JP6557522B2 - Hard coat layer forming curable composition, hard coat film, method for producing hard coat film, adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, and apparatus - Google Patents

Hard coat layer forming curable composition, hard coat film, method for producing hard coat film, adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, and apparatus Download PDF

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本発明は、ポリオルガノシルセスキオキサン、該ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物、及びその硬化物に関する。また、本発明は、上記ポリオルガノシルセスキオキサンを含むハードコート液(ハードコート層形成用硬化性組成物)より形成されたハードコート層を有するハードコートフィルムに関する。また、本発明は、上記ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物(接着剤組成物)を用いて形成された接着剤層に関する。   The present invention relates to a polyorganosilsesquioxane, a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane, and a cured product thereof. Moreover, this invention relates to the hard coat film which has the hard-coat layer formed from the hard-coat liquid (curable composition for hard-coat layer formation) containing the said polyorgano silsesquioxane. Moreover, this invention relates to the adhesive bond layer formed using the curable composition (adhesive composition) containing the said polyorgano silsesquioxane.

従来、基材の片面又は両面にハードコート層を有する、該ハードコート層表面の鉛筆硬度が3H程度のハードコートフィルムが流通している。このようなハードコートフィルムにおけるハードコート層を形成するための材料としては、主に、UVアクリルモノマーが使用されている(例えば、特許文献1参照)。上記ハードコート層表面の鉛筆硬度をさらに向上させるために、ハードコート層にナノ粒子が添加される例もある。   Conventionally, a hard coat film having a hard coat layer on one side or both sides of a substrate and having a hard hardness of about 3H on the surface of the hard coat layer has been distributed. As a material for forming a hard coat layer in such a hard coat film, a UV acrylic monomer is mainly used (for example, see Patent Document 1). There is also an example in which nanoparticles are added to the hard coat layer in order to further improve the pencil hardness of the hard coat layer surface.

一方、ガラスは、非常に高い表面硬度を有する材料として知られており、特にアルカリイオン交換処理によって表面の鉛筆硬度を9Hにまで上げているものが知られているが、屈曲性(可とう性)及び加工性に乏しいためにロールトゥロール方式での製造や加工をすることができず、枚葉で製造や加工をする必要があり、高い生産コストがかかっている。   On the other hand, glass is known as a material having a very high surface hardness, and in particular, glass having a surface pencil hardness of up to 9H by an alkali ion exchange treatment is known. ) And the processability is poor, and the roll-to-roll method cannot be used for manufacturing or processing, and it is necessary to manufacture or process using single wafers, resulting in high production costs.

また、半導体の積層や電子部品の接着に用いられる接着剤としては、ベンゾシクロブテン(BCB)、ノボラック系エポキシ樹脂、又はエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤が知られている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, thermosetting adhesives containing benzocyclobutene (BCB), novolac epoxy resins, or epoxy group-containing polyorganosilsesquioxanes are known as adhesives used for semiconductor lamination and electronic component bonding. (For example, refer to Patent Document 2).

特開2009−279840号公報JP 2009-279840 A 特開2010−226060号公報JP 2010-2226060 A

しかしながら、上述のUVアクリルモノマーを使用したハードコートフィルムは未だ十分な表面硬度を有するものとは言えない。また、一般に、より硬度を高くするにはUVアクリルモノマーを多官能としたり、ハードコート層を厚膜化する方法が考えられるが、このような方法を採った場合には、ハードコート層の硬化収縮が大きくなり、その結果、ハードコートフィルムにカールやクラックが発生してしまうという問題がある。また、ハードコート層にナノ粒子を添加する場合には、該ナノ粒子とUVアクリルモノマーとの相溶性が悪いとナノ粒子が凝集し、ハードコート層が白化するという問題がある。   However, it cannot be said that the hard coat film using the above-mentioned UV acrylic monomer still has a sufficient surface hardness. In general, in order to increase the hardness, it is conceivable to use a polyfunctional UV acrylic monomer or to increase the thickness of the hard coat layer. When such a method is adopted, the hard coat layer is cured. There is a problem that the shrinkage increases, and as a result, the hard coat film is curled and cracked. In addition, when nanoparticles are added to the hard coat layer, if the compatibility between the nanoparticles and the UV acrylic monomer is poor, there is a problem that the nanoparticles aggregate and the hard coat layer is whitened.

また、BCBを含有する熱硬化型接着剤を硬化させるためには高温で加熱することが必要であり、高温に曝されることで被接着体がダメージを受ける可能性がある。また、ノボラック系エポキシ樹脂を含有する熱硬化型接着剤は、鉛フリー半田リフローなどの高温プロセス(例えば、260〜280℃)に付した際に接着剤が分解してアウトガスが発生し、それにより接着性が低下する問題がある。   Moreover, in order to cure the thermosetting adhesive containing BCB, it is necessary to heat at a high temperature, and the adherend may be damaged by being exposed to a high temperature. In addition, a thermosetting adhesive containing a novolac epoxy resin decomposes the adhesive when it is subjected to a high-temperature process (for example, 260 to 280 ° C.) such as lead-free solder reflow, thereby generating outgas. There is a problem that adhesiveness decreases.

従って、本発明の目的は、硬化させることによって、高い表面硬度を有しつつ耐熱性にも優れた硬化物を形成することができるポリオルガノシルセスキオキサン、及びこれを含む硬化性組成物を提供することにある。また、本発明の他の目的は、高い表面硬度を維持しながら、屈曲性(可とう性)を有し、ロールトゥロール方式での製造や加工が可能なハードコートフィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、製膜性に優れ、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性(若しくは耐冷熱衝撃性)、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる硬化性組成物(接着剤組成物)を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a polyorganosilsesquioxane that can form a cured product having high surface hardness and excellent heat resistance by curing, and a curable composition containing the same. It is to provide. Another object of the present invention is to provide a hard coat film having flexibility (flexibility) while maintaining high surface hardness and capable of being manufactured and processed by a roll-to-roll method. . Another object of the present invention is a cured product that has excellent film forming properties, is cured at low temperature, and has excellent heat resistance, crack resistance (or cold shock resistance), adhesion to adherends, and adhesion. It is providing the curable composition (adhesive composition) which can form.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定の構造を特定の割合で含むエポキシ基を有するポリオルガノシルセスキオキサンを用いることによって、これを含む硬化性組成物を硬化させることによって得られた硬化物が、特に高い表面硬度、屈曲性を有し、また、優れた耐熱性、耐クラック性を有することを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors cured a curable composition containing this by using a polyorganosilsesquioxane having an epoxy group containing a specific structure at a specific ratio. It was found that the cured product obtained by making it have particularly high surface hardness and flexibility, and excellent heat resistance and crack resistance. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、下記式(1)で表される構成単位、下記式(2−1)で表される構成単位及び/又は下記式(2−2)で表される構成単位を有し、下記式(I)で表される構成単位と、下記式(II)で表される構成単位の割合[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計と、式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計の割合[{式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計}/式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計]が99.9/0.1〜80/20であり、シロキサン構成単位の全量に対する式(1)で表される構成単位及び下記式(5)で表される構成単位の割合が50〜99モル%であるポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。

Figure 0006557522
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
Figure 0006557522
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
Figure 0006557522
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Figure 0006557522
[式(2−1)及び式(2−2)中のR21及びR22は、それぞれ同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のアルケニレン基を示す。]
Figure 0006557522
[式(5)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。] That is, this invention has a structural unit represented by following formula (1), a structural unit represented by following formula (2-1), and / or a structural unit represented by following formula (2-2). The ratio of the structural unit represented by the following formula (I) and the structural unit represented by the following formula (II) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] Is a sum of the structural unit represented by formula (I) and the structural unit represented by formula (II), the structural unit represented by formula (2-1), and formula (2-2) The total ratio of the structural units represented by [{the total of the structural units represented by formula (I) and the structural units represented by formula (II)} / the structural units represented by formula (2-1) and The total of the structural units represented by the formula (2-2)] is 99.9 / 0.1 to 80/20, and the structural unit represented by the formula (1) with respect to the total amount of the siloxane structural units and The proportion of the structural unit represented by the formula (5) provides a polyorganosilsesquioxane 50 to 99 mol%.
Figure 0006557522
[In Formula (1), R < 1 > shows group containing an epoxy group. ]
Figure 0006557522
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
Figure 0006557522
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
Figure 0006557522
[R 21 and R 22 in Formula (2-1) and Formula (2-2) are the same or different and each represents a substituted or unsubstituted alkylene group or a substituted or unsubstituted alkenylene group. ]
Figure 0006557522
[In formula (5), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II). ]

また、本発明は、前記ポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量が500〜6000であり、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜4.0である前記のポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。   In the present invention, the polyorganosilsesquioxane has a number average molecular weight of 500 to 6000 and a molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.0 to 4.0. Provide silsesquioxane.

また、本発明は、前記R1が、下記式(1a)

Figure 0006557522
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
Figure 0006557522
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
Figure 0006557522
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、及び、下記式(1d)
Figure 0006557522
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基からなる群より選択される1種以上の基である前記のポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。 In the present invention, the R 1 is represented by the following formula (1a):
Figure 0006557522
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1b):
Figure 0006557522
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1c):
Figure 0006557522
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
And a group represented by the following formula (1d):
Figure 0006557522
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
The polyorganosilsesquioxane is provided as one or more groups selected from the group consisting of groups represented by:

また、本発明は、前記式(2−1)及び式(2−2)中のR21及びR22が、それぞれ同一又は異なって、無置換のC2-20のアルキレン基である前記のポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。 In the present invention, R 21 and R 22 in the formulas (2-1) and (2-2) are the same or different and each is an unsubstituted C 2-20 alkylene group. Organosilsesquioxane is provided.

また、本発明は前記のポリオルガノシルセスキオキサンとレベリング剤を含む硬化性組成物を提供する。   The present invention also provides a curable composition comprising the polyorganosilsesquioxane and a leveling agent.

また、本発明は、さらに、硬化触媒を含む前記の硬化性組成物を提供する。   Moreover, this invention provides the said curable composition further containing a curing catalyst.

また、本発明は、前記硬化触媒が光カチオン重合開始剤である前記の硬化性組成物を提供する。   Moreover, this invention provides the said curable composition whose said curing catalyst is a photocationic polymerization initiator.

また、本発明は、前記硬化触媒が熱カチオン重合開始剤である前記の硬化性組成物を提供する。   Moreover, this invention provides the said curable composition whose said curing catalyst is a thermal cationic polymerization initiator.

また、本発明は、ハードコート層形成用硬化性組成物である前記の硬化性組成物を提供する。   Moreover, this invention provides the said curable composition which is a curable composition for hard-coat layer formation.

また、本発明は、接着剤組成物である前記の硬化性組成物を提供する。   Moreover, this invention provides the said curable composition which is an adhesive composition.

また、本発明は、前記の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物を提供する。   Moreover, this invention provides the hardened | cured material obtained by hardening the said curable composition.

また、本発明は、基材と、該基材の少なくとも一方の表面に形成されたハードコート層とを有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層が、前記の硬化物により形成された硬化物層であるハードコートフィルムを提供する。   Further, the present invention is a hard coat film having a base material and a hard coat layer formed on at least one surface of the base material, wherein the hard coat layer is cured by the cured product. A hard coat film as a physical layer is provided.

また、本発明は、前記ハードコート層の厚さが1〜200μmである前記のハードコートフィルムを提供する。   Moreover, this invention provides the said hard coat film whose thickness of the said hard coat layer is 1-200 micrometers.

また、本発明は、ロールトゥロール方式で製造された前記のハードコートフィルムを提供する。   Moreover, this invention provides the said hard coat film manufactured by the roll toe roll system.

また、本発明は、ロール状に巻いた基材を繰り出す工程Aと、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に前記の硬化性組成物を塗布し、次いで、該硬化性組成物を硬化させることによりハードコート層を形成する工程Bと、その後、得られたハードコートフィルムを再びロールに巻き取る工程Cとを含み、工程A〜Cを連続的に実施するハードコートフィルムの製造方法を提供する。   Moreover, this invention applies the said curable composition to the process A which draws out the base material wound by roll shape, and at least one surface of the drawn-out base material, and then hardens this curable composition. A process B for forming a hard coat layer, and then a process C for winding the obtained hard coat film again on a roll, and a method for producing a hard coat film is provided in which steps A to C are continuously carried out. .

また、本発明は、基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、前記接着剤層が、前記の硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シートを提供する。   The present invention also provides an adhesive sheet having a base material and an adhesive layer on the base material, wherein the adhesive layer is a layer of the curable composition. I will provide a.

また、本発明は、3層以上で構成される積層物であって、2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、前記接着層が、前記の硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物を提供する。   Further, the present invention is a laminate composed of three or more layers, and has two layers to be bonded and an adhesive layer between the layers to be bonded, and the adhesive layer has the curable property described above. Provided is a laminate, which is a layer of a cured product of the composition.

また、本発明は、前記の積層物を有する装置を提供する。   Moreover, this invention provides the apparatus which has the said laminated body.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記構成を有するため、該ポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い表面硬度を有する硬化物を形成できる。また、本発明のハードコートフィルムは、上記構成を有するため、高い表面硬度を維持しながら、屈曲性(可とう性)を有し、ロールトゥロールでの製造や加工が可能である。このため、本発明のハードコートフィルムは、品質面とコスト面の両方において優れる。   Since the polyorganosilsesquioxane of this invention has the said structure, the hardened | cured material which has high surface hardness can be formed by hardening the curable composition which contains this polyorganosilsesquioxane as an essential component. Moreover, since the hard coat film of this invention has the said structure, it has flexibility (flexibility), maintaining high surface hardness, and manufacture and a process by a roll toe roll are possible. For this reason, the hard coat film of the present invention is excellent in both quality and cost.

また、本発明の硬化物は、上記硬化性組成物(接着剤組成物)を低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる。そのため、本発明の硬化性組成物は、接着剤組成物(接着剤)として好ましく使用できる。また、当該接着剤組成物を用いることにより、接着シート及び積層物を得ることができる。   In addition, the cured product of the present invention cures the curable composition (adhesive composition) at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance, adhesion to an adherend, and adhesion. can do. Therefore, the curable composition of the present invention can be preferably used as an adhesive composition (adhesive). Moreover, an adhesive sheet and a laminated body can be obtained by using the said adhesive composition.

実施例1で得られたポリオルガノシルセスキオキサンの1H−NMRスペクトルを示す。The 1 H-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Example 1 is shown. 実施例1で得られたポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルを示す。The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Example 1 is shown. 実施例1で得られたポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルを示す。The FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Example 1 is shown. 実施例2で得られたポリオルガノシルセスキオキサンの1H−NMRスペクトルを示す。The 1 H-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Example 2 is shown. 実施例2で得られたポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルを示す。The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Example 2 is shown. 実施例2で得られたポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルを示す。The FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Example 2 is shown. 硬化物の耐熱性の評価方法を示す説明図(熱重量分析結果の模式図)である。It is explanatory drawing (schematic diagram of a thermogravimetric analysis result) which shows the evaluation method of the heat resistance of hardened | cured material.

[ポリオルガノシルセスキオキサン]
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(シルセスキオキサン)は、下記式(1)で表される構成単位、下記式(2−1)で表される構成単位及び/又は下記式(2−2)で表される構成単位を有し、下記式(I)で表される構成単位と、下記式(II)で表される構成単位の割合[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計と、式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計の割合[{式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計}/{式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計}]が99.5/0.5〜80/20であり、シロキサン構成単位の全量に対する式(1)で表される構成単位及び下記式(5)で表される構成単位の割合が50〜99モル%である。

Figure 0006557522
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す]
Figure 0006557522
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す]
Figure 0006557522
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
Figure 0006557522
[式(2−1)及び式(2−2)中のR21及びR22は、それぞれ同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のアルケニレン基を示す]
Figure 0006557522
[式(5)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ] [Polyorganosilsesquioxane]
The polyorganosilsesquioxane (silsesquioxane) of the present invention is a structural unit represented by the following formula (1), a structural unit represented by the following formula (2-1), and / or the following formula (2- 2) The ratio of the structural unit represented by the following formula (I) to the structural unit represented by the following formula (II) [the structural unit represented by the formula (I) / The structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more, the total of the structural unit represented by the formula (I) and the structural unit represented by the formula (II), and the formula (2-1) Ratio of the structural unit represented and the structural unit represented by formula (2-2) [{total of the structural unit represented by formula (I) and the structural unit represented by formula (II)} / {formula The sum of the structural unit represented by (2-1) and the structural unit represented by formula (2-2)}] is 99.5 / 0.5 to 80/20, and the siloxane structural unit The proportion of the structural units relative to the total amount represented by the structural units and the following formula represented by the formula (1) (5) is 50 to 99 mol%.
Figure 0006557522
[In formula (1), R 1 represents a group containing an epoxy group]
Figure 0006557522
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom]
Figure 0006557522
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
Figure 0006557522
[R 21 and R 22 in Formula (2-1) and Formula (2-2) are the same or different and each represents a substituted or unsubstituted alkylene group or a substituted or unsubstituted alkenylene group]
Figure 0006557522
[In formula (5), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II)]

上記式(1)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(いわゆるT単位)である。なお、上記式中のRは、水素原子又は一価の有機基を示し、以下においても同じである。上記式(1)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(a)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (1) is a silsesquioxane structural unit (so-called T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. In the above formula, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the same applies to the following. The structural unit represented by the above formula (1) is formed by hydrolysis and condensation reaction of a corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the following formula (a)). Is done.

式(1)中のR1は、エポキシ基を含有する基(一価の基)を示す。即ち、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、分子内にエポキシ基を少なくとも有するカチオン硬化性化合物(カチオン重合性化合物)である。上記エポキシ基を含有する基としては、オキシラン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化性、硬化物の耐熱性の観点で、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、下記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは下記式(1a)で表される基、下記式(1c)で表される基、さらに好ましくは下記式(1a)で表される基である。

Figure 0006557522
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Figure 0006557522
R 1 in the formula (1) represents a group (monovalent group) containing an epoxy group. That is, the polyorganosilsesquioxane of the present invention is a cationic curable compound (cationic polymerizable compound) having at least an epoxy group in the molecule. Examples of the group containing an epoxy group include known or commonly used groups having an oxirane ring, and are not particularly limited. However, from the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, the following formula (1a) Group represented by the following formula (1b), a group represented by the following formula (1c), and a group represented by the following formula (1d) are preferable, and more preferably the following formula (1a): A group represented by the following formula (1c), more preferably a group represented by the following formula (1a).
Figure 0006557522
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上記式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。なかでも、R1aとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. Examples of the linear or branched alkylene group include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a decamethylene group. Examples thereof include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Among these, R 1a is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably, from the viewpoint of the surface hardness or curability of the cured product. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

上記式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。なかでも、R1bとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group, and examples thereof include the same groups as R 1a . Among these, R 1b is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably, from the viewpoint of the surface hardness or curability of the cured product. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

上記式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。なかでも、R1cとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In said formula (1c), R <1c> shows a linear or branched alkylene group, and the group similar to R <1a> is illustrated. Among these, R 1c is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably from the viewpoint of the surface hardness or curability of the cured product. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

上記式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。なかでも、R1dとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group, and examples thereof include the same groups as R 1a . Among these, R 1d is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably from the viewpoint of the surface hardness or curability of the cured product. Is an ethylene group, trimethylene group, propylene group, more preferably an ethylene group or trimethylene group.

式(1)中のR1としては、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[なかでも、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。 R 1 in formula (1) is particularly a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [in particular, 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl). ) Ethyl group] is preferred.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位を1種のみ有するものであっても、上記式(1)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。   Even if the polyorganosilsesquioxane of the present invention has only one type of structural unit represented by the above formula (1), it has two or more types of structural units represented by the above formula (1). It may be.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、シロキサン構成単位として、さらに、下記式(2−1)及び/又は下記式(2−2)で表される構成単位を有する。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、式(2−1)で表される構成単位、下記式(2−2)で表される構成単位の一方のみを有してもよく、両方を有していてもよい。

Figure 0006557522
The polyorganosilsesquioxane of the present invention further has a structural unit represented by the following formula (2-1) and / or the following formula (2-2) as a siloxane structural unit. The polyorganosilsesquioxane of the present invention may have only one of the structural unit represented by the formula (2-1) and the structural unit represented by the following formula (2-2), or both. You may do it.
Figure 0006557522

式(2−1)及び式(2−2)中のR21及びR22は、いずれも同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のアルケニレン基を示す。上記アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、s−ブチレン基、t−ブチレン基、n−ペンチレン基、イソペンチレン基、s−ペンチレン基、t−ペンチレン基、n−ヘキシレン基、イソヘキシレン基、s−ヘキシレン基、t−ヘキシレン基、n−ヘプチレン基、イソヘプチレン基、s−ヘプチレン基、t−ヘプチレン基、n−オクチレン基、イソオクチレン基、s−オクチレン基、t−オクチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。上記アルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、アリレン基、イソプロペニレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基が挙げられる。なお、R21は2つのSiと結合し、R22は3つのSiと結合している。 R 21 and R 22 in formula (2-1) and formula (2-2) are the same or different and each represents a substituted or unsubstituted alkylene group or a substituted or unsubstituted alkenylene group. Examples of the alkylene group include methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, n-butylene group, isobutylene group, s-butylene group, t-butylene group, n-pentylene group, isopentylene group, and s-pentylene. Group, t-pentylene group, n-hexylene group, isohexylene group, s-hexylene group, t-hexylene group, n-heptylene group, isoheptylene group, s-heptylene group, t-heptylene group, n-octylene group, isooctylene group , A linear or branched alkylene group such as s-octylene group and t-octylene group. Examples of the alkenylene group include linear or branched alkenylene groups such as vinylene group, arylene group, and isopropenylene group. Note that R 21 is bonded to two Si, and R 22 is bonded to three Si.

上述の置換アルキレン基、置換アルケニレン基としては、アルキレン基、アルケニレン基のそれぞれにおける水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基等が挙げられる。   As the above-mentioned substituted alkylene group and substituted alkenylene group, the hydrogen atom or the main chain skeleton in each of the alkylene group and alkenylene group is ether group, ester group, carbonyl group, siloxane group, halogen atom (fluorine atom). Etc.), a group substituted with at least one selected from the group consisting of an acrylic group, a methacryl group, a mercapto group, an amino group, and a hydroxy group (hydroxyl group).

なかでも、式(2−1)及び式(2−2)中のR21及びR22としては、無置換のC2-20の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくは無置換のC2-12の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、さらに好ましくは無置換のC2ー8の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基であり、特に好ましくは無置換のn−ブチレン基、n−ペンチレン基、n−ヘキシレン基、n−ヘプチレン基、n−オクチレン基である。 Especially, as R < 21 > and R < 22 > in Formula (2-1) and Formula (2-2), an unsubstituted C2-20 linear or branched alkylene group is preferable, More preferably A substituted C 2-12 linear or branched alkylene group, more preferably an unsubstituted C 2-8 linear or branched alkylene group, particularly preferably an unsubstituted n-butylene group. , N-pentylene group, n-hexylene group, n-heptylene group and n-octylene group.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2−1)で表される構成単位及び上記式(2−2)で表される構成単位以外にも、シルセスキオキサン構成単位[R3SiO1/2]で表される構成単位(いわゆるM単位)、[R2SiO2/2]で表される構成単位(いわゆるD単位)、及び[SiO4/2](式(4))で表される構成単位(いわゆるQ単位)からなる群より選択される少なくとも1種のシロキサン構成単位を有していてもよい。なお、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2−1)で表される構成単位及び上記式(2−2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位としては、例えば、下記式(2’)で表される構成単位及び下記式(3)で表される構成単位等が挙げられる。

Figure 0006557522
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The polyorganosilsesquioxane of the present invention is a structural unit represented by the above formula (1), a structural unit represented by the above formula (2-1), and a structural unit represented by the above formula (2-2). In addition, a structural unit represented by a silsesquioxane structural unit [R 3 SiO 1/2 ] (so-called M unit), a structural unit represented by [R 2 SiO 2/2 ] (so-called D unit), And at least one siloxane structural unit selected from the group consisting of structural units represented by [SiO 4/2 ] (formula (4)) (so-called Q units). In addition, as a structural unit represented by the above formula (1), a structural unit represented by the above formula (2-1), and a silsesquioxane structural unit other than the structural unit represented by the above formula (2-2) Examples include a structural unit represented by the following formula (2 ′) and a structural unit represented by the following formula (3).
Figure 0006557522
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上記式(2’)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(T単位)である。即ち、上記式(2’)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(b’)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (2 ′) is a silsesquioxane structural unit (T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. That is, the structural unit represented by the above formula (2 ′) is obtained by hydrolysis of a corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the following formula (b ′)). It is formed by a condensation reaction.

式(2’)中、R2'は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。上記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。 In formula (2 ′), R 2 ′ represents a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group. A substituted alkenyl group is shown. As said aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and the like. Examples of the alkyl group include linear or branched alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, and isopentyl group. Groups. As said alkenyl group, linear or branched alkenyl groups, such as a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group, are mentioned, for example.

上述の置換アリール基、置換アラルキル基、置換シクロアルキル基、置換アルキル基、置換アルケニル基としては、上述のアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基のそれぞれにおける水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基等が挙げられる。   As the above-mentioned substituted aryl group, substituted aralkyl group, substituted cycloalkyl group, substituted alkyl group, and substituted alkenyl group, the above-mentioned aryl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, and alkenyl group are each a hydrogen atom or main chain. Part or all of the case is an ether group, ester group, carbonyl group, siloxane group, halogen atom (fluorine atom, etc.), acrylic group, methacryl group, mercapto group, amino group, and hydroxy group (hydroxyl group). And a group substituted with at least one selected type.

なかでも、R2'としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 Among these, R 2 ′ is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, and even more preferably phenyl. It is a group.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上述の各シロキサン構成単位[例えば、式(1)で表される構成単位、式(2−1)で表される構成単位、式(2−2)で表される構成単位、式(2’)で表される構成単位、式(3)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位]の割合は、これらの構成単位を形成するための原料(加水分解性三官能シラン、加水分解性四官能シラン等)の組成により適宜調整することが可能である。   In the polyorganosilsesquioxane of the present invention, each of the above siloxane structural units [for example, a structural unit represented by the formula (1), a structural unit represented by the formula (2-1), and a formula (2-2) The ratio of the structural unit represented, the structural unit represented by formula (2 ′), the structural unit represented by formula (3), and the structural unit represented by formula (4)] forms these structural units. It is possible to adjust appropriately according to the composition of the raw material (hydrolyzable trifunctional silane, hydrolyzable tetrafunctional silane, etc.) for

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記式(I)で表される構成単位(T3体)と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)の割合[T3体/T2体]は、上述のように5以上であり、好ましくは5〜18であり、より好ましくは6〜16であり、さらに好ましくは7〜14である。上記割合[T3体/T2体]を5以上とすることにより、硬化物やハードコート層の表面硬度が向上する。   Ratio of the structural unit (T3 body) represented by the above formula (I) and the structural unit (T2 body) represented by the above formula (II) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [T3 body / T2 body] ] Is 5 or more as described above, preferably 5 to 18, more preferably 6 to 16, and still more preferably 7 to 14. By setting the ratio [T3 body / T2 body] to 5 or more, the surface hardness of the cured product or the hard coat layer is improved.

なお、上記式(I)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(I')で表される。また、上記式(II)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(II')で表される。下記式(I')で表される構造中に示されるケイ素原子に結合した3つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(I')に示されていないケイ素原子)と結合している。一方、下記式(II')で表される構造中に示されるケイ素原子の上と下に位置する2つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(II')に示されていないケイ素原子)に結合している。即ち、上記T3体及びT2体は、いずれも対応する加水分解性三官能シラン化合物の加水分解及び縮合反応により形成される構成単位(T単位)である。

Figure 0006557522
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When the structural unit represented by the above formula (I) is described in more detail, it is represented by the following formula (I ′). Further, when the structural unit represented by the above formula (II) is described in more detail, it is represented by the following formula (II ′). Each of the three oxygen atoms bonded to the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (I ′) is bonded to another silicon atom (a silicon atom not shown in the formula (I ′)). . On the other hand, two oxygen atoms located above and below the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (II ′) are respectively replaced with other silicon atoms (silicon atoms not shown in the formula (II ′)). Are connected. That is, the T3 body and the T2 body are structural units (T units) formed by hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound.
Figure 0006557522
Figure 0006557522

上記式(I)中のRa(式(I')中のRaも同じ)及び式(II)中のRb(式(II')中のRbも同じ)は、それぞれ、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。 R a in the above formula (I) (formula (I ') in the R a same) and formula (II) in the R b (wherein (II') in the R b versa), respectively, an epoxy group A group containing, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted cycloalkyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom Show.

上記式(II)中のRc(式(II')中のRcも同じ)は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等の炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。式(II)中のRcにおけるアルキル基は、一般的には、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性シラン化合物におけるアルコキシ基(例えば、後述のX1〜X3としてのアルコキシ基等)を形成するアルキル基に由来する。 R c in the formula (II) (Formula (II ') in the R c versa) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group. . In general, the alkyl group in R c in the formula (II) is generally an alkoxy group (for example, X 1 to X 3 described later) in the hydrolyzable silane compound used as a raw material of the polyorganosilsesquioxane of the present invention. Derived from an alkyl group forming an alkoxy group or the like.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記式(I)で表される構成単位(T3体)及び上記式(II)で表される構成単位(T2体)の合計と、上記式(2−1)で表される構成単位及び上記式(2−2)で表される構成単位の合計の割合[(T3体+T2体)/式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計]は、上述のように99.9/0.1〜80/20であり、好ましくは99/1〜85/15であり、より好ましくは98/2〜88/12であり、さらに好ましくは97/3〜90/10である。割合を上記範囲内とすることにより、ポリオルガノシルセスキオキサンの合成の時点では3次元架橋構造になりにくく、溶媒に可溶なポリマーとなるため、後述のハードコート液の状態で容易に塗布することができ、また、硬化物やハードコート層の表面硬度が著しく向上する。   In the polyorganosilsesquioxane of the present invention, the total of the structural unit (T3 form) represented by the above formula (I) and the structural unit (T2 form) represented by the above formula (II), and the above formula (2- Ratio of the total of the structural unit represented by 1) and the structural unit represented by the above formula (2-2) [(T3 body + T2 body) / the structural unit represented by the formula (2-1) and the formula (2) -2)] is 99.9 / 0.1-80 / 20 as described above, preferably 99 / 1-85 / 15, more preferably 98/2. It is -88/12, More preferably, it is 97 / 3-90 / 10. By setting the ratio within the above range, it becomes difficult to form a three-dimensional cross-linked structure at the time of synthesis of polyorganosilsesquioxane, and it becomes a polymer soluble in a solvent, so that it can be easily applied in the state of a hard coat solution described later. In addition, the surface hardness of the cured product or hard coat layer is remarkably improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]は、例えば、29Si−NMRスペクトル測定により求めることができる。29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位(T3体)におけるケイ素原子と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)におけるケイ素原子とは、異なる位置(化学シフト)にシグナル(ピーク)を示すため、これらそれぞれのピークの積分比を算出することにより、上記割合[T3体/T2体]が求められる。具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、上記式(1)で表され、R1が2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基である構成単位を有する場合には、上記式(I)で表される構造(T3体)におけるケイ素原子のシグナルは−64〜−70ppmに現れ、上記式(II)で表される構造(T2体)におけるケイ素原子のシグナルは−54〜−60ppmに現れ、従って、この場合、T3体とT2体のシグナルの積分比を算出することによって、上記割合[T3体/T2体]を求めることができる。 The said ratio [T3 body / T2 body] in the polyorganosilsesquioxane of this invention can be calculated | required by 29 Si-NMR spectrum measurement, for example. 29 In the Si-NMR spectrum, the silicon atom in the structural unit (T3 form) represented by the formula (I) is different from the silicon atom in the structural unit (T2 form) represented by the formula (II). In order to show a signal (peak) in (chemical shift), the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integration ratio of these respective peaks. Specifically, for example, the polyorganosilsesquioxane of the present invention has a structural unit represented by the above formula (1) and R 1 is a 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) ethyl group. In the case, the signal of the silicon atom in the structure (T3 form) represented by the above formula (I) appears at −64 to −70 ppm, and the silicon atom in the structure (T2 form) represented by the above formula (II) The signal appears at −54 to −60 ppm. Therefore, in this case, the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integral ratio of the signals of the T3 body and the T2 body.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「JNM−ECA500NMR」(日本電子(株)製)
溶媒:重クロロホルム
積算回数:1800回
測定温度:25℃
The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be measured, for example, with the following apparatus and conditions.
Measuring apparatus: Trade name “JNM-ECA500NMR” (manufactured by JEOL Ltd.)
Solvent: Deuterated chloroform Accumulated times: 1800 times Measurement temperature: 25 ° C

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの上記割合[T3体/T2体]が5以上であることは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおいてT3体に対し一定以上のT2体が存在していることを意味する。このようなT2体としては、例えば、下記式(5)で表される構成単位、下記式(6)で表される構成単位、下記式(7)で表される構成単位等が挙げられる。下記式(5)におけるR1及び下記式(6)におけるR2'は、それぞれ上記式(1)におけるR1及び上記式(2’)におけるR2'と同じである。下記式(5)〜(7)におけるRcは、式(II)におけるRcと同じく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。

Figure 0006557522
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The ratio [T3 body / T2 body] of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is 5 or more. In the polyorganosilsesquioxane of the present invention, a certain amount or more of T2 bodies exist with respect to the T3 body. Means that Examples of such a T2 body include a structural unit represented by the following formula (5), a structural unit represented by the following formula (6), a structural unit represented by the following formula (7), and the like. Formula (5) R 2 in R 1 and the following formula (6) in the ', R 1 and the formula in each of the above formula (1) (2' are the same as R 2 'in). R c in the formula (5) to (7), like the R c in Formula (II), a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
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一般に、完全カゴ型シルセスキオキサンは、T3体のみにより構成されたポリオルガノシルセスキオキサンであり、分子中にT2体が存在しない。即ち、上記割合[T3体/T2体]が5以上であり、さらに後述のようにFT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有する場合の本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、不完全カゴ型シルセスキオキサン構造を有することが示唆される。 In general, a complete cage silsesquioxane is a polyorganosilsesquioxane composed only of a T3 form, and no T2 form exists in the molecule. That is, the polyorganosilsesquioxane of the present invention when the above ratio [T3 / T2] is 5 or more and further has one intrinsic absorption peak in the vicinity of 1100 cm −1 in the FT-IR spectrum as described later. Is suggested to have an incomplete cage silsesquioxane structure.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンがカゴ型(不完全カゴ型)シルセスキオキサン構造を有することは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有せず、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することから確認される[参考文献:R.H・Raney, M.Itoh, A.Sakakibara and T.Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409(1995)]。これに対して、一般に、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有する場合には、ラダー型シルセスキオキサン構造を有すると同定される。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)
測定方法:透過法
分解能:4cm-1
測定波数域:400〜4000cm-1
積算回数:16回
The polyorganosilsesquioxane of the present invention has a cage-type (incomplete cage-type) silsesquioxane structure. The polyorganosilsesquioxane of the present invention has a FT-IR spectrum of around 1050 cm −1 and 1150 cm. respectively in the vicinity of -1 it does not have a specific absorption peak is confirmed by the fact that with a single specific absorption peak in the vicinity of 1100 cm -1 [ref: R. H. Raney, M.M. Itoh, A.D. Sakakibara and T. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409 (1995)]. On the other hand, in general, when the FT-IR spectrum has intrinsic absorption peaks near 1050 cm −1 and 1150 cm −1 , it is identified as having a ladder-type silsesquioxane structure. In addition, the FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane of this invention can be measured with the following apparatus and conditions, for example.
Measuring device: Trade name “FT-720” (manufactured by Horiba, Ltd.)
Measurement method: Transmission method Resolution: 4 cm -1
Measurement wavenumber range: 400 to 4000 cm −1
Integration count: 16 times

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、上述のように50〜99モル%であり、好ましくは55〜98モル%であり、より好ましくは60〜95モル%である。上記割合とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の表面硬度が著しく高くなる。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける各シロキサン構成単位の割合は、例えば、原料の組成やNMRスペクトル測定等により算出できる。   The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The proportion (total amount) of the structural unit represented and the structural unit represented by the above formula (5) is 50 to 99 mol%, preferably 55 to 98 mol%, more preferably 60 to 95 mol%. By setting the ratio, the curability of the curable composition is improved and the surface hardness of the cured product is remarkably increased. In addition, the ratio of each siloxane structural unit in the polyorganosilsesquioxane of this invention is computable by the composition of a raw material, NMR spectrum measurement, etc., for example.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計(総量)は、例えば0.1〜20モル%であり、好ましくは0.5〜15モル%であり、より好ましくは1〜10モル%である。上記割合とすることにより、硬化物の表面硬度が著しく高くなる。   Formula (2-1) above with respect to the total amount of siloxane constituent units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [total siloxane constituent units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%) The total (total amount) of the structural unit represented by formula (2-2) and the structural unit represented by formula (2-2) is, for example, 0.1 to 20 mol%, preferably 0.5 to 15 mol%. Preferably it is 1-10 mol%. By setting it as the above ratio, the surface hardness of the cured product is remarkably increased.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2−1)で表される構成単位、上記式(2−2)で表される構成単位、上記式(2’)で表される構成単位及び上記式(6)で表される構成単位の割合(総量)は、例えば0.5〜60モル%であり、好ましくは1.0〜50モル%であり、より好ましくは1.5〜40モル%であり、さらに好ましくは2.0〜30モル%である。上記割合とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位、及び式(5)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性がより向上し、硬度が向上する。   Formula (2-1) above with respect to the total amount of siloxane constituent units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [total siloxane constituent units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%) The ratio (total amount) of the structural unit represented by formula (2-2), the structural unit represented by formula (2-2), the structural unit represented by formula (2 ′), and the structural unit represented by formula (6) above. Is, for example, 0.5 to 60 mol%, preferably 1.0 to 50 mol%, more preferably 1.5 to 40 mol%, and still more preferably 2.0 to 30 mol%. . By setting the above ratio, the ratio of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (5) can be relatively increased, so that the curability of the curable composition is high. More improved, hardness is improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2−1)で表される構成単位、上記式(2−2)で表される構成単位、上記式(2’)で表される構成単位、上記式(5)で表される構成単位、及び上記式(6)で表される構成単位の割合(総量)は、例えば55〜100モル%であり、好ましくは60〜100モル%であり、より好ましくは65〜100モル%である。上記割合とすることにより、硬化物の表面硬度がより高くなる傾向がある。   The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The structural unit represented by the above formula (2-1), the structural unit represented by the above formula (2-2), the structural unit represented by the above formula (2 ′), the above formula (5) ) And the ratio (total amount) of the structural unit represented by the above formula (6) is, for example, 55 to 100 mol%, preferably 60 to 100 mol%, more preferably 65. ˜100 mol%. By setting it as the above ratio, the surface hardness of the cured product tends to be higher.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのGPCによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、例えば500〜6000であり、好ましくは1000〜5500であり、より好ましくは1100〜5000である。数平均分子量を上記範囲とすることにより、硬化物の耐熱性、耐擦傷性がより向上し、また、硬化性組成物における他の成分との相溶性が向上し、硬化物の耐熱性がより向上する。   The number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene by GPC of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is, for example, 500 to 6000, preferably 1000 to 5500, and more preferably 1100 to 5000. By setting the number average molecular weight within the above range, the heat resistance and scratch resistance of the cured product are further improved, the compatibility with other components in the curable composition is improved, and the heat resistance of the cured product is further improved. improves.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのGPCによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度(Mw/Mn)は、例えば1.0〜4.0であり、好ましくは1.1〜3.7であり、より好ましくは1.2〜3.0であり、さらに好ましくは1.3〜2.5であり、特に好ましくは1.45〜1.80である。分子量分散度を上記範囲とすることにより、硬化物の表面硬度がより高くなり、また、液状となりやすく、取り扱い性が向上する傾向がある。   The molecular weight dispersity (Mw / Mn) in terms of standard polystyrene by GPC of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is, for example, 1.0 to 4.0, preferably 1.1 to 3.7, more Preferably it is 1.2-3.0, More preferably, it is 1.3-2.5, Most preferably, it is 1.45-1.80. By setting the molecular weight dispersity within the above range, the surface hardness of the cured product becomes higher, and it tends to be liquid, and the handleability tends to be improved.

なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量、分子量分散度は、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「LC−20AD」((株)島津製作所製)
カラム:Shodex KF−801×2本、KF−802、及びKF−803(昭和電工(株)製)
測定温度:40℃
溶離液:THF、試料濃度0.1〜0.2重量%
流量:1mL/分
検出器:UV−VIS検出器(商品名「SPD−20A」、(株)島津製作所製)
分子量:標準ポリスチレン換算
In addition, the number average molecular weight and molecular weight dispersity of the polyorganosilsesquioxane of this invention can be measured with the following apparatus and conditions.
Measuring device: Product name “LC-20AD” (manufactured by Shimadzu Corporation)
Columns: Shodex KF-801 × 2, KF-802, and KF-803 (manufactured by Showa Denko KK)
Measurement temperature: 40 ° C
Eluent: THF, sample concentration 0.1-0.2% by weight
Flow rate: 1 mL / min Detector: UV-VIS detector (trade name “SPD-20A”, manufactured by Shimadzu Corporation)
Molecular weight: Standard polystyrene conversion

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの空気雰囲気下における5%重量減少温度(Td5)は、例えば330℃以上(例えば330〜450℃)であり、好ましくは340℃以上であり、より好ましくは350℃以上である。5%重量減少温度が330℃以上であることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、上記割合[T3体/T2体]が5以上であり、FT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有ピークを有することにより、その5%重量減少温度は一定温度以上に制御される。なお、5%重量減少温度は、一定の昇温速度で加熱した時に加熱前の重量の5%が減少した時点での温度であり、耐熱性の指標となる。上記5%重量減少温度は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定することができる。 The 5% weight loss temperature (T d5 ) in the air atmosphere of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is, for example, 330 ° C. or higher (eg, 330 to 450 ° C.), preferably 340 ° C. or higher, more preferably 350 ° C. or higher. When the 5% weight reduction temperature is 330 ° C. or higher, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. In particular, the polyorganosilsesquioxane of the present invention has the above-mentioned ratio [T3 / T2] of 5 or more and has one intrinsic peak in the vicinity of 1100 cm −1 in the FT-IR spectrum. The weight reduction temperature is controlled to a certain temperature or higher. The 5% weight reduction temperature is a temperature at the time when 5% of the weight before heating is reduced when heated at a constant rate of temperature increase, and serves as an index of heat resistance. The 5% weight loss temperature can be measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere at a temperature rising rate of 5 ° C./min.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、公知乃至慣用のポリシロキサンの製造方法により製造することができ、特に限定されないが、1種又は2種以上の加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。但し、上記加水分解性シラン化合物としては、上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(a)で表される化合物)、式(2−1)で表される構成単位又は式(2−2)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(b−1)又は式(b−2)で表される化合物)を必須の加水分解性シラン化合物として使用する必要がある。   The polyorganosilsesquioxane of the present invention can be produced by a known or conventional polysiloxane production method, and is not particularly limited. However, one or two or more hydrolyzable silane compounds are hydrolyzed and condensed. It can be manufactured by a method. However, as the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable trifunctional silane compound (compound represented by the following formula (a)) for forming the structural unit represented by the above formula (1), a formula ( 2-1) or a hydrolyzable trifunctional silane compound (formula (b-1) or formula (b-2) below) for forming the structural unit represented by formula (2-2) Need to be used as an essential hydrolyzable silane compound.

より具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシルセスキオキサン構成単位(T単位)を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(a)で表される化合物、Q単位を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(d)で表される化合物、必要に応じてさらに、下記式(b−1)、式(b−2)及び式(b’)で表される化合物、下記式(c)で表される化合物を、加水分解及び縮合させる方法により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを製造できる。

Figure 0006557522
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More specifically, for example, a compound represented by the following formula (a) which is a hydrolyzable silane compound for forming a silsesquioxane structural unit (T unit) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention. , A compound represented by the following formula (d) which is a hydrolyzable silane compound for forming the Q unit, and further, if necessary, the following formula (b-1), formula (b-2) and formula (b The polyorganosilsesquioxane of this invention can be manufactured by the method of hydrolyzing and condensing the compound represented by ') and the compound represented by the following formula (c).
Figure 0006557522
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本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおいて、式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計と、式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計の割合を99.5/0.5〜80/20とするためには、上記式(a)で表される化合物及び上記式(b’)で表される化合物の合計(合計モル量)と、上記式(b−1)で表される化合物及び上記式(b−2)で表される化合物の合計(合計モル量)の割合(モル比)[{式(a)で表される化合物及び式(b’)で表される化合物の合計(合計モル量)}/{式(b−1)で表される化合物及び上記式(b−2)で表される化合物の合計(合計モル量)}]を99.5/0.5〜80/20とし、これらの化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造すればよい。   In the polyorganosilsesquioxane of the present invention, the total of the structural unit represented by formula (I) and the structural unit represented by formula (II), and the structural unit and formula represented by formula (2-1) In order to set the total proportion of the structural units represented by (2-2) to 99.5 / 0.5 to 80/20, the compound represented by the above formula (a) and the above formula (b ′) The ratio (mole) of the total (total molar amount) of the compounds represented by the formula (b-1) and the total (total molar amount) of the compounds represented by the above formula (b-2). Ratio) [{the total (total molar amount) of the compound represented by the formula (a) and the compound represented by the formula (b ′)} / {the compound represented by the formula (b-1) and the above formula (b -2), the total (total molar amount)}] of 99.5 / 0.5 to 80/20, and hydrolysis and condensation of these compounds It may be produced by a method of.

上記式(a)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(1)で表される構成単位を形成する化合物である。式(a)中のR1は、上記式(1)におけるR1と同じく、エポキシ基を含有する基を示す。即ち、式(a)中のR1としては、上記式(1a)で表される基、上記式(1b)で表される基、上記式(1c)で表される基、上記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは上記式(1a)で表される基、上記式(1c)で表される基、さらに好ましくは上記式(1a)で表される基、特に好ましくは上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[なかでも、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]である。 The compound represented by the above formula (a) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (1) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention. R 1 in the formula (a), like that of R 1 in the formula (1), a group containing an epoxy group. That is, R 1 in the formula (a) is a group represented by the above formula (1a), a group represented by the above formula (1b), a group represented by the above formula (1c), or the above formula (1d). The group represented by the above formula (1a), the group represented by the above formula (1c), more preferably the group represented by the above formula (1a), particularly preferably Is a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [in particular, a 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) ethyl group].

上記式(a)中のX1は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X1におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基等が挙げられる。また、X1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。なかでもX1としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX1は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。 X 1 in the above formula (a) represents an alkoxy group or a halogen atom. The alkoxy group in X 1, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, isopropyloxy group, a butoxy group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as isobutyl group and the like. As the halogen atom in X 1, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, X 1 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 1 s may be the same or different.

上記式(b−1)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2−1)で表される構成単位を形成する化合物であり、2つのSiがR21を介して結合しており、2量体(ビス体)の化合物である。また、上記式(b−2)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2−2)で表される構成単位を形成する化合物であり、3つのSiがR22を介して結合しており、3量体(トリス体)の化合物である。式(b−1)及び式(b−2)中のR21及びR22は、上記式(2−1)及び式(2−2)におけるR21及びR22と同じである。また、上記式(b’)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2’)で表される構成単位を形成する化合物である。式(b’)中のR2'は、上記式(2’)におけるR2'と同じである。 The compound represented by the above formula (b-1) is a compound which forms the structural unit represented by the formula (2-1) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention, and two Sis each represent R 21 . And is a dimer (bis-isomer) compound. Further, the compound represented by the above formula (b-2) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (2-2) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention, and three Si are R It is a compound of trimer (tris form) which is bonded through 22 . R 21 and R 22 of formula (b-1) and Formula (b-2) is the same as R 21 and R 22 in the formula (2-1) and (2-2). Moreover, the compound represented by the said Formula (b ') is a compound which forms the structural unit represented by Formula (2') in the polyorgano silsesquioxane of this invention. R 2 ′ in formula (b ′) is the same as R 2 ′ in formula (2 ′).

上記式(b−1)、式(b−2)及び式(b’)中のX2は、それぞれ同一又は異なって、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X2の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。なかでも、X2としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、各式におけるX2も、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。 X 2 in the above formula (b-1), formula (b-2) and formula (b ′) is the same or different and represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 2 include those exemplified as X 1 . Among these, as X 2, alkoxy groups are preferred, more preferably a methoxy group, an ethoxy group. X 2 in each formula may be the same or different.

上記式(b−1)で表される化合物は、例えば、R21がヘキシレン基であり、X2がいずれもメトキシ基である場合は、下記の2量体(ビス体)の化合物[ビス(トリメトキシシル)ヘキサン](BTH)となる。

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For example, when R 21 is a hexylene group and both X 2 are methoxy groups, the compound represented by the formula (b-1) is a dimer (bis-form) compound [bis ( Trimethoxysyl) hexane] (BTH).
Figure 0006557522

上記式(c)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(3)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(c)中のX3は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X3の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。なかでも、X3としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX3は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。 The compound represented by the above formula (c) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (3) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention. X 3 in the above formula (c) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 3 include those exemplified as X 1 . Among these, X 3 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 3 may be the same or different.

上記式(d)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(4)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(d)中のX4は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X4の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。なかでも、X4としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、4つのX4は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。 The compound represented by the above formula (d) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (4) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention. X 4 in the above formula (d) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 4 include those exemplified as X 1 . Of these, X 4 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The four X 4 may be the same or different.

上記加水分解性シラン化合物としては、上記式(a)〜(d)で表される化合物(式(b’)、式(b−1)、及び式(b−2)で表される化合物を含む)以外の加水分解性シラン化合物を併用してもよい。例えば、上記式(a)〜(c)(式(b’)、式(b−1)、及び式(b−2)で表される化合物を含む)で表される化合物以外の加水分解性三官能シラン化合物、M単位を形成する加水分解性単官能シラン化合物、D単位を形成する加水分解性二官能シラン化合物等が挙げられる。   Examples of the hydrolyzable silane compound include compounds represented by the above formulas (a) to (d) (compounds represented by the formula (b ′), the formula (b-1), and the formula (b-2)). A hydrolyzable silane compound other than (including) may be used in combination. For example, hydrolyzability other than compounds represented by the above formulas (a) to (c) (including compounds represented by formula (b ′), formula (b-1), and formula (b-2)) Trifunctional silane compounds, hydrolyzable monofunctional silane compounds that form M units, hydrolyzable bifunctional silane compounds that form D units, and the like.

上記加水分解性シラン化合物の使用量や組成は、所望する本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの構造に応じて適宜調整できる。例えば、上記式(a)で表される化合物の使用量は、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、例えば50〜99モル%であり、好ましくは55〜98モル%であり、より好ましくは60〜95モル%である。   The amount and composition of the hydrolyzable silane compound can be appropriately adjusted according to the desired structure of the polyorganosilsesquioxane of the present invention. For example, the amount of the compound represented by the above formula (a) is, for example, 50 to 99 mol%, preferably 55 to 98 mol, based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used. %, And more preferably 60 to 95 mol%.

また、上記式(b−1)で表される化合物と上記式(b−2)で表される化合物の合計の使用量(総量の割合)は、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、例えば0.1〜20モル%であり、好ましくは0.5〜18モル%であり、より好ましくは1〜15モル%であり、さらに好ましくは2〜10モル%である。   The total amount of the compound represented by the above formula (b-1) and the compound represented by the above formula (b-2) (ratio of the total amount) is the total amount of hydrolyzable silane compound to be used (100 Mol%), for example, 0.1 to 20 mol%, preferably 0.5 to 18 mol%, more preferably 1 to 15 mol%, still more preferably 2 to 10 mol%. is there.

また、式(b’)で表される化合物の使用量(総量)は、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、例えば0〜70モル%であり、好ましくは0〜60モル%であり、より好ましくは0.5〜40モル%であり、さらに好ましくは1〜15モル%である。   Moreover, the usage-amount (total amount) of the compound represented by Formula (b ') is 0-70 mol% with respect to the whole quantity (100 mol%) of the hydrolysable silane compound to be used, Preferably it is 0. It is -60 mol%, More preferably, it is 0.5-40 mol%, More preferably, it is 1-15 mol%.

また、上記式(d)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、例えば0〜50モル%であり、好ましくは2〜45モル%であり、より好ましくは5〜40モル%であり、さらに好ましくは5〜30モル%である。   Moreover, the usage-amount of the compound represented by the said Formula (d) is although it does not specifically limit, For example, it is 0-50 mol% with respect to the whole quantity (100 mol%) of the hydrolysable silane compound to be used, Preferably Is 2 to 45 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 5 to 30 mol%.

さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物、式(b−1)で表される化合物、式(b−2)で表される化合物及び式(b’)で表される化合物の合計の割合(総量の割合)は、例えば50〜100モル%であり、好ましくは60〜99.5モル%であり、より好ましくは70〜99モル%であり、さらに好ましくは80〜98モル%である。   Furthermore, the compound represented by the formula (a), the compound represented by the formula (b-1), the compound represented by the formula (b-2) with respect to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used. And the ratio of the compounds represented by formula (b ′) (total ratio) is, for example, 50 to 100 mol%, preferably 60 to 99.5 mol%, more preferably 70 to 99 mol. %, More preferably 80 to 98 mol%.

さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物、式(b−1)で表される化合物、式(b−2)で表される化合物、式(b’)で表される化合物、及び式(d)で表される化合物の合計の割合(総量の割合)は、例えば60モル%以上(60〜100モル%)であり、好ましくは70モル%以上であり、より好ましくは80モル%以上であり、さらに好ましくは90モル%以上である。   Furthermore, the compound represented by the formula (a), the compound represented by the formula (b-1), the compound represented by the formula (b-2) with respect to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used. The total ratio (ratio of the total amount) of the compound represented by formula (b ′) and the compound represented by formula (d) is, for example, 60 mol% or more (60 to 100 mol%), preferably It is 70 mol% or more, More preferably, it is 80 mol% or more, More preferably, it is 90 mol% or more.

また、上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うことも、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be performed simultaneously or sequentially. When performing the said reaction sequentially, the order which performs reaction is not specifically limited.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うことも、非存在下で行うこともできる。なかでも溶媒の存在下で行うことが好ましい。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。上記溶媒としては、なかでも、ケトン、エーテルが好ましい。なお、溶媒は1種を単独で使用することも、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be performed in the presence or absence of a solvent. Among these, it is preferable to carry out in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl acetate and ethyl acetate. , Esters such as isopropyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol Etc. Among them, ketones and ethers are preferable. In addition, a solvent can be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type.

溶媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量100重量部に対して、0〜2000重量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。   The usage-amount of a solvent is not specifically limited, It can adjust suitably according to desired reaction time etc. within the range of 0-2000 weight part with respect to 100 weight part of whole quantity of a hydrolysable silane compound. .

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。上記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。上記アルカリ触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩;酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン等のアミン類(第3級アミン等);ピリジン、2,2'−ビピリジル、1,10−フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。なお、触媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水や溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound is preferably allowed to proceed in the presence of a catalyst and water. The catalyst may be an acid catalyst or an alkali catalyst. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid, formic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p -Sulfonic acids such as toluenesulfonic acid; solid acids such as activated clay; Lewis acids such as iron chloride. Examples of the alkali catalyst include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and cesium hydroxide; alkaline earth metals such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, and barium hydroxide. Hydroxides; carbonates of alkali metals such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate; carbonates of alkaline earth metals such as magnesium carbonate; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, cesium hydrogen carbonate Alkali metal bicarbonates such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate, etc. (for example, acetate); alkaline earth metal organic acid salts, such as magnesium acetate (for example, Acetate); lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide Alkali metal alkoxides such as sodium phenoxide, sodium isopropoxide, potassium ethoxide, potassium t-butoxide; alkali metal phenoxides such as sodium phenoxide; triethylamine, N-methylpiperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] Amines such as undec-7-ene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (tertiary amine and the like); pyridine, 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline and the like And nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds. In addition, a catalyst can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type. Further, the catalyst can be used in a state dissolved or dispersed in water, a solvent or the like.

上記触媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.002〜0.200モルの範囲内で、適宜調整することができる。   The usage-amount of the said catalyst is not specifically limited, It can adjust suitably in the range of 0.002-0.200 mol with respect to 1 mol of whole quantity of a hydrolysable silane compound.

上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.5〜20モルの範囲内で、適宜調整することができる。   The amount of water used in the hydrolysis and condensation reaction is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within a range of 0.5 to 20 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量(全使用量)を一括で添加しても、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加しても、間欠的に添加してもよい。   The method for adding water is not particularly limited, and the total amount of water to be used (total amount used) may be added all at once or sequentially. When adding sequentially, you may add continuously or intermittently.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応を行う際の反応条件としては、特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]が5以上となるような反応条件を選択することが重要である。上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、例えば40〜100℃であり、好ましくは45〜80℃である。反応温度を上記範囲に制御することにより、上記割合[T3体/T2体]をより効率的に5以上に制御できる傾向がある。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、例えば0.1〜10時間であり、好ましくは1.5〜8時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。なお、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。   As the reaction conditions for carrying out the hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound, in particular, the reaction in which the ratio [T3 body / T2 body] in the polyorganosilsesquioxane of the present invention is 5 or more. It is important to select the conditions. The reaction temperature of the hydrolysis and condensation reaction is, for example, 40 to 100 ° C, preferably 45 to 80 ° C. By controlling the reaction temperature within the above range, the ratio [T3 / T2] tends to be more efficiently controlled to 5 or more. Moreover, the reaction time of the said hydrolysis and condensation reaction is 0.1 to 10 hours, for example, Preferably it is 1.5 to 8 hours. The hydrolysis and condensation reaction can be performed under normal pressure, or can be performed under pressure or under reduced pressure. The atmosphere for performing the hydrolysis and condensation reaction may be, for example, an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere, or in the presence of oxygen such as air. An atmosphere is preferred.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが得られる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、エポキシ基の開環を抑制するために触媒を中和することが好ましい。また、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製してもよい。   The polyorganosilsesquioxane of the present invention is obtained by hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound. After completion of the hydrolysis and condensation reaction, it is preferable to neutralize the catalyst in order to suppress the ring opening of the epoxy group. In addition, the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be combined with, for example, separation means such as water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, and the like. Separation and purification may be performed by separation means or the like.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは上述の構成を有するため、該ポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い表面硬度を有する硬化物を形成できる。また、高い耐熱性を有し、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できる。   Since the polyorganosilsesquioxane of the present invention has the above-described configuration, a cured product having high surface hardness can be formed by curing a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane as an essential component. In addition, a cured product having high heat resistance and excellent flexibility and workability can be formed.

[硬化性組成物]
本発明の硬化性組成物(接着剤組成物)は、上述の本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物(硬化性樹脂組成物)である。後述のように、本発明の硬化性組成物は、さらに、硬化触媒(特に光カチオン重合開始剤)や表面調整剤あるいは表面改質剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
[Curable composition]
The curable composition (adhesive composition) of the present invention is a curable composition (curable resin composition) containing the polyorganosilsesquioxane of the present invention as an essential component. As will be described later, the curable composition of the present invention may further contain other components such as a curing catalyst (particularly a photocationic polymerization initiator), a surface conditioner or a surface modifier.

本発明の硬化性組成物において本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In the curable composition of the present invention, the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物における本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量(配合量)は、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、例えば70重量%以上100重量%未満であり、好ましくは80〜99.8重量%であり、より好ましくは90〜99.5重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の表面硬度がより向上する傾向がある。一方、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を100重量%未満とすることにより、硬化触媒を含有させることができ、これにより硬化性組成物の硬化をより効率的に進行させることができる。   The content (blending amount) of the polyorganosilsesquioxane of the present invention in the curable composition of the present invention is, for example, 70% by weight or more and 100% with respect to the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. It is less than% by weight, preferably 80 to 99.8% by weight, and more preferably 90 to 99.5% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane of the present invention to 70% by weight or more, the surface hardness of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of the polyorganosilsesquioxane of the present invention to less than 100% by weight, it is possible to contain a curing catalyst, thereby allowing the curing of the curable composition to proceed more efficiently. it can.

本発明の硬化性組成物に含まれるカチオン硬化性化合物の全量(100重量%)に対する本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの割合は、例えば70〜100重量%であり、好ましくは75〜98重量%であり、より好ましくは80〜95重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の表面硬度がより向上する傾向がある。   The ratio of the polyorganosilsesquioxane of this invention with respect to the whole quantity (100 weight%) of the cationic curable compound contained in the curable composition of this invention is 70-100 weight%, for example, Preferably it is 75-98 weight. %, More preferably 80 to 95% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane of the present invention to 70% by weight or more, the surface hardness of the cured product tends to be further improved.

本発明の硬化性組成物は、さらに、硬化触媒を含むことが好ましい。なかでも、よりタックフリーとなるまでの硬化時間が短縮できる点で、硬化触媒として光カチオン重合開始剤を含むことが特に好ましい。   The curable composition of the present invention preferably further contains a curing catalyst. Especially, it is especially preferable to contain a photocationic polymerization initiator as a curing catalyst in that the curing time until it becomes more tack-free can be shortened.

上記硬化触媒は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン等のカチオン硬化性化合物のカチオン重合反応を開始乃至促進することができる化合物である。上記硬化触媒としては、特に限定されないが、例えば、光カチオン重合開始剤(光酸発生剤)、熱カチオン重合開始剤(熱酸発生剤)等の重合開始剤が挙げられる。   The said curing catalyst is a compound which can start thru | or accelerate | stimulate the cation polymerization reaction of cationic curable compounds, such as the polyorgano silsesquioxane of this invention. Although it does not specifically limit as said curing catalyst, For example, polymerization initiators, such as a photocationic polymerization initiator (photoacid generator) and a thermal cationic polymerization initiator (thermal acid generator), are mentioned.

上記光カチオン重合開始剤としては、公知乃至慣用の光カチオン重合開始剤を使用することができ、例えば、スルホニウム塩(スルホニウムイオンとアニオンとの塩)、ヨードニウム塩(ヨードニウムイオンとアニオンとの塩)、セレニウム塩(セレニウムイオンとアニオンとの塩)、アンモニウム塩(アンモニウムイオンとアニオンとの塩)、ホスホニウム塩(ホスホニウムイオンとアニオンとの塩)、遷移金属錯体イオンとアニオンとの塩等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   As the photocationic polymerization initiator, known or commonly used photocationic polymerization initiators can be used. For example, sulfonium salts (salts of sulfonium ions and anions), iodonium salts (salts of iodonium ions and anions). Selenium salt (selenium ion and anion salt), ammonium salt (ammonium ion and anion salt), phosphonium salt (phosphonium ion and anion salt), transition metal complex ion and anion salt, etc. . These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

光カチオン重合開始剤における塩を構成するアニオンとしては、例えば、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、(CF3CF23PF3 -、(CF3CF2CF23PF3 -、(C654-、(C654Ga-、スルホン酸アニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン等)、(CF3SO23-、(CF3SO22-、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。 Examples of the anion constituting the salt in the photocationic polymerization initiator include SbF 6 , PF 6 , BF 4 , (CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 , and (CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3. -, (C 6 F 5) 4 B -, (C 6 F 5) 4 Ga -, a sulfonate anion (trifluoromethanesulfonic acid anion, pentafluoroethanesulfonate anion, nonafluorobutanesulfonic acid anion, methanesulfonic acid anion , Benzenesulfonate anion, p-toluenesulfonate anion, etc.), (CF 3 SO 2 ) 3 C , (CF 3 SO 2 ) 2 N , perhalogenate ion, halogenated sulfonate ion, sulfate ion, carbonate Ion, aluminate ion, hexafluorobismuth ion, carboxylate ion, arylborate ion, thiocyanate ion, nitrate ion, etc. Is mentioned.

上記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウム塩、トリ−p−トリルスルホニウム塩、トリ−o−トリルスルホニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム塩、1−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、2−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、トリス(4−フルオロフェニル)スルホニウム塩、トリ−1−ナフチルスルホニウム塩、トリ−2−ナフチルスルホニウム塩、トリス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム塩、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩、4−(p−トリルチオ)フェニルジ−(p−フェニル)スルホニウム塩等のトリアリールスルホニウム塩;ジフェニルフェナシルスルホニウム塩、ジフェニル4−ニトロフェナシルスルホニウム塩、ジフェニルベンジルスルホニウム塩、ジフェニルメチルスルホニウム塩等のジアリールスルホニウム塩;フェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩等のモノアリールスルホニウム塩;ジメチルフェナシルスルホニウム塩、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム塩、ジメチルベンジルスルホニウム塩等のトリアルキルスルホニウム塩等が挙げられる。なかでも、トリアリールスルホニウム塩が好ましい。   Examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium salt, tri-p-tolylsulfonium salt, tri-o-tolylsulfonium salt, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium salt, 1-naphthyldiphenylsulfonium salt, and 2-naphthyldiphenyl. Sulfonium salt, tris (4-fluorophenyl) sulfonium salt, tri-1-naphthylsulfonium salt, tri-2-naphthylsulfonium salt, tris (4-hydroxyphenyl) sulfonium salt, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt , Triarylsulfonium salts such as 4- (p-tolylthio) phenyldi- (p-phenyl) sulfonium salt; diphenylphenacylsulfonium salt, diphenyl-4-nitrophenacylsulfonium salt, diphenylbenzyl Diarylsulfonium salts such as ruphonium salt and diphenylmethylsulfonium salt; monoarylsulfonium salts such as phenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium salt and 4-methoxyphenylmethylbenzylsulfonium salt; dimethylphenacylsulfonium salt, phena And trialkylsulfonium salts such as siltetrahydrothiophenium salt and dimethylbenzylsulfonium salt. Of these, triarylsulfonium salts are preferred.

上記ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩としては、例えば、商品名「CPI−101A」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート50%炭酸プロピレン溶液)、商品名「CPI−100P」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファート50%炭酸プロピレン溶液)等の市販品を使用できる。   Examples of the diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt include a trade name “CPI-101A” (manufactured by San Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate 50% propylene carbonate solution). ), Trade name “CPI-100P” (manufactured by San Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate 50% propylene carbonate solution) and the like can be used.

上記ヨードニウム塩としては、例えば、商品名「UV9380C」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート45%アルキルグリシジルエーテル溶液)、商品名「RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074」(ローディア・ジャパン(株)製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート [(1−メチルエチル)フェニル](メチルフェニル)ヨードニウム)、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製)、ジフェニルヨードニウム塩、ジ−p−トリルヨードニウム塩、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム塩等が挙げられる。   Examples of the iodonium salt include trade name “UV9380C” (Momentive Performance Materials Japan GK, bis (4-dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate 45% alkyl glycidyl ether solution), trade name “RHODORSIL”. PHOTOINITIATOR 2074 "(manufactured by Rhodia Japan KK, tetrakis (pentafluorophenyl) borate [(1-methylethyl) phenyl] (methylphenyl) iodonium), trade name" WPI-124 "(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Manufactured), diphenyliodonium salt, di-p-tolyliodonium salt, bis (4-dodecylphenyl) iodonium salt, bis (4-methoxyphenyl) iodonium salt, and the like.

上記セレニウム塩としては、例えば、トリフェニルセレニウム塩、トリ−p−トリルセレニウム塩、トリ−o−トリルセレニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)セレニウム塩、1−ナフチルジフェニルセレニウム塩等のトリアリールセレニウム塩;ジフェニルフェナシルセレニウム塩、ジフェニルベンジルセレニウム塩、ジフェニルメチルセレニウム塩等のジアリールセレニウム塩;フェニルメチルベンジルセレニウム塩等のモノアリールセレニウム塩;ジメチルフェナシルセレニウム塩等のトリアルキルセレニウム塩等が挙げられる。   Examples of the selenium salt include triaryl selenium such as triphenyl selenium salt, tri-p-tolyl selenium salt, tri-o-tolyl selenium salt, tris (4-methoxyphenyl) selenium salt, and 1-naphthyldiphenyl selenium salt. Salts: Diaryl phenacyl selenium salts, diphenyl benzyl selenium salts, diaryl selenium salts such as diphenyl methyl selenium salts; monoaryl selenium salts such as phenyl methyl benzyl selenium salts; trialkyl selenium salts such as dimethyl phenacyl selenium salts, etc. .

上記アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウム塩、エチルトリメチルアンモニウム塩、ジエチルジメチルアンモニウム塩、トリエチルメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、トリメチル−n−プロピルアンモニウム塩、トリメチル−n−ブチルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム塩;N,N−ジメチルピロリジウム塩、N−エチル−N−メチルピロリジウム塩等のピロリジウム塩;N,N’−ジメチルイミダゾリニウム塩、N,N’−ジエチルイミダゾリニウム塩等のイミダゾリニウム塩;N,N’−ジメチルテトラヒドロピリミジウム塩、N,N’−ジエチルテトラヒドロピリミジウム塩等のテトラヒドロピリミジウム塩;N,N−ジメチルモルホリニウム塩、N,N−ジエチルモルホリニウム塩等のモルホリニウム塩;N,N−ジメチルピペリジニウム塩、N,N−ジエチルピペリジニウム塩等のピペリジニウム塩;N−メチルピリジニウム塩、N−エチルピリジニウム塩等のピリジニウム塩;N,N’−ジメチルイミダゾリウム塩等のイミダゾリウム塩;N−メチルキノリウム塩等のキノリウム塩;N−メチルイソキノリウム塩等のイソキノリウム塩;ベンジルベンゾチアゾニウム塩等のチアゾニウム塩;ベンジルアクリジウム塩等のアクリジウム塩等が挙げられる。   Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium salt, ethyltrimethylammonium salt, diethyldimethylammonium salt, triethylmethylammonium salt, tetraethylammonium salt, trimethyl-n-propylammonium salt, and trimethyl-n-butylammonium salt. Pyrrolium salts such as alkyl ammonium salts; N, N-dimethylpyrrolidinium salts, N-ethyl-N-methylpyrrolidinium salts; N, N′-dimethylimidazolinium salts, N, N′-diethylimidazolinium salts, etc. Imidazolinium salts; tetrahydropyrimidinium salts such as N, N′-dimethyltetrahydropyrimidinium salt, N, N′-diethyltetrahydropyrimidinium salt; N, N-dimethylmorpholinium salt, N, N -Diethylmorpholini Morpholinium salts such as N salt, piperidinium salts such as N, N-dimethylpiperidinium salt and N, N-diethylpiperidinium salt; pyridinium salts such as N-methylpyridinium salt and N-ethylpyridinium salt; N, N '-Imidazolium salt such as dimethylimidazolium salt; Quinolium salt such as N-methylquinolium salt; Isoquinolium salt such as N-methylisoquinolium salt; Thiazonium salt such as benzylbenzothiazonium salt; And the like.

上記ホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム塩、テトラ−p−トリルホスホニウム塩、テトラキス(2−メトキシフェニル)ホスホニウム塩等のテトラアリールホスホニウム塩;トリフェニルベンジルホスホニウム塩等のトリアリールホスホニウム塩;トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリブチルベンジルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウム塩、トリエチルフェナシルホスホニウム塩等のテトラアルキルホスホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the phosphonium salt include tetraarylphosphonium salts such as tetraphenylphosphonium salt, tetra-p-tolylphosphonium salt and tetrakis (2-methoxyphenyl) phosphonium salt; triarylphosphonium salts such as triphenylbenzylphosphonium salt; Examples thereof include tetraalkylphosphonium salts such as benzylphosphonium salt, tributylbenzylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetrabutylphosphonium salt, and triethylphenacylphosphonium salt.

上記遷移金属錯体イオンの塩としては、例えば、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Cr+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Cr+等のクロム錯体カチオンの塩;(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Fe+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Fe+等の鉄錯体カチオンの塩等が挙げられる。 Examples of the salt of the transition metal complex ion include chromium such as (η 5 -cyclopentadienyl) (η 6 -toluene) Cr + and (η 5 -cyclopentadienyl) (η 6 -xylene) Cr +. Salts of complex cations; salts of iron complex cations such as (η 5 -cyclopentadienyl) (η 6 -toluene) Fe + and (η 5 -cyclopentadienyl) (η 6 -xylene) Fe + It is done.

上記カチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「SP−66」、「SP−77」(以上、(株)ADEKA製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製)等の市販品を使用することができる。   Examples of the cationic polymerization initiator include trade names “SP-66” and “SP-77” (manufactured by ADEKA Corporation); trade names “Sun Aid SI-60L”, “Sun Aid SI-80L”, “ Commercial products such as “Sun-Aid SI-100L” and “Sun-Aid SI-150L” (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) can be used.

上記熱カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩、アレン−イオン錯体、第4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。   Examples of the thermal cationic polymerization initiator include arylsulfonium salts, aryliodonium salts, allene-ion complexes, quaternary ammonium salts, aluminum chelates, and boron trifluoride amine complexes.

熱カチオン重合開始剤における塩を構成するアニオンとしては、上述の光カチオン重合開始剤における塩を構成するアニオンと同様の例が挙げられる。   Examples of the anion constituting the salt in the thermal cationic polymerization initiator include the same examples as the anion constituting the salt in the above-mentioned photocationic polymerization initiator.

なお、本発明の硬化性組成物において硬化触媒は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In the curable composition of the present invention, one type of curing catalyst can be used alone, or two or more types can be used in combination.

本発明の硬化性組成物における上記硬化触媒の含有量(配合量)は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、例えば0.01〜3.0重量部であり、好ましくは0.05〜3.0重量部であり、より好ましくは0.1〜1.0重量部であり、さらに好ましくは0.3〜1.0重量部である。硬化触媒の含有量を上記範囲とすることにより、硬化反応を効率的に十分に進行させることができ、硬化物の表面硬度がより向上する傾向があり、また、硬化性組成物の保存性がいっそう向上したり、硬化物の着色が抑制される傾向がある。   The content (blending amount) of the curing catalyst in the curable composition of the present invention is, for example, 0.01 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane of the present invention, preferably Is 0.05 to 3.0 parts by weight, more preferably 0.1 to 1.0 parts by weight, and still more preferably 0.3 to 1.0 parts by weight. By setting the content of the curing catalyst in the above range, the curing reaction can be efficiently and sufficiently advanced, the surface hardness of the cured product tends to be further improved, and the storability of the curable composition is improved. There exists a tendency which improves further and the coloring of hardened | cured material is suppressed.

(重合安定剤)
本発明の硬化性組成物は、接着剤組成物である場合、カチオンをトラップすることによりカチオン重合の進行を抑制するために重合安定剤を含むことが好ましい。重合安定剤によるカチオンのトラップ能は、加熱により飽和して失われる。本発明の硬化性組成物がカチオン重合開始剤と共に重合安定剤を含有する場合、塗布・乾燥して接着剤層を形成した後、長期に亘って重合の進行を抑制することができ、接着性が求められるタイミングで加熱することで優れた接着性を発現することができる、保存安定性に優れた接着剤層を形成することができる。
(Polymerization stabilizer)
When the curable composition of the present invention is an adhesive composition, it preferably contains a polymerization stabilizer in order to suppress the progress of cationic polymerization by trapping cations. The ability to trap cations by the polymerization stabilizer is lost due to saturation by heating. When the curable composition of the present invention contains a polymerization stabilizer together with a cationic polymerization initiator, after the coating and drying to form an adhesive layer, the progress of polymerization can be suppressed over a long period of time. It is possible to form an adhesive layer excellent in storage stability that can exhibit excellent adhesiveness by heating at a timing when is required.

上記重合安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ポリ([6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルベンゾエート、(ミックスト2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、3,9−ビス(2,3−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、ミックスト(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/β,β,β’,β’−テトラメチル−3−9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカン]ジエチル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ([6−N−モルホリル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、[N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]プロピオンアミド、商品名「LA−77」、「LA−67」、「LA−57」(以上、ADEKA製)、商品名「TINUVIN123」、「TINUVIN152」(以上、チバ・ジャパン(株)製)等のヒンダードアミン系化合物や、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(サンエイドSI助剤、三新化学工業(株)製)等のスルホニウム硫酸塩系化合物、商品名「PEP−36」((株)ADEKA製)等のホスファイト系化合物等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the polymerization stabilizer include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, poly ([6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1, 3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Imino]), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidi Nylbenzoate, (mixed 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl / tridecyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 3,9-bis (2,3-di-t -Butyl-4-methylpheno Ii) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, mixed (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl / β, β, β ′, β′-tetramethyl-3-9- [2,4,8,10-tetraoxaspiro (5.5) undecane] diethyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, poly ([6- N-morpholyl-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetra Methyl-4-piperidyl) imino]), [N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -2-methyl-2- (2,2,6,6-tetramethyl-4- Piperidyl) imino] propionamide, trade name “LA-77” ”,“ LA-67 ”,“ LA-57 ”(manufactured by ADEKA), hindered amine compounds such as trade names“ TINUVIN123 ”,“ TINUVIN152 ”(manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), (4- Hydroxyphenyl) sulfonium sulfate compounds such as dimethylsulfonium methylsulfite (Sun aid SI auxiliary, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), and phosphites such as trade name “PEP-36” (manufactured by ADEKA Corporation) Compounds and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物がカチオン重合開始剤を含有する場合、重合安定剤の使用量は、カチオン重合開始剤100重量部に対して、例えば1重量部以上であり、好ましくは3〜20重量部であり、より好ましくは5〜15重量部である。   When the curable composition of this invention contains a cationic polymerization initiator, the usage-amount of a polymerization stabilizer is 1 weight part or more with respect to 100 weight part of cationic polymerization initiators, Preferably it is 3-20 weights. Part, more preferably 5 to 15 parts by weight.

(その他のカチオン硬化性化合物)
本発明の硬化性組成物は、さらに、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン以外のカチオン硬化性化合物(「その他のカチオン硬化性化合物」と称する場合がある)を含んでいてもよい。その他のカチオン硬化性化合物としては、公知乃至慣用のカチオン硬化性化合物を使用することができ、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン以外のエポキシ化合物(「その他のエポキシ化合物」と称する場合がある)、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。なお、本発明の硬化性組成物においてその他のカチオン硬化性化合物は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
(Other cationic curable compounds)
The curable composition of the present invention may further contain a cationic curable compound other than the polyorganosilsesquioxane of the present invention (sometimes referred to as “other cationic curable compounds”). As other cationic curable compounds, known or commonly used cationic curable compounds can be used, and are not particularly limited. Epoxy compounds other than the polyorganosilsesquioxane of the present invention ("other epoxy compounds" and Oxetane compounds, vinyl ether compounds, and the like. In addition, in the curable composition of this invention, another cationic curable compound can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

上記その他のエポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。   As said other epoxy compound, the well-known thru | or usual compound which has 1 or more epoxy groups (oxirane ring) in a molecule | numerator can be used, Although it does not specifically limit, An alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin) ), Aromatic epoxy compounds (aromatic epoxy resins), aliphatic epoxy compounds (aliphatic epoxy resins), and the like.

上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy compound include known or conventional compounds having one or more alicyclic rings and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. (1) An alicyclic ring in the molecule A compound having an epoxy group (referred to as an “alicyclic epoxy group”) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting (2) an epoxy group directly bonded to the alicyclic ring by a single bond Compound: (3) A compound having a alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like.

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006557522
As said (1) compound which has an alicyclic epoxy group in a molecule | numerator, the compound represented by following formula (i) is mentioned.
Figure 0006557522

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。   In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include divalent hydrocarbon groups, alkenylene groups in which part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, carbonyl groups, ether bonds, ester bonds, carbonate groups, amide groups, and the like. And a group in which a plurality of are connected.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。   Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include, for example, a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , A 2-butenylene group, a butadienylene group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group, an octenylene group, etc., and a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、3,4,3’,4’−ジエポキシビシクロヘキサン、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR’は炭素数1〜8のアルキレン基であり、なかでも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エタン、2,3−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)オキシラン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。

Figure 0006557522
Figure 0006557522
Representative examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 3,4,3 ′, 4′-diepoxybicyclohexane, and the following formulas (i-1) to (i-10): The compound etc. which are represented by these are mentioned. In the following formulas (i-5) and (i-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R ′ in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and in particular, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group. A chain alkylene group is preferred. N1-n6 in following formula (i-9) and (i-10) show the integer of 1-30, respectively. Other examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane and 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethane, 2,3-bis (3,4-epoxycyclohexyl) oxirane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether and the like.
Figure 0006557522
Figure 0006557522

上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0006557522
Examples of the compound (2) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (ii).
Figure 0006557522

式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R ″ is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R ″ (OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parenthesis) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, , Trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.].

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the compound (3) having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule include glycidyl ethers of alicyclic alcohols (particularly alicyclic polyhydric alcohols). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) Compound obtained by hydrogenating bisphenol A type epoxy compound such as cyclohexyl] propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2, 3-epoxypropoxy) cyclohexyl] Compound obtained by hydrogenating bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound) Hydrogenated biphenol type epoxy compound; hydrogenated phenol novolak type epoxy compound; hydrogenated cresol novolak type epoxy compound; hydrogenated cresol novolak type epoxy compound of bisphenol A; hydrogenated naphthalene type epoxy compound; epoxy compound obtained from trisphenolmethane And hydrogenated epoxy compounds of the following aromatic epoxy compounds.

上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the aromatic epoxy compound include epibis type glycidyl ether type epoxy resins obtained by condensation reaction of bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol and the like] and epihalohydrin; High molecular weight epibis type glycidyl ether type epoxy resin obtained by addition reaction of bis type glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [eg, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehyde [eg, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicy A novolak alkyl type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further condensing a polyhydric alcohol obtained by a condensation reaction with an aldehyde etc. with an epihalohydrin; two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring. In addition, an epoxy compound in which a glycidyl group is bonded to an oxygen atom obtained by removing a hydrogen atom from the hydroxy group of the phenol skeleton, either directly or via an alkyleneoxy group.

上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。   Examples of the aliphatic epoxy compound include a glycidyl ether of an alcohol having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); a monovalent or polyvalent carboxylic acid [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, Adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.] glycidyl ester; epoxidized oils and fats having double bonds such as epoxidized linseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefins such as epoxidized polybutadiene (poly Epoxidized product of alkadiene). Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and other dihydric alcohols; Examples include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and sorbitol. That. The q-valent alcohol may be polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyolefin polyol, or the like.

上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。   Examples of the oxetane compound include known or commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3- Oxetanyl)] methyl} ether, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bisi Chlohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3- {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane And phenol novolac oxetane.

上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。   The vinyl ether compound may be a known or conventional compound having one or more vinyl ether groups in the molecule, and is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedi Methanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether P-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xy Glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, penta Ethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol Coal divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanorbornene divinyl ether, phenyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ha Droquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, 1, Examples include 4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, and dipentaerythritol hexavinyl ether.

本発明の硬化性組成物においては、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとともにその他のカチオン硬化性化合物としてビニルエーテル化合物を併用することが好ましい。これにより、硬化物の表面硬度がより高くなる傾向がある。特に、本発明の硬化性組成物を活性エネルギー線(特に紫外線)の照射により硬化させる場合には、活性エネルギー線の照射量を低くした場合であっても表面硬度が非常に高い硬化物が優れた生産性で(例えば、エージングのための熱処理を施す必要がない等)得られるという利点がある。このため、硬化物やハードコートフィルムの製造ライン速度をより高くすることが可能となり、これらの生産性がいっそう向上する。   In the curable composition of the present invention, it is preferable to use a vinyl ether compound in combination with the polyorganosilsesquioxane of the present invention as another cationic curable compound. Thereby, there exists a tendency for the surface hardness of hardened | cured material to become higher. In particular, when the curable composition of the present invention is cured by irradiation with active energy rays (particularly ultraviolet rays), a cured product having a very high surface hardness is excellent even when the irradiation amount of active energy rays is reduced. For example, there is an advantage that it can be obtained with high productivity (for example, it is not necessary to perform heat treatment for aging). For this reason, it becomes possible to make the manufacturing line speed of hardened | cured material and a hard coat film higher, and these productivity improves further.

また、その他のカチオン硬化性化合物として、特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物を使用した場合には、表面硬度がより高く、さらに、耐熱黄変性(加熱による黄変が生じにくい特性)に優れた硬化物が得られるという利点がある。このため、いっそう高品質かつ高耐久性の硬化物やハードコートフィルムが得られる。分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物が分子内に有する水酸基の数は、例えば1〜4個であり、好ましくは1又は2個である。具体的には、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル等が挙げられる。   In addition, as the other cationic curable compound, particularly when a vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is used, the surface hardness is higher, and further, heat-resistant yellowing (yellowing due to heating hardly occurs). There is an advantage that a cured product having excellent properties can be obtained. For this reason, the hardened | cured material and hard coat film of higher quality and durability are obtained. The number of hydroxyl groups in the molecule of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is, for example, 1 to 4, preferably 1 or 2. Specifically, examples of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule include 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl. Vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3-hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl Vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexa Diol monovinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol Monovinyl ether, tetra B propylene glycol monomethyl ether, pentaethylene glycol monomethyl ether, oligo propylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, dipentaerythritol penta vinyl ether.

本発明の硬化性組成物におけるその他のカチオン硬化性化合物の含有量(配合量)は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、例えば50重量%以下(0〜50重量%)であり、好ましくは30重量%以下であり、より好ましくは10重量%以下である。その他のカチオン硬化性化合物の含有量を50重量%以下(特に10重量%以下)とすることにより、硬化物の耐擦傷性がより向上する傾向がある。一方、その他のカチオン硬化性化合物の含有量を10重量%以上とすることにより、硬化性組成物や硬化物に対して所望の性能(例えば、硬化性組成物に対する速硬化性や粘度調整等)を付与することができる場合がある。   The content (blending amount) of the other cation curable compound in the curable composition of the present invention is the total amount of the polyorganosilsesquioxane of the present invention and the other cation curable compound (100% by weight; cation curable compound). For example, 50% by weight or less (0 to 50% by weight), preferably 30% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less. By setting the content of other cationic curable compounds to 50% by weight or less (particularly 10% by weight or less), the scratch resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of other cationic curable compounds to 10% by weight or more, desired performance for the curable composition or the cured product (for example, quick curability or viscosity adjustment for the curable composition). May be granted.

本発明の硬化性組成物におけるビニルエーテル化合物(特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物)の含有量(配合量)は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、例えば0.01〜10重量%であり、好ましくは0.05〜9重量%であり、より好ましくは1〜8重量%である。ビニルエーテル化合物の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化物の表面硬度がより高くなり、活性エネルギー線(例えば、紫外線)の照射量を低くした場合であっても表面硬度が非常に高い硬化物が得られる傾向がある。特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化物の表面硬度が特に高くなることに加えて、その耐熱黄変性もいっそう向上する傾向がある。   The content (blending amount) of the vinyl ether compound (particularly, the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule) in the curable composition of the present invention is the same as that of the polyorganosilsesquioxane of the present invention and other cationic curability. For example, 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 9% by weight, more preferably 1 to 8% by weight, based on the total amount of the compound (100% by weight; the total amount of the cationic curable compound). It is. By controlling the content of the vinyl ether compound within the above range, the surface hardness of the cured product becomes higher, and the surface hardness is extremely high even when the irradiation amount of active energy rays (for example, ultraviolet rays) is lowered. There is a tendency to get things. In particular, by controlling the content of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule within the above range, in addition to particularly high surface hardness of the cured product, there is a tendency to further improve its heat-resistant yellowing. is there.

本発明の硬化性組成物は、さらに、その他任意の成分として、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、硬化剤(アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤等)、硬化助剤、硬化促進剤(イミダゾール類、アルカリ金属又はアルカリ土類金属アルコキシド、ホスフィン類、アミド化合物、ルイス酸錯体化合物、硫黄化合物、ホウ素化合物、縮合性有機金属化合物等)、溶剤(水、有機溶剤等)、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤、重金属不活性化剤等)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤等)、難燃助剤、補強材(他の充填剤等)、核剤、カップリング剤(シランカップリング剤等)、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、透明化剤、レオロジー調整剤(流動性改良剤等)、加工性改良剤、着色剤(染料、顔料等)、帯電防止剤、分散剤、表面調整剤(レベリング剤、ワキ防止剤等)、表面改質剤(スリップ剤等)、艶消し剤、消泡剤、抑泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、光増感剤、発泡剤、重合安定剤等の慣用の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。これらの添加剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。上記添加剤の含有量(配合量)は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、例えば100重量部以下であり、好ましくは30重量部以下(例えば、0.01〜30重量部)であり、より好ましくは10重量部以下(例えば、0.1〜10重量部)である。   The curable composition of the present invention further includes, as other optional components, precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, calcium carbonate. Inorganic fillers such as carbon black, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, etc., inorganic fillers obtained by treating these fillers with organosilicon compounds such as organohalosilanes, organoalkoxysilanes, organosilazanes; silicone resins, epoxy resins , Organic resin fine powder such as fluororesin; filler such as conductive metal powder such as silver and copper, curing agent (amine curing agent, polyaminoamide curing agent, acid anhydride curing agent, phenol curing agent, etc. ), Curing aids, curing accelerators (imidazoles, alkali metal or alkaline earth metal alkoxides, Fins, amide compounds, Lewis acid complex compounds, sulfur compounds, boron compounds, condensable organometallic compounds, etc.), solvents (water, organic solvents, etc.), stabilizers (antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, Heat stabilizers, heavy metal deactivators, etc.), flame retardants (phosphorous flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardant aids, reinforcing materials (other fillers, etc.), nucleating agents , Coupling agents (silane coupling agents, etc.), lubricants, waxes, plasticizers, mold release agents, impact modifiers, hue modifiers, clearing agents, rheology modifiers (fluidity modifiers, etc.), processability improvement Agents, colorants (dyes, pigments, etc.), antistatic agents, dispersants, surface conditioners (leveling agents, anti-waxing agents, etc.), surface modifiers (slip agents, etc.), matting agents, antifoaming agents, suppression Foaming agent, defoaming agent, antibacterial agent, preservative, viscosity modifier, thickener, photosensitizer, foaming agent, heavy It may contain conventional additives such as stabilizers. These additives can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. These additives can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The content (blending amount) of the additive is, for example, 100 parts by weight or less, preferably 30 parts by weight or less (for example, 0.01 to 30) with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane of the present invention. Parts by weight), more preferably 10 parts by weight or less (for example, 0.1 to 10 parts by weight).

本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で又は必要に応じて加熱しながら攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。   Although the curable composition of this invention is not specifically limited, It can prepare by stirring and mixing each said component, heating at room temperature or as needed. In addition, the curable composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more components stored separately. Can be used as a multi-liquid composition (for example, a two-liquid system) used by mixing them at a predetermined ratio before use.

本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、本発明の硬化性組成物は、溶媒20%に希釈した液[特に、メチルイソブチルケトンの割合が20重量%である硬化性組成物(溶液)]の25℃における粘度として、例えば300〜20000mPa・sであり、好ましくは500〜10000mPa・sであり、より好ましくは1000〜8000mPa・sである。上記粘度を300mPa・s以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、上記粘度を20000mPa・s以下とすることにより、硬化性組成物の調製や取り扱いが容易となり、また、硬化物中に気泡が残存しにくくなる傾向がある。なお、本発明の硬化性組成物の粘度は、粘度計(商品名「MCR301」、アントンパール社製)を用いて、振り角5%、周波数0.1〜100(1/s)、温度:25℃の条件で測定される。   Although the curable composition of this invention is not specifically limited, It is preferable that it is a liquid at normal temperature (about 25 degreeC). More specifically, the curable composition of the present invention has a viscosity at 25 ° C. of a liquid diluted to 20% of a solvent [particularly, a curable composition (solution) in which the proportion of methyl isobutyl ketone is 20% by weight]. For example, it is 300-20000 mPa * s, Preferably it is 500-10000 mPa * s, More preferably, it is 1000-8000 mPa * s. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to improve more by making the said viscosity into 300 mPa * s or more. On the other hand, when the viscosity is 20000 mPa · s or less, preparation and handling of the curable composition are facilitated, and air bubbles tend not to remain in the cured product. The viscosity of the curable composition of the present invention was measured using a viscometer (trade name “MCR301”, manufactured by Anton Paar Co., Ltd.) with a swing angle of 5%, a frequency of 0.1 to 100 (1 / s), and temperature: It is measured at 25 ° C.

[硬化物]
本発明の硬化性組成物におけるカチオン硬化性化合物(本発明のポリオルガノシルセスキオキサン等)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができ、硬化物(「本発明の硬化物」と称する場合がある)を得ることができる。硬化の方法は、周知の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。なかでも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
[Cured product]
By proceeding the polymerization reaction of the cationic curable compound (such as the polyorganosilsesquioxane of the present invention) in the curable composition of the present invention, the curable composition can be cured, and the cured product ("present" May be referred to as “the cured product of the invention”). The curing method can be appropriately selected from well-known methods and is not particularly limited, and examples thereof include a method of irradiation with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Of these, ultraviolet rays are preferable in terms of excellent handleability.

本発明の硬化性組成物を活性エネルギー線の照射により硬化させる際の条件(活性エネルギー線の照射条件等)は、照射する活性エネルギー線の種類やエネルギー、硬化物の形状やサイズ等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、紫外線を照射する場合には、例えば1〜1000mJ/cm2程度とすることが好ましい。なお、活性エネルギー線の照射には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、LEDランプ、レーザー等を使用することができる。活性エネルギー線の照射後には、さらに加熱処理(アニール、エージング)を施してさらに硬化反応を進行させることができる。 Conditions for curing the curable composition of the present invention by irradiation with active energy rays (irradiation conditions for active energy rays, etc.) depend on the type and energy of the active energy rays to be irradiated, the shape and size of the cured product, etc. Although it can adjust suitably and it is not specifically limited, When irradiating an ultraviolet-ray, it is preferable to set it as about 1-1000 mJ / cm < 2 >, for example. For irradiation with active energy rays, for example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, sunlight, an LED lamp, a laser, or the like can be used. After the irradiation with the active energy ray, a heating treatment (annealing and aging) can be further performed to further advance the curing reaction.

本発明の硬化性組成物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを含有するため、200℃以下の低温で加熱することにより速やかに硬化物を形成することができる。すなわち、低温硬化性を有する。本発明の硬化性組成物を加熱により硬化させる際の条件は、例えば、30〜200℃であり、好ましくは50〜190℃である。硬化時間は適宜設定可能である。   Since the curable composition of this invention contains the polyorgano silsesquioxane of this invention, it can form hardened | cured material rapidly by heating at the low temperature of 200 degrees C or less. That is, it has low temperature curability. The conditions for curing the curable composition of the present invention by heating are, for example, 30 to 200 ° C, and preferably 50 to 190 ° C. The curing time can be appropriately set.

本発明の硬化性組成物は上述のように、硬化させることによって、高い表面硬度を有する硬化物を形成できる。また、ガラスは、非常に高い表面硬度を有する材料として知られており、特にアルカリイオン交換処理によって表面の鉛筆硬度を9Hにまで上げているものが知られているが、可とう性及び加工性に乏しいためにロールトゥロール方式での製造や加工をすることができず、枚葉で製造や加工をする必要があり、高い生産コストがかかっている。これに対し、本発明の硬化物は、ガラスに比べて可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できる。従って、本発明の硬化性組成物は、特に、ハードコートフィルムにおけるハードコート層を形成するための「ハードコート層形成用硬化性組成物」(「ハードコート液」や「ハードコート剤」等と称される場合がある)として特に好ましく使用できる。本発明の硬化性組成物をハードコート層形成用硬化性組成物として用い、該組成物より形成されたハードコート層を有するハードコートフィルムは、高硬度を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロールでの製造や加工が可能である。   As described above, the curable composition of the present invention can be cured to form a cured product having a high surface hardness. Further, glass is known as a material having a very high surface hardness, and in particular, glass having a surface pencil hardness of up to 9H by an alkali ion exchange treatment is known. However, flexibility and workability are known. Therefore, it is impossible to manufacture and process by roll-to-roll method, and it is necessary to manufacture and process by a single wafer, which requires high production cost. On the other hand, the hardened | cured material of this invention can form the hardened | cured material excellent in the flexibility and workability compared with glass. Accordingly, the curable composition of the present invention particularly includes a “curable composition for forming a hard coat layer” (“hard coat liquid”, “hard coat agent” and the like for forming a hard coat layer in a hard coat film. And may be particularly preferably used. The curable composition of the present invention is used as a curable composition for forming a hard coat layer, and a hard coat film having a hard coat layer formed from the composition has flexibility while maintaining high hardness. Can be manufactured and processed by roll-to-roll.

また、本発明の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物は、耐熱性に優れ、熱分解温度は、例えば200℃以上(例えば200〜500℃)であり、好ましくは260℃以上である。   Moreover, the hardened | cured material obtained by hardening the curable composition of this invention is excellent in heat resistance, and thermal decomposition temperature is 200 degreeC or more (for example, 200-500 degreeC), for example, Preferably it is 260 degreeC or more. .

本発明の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する優れた接着性及び密着性を有する。そのため、本発明の硬化性組成物は、接着剤(「接着剤組成物」と称する場合がある)、特に熱硬化性接着剤として好ましく使用でき、それを硬化させることにより、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する接着性及び密着性に優れた接着材へと転化させることができる。   A cured product obtained by curing the curable composition of the present invention has heat resistance, crack resistance, and excellent adhesion and adhesion to an adherend. Therefore, the curable composition of the present invention can be preferably used as an adhesive (sometimes referred to as “adhesive composition”), particularly as a thermosetting adhesive, and by curing it, heat resistance, crack resistance The adhesive can be converted into an adhesive having excellent properties, adhesion to an adherend, and adhesion.

本発明の硬化性組成物(接着剤組成物)は、後述の接着シートや積層物を得るための用途に限定されず、所望の物品(部品等)同士を接着する各種用途にも使用することができる。   The curable composition (adhesive composition) of the present invention is not limited to the use for obtaining an adhesive sheet or a laminate described later, and may be used for various uses for bonding desired articles (parts, etc.) to each other. Can do.

[ハードコートフィルム]
本発明のハードコートフィルムは、基材と、該基材の少なくとも一方の表面に形成されたハードコート層とを有するフィルムであって、上記ハードコート層が、本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)により形成されたハードコート層(本発明の硬化性組成物の硬化物層)であることを特徴としている。なお、本明細書においては、本発明の硬化性組成物により形成された上記ハードコート層を、「本発明のハードコート層」と称する場合がある。
[Hard coat film]
The hard coat film of the present invention is a film having a substrate and a hard coat layer formed on at least one surface of the substrate, wherein the hard coat layer is a curable composition (hard It is a hard coat layer (cured product layer of the curable composition of the present invention) formed by a curable composition for forming a coat layer). In the present specification, the hard coat layer formed of the curable composition of the present invention may be referred to as “the hard coat layer of the present invention”.

なお、本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、上記基材の一方の表面(片面)のみに形成されていても、両方の表面(両面)に形成されていてもよい。   In addition, the hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention may be formed only on one surface (one surface) of the base material, or may be formed on both surfaces (both surfaces).

また、本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、上記基材のそれぞれの表面において、一部のみに形成されていても、全面に形成されていてもよい。   Moreover, the hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention may be formed on only a part or the entire surface of each surface of the substrate.

本発明のハードコートフィルムにおける基材は、ハードコートフィルムの基材であって、本発明のハードコート層以外を構成する部分をいう。上記基材としては、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材(木製基材)、表面が塗装表面である基材等の公知乃至慣用の基材を用いることができ、特に限定されない。なかでも、プラスチック基材(プラスチック材料により構成された基材)が好ましい。   The base material in the hard coat film of the present invention is a base material of the hard coat film and refers to a part constituting other than the hard coat layer of the present invention. As said base material, well-known, such as a plastic base material, a metal base material, a ceramic base material, a semiconductor base material, a glass base material, a paper base material, a wood base material (wood base material), and the base material whose surface is a coating surface Thru | or a usual base material can be used and it does not specifically limit. Of these, a plastic substrate (a substrate made of a plastic material) is preferable.

上記プラスチック基材を構成するプラスチック材料は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル;ポリイミド;ポリカーボネート;ポリアミド;ポリアセタール;ポリフェニレンオキサイド;ポリフェニレンサルファイド;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ノルボルネン系モノマーの単独重合体(付加重合体や開環重合体等)、ノルボルネンとエチレンの共重合体等のノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマーの共重合体(付加重合体や開環重合体等の環状オレフィンコポリマー等)、これらの誘導体等の環状ポリオレフィン;ビニル系重合体(例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン樹脂(ABS樹脂)等);ビニリデン系重合体(例えば、ポリ塩化ビニリデン等);トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂;エポキシ樹脂;フェノール樹脂;メラミン樹脂;ユリア樹脂;マレイミド樹脂;シリコーン等の各種プラスチック材料が挙げられる。なお、上記プラスチック基材は、1種のみのプラスチック材料により構成されたものであっても、2種以上のプラスチック材料により構成されたものであってもよい。   Although the plastic material which comprises the said plastic base material is not specifically limited, For example, Polyesters, such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); Polyimide; Polycarbonate; Polyamide; Polyacetal; Polyphenylene oxide; Polyphenylene sulfide; Polyether Sulfone; Polyetheretherketone; Norbornene monomer homopolymer (addition polymer, ring-opening polymer, etc.), Norbornene monomer and olefin monomer copolymer (addition polymer, such as norbornene and ethylene copolymer) And cyclic olefin copolymers such as ring-opening polymers), cyclic polyolefins such as derivatives thereof; vinyl polymers (for example, acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene , Polyvinyl chloride, acrylonitrile-styrene-butadiene resin (ABS resin, etc.); vinylidene polymers (eg, polyvinylidene chloride, etc.); cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC); epoxy resins; phenol resins; Various plastic materials such as melamine resin; urea resin; maleimide resin; The plastic substrate may be composed of only one kind of plastic material or may be composed of two or more kinds of plastic materials.

なかでも、上記プラスチック基材としては、本発明のハードコートフィルムとして透明性に優れたハードコートフィルムを得ることを目的とする場合には、透明性に優れた基材(透明基材)を用いることが好ましく、より好ましくはポリエステルフィルム(特に、PET、PEN)、環状ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルム、PMMAフィルムである。   Among these, as the plastic substrate, a substrate having excellent transparency (transparent substrate) is used when the hard coat film of the present invention is intended to obtain a hard coat film having excellent transparency. It is preferably a polyester film (particularly PET, PEN), a cyclic polyolefin film, a polycarbonate film, a TAC film, or a PMMA film.

上記プラスチック基材は、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定剤、結晶核剤、難燃剤、難燃助剤、充填剤、可塑剤、耐衝撃性改良剤、補強剤、分散剤、帯電防止剤、発泡剤、抗菌剤等のその他の添加剤を含んでいてもよい。なお、添加剤は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   If necessary, the plastic substrate is made of an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a heat stabilizer, a crystal nucleating agent, a flame retardant, a flame retardant aid, a filler, a plasticizer, and an impact modifier. , Other additives such as reinforcing agents, dispersants, antistatic agents, foaming agents, antibacterial agents and the like may be included. In addition, an additive can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type.

上記プラスチック基材は、単層の構成を有していても、多層(積層)の構成を有していてもよく、その構成(構造)は特に限定されない。例えば、上記プラスチック基材は、プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に本発明のハードコート層以外の層(「その他の層」と称する場合がある)が形成された、「プラスチックフィルム/その他の層」又は「その他の層/プラスチックフィルム/その他の層」等の積層構成を有するプラスチック基材であってもよい。上記その他の層としては、例えば、本発明のハードコート層以外のハードコート層等が挙げられる。なお、上記その他の層を構成する材料としては、例えば、上述のプラスチック材料等が挙げられる。   The plastic substrate may have a single-layer configuration or a multilayer (lamination) configuration, and the configuration (structure) is not particularly limited. For example, the above-mentioned plastic substrate is “plastic film / other layer” in which a layer other than the hard coat layer of the present invention (sometimes referred to as “other layer”) is formed on at least one surface of the plastic film. Alternatively, it may be a plastic substrate having a laminated structure such as “other layer / plastic film / other layer”. Examples of the other layers include hard coat layers other than the hard coat layer of the present invention. In addition, as a material which comprises the said other layer, the above-mentioned plastic material etc. are mentioned, for example.

上記プラスチック基材の表面の一部又は全部には、粗化処理、易接着処理、静電気防止処理、サンドブラスト処理(サンドマット処理)、コロナ放電処理、プラズマ処理、ケミカルエッチング処理、ウォーターマット処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理、酸化処理、紫外線照射処理、シランカップリング剤処理等の公知乃至慣用の表面処理が施されていてもよい。なお、上記プラスチック基材は、未延伸フィルムであっても、延伸フィルム(一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルム等)であってもよい。   Roughening treatment, easy adhesion treatment, antistatic treatment, sandblast treatment (sand mat treatment), corona discharge treatment, plasma treatment, chemical etching treatment, water mat treatment, flame are applied to part or all of the surface of the plastic substrate. Known or conventional surface treatments such as treatment, acid treatment, alkali treatment, oxidation treatment, ultraviolet irradiation treatment, silane coupling agent treatment, etc. may be applied. The plastic substrate may be an unstretched film or a stretched film (uniaxially stretched film, biaxially stretched film, etc.).

上記プラスチック基材は、例えば、上述のプラスチック材料をフィルム状に成形してプラスチック基材(プラスチックフィルム)とする方法、必要に応じてさらに上記プラスチックフィルムに対して適宜な層(例えば、上記その他の層等)を形成したり、適宜な表面処理を施す方法等の、公知乃至慣用の方法により製造することができる。なお、上記プラスチック基材としては、市販品を使用することもできる。   The plastic base material is, for example, a method of forming the plastic material described above into a film shape to form a plastic base material (plastic film), and if necessary, an appropriate layer (for example, the above-mentioned other layers) on the plastic film. For example, a layer or the like, or an appropriate surface treatment. In addition, a commercial item can also be used as said plastic base material.

上記基材の厚みは、例えば、0.01〜10000μmの範囲から適宜選択することができる。   The thickness of the said base material can be suitably selected from the range of 0.01-10000 micrometers, for example.

本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、本発明のハードコートフィルムにおける少なくとも一方の表面層を構成する層であり、本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)を硬化させることにより得られる硬化物(樹脂硬化物)により形成された層(硬化物層)である。   The hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention is a layer constituting at least one surface layer in the hard coat film of the present invention, and the curable composition of the present invention (curable composition for forming a hard coat layer). It is a layer (cured product layer) formed by a cured product (resin cured product) obtained by curing the product.

本発明のハードコート層の厚み(基材の両面に本発明のハードコート層を有する場合は、それぞれのハードコート層の厚み)は、例えば1〜200μmであり、好ましくは3〜150μmである。特に、本発明のハードコート層は、薄い場合(例えば、厚み5μm以下の場合)であっても、表面の高硬度を維持すること(例えば、鉛筆硬度をH以上とすること)が可能である。また、厚い場合(例えば、厚み50μm以上の場合)であっても、硬化収縮等に起因するクラック発生等の不具合が生じにくいため、厚膜化によって鉛筆硬度を著しく高めること(例えば、鉛筆硬度を9H以上とすること)が可能である。   The thickness of the hard coat layer of the present invention (when the hard coat layer of the present invention is provided on both surfaces of the substrate, the thickness of each hard coat layer) is, for example, 1 to 200 μm, preferably 3 to 150 μm. In particular, even when the hard coat layer of the present invention is thin (for example, when the thickness is 5 μm or less), it is possible to maintain a high surface hardness (for example, the pencil hardness is set to H or more). . In addition, even when the thickness is thick (for example, when the thickness is 50 μm or more), it is difficult to cause defects such as cracks due to curing shrinkage, etc. 9H or higher).

本発明のハードコート層のヘイズは、特に限定されないが、50μmの厚みの場合で、例えば1.5%以下であり、好ましくは1.0%以下である。なお、ヘイズの下限は、例えば0.1%である。ヘイズを特に1.0%以下とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコート層のヘイズは、JIS K7136に準拠して測定することができる。   The haze of the hard coat layer of the present invention is not particularly limited, but is 50% or less, for example, 1.5% or less, and preferably 1.0% or less. In addition, the minimum of haze is 0.1%, for example. By setting the haze to 1.0% or less, for example, the haze tends to be suitable for use in applications that require very high transparency (for example, surface protection sheets for displays such as touch panels). The haze of the hard coat layer of the present invention can be measured according to JIS K7136.

本発明のハードコート層の全光線透過率は、50μmの厚みの場合で、例えば85%以上であり、好ましくは90%以上である。なお、全光線透過率の上限は、例えば99%である。全光線透過率を85%以上とすることにより、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコート層の全光線透過率は、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。   The total light transmittance of the hard coat layer of the present invention is, for example, 85% or more, preferably 90% or more in the case of a thickness of 50 μm. Note that the upper limit of the total light transmittance is, for example, 99%. By setting the total light transmittance to 85% or more, there is a tendency to be suitable for use in applications that require very high transparency (for example, surface protection sheets for displays such as touch panels). The total light transmittance of the hard coat layer of the present invention can be measured according to JIS K7361-1.

本発明のハードコートフィルムは、さらに、本発明のハードコート層表面に表面保護フィルムを有していてもよい。本発明のハードコートフィルムが表面保護フィルムを有することにより、ハードコートフィルムの打ち抜き加工性がいっそう向上する傾向がある。このように表面保護フィルムを有する場合には、ハードコート層の硬度が非常に高く、打ち抜き加工時に基材からの剥離やクラックが発生しやすいものであっても、このような問題を生じさせることなくトムソン刃を使用した打ち抜き加工を行うことができる。   The hard coat film of the present invention may further have a surface protective film on the surface of the hard coat layer of the present invention. When the hard coat film of the present invention has a surface protective film, the punchability of the hard coat film tends to be further improved. When having a surface protective film in this way, the hardness of the hard coat layer is very high, and even if it is prone to peeling or cracking from the substrate during punching, it may cause such problems. It is possible to perform punching using a Thomson blade.

上記表面保護フィルムとしては、公知乃至慣用の表面保護フィルムを使用することができ、例えば、プラスチックフィルムの表面に粘着剤層を有するものが使用できる。上記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン等)、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチック材料より形成されたプラスチックフィルムが挙げられる。上記粘着剤層としては、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体系粘着剤、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体系粘着剤、スチレン−イソプレンブロック共重合体系粘着剤、スチレン−ブタジエンブロック共重合体系粘着剤等の公知乃至慣用の粘着剤の1種以上より形成された粘着剤層が挙げられる。上記粘着剤層中には、各種の添加剤(例えば、帯電防止剤、スリップ剤等)が含まれていてもよい。なお、プラスチックフィルム、粘着剤層は、それぞれ単層構成を有していても、多層(複層)構成を有していてもよい。また、表面保護フィルムの厚みは、特に限定されず、適宜選択することができる。   As the surface protective film, a known or conventional surface protective film can be used. For example, a film having a pressure-sensitive adhesive layer on the surface of a plastic film can be used. Examples of the plastic film include polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyolefin (polyethylene, polypropylene, cyclic polyolefin, etc.), polystyrene, acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, fluorine resin, silicone resin, diacetate resin, Examples thereof include plastic films formed from plastic materials such as triacetate resin, polyarylate, polyvinyl chloride, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherimide, polyimide, and polyamide. Examples of the adhesive layer include an acrylic adhesive, a natural rubber adhesive, a synthetic rubber adhesive, an ethylene-vinyl acetate copolymer adhesive, an ethylene- (meth) acrylate copolymer adhesive, Examples thereof include a pressure-sensitive adhesive layer formed from one or more known or common pressure-sensitive adhesives such as a styrene-isoprene block copolymer pressure-sensitive adhesive and a styrene-butadiene block copolymer pressure-sensitive adhesive. In the pressure-sensitive adhesive layer, various additives (for example, an antistatic agent, a slip agent, etc.) may be contained. The plastic film and the pressure-sensitive adhesive layer may each have a single layer configuration or a multilayer (multi-layer) configuration. Moreover, the thickness of a surface protection film is not specifically limited, It can select suitably.

表面保護フィルムとしては、例えば、商品名「サニテクト」シリーズ((株)サンエー化研製)、商品名「E−MASK」シリーズ(日東電工(株)製)、商品名「マスタック」シリーズ(藤森工業(株)製)、商品名「ヒタレックス」シリーズ(日立化成工業(株)製)、商品名「アルファン」シリーズ(王子エフテックス(株)製)等の市販品が市場より入手可能である。   Examples of the surface protective film include the product name “Sanitek” series (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.), the product name “E-MASK” series (manufactured by Nitto Denko Corporation), and the product name “Mastak” series (Fujimori Industry ( Commercially available products such as the product name “Hitarex” series (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) and the product name “Alphan” series (manufactured by Oji F-Tex Co., Ltd.) are available from the market.

本発明のハードコートフィルムは、公知乃至慣用のハードコートフィルムの製造方法に準じて製造することができ、その製造方法は特に限定されないが、上記基材の少なくとも一方の表面に本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)を塗布し、必要に応じて溶剤を乾燥によって除去した後、該硬化性組成物(硬化性組成物層)を硬化させることにより製造できる。硬化性組成物を硬化させる際の条件は、例えば、上述の硬化物を形成する際の条件から適宜選択可能である。   The hard coat film of the present invention can be produced according to a known or commonly used method for producing a hard coat film, and the production method is not particularly limited, but the curability of the present invention is applied to at least one surface of the substrate. It can be produced by applying a composition (a curable composition for forming a hard coat layer), removing the solvent by drying as necessary, and then curing the curable composition (curable composition layer). The conditions for curing the curable composition can be appropriately selected from, for example, the conditions for forming the above-described cured product.

特に、本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)より形成されたハードコート層であるため、本発明のハードコートフィルムは、ロールトゥロール方式での製造が可能である。本発明のハードコートフィルムをロールトゥロール方式で製造することにより、その生産性を著しく高めることが可能である。本発明のハードコートフィルムをロールトゥロール方式で製造する方法としては、公知乃至慣用のロールトゥロール方式の製造方法を採用することができ、例えば、ロール状に巻いた基材を繰り出す工程(工程A)と、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)を塗布し、次いで、必要に応じて溶剤を乾燥によって除去した後、該硬化性組成物(硬化性組成物層)を硬化させることにより本発明のハードコート層を形成する工程(工程B)と、その後、得られたハードコートフィルムを再びロールに巻き取る工程(工程C)とを必須の工程として含み、これら工程(工程A〜C)を連続的に実施する方法等が挙げられる。なお、当該方法は、工程A〜C以外の工程を含んでいてもよい。   In particular, the hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention is a hard coat layer formed from the curable composition of the present invention (the curable composition for forming a hard coat layer). The coat film can be manufactured by a roll-to-roll method. By producing the hard coat film of the present invention by a roll-to-roll method, the productivity can be remarkably increased. As a method for producing the hard coat film of the present invention by a roll-to-roll method, a known or conventional roll-to-roll method can be employed. For example, a step of feeding a substrate wound in a roll shape (step) A) and, after applying the curable composition of the present invention (curable composition for forming a hard coat layer) on at least one surface of the fed substrate, and then removing the solvent by drying as necessary, A step of forming the hard coat layer of the present invention by curing the curable composition (curable composition layer) (step B), and then a step of winding the obtained hard coat film again on a roll (step) C) as an essential step, and a method of continuously performing these steps (steps A to C) and the like. In addition, the said method may include processes other than process AC.

本発明のハードコートフィルムの厚みは、特に限定されず、1〜10000μmの範囲から適宜選択することができる。   The thickness of the hard coat film of this invention is not specifically limited, It can select suitably from the range of 1-10000 micrometers.

本発明のハードコートフィルムの本発明のハードコート層表面の鉛筆硬度は、例えばH以上であり、好ましくは2H以上であり、より好ましくは6H以上である。なお、鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4に記載の方法に準じて評価することができる。   The pencil hardness of the hard coat layer surface of the present invention of the hard coat film of the present invention is, for example, H or more, preferably 2H or more, more preferably 6H or more. The pencil hardness can be evaluated according to the method described in JIS K5600-5-4.

本発明のハードコートフィルムのヘイズは、例えば1.5%以下であり、好ましくは1.0%以下である。なお、ヘイズの下限は、例えば0.1%である。ヘイズを特に1.0%以下とすることにより、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコートフィルムのヘイズは、例えば、基材として上述の透明基材を使用することによって容易に上記範囲に制御することができる。なお、ヘイズは、JIS K7136に準拠して測定することができる。   The haze of the hard coat film of the present invention is, for example, 1.5% or less, and preferably 1.0% or less. In addition, the minimum of haze is 0.1%, for example. By setting the haze to 1.0% or less in particular, there is a tendency to be suitable for use in applications that require very high transparency (for example, surface protection sheets for displays such as touch panels). The haze of the hard coat film of the present invention can be easily controlled within the above range by using, for example, the above-mentioned transparent substrate as a substrate. The haze can be measured according to JIS K7136.

本発明のハードコートフィルムの全光線透過率は、例えば85%以上であり、好ましくは90%以上である。なお、全光線透過率の上限は、例えば99%である。全光線透過率を特に90%以上とすることにより、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコートフィルムの全光線透過率は、例えば、基材として上述の透明基材を使用することによって容易に上記範囲に制御することができる。なお、全光線透過率は、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。   The total light transmittance of the hard coat film of the present invention is, for example, 85% or more, and preferably 90% or more. Note that the upper limit of the total light transmittance is, for example, 99%. By setting the total light transmittance to 90% or more in particular, there is a tendency to be suitable for use in applications that require very high transparency (for example, surface protection sheets for displays such as touch panels). The total light transmittance of the hard coat film of the present invention can be easily controlled within the above range by using, for example, the above-mentioned transparent substrate as the substrate. The total light transmittance can be measured according to JIS K7361-1.

本発明のハードコートフィルムは、高硬度を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロール方式での製造や加工が可能であるため、高い品質を有し、生産性にも優れる。特に、本発明のハードコート層表面に表面保護フィルムを有する場合には、打ち抜き加工性にも優れる。このため、このような特性が要求されるあらゆる用途に好ましく使用することができる。本発明のハードコートフィルムは、例えば、各種製品における表面保護フィルム、各種製品の部材又は部品における表面保護フィルム等として使用することもできるし、また、各種製品やその部材又は部品の構成材として使用することもできる。上記製品としては、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどの表示装置;タッチパネルなどの入力装置:太陽電池;各種家電製品;各種電気・電子製品;携帯電子端末(例えば、ゲーム機器、パソコン、タブレット、スマートフォン、携帯電話等)の各種電気・電子製品;各種光学機器等が挙げられる。また、本発明のハードコートフィルムが各種製品やその部材又は部品の構成材として使用される態様としては、例えば、タッチパネルにおけるハードコートフィルムと透明導電フィルムの積層体等に使用される態様等が挙げられる。   The hard coat film of the present invention has flexibility while maintaining high hardness, and can be manufactured and processed by a roll-to-roll method. Therefore, the hard coat film has high quality and excellent productivity. In particular, when the surface protective film is provided on the surface of the hard coat layer of the present invention, the punching processability is also excellent. For this reason, it can be preferably used for any application that requires such characteristics. The hard coat film of the present invention can be used as, for example, a surface protective film for various products, a surface protective film for various product members or parts, and also used as a constituent material for various products, members or parts thereof. You can also Examples of the products include display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays; input devices such as touch panels; solar cells; various home appliances; various electric and electronic products; portable electronic terminals (for example, game machines, personal computers, tablets, Smartphones, mobile phones, etc.) and various electrical and electronic products; various optical devices. Moreover, as an aspect in which the hard coat film of the present invention is used as a constituent material of various products and its members or parts, for example, an aspect used in a laminate of a hard coat film and a transparent conductive film in a touch panel, etc. It is done.

[接着シート]
本発明の硬化性組成物(接着剤組成物)を用いることにより、基材と、該基材上の接着剤層とを少なくとも有する接着シートであって、上記接着剤層が本発明の硬化性組成物の層(「本発明の接着剤層」と称する場合がある)である接着シート(「本発明の接着シート」と称する場合がある)が得られる。本発明の接着シートには、シート状のみならず、フィルム状、テープ状、板状等のシート状に類する形態のものが含まれる。
[Adhesive sheet]
By using the curable composition (adhesive composition) of the present invention, an adhesive sheet having at least a base material and an adhesive layer on the base material, wherein the adhesive layer is curable according to the present invention. An adhesive sheet (sometimes referred to as “the adhesive sheet of the present invention”) that is a layer of the composition (sometimes referred to as “the adhesive layer of the present invention”) is obtained. The adhesive sheet of the present invention includes not only a sheet shape but also a form similar to a sheet shape such as a film shape, a tape shape, and a plate shape.

本発明の接着シートは、例えば、基材に本発明の硬化性組成物を塗布し、さらに、必要に応じて乾燥させることによって得ることができる。塗布の方法は特に限定されず、周知慣用の手段を利用することができる。また、乾燥の手段や条件も特に限定されず、溶媒等の揮発分をできるだけ除去できる条件を設定することができ、周知慣用の手段を用いることができる。特に、本発明の硬化性組成物が、上述のセロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上である重合開始剤を含有する場合は、加熱乾燥することにより、硬化反応の進行を抑制しつつ、速やかに溶媒等の揮発分を除去して接着剤層を形成することができる。そのようにして得られた接着剤層は50℃未満では接着性を有さないため切削刃に糊が付着することなく切削加工を行うことができ、被接着体へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現し、その後、速やかに硬化する特性を有する。   The adhesive sheet of the present invention can be obtained, for example, by applying the curable composition of the present invention to a substrate and further drying as necessary. The method of application is not particularly limited, and well-known and commonly used means can be used. Also, the means and conditions for drying are not particularly limited, and conditions under which volatile components such as solvents can be removed as much as possible can be set, and well-known and commonly used means can be used. In particular, the thermosetting time at 130 ° C. of the composition obtained by adding 1 part by weight of the curable composition of the present invention to 100 parts by weight of the above-mentioned Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Corporation) is 3.5 minutes. When the polymerization initiator as described above is contained, the adhesive layer can be formed by quickly removing volatile components such as a solvent while suppressing the progress of the curing reaction by heating and drying. The adhesive layer thus obtained does not have an adhesive property at a temperature lower than 50 ° C., so that the cutting can be performed without adhering the glue to the cutting blade, and the temperature at which damage to the adherend can be suppressed. It has the property of exhibiting adhesiveness when heated with and then rapidly curing.

本発明の接着シートは、基材の片面側のみに接着剤層を有する片面接着シートであってもよいし、基材の両面側に接着剤層を有する両面接着シートであってもよい。本発明の接着シートが両面接着シートである場合、少なくとも一方の接着剤層が本発明の接着剤層であればよい。   The adhesive sheet of the present invention may be a single-sided adhesive sheet having an adhesive layer only on one side of the substrate, or a double-sided adhesive sheet having an adhesive layer on both sides of the substrate. When the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet, at least one of the adhesive layers may be the adhesive layer of the present invention.

本発明の接着シートにおける基材としては、周知慣用の基材(接着シートに使用される基材)を使用することができ、特に限定されないが、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材、表面が塗装表面である基材等が挙げられる。また、本発明の接着シートにおける基材は、いわゆる剥離ライナーであってもよい。なお、本発明の接着シートは、基材を1層のみ有するものであってもよいし、2層以上有するものであってもよい。また、上記基材の厚みは特に限定されず、1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。   As a base material in the adhesive sheet of the present invention, a well-known and commonly used base material (a base material used for the adhesive sheet) can be used, and is not particularly limited. However, a plastic base material, a metal base material, a ceramic base material, Examples thereof include a semiconductor substrate, a glass substrate, a paper substrate, a wood substrate, and a substrate whose surface is a painted surface. The base material in the adhesive sheet of the present invention may be a so-called release liner. In addition, the adhesive sheet of the present invention may have only one layer of the base material, or may have two or more layers. Moreover, the thickness of the said base material is not specifically limited, It can select suitably in the range of 1-10000 micrometers.

本発明の接着シートは、本発明の接着剤層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着剤層の厚みは、特に限定されず、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。その他の接着剤層(本発明の接着剤層以外の接着剤層)についても同様である。   The adhesive sheet of the present invention may have only one adhesive layer of the present invention, or may have two or more types. The thickness of the adhesive layer of the present invention is not particularly limited and can be appropriately selected within the range of 0.1 to 10,000 μm. The same applies to other adhesive layers (adhesive layers other than the adhesive layer of the present invention).

本発明の接着シートは、基材と接着剤層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層等)を有するものであってもよい。   The adhesive sheet of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer and an undercoat layer) in addition to the base material and the adhesive layer.

[積層物]
本発明の硬化性組成物(接着剤組成物)を用いることにより、3層以上で構成される積層物(積層体)であって、2層の被接着層と、これらの被接着層の間に位置する接着層(上記被接着層同士を接着する層)とを少なくとも有し、上記接着層が本発明の硬化性組成物の硬化物の層(「本発明の接着層」と称する場合がある)である積層物(「本発明の積層物」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の積層物は、特に限定されないが、一方の被接着層に本発明の接着剤層を形成し(例えば、本発明の接着シートにおける接着剤層と同様に形成できる)、さらに、当該接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、加熱処理を施すことによって本発明の接着剤層を硬化させることによって得ることができる。また、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが片面接着シートである場合には、本発明の接着シートを被接着層に貼り合わせ、次いで、加熱処理を施すことによって上記接着シート中の本発明の接着剤層を硬化させることによって得ることができる。この場合、本発明の接着シートにおける基材が被接着層に当たる積層物が得られる。さらに、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが両面接着シートであって、接着剤層の両面に基材としての剥離ライナーが貼着されているものである場合には、本発明の接着シートの一方の剥離ライナーを剥離して露出させた接着剤層に対して被接着層に貼り合わせ、次いで、もう一方の剥離ライナーを剥離して露出させた接着剤層に対して他の被接着層を貼り合わせ、その後、加熱処理を施すことによって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。但し、本発明の積層物の製造方法は、これらの方法に限定されない。
[Laminate]
By using the curable composition (adhesive composition) of the present invention, it is a laminate (laminate) composed of three or more layers, and between the two adherend layers and these adherend layers. At least an adhesive layer (a layer for adhering the adherend layers to each other), and the adhesive layer is sometimes referred to as a layer of a cured product of the curable composition of the present invention (the “adhesive layer of the present invention”). A laminate (which may be referred to as “the laminate of the present invention”). The laminate of the present invention is not particularly limited, but the adhesive layer of the present invention is formed on one adherend layer (for example, it can be formed in the same manner as the adhesive layer in the adhesive sheet of the present invention), and further the adhesion It can be obtained by bonding the other adherend layer to the adhesive layer and then curing the adhesive layer of the present invention by heat treatment. In addition, the laminate of the present invention is, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a single-sided adhesive sheet, the adhesive sheet of the present invention is bonded to an adherend layer, and then subjected to heat treatment. It can be obtained by curing the adhesive layer of the present invention inside. In this case, a laminate in which the substrate in the adhesive sheet of the present invention hits the adherend layer is obtained. Furthermore, the laminate of the present invention is, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet and a release liner as a base material is adhered to both surfaces of the adhesive layer. The adhesive layer of the invention is bonded to the layer to be bonded to the adhesive layer exposed by peeling one of the release liners, and then the other adhesive layer exposed by peeling the other release liner The adhesive layer of the present invention can be obtained by bonding the adherend layer and then heat-treating the adhesive layer. However, the manufacturing method of the laminate of the present invention is not limited to these methods.

本発明の積層物における被接着層を形成する被接着体は特に限定されず、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材(半導体チップ、半導体ウェハ等を含む)、ガラス基材、紙基材、木基材、表面が塗装表面である基材等が挙げられる。なお、本発明の積層物は、被接着層を2層のみ有するものであってもよいし、3層以上有するものであってもよい。また、被接着層の厚みは特に限定されず、1〜100000μmの範囲で適宜選択できる。被接着層は、厳密な層状の形態を有していなくてもよい。   The adherend forming the adherend layer in the laminate of the present invention is not particularly limited, and is a plastic substrate, a metal substrate, a ceramic substrate, a semiconductor substrate (including a semiconductor chip, a semiconductor wafer, etc.), a glass substrate. , Paper base material, wood base material, base material whose surface is a painted surface, and the like. The laminate of the present invention may have only two layers to be bonded, or may have three or more layers. Moreover, the thickness of a to-be-adhered layer is not specifically limited, It can select suitably in the range of 1-100,000 micrometers. The adherend layer may not have a strict layered form.

本発明の積層物は、本発明の接着層を1層のみ有するものであってもよいし、2層以上有するものであってもよい。また、本発明の接着層の厚みは、例えば0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。   The laminate of the present invention may have only one adhesive layer of the present invention, or may have two or more layers. Moreover, the thickness of the adhesive layer of the present invention can be appropriately selected within a range of, for example, 0.1 to 10,000 μm.

本発明の積層物は、上記被接着層と本発明の接着層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層、その他の接着層等)を有するものであってもよい。   The laminate of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, and other adhesive layers) in addition to the adherend layer and the adhesive layer of the present invention.

本発明の積層物は、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた接着層により被接着体が接着された構成を有する。そのため、本発明の積層物は、接着層にクラックや剥離が生じることにより被接着体が剥離したり、配線が破壊されたりすることを防止することができ、高い信頼性を有する装置を形成することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。   The laminate of the present invention has a configuration in which an adherend is bonded by an adhesive layer having excellent heat resistance, crack resistance, adhesion to the adherend, and adhesion. Therefore, the laminate of the present invention can prevent the adherend from being peeled off or the wiring from being broken due to cracks or peeling in the adhesive layer, thereby forming a highly reliable device. be able to. And, when the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it is more integrated and power-saving than the conventional semiconductor, so if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. An electronic device can be provided.

本発明の積層物としては、例えば、マイクロプロセッサ、半導体メモリ、電源用IC、通信用IC、半導体センサー、MEMS、及びこれらを組み合わせた半導体等が挙げられる。これらは高性能なサーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等において使用される。   Examples of the laminate of the present invention include a microprocessor, a semiconductor memory, a power supply IC, a communication IC, a semiconductor sensor, a MEMS, and a semiconductor combining these. These are used in high-performance servers, workstations, in-vehicle computers, personal computers, communication devices, photographing devices, image display devices, and the like.

従って、前記積層物を有する(若しくは、積層物を備えた)本発明の装置としては、例えば、サーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等が挙げられる。   Therefore, examples of the apparatus of the present invention having (or including) the laminate include a server, a workstation, a vehicle-mounted computer, a personal computer, a communication device, a photographing device, and an image display device. .

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、生成物の分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃、標準ポリスチレン換算により行った。また、生成物におけるT3体/T2体の割合の測定は、JEOL ECA500(500MHz)による29Si−NMRスペクトル測定により行った。なお、表1及び2に記載の各原料の配合量の単位は、重量部である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The molecular weight of the product was measured using Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractive Index Detector 2414 (manufactured by Waters), column: Tskel GMH HR- M × 2 (manufactured by Tosoh Corporation), guard column: Tskel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corporation), column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), solvent: THF, measurement conditions: 40 ° C., standard polystyrene conversion. Moreover, the ratio of the T3 body / T2 body in the product was measured by 29 Si-NMR spectrum measurement with JEOL ECA500 (500 MHz). In addition, the unit of the compounding quantity of each raw material of Table 1 and 2 is a weight part.

[実施例1]
(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(硬化性樹脂A)の調製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた1000ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「EMS」と称する)392.0ミリモル(96.58g)、ビス(トリメトキシシル)ヘキサン(以下、「BTH」と称する)4.0ミリモル(1.31g)、及びアセトン391.5gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液11.06g(炭酸カリウムとして4.0ミリモル)を5分で滴下した後、水4000.0ミリモル(72.00g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で5時間行った。
その後、反応溶液を冷却すると同時に、メチルイソブチルケトン(MIBK)195.8gと5%食塩水143.1gを投入した。この溶液を1リットルの分液ロートに移し、再度MIBK195.8gを投入し、さらに水洗を行った。水相を分液後、下層液(水相)が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液を濃縮し、MIBKを24.06重量%含有する無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を91.7g得た。
生成物を分析したところ、数平均分子量は2012であり、分子量分散度は2.0であった。また、図1に示すように1H−NMR測定の結果、エポキシ基に由来するピーク(3.15ppm、ブロードシングレット)、シクロヘキシル基に由来するピーク(1〜2.2ppm)、Si隣接のメチレン基に由来するピーク(0.53ppm、ブロードシングレット)が確認された。さらに、図2に示すように29Si−NMR測定を行った結果、−55〜−60ppm付近にT2体由来のピーク、−65〜−70ppm付近にT3体由来のピークがそれぞれ確認された。積分値から算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.5であった。また、図3に示すようにFT−IRスペクトルにおいて、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークが確認された。以下、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを「硬化性樹脂A」と称する。なお、硬化性樹脂Aの作製におけるEMSとBTHの比率の重量比は99/1であり、モル比は99/1であった。
[Example 1]
(Preparation of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (curable resin A))
A 1000 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube was charged with 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter, “EMS” under a nitrogen stream. ) 392.0 mmol (96.58 g), bis (trimethoxysyl) hexane (hereinafter referred to as “BTH”) 4.0 mmol (1.31 g), and acetone 391.5 g were charged at 50 ° C. The temperature was raised to. To the mixture thus obtained, 11.06 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (4.0 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes, and then 4000.0 mmol (72.00 g) of water was added over 20 minutes. It was dripped. Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 5 hours while maintaining the temperature at 50 ° C.
Thereafter, simultaneously with cooling the reaction solution, 195.8 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) and 143.1 g of 5% saline were added. This solution was transferred to a 1 liter separatory funnel, and 195.8 g of MIBK was added again, followed by washing with water. After separation of the aqueous phase, washing was performed until the lower layer solution (aqueous phase) became neutral, and the upper layer solution was collected, and then the upper layer solution was concentrated under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C., and MIBK was 24.06 wt. 91.7 g of a colorless and transparent liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained.
When the product was analyzed, the number average molecular weight was 2012 and the molecular weight dispersity was 2.0. Moreover, as shown in FIG. 1, as a result of 1 H-NMR measurement, a peak derived from an epoxy group (3.15 ppm, broad singlet), a peak derived from a cyclohexyl group (1 to 2.2 ppm), a methylene group adjacent to Si. A peak derived from (0.53 ppm, broad singlet) was confirmed. Furthermore, as shown in FIG. 2, 29 Si-NMR measurement was performed, and as a result, a peak derived from T2 form was observed near −55 to −60 ppm, and a peak derived from T3 form was observed near −65 to −70 ppm. The ratio [T3 body / T2 body] of T2 body and T3 body calculated from the integrated value was 10.5. Moreover, as shown in FIG. 3, in the FT-IR spectrum, one intrinsic absorption peak was confirmed near 1100 cm −1 . Hereinafter, the obtained epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane is referred to as “curable resin A”. In addition, the weight ratio of the ratio of EMS and BTH in preparation of the curable resin A was 99/1, and the molar ratio was 99/1.

(ハードコートフィルムの作製)
表1に示すように上記で得られた硬化性樹脂A100重量部、硬化触媒1重量部、レベリング剤0.5重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(ハードコート層形成用硬化性組成物)として使用した。
得られたハードコート液を、ワイヤーバー#30を用いてPETフィルムの表面に塗布した後、120℃のオーブンで5分間放置(プレベイク)し、次いで、高圧水銀ランプ(合いグラフィックス(株)製)を用いて、400mJ/cm2の照射量で紫外線を5秒間照射した。その後、120℃で1時間熱処理(エージング処理)することによってハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。このときのハードコート層の厚みは、38μmであった。
(Preparation of hard coat film)
As shown in Table 1, a mixed solution of 100 parts by weight of the curable resin A obtained above, 1 part by weight of the curing catalyst, and 0.5 parts by weight of the leveling agent was prepared, and this was used as a hard coat solution (hardening for forming a hard coat layer). Composition).
The obtained hard coat solution was applied to the surface of the PET film using a wire bar # 30, and then left (prebaked) in an oven at 120 ° C. for 5 minutes, and then a high-pressure mercury lamp (manufactured by Mitsui Graphics Co., Ltd.). ) Was irradiated with ultraviolet rays for 5 seconds at a dose of 400 mJ / cm 2 . Thereafter, the coating film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging process) at 120 ° C. for 1 hour, and a hard coat film having a hard coat layer was produced. At this time, the thickness of the hard coat layer was 38 μm.

[実施例2]
(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(硬化性樹脂B)の調製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた1000ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「EMS」と称する)360.0ミリモル(88.70g)、BTH20.0ミリモル(6.53g)、及びアセトン380.9gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液11.06g(炭酸カリウムとして4.0ミリモル)を5分で滴下した後、水4000.0ミリモル(72.00g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で2時間行った。
その後、反応溶液を冷却すると同時に、メチルイソブチルケトン(MIBK)190.5gと5%食塩水139.8gを投入した。この溶液を1リットルの分液ロートに移し、再度MIBK190.5gを投入し、さらに水洗を行った。水相を分液後、下層液(水相)が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液を濃縮し、MIBKを21.86重量%含有する無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を88.2g得た。
生成物を分析したところ、数平均分子量は2725であり、分子量分散度は3.7であった。また、図4に示すように1H−NMR測定の結果、エポキシ基に由来するピーク(3.14ppm、ブロードシングレット)、シクロヘキシル基に由来するピーク(1〜2.2ppm)、Si隣接のメチレン基に由来するピーク(0.53ppm、ブロードシングレット)が確認された。さらに、図5に示すように29Si−NMR測定を行った結果、−55〜−60ppm付近にT2体由来のピーク、−65〜−70ppm付近にT3体由来のピークがそれぞれ確認された。積分値から算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は8.4であった。また、図6に示すようにFT−IRスペクトルにおいて、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークが確認された。以下、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを「硬化性樹脂B」と称する。なお、硬化性樹脂Bの作製におけるEMSとBTHの比率の重量比は93/7であり、モル比は95/5であった。
[Example 2]
(Preparation of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (curable resin B))
A 1000 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube was charged with 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter, “EMS” under a nitrogen stream. 360.0 mmol (88.70 g), BTH 20.0 mmol (6.53 g), and acetone 380.9 g were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 11.06 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (4.0 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes, and then 4000.0 mmol (72.00 g) of water was added over 20 minutes. It was dripped. Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Thereafter, simultaneously with cooling the reaction solution, 190.5 g of methyl isobutyl ketone (MIBK) and 139.8 g of 5% saline were added. This solution was transferred to a 1 liter separatory funnel, and 190.5 g of MIBK was added again, followed by washing with water. After separation of the aqueous phase, washing was performed until the lower layer solution (aqueous phase) became neutral, and the upper layer solution was collected, and then the upper layer solution was concentrated under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C., and MIBK was 21.86 wt. As a result, 88.2 g of a colorless and transparent liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained.
When the product was analyzed, the number average molecular weight was 2725 and the molecular weight dispersity was 3.7. Moreover, as shown in FIG. 4, as a result of 1 H-NMR measurement, a peak derived from an epoxy group (3.14 ppm, broad singlet), a peak derived from a cyclohexyl group (1 to 2.2 ppm), a methylene group adjacent to Si A peak derived from (0.53 ppm, broad singlet) was confirmed. Furthermore, as a result of 29 Si-NMR measurement as shown in FIG. 5, a peak derived from T2 body was observed near −55 to −60 ppm, and a peak derived from T3 body was observed near −65 to −70 ppm. The ratio of T2 body and T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the integrated value was 8.4. Further, as shown in FIG. 6, one intrinsic absorption peak was confirmed in the vicinity of 1100 cm −1 in the FT-IR spectrum. Hereinafter, the obtained epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane is referred to as “curable resin B”. In addition, the weight ratio of the ratio of EMS and BTH in preparation of the curable resin B was 93/7, and the molar ratio was 95/5.

(ハードコートフィルムの作製)
表1に示すように上記で得られた硬化性樹脂B100重量部、硬化触媒1重量部、レベリング剤0.5重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(ハードコート層形成用硬化性組成物)として使用した。得られたハードコート液について実施例1と同じ方法でハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。このときのハードコート層の厚みは、36μmであった。
(Preparation of hard coat film)
As shown in Table 1, a mixed solution of 100 parts by weight of the curable resin B obtained above, 1 part by weight of the curing catalyst, and 0.5 parts by weight of the leveling agent was prepared, and this was used as a hard coat solution (hardening for hard coat layer formation). Composition). About the obtained hard coat liquid, the hard coat film which has a hard-coat layer by the same method as Example 1 was produced. At this time, the thickness of the hard coat layer was 36 μm.

[比較例1〜4]
表1に示すように、混合物(組成物)を調製したこと以外は実施例1と同様にして、ハードコート液を作製した。該ハードコート液を使用し、ハードコート層の厚みを表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、ハードコートフィルムを作製した。
[Comparative Examples 1-4]
As shown in Table 1, a hard coat solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture (composition) was prepared. A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat liquid was used and the thickness of the hard coat layer was changed as shown in Table 1.

[評価]
(鉛筆硬度(表面硬度))
上記で得られたハードコートフィルムにおけるハードコート層表面の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4に準じて評価した。結果を表1に示す。
[Evaluation]
(Pencil hardness (surface hardness))
The pencil hardness of the hard coat layer surface in the hard coat film obtained above was evaluated according to JIS K5600-5-4. The results are shown in Table 1.

(曲げ(屈曲性))
上記で得たハードコートフィルムの曲げ(耐屈曲性)を、円筒形マンドレルを使用してJIS K5600−5−1に準じて評価した。結果を表1に示す。
(Bending (flexibility))
The bending (bending resistance) of the hard coat film obtained above was evaluated according to JIS K5600-5-1 using a cylindrical mandrel. The results are shown in Table 1.

(外観)
上記で得たハードコートフィルムの外観を目視で観察し、以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
A(外観が良い):表面が平滑で光沢に優れる
B(外観が悪い):表面に厚みムラが多く、光沢も鈍い
(appearance)
The appearance of the hard coat film obtained above was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A (appearance is good): surface is smooth and gloss is excellent B (appearance is bad): surface is uneven in thickness and gloss is dull

Figure 0006557522
Figure 0006557522

表1に示す略号は、以下の通りである。
(硬化性樹脂)
PETIA:ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、商品名「PETIA」(ダイセル・オルネクス(株)製)
IRR214K:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、商品名「IRR214K」(ダイセル・オルネクス(株)製)
TA−100:アクリルシリコーン樹脂、商品名「SQ TA−100」(東亜合成(株)製)
SI−20:アクリルシリコーン樹脂、商品名「SQ SI−20」(東亜合成(株)製)
(硬化触媒)
硬化触媒A:[4−(4−ビフェニルチオ)フェニル]−4−ビフェニルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェートのプロピレングリコールメチルエーテルアセテート50%溶液
イルガキュア 184:光重合開始剤、商品名「IRGACURE 184」(BASFジャパン(株)製)
(レベリング剤)
サーフロン S−243:フッ素化合物のエチレンオキサイド付加物、商品名「サーフロン S−243」(AGCセイミケミカル(株)製)
The abbreviations shown in Table 1 are as follows.
(Curable resin)
PETIA: A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate, trade name “PETIA” (manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.)
IRR214K: Tricyclodecane dimethanol diacrylate, trade name “IRR214K” (manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.)
TA-100: acrylic silicone resin, trade name “SQ TA-100” (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
SI-20: Acrylic silicone resin, trade name “SQ SI-20” (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
(Curing catalyst)
Curing catalyst A: [4- (4-biphenylthio) phenyl] -4-biphenylphenylsulfonium Tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate in propylene glycol methyl ether acetate 50% solution Irgacure 184: Photopolymerization initiator, trade name “ IRGACURE 184 "(manufactured by BASF Japan Ltd.)
(Leveling agent)
Surflon S-243: Ethylene oxide adduct of fluorine compound, trade name “Surflon S-243” (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.)

[実施例3]
(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(硬化性樹脂C)の調製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS161.5ミリモル(39.79g)、BTH1.65ミリモル(0.54g)、及びアセトン161.31gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.51gを5分で滴下した後、水29.63gを20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、40℃の条件で上層液から溶媒を留去し、無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。以下、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを「硬化性樹脂C」と称する。なお、硬化性樹脂Cの作製におけるEMSとBTHの比率の重量比は99/1であり、モル比は99/1であった。
生成物を分析したところ、ポリスチレン換算重量平均分子量は3500、数平均分子量は2000(分子量分散度:1.75)であった。
[Example 3]
(Preparation of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (curable resin C))
In a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube, EMS 161.5 mmol (39.79 g), BTH 1.65 mmol (0.54 g) under a nitrogen stream, And 161.31 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.51 g of 5% potassium carbonate aqueous solution was dropped over 5 minutes, and then 29.63 g of water was dropped over 20 minutes. Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was carried out for 4 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and after the upper layer solution is separated, the solvent is distilled off from the upper layer solution under conditions of 1 mmHg and 40 ° C. to produce a colorless transparent liquid The product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained. Hereinafter, the obtained epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane is referred to as “curable resin C”. In addition, the weight ratio of the ratio of EMS and BTH in preparation of the curable resin C was 99/1, and the molar ratio was 99/1.
When the product was analyzed, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 3500, and the number average molecular weight was 2000 (molecular weight dispersity: 1.75).

(接着剤組成物(1)の調製)
硬化性樹脂C100重量部、溶剤としてプロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)100重量部、硬化触媒としてアンチモン系スルホニウム塩(商品名「SI−150L」、三新化学工業(株)製、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間:5.4分)0.45重量部、及び重合安定剤として(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(SI助剤)(商品名「サンエイドSI助剤」、三新化学工業(株)製)0.05重量部を混合し、接着剤組成物(1)を得た。なお、商品名「SI−150L」の配合量は、固形分換算の量で示した。
(Preparation of adhesive composition (1))
100 parts by weight of curable resin C, 100 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent, an antimony sulfonium salt (trade name “SI-150L”, Sanshin Chemical Co., Ltd., Celoxide 2021P (as a curing catalyst) (Daicel Co., Ltd.) 0.45 parts by weight of a composition obtained by adding 1 part by weight to 100 parts by weight of the composition obtained at 130 ° C .: 5.4 minutes) and (4-hydroxy) as a polymerization stabilizer Phenyl) dimethylsulfonium methylsulfite (SI auxiliary agent) (trade name “Sun aid SI auxiliary agent”, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.05 part by weight was mixed to obtain an adhesive composition (1). . In addition, the compounding quantity of brand name "SI-150L" was shown by the quantity of solid content conversion.

(接着剤層(1)の作製)
シリコン板(サイズ:2cm×5cm、(株)SUMCO製、直径100mmのシリコンウエハをダイシングして得た)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きシリコン板を得た。
シランカップリング剤層付きシリコン板のシランカップリング剤層表面に接着剤組成物(1)をスピンコートで塗布し、80℃で4分、次いで100℃で2分加熱して残留する溶剤を除去して、接着剤層(1)付きシリコン板[接着剤層(1)/シランカップリング剤層/シリコン板]を得た。接着剤層(1)の膜厚は5〜6μmであった。
(Preparation of adhesive layer (1))
Spin coating a silane coupling agent (trade name “KBE403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) on a silicon plate (size: 2 cm × 5 cm, obtained by dicing a silicon wafer with a diameter of 100 mm, manufactured by SUMCO Corporation) And heated at 120 ° C. for 5 minutes to obtain a silicon plate with a silane coupling agent layer.
The adhesive composition (1) is applied to the surface of the silane coupling agent layer of the silicon plate with the silane coupling agent layer by spin coating, and the residual solvent is removed by heating at 80 ° C. for 4 minutes and then at 100 ° C. for 2 minutes. Thus, a silicon plate [adhesive layer (1) / silane coupling agent layer / silicon plate] with an adhesive layer (1) was obtained. The film thickness of the adhesive layer (1) was 5 to 6 μm.

(積層物(1)の作製)
ガラス板(4インチ、SCHOTT日本(株)製)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きガラス板を得た。
減圧下で、得られたシランカップリング剤層付きガラス板のシランカップリング剤層面を、上記(接着剤層(1)の作製)で得られた接着剤層(1)付きシリコン板の接着剤層(1)面と合わせ、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力をかけて貼り合わせた後、150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱することにより、積層物(1)[シリコン板/シランカップリング剤層/接着剤層(1)/シランカップリング剤層/ガラス板]を得た。
(Preparation of laminate (1))
A silane coupling agent (trade name “KBE403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is applied to a glass plate (4 inches, manufactured by SCHOTT Japan Co., Ltd.) by spin coating, heated at 120 ° C. for 5 minutes, and silane A glass plate with a coupling agent layer was obtained.
The adhesive for the silicon plate with the adhesive layer (1) obtained in the above (Preparation of the adhesive layer (1)) is performed on the silane coupling agent layer surface of the obtained glass plate with the silane coupling agent layer under reduced pressure. The laminate was laminated with the surface of the layer (1) by applying a pressure of 200 g / cm 2 while heating to 60 ° C., heating at 150 ° C. for 30 minutes, and then heating at 170 ° C. for 30 minutes. (1) [silicon plate / silane coupling agent layer / adhesive layer (1) / silane coupling agent layer / glass plate] was obtained.

実施例3で得られた接着剤組成物(1)、接着剤層(1)、積層物(1)について以下の評価を行った。結果を表2に示す。   The following evaluation was performed about the adhesive composition (1), adhesive layer (1), and laminate (1) obtained in Example 3. The results are shown in Table 2.

[評価]
(耐熱性)
接着剤組成物(1)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、熱分析装置(商品名「TG−DTA6300」、セイコーインスツル(株)製)を用いて熱重量分析により熱分解温度(T)を求めた。なお、熱分解温度(T)とは、図7に示すように、初期の重量減少のない、或いは漸減しているところ(図中のAで示される範囲)の接線と、急激に重量減少が起こっているところ(図中のBで示される範囲)の変曲点の接線が交叉するところの温度である。以下ように耐熱性の評価を行った。
A(耐熱性に優れている):熱分解温度(T)が260℃以上である。
B(耐熱性に劣っている):熱分解温度(T)が260℃未満である。
[Evaluation]
(Heat-resistant)
The cured product obtained by heating the adhesive composition (1) at 150 ° C. for 30 minutes and then heating at 170 ° C. for 30 minutes was subjected to thermal analysis equipment (trade name “TG-DTA6300”, Seiko Instruments Inc. The pyrolysis temperature (T) was determined by thermogravimetric analysis using Note that, as shown in FIG. 7, the thermal decomposition temperature (T) is a tangential line where there is no initial weight decrease or is gradually decreasing (range indicated by A in the figure), and a sudden weight decrease. It is the temperature at which the tangent of the inflection point where it is occurring (range indicated by B in the figure) intersects. The heat resistance was evaluated as follows.
A (excellent in heat resistance): Thermal decomposition temperature (T) is 260 ° C. or higher.
B (Inferior in heat resistance): Thermal decomposition temperature (T) is less than 260 ° C.

(密着性)
接着剤層(1)付きシリコン板における接着剤層(1)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して硬化させた。得られた接着剤層(1)の硬化物について、碁盤目テープ試験(JIS K5400−8.5準拠)によってシリコン板への密着性を以下のように評価した。
A(密着性に優れる):シリコン板からの剥離が見られない。
B(密着性に劣る):シリコン板からの剥離が見られる。
(Adhesion)
The adhesive layer (1) in the silicon plate with the adhesive layer (1) was heated at 150 ° C. for 30 minutes and then heated at 170 ° C. for 30 minutes to be cured. About the hardened | cured material of the obtained adhesive bond layer (1), the adhesiveness to a silicon plate was evaluated as follows by the cross cut tape test (JISK5400-8.5 conformity).
A (excellent adhesion): no peeling from the silicon plate.
B (inferior in adhesion): Peeling from the silicon plate is observed.

(接着性)
積層物(1)の接着界面にカミソリ刃(商品名「片刃トリミング用カミソリ」、日新EM(株)製)を挿入し、界面での剥離が生じるか(接着性)について、以下のように評価した。
A(接着層の接着性に優れる):界面での剥離が生じない。
B(接着層の接着性に劣る):界面での剥離が生じる。
(Adhesiveness)
Insert a razor blade (trade name “single-blade trimming razor”, manufactured by Nissin EM Co., Ltd.) into the adhesive interface of the laminate (1) and see if peeling occurs at the interface (adhesiveness) as follows: evaluated.
A (excellent adhesiveness of the adhesive layer): no peeling at the interface occurs.
B (Inferior to adhesiveness of adhesive layer): Peeling occurs at the interface.

(耐クラック性)
接着剤層(1)付きシリコン板における接着剤層を加熱して得られた接着剤層の硬化物について、冷熱衝撃(170℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷)を付与し、耐クラック性に優れるかについて、以下のように評価した。
A(耐クラック性に優れる):冷熱衝撃にてクラックが生じない。
B(耐クラック性に劣る):冷熱衝撃にてクラックが生じる。
(Crack resistance)
The cured product of the adhesive layer obtained by heating the adhesive layer in the silicon plate with the adhesive layer (1) was subjected to a thermal shock (heating at 170 ° C. for 30 minutes and then rapidly cooling to room temperature) to Whether it was excellent in cracking property was evaluated as follows.
A (excellent in crack resistance): No crack is generated by a thermal shock.
B (Inferior to crack resistance): Cracks are generated by thermal shock.

[実施例4]
(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(硬化性樹脂D)の調製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS161.5ミリモル(39.79g)、BTH9ミリモル(2.93g)、及びアセトン170.88gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.70gを5分で滴下した後、水30.60gを20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、40℃の条件で上層液から溶媒を留去し、無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。以下、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを「硬化性樹脂D」と称する。なお、硬化性樹脂Dの作製におけるEMSとBTHの比率の重量比は93/7であり、モル比は95/5であった。
生成物を分析したところ、ポリスチレン換算重量平均分子量は3900、数平均分子量は2100(分子量分散度:1.86)であった。
[Example 4]
(Preparation of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (curable resin D))
In a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and nitrogen inlet tube, EMS 161.5 mmol (39.79 g), BTH 9 mmol (2.93 g), and acetone under a nitrogen stream 170.88 g was charged and heated to 50 ° C. To the resulting mixture, 4.70 g of 5% aqueous potassium carbonate solution was added dropwise over 5 minutes, and then 30.60 g of water was added dropwise over 20 minutes. Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was carried out for 4 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and after the upper layer solution is separated, the solvent is distilled off from the upper layer solution under conditions of 1 mmHg and 40 ° C. to produce a colorless transparent liquid The product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained. Hereinafter, the obtained epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane is referred to as “curable resin D”. In addition, the weight ratio of the ratio of EMS and BTH in preparation of the curable resin D was 93/7, and the molar ratio was 95/5.
When the product was analyzed, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 3900, and the number average molecular weight was 2100 (molecular weight dispersity: 1.86).

(接着剤組成物(2)の調製)
硬化性樹脂Cに替えて、硬化性樹脂Dを用いたこと以外は、実施例3と同様にして接着剤組成物(2)を得た。
(Preparation of adhesive composition (2))
An adhesive composition (2) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the curable resin D was used in place of the curable resin C.

(接着剤層(2)の作製)
接着剤組成物(1)に代えて接着剤組成物(2)を使用した以外は実施例3と同様にして接着剤層(2)付きシリコン板を得た。接着剤層(2)の膜厚は5〜6μmであった。
(Preparation of adhesive layer (2))
A silicon plate with an adhesive layer (2) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the adhesive composition (2) was used in place of the adhesive composition (1). The film thickness of the adhesive layer (2) was 5 to 6 μm.

(積層物(2)の作製)
減圧下で、実施例3と同様の方法で作製したシランカップリング剤層付きガラス板のシランカップリング剤層面を、上記(接着剤層の作製)で得られた接着剤層(2)付きシリコン板の接着剤層(2)面と合わせ、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力をかけて貼り合わせた後、150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱することにより、積層物(2)[シリコン板/シランカップリング剤層/接着剤層(2)/シランカップリング剤層/ガラス板]を得た。
(Preparation of laminate (2))
Silicone with adhesive layer (2) obtained in the above (Preparation of adhesive layer) is obtained by applying the silane coupling agent layer surface of the glass plate with a silane coupling agent layer produced in the same manner as in Example 3 under reduced pressure. Combine with the surface of the adhesive layer (2) of the plate, apply the pressure of 200 g / cm 2 while heating to 60 ° C, and then heat at 150 ° C for 30 minutes, then heat at 170 ° C for 30 minutes Thus, a laminate (2) [silicon plate / silane coupling agent layer / adhesive layer (2) / silane coupling agent layer / glass plate] was obtained.

実施例4で得られた接着剤組成物(2)、接着剤層(2)、積層物(2)について、実施例3と同様にして評価を行った。結果を表2に示す。   The adhesive composition (2), adhesive layer (2), and laminate (2) obtained in Example 4 were evaluated in the same manner as in Example 3. The results are shown in Table 2.

[比較例5]
(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(硬化性樹脂E)の調製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下でEMS162.35ミリモル(40.0g)及びアセトン40.0gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.49g(炭酸カリウムとして1.62mmol)を5分で滴下した後、水1623.51mmol(29.48g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で3時間行った。
次いで、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加後、反応溶液を冷却し、上層液を分取した。その後、下層液が中性になるまで水洗を行い、1mmHg、50℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去して、無色透明の液状樹脂(ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。以下、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを「硬化性樹脂E」と称する。なお、硬化性樹脂Eの作製におけるEMSとBTHの比率の重量比及びモル比は、100/0であった。
生成物を分析したところ、ポリスチレン換算重量平均分子量は14400、数平均分子量は4000(分子量分散度:3.60)であった。
[Comparative Example 5]
(Preparation of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (curable resin E))
A 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube was charged with EMS 162.35 mmol (40.0 g) and acetone 40.0 g under a nitrogen stream, and the temperature was adjusted to 50 ° C. The temperature rose. To the mixture thus obtained, 4.49 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (1.62 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes, and then 163.51 mmol (29.48 g) of water was added dropwise over 20 minutes. . Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 3 hours while maintaining the temperature at 50 ° C.
Subsequently, after adding methyl isobutyl ketone and brine, the reaction solution was cooled, and the upper layer solution was separated. Thereafter, washing is performed until the lower layer solution becomes neutral, and the solvent is distilled off from the upper layer solution until the amount of the solvent reaches 25% by weight under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. Oxane) was obtained. Hereinafter, the obtained epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane is referred to as “curable resin E”. In addition, the weight ratio and molar ratio of the ratio of EMS and BTH in preparation of the curable resin E were 100/0.
When the product was analyzed, the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 14400, and the number average molecular weight was 4000 (molecular weight dispersity: 3.60).

(接着剤組成物(3)の調製)
硬化性樹脂Cに替えて、硬化性樹脂Eを用いたこと以外は、実施例3と同様にして接着剤組成物(3)を得た。
(Preparation of adhesive composition (3))
An adhesive composition (3) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the curable resin E was used instead of the curable resin C.

(接着剤層(3)の作製)
接着剤組成物(1)に代えて接着剤組成物(3)を使用した以外は実施例3と同様にして接着剤層(3)付きシリコン板を得た。接着剤層(3)の膜厚は5〜6μmであった。
(Preparation of adhesive layer (3))
A silicon plate with an adhesive layer (3) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the adhesive composition (3) was used in place of the adhesive composition (1). The film thickness of the adhesive layer (3) was 5 to 6 μm.

得られた接着剤層(3)について、実施例3と同様に耐クラック性について評価を行った。   The resulting adhesive layer (3) was evaluated for crack resistance in the same manner as in Example 3.

Figure 0006557522
Figure 0006557522

表1に示すように、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを用いたハードコートフィルム(実施例1、2)は、外観に問題がなく、いずれも高い表面硬度及び屈曲性を有していた。また、表2に示すように、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを用いた接着剤組成物(実施例3、4)は、優れた耐熱性、耐クラック性、接着性、及び密着性を有していた。   As shown in Table 1, the hard coat films (Examples 1 and 2) using the polyorganosilsesquioxane of the present invention had no problem in appearance, and both had high surface hardness and flexibility. . Moreover, as shown in Table 2, the adhesive composition (Examples 3 and 4) using the polyorganosilsesquioxane of the present invention has excellent heat resistance, crack resistance, adhesion, and adhesion. Had.

Claims (22)

下記式(1)で表される構成単位を含み、さらに下記式(2−1)で表される構成単位及び/又は下記式(2−2)で表される構成単位を含み、下記式(I)で表される構成単位と、下記式(II)で表される構成単位の割合[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計と、式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計の割合[{式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計}/{式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計}]が99.9/0.1〜80/20であり、シロキサン構成単位の全量に対する式(1)で表される構成単位及び下記式(5)で表される構成単位の割合が50〜99モル%であるポリオルガノシルセスキオキサンを含むハードコート層形成用硬化性組成物。
Figure 0006557522
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
Figure 0006557522
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
Figure 0006557522
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Figure 0006557522
[式(2−1)中のR21は、同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のアルケニレン基を示し、式(2−2)中のR22は、同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルカン−トリイル基、又は置換若しくは無置換のアルケン−トリイル基を示す。]
Figure 0006557522
[式(5)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。]
A structural unit represented by the following formula (1), and further a structural unit represented by the following formula (2-1) and / or a structural unit represented by the following formula (2-2), The ratio of the structural unit represented by I) and the structural unit represented by the following formula (II) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more. Yes, the sum of the structural unit represented by formula (I) and the structural unit represented by formula (II), and the structural unit represented by formula (2-1) and represented by formula (2-2). Ratio of total structural units [{total of structural units represented by formula (I) and structural unit represented by formula (II)} / {structural units represented by formula (2-1) and formula (2 -2) is a total of 99.9 / 0.1-80 / 20, the structural unit represented by the formula (1) and the following formula with respect to the total amount of the siloxane structural unit: Forming a hard coat layer curable composition for the amount of the structural unit represented comprises a polyorganosilsesquioxane 50 to 99 mole% 5).
Figure 0006557522
[In Formula (1), R < 1 > shows group containing an epoxy group. ]
Figure 0006557522
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
Figure 0006557522
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
Figure 0006557522
[R 21 in the formula (2-1) may be the same or different, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group, R 22 in the formula (2-2) are the same Or differently, a substituted or unsubstituted alkane-triyl group, or a substituted or unsubstituted alkene-triyl group. ]
Figure 0006557522
[In formula (5), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II). ]
前記ポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量が500〜6000であり、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜4.0である請求項1に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。   2. The hard coat layer formation according to claim 1, wherein the polyorganosilsesquioxane has a number average molecular weight of 500 to 6000 and a molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.0 to 4.0. Curable composition. 前記R1が、下記式(1a)
Figure 0006557522
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
Figure 0006557522
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
Figure 0006557522
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、及び、下記式(1d)
Figure 0006557522
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基からなる群より選択される1種以上の基である請求項1又は2に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。
R 1 is represented by the following formula (1a)
Figure 0006557522
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1b):
Figure 0006557522
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1c):
Figure 0006557522
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
And a group represented by the following formula (1d):
Figure 0006557522
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
The curable composition for forming a hard coat layer according to claim 1, which is one or more groups selected from the group consisting of groups represented by the formula:
前記式(2−1)中のR21が、同一又は異なって、無置換のC2-20のアルキレン基、前記式(2−2)中のR22が、同一又は異なって、無置換のC2-20アルカン−トリイル基である請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。 R 21 in the formula (2-1) is the same or different and is an unsubstituted C 2-20 alkylene group, and R 22 in the formula (2-2) is the same or different and is unsubstituted. The curable composition for forming a hard coat layer according to claim 1, which is a C 2-20 alkane-triyl group. レベリング剤を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。   The curable composition for forming a hard coat layer according to any one of claims 1 to 4, comprising a leveling agent. さらに、硬化触媒を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。   Furthermore, the curable composition for hard-coat layer formation of any one of Claims 1-5 containing a curing catalyst. 前記硬化触媒が光カチオン重合開始剤である請求項6に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。   The curable composition for forming a hard coat layer according to claim 6, wherein the curing catalyst is a cationic photopolymerization initiator. 前記硬化触媒が熱カチオン重合開始剤である請求項6に記載のハードコート層形成用硬化性組成物。   The curable composition for forming a hard coat layer according to claim 6, wherein the curing catalyst is a thermal cationic polymerization initiator. 基材と、該基材の少なくとも一方の表面に形成されたハードコート層とを有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層が、請求項1〜8のいずれか1項に記載のハードコート層形成用硬化性組成物の硬化物により形成された硬化物層であるハードコートフィルム。 It is a hard-coat film which has a base material and the hard-coat layer formed in the at least one surface of this base material, Comprising: The said hard-coat layer is a hard-coat of any one of Claims 1-8. The hard coat film which is a hardened | cured material layer formed with the hardened | cured material of the curable composition for layer formation . 前記ハードコート層の厚さが1〜200μmである請求項に記載のハードコートフィルム。 The hard coat film according to claim 9 , wherein the hard coat layer has a thickness of 1 to 200 μm. ロールトゥロール方式で製造された請求項又は10に記載のハードコートフィルム。 The hard coat film according to claim 9 or 10 produced by a roll-to-roll method. ロール状に巻いた基材を繰り出す工程Aと、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に請求項1〜8のいずれか1項に記載のハードコート層形成用硬化性組成物を塗布し、次いで、該硬化性組成物を硬化させることによりハードコート層を形成する工程Bと、その後、得られたハードコートフィルムを再びロールに巻き取る工程Cとを含み、工程A〜Cを連続的に実施するハードコートフィルムの製造方法。   Applying the curable composition for forming a hard coat layer according to any one of claims 1 to 8 on the surface A of the rolled-out substrate A and at least one surface of the rolled-out substrate; The process B includes a process B for forming a hard coat layer by curing the curable composition, and a process C for winding the obtained hard coat film again on a roll. A method for producing a hard coat film. 下記式(1)で表される構成単位を含み、さらに下記式(2−1)で表される構成単位及び/又は下記式(2−2)で表される構成単位を含み、下記式(I)で表される構成単位と、下記式(II)で表される構成単位の割合[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計と、式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計の割合[{式(I)で表される構成単位及び式(II)で表される構成単位の合計}/{式(2−1)で表される構成単位及び式(2−2)で表される構成単位の合計}]が99.9/0.1〜80/20であり、シロキサン構成単位の全量に対する式(1)で表される構成単位及び下記式(5)で表される構成単位の割合が50〜99モル%であるポリオルガノシルセスキオキサンを含む接着剤組成物。
Figure 0006557522
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
Figure 0006557522
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
Figure 0006557522
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
Figure 0006557522
[式(2−1)中のR21は、同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のアルケニレン基を示し、式(2−2)中のR22は、同一又は異なって、置換若しくは無置換のアルカン−トリイル基、又は置換若しくは無置換のアルケン−トリイル基を示す。]
Figure 0006557522
[式(5)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。]
A structural unit represented by the following formula (1), and further a structural unit represented by the following formula (2-1) and / or a structural unit represented by the following formula (2-2), The ratio of the structural unit represented by I) and the structural unit represented by the following formula (II) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more. Yes, the sum of the structural unit represented by formula (I) and the structural unit represented by formula (II), and the structural unit represented by formula (2-1) and represented by formula (2-2). Ratio of total structural units [{total of structural units represented by formula (I) and structural unit represented by formula (II)} / {structural units represented by formula (2-1) and formula (2 -2) is a total of 99.9 / 0.1-80 / 20, the structural unit represented by the formula (1) and the following formula with respect to the total amount of the siloxane structural unit: Adhesive composition the amount of the structural unit represented by 5) comprises a polyorganosilsesquioxane 50 to 99 mol%.
Figure 0006557522
[In Formula (1), R < 1 > shows group containing an epoxy group. ]
Figure 0006557522
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
Figure 0006557522
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
Figure 0006557522
[R 21 in the formula (2-1) may be the same or different, a substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted alkenylene group, R 22 in the formula (2-2) are the same Or differently, a substituted or unsubstituted alkane-triyl group, or a substituted or unsubstituted alkene-triyl group. ]
Figure 0006557522
[In formula (5), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II). ]
前記ポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量が500〜6000であり、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜4.0である請求項13に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 13 , wherein the polyorganosilsesquioxane has a number average molecular weight of 500 to 6000 and a molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.0 to 4.0. . 前記R1が、下記式(1a)
Figure 0006557522
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
Figure 0006557522
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
Figure 0006557522
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、及び、下記式(1d)
Figure 0006557522
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基からなる群より選択される1種以上の基である請求項13又は14に記載の接着剤組成物。
R 1 is represented by the following formula (1a)
Figure 0006557522
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1b):
Figure 0006557522
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1c):
Figure 0006557522
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
And a group represented by the following formula (1d):
Figure 0006557522
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
The adhesive composition according to claim 13 or 14 , which is one or more groups selected from the group consisting of groups represented by:
前記式(2−1)中のR21が、同一又は異なって、無置換のC2-20のアルキレン基、前記式(2−2)中のR22が、同一又は異なって、無置換のC2-20アルカン−トリイル基である請求項1315のいずれか1項に記載の接着剤組成物。 R 21 in the formula (2-1) is the same or different and is an unsubstituted C 2-20 alkylene group, and R 22 in the formula (2-2) is the same or different and is unsubstituted. The adhesive composition according to any one of claims 13 to 15 , which is a C2-20 alkane-triyl group. さらに、硬化触媒を含む請求項1316のいずれか1項に記載の接着剤組成物。 Furthermore, the adhesive composition according to any one of claims 13 to 16 including a curing catalyst. 前記硬化触媒が光カチオン重合開始剤である請求項17に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 17 , wherein the curing catalyst is a photocationic polymerization initiator. 前記硬化触媒が熱カチオン重合開始剤である請求項17に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 17 , wherein the curing catalyst is a thermal cationic polymerization initiator. 基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、
前記接着剤層が、請求項1319のいずれか1項に記載の接着剤組成物の層であることを特徴とする接着シート。
An adhesive sheet having a substrate and an adhesive layer on the substrate,
Adhesive sheet the adhesive layer, characterized in that a layer of the adhesive composition according to any one of claims 13-19.
3層以上で構成される積層物であって、
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、請求項1319のいずれか1項に記載の接着剤組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物。
A laminate composed of three or more layers,
Having two layers to be adhered and an adhesion layer between the layers to be adhered;
Laminates of the adhesive layer, characterized in that a layer of the cured product of the adhesive composition according to any one of claims 13-19.
請求項21に記載の積層物を有する装置。 An apparatus comprising the laminate according to claim 21 .
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