JP6782720B2 - 自動分析装置、自動分析システム、および分析方法 - Google Patents

Description

本開示は、自動分析装置、自動分析システム、および分析方法に関する。

以前から、磁性粒子を含有する試薬を用いて検体の分析を行う自動分析装置が提案されている。このような自動分析装置では、試薬内の磁性粒子の含有量の均一化や、試薬内のコンタミネーションの低減を実現することが重要である。例えば、特許文献１は、磁性粒子を含む溶液を試薬容器内で撹拌させる機構を備え、試薬容器が搭載される搭載盤と、試薬容器内に搭載される撹拌子と、当該撹拌子を動作させる攪拌装置と、試薬容器内の溶液を吸引するプローブとを有し、プローブと撹拌子は互いに干渉しない構造となっている。そして、攪拌装置の回転動作と連動して撹拌子を回転させることで試薬容器内の溶液を撹拌し、当該撹拌動作中にプローブによる吸引動作を行う、自動分析装置について開示している。また、特許文献１は、攪拌装置に関して、試薬残量の低下に伴い、撹拌子の回転速度を遅くする制御を行うと記載している。

特開２０１３−２１７８８２

上述の自動分析装置で実行される、いわゆる磁性粒子の洗浄濃縮工程は、磁性粒子の洗浄液の液量を複数回に分けて段階的に低減しながら洗浄する工程であるが、洗浄回数が増すにつれ、磁性粒子の濃度は高くなる。一方で、洗浄濃縮工程における攪拌では攪拌に伴い液面が高くなり、反応容器、洗浄液、磁性粒子の表面状態に関して、洗浄液に対して粒子および反応容器壁面の極性が異なり、例えば洗浄液の主が親水性（洗浄液の主成分の極性が親水性）、磁性粒子および反応容器壁面の主が疎水性（磁性粒子および反応容器壁面の主成分の極性が疎水性）、あるいは洗浄液の主が疎水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が親水性の場合、高くなった液面位置において磁性粒子が反応容器壁面へ付着してしまう。このように磁性粒子が反応容器壁面に付着すると、洗浄液中に残る磁性粒子の数が少なくなり、濃縮効率が低下してしまう。さらに、洗浄濃縮における磁性粒子濃度が高い状態では、攪拌時に高くなった液面位置の反応容器壁面への磁性粒子の付着密度、すなわち付着数が増加する。したがって、攪拌後の溶媒中の磁性粒子数の減少、すなわち濃縮効率の低下は顕著になる。

前述の通り、特許文献１には、試薬残量低下時に攪拌子の回転速度を遅くする試薬攪拌装置が記載されている。特許文献１に記載の方法によれば、試薬残量の低下に伴い、攪拌子の回転速度を遅くすることにより、前述の濃度が高い磁性粒子洗浄液に関して、攪拌時の液面高さを低くして反応容器壁面への付着数を減少することができる。すなわち、回転速度を低減することにより攪拌に要する時間は長くなってしまうが、濃縮効率の低下は抑制することができる。

しかし、この場合、反応容器、洗浄液、および磁性粒子の表面状態において磁性粒子が反応容器の壁面に付着しにくい条件、すなわち回転速度を遅くする必要がない状態であっても回転速度を遅くしており、攪拌時間が長くなってしまうという課題がある。

本開示はこのような状況に鑑みてなされたものであり、磁性粒子の洗浄濃縮工程において、濃縮効率の低下（溶媒中の磁性粒子数の減少）の抑制と攪拌時間の短縮化の両方を実現する技術を提供する。

上記課題を解決するために、代表的な本開示の自動分析装置の一つは、磁性物質と洗浄液とを保持する反応容器を回転させ、磁性物質と洗浄液とを攪拌する攪拌装置と、磁性物質の洗浄工程に含まれる攪拌工程のときに、反応容器が所定の回転数および所定の傾斜角度で回転するように、攪拌装置の攪拌動作を制御する制御部と、を備える。ここで、洗浄液の主成分の極性と磁性物質の主成分の極性とが異なっている。また、洗浄工程では、ｎ回の洗浄動作が実行され、洗浄動作の回数が進むにつれて反応容器に収容される洗浄液の量が減少するように設定されている。そして、制御部は、洗浄動作の回数が進むにつれて、攪拌工程のときの反応容器に収容される洗浄液の液面の傾斜角度が段階的に小さくなるように前記攪拌装置の攪拌動作を制御する。

本開示に関連する更なる特徴は、本明細書の記述、添付図面から明らかになるものである。また、本開示の態様は、要素及び多様な要素の組み合わせ及び以降の詳細な記述と添付される特許請求の範囲の様態により達成され実現される。
本明細書の記述は典型的な例示に過ぎず、本開示の特許請求の範囲又は適用例を如何なる意味に於いても限定するものではないことを理解する必要がある。

本開示によれば、磁性粒子の洗浄濃縮工程において、濃縮効率の低下（溶媒中の磁性粒子数の減少）の抑制と攪拌時間の短縮化の両方を実現することができるようになる。

第１の実施形態に係る自動分析装置の概略構成を示す図である。 第１の実施形態に係る攪拌装置の概略構成を示す図である。 第１の実施形態に係る磁性粒子洗浄濃縮手順を説明するためのフローチャートである。 図３に示す磁性粒子の洗浄の状態を説明する図である。 図３に示す磁性粒子の洗浄の状態を説明する図である。 図３に示す溶液の調製を説明する図である。 図３に示す溶液の調製を説明する図である。 図３に示す磁性粒子の攪拌における、回転数と液面高さの関係および磁性粒子状態を説明する図である。 図３に示す液量低減とともに回転数を低減させた場合の攪拌時の液面の数値解析結果を示す断面図である。 本発明の第２の実施形態に係る磁性粒子洗浄濃縮手順を説明するためのフローチャートである。 図８に示す磁性粒子の攪拌における、公転軸に対する自転軸の傾斜および液面高さの関係と磁性粒子の状態とを説明する図である。 図９に示す液量低減とともに反応容器の傾斜角度を増加させた場合の攪拌時の液面の数値解析結果を説明するための図である。 本発明の第１および第２の実施形態に係る、液面傾斜角度のまとめを示す図である。 第３の実施形態に係る攪拌システムの構成例を示す図である。

本実施形態は、磁性粒子（試料）の洗浄濃縮工程において、濃縮効率の低下（溶媒中の磁性粒子数の減少）の抑制と攪拌時間の短縮化の両方を図るべく考え出されたものであり、その特徴は、一例として、磁性粒子の洗浄動作の回数（１〜ｎ回，ｎは任意の正整数）が進むにつれて、洗浄工程の一部である攪拌工程のときの反応容器に収容される洗浄液の液面の傾斜角度を段階的に小さくなるように攪拌装置の攪拌動作を制御することである。以下、当該基本的技術的思想を基にした各実施形態について詳細に説明する。

（１）第１の実施形態
第１の実施形態においては、攪拌工程において、反応容器の傾斜角度を一定（θ）に固定し、各洗浄動作における洗浄液の減量（洗浄液の液量Ｖ＝Ｖ１、Ｖ２、…、Ｖｉ、…、Ｖｎ；Ｖ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ＞…Ｖｎ）に対応して、攪拌回転数を減らす（回転数ω＝ω１、ω２、…、ωｉ、…、ωｎ；ω１＞ω２＞…＞ωｉ＞…ωｎ）ように攪拌装置を制御している。以下、自動分析装置の構成例から順を追って説明する。

＜自動分析装置の構成例＞
図１は、本実施形態（全実施形態で共通）に係る自動分析装置１の概略構成例を示す図である。自動分析装置１は、分析動作を行うための分析部１０１と、装置全体の動作を制御する制御部１０２と、ユーザが装置に情報を入力する際に用いる入力部１０３と、ユーザに情報を提示する表示部１０４と、を備える。なお、入力部１０３と表示部１０４とは同一のものであっても良く、その一例としてタッチパネル式のモニタが挙げられる。

分析部１０１は、試料（検体）が含まれる試料容器１１１を試料分取位置（図１で試料容器１１１が示されている箇所）まで搬送する搬送機構１１２と、分注チップを搭載した分注チップ搭載ラック１１５と、反応容器１１６を搭載した反応容器搭載ラック１１７と、反応容器１１６および分注チップを分注チップ搭載ラック１１５および反応容器搭載ラック１１７からそれぞれ取り出し、搬送する搬送機構１１８と、試料を試料容器１１１から採取し、反応容器１１６に吐出する試料分注機構１１３と、試料分注機構１１３用のディスポーザブルな分注チップを試料分注機構１１３に装脱着する分注チップ装脱着部１１４と、反応容器１１６内の液体を一定温度で保持可能であり開口部１１９を複数個備えた反応容器ディスク１２０と、測定試薬を含む試薬容器１２１を保持するための試薬ディスク１２２と、溶媒（試薬）を試薬容器１２１から採取し、反応容器ディスク１２０に載置された反応容器１１６に吐出する試薬分注機構１２３と、反応容器１１６内に収容された磁性粒子を分離する分離装置１２４と、反応容器１１６内に収容された液体を非接触で撹拌する攪拌機構１２７と、反応容器ディスク１２０と分離装置１２４と攪拌機構１２７との間で反応容器１１６を搬送する搬送機構１２５と、溶液中の成分の検出を行う検出部１３１と、反応容器１１６内の液体を採取し、検出部１３１の所定の場所に吐出する検出部用分注機構１３２と、を備える。

＜分析工程の概要＞
以下、自動分析装置の分析工程の概要について、再度図１を参照しながら説明する。
分析部１０１において、搬送機構１１８は、反応液の分析の前に、反応容器搭載ラック１１７から反応容器１１６を取り出し、当該反応容器１１６を反応容器ディスク１２０上の開口部１１９に設置する。また、搬送機構１１８は、分注チップ搭載ラック１１５から分注チップを取り出し、分注チップ装着部１１４に載置する。

試料分注機構１１３は、試料の分取の前に分注チップ装脱着部１１４にアクセスし、その先端に分注チップを取り付ける。試料分注機構１１３は、分注チップを介して試料容器１１１から試料を吸引し、反応容器ディスク１２０上の反応容器１１６に吐出する。試料分注機構１１３は、一つの試料容器１１１からの試料分注が終了すると、分注チップを分注チップ装脱着部１１４に廃棄する。

試薬分注機構１２３は、試薬ディスク１２２上の試薬容器１２１から、溶媒（試薬）を吸引し、上記反応容器１１６に吐出する。搬送機構１２５は、試料および洗浄液または溶媒を収容する反応容器１１６を攪拌機構１２７まで搬送する。攪拌機構１２７は、反応容器１１６に収容された試料および洗浄液または溶媒を攪拌する。攪拌後、搬送機構１２５は、攪拌機構１２７から反応容器１１６を取り出し、分離装置１２４に載置する。分離装置１２４は、例えば、磁石を用いて、反応容器１１６に含まれる磁性粒子を洗浄液や溶媒から分離する。この攪拌動作と分離動作は、所定回数繰り返される。

以上のような洗浄および溶液調製工程により反応容器内の磁性粒子が洗浄濃縮される。洗浄濃縮の最中または終了後に必要に応じて、搬送機構１２５は、反応容器１１６を反応容器ディスク１２０上の開口部１１９に再び設置する。反応容器ディスク１２０は、例えば、インキュベーターとして機能（例えば、温調機能）し、開口部１１９に設置された反応容器１１６を一定時間インキュベートする。検出部用分注機構１３２は、反応容器１１６中の溶液を吸引し、検出部１３１に搬送する。

＜攪拌装置の構成例＞
図２は、本開示の第１の実施形態に係る攪拌機構（攪拌装置）１２７の構成例を示す図である。攪拌機構１２７は、自転と公転とを組み合わせた攪拌を行い、磁性粒子溶液２０１を収容している反応容器１１６を保持することができる反応容器保持部２０３と、モータ等の回転駆動発生部２０４と、を備える。公転軸２０９に対する自転軸２１０の傾き、すなわち反応容器１１６の傾きは角度θになるように構成されている。なお、攪拌機構１２７では、公転と自転の回転数が同じで、回転方向が逆方向となる。

反応容器１１６中の溶液を十分に攪拌するためには、攪拌機構１２７での攪拌時に、反応容器１１６の底面が露出する程度に溶液の液面を傾けている必要がある。ただし、反応容器１１６の底面が全て露出する必要はなく、底面のＲ部分の少なくとも一部が露出する程度でも良い。このように反応容器１１６の底面が露出する程度に液面を傾けるのは、反応容器１１６内の溶液の移動量を多くし、溶液を十分に攪拌するためである。

＜磁性粒子洗浄濃縮工程の内容＞
図３は、本実施形態による磁性粒子洗浄濃縮工程の手順を説明するためのフローチャートである。磁性粒子洗浄濃縮は、磁性粒子の洗浄および溶液の調製の工程からなる。磁性粒子の洗浄は複数回(ｎ回)行い、洗浄回数が増加するに従い、吐出する洗浄液量を減少させる。その際に図３に示すように攪拌装置における回転数も減少させる。すなわち、洗浄回数を1回、２回…、ｉ回、…、ｎ回と増加させる毎に、洗浄液量をＶ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ＞…＞Ｖｎと減少させた場合に、回転数をω１＞ω２＞…＞ωｉ＞…＞ωｎと減少させる。ステップ３０１から３０５までが磁性粒子の洗浄工程であり、ステップ３０６から３０９までが溶液の調製工程である。以下、図３の各ステップについて説明する。

（i）ステップ３０１
制御部１０２は、試薬分注機構１２３を動作させて、試薬ディスク１２２上の試薬容器１２１から洗浄液（液量Ｖｉ）を採取し、分離装置１２４に載置された反応容器１１６に採取した洗浄液（液量Ｖｉ）を注入する。そして、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４から攪拌機構（攪拌装置）１２７に移動させる。

（ii）ステップ３０２
制御部１０２は、攪拌機構１２７を動作させ、回転速度ωｉで反応容器１１６を回転させて、反応容器１１６に含まれる磁性粒子および洗浄液を攪拌する。このとき、図２に示されるように、反応容器１１６と回転軸とのなす角度はθに設定されている（自転および公転の角度がθとなっている）。

（iii）ステップ３０３
攪拌が終了した後、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４まで移動させる。そして、制御部１０２は、分離装置１２４を動作させ、磁性粒子を洗浄液から分離させる（分離装置１２４の磁石で磁性粒子を反応容器１１６の壁面に捕捉する）。

（iv）ステップ３０４
制御部１０２は、試薬分注機構１２３からノズル３０４（図４Ｂ参照）を引き出し、使用済の洗浄液を回収する。

（v）ステップ３０５
制御部１０２は、例えば、予め決められた回数（ｎ回）の洗浄工程が完了したか判断する。ｎ回の洗浄工程が実行されている場合（ステップ３０５でＹｅｓの場合）、処理はステップ３０６に移行する。実行された洗浄工程の回数がｎ回に満たない場合（ステップ３０５でＮｏの場合）、処理はステップ３０１に移行する。

（vi）ステップ３０６
制御部１０２は、試薬分注機構１２３を動作させて、試薬ディスク１２２上の試薬容器１２１から所定量の溶媒を採取し、それを分離装置１２４に載置されている反応容器１１６に注入する。そして、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４から攪拌機構（攪拌装置）１２７まで移動させる。

（vii）ステップ３０７
制御部１０２は、攪拌機構１２７を動作させ、反応容器１１６に含まれる磁性粒子（洗浄後）および注入した溶媒を攪拌する。攪拌後、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４まで移動させる。

（viii）ステップ３０８
制御部１０２は、分離装置１２４を動作させ、磁性粒子を溶液から分離させる（分離装置１２４の磁石で磁性粒子を反応容器１１６の壁面に捕捉する）。

（ix）ステップ３０９
制御部１０２は、試薬分注機構１２３からノズル３０４（図５Ｆ参照）を引き出し、溶液を回収し、反応容器ディスク１２０に載置されている反応容器１１６に回収した溶液を吐出する。制御部１０２は、検出部用分注機構１３２を動作させ、反応容器１１６から溶液を取り出し、検出部１３１に注入する。

＜磁性粒子の洗浄および溶液の調製の詳細＞
図４および５は、磁性粒子の洗浄および溶液の調製の詳細を、図解説明するための図である。

（i）磁性粒子の洗浄の詳細
図４は、磁性粒子洗浄工程の詳細を説明するための図である。
初期状態では、磁石に捕捉された磁性粒子３０２が磁石３０１の磁場により、反応容器１１６の壁面へ捕捉されている（図４Ａ参照）。この磁石３０１は攪拌機構１２７に搭載されている。

次に、洗浄液４０１が反応容器１１６内にノズル３０４により吐出される。この時の洗浄液４０１の体積をＶとする(図４Ｂ参照)。洗浄液４０１を吐出した後、攪拌機構（攪拌装置）１２７により洗浄液４０１と磁石に捕捉された磁性粒子３０２が回転数ωで攪拌される(図４Ｃ)。このときの反応容器１１６の傾きは角度_qに設定されている。攪拌後、磁性粒子洗浄液４０２となる(図４Ｄ)。

続いて、磁石３０１により磁性粒子洗浄液４０２中の磁性粒子を反応容器壁面へ捕捉することにより、洗浄液４０１から磁性粒子３０２を分離する(図４Ｅ)。最後に、ノズル３０４を洗浄液４０１へ挿入して、ノズル３０４から洗浄液４０１を回収する。すなわち、反応容器１１６中は洗浄液により洗浄された磁石に捕捉された磁性粒子３０２が分離された状態となっている(図４Ｆ)。

この洗浄工程は、複数回、すなわちｎ回（ｎは任意の数であり、例えば、磁性体の種類に応じて予め設定することができる。）行われる。２回目の磁性粒子洗浄工程では図４Ｂにおいて吐出する洗浄液４０１の体積Ｖ２が１回目の洗浄工程の時よりも低減する。i回目の磁性粒子洗浄工程では、図４Ｂにおいて吐出する洗浄液４０１の体積Ｖｉがｉ−１回目よりも低減する。すなわち、Ｖ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ＞…＞Ｖｎ−１＞Ｖｎである。この時、図４Ｃにおける攪拌の回転数ωｎをωｎ−１回目よりも低減させる。すなわち、ω１＞ω２＞…＞ωｉ…＞ωｎ−１＞ωｎとする。

尚、本実施形態では磁性粒子３０２を使用したが、試料中の目的物質を捕捉する機能を有する磁性体であればよい。また、攪拌の回転数ωｉは、攪拌により洗浄液４０１が傾く際に、洗浄液４０１が反応容器１１６から溢れ出ず、かつ磁性粒子が十分に洗浄液４０１中で洗浄される、例えば反応容器１１６の底面が露出する程度の範囲とする。

（ii）溶液調製の詳細
図５は、溶液調製工程の詳細を説明するための図である。図５は、図４の磁性粒子の洗浄工程をｎ回行った後、すなわち、図４Ｂで吐出する洗浄液４０１の液量がＶｎへ減った状態で、図４Ｃから図４Ｆの工程を行った後の、溶液の調製の詳細を示している。このように液量がＶｎと低減しているため、初期状態(図５Ａ)における磁性粒子３０２は反応容器１１６の低い位置で捕捉されている。

磁石により捕捉された磁性粒子３０２が付着している初期状態の反応容器１１６中に対して(図５Ａ)、溶媒３０３がノズル３０４により吐出される(図５Ｂ)。続いて、攪拌装置により溶媒３０３と磁石により捕捉された磁性粒子３０２が攪拌され(図５Ｃ)、磁性粒子溶液２０１となる(図５Ｄ)。その後、磁石３０１により磁性粒子溶液２０１中の磁性粒子を反応容器壁面へ捕捉することにより、目的物質が抽出された溶媒、すなわち溶液３０５を磁性粒子から分離する(図５Ｅ)。最後に、溶液３０５へノズル３０４を挿入して、ノズル３０４から溶液３０５を回収する(図５Ｆ)。そして、回収された溶液は、検出部１３１に搬送される。

＜攪拌前、攪拌時、および攪拌後の液面の高さについて＞
図６は、図４で説明した磁性粒子の洗浄における、ｉ回目の洗浄工程の際（すなわち、洗浄液４０１の体積がＶｉに低減して、かつ回転数ωも低減させてωｉとした際）に、攪拌前(図６Ａ)、攪拌時(図６Ｂ)および攪拌後(図６Ｃ)の液面高さおよび磁性粒子の状態を示す図である。ここでは、磁性粒子が反応容器の壁面に付着しやすい反応容器、洗浄液、および磁性粒子の表面状態の場合、例えば、洗浄液に対して粒子および反応容器壁面の極性が異なり、洗浄液の主が親水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が疎水性、あるいは洗浄液の主が疎水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が親水性の場合の磁性粒子の状態が示されている。この「洗浄液の主が親水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が疎水性」とは、一番多く割合を占めている洗浄液の成分が親水性、一番多く割合を占めている磁性粒子および反応容器壁面の成分が疎水性であり、例えば洗浄液に疎水性、磁性粒子および反応容器壁面に親水性の成分が混在している状態を意味する。また、上述の「洗浄液の主が疎水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が親水性」とは、一番多く割合を占めている洗浄液の成分が疎水性、磁性粒子および反応容器壁面の成分が親水性であり、例えば洗浄液に親水性、磁性粒子および反応容器壁面に疎水性が混在している状態を意味する。なお、図６Ａは図４Ｂの、図６Ｂは図４Ｃの、図６Ｃは図４Ｄの液面高さおよび磁性粒子の状態をそれぞれ示す図である。

図６Ａに示すように、攪拌前の液面高さをＬｓとする。また、図６Ｂの左図に示すように、回転数をω１とした場合、すなわち液量低減に伴い回転数を低減させなかった場合には、反応容器１１６の底面に対する液面の傾斜角度はφ１、液面高さはＬ１となる。一方、図６Ｂの右図に示すように、回転数をωｉとした場合、すなわち液量低減に伴い回転数を低減させた場合には、傾斜角度はφ１よりも小さいφｉとなり、さらに液面高さ（回転時に壁面に接している液の最高位値の高さ）はＬ１よりも低いＬｉとなる。すなわち、回転数をω１＞ωｉとした場合、液面高さはＬ１＞Ｌｉとなる。続いて、図６Ｃに示すように攪拌後には、攪拌前の液面高さ、すなわちＬｓとなる。図６Ｃの左図のように、回転数をω１とした場合、Ｌ１からＬｓの間の位置の反応容器壁面に、壁面に残存する磁性粒子５０１が付着する。

一方、図６Ｃの右図に示すように、回転数をωｉとした場合、すなわち液量低減に伴い回転数を低減させた場合には、ＬｉからＬｓの間の位置の反応容器壁面に、壁面に残存する磁性粒子５０１が付着する。回転数をωｉとした場合は、回転数をω１とした場合よりも、液面高さがＬ１からＬｉへ低くなっているため、壁面に残存する磁性粒子５０１の付着面積は低減する。

このように、磁性粒子が反応容器壁面に残存する原因は、攪拌時に作用する遠心力により磁性粒子が反応容器壁面へ押し付けられた後に、磁性粒子と反応容器壁面との間に相互作用（分子間引力）が働くためであると考えられる。

一方で、洗浄を１回、２回、…、ｉ回、…、ｎ−１回、ｎ回と回数を重ねる度に、洗浄液の体積をＶ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ＞…＞Ｖｎ−１＞Ｖｎと減少させる粒子洗浄濃縮では、洗浄回数を重ねる毎に磁性粒子洗浄液の磁性粒子濃度が高くなる。このため、攪拌の回転数ω１を一定とした場合、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１の密度は高くなる。すなわち、攪拌の回転数ω１が一定では、洗浄回数が増すに従い、反応容器壁面へ残存する磁性粒子５０１の密度は高くなる。

本実施形態では、濃縮効率低下を抑制する、すなわち反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１を減少させるため、(１)反応容器１１６の底面に対する液面の傾斜角度θｉを小さくすることにより、攪拌時の液面高さ、すなわちＬｉを低くして攪拌後に反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１の残存面積を低減する、(２)反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１の密度を低減する、ことが必要であると考え、粒子洗浄攪拌の回転数ωに関して、洗浄回数を重ねる毎に、ω１＞ω２＞…＞ωi…＞ωｎ−１＞ωｎと減少させる。回転数を減少させることにより、（i）回転時の反応容器１１６の底面に対する液面の傾斜角度φｉが低減して液面高さＬｉが低くなり、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１の面積が低減する、（ii）回転時の遠心力が低減し、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１の密度が低減する、という現象が起きる。これらにより、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１の数が低減し、濃縮効率の低減が抑制される。ただし、磁性粒子が反応容器壁面に付着しにくい反応容器、洗浄液、および磁性粒子の表面状態の場合（例えば、洗浄液と粒子および反応容器壁面の極性が同じ場合であり、全て主が親水性または全て主が疎水性の場合）、図６Ｃに示すように、攪拌後に攪拌時の液面高さに磁性粒子５０１が反応容器壁面に残存することはないため、洗浄液体積の減少に伴い、回転数を減少させる必要はない。すなわち、磁性粒子が反応容器壁面に付着しにくい反応容器、洗浄液、および磁性粒子の表面状態の場合には、攪拌時間の増加を抑制される。

＜攪拌時の液面の解析結果＞
図７は、洗浄液の体積を減少させると共に、回転数を減少させた場合の攪拌時の液面の解析結果を示す図である。前述の通り、洗浄液を十分に攪拌するためには、攪拌時に反応容器１１６の底面が露出する程度に洗浄液の液面を傾けている必要がある。図７の上段に示すとおり、液量を１６０μＬ、８０μＬ、４０μＬと減少させ、回転数ωを一定値２６００ｒｐｍに設定した場合、反応容器底面が露出する程度に洗浄液の液面が傾いており、それぞれの液量における液面高さはＬ２６００、液面の傾斜角度φは７８°である。

一方、図７の下段に示すとおり、液量減少とともに、回転数ωを２０００ｒｐｍ、１８００ｒｐｍと減少させた場合、反応容器底面が露出する程度に洗浄液の液面が傾いており、液面の傾斜角度φは７８°から７６°、７２°とそれぞれ減少している。その結果、それぞれの液面高さＬ２０００およびＬ１８００は、それぞれのＬ２６００よりも減少する。すなわち、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１を考慮して、液量減少に伴い回転数を低減させても、十分に攪拌しつつ、液面の傾斜角度φを低減し、液面高さを低減させることができる。

（２）第２の実施形態
第２の実施形態においては、攪拌工程において、反応容器の攪拌回転数ωを一定に固定し、各洗浄動作における洗浄液の減量（洗浄液の液量Ｖ＝Ｖ１、Ｖ２、…、Ｖｉ、…、Ｖｎ；Ｖ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ＞…Ｖｎ）に対応して、攪拌時の反応容器の傾斜角度を大きくする（傾斜角度θ＝θ１、θ２、…、θｉ、…、θｎ；θ１＜θ２＜…＜θｉ＜…θｎ）ように攪拌装置を制御している。自動分析装置の構成例は第１の実施形態と同様であるため、磁性粒子の洗浄濃縮処理から説明を始めることとする。

＜磁性粒子洗浄濃縮処理＞
図８は、本開示の第２の実施形態による磁性粒子洗浄濃縮処理を説明するためのフローチャートである。図８は、図３と同じように、磁性粒子洗浄濃縮は、磁性粒子の洗浄、および溶液の調製から成り、洗浄は複数回（ｎ回）行う。第２の実施形態では、図８に示すように、洗浄回数が増加するに従い、吐出する洗浄液量Ｖを減少させるとともに、反応容器１１６の傾斜角度θを増加させる。すなわち、洗浄回数を１回、２回、…、ｉ回、…、ｎ−１回、ｎ回と増加させる毎に、洗浄液量をＶ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ…＞Ｖｎ−１＞Ｖｎと減少させた場合に、反応容器１１６の傾斜角度をθ１＜θ２＜…＜θｉ＜…θｎ−１＜θｎと増加させる。なお、ステップ８０１から８０５までが磁性粒子の洗浄工程であり、ステップ８０６から８０９までが溶液の調製工程である。図８に示す、磁性粒子の洗浄および溶液の調製の詳細は、それぞれ図４および図５と同様になる。また、洗浄液量をＶ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ…＞Ｖｎ−１＞Ｖｎと減少させた場合に、反応容器１１６の傾斜角度をθ１＜θ２＜…＜θｉ＜…θｎ-１＜θｎと増加させるために、例えば、反応容器１１６の傾斜角度の異なる攪拌機を自動分析装置内に複数個備える。以下、図８の各ステップについて説明する。

（i）ステップ８０１
制御部１０２は、試薬分注機構１２３を動作させて、試薬ディスク１２２上の試薬容器１２１から洗浄液（液量Ｖｉ）を採取し、分離装置１２４に載置された反応容器１１６に採取した洗浄液（液量Ｖｉ）を注入する。そして、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４から攪拌機構（攪拌装置）１２７に移動させる。なお、洗浄液量は、洗浄回数が増加する度に減少させる（Ｖ１＞Ｖ２＞…＞Ｖｉ…＞Ｖｎ−１＞Ｖｎ）。

（ii）ステップ８０２
制御部１０２は、攪拌機構１２７を動作させ、回転速度ω（各洗浄工程で同一の回転速度で実施）で反応容器１１６を回転させて、反応容器１１６に含まれる磁性粒子および洗浄液を攪拌する。このとき、反応容器１１６と回転軸とのなす角度はθｉに設定されている（自転および公転の角度がθｉとなっている）。つまり、洗浄液の液量Ｖｉ＝Ｖ１のときθｉ＝θ１（ｉ＝１のとき、Ｖ１およびθ１で磁性粒子を攪拌洗浄する）、洗浄液の液量Ｖｉ＝Ｖ２のときθｉ＝θ２（ｉ＝２のとき、Ｖ２およびθ２で磁性粒子を攪拌洗浄する）、…洗浄液の液量Ｖｉ＝Ｖｎのときθｉ＝θｎ（ｉ＝ｎのとき、Ｖｎおよびθｎで磁性粒子を攪拌洗浄する）。なお、傾斜角度は、洗浄回数が増加する度に増加させる（θ１＜θ２＜…＜θｉ…＜θｎ−１＜θｎ）。

（iii）ステップ８０３
攪拌が終了した後、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４まで移動させる。そして、制御部１０２は、分離装置１２４を動作させ、磁性粒子を洗浄液から分離させる（分離装置１２４の磁石で磁性粒子を反応容器１１６の壁面に捕捉する）。

（iv）ステップ８０４
制御部１０２は、試薬分注機構１２３からノズル３０４（図４Ｂ参照）から、使用済の洗浄液を回収する。

（v）ステップ８０５
制御部１０２は、例えば、予め決められた回数（ｎ回）の洗浄工程が完了したか判断する。ｎ回の洗浄工程が実行されている場合（ステップ８０５でＹｅｓの場合）、処理はステップ８０６に移行する。実行された洗浄工程の回数がｎ回に満たない場合（ステップ８０５でＮｏの場合）、処理はステップ８０１に移行する。

（vi）ステップ８０６
制御部１０２は、試薬分注機構１２３を動作させて、試薬ディスク１２２上の試薬容器１２１から所定量の溶媒を採取し、それを分離装置１２４に載置されている反応容器１１６に注入する。そして、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４から攪拌機構（攪拌装置）１２７まで移動させる。

（vii）ステップ８０７
制御部１０２は、攪拌機構１２７を動作させ、反応容器１１６に含まれる磁性粒子（洗浄後）および注入した溶媒を攪拌する。攪拌後、制御部１０２は、搬送機構１２５を動作させ、反応容器１１６を分離装置１２４まで移動させる。

（viii）ステップ８０８
制御部１０２は、分離装置１２４を動作させ、磁性粒子を溶液から分離させる（分離装置１２４の磁石で磁性粒子を反応容器１１６の壁面に捕捉する）。

（ix）ステップ８０９
制御部１０２は、試薬分注機構１２３からノズル３０４（図５Ｆ参照）を引き出し、溶液を回収し、反応容器ディスク１２０に載置されている反応容器１１６に回収した溶液を吐出する。制御部１０２は、検出部用分注機構１３２を動作させ、反応容器１１６から溶液を取り出し、検出部１３１に注入する。

＜攪拌前、攪拌時、および攪拌後の液面の高さと磁性粒子の状態＞
図９は、第２の実施形態における、反応容器１１６の攪拌前、攪拌時、および攪拌後の液面の高さと磁性粒子の状態を示す図である。図９Ａは攪拌前の状態を示し、図９Ｂは攪拌時の状態を示し、図９Ｃは攪拌後の状態を示している。なお、図９においては、ｉ回目の洗浄工程の際、すなわち洗浄液４０５の体積をＶｉに低減しつつ、反応容器１１６の傾斜角度をθｉへ増加した際の状態が示されている。ここでは、反応容器、洗浄液、および磁性粒子の表面状態の条件として、磁性粒子が反応容器の壁面に付着しやすいものとなっている。例えば、洗浄液に対して粒子および反応容器壁面の極性が異なり、洗浄液の主が親水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が疎水性、あるいは洗浄液の主が疎水性、磁性粒子および反応容器壁面の主が親水性の場合である。なお、図９Ａは図４Ｂの液面高さおよび磁性粒子の状態に対応する。図９Ｂは図４Ｃの液面高さおよび磁性粒子の状態に対応する。また、図９Ｃは図４Ｄの液面高さおよび磁性粒子の状態に対応する。

図９Ａに示すように、攪拌前の液面高さをＬｓとする。ここで、図９Ｂに示す攪拌時の液面状態を示す図における、反応容器１１６底面に対する磁性粒子洗浄液４０２の液面角度φは、式１で求めることができる。
φ＝ｔａｎ^-１（（ω^２・Ｄ・ｃｏｓθ＋ｇ）・ｓｉｎθ／
（−（ω^２・Ｄ・ｓｉｎ^２θ＋ｇ・ｃｏｓθ））） ・・・（式１）

ここで、ωは回転数［ｒａｄ／ｓ］、Ｄは回転中心と反応容器の底面との距離［ｍ］、θは反応容器１１６の傾斜角度［ｒａｄ］、ｇは重力加速度ｇ[ｍ／ｓ²]である。

式１によると、反応容器１１６の傾斜角度θの増加に伴い、反応容器１１６底面に対する磁性粒子洗浄液４０２の液面の傾斜角度θが減少する。一方、液面の傾斜角度θの減少に伴い、液面高さＬは減少する。すなわち、反応容器１１６の傾斜角度θの増加に伴い、液面高さＬが減少する（液量が少なくなれば液面の高さが低くなるので角度を付けて回転させる）。したがって、図９Ｂの左図に示すように、液量低減に伴い反応容器１１６の傾斜角度θを増加させなかった場合、すなわちθ＝θ１とした場合には、液面高さはＬ１となる。

一方、図９Ｂの右図に示すように、液量低減に伴い反応容器１１６の傾斜角度を増加させた場合、すなわちθ＝θｉとした場合には、液面高さはＬｉとなり、ＬｉはＬ１よりも低くなる。すなわち、反応容器１１６の傾斜角度をθ１＜θｉとした場合、液面高さはＬ１＞Ｌｉとなる。

続いて、図９Ｃに示すように攪拌後には、攪拌前の液面高さ、すなわちＬｓとなる。図９Ｃの左図に示すように反応容器１１６の傾斜角度をθ１とした場合の攪拌後には、攪拌後の液面ＬｓとＬ１の間の反応容器壁面に、壁面に残存する磁性粒子５０１が付着する。一方、図９Ｃの右図に示すように、反応容器１１６の傾斜角度をθｉとした場合の攪拌後には、攪拌後の液面ＬｓとＬｉの間の反応容器壁面に、壁面に残存する磁性粒子５０１が付着する。すなわち、図９Ｃに示すように、反応容器１１６の傾斜角度をθｉとすることで、θ１とした場合よりも液面高さがＬ１からＬｉへ低くなっているため、壁面に残存する磁性粒子５０１の付着面積は低減する。

本実施形態では、反応容器１１６の傾斜角度θに関して、洗浄回数を重ねる毎に、θ１＜θ２＜…θｉ＜…＜θｎ−１＜θｎと増加させる。反応容器１１６の傾斜角度θを増加させることにより、反応容器１１６底面に対する磁性粒子洗浄液４０２の液面角度φは減少して攪拌時の液面高さＬｓが低くなり、壁面に残存する磁性粒子５０１の面積が低減するという現象が起きる。この現象により、壁面に残存する磁性粒子５０１の数が低減し、濃縮効率の低減が抑制することができる。

ただし、磁性粒子が反応容器壁面に付着しにくい反応容器、洗浄液、および磁性粒子の表面状態の場合（例えば、洗浄液と粒子および反応容器壁面の極性が同じで、全て主が親水性または全て主が疎水性の場合）、図９Ｃに示すように、攪拌後に攪拌時の液面高さに磁性粒子５０１が反応容器壁面に残存することはないため、洗浄液体積Ｖの減少に伴い、反応容器１１６の傾斜角度θを減少させる必要はない。

以上のように、本実施形態では、磁性粒子洗浄時工程において、磁性粒子の回収率が低下しないように、洗浄液の液量の減少に伴って傾斜角度θを増加させている。これにより、攪拌時（反応容器１１６を回転させている時）の液面の高さを低くしている。攪拌時の液面の高さによって磁性粒子が容器壁面に付着する高さが決まるため、攪拌時の液面の高さを低くすれば、壁面に付着する磁性粒子の数を少なくすることができる。

＜攪拌時の液面の解析結果＞
図１０は、洗浄液の体積を減少させると共に、反応容器１１６の傾斜角度θを増加させた場合の攪拌時の液面の解析結果を示す図である。

図１０の下段に示すとおり、液量を１６０μＬから８０μＬ、４０μＬと減少させると同時に、自転軸の傾斜角度θを１０°から１４°、１８°と増加させる。この時、図１０の上段に示す反応容器１１６の傾斜角度θが１０°の場合と比較して、８０μＬ、４０μＬでは液面の傾斜角度（液面角度）φを７８°からそれぞれ７４°、７０°と減少させた。その結果、液面高さＬ１４°およびＬ１８°は、それぞれのＬ１０°よりも低くなった。すなわち、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１を考慮して、液量減少に伴い回転数を低減させても、十分に攪拌しつつ、液面の傾斜角度φを低減し、液面高さＬを低減させることができる。

図１１は、第１および第２の実施形態の、磁性粒子の洗浄濃縮工程における液面の傾斜角度φおよび液面の高さＬの関係のまとめを示す図である。
第１の実施形態では、図１１の上段の図に示すように、液量低減に伴い回転数ωを２６００ｒｐｍから、２０００ｒｐｍ、１８００ｒｐｍへ減少させることにより、液面の傾斜角度φが７８°から７６°、７２°へそれぞれ減少する。その結果、回転数ωを減少させない場合と比較して、液面の高さＬも減少することがわかる。すなわち、反応容器壁面に残存する磁性粒子５０１を減少させ、濃縮効率低下を抑制することができる。

一方、第２の実施形態では、図１１の下段の図に示すように、液量低減に伴い回転軸の傾斜角度θを１０°から１４°、１８°へ増加させることにより、液面の傾斜角度φが７８°から７４°、７０°へそれぞれ減少する。その結果、回転軸の傾斜角度θを増加させない場合と比較して、液面の高さＬも減少することができる。

（３）第３の実施形態
第３の実施形態は、第１あるいは第２の実施形態に係る攪拌装置に洗浄パラメータを記憶するデータベース（遠隔的に設けられた外部サーバでもよい）を別途設けた構成を備える攪拌制御システムに関する。

図１２は、本開示の第３の実施形態による攪拌制御システムの構成例を示す図である。図１２に示すように、当該攪拌制御システムは、攪拌機構（攪拌装置）１２７の動作を制御する制御部１０２内の記憶装置６０３に、洗浄液ごとに体積Ｖ、回転数ω、反応容器１１６の傾斜角度θ等の洗浄パラメータを関連付けて記憶したデータベース６０４を有する。

攪拌機構１２７により攪拌を実行する際に、制御部１０２は、当該反応容器１１６内の洗浄液の攪拌パラメータをデータベース６０４から読み取り、洗浄液毎に最適な攪拌条件に調整することができる。例えば、攪拌パラメータは、洗浄液の種類に応じて予め決められており、洗浄液を選択すれば、対応する洗浄液の体積Ｖ、回転数ω、傾斜角度θ、および洗浄工程の実施回数などが一意に決定される。

なお、データベース６０４を持たず、各試薬の条件を入力するための入力画面をディスプレイ等の表示装置１０４に表示させ、オペレータがキーボードやタッチパネル等の入力手段によって洗浄液毎の攪拌条件を設定できるように構成しても良い。

第３の実施形態によれば、反応容器１１６の壁面への磁性粒子の付着を促進してしまう洗浄液とそうでない洗浄液とで攪拌条件を最適に調整できるため、攪拌時間の増加を伴わずに、洗浄液毎の磁性粒子の反応容器壁面への付着数のばらつき、すなわち濃縮効率のばらつきを低減することができる。

（４）まとめ
（i）本実施形態による自動分析装置は、磁性物質と洗浄液とを保持する反応容器を回転させ、磁性物質と洗浄液とを攪拌する攪拌装置と、磁性物質の洗浄工程に含まれる攪拌工程のときに、反応容器が所定の回転数および所定の傾斜角度で回転するように、攪拌装置の攪拌動作を制御する制御部と、を備える。ここで、洗浄液の主成分の極性と磁性物質の主成分の極性とが異なっており、洗浄工程では、ｎ回の洗浄動作が実行され、洗浄動作の回数が進むにつれて反応容器に収容される前記洗浄液の量が減少するように設定されている。そして、制御部は、洗浄動作の回数が進むにつれて、攪拌工程のときの反応容器に収容される洗浄液の液面の傾斜角度を段階的に小さくなるように攪拌装置の攪拌動作を制御する。第１の実施形態では、制御部は、反応容器に保持される液量が少ないほど、回転数を低くなるように攪拌装置の動作を制御する。また、第２の実施形態では、制御部は、反応容器に保持される液量が少ないほど、反応容器の傾斜角度が大きくなるように攪拌装置の動作を制御する。このようにすることにより、磁性粒子の洗浄液の液量を複数回に分けて段階的に低減しがなら洗浄する、いわゆる磁性粒子の洗浄濃縮工程において、攪拌時に高くなった液面位置の反応容器壁面への磁性粒子の付着数を低減して濃縮効率の低下を抑制し、かつ攪拌時間の増加を抑制するようにした、自動分析装置を提供することができる。

また、例えば、洗浄液は主成分の極性は疎水性であり、磁性物質は主成分の極性が親水性であり、反応容器は主成分の極性が親水性である。本実施形態による自動分析装置における洗浄動作は、磁性物質、容器の材質、および洗浄用液がこのような極性の状態のときに、特に効果を発揮する。つまり、磁性粒子の回収率（濃縮効率）を高めることができる。

第３の実施形態では、第１あるいは第２の実施形態による洗浄工程を実現するために、自動分析装置は、攪拌装置を動作させる際の攪拌条件を記憶する記憶装置と、を備える。そして、制御部は、洗浄液に対応する攪拌条件を記憶装置から読み込み、当該読み込んだ攪拌条件に基づいて攪拌装置を動作させる。この場合、洗浄液ごとに洗浄液の液量と攪拌条件とを関連付けて、記憶装置に記憶されている。このようにすることにより、洗浄液の種類によって一意に攪拌条件を取得することができるため、効率よく磁性粒子の洗浄動作を実行することができるようになる。

（ii）本実施形態の機能は、ソフトウェアのプログラムコードによっても実現できる。この場合、プログラムコードを記録した記憶媒体をシステム或は装置に提供し、そのシステム或は装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出す。この場合、記憶媒体から読み出されたプログラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現することになり、そのプログラムコード自体、及びそれを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。このようなプログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−Ｒ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭなどが用いられる。

また、プログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ（オペレーティングシステム）などが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータ上のメモリに書きこまれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータのＣＰＵなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。

さらに、実施の形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを、ネットワークを介して配信することにより、それをシステム又は装置のハードディスクやメモリ等の記憶手段又はＣＤ−ＲＷ、ＣＤ−Ｒ等の記憶媒体に格納し、使用時にそのシステム又は装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ）が当該記憶手段や当該記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出して実行するようにしても良い。

最後に、ここで述べたプロセス及び技術は本質的に如何なる特定の装置に関連することはなく、コンポーネントの如何なる相応しい組み合わせによってでも実装できることを理解する必要がある。更に、汎用目的の多様なタイプのデバイスがここで記述した教授に従って使用可能である。ここで述べた方法のステップを実行するのに、専用の装置を構築するのが有益であることが判るかもしれない。また、実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。本実施形態は、具体例に関連して記述したが、これらは、すべての観点に於いて限定の為ではなく説明の為である。本分野にスキルのある者には、本実施形態を実施するのに相応しいハードウェア、ソフトウェア、及びファームウエアの多数の組み合わせがある。例えば、記述したソフトウェアは、アセンブラ、Ｃ／Ｃ＋＋、ｐｅｒｌ、Ｓｈｅｌｌ、ＰＨＰ、Ｊａｖａ（登録商標）等の広範囲のプログラム又はスクリプト言語で実装できる。

さらに、上述の実施形態において、制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。全ての構成が相互に接続されていても良い。

加えて、本技術分野の通常の知識を有する者には、本実施形態のその他の実装がここに開示された本明細書及び実施形態の考察から明らかになる。明細書と具体例は典型的なものに過ぎず、本開示の範囲と精神は後続する請求範囲で示される。

１０１ 分析部
１０２ 制御部
１０３ 入力部
１０４ 表示部
１１１ 試料容器
１１２ 搬送機構
１１３ 試料分注機構
１１４ 分注チップ装脱着部
１１５ 分注チップ搭載ラック
１１６ 反応容器
１１７ 反応容器搭載ラック
１１８ 搬送機構
１１９ 反応容器ディスク上の開口部
１２０ 反応容器ディスク
１２１ 測定試薬容器
１２２ 試薬ディスク
１２３ 試薬分注機構
１２４ 分離装置
１２５ 搬送機構
１２６ ノズル回転軌道
１２７ 攪拌機構（攪拌装置）
１３１ 検出部
１３２ 検出部用分注機構
２０１ 磁性粒子溶液
２０３ 反応容器保持部
２０４ 回転駆動発生部
２０９ 公転軸
２１０ 自転軸
３０１ 磁石
３０２ 磁石により捕捉された磁性粒子
３０３ 溶媒
３０４ ノズル
３０５ 溶液
４０１ 洗浄液
４０２ 磁性粒子洗浄液
５０１ 壁面に残存する磁性粒子
６０３ 記憶装置
６０４ データベース

Claims (11)

1. 磁性物質と洗浄液とを保持する反応容器を回転させ、前記磁性物質と前記洗浄液とを攪拌する攪拌装置と、
   前記磁性物質の洗浄工程に含まれる攪拌工程のときに、前記反応容器が所定の回転数および所定の傾斜角度で回転するように、前記攪拌装置の攪拌動作を制御する制御部と、を備え、
   前記洗浄液の主成分の極性と前記磁性物質の主成分の極性とが異なり、
   前記洗浄工程では、ｎ回の洗浄動作が実行され、前記洗浄動作の回数が進むにつれて前記反応容器に収容される前記洗浄液の量が減少するように設定されており、
   前記制御部は、前記洗浄動作の回数が進むにつれて、前記攪拌工程のときの前記反応容器に収容される前記洗浄液の液面の傾斜角度が段階的に小さくなるように前記攪拌装置の攪拌動作を制御する、自動分析装置。
2. 請求項１において、
   前記制御部は、前記反応容器に保持される液量が少ないほど、前記回転数を低くなるように前記攪拌装置の動作を制御する、自動分析装置。
3. 請求項１において、
   前記制御部は、前記反応容器に保持される液量が少ないほど、前記反応容器の傾斜角度が大きくなるように前記攪拌装置の動作を制御する、自動分析装置。
4. 請求項１において、
   前記洗浄液は主成分の極性は疎水性であり、前記磁性物質は主成分の極性が親水性であり、前記反応容器は主成分の極性が親水性である、自動分析装置。
5. 請求項１において、
   前記攪拌装置は、前記反応容器を保持する反応容器保持部を備え、前記制御部の指示に応答して、回転軸を中心にして前記反応容器保持部を前記所定の回転数で回転させることにより、前記反応容器を自転回転および公転回転させ、前記反応容器に収容された溶液を攪拌する、自動分析装置。
6. 請求項１に記載の自動分析装置と、
   前記攪拌装置を動作させる際の攪拌条件を記憶する記憶装置と、を備え、
   前記制御部は、前記洗浄液に対応する前記攪拌条件を前記記憶装置から読み込み、当該読み込んだ攪拌条件に基づいて前記攪拌装置を動作させる、自動分析システム。
7. 請求項６において、
   前記記憶装置は、前記洗浄液ごとに前記洗浄液の液量と前記攪拌条件とを関連付けて記憶している、自動分析システム。
8. 磁性物質を含有する試料を用いて検体の分析を行う分析方法であって、
   前記磁性物質を含有する試料と前記磁性物質を洗浄するのに用いる洗浄液を反応容器に保持し、攪拌装置で攪拌させて前記磁性物質を洗浄する洗浄工程と、
   洗浄後の前記磁性物質を含有する試料を保持する反応容器に試薬を添加し、保温する工程と、
   保温後の溶液を回収し、検出器で検出する工程と、を含み、
   前記洗浄液の主成分の極性と前記磁性物質の主成分の極性とが異なり、
   前記洗浄工程では、ｎ回の洗浄動作が実行され、前記洗浄動作の回数が進むにつれて前記反応容器に収容される前記洗浄液の量が減少するように設定されており、
   前記洗浄工程において、前記磁性物質の洗浄工程に含まれる攪拌動作の際に、前記反応容器が所定の回転数および所定の傾斜角度で回転するように、前記攪拌装置を制御する制御部が、前記洗浄動作の回数が進むにつれて、攪拌動作のときの前記反応容器に収容される前記洗浄液の液面の傾斜角度を段階的に小さくなるように前記攪拌装置の攪拌動作を制御する、分析方法。
9. 請求項８において、
   前記制御部は、前記反応容器に保持される液量が少ないほど、前記回転数を低くなるように前記攪拌装置の動作を制御する、分析方法。
10. 請求項８において、
    前記制御部は、前記反応容器に保持される液量が少ないほど、前記反応容器の傾斜角度が大きくなるように前記攪拌装置の動作を制御する、分析方法。
11. 請求項８において、
    前記洗浄液は主成分の極性は疎水性であり、前記磁性物質は主成分の極性が親水性であり、前記反応容器は主成分の極性が親水性である、分析方法。

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