JP6776832B2

JP6776832B2 - ガス化ガス生成システム

Info

Publication number: JP6776832B2
Application number: JP2016222810A
Authority: JP
Inventors: 大原　宏明; 宏明大原
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 2016-11-16
Filing date: 2016-11-16
Publication date: 2020-10-28
Anticipated expiration: 2036-11-16
Also published as: JP2018080247A

Description

本開示は、原料をガス化させてガス化ガスを生成するガス化ガス生成システムに関する。

石炭、バイオマス等の原料をガス化する技術として、７００℃〜９００℃程度の流動媒体を収容した収容槽の底部から流動化ガスを導入して流動媒体の流動層を形成し、さらに原料を収容槽に投入して、流動層で原料をガス化するガス化炉が開発されている。

流動媒体は、一般的に、珪砂で構成されている。このため、原料にアルカリ金属が含まれていると、珪砂に含まれるシリカ（ＳｉＯ_２）が、アルカリ金属と反応し、複合酸化物が生成される。この複合酸化物は、８００℃程度で溶融するため、ガス化炉内において、溶融した複合酸化物によって流動媒体が凝集（アグロメレーション）してしまう。そうすると、流動媒体が流動不良を起こし、流動層が形成されなくなったり、ガス化炉自体やガス化炉に接続された機器等が凝集した流動媒体で閉塞されたりするおそれがある。

そこで、複合酸化物と反応することで、複合酸化物自体の溶融温度を上昇させる添加剤をガス化炉に投入し、ガス化炉内における流動媒体の凝集を抑制する技術が開発されている（例えば、特許文献１）。

特開２０１１−２１９５０５号公報

しかし、特許文献１に記載された技術を用いたとしても、添加剤による溶融温度の上昇には限界があるため、所望される流動層（流動媒体）の温度によっては、流動媒体の凝集を抑制できない。

本開示は、このような課題に鑑み、流動媒体の凝集を抑制することが可能なガス化ガス生成システムを提供することを目的としている。

上記課題を解決するために、本開示の一態様に係るガス化ガス生成システムは、燃焼炉と、前記燃焼炉の下流側に接続されたサイクロンと、前記サイクロンの下流側に接続されたガス化炉と、前記サイクロンと前記ガス化炉との間から流動媒体を抜き出す媒体抜出部と、前記流動媒体を洗浄する媒体洗浄部と、洗浄された前記流動媒体を前記ガス化炉と前記燃焼炉との間に返送する媒体返送部と、を備える。

また、前記サイクロンと前記ガス化炉との間には第１シールポットが設けられており、前記媒体抜出部は、前記第１シールポットから流動媒体を抜き出してもよい。

また、前記ガス化炉と前記燃焼炉との間には第２シールポットが設けられており、前記媒体返送部は、前記第２シールポットに流動媒体を返送してもよい。

また、洗浄された前記流動媒体を乾燥させる媒体乾燥部を備え、前記媒体返送部は、乾燥された前記流動媒体を返送してもよい。

また、前記媒体乾燥部は、前記サイクロンによって分離された燃焼排ガスで前記流動媒体を乾燥させてもよい。

また、前記ガス化炉によって生成されたガス化ガスを水で洗浄するガス洗浄部を備え、前記媒体洗浄部は、前記ガス洗浄部で生じた排水で前記流動媒体を洗浄してもよい。

流動媒体の凝集を抑制することが可能となる。

ガス化ガス生成システムを説明する図である。ガス化ガス生成装置を説明する図である。媒体抜出部、媒体洗浄部、および、媒体乾燥部を説明する図である。媒体返送部を説明する図である。

以下に添付図面を参照しながら、本開示の一実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本開示を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本開示に直接関係のない要素は図示を省略する。

（ガス化ガス生成システム１００）
図１は、ガス化ガス生成システム１００を説明する図である。図１に示すように、ガス化ガス生成システム１００は、ガス化ガス生成装置１１０と、精製装置１２０と、媒体再生装置３００とを含んで構成される。なお、図１中、ガスの流れを実線の矢印で示し、水の流れを破線の矢印で示し、流動媒体の流れを一点鎖線の矢印で示す。

ガス化ガス生成装置１１０は、流動媒体の流動層を用いて、石炭やバイオマス等の原料をガス化してガス化ガスを生成する。ガス化ガス生成装置１１０については、後に詳述する。

精製装置１２０は、ガス化ガス生成装置１１０によって生成されたガス化ガスを精製する。具体的に説明すると、精製装置１２０は、改質装置１３０と、熱交換器１３２と、第１ガス洗浄部１３４（ガス洗浄部）と、第２ガス洗浄部１３６（ガス洗浄部）と、昇圧器１３８と、排水処理器１４０と、脱アンモニア器１４２と、脱硫器１４４とを含んで構成される。

改質装置１３０は、ガス化ガス生成装置１１０で生成されたガス化ガスに酸素や空気を加えて加熱し、ガス化ガスに含まれるタールを改質（酸化改質）する。熱交換器１３２（ボイラ）は、改質装置１３０で改質されたガス化ガスと水蒸気との熱交換を行い、ガス化ガスの顕熱を水蒸気で回収し、ガス化ガスの出口温度を３００℃〜６００℃にする。

第１ガス洗浄部１３４は、例えば、スプレー塔で構成され、ガス化ガスを水で洗浄する。具体的に説明すると、第１ガス洗浄部１３４は、ガス化ガスに４０℃程度の水をスプレー噴霧することにより、３００℃〜６００℃のガス化ガスを７０℃程度まで冷却する。これにより、ガス化ガスに残存するタールやスラッジが凝縮し、ガス化ガスから除去される。第２ガス洗浄部１３６は、例えば、ミストセパレータで構成され、ガス化ガスを水で洗浄する。具体的に説明すると、第２ガス洗浄部１３６は、第１ガス洗浄部１３４によって噴霧される冷却水より小径の水滴（４０℃程度）をガス化ガスにスプレー噴霧する。これにより、第１ガス洗浄部１３４で除去できなかった霧状のタールやスラッジをガス化ガスから除去することができる。

昇圧器１３８は、ブロワや圧縮機、ターボ型のポンプ、容積型のポンプ等で構成される。昇圧器１３８は、第２ガス洗浄部１３６によって冷却されたガス化ガスを０．１ＭＰａ〜５ＭＰａに昇圧する。

排水処理器１４０は、第１ガス洗浄部１３４、第２ガス洗浄部１３６、昇圧器１３８で生じたタールや粉塵を含有する排水からタールや粉塵を除去する処理を行う。排水処理器１４０によって処理された後の水（処理水）は、後述する媒体乾燥部３３０に供給される。

脱アンモニア器１４２は、例えば、アンモニア吸収塔およびアンモニア放散塔で構成され、ガス化ガス中のアンモニア等の窒素化合物を除去する。脱硫器１４４は、ガス化ガスに残存する硫黄や硫黄化合物を除去する。こうして、精製されたガス化ガス（精製ガス化ガス）は、後段の設備に送出される。

（ガス化ガス生成装置１１０）
図２は、ガス化ガス生成装置１１０を説明する図である。図２に示すように、ガス化ガス生成装置１１０は、燃焼炉２１０と、第１配管２１２と、サイクロン２２０と、第２配管２２２と、第１シールポット２３０と、ガス化炉２４０と、第３配管２４６と、第２シールポット２５０と、熱交換器２６０と、脱塵装置２６２とを含んで構成される。なお、図２中、流動媒体の流れを実線の矢印で示し、ガスの流れを破線の矢印で示す。

本実施形態において、ガス化ガス生成装置１１０は、循環流動層式ガス化システムであり、燃焼炉２１０、第１配管２１２、サイクロン２２０、第２配管２２２（第１シールポット２３０）、ガス化炉２４０、第３配管２４６（第２シールポット２５０）に、流動媒体を熱媒体として循環させている。流動媒体は、粒径が３００μｍ程度の珪砂で構成される。

燃焼炉２１０は、筒形状であり、上部に第１配管２１２が接続され、下部に第３配管２４６が接続される。燃焼炉２１０には、第３配管２４６を通じて燃料および流動媒体が導入される。燃焼炉２１０では、燃料が燃焼されて、流動媒体が９００℃〜１０００℃程度に加熱される。加熱された流動媒体および燃焼排ガスは、第１配管２１２を通じてサイクロン２２０に送出される。

サイクロン２２０は、第１配管２１２を通じて燃焼炉２１０から導入された流動媒体と燃焼排ガスとの混合物を固気分離する。サイクロン２２０で分離された高温の流動媒体は、サイクロン２２０の底部とガス化炉２４０とを接続する第２配管２２２を通じて、ガス化炉２４０に導入される。

第２配管２２２を通じて、サイクロン２２０から導入された流動媒体は、ガス化炉２４０において、流動化ガス（例えば、水蒸気）によって流動化する。具体的に説明すると、ガス化炉２４０は、流動媒体を収容する収容槽２４２と、収容槽２４２の下方に設けられた風箱２４４とを含んで構成される。風箱２４４の上部は、通気可能な分散板で構成されており、収容槽２４２の底面としても機能する。風箱２４４には、不図示の水蒸気供給部から水蒸気が供給される。風箱２４４に供給された水蒸気は、収容槽２４２の底面（分散板）から当該収容槽２４２内に導入される。したがって、サイクロン２２０から導入された高温の流動媒体は、水蒸気によって流動化し、収容槽２４２内において気泡流動層が形成される。

また、ガス化炉２４０（収容槽２４２）には、石炭やバイオマス等の原料が投入される。投入された原料は、流動媒体が有する７００℃〜９００℃程度の熱によってガス化され、これによってガス化ガス（合成ガス）が生成される。生成されたガス化ガスは、上記精製装置１２０で精製される。

そして、ガス化炉２４０において流動化された流動媒体は、ガス化炉２４０と燃焼炉２１０とを接続する第３配管２４６を通じて燃焼炉２１０に戻される。

このように、本実施形態にかかるガス化ガス生成装置１１０において、流動媒体は、燃焼炉２１０、第１配管２１２、サイクロン２２０、第２配管２２２、ガス化炉２４０、第３配管２４６を、この順に移動し、再度燃焼炉２１０に導入されることにより、これらを循環することとなる。

なお、サイクロン２２０によって分離された燃焼排ガスは、熱交換器２６０（ボイラ）によって熱交換（冷却）され、脱塵装置２６２によって脱塵された後、後述する媒体再生装置３００の媒体乾燥部３３０に送出される。

また、燃焼炉２１０には、第３配管２４６を通じて、ガス化炉２４０において原料がガス化した後に残留した原料の残渣が導入される。したがって、ガス化炉２４０から燃焼炉２１０に導入される原料の残渣が、燃焼炉２１０において燃料として利用される。

さらに、詳しくは後述するが、第２配管２２２には、第１シールポット２３０（ループシール）が設けられており、第３配管２４６には、第２シールポット２５０（ループシール）が設けられている。第１シールポット２３０は、サイクロン２２０からガス化炉２４０への燃焼排ガスの流入およびガス化炉２４０からサイクロン２２０へのガス化ガスの流入を防止する役割を担う。第２シールポット２５０は、ガス化炉２４０から燃焼炉２１０へのガス化ガスの流入および燃焼炉２１０からガス化炉２４０への燃焼排ガスの流入を防止する役割を担う。

上記したように、流動媒体は、燃焼炉２１０で９００℃〜１０００℃程度に加熱され、ガス化炉２４０で７００℃〜９００℃程度の流動媒体の流動層が形成される。そして、ガス化炉２４０に原料が投入されて、ガス化ガスが生成される。

ここで、原料にアルカリ金属（例えば、ナトリウム、カリウム）が含まれていると、燃焼炉２１０およびガス化炉２４０において、流動媒体を構成する珪砂に含まれるシリカとアルカリ金属とが反応して、複合酸化物が生成される。この複合酸化物は、８００℃程度で溶融する。したがって、ガス化炉２４０において、溶融した複合酸化物によって流動媒体が凝集してしまう。なお、燃焼炉２１０において、流動媒体は希薄流動層を形成しているため、流動媒体の気泡流動層が形成されるガス化炉２４０と比較して、流動媒体の移動速度が大きい。このため、燃焼炉２１０では、複合酸化物が溶融するものの、流動媒体はほとんど凝集しない。

流動媒体が凝集してしまうと、流動媒体が流動不良を起こし、ガス化炉２４０において流動層が形成されなくなったり、ガス化炉２４０、第２配管２２２、第３配管２４６が凝集した流動媒体で閉塞されたりするおそれがある。

そこで、媒体再生装置３００によって複合酸化物を除去し、流動媒体の凝集を抑制する。以下、媒体再生装置３００について説明する。

（媒体再生装置３００）
媒体再生装置３００は、第１シールポット２３０から流動媒体を抜き出して洗浄した後、第２シールポット２５０に返送する。具体的に説明すると、媒体再生装置３００は、媒体抜出部３１０と、媒体洗浄部３２０と、媒体乾燥部３３０と、媒体返送部３４０とを含んで構成される。

図３は、媒体抜出部３１０、媒体洗浄部３２０、および、媒体乾燥部３３０を説明する図である。図３に示すように、媒体抜出部３１０は、第１シールポット２３０から流動媒体を抜き出す。第１シールポット２３０は、流動媒体を収容する収容槽２３２と、収容槽２３２の下方に設けられた風箱２３４とを含んで構成される。

収容槽２３２の天井には、入口２３２ａが形成されている。入口２３２ａには、第２配管２２２のうち、サイクロン２２０に接続された第２配管２２２ａが接続される。また、収容槽２３２の側面には、出口２３２ｂが形成されている。出口２３２ｂには、第２配管２２２のうち、ガス化炉２４０に接続された第２配管２２２ｂが接続される。収容槽２３２内には、天井から鉛直下方に延在した仕切板２３６が設けられている。仕切板２３６は、収容槽２３２内を、入口２３２ａが形成される領域２３６ａと、出口２３２ｂが形成される領域２３６ｂとに区画する。また、仕切板２３６の先端は、出口２３２ｂの下端より下方まで延在している。仕切板２３６を備える構成により、サイクロン２２０からガス化炉２４０への燃焼排ガスの流入およびガス化炉２４０からサイクロン２２０へのガス化ガスの流入を防止することができる。

風箱２３４の上部は、通気可能な分散板で構成されており、収容槽２３２の底面としても機能する。風箱２３４には、不図示の水蒸気供給部から水蒸気が供給される。風箱２３４に供給された水蒸気は、収容槽２３２の底面（分散板）から当該収容槽２３２内に導入される。したがって、第２配管２２２ａを通じてサイクロン２２０から導入された流動媒体は、水蒸気によって流動化し、収容槽２３２内において気泡流動層が形成される。

そして、サイクロン２２０からのさらなる流動媒体の導入に伴って、流動層の鉛直方向の位置が高くなると、流動媒体は、出口２３２ｂの下端をオーバーフローし、第２配管２２２ｂを通じてガス化炉２４０へ導入されることとなる。

媒体抜出部３１０は、排出管３１２と、バルブ３１４とを含んで構成される。排出管３１２は、一端が領域２３６ａの底面（風箱２３４の分散板）に接続された配管である。バルブ３１４は、例えば、バタフライ弁で構成され、排出管３１２に設けられる。バルブ３１４が開弁されると、領域２３６ａの流動媒体が自重で排出管３１２を通じて外部に排出される。つまり、バルブ３１４が開弁されることによって、流動媒体を第１シールポット２３０から抜き出す。

また、排出管３１２におけるバルブ３１４の設置箇所の下流側には、外部熱交換器３１６が設けられる。外部熱交換器３１６は、排出管３１２を通過する流動媒体を１００℃程度まで冷却する。そして、外部熱交換器３１６によって冷却された流動媒体は、媒体洗浄部３２０に導入される。

媒体洗浄部３２０は、洗浄槽３２２と、散気部３２４と、ポンプ３２８とを含んで構成される。洗浄槽３２２には、上記排水処理器１４０から処理水が供給され、媒体抜出部３１０から流動媒体が導入され、処理水および流動媒体を収容する。洗浄槽３２２内には、散気部３２４が設けられており、散気部３２４には、不図示の空気供給部から空気が供給される。散気部３２４は、洗浄槽３２２内において空気を散気（バブリング）する。したがって、洗浄槽３２２内の処理水と流動媒体との混合物が、空気の気泡によって攪拌され、流動媒体が処理水で洗浄される。これにより、流動媒体に付着した複合酸化物を、流動媒体から除去することができる。

また、本実施形態において、媒体洗浄部３２０は、排水処理器１４０によって処理された処理水で流動媒体を洗浄する。これにより、洗浄用の水に要するコストを削減することができる。

ポンプ３２８は、洗浄槽３２２の底部に接続された配管３２６に設けられ、洗浄槽３２２から洗浄後の流動媒体（スラリー）を後述する媒体乾燥部３３０に送出する。

媒体乾燥部３３０は、媒体洗浄部３２０によって洗浄された流動媒体を乾燥させる。媒体乾燥部３３０は、流動媒体を収容する収容槽３３２と、収容槽３３２の下方に設けられた風箱３３４とを含んで構成される。収容槽３３２には、媒体洗浄部３２０から流動媒体（スラリー）が導入される。

風箱３３４の上部は、通気可能な分散板で構成されており、収容槽３３２の底面としても機能する。風箱３３４には、脱塵装置２６２から排気された燃焼排ガスが供給される。風箱３３４に供給された燃焼排ガスは、収容槽３３２の底面（分散板）から当該収容槽３３２内に導入される。したがって、媒体洗浄部３２０から導入された流動媒体は、燃焼排ガスによって流動化し、収容槽３３２内において気泡流動層が形成される。これにより、流動媒体が乾燥されることとなる。

そして、媒体洗浄部３２０からのさらなる流動媒体の導入に伴って、流動層の鉛直方向の位置が高くなると、乾燥された流動媒体は、収容槽３３２の側面に設けられた出口３３２ｂの下端をオーバーフローし、出口３３２ｂに接続された排出管３３６を通じて、後述する媒体返送部３４０のホッパ３４２へ導入されることとなる。そして、媒体返送部３４０は、媒体乾燥部３３０によって乾燥された流動媒体を第２シールポット２５０に返送する。

媒体乾燥部３３０を備える構成により、第２シールポット２５０を流通する流動媒体（洗浄されていない流動媒体）が、洗浄後の流動媒体に付着した水によって冷却されてしまう事態を回避することができる。

また、上記したように本実施形態において、媒体乾燥部３３０は、脱塵装置２６２から排気された燃焼排ガスで流動媒体を乾燥させる。燃焼排ガスは、常温（２５℃）より高温である。したがって、燃焼排ガスで流動媒体を乾燥させることにより、常温のガス（例えば、空気）で乾燥させる構成と比較して、流動媒体を効率よく（短時間で）乾燥させることができる。

図４は、媒体返送部３４０を説明する図である。図４に示すように、媒体返送部３４０は、媒体乾燥部３３０によって乾燥された流動媒体を第２シールポット２５０に返送する。第２シールポット２５０は、第１シールポット２３０と同様に、流動媒体を収容する収容槽２５２と、収容槽２５２の下方に設けられた風箱２５４とを含んで構成される。

収容槽２５２の天井には、入口２５２ａが形成されている。入口２５２ａには、第３配管２４６のうち、ガス化炉２４０に接続された第３配管２４６ａが接続される。また、収容槽２５２の側面には、出口２５２ｂが形成されている。出口２５２ｂには、第３配管２４６のうち、燃焼炉２１０に接続された第３配管２４６ｂが接続される。収容槽２５２内には、天井から鉛直下方に延在した仕切板２５６が設けられている。仕切板２５６は、収容槽２５２内を、入口２５２ａが形成される領域２５６ａと、出口２５２ｂが形成される領域２５６ｂとに区画する。また、仕切板２５６の先端は、出口２５２ｂの下端より鉛直下方まで延在している。仕切板２５６を備える構成により、ガス化炉２４０から燃焼炉２１０へのガス化ガスの流入および燃焼炉２１０からガス化炉２４０への燃焼排ガスの流入を防止することができる。

風箱２５４の上部は、通気可能な分散板で構成されており、収容槽２５２の底面としても機能する。風箱２５４には、不図示の水蒸気供給部から水蒸気が供給される。風箱２５４に供給された水蒸気は、収容槽２５２の底面（分散板）から当該収容槽２５２内に導入される。したがって、第３配管２４６ａを通じて、ガス化炉２４０から導入された流動媒体および原料の残渣は、水蒸気によって流動化し、収容槽２５２内において気泡流動層が形成される。

そして、ガス化炉２４０からのさらなる流動媒体および原料の残渣の導入に伴って、流動層の鉛直方向の位置が高くなると、流動媒体および原料の残渣は、出口２５２ｂの下端をオーバーフローし、第３配管２４６ｂを通じて燃焼炉２１０へ導入されることとなる。

媒体返送部３４０は、ホッパ３４２と、返送管３４４と、スクリューフィーダ３４６とを含んで構成される。ホッパ３４２は、媒体乾燥部３３０によって乾燥された流動媒体を貯留する。返送管３４４は、一端がホッパ３４２に接続され、他端が、収容槽２５２の天井のうち、領域２５６ｂの天井に接続された配管である。スクリューフィーダ３４６は、返送管３４４に設けられ、ホッパ３４２から第２シールポット２５０に流動媒体を搬送する。こうして、媒体洗浄部３２０によって洗浄された（複合酸化物が除去された）流動媒体が、第２シールポット２５０に返送されることとなる。

以上説明したように、本実施形態にかかるガス化ガス生成システム１００によれば、複合酸化物が付着した流動媒体をガス化ガス生成装置１１０から抜き出して洗浄し、洗浄後の流動媒体をガス化ガス生成装置１１０に返送することができる。したがって、ガス化ガス生成装置１１０を循環する流動媒体から複合酸化物を取り除くことができ、ガス化ガス生成装置１１０における流動媒体の凝集を抑制することが可能となる。

また、複合酸化物は、主に燃焼炉２１０で生成される。したがって、媒体抜出部３１０が第１シールポット２３０から流動媒体を抜き出す構成により、ガス化ガス生成装置１１０において複合酸化物の濃度が相対的に高い流動媒体を抜き出すことができる。これにより、抜き出した流動媒体を、媒体洗浄部３２０が洗浄することにより、流動媒体から効率よく複合酸化物を除去することが可能となる。

また、ガス化炉２４０に投入された原料は、燃焼炉２１０で消費されることになる。したがって、第１シールポット２３０から流動媒体を抜き出す構成により、原料（原料の残渣）が外部に排出されてしまう事態を回避することができる。

また、媒体返送部３４０が洗浄後の流動媒体を第２シールポット２５０に返送する構成により、ガス化炉２４０の温度低下を防止することができる。したがって、ガス化炉２４０によるガス化ガスの生成を安定して行うことが可能となる。

以上、添付図面を参照しながら実施形態について説明したが、本開示はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に技術的範囲に属するものと了解される。

例えば、上述した実施形態において、媒体抜出部３１０が第１シールポット２３０から流動媒体を抜き出す構成を例に挙げて説明した。しかし、媒体抜出部３１０は、サイクロン２２０とガス化炉２４０の間から流動媒体を抜き出せることができれば、第２配管２２２から抜き出してもよい。例えば、第２配管２２２ａのうち、鉛直上方から鉛直下方に傾斜している箇所に、排出管３１２を接続し、一時的に滞留した流動媒体を抜き出してもよい。

また、上記実施形態において、媒体返送部３４０が第２シールポット２５０に流動媒体を返送する構成を例に挙げて説明した。しかし、媒体返送部３４０は、ガス化炉２４０と燃焼炉２１０との間、例えば、第３配管２４６に流動媒体を返送してもよい。

また、上記実施形態において、媒体乾燥部３３０が、燃焼排ガスを用いて、洗浄後の流動媒体を乾燥させる構成を例に挙げて説明した。しかし、媒体乾燥部３３０は、燃焼排ガスを用いずに流動媒体を乾燥させてもよい。例えば、媒体乾燥部３３０をヒータで構成してもよい。また、媒体再生装置３００は、媒体乾燥部３３０を備えずともよい。

また、上記実施形態において、媒体洗浄部３２０が、排水処理器１４０によって処理された処理水で流動媒体を洗浄する構成を例に挙げて説明した。しかし、媒体洗浄部３２０は、流動媒体を洗浄できれば、処理水以外の水（例えば、工業用水）を利用してもよい。

本開示は、原料をガス化させてガス化ガスを生成するガス化ガス生成システムに利用することができる。

１００ガス化ガス生成システム
１３４第１ガス洗浄部（ガス洗浄部）
１３６第２ガス洗浄部（ガス洗浄部）
２１０燃焼炉
２２０サイクロン
２３０第１シールポット
２４０ガス化炉
２５０第２シールポット
３１０媒体抜出部
３２０媒体洗浄部
３３０媒体乾燥部
３４０媒体返送部

Claims

燃焼炉と、
前記燃焼炉の下流側に接続されたサイクロンと、
前記サイクロンの下流側に接続されたガス化炉と、
前記サイクロンと前記ガス化炉との間から流動媒体を抜き出す媒体抜出部と、
前記流動媒体を洗浄する媒体洗浄部と、
洗浄された前記流動媒体を前記ガス化炉と前記燃焼炉との間に返送する媒体返送部と、
を備えたガス化ガス生成システム。
前記サイクロンと前記ガス化炉との間には第１シールポットが設けられており、
前記媒体抜出部は、前記第１シールポットから流動媒体を抜き出す請求項１に記載のガス化ガス生成システム。
前記ガス化炉と前記燃焼炉との間には第２シールポットが設けられており、
前記媒体返送部は、前記第２シールポットに流動媒体を返送する請求項１または２に記載のガス化ガス生成システム。
洗浄された前記流動媒体を乾燥させる媒体乾燥部を備え、
前記媒体返送部は、乾燥された前記流動媒体を返送する請求項１から３のいずれか１項に記載のガス化ガス生成システム。
前記媒体乾燥部は、前記サイクロンによって分離された燃焼排ガスで前記流動媒体を乾燥させる請求項４に記載のガス化ガス生成システム。
前記ガス化炉によって生成されたガス化ガスを水で洗浄するガス洗浄部を備え、
前記媒体洗浄部は、前記ガス洗浄部で生じた排水で前記流動媒体を洗浄する請求項１から５のいずれか１項に記載のガス化ガス生成システム。