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。 The curable composition of the present invention is not particularly limited, but can be prepared by stirring and mixing each of the above components at room temperature or, if necessary, while heating. The curable composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance and used as it is. For example, two or more components stored separately can be used. Can also be used as a multi-component (for example, two-component) composition which is used by mixing in a predetermined ratio before use.

本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。スピンコートにて塗布を行う場合、硬化性組成物の粘度は塗布膜厚に応じて調整することが好ましく、0.1〜50μmの膜厚で塗布する場合には、1〜5000mPa・sとすることが好ましい。この粘度において、例えばシリコンウエハなどの基板に均一な膜厚を有する塗膜を形成することができる。なお、本発明の硬化性組成物の粘度は、粘度計(商品名「MCR301」、アントンパール社製)を用いて、振り角5%、周波数0.1〜100(1/s)、温度:25℃の条件で測定される。 The curable composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably liquid at room temperature (about 25 ° C.). When coating by spin coating, the viscosity of the curable composition is preferably adjusted according to the coating film thickness, and when coating with a film thickness of 0.1 to 50 μm, it is 1 to 5000 mPa · s. Is preferable. At this viscosity, a coating film having a uniform film thickness can be formed on a substrate such as a silicon wafer. The viscosity of the curable composition of the present invention was determined by using a viscometer (trade name "MCR301", manufactured by Anton Pearl Co., Ltd.), a swing angle of 5%, a frequency of 0.1 to 100 (1 / s), and a temperature: Measured under the condition of 25 ° C.

[硬化物]
本発明の硬化性組成物におけるカチオン硬化性化合物(本発明のポリオルガノシルセスキ等)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができ、硬化物(「本発明の硬化物」と称する場合がある)を得ることができる。硬化の方法は、周知の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
[Cured product]
By advancing the polymerization reaction of the cationically curable compound (polyorganosilseschi of the present invention, etc.) in the curable composition of the present invention, the curable composition can be cured, and the cured product (“the present invention”. (Sometimes referred to as a "cured product") can be obtained. The curing method can be appropriately selected from well-known methods, and is not particularly limited, and examples thereof include a method of irradiating with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Of these, ultraviolet rays are preferable because they are easy to handle.

本発明の硬化性組成物を活性エネルギー線の照射により硬化させる際の条件(活性エネルギー線の照射条件等)は、照射する活性エネルギー線の種類やエネルギー、硬化物の形状やサイズ等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、紫外線を照射する場合には、例えば1〜1000mJ/cm2程度とすることが好ましい。なお、活性エネルギー線の照射には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、LEDランプ、レーザー等を使用することができる。活性エネルギー線の照射後には、さらに加熱処理(アニール、エージング)を施してさらに硬化反応を進行させることができる。 The conditions for curing the curable composition of the present invention by irradiation with active energy rays (irradiation conditions for active energy rays, etc.) depend on the type and energy of the active energy rays to be irradiated, the shape and size of the cured product, and the like. It can be adjusted as appropriate and is not particularly limited, but when it is irradiated with ultraviolet rays, it is preferably about 1 to 1000 mJ / cm 2 for example. For irradiation of the active energy ray, for example, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, sunlight, an LED lamp, a laser or the like can be used. After the irradiation with the active energy rays, further heat treatment (annealing, aging) can be performed to further proceed the curing reaction.

一方、本発明の硬化性組成物を加熱により硬化させる際の条件は、本発明の硬化性組成物はポリオルガノシルセスキオキサンを含有するため、200℃未満の低温で加熱することにより速やかに硬化物を形成することができる。すなわち、低温硬化性を有する。加熱温度としては、例えば、50〜190℃である。硬化時間は適宜設定可能である。 On the other hand, the condition for curing the curable composition of the present invention by heating is that since the curable composition of the present invention contains polyorganosylsesquioxane, it can be quickly heated at a low temperature of less than 200 ° C. A cured product can be formed. That is, it has low temperature curability. The heating temperature is, for example, 50 to 190 ° C. The curing time can be set as appropriate.

本発明の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物は耐熱性に優れ、熱分解温度は200℃以上(例えば200〜500℃)、好ましくは260℃以上、特に好ましくは300℃以上である。 The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention has excellent heat resistance, and the thermal decomposition temperature is 200 ° C. or higher (for example, 200 to 500 ° C.), preferably 260 ° C. or higher, particularly preferably 300 ° C. or higher. is there.

本発明の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する優れた接着性及び密着性を有する。そのため、本発明の硬化性組成物は、接着剤(「接着剤用組成物」と称する場合がある)として好ましく使用でき、それを硬化させることにより、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する接着性及び密着性に優れた接着材へと転化させることができる。上記接着剤は、例えば、本発明の硬化性組成物が光カチオン重合開始剤を含む場合には光硬化性接着剤として、熱カチオン重合開始剤を含む場合には熱硬化性接着剤として使用することができる。 The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention has heat resistance, crack resistance, excellent adhesiveness to an adherend, and adhesion. Therefore, the curable composition of the present invention can be preferably used as an adhesive (sometimes referred to as an "adhesive composition"), and by curing it, heat resistance, crack resistance, and adherence can be obtained. It can be converted into an adhesive material having excellent adhesiveness and adhesion. The adhesive is used, for example, as a photocurable adhesive when the curable composition of the present invention contains a photocationic polymerization initiator, and as a thermosetting adhesive when the curable composition contains a thermocationic polymerization initiator. be able to.

本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)は、後述の接着シートや積層物を得るための用途に限定されず、所望の物品(部品等)同士を接着する各種用途に使用することができる。 The curable composition (composition for an adhesive) of the present invention is not limited to the use for obtaining an adhesive sheet or a laminate described later, and is used for various uses for adhering desired articles (parts, etc.) to each other. Can be done.

[接着シート]
本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)を用いることにより、基材と、該基材上の接着剤層とを少なくとも有する接着シートであって、上記接着剤層が本発明の硬化性組成物の層(「本発明の接着剤層」と称する場合がある)である接着シート(「本発明の接着シート」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の接着シートには、シート状のみならず、フィルム状、テープ状、板状等のシート状に類する形態が包含される。本発明の接着シートは、特に限定されないが、例えば、基材に本発明の硬化性組成物を塗布し、さらに、必要に応じて乾燥させることによって得ることができる。塗布の方法は特に限定されず、周知慣用の手段を利用することができる。また、乾燥の手段や条件も特に限定されず、溶媒等の揮発分をできるだけ除去できる条件を設定することができ、周知慣用の手段を用いることができる。特に、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上である重合開始剤を含有する場合は、加熱乾燥することにより、硬化反応を進行させること無く速やかに接着剤層を形成することができ、また、得られる接着剤層は50℃未満では接着性を有さないため切削刃に糊が付着することなく切削加工を行うことができ、半導体チップ等の被接着層へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現し、その後、速やかに硬化する特性を有する。
[Adhesive sheet]
By using the curable composition (composition for adhesive) of the present invention, it is an adhesive sheet having at least a base material and an adhesive layer on the base material, and the adhesive layer is the curing of the present invention. An adhesive sheet (sometimes referred to as "the adhesive sheet of the present invention") which is a layer of the sex composition (sometimes referred to as "the adhesive layer of the present invention") can be obtained. The adhesive sheet of the present invention includes not only sheet-like forms but also sheet-like forms such as film-like, tape-like, and plate-like forms. The adhesive sheet of the present invention is not particularly limited, but can be obtained, for example, by applying the curable composition of the present invention to a base material and further drying it if necessary. The method of application is not particularly limited, and well-known and commonly used means can be used. Further, the drying means and conditions are not particularly limited, and conditions that can remove volatile substances such as a solvent as much as possible can be set, and well-known and commonly used means can be used. In particular, when it contains a polymerization initiator having a thermosetting time of 3.5 minutes or more at 130 ° C. of a composition obtained by adding 1 part by weight to 100 parts by weight of celloxide 2021P (manufactured by Daicel Co., Ltd.). By heating and drying, an adhesive layer can be formed quickly without advancing the curing reaction, and since the obtained adhesive layer does not have adhesiveness below 50 ° C., glue is applied to the cutting blade. It can be cut without adhering, and exhibits adhesiveness by heating at a temperature at which damage to the adherend layer such as a semiconductor chip can be suppressed, and then has the property of rapidly curing.

本発明の接着シートは、基材の片面側のみに接着剤層を有する片面接着シートであってもよいし、基材の両面側に接着剤層を有する両面接着シートであってもよい。本発明の接着シートが両面接着シートである場合、少なくとも一方の接着剤層が本発明の接着剤層であればよく、他方は、本発明の接着剤層であってもよいし、その他の接着剤層であってもよい。 The adhesive sheet of the present invention may be a single-sided adhesive sheet having an adhesive layer only on one side of the base material, or a double-sided adhesive sheet having an adhesive layer on both sides of the base material. When the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet, at least one adhesive layer may be the adhesive layer of the present invention, the other may be the adhesive layer of the present invention, or the other adhesive layer. It may be an agent layer.

本発明の接着シートにおける基材としては、周知慣用の基材(接着シートに使用される基材)を使用することができ、特に限定されないが、例えば、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材、表面が塗装表面である基材等が挙げられる。また、本発明の接着シートにおける基材は、いわゆる剥離ライナーであってもよい。尚、本発明の接着シートは、基材を1層のみ有するものであってもよいし、2層以上有するものであってもよい。また、上記基材の厚みは特に限定されず、例えば、1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。 As the base material in the adhesive sheet of the present invention, a well-known and commonly used base material (base material used for the adhesive sheet) can be used, and is not particularly limited, but for example, a plastic base material, a metal base material, or a ceramic base material. Examples thereof include materials, semiconductor base materials, glass base materials, paper base materials, wood base materials, and base materials whose surface is a painted surface. Further, the base material in the adhesive sheet of the present invention may be a so-called release liner. The adhesive sheet of the present invention may have only one layer of the base material, or may have two or more layers. The thickness of the base material is not particularly limited, and can be appropriately selected in the range of 1 to 10000 μm, for example.

本発明の接着シートは、本発明の接着剤層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着剤層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。その他の接着剤層(本発明の接着剤層以外の接着剤層)についても同様である。 The adhesive sheet of the present invention may have only one adhesive layer of the present invention, or may have two or more kinds of the adhesive layer. The thickness of the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected in the range of 0.1 to 10000 μm, for example. The same applies to other adhesive layers (adhesive layers other than the adhesive layer of the present invention).

本発明の接着シートは、基材と接着剤層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層等)を有するものであってもよく、上述のシランカップリング剤等で表面処理されたものであってもよい。 The adhesive sheet of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, etc.) in addition to the base material and the adhesive layer, and is surface-treated with the above-mentioned silane coupling agent or the like. It may be an invention.

[積層物]
本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)を用いることにより、3層以上(少なくとも3層)で構成される積層物(積層体)であって、2層の被接着層と、これらの被接着層の間に位置する接着層(上記被接着層同士を接着する層)とを少なくとも有し、上記接着層が本発明の硬化性組成物の硬化物の層(「本発明の接着層」と称する場合がある)である積層物(「本発明の積層物」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の積層物は、特に限定されないが、例えば、一方の被接着層に本発明の接着剤層を形成し(例えば、本発明の接着シートにおける接着剤層と同様に形成できる)、さらに、当該接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、光照射や加熱等によって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。また、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが片面接着シートである場合には、本発明の接着シートを被接着層に貼り合わせ、次いで、光照射や加熱等によって上記接着シート中の本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。この場合、本発明の接着シートにおける基材が被接着層に当たる積層物が得られる。さらに、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが両面接着シートであって基材が剥離ライナーである場合には、本発明の接着シートを一方の被接着層に貼り合わせ、剥離ライナーを剥離し、次いで、露出させた接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、光照射や加熱等によって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。但し、本発明の積層物の製造方法は、これらの方法に限定されない。
[Laminate]
By using the curable composition (composition for adhesive) of the present invention, it is a laminate (laminate) composed of three or more layers (at least three layers), and two layers to be adhered and these. It has at least an adhesive layer (a layer that adheres the adhesive layers to each other) located between the layers to be adhered, and the adhesive layer is a layer of a cured product of the curable composition of the present invention (“Adhesion of the present invention”. A laminate (sometimes referred to as the "laminate of the present invention") that is (sometimes referred to as a "layer") can be obtained. The laminate of the present invention is not particularly limited, but for example, the adhesive layer of the present invention is formed on one layer to be adhered (for example, it can be formed in the same manner as the adhesive layer in the adhesive sheet of the present invention), and further. It can be obtained by adhering the other adhesive layer to the adhesive layer and then curing the adhesive layer of the present invention by light irradiation, heating, or the like. Further, in the laminate of the present invention, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a single-sided adhesive sheet, the adhesive sheet of the present invention is bonded to the adhesive layer, and then the adhesive sheet is subjected to light irradiation, heating or the like. It can be obtained by curing the adhesive layer of the present invention inside. In this case, a laminate in which the base material in the adhesive sheet of the present invention hits the adherend layer is obtained. Further, in the laminate of the present invention, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet and the base material is a release liner, the adhesive sheet of the present invention is attached to one layer to be adhered and peeled off. It can be obtained by peeling off the liner, then adhering the other layer to be adhered to the exposed adhesive layer, and then curing the adhesive layer of the present invention by light irradiation, heating, or the like. However, the method for producing the laminate of the present invention is not limited to these methods.

本発明の積層物における被接着体は特に限定されず、例えば、上記接着シートにおける基材と同様のものが例示される。尚、本発明の積層物は、被接着体を2層のみ有するものであってもよいし、3層以上有するものであってもよい。また、被接着体の厚みは特に限定されず、例えば、1〜100000μmの範囲で適宜選択できる。被接着体は、厳密な層状の形態を有していなくてもよい。 The adherend in the laminate of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include those similar to the base material in the adhesive sheet. The laminate of the present invention may have only two layers of the body to be adhered, or may have three or more layers. The thickness of the adherend is not particularly limited, and can be appropriately selected in the range of 1 to 100,000 μm, for example. The adherend does not have to have a strict layered morphology.

本発明の積層物は、本発明の接着層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。 The laminate of the present invention may have only one adhesive layer of the present invention, or may have two or more kinds of adhesive layers. The thickness of the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected in the range of 0.1 to 10000 μm, for example.

本発明の積層物は、上記被接着体と本発明の接着層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層、その他の接着層等)を有するものであってもよく、上述のシランカップリング剤等で表面処理されたものであってもよい。 The laminate of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, another adhesive layer, etc.) in addition to the above-mentioned bonded body and the adhesive layer of the present invention, and may be described above. It may be surface-treated with a silane coupling agent or the like.

本発明の積層物は、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた接着層により被接着体が接着された構成を有する。そのため、本発明の積層物は、接着層にクラックや剥離が生じることにより被接着体が剥離したり、配線が破壊されたりすることを防止することができ、積層物を備えた装置の信頼性を向上することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。 The laminate of the present invention has a structure in which the adherend is adhered by an adhesive layer having excellent heat resistance, crack resistance, adhesiveness to the adherend, and adhesion. Therefore, the laminate of the present invention can prevent the adherend from peeling or the wiring from being broken due to cracks or peeling in the adhesive layer, and the reliability of the device including the laminate can be prevented. Can be improved. When the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it has higher integration and power saving than the conventional semiconductor. Therefore, if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. Electronic devices can be provided.

本発明の積層物としては、例えば、マイクロプロセッサ、半導体メモリ、電源用IC、通信用IC、半導体センサー、MEMS、及びこれらを組み合わせた半導体等を挙げることができる。これらは高性能なサーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等において使用される。 Examples of the laminate of the present invention include a microprocessor, a semiconductor memory, a power supply IC, a communication IC, a semiconductor sensor, a MEMS, and a semiconductor combining these. These are used in high-performance servers, workstations, in-vehicle computers, personal computers, communication devices, photographing devices, image display devices, and the like.

従って、前記積層物を有する(若しくは、積層物を備えた)本発明の装置としては、例えば、サーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等を挙げることができる。 Therefore, examples of the apparatus of the present invention having (or having the laminate) the laminate include a server, a workstation, an in-vehicle computer, a personal computer, a communication device, a photographing device, an image display device, and the like. Can be done.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、実施例1〜4、7〜10は参考例として記載されるものである。
なお、生成物の分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃、分子量:標準ポリスチレン換算により行った。
生成物のFT−IRスペクトルの測定は、測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)、測定方法:透過法、分解能:4cm-1、測定波数域:400〜4000cm-1、積算回数:16回により行った。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, Examples 1 to 4 and 7 to 10 are described as reference examples.
The molecular weight of the product was measured by Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractometer Index 2414 (manufactured by Waters), column: Tskgel GMH HR- M × 2 (manufactured by Toso Co., Ltd.), guard column: Tskgel guard. column (manufactured by Tosoh (Ltd.)) H HR L, column oven: cOLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), solvent: THF, measuring conditions: 40 ° C., the molecular weight was performed by standard polystyrene.
Measurement of FT-IR spectrum of the product, measuring apparatus: trade name "FT-720" (KK Horiba) Measurement method: transmission method, resolution: 4 cm -1, measured wavenumbers: 400~4000Cm - 1. Number of integrations: 16 times.

なお、以下において商品名「SI−150L」の配合量は、固形分換算の量で示した。 In the following, the blending amount of the product name “SI-150L” is shown in terms of solid content.

実施例1
(ポリオルガノシルセスキオキサン(1)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「EMS」と称する)101.47mmol(25.00g)、メチルトリメトキシシラン101.47mmol(13.82g)、及びアセトン155.29gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液5.61g(炭酸カリウムとして2.03mmol)を5分で滴下し、次いで、水2029mmol(36.85g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で1時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(1))を得た。該液状樹脂(1)のポリスチレン換算重量平均分子量は7100、数平均分子量は2200(分子量分散度:3.23)であった。
Example 1
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (1))
2- (3,4-Epoxide cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter, "EMS") in a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. 101.47 mmol (25.00 g), methyltrimethoxysilane 101.47 mmol (13.82 g), and acetone 155.29 g were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 5.61 g (2.03 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 2029 mmol (36.85 g) of water was added dropwise over 20 minutes. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 1 hour at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (1)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (1) was 7100, and the number average molecular weight was 2200 (molecular weight dispersion: 3.23).

実施例2
(ポリオルガノシルセスキオキサン(2)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS150.17mmol(37.00g)、メチルトリメトキシシラン16.69mmol(2.27g)、及びアセトン157.09gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.61g(炭酸カリウムとして1.67mmol)を5分で滴下し、次いで、水1669mmol(30.30g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(2))を得た。該液状樹脂(2)のポリスチレン換算重量平均分子量は2800、数平均分子量は1700(分子量分散度:1.65)であった。
Example 2
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (2))
EMS150.17 mmol (37.00 g), methyltrimethoxysilane 16.69 mmol (2.27 g) in a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, reflux condenser, and nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. ) And 157.09 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.61 g (1.67 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 1669 mmol (30.30 g) of water was added dropwise over 20 minutes. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 4 hours at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (2)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (2) was 2800, and the number average molecular weight was 1700 (molecular weight dispersion: 1.65).

実施例3
(ポリオルガノシルセスキオキサン(3)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた1Lのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS207.0mmol(51.0g)、フェニルトリメトキシシラン86.25mmol(17.1g)、グリシジルトリメトキシシラン51.75mmol(12.23g)、及びアセトン321.33gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液9.54g(炭酸カリウムとして3.45mmol)を5分で滴下した後、水3.45mol(62.65g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(3))を得た。該液状樹脂(3)のポリスチレン換算重量平均分子量は2700、数平均分子量は1700(分子量分散度:1.59)であった。
Example 3
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (3))
EMS 207.0 mmol (51.0 g), phenyltrimethoxysilane 86.25 mmol (17.1 g) in a 1 L flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, reflux condenser, and nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. ), 51.75 mmol (12.23 g) of glycidyltrimethoxysilane, and 321.33 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 9.54 g (3.45 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 3.45 mol (62.65 g) of water was added dropwise over 20 minutes. .. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 4 hours at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (3)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (3) was 2700, and the number average molecular weight was 1700 (molecular weight dispersion: 1.59).

実施例4
(ポリオルガノシルセスキオキサン(4)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS161.50mmol(39.79g)、ヘキシルトリメトキシシラン8.50mmol(1.75g)、及びアセトン166.18gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.70g(炭酸カリウムとして1.70mmol)を5分で滴下し、次いで、水1699.98mmol(30.87g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(4))を得た。該液状樹脂(4)のポリスチレン換算重量平均分子量は2800、数平均分子量は1800(分子量分散度:1.56)であった。
Example 4
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (4))
EMS161.50 mmol (39.79 g), hexyltrimethoxysilane 8.50 mmol (1.75 g) in a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, reflux condenser, and nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. ) And 166.18 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.70 g (1.70 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 1699.98 mmol (30.87 g) of water was added dropwise over 20 minutes. did. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 4 hours at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (4)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (4) was 2800, and the number average molecular weight was 1800 (molecular weight dispersion: 1.56).

実施例5
(ポリオルガノシルセスキオキサン(5)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS161.5mmol(39.79g)、ドデシルトリメトキシシラン8.5mmol(2.47g)、及びアセトン169.04gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.70g(炭酸カリウムとして1.7mmol)を5分で滴下し、次いで、水1700mmol(30.87g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(5))を得た。該液状樹脂(5)のポリスチレン換算重量平均分子量は3400、数平均分子量は2100(分子量分散度:1.62)であった。
Example 5
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (5))
EMS 161.5 mmol (39.79 g), dodecyltrimethoxysilane 8.5 mmol (2.47 g) in a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, reflux condenser, and nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. ) And 169.04 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.70 g (1.7 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 1700 mmol (30.87 g) of water was added dropwise over 20 minutes. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 4 hours at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (5)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (5) was 3400, and the number average molecular weight was 2100 (molecular weight dispersion: 1.62).

実施例6
(ポリオルガノシルセスキオキサン(6)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS121.76mmol(30.00g)、ヘキサデシルトリメトキシシラン30.44mmol(10.55g)、及びアセトン162.21gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.21g(炭酸カリウムとして1.52mmol)を5分で滴下し、次いで、水1522mmol(27.64g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(6))を得た。該液状樹脂(6)のポリスチレン換算重量平均分子量は2300、数平均分子量は1800(分子量分散度:1.28)であった。
実施例6ので得られたポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルを上記の方法で測定したところ、1100cm-1付近の1089.58cm-1に一つの固有吸収ピークを有することが確認された。
Example 6
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (6))
EMS 121.76 mmol (30.00 g) and hexadecyltrimethoxysilane 30.44 mmol (10.) in a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, reflux condenser, and nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. 55 g) and 162.21 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.21 g (1.52 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 1522 mmol (27.64 g) of water was added dropwise over 20 minutes. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 4 hours at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (6)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (6) was 2300, and the number average molecular weight was 1800 (molecular weight dispersion: 1.28).
When the FT-IR spectrum of polyorganosilsesquioxane obtained since Example 6 was measured by the above method, it was confirmed that one of the specific absorption peaks 1089.58Cm -1 around 1100 cm -1 ..

製造例1
(ポリオルガノシルセスキオキサン(7)の作製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS162.35mmol(40.0g)及びアセトン40.0gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.49g(炭酸カリウムとして1.62mmol)を5分で滴下した後、水1623.51mmol(29.48g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で3時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン(7))を得た。該液状樹脂(7)のポリスチレン換算重量平均分子量は14400、数平均分子量は4000(分子量分散度:3.60)であった。
Manufacturing example 1
(Preparation of polyorganosylsesquioxane (7))
In a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, agitator, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube, EMS162.35 mmol (40.0 g) and acetone 40.0 g were charged under a nitrogen stream and raised to 50 ° C. It was warm. To the mixture thus obtained, 4.49 g (1.62 mmol as potassium carbonate) of a 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 1623.51 mmol (29.48 g) of water was added dropwise over 20 minutes. .. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 3 hours at 50 ° C.
Then, after adding methyl isobutyl ketone and a saline solution, the reaction solution was cooled and the upper layer solution was separated. Then, the lower layer liquid was washed with water until it became neutral, and the solvent was distilled off from the upper layer liquid under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. until the solvent amount became 25% by weight, and a colorless and transparent liquid resin (polyorganosilsesqui) was used. Oxane (7)) was obtained. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the liquid resin (7) was 14400, and the number average molecular weight was 4000 (molecular weight dispersion: 3.60).

実施例1〜6、製造例1で得られたポリオルガノシルセスキオキサン(1)〜(7)の原料のシラン化合物の割合(モル%)、重量平均分子量、数平均分子量及び分子量分散度を表1に示す。表1中のサンプルNo.(1)〜(7)はポリオルガノシルセスキオキサン(1)〜(7)に対応する。 The ratio (molar%), weight average molecular weight, number average molecular weight, and molecular weight dispersion of the silane compounds as raw materials of the polyorganosylsesquioxane (1) to (7) obtained in Examples 1 to 6 and Production Example 1 were determined. It is shown in Table 1. Sample No. in Table 1 (1) to (7) correspond to polyorganosylsesquioxane (1) to (7).

Figure 0006785538
Figure 0006785538

実施例7〜12
(接着剤組成物の作製)
表2に示す組成及び量に従って混合溶解して、接着剤組成物(1)〜(6)を調製した。表中のポリオルガノシルセスキオキサンのサンプルNo.(1)〜(6)はポリオルガノシルセスキオキサン(1)〜(6)にそれぞれ対応し、数字は重量部である。なお、商品名「SI−150L」の配合量は、固形分換算の量で示した。
Examples 7-12
(Preparation of adhesive composition)
Adhesive compositions (1) to (6) were prepared by mixing and dissolving according to the composition and amount shown in Table 2. Sample No. of polyorganosylsesquioxane in the table. (1) to (6) correspond to polyorganosylsesquioxane (1) to (6), respectively, and the numbers are parts by weight. The blending amount of the trade name "SI-150L" is shown in terms of solid content.

(接着剤層の作製)
シリコン板(サイズ:2cm×5cm、(株)SUMCO製、直径100mmのシリコンウエハをダイシングして得た)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製、以後「KBE403」と称する場合がある)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きシリコン板を得た。
シランカップリング剤層付きシリコン板に接着剤組成物(1)〜(6)をスピンコートで塗布し、80℃で4分、次いで100℃で2分加熱して残留する溶剤を除去して、接着剤層(1)〜(6)付きシリコン板を得た。接着剤層(1)〜(6)の膜厚は5〜6μmであった。
(Preparation of adhesive layer)
Silane coupling agent (trade name "KBE403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hereinafter "KBE403") on a silicon plate (size: 2 cm x 5 cm, manufactured by SUMCO Corporation, obtained by dicing a silicon wafer with a diameter of 100 mm) (Sometimes referred to as)) was applied by spin coating and heated at 120 ° C. for 5 minutes to obtain a silicon plate with a silane coupling agent layer.
The adhesive compositions (1) to (6) are applied to a silicon plate with a silane coupling agent layer by spin coating, and heated at 80 ° C. for 4 minutes and then at 100 ° C. for 2 minutes to remove residual solvent. Silicon plates with adhesive layers (1) to (6) were obtained. The film thickness of the adhesive layers (1) to (6) was 5 to 6 μm.

(積層物の作製)
ガラス板(4インチ、SCHOTT日本(株)製)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製、以後「KBE403」と称する場合がある)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きガラス板を得た。減圧下で、作製したシランカップリング剤層付きガラス板のシランカップリング剤層面を接着剤層(1)〜(6)面と合わせ、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力をかけて貼り合わせた後、150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱することにより、積層物(1)〜(6)を得た。
(Preparation of laminate)
A silane coupling agent (trade name "KBE403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hereinafter sometimes referred to as "KBE403") is applied to a glass plate (4 inches, manufactured by SCHOTT Japan Co., Ltd.) by spin coating. The glass plate with a silane coupling agent layer was obtained by heating at 120 ° C. for 5 minutes. Under reduced pressure, the silane coupling agent layer surface of the prepared glass plate with the silane coupling agent layer is combined with the adhesive layer (1) to (6) surfaces, and a pressure of 200 g / cm 2 is applied while heating at 60 ° C. After bonding, the laminates (1) to (6) were obtained by heating at 150 ° C. for 30 minutes and then at 170 ° C. for 30 minutes.

得られた接着剤組成物(1)〜(6)、接着剤層(1)〜(6)、積層物(1)〜(6)について以下の通り評価を行った。
[評価]
(耐熱性)
接着剤組成物を加熱して得られた硬化物について、熱分析装置(商品名「TG−DTA6300」、セイコー電子工業(株)製)を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分の条件で熱重量分析し、下記基準で耐熱性を評価した。尚、熱分解温度(T)とは、図1に示すように、初期の重量減少のない、或いは漸減しているところ(図中のAで示される範囲)の接線と、急激に重量減少が起こっているところ(図中のBで示される範囲)の変曲点の接線が交叉するところの温度である。
評価基準:熱分解温度(T)が260℃以上のときを合格(○)とする。
The obtained adhesive compositions (1) to (6), adhesive layers (1) to (6), and laminates (1) to (6) were evaluated as follows.
[Evaluation]
(Heat-resistant)
The cured product obtained by heating the adhesive composition was subjected to a heating rate of 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere using a thermogravimetric analyzer (trade name "TG-DTA6300", manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.). Thermogravimetric analysis was performed under the conditions of, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria. As shown in FIG. 1, the thermal decomposition temperature (T) is a tangent line where there is no initial weight loss or where the weight is gradually reduced (range indicated by A in the figure), and the weight is rapidly reduced. It is the temperature at which the tangents of the inflection points where they are occurring (the range indicated by B in the figure) intersect.
Evaluation Criteria: Pass (◯) when the thermal decomposition temperature (T) is 260 ° C. or higher.

(密着性)
接着剤層付きシリコン板における接着剤層を加熱して得られた接着剤層の硬化物について、碁盤目テープ試験(JIS K5400−8.5準拠)を行い、下記基準でシリコン板への密着性を評価した。
評価基準:接着剤層の剥離が見られないときを合格(○)とする。
(Adhesion)
A grid tape test (JIS K5400-8.5 compliant) was performed on the cured product of the adhesive layer obtained by heating the adhesive layer in the silicon plate with an adhesive layer, and the adhesion to the silicon plate was based on the following criteria. Was evaluated.
Evaluation Criteria: Pass (○) when no peeling of the adhesive layer is observed.

(耐クラック性)
接着剤層付きシリコン板における接着剤層を加熱して得られた接着剤層の硬化物について、冷熱衝撃(170℃で30分加熱、あるいは、200℃で30分加熱、あるいは、250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷)を付与し、下記基準でクラックの程度を評価した。
評価基準:冷熱衝撃(170℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷)を付与し、クラックの無い部分が硬化物の80%以上であるときを△とする。冷熱衝撃(200℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷)を付与し、クラックの無い部分が硬化物の80%以上であるときを○とする。冷熱衝撃(250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷)を付与し、クラックの無い部分が硬化物の80%以上であるときを◎とする。
(Crack resistance)
The cured product of the adhesive layer obtained by heating the adhesive layer in the silicon plate with the adhesive layer is subjected to a thermal shock (heating at 170 ° C. for 30 minutes, heating at 200 ° C. for 30 minutes, or heating at 250 ° C. for 30 minutes. After heating for a minute and then quenching to room temperature), the degree of cracking was evaluated according to the following criteria.
Evaluation Criteria: A cold shock (heated at 170 ° C. for 30 minutes and then rapidly cooled to room temperature) is applied, and a value is defined as Δ when the crack-free portion is 80% or more of the cured product. A thermal shock (heating at 200 ° C. for 30 minutes and then quenching to room temperature) is applied, and the case where the crack-free portion is 80% or more of the cured product is marked with ◯. When a cold shock (heating at 250 ° C. for 30 minutes and then quenching to room temperature) is applied and the crack-free portion is 80% or more of the cured product, ⊚ is defined.

(接着性)
積層物の接着界面にカミソリ刃(商品名「片刃トリミング用カミソリ」、日新EM社製)を挿入し、下記基準で密着性を評価した。
評価基準:接着面での剥離が見られないときを合格(○)とする。
(Adhesiveness)
A razor blade (trade name "single-edged trimming razor", manufactured by Nissin EM) was inserted into the adhesive interface of the laminate, and the adhesion was evaluated according to the following criteria.
Evaluation Criteria: Pass (○) when no peeling is observed on the adhesive surface.

[結果]
(耐熱性)
接着剤組成物(1)〜(6)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、熱分解温度は、260℃以上であった。結果を表2に示す。
(耐クラック性)
接着剤層(1)〜(6)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、170℃で30分加熱、あるいは、200℃で30分加熱、あるいは、250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷した結果、耐クラック性に優れることが確認された。結果を表2に示す。
(密着性)
接着剤層(1)〜(6)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、碁盤目テープ試験の結果、接着剤層(1)〜(6)の剥離は見られず、密着性に優れることが確認された。結果を表2に示す。
(接着性)
積層物(1)〜(6)の接着界面にカミソリ刃を挿入したところ、接着面での剥離は生じず、積層物における接着層は接着性に優れることが確認された。結果を表2に示す。
[result]
(Heat-resistant)
The pyrolysis temperature of the cured product obtained by heating the adhesive compositions (1) to (6) at 150 ° C. for 30 minutes and then at 170 ° C. for 30 minutes was 260 ° C. or higher. The results are shown in Table 2.
(Crack resistance)
The adhesive layers (1) to (6) are heated at 150 ° C. for 30 minutes, and then the cured product obtained by heating at 170 ° C. for 30 minutes is heated at 170 ° C. for 30 minutes or at 200 ° C. for 30 minutes. As a result of heating or heating at 250 ° C. for 30 minutes and then quenching to room temperature, it was confirmed that the crack resistance was excellent. The results are shown in Table 2.
(Adhesion)
The adhesive layers (1) to (6) were heated at 150 ° C. for 30 minutes, and then the cured product obtained by heating at 170 ° C. for 30 minutes was subjected to a grid tape test. As a result, the adhesive layers (1) to (1) to No peeling of (6) was observed, and it was confirmed that the adhesion was excellent. The results are shown in Table 2.
(Adhesiveness)
When the razor blade was inserted into the adhesive interface of the laminates (1) to (6), peeling did not occur on the adhesive surface, and it was confirmed that the adhesive layer in the laminate was excellent in adhesiveness. The results are shown in Table 2.

比較例1
(接着剤組成物(7)の作製)
表2に示す組成及び量に従って混合溶解して、接着剤組成物(7)を調製した。表中のポリオルガノシルセスキオキサンのサンプルNo.(7)はポリオルガノシルセスキオキサン(7)に対応し、数字は重量部である。
(接着剤層(7)の作製)
接着剤組成物(1)〜(6)に代えて接着剤組成物(7)を使用した以外は実施例7〜12と同様にして接着剤層(7)付きシリコン板を得た。接着剤層(7)の膜厚は5〜6μmであった。
(耐クラック性)
得られた接着剤層(7)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物を、170℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷したところ、クラックが発生した。結果を表2に示す。
Comparative Example 1
(Preparation of Adhesive Composition (7))
The adhesive composition (7) was prepared by mixing and dissolving according to the composition and amount shown in Table 2. Sample No. of polyorganosylsesquioxane in the table. (7) corresponds to polyorganosylsesquioxane (7), and the numbers are parts by weight.
(Preparation of adhesive layer (7))
A silicon plate with an adhesive layer (7) was obtained in the same manner as in Examples 7 to 12 except that the adhesive composition (7) was used instead of the adhesive compositions (1) to (6). The film thickness of the adhesive layer (7) was 5 to 6 μm.
(Crack resistance)
The obtained adhesive layer (7) was heated at 150 ° C. for 30 minutes, then the cured product obtained by heating at 170 ° C. for 30 minutes was heated at 170 ° C. for 30 minutes, and then rapidly cooled to room temperature. , A crack occurred. The results are shown in Table 2.

Figure 0006785538
Figure 0006785538

なお、表2中の記号は下記化合物を示す。
PGMEA:プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート
SI−150L:アンチモン系スルホニウム塩(商品名「SI−150L」、三新化学工業(株)製)、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間:5.4分)
SI助剤:(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(商品名「サンエイドSI助剤」、三新化学工業(株)製)
The symbols in Table 2 indicate the following compounds.
PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate SI-150L: Antimony sulfonium salt (trade name "SI-150L", manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), seroxide 2021P (manufactured by Daicel Co., Ltd.) per 100 parts by weight Thermosetting time of the composition obtained by adding 1 part by weight at 130 ° C.: 5.4 minutes)
SI Auxiliary: (4-Hydroxyphenyl) Dimethylsulfonium Methyl Sulfite (Product Name "Sun Aid SI Auxiliary", manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)

本発明のシルセスキオキサンを含有する硬化性組成物は、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる。従って、半導体の積層や電子部品等の接着に使用される接着剤として有用である。 The curable composition containing silsesquioxane of the present invention can be cured at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance, adhesiveness to an adherend, and adhesion. Therefore, it is useful as an adhesive used for laminating semiconductors and adhering electronic components and the like.

A 重量変化がほとんどない領域
B 急激に重量が減少する領域
A Area where there is almost no change in weight B Area where the weight decreases sharply

Claims (12)

下記式(1)
Figure 0006785538
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
で表される構成単位及び下記式(2)
Figure 0006785538
[式(2)中、R2は、非重合性官能基を含有する基を示す。]
で表される構成単位を有し、下記式(I)
Figure 0006785538
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、非重合性官能基を含有する基、又は水素原子を示す。]
で表される構成単位と、下記式(II)
Figure 0006785538
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、非重合性官能基を含有する基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上18以下であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.3であり、
前記非重合性官能基が、置換若しくは無置換の直鎖又は分岐鎖の炭素数10〜20のアルキル基を少なくとも含むポリオルガノシルセスキオキサン。
The following formula (1)
Figure 0006785538
[In formula (1), R 1 represents a group containing an epoxy group. ]
In represented by structure Unit及beauty formula (2)
Figure 0006785538
[In formula (2), R 2 represents a group containing a non-polymerizable functional group. ]
It has a structural unit represented by the following formula (I).
Figure 0006785538
[In formula (I), Ra represents an epoxy group-containing group, a non-polymerizable functional group-containing group, or a hydrogen atom. ]
The structural unit represented by and the following formula (II)
Figure 0006785538
[In formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a non-polymerizable functional group-containing group, or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
The molar ratio of the structural units represented by (I) [constituent unit represented by formula (I) / structural unit represented by formula (II)] is 5 or more and 18 or less, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion. The degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.3.
A polyorganosylsesquioxane in which the non-polymerizable functional group contains at least an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms in a substituted or unsubstituted linear or branched chain.
シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する前記式(2)で表される構成単位及び下記式(5)
Figure 0006785538
[式(5)中、R2は、前記式(2)におけるものと同じ。Rcは、前記式(II)におけるものと同じ。]
で表される構成単位の割合(総量)が5モル%以上60%以下である、請求項1に記載のポリオルガノシルセスキオキサン。
The structural unit represented by the above formula (2) and the following formula (5) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.
Figure 0006785538
[In the formula (5), R 2 is the same as that in the formula (2). R c is the same as that in the above formula (II). ]
The polyorganosylsesquioxane according to claim 1, wherein the proportion (total amount) of the constituent units represented by is 5 mol% or more and 60% or less.
上記R1が、下記式(1a)
Figure 0006785538
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
Figure 0006785538
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
Figure 0006785538
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、及び、下記式(1d)
Figure 0006785538
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項1又は2に記載のポリオルガノシルセスキオキサン。
The above R 1 is the following equation (1a)
Figure 0006785538
[In formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
The group represented by, the following formula (1b)
Figure 0006785538
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
The group represented by the following formula (1c)
Figure 0006785538
[In formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
The group represented by and the following formula (1d)
Figure 0006785538
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
The polyorganosylsesquioxane according to claim 1 or 2, which is at least one selected from the group consisting of the groups represented by.
請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物。 A curable composition containing the polyorganosylsesquioxane according to any one of claims 1 to 3. さらに、重合開始剤を含む請求項4に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 4, further comprising a polymerization initiator. さらに、重合安定剤を含む請求項4又は5に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 4 or 5, further comprising a polymerization stabilizer. さらに、シランカップリング剤を含む請求項4〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 4 to 6, further comprising a silane coupling agent. 接着剤用組成物である請求項4〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 4 to 7, which is a composition for an adhesive. 請求項4〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the curable composition according to any one of claims 4 to 8. 基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、
前記接着剤層が、請求項8に記載の硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シート。
An adhesive sheet having a base material and an adhesive layer on the base material.
An adhesive sheet, wherein the adhesive layer is a layer of the curable composition according to claim 8.
3層以上で構成される積層物であって、
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、請求項8に記載の硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物。
It is a laminate composed of three or more layers.
It has two layers to be adhered and an adhesive layer between the layers to be adhered.
A laminate characterized in that the adhesive layer is a layer of a cured product of the curable composition according to claim 8.
請求項11に記載の積層物を有する装置。 The apparatus having the laminate according to claim 11.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6595812B2 (en) * 2015-06-17 2019-10-23 株式会社ダイセル Polyorganosilsesquioxane, curable composition, hard coat film, and cured product
JP2018177951A (en) * 2017-04-12 2018-11-15 株式会社ダイセル Curable composition, cured product and hard coat film
JP7160803B2 (en) * 2017-05-17 2022-10-25 株式会社ダイセル Curable composition for adhesive, adhesive sheet, cured product, laminate, and device
JPWO2018212228A1 (en) * 2017-05-17 2020-03-19 株式会社ダイセル Polyorganosilsesquioxane, transfer film, in-mold molded product, and hard coat film
WO2020031958A1 (en) 2018-08-09 2020-02-13 東レ株式会社 Photosensitive resin composition, photosensitive sheet, cured films of these products and methods for producing said cured films, and electronic component
WO2020235524A1 (en) * 2019-05-22 2020-11-26 株式会社カネカ Resin composition, method for producing same, and multi-component curable resin composition

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6991887B1 (en) * 2000-11-01 2006-01-31 Battelle Memorial Institute Photopatternable sorbent and functionalized films
JP2008179811A (en) * 2006-12-28 2008-08-07 Asahi Kasei Corp Siloxane derivative and its cured material
JP2008202008A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Nagase Chemtex Corp Sealing resin composition for optical element
US8080604B2 (en) * 2007-03-02 2011-12-20 Lintec Corporation Adhesive containing ladder-type polysilsesquioxane and adhesive sheet
JP2008231333A (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Asahi Kasei Corp Synthetic method for curable silicone, curable silicone prepared by the same and its cured product
JP5698584B2 (en) * 2011-03-31 2015-04-08 新日鉄住金化学株式会社 Cage-type silsesquioxane resin and method for producing the same
JP6213082B2 (en) * 2013-02-08 2017-10-18 東レ・ファインケミカル株式会社 Siloxane copolymer and process for producing the same
JP6219250B2 (en) * 2013-12-13 2017-10-25 株式会社ダイセル Polyorganosilsesquioxane, hard coat film, adhesive sheet, and laminate

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