JP6776363B2 - 小結晶で高表面積のemm−30ゼオライト、それらの合成および使用 - Google Patents

小結晶で高表面積のemm−30ゼオライト、それらの合成および使用 Download PDF

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Description

(分野)
本発明は、EMM−30と称される、小結晶サイズ(small crystal size)で高表面積(high surface area)のMFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料、それらの合成ならびに吸着剤および有機変換反応用の触媒としてのそれらの使用に関する。
(背景)
結晶性材料は、IUPAC Commission on Zeolite Nomenclature(ゼオライト命名法に関するIUPAC委員会)の規則に従ってStructure Commission of the International Zeolite Association(国際ゼオライト協会の構造委員会)によって分類されている。この分類によれば、それらについ構造が確立されている、フレームワーク型ゼオライトおよび他の結晶性の微小孔性の結晶性材料は、3文字コードを割り当てられ、非特許文献1に記載されている。
それについて構造が確立されている1つの公知の結晶性材料は、最もとりわけZSM−5を含む、MFIフレームワーク型で指定される材料である。結晶性ZSM−5およびテトラプロピルアンモニウムカチオンを構造指向剤として使用するその従来の調製は、それらの全体開示が参照により本明細書に援用される、特許文献1および特許文献2によって教示されている。従来のZSM−5は、それを他の公知の結晶性材料から区別する独特のX線回折パターンを有し、様々な有機変換反応に有用な非常に万能な触媒である。
別の公知の結晶性材料構造は、その全体開示が参照により本明細書に援用される、特許文献3に詳細に記載されている、ZSM−11としても知られる、MELである。MFIおよびMELフレームワーク型の結晶性材料は、類似の構造を有し、相互成長材料または不規則材料としてゼオライト合成方法において頻繁に共生産されている。
ゼオライト上でのいくつかの酸触媒反応について、減少した結晶サイズ、それ故に増加した外表面積のゼオライトを用いることによって試薬および/または生成物分子の拡散距離を減らすことは有益である。これは、ゼオライトの形状選択的効果を減らすという効果を有し得るが、強い活性のみを必要とする反応にとっては、これは重要ではないかもしれない。例えば、外表面積の増加は、ゼオライトの細孔に入ることができないより大きい分子との反応を可能にする。加えて、いくつかの方法において、ZSM−5ゼオライトの外表面積が増加する場合に失活の速度が低下することが観察されている。例えば、非特許文献2、非特許文献3を参照されたい。外表面積の増加はまた、メタノール変換におけるプロピレン収率を向上させることが報告されている。例えば、非特許文献4を参照されたい。
小結晶ZSM−5の例は、特許文献4に開示されており、その特許においてZSM−5は、少なくとも約0.05ミクロン、好ましくは少なくとも約0.1ミクロンの第1および第2主要寸法と、約0.02ミクロン未満、好ましくは約0.01ミクロン未満のマイナー第3寸法とを有するプレートレットの形態にある。ZSM−5は、少なくとも3.0重量%のメシチレン収着能を有し、有機指向剤の不在下でか、n−プロピルアミンを指向剤として使用するかのどちらかで沈澱シリカをシリカ源として使用して製造される。
加えて、非特許文献5において、D.Serranoらは、テトラプロピルアンモニウム(TPA)イオンおよびフェニルアミノプロピルトリメトキシシランのデュアルテンプレートを使用する5〜10nmほどに小さいZSM−5結晶の合成を主張している。この方法において、シラン化剤は、ゼオライト結晶化の開始前に短い期間合成ゲルが予熱された後に導入される。Serranoらの図1は、結晶化生成物の略図を示すのに対して、図2は、生成物のTEM画像を示す。これらのTEM画像は、非常に小さい粒子を示すが、この研究からの生成物の粉末XRDにおけるピークは、それらの寸法が5〜10nmを超える結晶と一致している。
Ryooおよび共同研究者は、非特許文献6に、22個炭素原子アルキル鎖と6個の炭素原子のメチレン鎖によって分離された2つの第四級アンモニウム基とからなる単一テンプレート剤を使用することによる単一単位格子−厚いバージョンのZSM−5の合成を報告している。ここで、第四級アンモニウム基は、長いアルキル鎖によって互いに分離されている、単一単位格子ナノシート内に配置されている。Ryooらの図3は、厚さが単一単位格子である単層および多層バージョンのZSM−5結晶の略図を示す。
特許文献5は、EMM−20と称され、100m/gを超えた外表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定されるような)および独特のX線回折パタ−ンを有する結晶を含むZSM−5のフレームワーク構造を有する結晶性材料を記載している。この結晶性材料は、1,4−ビス(N−ペンチルピロリジニウム)ブタンジカチオン、1,5−ビス(N−ペンチルピロリジニウム)ペンタンジカチオン、または1,6−ビス(N−ペンチルピロリジニウム)ヘキサンジカチオンの1つ以上から選択される有機構造指向剤(Q)の存在下で合成され得る。
2012年に、Zhangらは、水酸化テトラブチルホスホニウム(TBPOH)および/またはテトラブチルアンモニウム(TBAOH)を構造指向剤(SDA)として使用する「階層状(self−pillared)」MFIまたはMFI/MEL型材料の合成を報告した。非特許文献7を参照されたい。報告された生成物のTEMは、幅が約1単位格子であるゼオライトの薄いシートからなるモルフォロジーを示す。薄いシートは、直角に互いに貫入し合ってそれらの間にサイズが2〜7nmであるメソ細孔を持った結晶の斜交平行ネットワークを形成している。ナノシートの結果として生じた「ハウス・オブ・カード」配置は、2〜7ナノメートルメソ細孔の永久ネットワークを生み出し、それは、高い外表面積および微小孔拡散距離の減少と一緒に、他のメソ多孔性のおよび従来のMFIゼオライトのそれらと比べて嵩高い分子に対するより高い反応速度を説明する。刊行物は、75以上のゲルSi/Alの材料のみを報告した。
米国特許第3,702,886号明細書 米国再発行特許第29,948号明細書 米国特許第3,709,979号明細書 米国特許第5,240,892号明細書 米国特許出願公開第2015/0298981号明細書
Atlas of Zeolite Framework Types,Sixth Revised Edition,Elsevier(2007) M.Choiら,Nature 461(2009)246−249 J.Kim,M.Choi,R.Ryoo,J.Catal.269(2010)219−228) M.Firooziら Catal.Commun.10(2009)1582−1585 Chem.Mater.21(2009)641−654 「Stable single−unit−cell nanosheets of zeolite MFI as active and long−lived,catalysts」,Nature,461,246−249(2009年9月10日) 「Synthesis of Self−Pillared Zeolite Nanosheets by Repetitive Branching」,Science,336(2012),1684−1687
これらの進歩にもかかわらず、より高い外表面積の新規超小結晶形態のMFIおよびMELフレームワーク型結晶性材料が、ならびにこれらの材料を合成することができるSi/Al範囲を広げることが依然として必要とされている。
(要旨)
本発明によれば、Zhangらによって観察された階層化(又はセルフピラー化(self-pillaring))効果は、特に75未満のゲルSi/Al比では再現することが困難であるが、高表面積MFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料は、ゲルの含水量および/または1族カチオンレベルを下げることによって、TBPOHおよびTBAOHをSDAとして使用して、低いSi/Al比で依然として製造できることが今見いだされた。加えて、高表面積MFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料は、また、新規SDA、5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオンおよび/または1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ヘキサンジカチオンを使用して製造できることが分かった。実際に、いくつかの場合には、以前に報告されたものよりも高い外表面積および/または全表面積を有するMFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料を製造することが可能であった。
したがって、第1態様において、本発明は、MFIおよび/またはMELのフレームワーク型を有する結晶性材料の製造方法にあり、当該製造方法は、
(i)結晶性材料を形成することができる合成混合物を調製すること(又は工程)であって、この合成混合物が、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリまたはアルカリ土類金属(M)源、水、ならびにテトラブチルアンモニウムカチオン、および/またはテトラブチルホスホニウムカチオンを含む指向剤(Q)を含み、この合成混合物が、
(a)10未満のHO/YOモル比、および
(b)150未満のYO/Xモル比
の少なくとも1つを有する、こと(又は工程)と;
(ii)この合成混合物を、結晶性材料の結晶が形成されるまで、80℃〜220℃の温度および1日〜28日の時間を含む結晶化条件下で加熱すること(又は工程)と;
(iii)工程(ii)からの結晶性材料を回収すること(又は工程)と
を含む。
第2態様において、本発明は、MFIおよび/またはMELのフレームワーク型を有する結晶性材料の製造方法にあり、当該製造方法は、
(i)結晶性材料を形成することができる合成混合物を調製すること(又は工程)であって、上記合成混合物が、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリまたはアルカリ土類金属(M)源、水、ならびに1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオン、および/または1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ヘキサンジカチオンを含む指向剤(Q)を含む、こと(又は工程)と;
(ii)この合成混合物を、結晶性材料の結晶が形成されるまで、80℃〜220℃の温度および1日〜28日の時間を含む結晶化条件下で加熱すること(又は工程)と;
(iii)工程(ii)からの結晶性材料を回収すること(又は工程)と
を含む。
第3態様において、本発明は、細孔構造内に1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオンおよび/または1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ヘキサンジカチオンを有する結晶性材料にある。
第4態様において、本発明は、
MFIおよび/またはMELのフレームワーク型と、
(n)YO:X(式中、nは、少なくとも20および2000未満、例えば150未満の数であり、Xは、三価元素であり、Yは、四価元素である)のモル関係を含む化学組成と
を有する結晶性材料にあり、この結晶性材料は、770m/gを超える全表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される全表面積)および/または400m/gを超える外表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される外表面積)を有する結晶を含む。
第5態様において、本発明は、式(I)または(II):
Figure 0006776363
を有するジカチオンを含む有機窒素化合物にある。
図1a、図1bは、それぞれ領域20〜28度2シータおよび5〜10度2シータにおける、米国特許第5,240,892号明細書に従って製造された従来のZSM−5製品のX線パターンの部分を示す。 図2は、実施例1の合成されたままの材料のX線回折(XRD)パターンを、実施例2の合成されたままの生成物および焼成生成物のそれらと比較する。 図3は、実施例1の生成物の走査電子顕微鏡(SEM)画像を示す。 図4は、実施例1の生成物の高分解能透過電子顕微鏡(HRTEM)画像を示す。 図5は、実施例7の合成が約125℃および約150℃の間の様々な温度で繰り返された場合に得られたXRDパターンを比較する。 図6は、(a)合成後および洗浄なしのならびに(b)焼成後の実施例14生成物のXRDパターンを比較する。 図7は、いかなる洗浄工程をもなしに単離された実施例14の製造されたままの生成物の27Al NMRスペクトル(底部)、その生成物の焼成バージョンのスペクトル(中間)、および重ね合せた2つのスペクトル(最上部)を示す。 図8は、約100℃での異なる加熱期間後に取られた実施例16の生成物のXRDパターンを示す。 図9は、約100℃で約16日の加熱後に得られた実施例16の製造されたままの生成物および焼成生成物のXRDパターンを比較する。 図10は、約100℃で約16日の加熱後に得られた実施例16の焼成生成物のTEM画像を示す。 図11は、100℃で約16日の加熱後に得られた実施例16の焼成生成物の結晶サイズ分布の棒グラフを示す。 図12は、実施例18(塩化アルミニウムをアルミニウム源として使用する)および実施例19(硝酸アルミニウムをアルミニウム源として使用する)の生成物のXRDパターンを比較する。 図13は、実施例22および23の生成物のXRDパターンを比較する。
(実施形態の詳細な説明)
MFIおよび/またはMELフレームワーク型を有する結晶性材料の製造方法が、そして独特にも高い外表面積および/または全表面積を有するそのような結晶性材料の小結晶形まで本明細書に記載される。
いくつかの実施形態において、本方法によって製造された結晶性材料の結晶相は、実質的にMFIフレームワーク型材料、特にZSM−5を含む。いくつかの実施形態において、結晶性材料の結晶相は、少なくとも5重量%、または少なくとも10重量%、または少なくとも20重量%、または少なくとも30重量%、または少なくとも40重量%、または少なくとも50重量%、または少なくとも60重量%、または少なくとも70重量%、または少なくとも80重量%、または少なくとも90重量%のMELフレームワーク型材料などの、ささいでない量のMELフレームワーク型材料、特にZSM−11を含有し得る。いくつかの実施形態において、本方法によって製造された結晶性材料の結晶相は、実質的に完全にMELフレームワーク型材料、特にZSM−11を含むことができる。
例えば、米国特許第3,702,886号明細書および米国再発行特許第29,948号明細書によって教示されるようにテトラプロピルアンモニウムカチオンの存在下で、従来とおりに合成されるときに、典型的な調製のZSM−5は、下の表1にリストアップされる特性線を含むX線回折パターンを有する。
Figure 0006776363
例えば、米国特許第3,709,979号明細書によって教示されるようにテトラブチルアンモニウムカチオンの存在下で、従来とおりに合成されるときに、典型的な調製のZSM−11は、下の表2にリストアップされる特性線を含むX線回折パターンを有する:
Figure 0006776363
本発明の方法によって製造された結晶性材料は、ZSM−5(MFI)におよび/またはZSM−11(MEL)材料に専ら関連したX線回折ピークを有し得る。特に、本発明の方法によって製造された結晶性材料は、その合成されたままの形態で、下の表3にリストアップされる特性ピーク最大値を含むX線回折パターンを示す。
Figure 0006776363
本明細書で報告されるX線回折データは、銅K−アルファ放射線を使用する、ゲルマニウム固体検出器を備えた、Xcelerator(商標)多重チャネル検出器付きのPanalytical X’Pert Pro(商標)回折システムで集められた。回折データは、約0.02度2シータ(ここで、シータはBragg角である)でステップ走査すること、そして各ステップについて約2秒の有効な計数時間を用いることによって記録された。面間隔、d−間隔は、オングストローム単位で計算され、線の相対強度、I/Iは、バックグラウンド上の、ピーク強度対最強線の強度の比を表す。強度は、Lorentzおよび分極効果について補正されない。相対強度は、記号vs=非常に強い(75〜100)、s=強い(50〜74)、m=中位(25〜49)およびw=弱い(0〜24)の観点から示される。ある種の実施形態において、w(弱い)を含むとして示される相対強度の1つ、いくつか、またはすべては、非ゼロ値であり得る。
ゼオライトのX線パターンにおけるある種の線は、ゼオライト結晶の関連寸法が減少するにつれて幅広くなる傾向があり得るし、その結果隣接線が重なり合い、それによって部分的解像ピークのみとして、または非解像の幅広いピークとして現れ始め得ることは知られている。本明細書に記載される結晶性材料、特に下に記載される超小結晶材料のある種の実施形態において、この線広がりは、X線パターンの約21.5°〜約26°の2シータ範囲(約4.13Å〜約3.42Åのd−間隔範囲)に単一の拡散複合形体(feature)のみがあることをもたらし得る。そのような場合に、24.0±0.30度2シータ近くの複合ピークの最大および24.6±0.30度2シータ近くの複合ピークの最大は、ショルダーとして現れることでできるか、または23.1(±0.20)度2シータ近くに最大を持った大きい拡散複合ピークの一部を形成することができるかのどちらかである。
典型的な(より大きい結晶子)ZSM−5試料の粉末XRDパターンにおいて、23.1度2シータ近くに最大を持った複合ピークおよび24.0度2シータ近くの複合ピークは、相互作用して明確に視認できる極小を形成することができる[図1(a)を参照されたい]。これらの典型的なZSM−5調製物において、この極小の相対バックグラウンド差引強度(I最小)対24.0度2シータ近くの複合ピークの相対バックグラウンド差引強度(I最大)の比は、ゼオライト生成物の製造されたままの形態および焼成形態の両方において0.40未満であり得る。本超小結晶材料のいくつかの実施形態において、極小は依然として、I最小/I最大比が少なくとも約0.70であり得る場合でさえも、24.0度2シータ近くの複合ピークから明確に識別され得る。ある種の実施形態において、結晶は、24.0度2シータ近くのピーク最大が、23.1(±0.20)度2シータ近くに最大を持った大きい拡散複合ピークの変曲点として現れることができるか、または24.0(±0.30)度2シータ近くの複合ピークについての極大または変曲点をまったく証明できないかのどちらかであるほど非常に小さくなり、そしてピークはひどく幅広くなり得る。これらの極端な場合に、I最小/I極大比は、1.0に近づくことができる。
同様に、典型的なZSM−5調製物において、7.96(±0.30)度2シータ近くに最大を持った複合ピーク、および8.90(±0.30)度2シータ近くに最大を持った複合ピークは、交差して明確に視認できる極小を形成することができ[図1(b)を参照されたい]、それにおいて、この極小の相対バックグラウンド差引強度(I最小)対8.90度2シータ近くの複合ピークの相対バックグラウンド差引強度(I最大)の比は、ゼオライトの製造されたままの形態および焼成形態の両方において0.20未満であり得る。対照的に、本発明の超小結晶材料の焼成バージョンにおいて、I最小/I最大比は、少なくとも0.20、または0.20超であり得る。(本発明の超小結晶での)ある種の状況において、I最小/I最大比は、少なくとも0.40であり得る。好ましい配向効果が存在し得る場合には、X線パターンへのそれらの影響を減らす/最小限にするように注意すべきであることが心にとどめられるべきである。
本明細書に記載される合成のほとんどは、結晶相の全表面積が少なくとも約500m/gであり得、外表面積が少なくとも約150m/gであり得るように、小結晶を有するMFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料を製造する。しかし、本発明のある種の超小結晶実施形態において、本明細書に記載される結晶性材料は、少なくとも約750m/g、例えば少なくとも約770m/gまたは、約800m/g〜約1500m/gなどの、少なくとも約800m/gの全表面積を有する結晶を含むことができる。あるいはまたはさらに、本明細書に記載される超小結晶性材料は、少なくとも350m/g、例えば少なくとも約400m/gまたは、約450m/g〜約1200m/gもしくは約500m/g〜約1000m/gなどの、少なくとも約450m/gの外表面積を有する結晶を含んでもよい。そのような値は、MFIおよびMELフレームワーク型結晶性材料についてのいかなる以前に報告されたものよりも高いと考えられる。本明細書で示されるすべての表面積値は、t−プロット法を用いる窒素物理吸着データから測定される。この方法の詳細は、その全内容が参照により本明細書に援用される、Lippens、B.C.およびDeBoer,J.H.、「Studies on pore systems in catalysts:V.The t method」、J.Catal.、4,319(1965)に見いだすことができる。
本明細書に記載される合成は、そのような超小結晶サイズ(例えば、50ミクロン未満)を製造するので、任意の結晶サイズ測定/分布は、透過モードでの透過電子顕微鏡(TEM)を用いて行われるべきであり(本明細書では行われる)。平均結晶サイズ(直径)測定結果は、少なくとも100個の異なる結晶に関して行われたサイズ(直径)測定結果の平均である。したがって、本発明のある種の超小結晶実施形態において、本明細書に記載される結晶性材料は、約35nm以下(例えば、約30nm以下、約25nm以下、約20nm以下、約15nm以下、もしくは約10nm以下)および任意選択的に少なくとも約3nm(例えば、少なくとも約4nm、少なくとも約5nm、少なくとも約6nm、少なくとも約7nm、少なくとも約8nm、少なくとも約9nm、もしくは少なくとも約10nm)の平均サイズ(直径)を有する結晶を含むことができる。さらにまたはあるいは、本明細書に記載される結晶性材料は、約50nmよりも上(例えば、約40nmよりも上、約35nmよりも上、約30nmよりも上、約25nmよりも上、約20nmよりも上、もしくは約15nmよりも上)のサイズが実質的にまったくない平均サイズ(直径)分布を有する結晶を含むことができる。サイズ分布とのこの関連で、「実質的にまったくない」は、3%以下、例えば、2%以下、1%以下、0.5%以下、または完全になしを意味すると理解されるべきである。
そのような超小結晶材料で、X線回折は、MFIまたはMEL構造を有するとして材料を特定するのは完全に十分であり得ないことが十分理解されるべきであり、その場合に高分解能透過電子顕微鏡法および電子回折などの、他の分析方法が、MFIおよび/またはMELフレームワーク型としての材料の特定を裏付けるために必要であり得る。
本明細書に記載されるMFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料は、モル関係:
:(n)YO
(式中、Xは、望ましくはアルミニウムを少なくとも含む、ホウ素、アルミニウム、鉄、および/またはガリウムなどの、任意選択の三価元素であり、Yは、望ましくはケイ素を少なくとも含む、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、チタン、および/またはジルコニウムなどの、四価元素であり、nは、少なくとも約20、例えば少なくとも約30または少なくとも約40である)
を含む組成を有することができる。三価元素が存在する、いくつかの実施形態において、nは、約2000以下、例えば約1000以下、または約500以下であってもよい。特に有利な実施形態において、nは、任意選択的に本明細書に上で考察されたnの1つ以上の最小値と並行して、約150未満であり得る。
本発明のある種のプロセス実施形態において、それらの超小結晶サイズ形態を含む、MFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料は、構造指向剤(Q)としてのテトラブチルアンモニウムカチオンおよび/またはテトラブチルホスホニウムカチオンの存在下で製造され得る。これらの実施形態において、次の比:(a)約10未満、例えば、約2〜約9などの、少なくとも約2のHO/YOモル比;および(b)約150未満、例えば、約30〜約140などの、少なくとも約20のYO/Xモル比の少なくとも1つ、いくつかの実施形態においては両方を含むモル組成を合成混合物が有するように、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリおよび/またはアルカリ土類金属(M)源、および水と一緒に、水酸化物および/またはハロゲン化物(例えば、フッ化物、塩化物、臭化物、および/またはヨウ化物、任意選択的にいくつかの実施形態においてはフッ化物を除く)などの、Qカチオン源を含有する合成混合物を製造することができる。
いくつかの実施形態において、合成混合物は、0〜約0.04未満、例えば0〜約0.0125、0超〜約0.04未満、または0超〜約0.0125のM/YOモル比を有してもよい。
特に、以下の実施例によって実証されるであろうように、高い全および外表面積の小結晶材料の製造は、HO/YOモル比および/またはM/YOモル比が下げられる場合に有利であり得る。
加えて、合成混合物は、下記を含むモル組成を有してもよい。
Figure 0006776363
本発明の他のプロセス実施形態において、それらの超小結晶サイズ形態を含む、MFIおよび/またはMELフレームワーク型材料は、構造指向剤(Q)としての1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオン、および/または1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ヘキサンジカチオンの存在下で製造され得る。そのようなジクォート(diquat)は、新規であると考えられ、それぞれ式(I)および(II):
Figure 0006776363
を有する。
式(I)および(II)の物質は、トリブチルアミンと、1,5−ジブロモペンタンまたは1,6−ジブロモヘキサンとの反応によって容易に製造することができる。
を構造指向剤として使用するこれらの他のプロセス実施形態において、次の比を含むモル組成を合成混合物が有するように、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリおよび/またはアルカリ土類金属(M)源、および水と一緒に、水酸化物および/またはハロゲン化物(例えば、フッ化物、塩化物、臭化物、および/またはヨウ化物、任意選択的にいくつかの実施形態においてはフッ化物を除く)などの、Qカチオン源を含有する合成混合物が製造される。
Figure 0006776363
再び、高い全および外表面積の小結晶材料の製造は、HO/YOモル比および/またはM/YOモル比が下げられる場合に有利であり得ることが予想外にも分かった。したがって、いくつかの実施形態において、HO/YOモル比は、約10以下、例えば約5以下であってもよい。さらにまたはあるいは、合成混合物のM/YOモル比は、約0.02以下、例えば約0.015以下または約0.0125以下であってもよい。
上に記載された合成混合物中の好適な四価元素Y源は、選択される元素に依存し得るが、Yがケイ素および/またはゲルマニウムを含む/であるいくつかの有利な実施形態においては、シリカ、ヒュームド・シリカ、沈澱シリカ、アルカリ金属シリケート、テトラアルキルオルトシリケート、酸化ゲルマニウムなど、またはそれらの組み合わせのコロイド懸濁液を含むことができる。合成混合物中に存在する場合、三価元素Xは普通アルミニウムを含み、好適なアルミニウム源は、とりわけ、水和アルミナおよび/または、硝酸アルミニウムなどの、水溶性アルミニウム塩を含むことができる。アルミニウムおよびケイ素の組み合わせ源は、メタカオリンなどの、粘土および/または処理粘土を含み得る。ゼオライトYなどのアルミノシリケートを含む、XおよびYの他の組み合わせ源が、さらにまたはあるいは使用されてもよい。
いくつかの実施形態において、合成混合物は、合成混合物の重量を基準として、望ましくは、約100wppm〜約5000wppmなどの、約0.01wppm〜約10000wppmの量で、先の合成からのZSM−5などの、結晶性材料の種晶を含んでもよい。
上の合成混合物からのMFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料の結晶化は、用いられる温度で結晶化が起こるのに十分な時間、例えば、約4時間〜約28日、約12時間〜約21日、または約1日〜約14日、約80℃〜約220℃、例えば約100℃〜約150℃の温度で、好適な反応容器、例えば、ポリプロピレンジャーまたはTeflon(テフロン)(商標)内張りもしくはステンレス鋼オートクレーブ中、静的、混転、または攪拌状態で実施することができる。その後、結晶は、液体から分離し、回収することができる。
所望の程度に、および材料のX/YOモル比に依存して、合成されたままの材料中の任意のアルカリおよび/またはアルカリ土類金属カチオンは、当技術分野において周知の技術に従って、例えば、他のカチオンとのイオン交換によって置き換えることができる。模範的な置き換えカチオンは、金属イオン、水素イオン、水素イオン前駆体(例えば、アンモニウムイオン)、またはそれらの混合物を含むことができる。ある種の実施形態において、特に好ましいカチオンは、ある種の炭化水素変換反応のために触媒活性を特に調整することができるものを含むことができる。これらは、水素、希土類金属、元素の周期表の2〜15族の金属、およびそれらの組み合わせを含むことができるが、それらに必ずしも限定されない。本明細書で用いるところでは、周期表族についての番号付けスキームは、Chemical and Engineering News,63(5),27(1985)に開示されているとおりである。
合成されたままの結晶性材料はさらに、その合成に使用された有機指向剤Q1/Q2のすべてまたは一部を除去するための処理にかけられてもよい。これは、例えば、合成されたままの材料を少なくとも1分間、一般に20時間以下少なくとも約370℃の温度に加熱することができる、熱処理によって便利にも達成する/試みることができる。熱処理のために亜大気圧を用いることができるが、大気圧および/または超大気圧が便宜上の理由で典型的には望ましいものであり得る。熱処理は、約925℃までの温度で行うことができる。あるいは、有機指向剤Q1/Q2は、オゾンでの処理によって除去することができる(例えば、Parikhら,Microporous and Mesoporous Materials 76(2004)17−22を参照されたい)。とりわけその金属、水素、および/またはアンモニウム形態での、有機物分解/有機物を含まない生成物は、ある種の有機(例えば、炭化水素)変換反応の触媒作用において特に有用であり得る。
本発明の結晶性材料は、水素化−脱水素化機能が望まれ得る場合、モリブデン、レニウム、ニッケル、コバルト、クロム、マンガン、ならびに/または貴金属(白金および/もしくはパラジウムなどの)を含むなどの、水素化成分と均質に組み合わせることができる。そのような成分は、共結晶化によって組成物中に存在し得るし、IIIA族元素(例えば、アルミニウム)が構造中に存在する程度に組成物中へ交換することができるし、その中へ含浸させることができるし、またはそれと均質に物理的に混ぜ合わせることができる。そのような成分は、例えば、白金の場合には、白金金属含有イオンを含有する溶液でシリケートを処理することによってなど、その中へ/その上へ含浸させることができる。したがって、この目的に好適な白金化合物は、塩化白金酸、塩化白金、および/または白金−アミン錯体を含有する様々な化合物を含むことができる。
本結晶性材料は、吸着剤としてか触媒としてかのどちらかで用いられる場合、少なくとも部分的に脱水されるべきである。これは、十分な時間、例えば、30分〜48時間、空気、窒素などの雰囲気中で、および大気圧、亜大気圧、または超大気圧で、例えば、200℃〜約370℃の範囲の温度に加熱することによって行うことができる。脱水は、さらにまたはあるいは、結晶性材料を減圧中にただ置くことによって室温で行うことができるが、十分な量の脱水を得るためにより長い時間が必要とされ得る。
本明細書に記載される結晶性材料は、吸着剤としてまたは、特にそのアルミノシリケート形態で、現在商業的/工業的に重要な多くを含めて、多種多様な有機化合物変換プロセスの1つ以上を容易にするための触媒として使用することができる。本発明の結晶性材料によって効果的に触媒することができる化学変換プロセスの例は有利には、比較的高い酸活性および大きい表面積が重要であることができるものであり得る。
多くの触媒の場合におけるように、本発明の結晶性材料を、有機変換プロセスに用いられる温度および他の条件に耐える別の材料と組み合わせることが望ましいかもしれない。そのような材料は、活性および不活性材料ならびに合成もしくは天然由来ゼオライト、ならびに粘土、シリカなどの無機材料、および/またはアルミナなどの他の金属酸化物を含むことができる。後者は、天然由来であってもよいし、ゲラチン質沈澱物またはシリカと他の金属酸化物との混合物を含むゲルの形態にあってもよい。それらの活性形態にある、本発明の結晶性材料と併せて(すなわち、それと組み合わせられたまたは新結晶の合成中に存在する)材料の使用は、ある種の有機変換プロセスにおける転化率および/または触媒の選択性を変える傾向があり得る。不活性材料は好適にも、所与のプロセスにおける転化量を制御するための希釈剤として働くことができ、その結果生成物は、反応速度を制御するための他の手段を用いることなく経済的におよび整然と得ることができる。これらの材料は、商業的運転条件下で触媒の破砕強度を向上させるために、天然由来粘土、例えば、ベントナイトおよびカオリン中へ組み入れられてもよい。上記材料(すなわち、粘土、酸化物など)は、触媒用のバインダーとして機能することができる。商業的使用において、粉末様材料への摩耗から触媒を防ぐことが特に望ましいことであり得るので、良好な破砕強度を有する触媒を提供することは望ましいことであり得る。これらの粘土および/または酸化物バインダーは、触媒の破砕強度を向上させる目的で通常は主に用いられてきた。
本発明の結晶性材料と複合化する(composited)ことができる天然由来粘土は、モンモリロナイトおよびカオリン系統を含むことができ、それらの系統は、サブベントナイト(subbentonite)、ならびにDixie(ディクシー)、McNamee(マクナミー)、Georgia(ジョージア)、およびFlorida(フロリダ)粘土として一般に知られるカオリンまたは主要鉱物構成要素がハロイサイト、カオリナイト、ディッカイド、ナクライト.もしくはアナウキサイトである他のものを含む。そのような粘土は、もともと採掘されたままの未加工状態で使用するか、または先ず焼成、酸処理、もしくは化学修飾にかけることができる。他の有用なバインダーは、シリカ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、ベリリア、アルミナ、およびそれらの混合物などの、無機酸化物を含むことができる。
前述の材料に加えて、本発明の結晶性材料は、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、シリカ−トリア、シリカ−ベリリア、シリカ−チタニアなどの多孔質マトリックス材料、またはシリカ−アルミナ−トリア、シリカ−アルミナ−ジルコニア シリカ−アルミナ−マグネシア、およびシリカ−マグネシア−ジルコニアなどの三元組成物と複合化することができる。
MFIおよび/またはMELフレームワーク型結晶性材料ならびに無機酸化物マトリックスの相対的割合は、シーブ含有量が複合材料の約1重量%〜約90重量%の範囲で、そして複合材料がビーズの形態で調製される場合特に、もっと普通に約2重量%〜約80重量%の範囲で、幅広く変わってもよい。
さらにまたはあるいは、本発明は、以下の実施形態の1つ以上を含むことができる。
実施形態1
MFIおよび/またはMELのフレームワーク型(framework-type)を有する結晶性材料(crystalline material)の製造方法であって、当該製造方法が、
(i)結晶性材料を形成することができる合成混合物を調製すること(又は工程)であって、合成混合物が、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリおよび/またはアルカリ土類金属(M)源、水、ならびにテトラブチルアンモニウムカチオンおよび/またはテトラブチルホスホニウムカチオンを含む指向剤(Q)を含み、合成混合物が、
(a)約10以下(例えば、約5以下)のHO/YOモル比;および
(b)約150未満のYO/Xモル比
の少なくとも1つを含む組成を有する、こと(又は工程)と;
(ii)合成混合物を、結晶性材料の結晶が形成されるまで、約80℃〜約220℃の温度および約4時間〜約28日の時間を含む結晶化条件下で加熱すること(又は工程)と;
(iii)工程(ii)からの結晶性材料を回収すること(又は工程)と
を含む方法。
実施形態2
MFIおよび/またはMELのフレームワーク型を有する結晶性材料の製造方法であって、当該製造方法が、
(i)結晶性材料を形成することができる合成混合物を調製すること(又は工程)であって、合成混合物が、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリおよび/またはアルカリ土類金属(M)源、水、ならびに1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオン、および/または1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ヘキサンジカチオンを含む指向剤(Q)を含む、こと(又は工程)と;
(ii)合成混合物を、結晶性材料の結晶が形成されるまで、約80℃〜約220℃の温度および約4時間〜約28日の時間を含む結晶化条件下で加熱すること(又は工程)と;
(iii)工程(ii)からの結晶性材料を回収すること(又は工程)と
を含む方法。
実施形態3
Xが、B、Al、FeおよびGaの1つ以上を含み、Yが、Si、Ge、Sn、TiおよびZrの1つ以上を含む、実施形態1または実施形態2の方法。
実施形態4
Xが、アルミニウムを含み、Yが、ケイ素を含む、実施形態1〜3のいずれか1つの方法。
実施形態5
合成混合物が、少なくとも約20のYO/Xモル比を有する、実施形態1〜4のいずれか1つの方法。
実施形態6
合成混合物のHO/YOモル比が、少なくとも約2、例えば、約2〜約9である、実施形態1〜5のいずれか1つの方法。
実施形態7
合成混合物のM/YOモル比が、約0.04以下、例えば、約0.02以下または約0.0125以下である、実施形態1〜6のいずれか1つの方法。
実施形態8
結晶化条件が、約100℃〜150℃の温度を含む、実施形態1〜7のいずれか1つの方法。
実施形態9
工程(iii)において回収された結晶性材料が、少なくとも約750m/gの全表面積(total surface area)(窒素物理吸着(nitrogen physisorption)に関してt−プロット法(t-plot method)によって測定される全表面積)および/または少なくとも約350m/gの外表面積(external surface area)(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される外表面積)を有する、実施形態1〜8のいずれか1つの方法。
実施形態10
合成混合物が、モル比の観点から、以下の範囲内:
少なくとも約20のYO/X
約2〜約60(例えば、約10以下または約5以下)のHO/YO
約0.1〜約0.8のOH/YO
0〜約0.4のM/YO;および
約0.05〜約0.4のQ/YO
の組成を有する、実施形態2〜9のいずれか1つの方法。
実施形態11
工程(iii)において回収された結晶性材料が、
(a)約35nm以下(例えば、約30nm以下、約25nm以下、約20nm以下、約15nm以下または約10nm以下)、および任意選択的に少なくとも約3nm(例えば、少なくとも約4nm、少なくとも約5nm、少なくとも約6nm、少なくとも約7nm、少なくとも約8nm、少なくとも約9nmまたは少なくとも約10nm)の平均サイズ(直径);および/または
(b)約50nmを超える(例えば、約40nmを超える、約35nmを超える、約30nmを超える、約25nmを超える、約20nmを超える、または約15nmを超える)サイズ(直径)を実質的に含まない平均サイズ(直径)分布
を有する、実施形態1〜10のいずれか1つの方法。
実施形態12
実施形態1〜11の1つ以上の方法によって製造されるMFIおよび/またはMELのフレームワーク型を有する結晶性材料。
実施形態13
例えば、細孔構造内に1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオン、および/または1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ヘキサンジカチオンを有するMFIおよび/またはMELのフレームワーク型を有する結晶性材料。
実施形態14
MFIおよび/またはMELのフレームワーク型と、
(n)YO:X(式中、nは、少なくとも約20および約2000未満の数であり、Xは、三価元素であり、Yは、四価元素である)のモル関係を含む化学組成と
を有する結晶性材料であって、結晶性材料が、約770m/gを超える全表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される全表面積)および/または約400m/gを超える外表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される外表面積)を有する結晶を含む、結晶性材料。
実施形態15
式(I)または(II):
Figure 0006776363
を有するジカチオンを含む有機窒素化合物。
本発明はこれから、以下の実施例および添付図面に関連してより具体的に記載される。
実施例1
Zhangら(Science,336(2012),1684−1687;上で考察された)によって報告されたものに似たMFI合成を、水酸化テトラブチルホスホニウム(TBPOH)を構造指向剤(SDA)として使用して、そして約0.30 TBPOH:約0.0125 NaOH:約0.005 Al:約1 SiO:約10 HO:約4 EtOHのモルゲル組成で行った。この合成におけるエタノールの存在は、シリカ源としてのテトラエチルオルトシリケート(TEOS)の使用から来る−いったん水中で加水分解すると、各TEOSはおおよそ4モルのエタノールを生成することができる。アルミナ源は硫酸アルミニウムであった。約115℃で混転条件下での約4日の加熱後に、この合成は、約620m/gの非常に高い全表面積および約317m/gの外表面積の生成物をもたらした。これらの高い表面積は、非常に小さい結晶の材料について予期されるものと一致するように思われる。
実施例1の合成されたままの生成物の粉末XRDパターンを、図3に示されるこの生成物のSEM画像とともに、図2に示す。SEMの倍率では、ファセットドメイン(faceted domain)はまったく識別できないように見える。図4は、同じ材料のHRTEM画像を示す。いくつかの画像を生成物の異なるエリアで集め、非晶質ドメインはまったく観察されなかった。Zhangらによって報告された生成物とは違って、ここでの生成物は、整然とした「階層状」」配置を示すように思われない。しかし、重なり合い、互いに異なる配向で配置されている多くの小結晶がある。様々な結晶の厚さは、一様であるようには思われない。場合によっては、厚さが約1〜2単位格子と思われる結晶を識別することができる。これらは、透明なボックスで取り囲まれている。これらの結晶内の縁は、MFIおよび/またはMEL材料の特徴を有するように思われる。中央画像に、MFIフレームワーク型の細孔を見ることができる−細孔間の距離は、他のMFIおよび/またはMEL材料におけるものと合致する。
実施例2
Ultrasil(商標)沈澱シリカをTEOSの代わりに、そして水酸化テトラブチルアンモニウム(TBAOH)を構造指向剤(SDA)として使用して実施例1の合成を繰り返した。ゲルのモル組成は、約0.30 TBAOH:約0.010 NaOH:約0.005 Al:約1 SiO:約10 HOであった。エタノールは、この調製についてまったく添加しなかった。この場合には、合成は、約115℃で加熱の約2日後に完了するように思われた。理論に制約されることなく、この合成は、異なるSDAおよび異なるシリカ源を使用したが、より速い結晶化時間は、シリカ源の異なる性質によるよりもむしろエタノールの不在によるものであり得た。この材料の全表面積は約760m/gであり、外表面積は約370m/gであった。全表面積は、Ryooら(Nature 461,246−249;本明細書で考察された)による単層調製物について測定された710m/gよりも著しく大きかったし、任意のMFI型材料について報告された最高の表面積のものであると考えられる。
図2は、実施例1および2の生成物の粉末XRDパターンを比較するものであり、各幅広い形体で非常に小さい結晶の材料の特徴を示しているように思われる。実施例2の生成物について図2に示される、焼成後に、微孔性材料にしばしば観察される低角度形体の相対強度の増加があるように見えた。小結晶寸法の1つの明らかな結果は、「普通の」ZSM−5とは異なるピークの多くがショルダーとして現れたか、またはそれらの隣接ピークとともに幅広いこぶを形成したことであり得る。とりわけ、第1低角度ピーク間の谷は、ピーク約8.9° 2シータの強度の半分よりも大きい強度を有する。
実施例3
TEOSをシリカ源として、アルミニウムイソプロポキシドをアルミニウム源として使用して、約23mLおよび約45mL混転オートクレーブ中で実施例1の合成を繰り返した。ゲルのモル組成は、約0.30 TBPOH:約0.0125 NaOH:約0.0125 Al:約1 SiO:約10 HO;約4 EtOHであった。ZSM−5のより多いアルミニウム調製物は一般に、より高いSi/Al比のものよりも多くの時間を要するので、約160℃のより高い温度を用いた。約8日の加熱、および約600℃でのその後の焼成後に、約640m/g全BET表面積および約381m/gの外表面積の生成物が得られた。生成物をその未焼成形態で分析した場合、同じ外表面積が測定されたが、微小孔体積はまったく観察されなかった(たぶん、SDAが微小孔内に残っていたため)。
実施例4
約300mLの、オーバーヘッド攪拌オートクレーブ中でより大きい規模で実施例3の合成を繰り返した。約8日の加熱後に、約419m/g全BETおよび約44m/g外表面積の生成物が得られた。これらの数は、ZSM−5の典型的な試料をより良く代表するものである。この材料の粉末パターンの中での形体は、混転反応器から調製された材料のものよりもはるかに鋭かった。理論に制約されることなく、結晶サイズの変動についてのより明確な説明は現在利用できないが、オーバーヘッド攪拌系からの生成物の表面積は頻繁に、混転系でのものよりも低く現れることができる。
実施例5および6
実施例3および4の合成を、しかし、それぞれ、硫酸アルミニウムおよびUltrasil(商標)をアルミニウムおよびシリカ源として使用し、その他の点では同一の条件下に繰り返した。混転条件下での約6日の加熱後に、約568m/g全および約191m/g外表面積の生成物が得られた。合成を約300mLの、オーバーヘッド攪拌オートクレーブ中で繰り返した場合、全および外表面積はそれぞれ、約510m/gおよび約129m/g(510/129)に減少した。再び、オーバーヘッド攪拌系は、より低い表面積の生成物をもたらすように思われたが、差は、TEOSおよびアルミニウムイソプロポキシドを利用する、実施例3および4の系で観察されたほど著しくなかった。
実施例7
硫酸アルミニウム/Ultrasil(商標)系において約100のSiO/Alモル比で異なる温度で一連の実験を行った。各合成は、TBPOHをSDAとして使用し、約10のHO/SiOモル比を含めて約300mLオーバーヘッド攪拌オートクレーブ中で実施した。約160℃で約4日の加熱後に、生成物は、比較的鋭い粉末XRDパターンを有するように思われた。合成を約3日間約150℃で繰り返した場合、生成物は、約503/約103m/gの全/外表面積を有した。約3日間約140℃では、全/外表面積は、約538/約169m/gに増加した。約3日間約125℃では、相当する数は、約534/約196m/gであった。したがって、約140℃から約125℃への温度の低下は、測定される全BET表面積の大きな変化をもたらすように思われなかったが、外表面積の寄与は高まるように思われた。図5は、合成温度が低下するにつれて、得られた生成物の粉末XRDパターンの形体に起こった広がりを示す。
実施例8
実施例7に似た、しかし約50のSiO/Alモル比を有するゲル組成で一連の実験を行った。約6日間の約160℃での約300mLオートクレーブ中の第1実験は、約514/約155m/gの全/外表面積の生成物を与えた。実験を繰り返したが、約4日間加熱したにすぎない場合、表面積数は、約551/約192m/gに増加した。約5日間約150℃で加熱された約23mL混転オートクレーブ中では、これらの数は、約592/約228m/gにさらに増加した。約2日間約140℃で、次にもう約3日間約150℃でゲルが加熱される段階的加熱シーケンスの約300mLオーバーヘッド攪拌オートクレーブ中で別の合成を行った。その場合には、全/外表面積は、約548/約205m/gであり、それは、約160℃で約4日の加熱から得られた生成物とほぼ同じものであった。
実施例9
混転の約125mL反応器中で実施例8の実験を繰り返した場合、観察される全/外表面積に明らかな傾向があるように思われた:約4日間約140℃では、結果として生じた表面積は、約496/約130m/gであり;約4日間約130では、結果として生じた表面積は、約538/約206m/gであり;約6日間約120℃では、結果として生じた表面積は、約559/約298m/gであった。
実施例10
実施例8の実験を再び、しかし約40および約30のより低いSiO/Alモル比で繰り返した。約40のSiO/Alモル比の実験は、TEOSおよびアルミニウムイソプロポキシドを用いた。約30のSiO/Alモル比の実験は、Ultrasil(商標)および硫酸アルミニウムを用いた。それぞれ、約170℃および約160℃で少なくとも約40日間加熱した後、両方の実験は、非晶質相のみを生成するように思われた。ゲルのおよび任意の得られた生成物中のより低いSi/Al比は、結晶化を支援するためにナトリウムのより高い濃度を必要とすることと典型的に相関することが注目された。これらの実験におけるゲルのNa/SiOモル比は、約0.0125で低いままであった。
約32のゲルSiO/Alモル比および約0.05の増加したNa/SiOモル比で実験を繰り返した場合、比較的鋭い、完全結晶性のZSM−5生成物が、約160℃および約140℃の両方でたった約3日の加熱後に得られた。約125℃でさえも、比較的鋭いZSM−5生成物が観察された。余分のナトリウムを系へ導入すると、より多いアルミニウム生成物が生じることを可能にし得るが、増加したナトリウムレベルはまた、より大きい結晶子の形成を促進し得る。それ故に、非常に小さい結晶が望まれるそのような系では、より大きい結晶の形成を防ぐために、ナトリウムの濃度を下げるおよび/または最小限にすることが重要であり得る。
実施例11
濃縮条件(HO/Si比 約3)下で、SDAとしてのTBAOHを使って約23mL規模で一連の実験を行った。これらの低いHO/Si比を得るために、約70℃でロータリーエバポレーターを用いて約40%TBAOH溶液から水を除去して約70%TBAOH溶液(約2.7ミリモル/g)を得た。典型的には、高温下でのSDA溶液の濃縮は、それがホフマン(Hofmann)脱離をもたらし得るので、望ましくない。この場合に、水の除去後にゲルの変色があるけれども、分解は、NMR分析によってまったく観察できなかった。約5日間の約150℃で約50のゲルSiO/Alモル比でのゼオライト合成は、約523/約237m/gの全/外表面積の生成物をもたらした。約4日間の約140℃で約64のSiO/Alモル比での同様な調製は、約533/約219m/gの全/外表面積の生成物をもたらした。
実施例12
水酸化1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンをSDAとして使用して一連の実験を行った。このC5−ジクォートは、約17.74gのトリブチルアミンを約60mLアセトニトリルに添加し、これに約10.0gの1,5−ジブロモペンタンの添加が続くことによって製造した。混合物を次に、密封Teflon(商標)容器内部で約80℃で約4日間加熱した。生成物を次に、溶媒の回転蒸発、エーテルでのオイルのリンシング、エーテルのデカンティング、次に固形分が生じるように思われるまで約80℃で真空(減圧)下での回転蒸発によって単離した。固形分を次に、アセトン/エーテル混合物中にスラリー化させ、濾過によって単離し、乾燥させた。生成物の純度は、Hおよび13C NMRによって検証した。固体を次に、Dowex(商標)交換樹脂を使用してその水酸化物形態へ変換した。
得られたSDA溶液を、約60質量%に回転蒸発によって濃縮し、次に、約0.30 C5−ジクォート:約0.0125 NaOH:約0.02 Al:約1 SiO:約3.5 HOのモル組成を有するゲルを調製するために使用した。約160℃で約9日の加熱後に、ゲルは、約548/約203m/gの全/外表面積の生成物をもたらした。HO/SiO比を約10に上げて実験を繰り返した場合、約160℃での約9日の加熱後に得られた生成物は、約589/約222m/gの全/外表面積を有した。別の実験において、約10のHO/SiO比のゲルの別の部分を約21日間約150℃で加熱し、約539/約205m/gの全/外表面積の生成物をもたらした。
ある種の実験において、C5−ジクォートSDAは、TBAOH SDAについてよりも多くの時間および/または高い温度を同様な構造生成物を提供するために必要とするように思われた。
実施例13
実施例12のものに似た、しかし水酸化1,6−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンをSDAとして使用して一連の実験を行った。C6−ジクォートは、C5−ジクォートと同じ方法で、しかし1,5−ジブロモペンタンの代わりに1,6−ジブロモヘキサンを使用することによって製造した。再び得られたSDA溶液を、以下の合成反応に使用する前に、約60質量%に回転蒸発によって濃縮した。
C6−ジクォートを使った第1合成は、約7日間約150℃で行った。約10のHO/SiO比で、生成物は、約512/約241m/gの全/外表面積を有し、約3.5のHO/SiO比で、生成物は、約577/約269m/gの全/外表面積を有した。約3.5のHO/SiO比での合成を約8日間約135℃で繰り返した場合、全/外表面積は、約548/約269m/gであった。次に、種晶を使用して約125℃および約115℃で約3.5のHO/SiO比で合成を繰り返した。約125℃で約4日の加熱後に、生成物は、約575/約289m/gの測定全/外表面積を有し、約115℃で約4日の加熱後に、生成物は、約594/約346m/gの測定全/外表面積を有した。
理論に制約されることなく、C5−ジクォートと比べて、C6−ジクォートで著しく減少した結晶化時間は、C6ジクォートのN中心間の距離が生成物フレームワーク型構造の交差点間のその距離に良好に合致し得ることを示唆している。さらに、結晶化はより迅速に成し遂げられ得るが、小結晶の材料を生成する能力は保持されているように思われた。
実施例14
高濃縮媒体での調製の生成物は典型的には、粒子がフリット漏斗によって典型的には濾過されるので、遠心分離、引き続く洗浄によって単離されてきた。実験はそれ故、結晶化ゲルを簡単に乾燥させ、次に(SDAを除去するために)全体生成物を焼成することによって遠心分離/洗浄工程を回避できるかどうかを試験擦るために行った。そのような簡略化仕上げ工程は、より大規模な生産にとって有利であり得る。そのような合理化された方法の1つの潜在的な懸念は、過剰のアルカリカチオンが塩基性化学種として機能する場合に、それらが焼成中にゼオライトを劣化させ得ることである。しかし、これは、比較的低いナトリウム/Si比で行われる、本発明の合成では起こりそうになかった。そのような合理化された方法についての別の潜在的な懸念は、ほとんどの系において、ささいでない量のシリカが一般に溶液に溶解したままである。そのような乾燥生成物一緒の焼成が非晶質材料をまたは他の望ましくない高シリカ相/希釈剤をもたらしそうであり得ることである。しかし、これもまた、比較的低い水対シリカ系では、過剰の水がほとんどなく、そして過剰の水が存在するものの多くは非常に小さい結晶性の生成物の表面に典型的には結合し、これらの濃縮系での収率を比較的高く(100%に近くに、または少なくとも90%超に)するので、本発明の合成において起こりそうになかった。
したがって、約8日間約135℃で生み出された実施例13の合成したままの生成物の一部を、生成物を洗浄することなく実行した。この生成物のXRDスペクトルを、図6の下方部分に示す。未洗浄生成物を次に、約600℃に焼成し、再びXRDによって分析した。得られたパターンを図5の最上部分に示し、生成物の有意な非晶化はまったく観察されなかった。図7は、SDAを除去するための約600℃への生成物の焼成前後の27Al NMRを示す。焼成前に、アルミニウムのすべては正四面体環境にあり得る。意外にも、焼成、イオン交換、および後続の再焼成後に、アルミニウムの約3〜4%のみが正八面体になっている。これに反して、典型的なZSM−5材料においては、アルミニウムの少なくとも10%が焼成後に正八面体になっている。
実施例15
いかなるナトリウムをも添加せずに、約5重量%のZSM−5種晶の存在下で、約60のゲルSiO/Alモル比および約3.5のHO/SiOモル比でC6−ジクォートを使った実施例13の方法を繰り返した。約135℃で約5日の加熱後に、約623/約337m/gの全/外表面積の結晶性生成物が得られた。ナトリウムをこの合成に使用しないことによって、生成物は、ゼオライトをその完全酸性形態に変換するための先行イオン交換か後続イオン交換かのいずれかを必要とすることなく、直接焼成することができた。
実施例16および17
約100℃の温度で約80(実施例16)および約150(実施例17)のSiO/Alモル比で実施例15の方法を繰り返した。それぞれ、約16日および約12日間加熱した後、生成物は、約861/約550m/gおよび約757/約409m/gの全/外表面積で得られた。温度を下げると、生成物の表面積の大きい増加をもたらすように思われたが、より多くの時間が結晶化のために必要とされるように思われた。図8は、異なる加熱期間後に取られた実施例16の生成物の粉末XRDパターンを示す。約10日と約16日との間で、中間角度形体のわずかな先鋭化が現れるにすぎず、合成が約10日で完了してしまった可能性があることを示唆した。図9は、約100℃で約16日の加熱後に得られた実施例16の製造されたままの生成物および焼成生成物のXRDパターンの比較を示す。図10は、約100℃で約16日の加熱後に得られた実施例16の焼成生成物のTEM画像を示し、図11は、結晶サイズ分布の棒グラフを示す。結晶は薄板の形態にあると考えられるので、これらの分布は、より大きい結晶寸法(直径)のみを表している可能性がある。図11における分布は、透過モードでのTEMによって行われた結晶サイズ測定結果を表す。試料を含有する各TEMグリッド/ホルダーのランダムエリアを使用した。ランダムエリアの数は、各試料について全エリアにおいて少なくとも100個の粒子を測定できるように、任意の所与のエリアでの解像可能な粒子の数に基づいて、変えることができる。いかなるバイアスをも排除するために、少なくとも3つのランダムエリアを用いることが最良の慣行である。目視検査中の各粒子に関して、各解像可能な粒子についての平均寸法(直径)を得るために適切な倍率を用いた。「平均」結晶寸法(直径)を表すために、すべての測定粒子のサイズ分布の平均を本明細書では用いた。
実施例18および19
実施例15〜17の結果は、比較的小さい濃度のナトリウムさえも結晶化時間におよび最終生成物モルフォロジーに劇的な影響を及ぼし得ることを実証する。アルミニウム源に関連したアニオンの潜在的な影響を研究するために、1つは、アルミニウム源として塩化アルミニウム(実施例18)を使用し、他は、硝酸アルミニウム(実施例19)を使用する、2つの他の点では同一の合成を行った。各場合に、合成ゲルは、実施例13のC6−ジクォートを用い、次のモル組成:約1 SiO:約0.04 Al+3:約3.5 HO:約0.15 SDA(OH):約0.0125 NaOHを有した。各合成は、使用されるライナー(それは典型的には、各使用後に水酸化ナトリウム中できれいにされる)からのナトリウムの異なる濃度の潜在的な影響を回避するために、新しいTeflon(商標)ライナーで実施した。両方の合成物を、混転条件下に同じ時間同じオーブン内部に入れ、次に、同じ期間加熱した(約150℃で約4日)後に取り出した。図12は、生成物のXRD粉末パターンを比較する。塩化アルミニウムを使った合成からの生成物のスペクトルは、硝酸アルミニウムから調製されたものよりもいくぶん幅広いピークを有するように思われた。その全表面積は、無視できる程度により高い(約530対約512m/g)が、その外表面積はほぼ50m/gより高かった。これらの孤立した結果は、合成におけるアニオンの種類および濃度がまたそれらのそれぞれの生成物のモルフォロジーに影響を及ぼすことを暗示する。
実施例20
約0.3から約0.14に減少したC6−ジクォート/SiOモル比および約5.5〜6に増加したHO/SiOモル比で実施例13の方法を繰り返した。加えて、Alcoa C−31(商標)アルミニウム(三水和物アルミナ)をアルミニウム源として使用した。約150℃で約8日間加熱した後、生成物は、約540/約240m/gの全/外表面積で得られた。
実施例21
実施例12のものに似た、しかし水酸化1,4−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ブタンをSDAとして使用して一連の実験を行った。C4−ジクォートは、C5−ジクォートと同じ方法で、しかし1,5−ジブロモペンタンの代わりに1,4−ジブロモブタンを使用することによって製造した。
C4ジクォート調製物は、約3.5および約10のHO/Si比下に約160℃で数週間の加熱後にいかなる結晶相をも生成するようには思われなかった。
実施例22および23
ホウ酸をホウ素源として、実施例13のC6ジクォートをSDAとして使用して、先行実施例において製造された材料の一連のボロシリケート類似体を製造した。第1合成(実施例22)は、約0.0125のNa/SiO比を使用し、約4日間約115℃で行った。生成物を焼成した後、それは、約319/約175m/gの全/外表面積を有した。理論に制約されることなく、この予期されるよりも低い表面積は、合成および後続生成物中のナトリウムのためであり得ると推測される。約6日間約115℃で加熱しながら、合成をアルカリカチオンなしで繰り返した場合(実施例23)、表面積は、約665/約483m/gに増加した。図13は、これらの調製のそれぞれの製造されたままの生成物の粉末XRDパターンを示す。アルミノシリケート系において以前に観察されたように、ナトリウムの不在は、より長い結晶化時間を暗示するように思われるが、その不在はまた、より幅広い粉末回折ピーク(はるかにより小さい結晶を示唆する)の生成物を生み出すように思われた。
実施例24および25
SDAとしてC6ジクォートよりもむしろTBAOHを使用して実施例16および17の調製を繰り返した。約100℃で約13日後に、約80のSiO/Alモル比の合成混合物(実施例24)は、約846/約518m/gの全/外表面積の生成物をもたらし、そして一方、約100℃で約11日後に、約150のSiO/Alモル比の合成混合物(実施例25)は、約821/約489m/gの全/外表面積の生成物をもたらした。
本発明は、特定の実施形態を参照して記載され、例示されてきたが、当業者は、本明細書に必然的に例示されない変形に本発明が役立つことを十分理解するであろう。こういう訳で、その結果、本発明の真の範囲を決定するという目的のためには添付の特許請求の範囲に専ら言及されるべきである。

Claims (11)

  1. MFIおよび/またはMELのフレームワーク型を有する結晶性材料の製造方法であって、前記製造方法が、
    (i)前記結晶性材料を形成することができる合成混合物を調製する工程であって、前記合成混合物が、四価元素Yの酸化物源、任意選択的に三価元素X源、任意選択的にアルカリおよび/またはアルカリ土類金属(M)源、水、ならびに1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオンを含む指向剤(Q)を含む、工程と;
    (ii)前記合成混合物を、前記結晶性材料の結晶が形成されるまで、80℃〜220℃の温度および4時間〜28日の時間を含む結晶化条件下で加熱する工程と;
    (iii)前記工程(ii)からの結晶性材料を回収する工程と
    を含む方法。
  2. Xが、B、Al、FeおよびGaの1つ以上を含み、Yが、Si、Ge、Sn、TiおよびZrの1つ以上を含む、請求項1に記載の方法。
  3. Xが、アルミニウムを含み、Yが、ケイ素を含む、請求項1〜2のいずれか一項に記載の方法。
  4. 前記合成混合物が、少なくとも20のYO/Xモル比を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記合成混合物のHO/YOモル比が、少なくとも2である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記合成混合物のM/YOモル比が、0.04以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記結晶化条件が、100℃〜150℃の温度を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記工程(iii)において回収された結晶性材料が、少なくとも750m/gの全表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される全表面積)および/または少なくとも350m/gの外表面積(窒素物理吸着に関してt−プロット法によって測定される外表面積)を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記合成混合物が、モル比の観点から、以下の範囲内:
    少なくとも20のYO/X
    2〜60のHO/YO
    0.1〜0.8のOH/YO
    0〜0.4のM/YO;および
    0.05〜0.4のQ/YO
    の組成を有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記工程(iii)において回収された結晶性材料が、
    (a)35nm以下の平均サイズ(直径);および/または
    (b)50nmを超えるサイズ(直径)を実質的に含まない平均サイズ(直径)分布
    を有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 細孔構造内に1,5−ビス(N−トリブチルアンモニウム)ペンタンジカチオンを有する結晶性材料。
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