JP6779803B2 - バグフィルタの製造装置、及びバグフィルタの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、バグフィルタの製造装置、及びバグフィルタの製造方法に関する。
都市ごみ焼却炉、下水汚泥焼却炉、産業廃棄物焼却炉、石炭の燃焼炉等から排出される排ガスには、煤塵と共に、窒素酸化物やダイオキシン等の大気汚染物質が含まれることがある。そのため、排ガスには、通常、煤塵を除去する集塵処理が施される。
集塵処理としては、濾布を用いた濾過処理が広く採用されている。濾過処理においては、濾布本体の表面に、排ガス浄化用触媒を含む触媒層が形成された濾布を用いることがある。濾布にこのような触媒層を設けることで、集塵処理を行うと同時に排ガスの浄化処理を行うことができる。
従来、濾布本体の表面に触媒層を形成する方法としては、例えば特許文献1から特許文献3に記載のものが知られている。
特許文献1に記載の技術では、濾布本体を円筒状に保持し、円筒の軸線を中心に回転させつつ、可動式スプレーを用いて濾布本体の両面に触媒スラリーを噴霧することで、濾布本体の表面及び裏面の各々で触媒スラリーの種類やその厚みを変えることができる。
特許文献2に記載の技術では、円筒袋状の濾布本体を、回転治具に固定した上でこれを回転させながらスプレーノズルで触媒スラリーを噴霧する方法が採られている。
特許文献3に記載の技術では、濾布本体を平面状にならす成形工程と、濾布本体の一方の面側から触媒スラリーを噴霧する第一塗布工程と、濾布本体の一方の面と他方の面とが入れ替わるように濾布本体を回転させる回転工程と、を有している。
特開2013−128863号公報 特開平7−60134号公報 特開2016−49468号公報
しかしながら、特許文献1に記載の技術では、濾布本体を円筒形状に保持するため、装置構成が複雑になり、設備コスト及びメンテナンス費用も高くなるという課題がある。
また、特許文献2に記載の技術では、濾布本体を回転治具に装着する作業に時間を要するため、製造効率が低下する可能性がある。また、回転治具を回転させることから、濾布本体に付着した触媒スラリーが周囲に飛散してしまうため、作業性が損なわれてしまう。
さらに、特許文献3に記載の技術では、濾布本体を平面状にならした状態で載置し、触媒スラリーを噴霧しているが、平面状の濾布本体の縁部に触媒スラリーが到達し難く、濾布本体の中央部と縁部とで触媒層の濃度分布が生じる。
この発明は、より低コストで、品質の良好なバグフィルタを安定的に製造することができるバグフィルタの製造装置、及びバグフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の第一の態様によれば、バグフィルタの製造装置は、長尺円筒状の濾布本体に触媒層が形成されてなるバグフィルタの製造装置であって、前記濾布本体が載置される載置台と、前記載置台に向けて触媒スラリーを噴霧する塗布装置と、前記塗布装置から前記濾布本体に噴霧された前記触媒スラリーを前記濾布本体の縁部との間で保持する一対の受け板と、を有する。
このような構成によれば、濾布本体の縁部に触媒スラリーが付着せず、濾布本体に塗布される触媒スラリーが不均一になるのを抑制することができる。
上記バグフィルタの製造装置において、一対の前記受け板は、前記載置台の前記濾布本体の両側の位置に上方に向かうにしたがって互いに離間するように上広がり状態に傾斜し、前記濾布本体の少なくとも縁部を下方から支持してよい。
このような構成によれば、受け板と濾布本体の縁部との間に保持された触媒スラリーが受け板上を流れて、より濾布本体の縁部に付着しやすくなる。
上記バグフィルタの製造装置において、前記濾布本体は、前記濾布本体の開口を環状に保持する環状リングを有し、前記載置台は、前記環状リングが収容される収容部が形成されてよい。
このような構成によれば、濾布本体に触媒スラリーを塗布する際に、環状リングを収容部に収容して濾布本体をより平らにすることができる。これにより、噴霧された触媒スラリーが濾布本体と接触する面積を増加させることができ、濾布本体に対してより均一に触媒スラリーを噴霧することができる。
本発明の第二の態様によれば、バグフィルタの製造方法は、長尺円筒状の濾布本体に触媒スラリーを塗布することによって前記濾布本体に触媒層を形成するバグフィルタの製造方法であって、平面状となるように前記濾布本体が載置される載置台に、前記濾布本体の縁部に沿うように受け板を配置する受け板配置工程と、前記濾布本体が平面状となるように、かつ、前記濾布本体の縁部と前記受け板との間に前記触媒スラリーが保持されるように、前記載置台に前記濾布本体を載置する載置工程と、前記濾布本体に前記触媒スラリーを噴霧する噴霧工程と、を有する。
本発明によれば、濾布本体の縁部に触媒スラリーが付着せず、濾布本体に塗布される触媒スラリーが不均一になるのを抑制することができる。
本発明の第一実施形態のバグフィルタの断面図である。 本発明の第一実施形態のバグフィルタの製造装置を示す概略図である。 本発明の第一実施形態のバグフィルタの製造装置の載置台及び受け板を示す斜視図である。 本発明の第一実施形態のバグフィルタの製造装置の載置台及び受け板を載置台の長手方向から見た概略図である。 本発明の第一実施形態のキャップの斜視図である。 本発明の第一実施形態のバグフィルタの製造方法での、受け板と濾布本体の縁部に保持された触媒スラリーを示す概略図である。 本発明の第一実施形態の受け板の別形態を説明する概略図である。 本発明の第二実施形態の載置台の斜視図である。 本発明の第二実施形態の載置台の作用を説明する断面図である。
〔第一実施形態〕
以下、本発明の第一実施形態に係るバグフィルタの製造装置について、図面を参照して説明する。
バグフィルタの製造装置は、長尺円筒状の濾布本体に触媒スラリーを塗布することによって触媒層を形成してバグフィルタとするための装置である。図1に示すように、本実施形態のバグフィルタ1は、円筒袋状の濾布本体2と、濾布本体2の外面に形成された触媒層3と備えている。
濾布本体2は、筒部4と、筒部4の他端部に設けられた蓋部5とからなる袋状をなしている。濾布本体2の一端部には、環状リング6が装着されている。環状リング6は、袋状の濾布本体2の開口をなす一端部の形状を環状に保持するリングである。環状リング6は、弾性変形が可能なバネ鋼によって形成されている。
濾布本体2は、綾織り、朱子織り、平織り等の種々の織り方によって織られた布もしくはニードルパンチ法等によって製造された不織布から形成されている。即ち、濾布本体2は、剛性を有さない柔軟な素材から形成されていることが望ましい。
布の打ち込み密度は、400〜1200g/mであることが望ましい。打ち込み密度が400g/m以上であれば、煤塵を十分に捕捉することができる。他方で、打ち込み密度が1200g/m以下であれば、目詰まりを抑制することができる。
濾布本体2を構成する繊維としては、例えばガラス繊維、ポリフルオロエチレン系繊維、ポリエステル系繊維、ポリアミド系繊維、ポリフェニレンサルファイド系繊維等が挙げられる。繊維のうちでも、耐熱性が高い点で、ガラス繊維及びポリフルオロエチレン系繊維が望ましい。繊維の直径は、3〜15μmが好ましい。
触媒層3は、排ガス浄化用触媒を含む層である。
排ガス浄化用触媒は、チタン(Ti)、シリコン(Si)、アルミニウム(Al)から選ばれる少なくとも一種以上の元素を含む単一又は複合酸化物からなる担体と、バナジウム(V)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)の酸化物のうち少なくとも一種類の酸化物からなる活性成分とからなる触媒である。
担体としては、少なくとも酸化チタンを用いることが望ましい。
活性成分としては、少なくともバナジウム酸化物(V、x=4〜5)を用いることが望ましい。上記活性成分は、いずれも酸化能力を有し、ダイオキシンを酸化分解でき、また、還元剤存在下で窒素酸化物を還元できるが、バナジウム酸化物はそれらの能力が特に優れている。
排ガス浄化用触媒の組成は特に限定されない。少なくとも、担体として酸化チタン、活性成分としてバナジウム酸化物を含み、必要に応じて、タングステン酸化物(WO、x=2〜3)を含む場合には、質量比で、酸化チタン:バナジウム酸化物:タングステン酸化物=99〜90:1〜10:0〜5であることが好ましい。また、排ガス浄化用触媒として上記の脱硝触媒以外の触媒を用いることも可能である。例えば、プラチナ(Pt)、Au、Pd、Ag、Irを含む酸化触媒を適用することも可能である。
触媒層3の形成量は、1〜500g/mであることが望ましく、50〜450g/mであることがより望ましい。触媒層3の形成量が50g/m以上であれば、十分に高い排ガス浄化能力が得られ、450g/m以下であれば、濾布本体2の目詰まりを防止することができ、バグフィルタ圧力損失を低減することができる。
バグフィルタ1は、例えば都市ごみ焼却炉、産業廃棄物焼却炉、下水汚泥焼却炉等の各種焼却炉、ボイラー、ディーゼルエンジン等から排出されるガスに対して使用することができる。
図2に示すように、本実施形態に係るバグフィルタの製造装置10は、濾布本体2が載置される載置台18と、濾布本体2に触媒スラリーを噴霧することで触媒層3を形成するスプレー装置13(塗布装置)と、を有している。
載置台18は、矩形状をなし、水平面と平行な載置面18aを有している。載置台18は、金属材料で形成された網目板状の部材によって形成されている。載置台18には、主にその厚さ方向において、一方側の面と他方側の面(表裏両面)とを互いに貫通する多数の排出口が形成されている。
載置台18は、平面状にならされた濾布本体2の外郭寸法よりも十分に大きな平面寸法を有している。
スプレー装置13は、載置台18の載置面18aと平行をなし、載置台18の長手方向Lに延在するす直線状のレール14と、レール14上を移動可能なスプレーノズル19と、を有している。スプレーノズル19は、図示しない移動装置により、レール14上を移動可能である。
スプレーノズル19は、触媒スラリーの噴射方向が載置台18の方向に向くようにしてレール14に取り付けられている。換言すれば、スプレーノズル19は、載置台18の載置面18aに載置された濾布本体2に向けて触媒スラリーを噴射可能である。
なお、複数のスプレーノズル19を、載置台18の長手方向Lに間隔をあけて複数配置して、移動装置を省略してもよい。
また、複数のスプレーノズル19を、載置台18の長手方向Lに対して直交する方向に配列する構成を採用してもよい。これにより、複数の濾布本体2に対して同時に触媒スラリーを塗布することができる。
スプレーノズル19は、スラリー配管23を介して、触媒スラリーが貯留されているスラリータンク24及びパージ水が貯留されているパージ水タンク25と接続されている。スラリータンク24に貯留されている触媒スラリーは、圧力制御弁26によってその供給圧力が制御され、またその一部がポンプ27によって加圧されながら、スプレーノズル19へと供給される。
また、スプレーノズル19は、エアー配管28を介してコンプレッサー29と接続されており、コンプレッサー29から供給される高圧の圧縮空気によって、スプレーノズル19から触媒スラリーが噴霧されるようになっている。なお、図中の符号30及び31は三方弁、32はフィルタ、33及び34は圧力計である。また、パージ水は、スラリー配管23の洗浄用及び必要に応じて触媒スラリーの濃度調整用の水として使用される。
なお、スプレーノズル19としては、触媒スラリーを噴霧することができれば、上記したような液体と気体とを混合させて噴霧する2流体ノズルに限られない。例えば、液圧のみによって噴霧する1流体ノズルも採用可能である。
さらに、本実施形態に係るバグフィルタの製造装置10は、スプレー装置13によって塗布された触媒スラリーを乾燥させるための乾燥装置12を備えている。乾燥装置12としては、例えば温風を濾布本体2に向けて供給する温風乾燥機等が好適に用いられる。乾燥装置12によれば、湿潤状態にある塗布直後の触媒スラリーに対して温風を当てることで、触媒スラリーに含まれる水分を蒸発させて、これを乾燥することができる。
なお、乾燥装置12はこれに限ることはなく、バグフィルタの製造装置10とは別に用意された乾燥器を用いてもよい。即ち、触媒スラリーを乾燥することができれば、どのような装置を用いてもよい。
図3に示すように、バグフィルタの製造装置10は、一対の受け板15を有している。受け板15は、載置台18の長手方向Lに延在する平板状部材である。
また、バグフィルタの製造装置10は、受け板15を回転させる回転装置16を有している。回転装置16は、受け板15を、載置台18の長手方向Lに沿って延在する中心線Cを中心に回転させる。
受け板15は、載置台18の長手方向Lに延在する矩形状の部材である。受け板15の長さは、平面状にならされた濾布本体2の長さよりも長い。一対の受け板15は、上方に向かうにしたがって互いに離間するように上広がり状態に傾斜して設置されている。受け板15の主面は、載置台18の幅方向W(長手方向Lに直交する方向)の中心に向かって漸次低くなるように傾斜している。
図4に示すように、一対の受け板15は、載置台18に濾布本体2を載置した場合に、濾布本体2の両側の縁部2aが載るような位置に配置されている。
受け板15は、載置台18の長手方向Lに沿う受け板15の中心線Cを中心に回転可能である。受け板15の中心線Cとは、受け板15の幅方向(受け板15の長手方向と直交する方向)の中心で、長手方向Lに延びる仮想線である。
回転装置16の回転軸16aは、受け板15の端部に、受け板15の中心線Cと同軸となるように接続されている。回転装置16(例えば、電動機)は、図示しない支持装置によって固定されている。
受け板15の幅h2は、平面状に載置された濾布本体2の厚さh1以上である。即ち、受け板15は、平面状に載置された濾布本体2の厚さをh1、受け板15の幅をh2とすると、h2≧h1となるように形成されている。
受け板15は、一対の受け板15の上端同士の間隔をm、平面状に載置された濾布本体2の幅をLとすると、m>Lとなるように配置されている。
受け板15は、一対の受け板15の下端同士の間隔をn、平面状に載置された濾布本体2の幅をLとすると、L≧nとなるように配置されている。
図5に示すように、バグフィルタの製造装置10は、濾布本体2の開口を封止するキャップ11を有している。キャップ11は、円形のキャップ本体21と、キャップ本体21の縁部からキャップ本体21の主面と直交する方向に突出する差し込み部22と、を有している。差し込み部22は、キャップ本体21の全周にわたって形成されている。差し込み部22は、濾布本体2の開口(環状リング6の内側)に嵌め込むことができる。
次に、以上の構成による本実施形態のバグフィルタの製造装置10を用いたバグフィルタの製造方法について説明する。
バグフィルタ1の製造方法は、受け板15を配置する受け板配置工程と、濾布本体2にキャップ11を取り付けるキャップ取り付け工程と、載置台18に濾布本体2を載置する載置工程と、濾布本体2の一面に触媒スラリーを噴霧する第一塗布工程と、平面状の濾布本体2を反転させる反転工程と、濾布本体2の他面に触媒スラリーを噴霧する第二塗布工程と、触媒スラリーが塗布された状態の濾布本体2を乾燥させる乾燥工程と、を有している。
<受け板配置工程>
受け板配置工程では、平面状となるように濾布本体2が載置される載置台18に、濾布本体2の縁部2aを下方から支えるように受け板15を配置する。具体的には、一対の受け板15の上端同士の間隔をm、一対の受け板15の下端同士の間隔をn、平面状に載置された濾布本体2の幅をLとすると、m>L、かつ、L≧nとなるように一対の受け板15を配置する。
<キャップ取り付け工程>
キャップ取り付け工程では、濾布本体2の開口にキャップ11を取り付ける。これにより、濾布本体2の内部空間がキャップ11により封止される。
<載置工程>
載置工程では、濾布本体2を、濾布本体2が平面状となるように、かつ、濾布本体2の縁部2aと受け板15との間に前記触媒スラリーが保持されるように、濾布本体2を載置する。
<第一塗布工程>
第一塗布工程では、平面状にならされた濾布本体2に対して、スプレー装置13によって触媒スラリーを噴霧することで、濾布本体2の一方の面に触媒スラリーを塗布する。
ここで、濾布本体2が、濾布本体2の縁部2aが受け板15に載るように配置されていることによって、受け板15に衝突した触媒スラリーは、受け板15上を下方に向かって流れる。これにより、図6に示すように、触媒スラリーSが濾布本体2の縁部2aと受け板15との間で保持されて濾布本体2の縁部2aに付着する。
<反転工程>
反転工程では、第一塗布工程によって触媒スラリーが塗布された面が、下方を向くように、濾布本体2の上下を反転させる。これにより、平面状の濾布本体2の触媒スラリーが塗布されていない面が上方を向く。
<第二塗布工程>
第二塗布工程では、第一塗布工程と同様に、スプレー装置13によって触媒スラリーを噴霧することで、濾布本体2の他方の面側に触媒スラリーを塗布する。
<乾燥工程>
乾燥工程では、触媒スラリーが表裏両面に塗布された状態の濾布本体2を乾燥させる。乾燥装置12を用いることで、触媒スラリーが塗布された状態の濾布本体2を乾燥させることができる。乾燥した触媒スラリーは、一定の厚さを有する触媒層3として、濾布本体2の外周面上に担持される。
上記実施形態によれば、触媒スラリーが濾布本体2の縁部2aと受け板15との間で保持されて濾布本体2の縁部2aに付着することによって、濾布本体2の縁部2aに触媒スラリーが付着せず、濾布本体2に塗布される触媒スラリーが不均一になるのを抑制することができる。これにより、品質の良好なバグフィルタ1を安定的に製造することができる。
また、一対の前記受け板15は、載置台18の濾布本体2の両側の位置に上方に向かうにしたがって互いに離間するように上広がり状態に傾斜し、濾布本体2の少なくとも縁部2aを下方から支持している。これにより、受け板15と濾布本体2の縁部2aとの間に保持された触媒スラリーが受け板15上を流れて、より濾布本体2の縁部2aに付着しやすくなる。
また、平面状にならした濾布本体2に触媒スラリーを噴霧する方法であるため、濾布本体2を円筒形状に保持する必要がなく、複数の濾布本体2に対して容易に、かつ、低コストで触媒スラリーを塗布することができる。また、濾布本体2を円筒形状に保持する方法と比較して、塗布される触媒スラリーの厚さをより均一にすることができる。
また、触媒スラリーを噴霧によって塗布することで、濾布本体2の外表面のみに対して、均一かつ高い分散度で触媒スラリーを担持させることができる。さらに、触媒スラリーを噴霧によって塗布することから、塗布に当たって必要とされる触媒スラリーの量を低減することができる。
また、濾布本体2の開口にキャップ11を取り付けた状態で触媒スラリーを塗布することによって、触媒スラリーが濾布本体2の内部に塗布されるのを防止することができる。
なお、上記実施形態では受け板15を平板状としたがこれに限ることはない。
例えば、図7に示すように、受け板15Bを長手方向Lから見て、下方に凸の湾曲形状(曲線形状)としてもよい。受け板15Bをこのような形状とすることによって、受け板15B上に載った濾布本体2と受け板15とをより密に接触させることができる。
〔第二実施形態〕
以下、本発明の第二実施形態のバグフィルタの製造装置10について図面を参照して詳細に説明する。なお、本実施形態では、上述した第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。
図8に示すように、本実施形態のバグフィルタの製造装置10の載置台18には、濾布本体2の環状リング6(図1参照)が収容される挿入孔35(収容部)が形成されている。挿入孔35は、載置台18を貫通するように形成されている。挿入孔35の内径は、環状リング6の外径よりもやや大きい。
上記実施形態によれば、図9に示すように、濾布本体2に触媒スラリーを塗布する際に、環状リング6を挿入孔35に収容して濾布本体2をより平らにすることができる。これにより、噴霧された触媒スラリーが濾布本体2と接触する面積を増加させることができ、濾布本体2に対してより均一に触媒スラリーを噴霧することができる。
なお、上記実施形態では、載置台18に挿入孔35を形成して環状リング6を収容する構成としたがこれに限ることはない。例えば、挿入孔35の代替として、載置台18の載置面18aに凹部を形成してもよい。
また、載置台18の載置面18aの一部をゴム等の弾性変形可能な材質で製造し、この部位を環状リング6の収容部としてもよい。
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
なお、上記実施形態では、受け板15が濾布本体2を下方から支持する構成としたがこれに限ることはない。例えば、受け板15の主面が水平方向を向く(鉛直方向に沿う)ように配置して、この受け板15に濾布本体2の縁部2aが接触するように、濾布本体2を配置してもよい。
1 バグフィルタ
2 濾布本体
2a 縁部
3 触媒層
4 筒部
5 蓋部
6 環状リング
10 バグフィルタの製造装置
11 キャップ
12 乾燥装置
13 スプレー装置(塗布装置)
14 レール
15,15B 受け板
16 回転装置
18 載置台
18a 載置面
19 スプレーノズル
21 キャップ本体
22 差し込み部
23 スラリー配管
24 スラリータンク
25 パージ水タンク
26 圧力制御弁
27 ポンプ
28 エアー配管
29 コンプレッサー
35 挿入孔
C 中心線
L 長手方向

Claims (4)

  1. 長尺円筒状の濾布本体に触媒層が形成されてなるバグフィルタの製造装置であって、
    前記濾布本体が載置される載置台と、
    前記載置台に向けて触媒スラリーを噴霧する塗布装置と、
    前記塗布装置から前記濾布本体に噴霧された前記触媒スラリーを前記濾布本体の縁部との間で保持する一対の受け板と、を有するバグフィルタの製造装置。
  2. 一対の前記受け板は、前記載置台の前記濾布本体の両側の位置に上方に向かうにしたがって互いに離間するように上広がり状態に傾斜し、前記濾布本体の少なくとも縁部を下方から支持している請求項1に記載のバグフィルタの製造装置。
  3. 前記濾布本体は、前記濾布本体の開口を環状に保持する環状リングを有し、
    前記載置台は、前記環状リングが収容される収容部が形成されている請求項1又は請求項2に記載のバグフィルタの製造装置。
  4. 長尺円筒状の濾布本体に触媒スラリーを塗布することによって前記濾布本体に触媒層を形成するバグフィルタの製造方法であって、
    平面状となるように前記濾布本体が載置される載置台に、前記濾布本体の縁部に沿うように受け板を配置する受け板配置工程と、
    前記濾布本体が平面状となるように、かつ、前記濾布本体の縁部と前記受け板との間に前記触媒スラリーが保持されるように、前記載置台に前記濾布本体を載置する載置工程と、
    前記濾布本体に前記触媒スラリーを噴霧する噴霧工程と、を有するバグフィルタの製造方法。
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