JP6769583B2 - Manufacturing method of molded products and resin film used in the manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、成形品の製造方法および当該製造方法に使用される樹脂フィルムに関する。より具体的には、特定の樹脂フィルムを用いて、エージングまたはアニーリング処理が施された成形品を製造する方法、また、その製造方法に用いられる特定の樹脂フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing a molded product and a resin film used in the method. More specifically, the present invention relates to a method for producing a molded product that has been subjected to an aging or annealing treatment using a specific resin film, and a specific resin film used in the production method.

各種の成形品(プラスチック成形品、金属成形品など)の製造においては、成形品の「後加熱」が行われることがある。
一例として、特に熱硬化性樹脂を用いた成形品の製造において、未硬化樹脂の硬化を完全にしたり、未反応の化学種を失活させたりすることを意図した後加熱が行われる場合がある。
別の一例として、成形による歪みや応力の緩和のために、後加熱が行われる場合がある。
これらの加熱は、「エージング」「アニーリング」などと呼ばれることがある。
In the manufacture of various molded products (plastic molded products, metal molded products, etc.), "post-heating" of the molded products may be performed.
As an example, especially in the production of molded articles using thermosetting resins, heating may be performed after the intention is to completely cure the uncured resin or inactivate unreacted chemical species. ..
As another example, post-heating may be performed to relieve strain and stress due to molding.
These heatings are sometimes referred to as "aging", "annealing" and the like.

一例として、特許文献1には、樹脂成形品、特に熱可塑性樹脂成形品の残留応力を、遠赤外線加熱を用いて低減した成形品の製造法が記載されている。 As an example, Patent Document 1 describes a method for producing a molded product in which the residual stress of a resin molded product, particularly a thermoplastic resin molded product, is reduced by using far-infrared heating.

別の一例として、特許文献2には、板状樹脂成形品のアニール処理において、アニール処理製品を、歩留りよく、安価に、しかも、省力化や省スペース化を図りながら製造することができる加熱処理方法が記載されている。 As another example, in Patent Document 2, in the annealing treatment of a plate-shaped resin molded product, a heat treatment capable of producing the annealed product with good yield, low cost, and labor saving and space saving can be performed. The method is described.

さらに別の一例として、特許文献3には、所定形状を有する基材の表面に、多数の泡状穴部を形成して吸着面とした発泡樹脂シートを固定し、その発泡樹脂シートの吸着面に熱可塑性樹脂板を吸着固定させて一体化して、加熱し冷却することを特徴とする、熱可塑性樹脂板のアニーリング方法が記載されている。 As yet another example, in Patent Document 3, a foamed resin sheet having a large number of foam-like holes formed on the surface of a base material having a predetermined shape and used as a suction surface is fixed, and the suction surface of the foamed resin sheet is fixed. Describes a method for annealing a thermoplastic resin plate, which comprises adsorbing and fixing the thermoplastic resin plate to the surface, integrating the thermoplastic resin plate, and heating and cooling the resin plate.

特開平3−286843号公報JP-A-3-268843 特開平11−172026号公報JP-A-11-172026 特開2008−55624号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-55624

成形品の後加熱において、例えば、小さい成形品の効率的な処理、後加熱時の汚染防止、成形品の加熱装置(熱源)との接触防止などの観点から、成形品をフィルムで支持して(より好ましくは、成形品を上下から2枚のフィルムで挟持して)熱処理する方法が考えられる。
しかし、本発明者が知る限りにおいて、そのような方法は未だ具体化されていなかった。また、そのような方法に好適に適用されるフィルムはこれまでなかった。
In post-heating of a molded product, the molded product is supported by a film from the viewpoints of efficient treatment of a small molded product, prevention of contamination during post-heating, prevention of contact with a heating device (heat source) of the molded product, and the like. A method of heat treatment (more preferably, the molded product is sandwiched between two films from the top and bottom) can be considered.
However, as far as the inventor knows, such a method has not yet been materialized. Moreover, there has been no film suitable for such a method.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明の目的の1つは、成形品の後加熱(エージング処理やアニーリング処理など)の新たな方法を提供することである。また、本発明の目的の1つは、その新たな方法に好適に適用されるフィルムを提供することである。 The present invention has been made in view of such circumstances. One of the objects of the present invention is to provide a new method for post-heating (aging treatment, annealing treatment, etc.) of a molded product. Also, one of the objects of the present invention is to provide a film that is suitably applied to the new method.

本発明者らは、検討の結果、以下に提供される発明を完成させた。 As a result of the study, the present inventors have completed the inventions provided below.

本発明によれば、
エージングまたはアニーリング処理が施された成形品の製造方法であって、
成形品を準備する準備工程と、
前記成形品を、樹脂フィルムにより支持しながら加熱して、エージングまたはアニーリング処理を施す加熱工程とを含み、
前記樹脂フィルムの縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下であり、
前記樹脂フィルムの波長500nmの光の透過率は38%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である、成形品の製造方法
が提供される。
According to the present invention
A method for manufacturing a molded product that has been aged or annealed.
The preparatory process for preparing the molded product and
A heating step of heating the molded product while supporting it with a resin film to perform an aging or annealing treatment is included.
The rate of change in thermal dimension from 23 ° C to 160 ° C in the vertical direction of the resin film is 10% or less.
Provided is a method for producing a molded product, wherein the resin film has a transmittance of light having a wavelength of 500 nm of 38% or more and a haze value of 40% or less.

また、本発明によれば、
成形品を加熱してエージングまたはアニーリング処理を施す際に、当該成形品を支持するために用いられる樹脂フィルムであって、
前記樹脂フィルムの縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下であり、
前記樹脂フィルムの波長500nmの光の透過率は38%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である、樹脂フィルム
が提供される。
Further, according to the present invention,
A resin film used to support a molded product when it is heated and subjected to an aging or annealing treatment.
The rate of change in thermal dimension from 23 ° C to 160 ° C in the vertical direction of the resin film is 10% or less.
Provided is a resin film having a transmittance of light having a wavelength of 500 nm of 38% or more and a haze value of 40% or less.

本発明によれば、成形品の後加熱(エージング処理やアニーリング処理など)の新たな方法が提供される。また、その新たな方法に好適に適用されるフィルムが提供される。 According to the present invention, a new method for post-heating (aging treatment, annealing treatment, etc.) of a molded product is provided. Also provided are films that are suitably applied to the new method.

上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。 The above-mentioned objectives and other objectives, features and advantages are further clarified by the preferred embodiments described below and the accompanying drawings below.

成形品の製造方法の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the example of the manufacturing method of a molded article.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
煩雑さを避けるため、同一図面内に同一の構成要素が複数ある場合には、その1つのみに符号を付し、全てには符号を付さない場合がある。
図面はあくまで説明用のものである。図面中の各部材の形状や寸法比などは、必ずしも現実の物品と対応するものではない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In the drawings, similar components are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
In order to avoid complication, when there are a plurality of the same components in the same drawing, only one of them may be coded and all of them may not be coded.
The drawings are for illustration purposes only. The shape and dimensional ratio of each member in the drawing do not necessarily correspond to the actual article.

本明細書中、数値範囲の説明における「a〜b」との表記は、特に断らない限り、a以上b以下のことを表す。例えば、「1〜5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」を意味する。 In the present specification, the notation "a to b" in the description of the numerical range means a or more and b or less unless otherwise specified. For example, "1 to 5% by mass" means "1% by mass or more and 5% by mass or less".

本明細書における基(原子団)の表記において、置換か無置換かを記していない表記は、置換基を有しないものと置換基を有するものの両方を包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有しないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
In the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation that does not indicate whether it is substituted or unsubstituted includes both those having no substituent and those having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
The notation "(meth) acrylic" herein represents a concept that includes both acrylic and methacrylic. The same applies to similar notations such as "(meth) acrylate".

<成形品の製造方法>
本実施形態の成形品の製造方法は、エージングまたはアニーリング処理が施された成形品の製造方法であり、成形品を準備する準備工程と、その成形品を、樹脂フィルムにより支持しながら加熱して、エージングまたはアニーリング処理を施す加熱工程とを含む。
ここでの樹脂フィルムの、縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下であり、波長500nmの光の透過率は38%以上であり、かつ、ヘーズ値は40%以下である。
<Manufacturing method of molded products>
The method for producing a molded product of the present embodiment is a method for producing a molded product that has been subjected to an aging or annealing treatment, and is a preparatory step for preparing the molded product and heating the molded product while supporting it with a resin film. Including a heating step of performing an aging or annealing treatment.
The thermal dimensional change rate of the resin film in the vertical direction from 23 ° C. to 160 ° C. is 10% or less, the transmittance of light having a wavelength of 500 nm is 38% or more, and the haze value is 40% or less. Is.

この成形品の製造方法では、成形品を、使い捨て可能な樹脂フィルムにより支持しながら加熱する。よって、成形品に汚れが付きにくいという利点がある。(なお、成形品への汚れの付きにくさについては、後述のように、成形品を2枚の樹脂フィルムで挟持することで一層高められる。)
また、樹脂フィルムの透明性が高い(波長500nmの光の透過率が38%以上であり、かつ、ヘーズ値は40%以下である)ことは、加熱時の成形品の視認性が優れるという利点につながる。これは、成形品の目視検査をしやすいという点で好ましい。
加えて、加熱による樹脂フィルムの変形が無いまたは小さい(樹脂フィルムの、縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率が10%以下である)ことにより、特に加熱時に、成形品の重さで樹脂フィルムがたわむことが抑えられる。これは、加熱工程の際、フィルムおよび/または成形品が、加熱装置内の熱源に触れにくいという点で好ましい。
In this method for manufacturing a molded product, the molded product is heated while being supported by a disposable resin film. Therefore, there is an advantage that the molded product is less likely to get dirty. (It should be noted that the resistance to stains on the molded product can be further enhanced by sandwiching the molded product between two resin films, as described later.)
Further, the high transparency of the resin film (the transmittance of light having a wavelength of 500 nm is 38% or more and the haze value is 40% or less) has an advantage that the visibility of the molded product at the time of heating is excellent. Leads to. This is preferable in that it is easy to visually inspect the molded product.
In addition, since the resin film is not deformed or is small due to heating (the rate of change in thermal dimension of the resin film from 23 ° C. to 160 ° C. in the vertical direction is 10% or less), the weight of the molded product is particularly heavy during heating. By doing so, the resin film is prevented from bending. This is preferable in that the film and / or the molded product does not easily come into contact with the heat source in the heating device during the heating step.

本実施形態の成形品の製造方法についてより具体的に説明する。 The method for producing the molded product of the present embodiment will be described more specifically.

(準備工程)
準備工程では、成形品を準備する。
成形品の素材としては、典型的には金属やプラスチックなどである。
成形品の一例として、金属板をプレス成形した物品(部品、筐体など)が挙げられる。より具体的には、電子機器用の金属筐体、部品、自動車用の部品等が挙げられる。
成形品の別の一例として、溶融した樹脂を金型に流し込んで形成された物品が挙げられる。より具体的には、自動車用の樹脂製部品等が挙げられる。
もちろん、成形品は上記に明示されたものに限定されない。例えば、成形により歪みや残留応力が生じておりアニーリング処理が必要な成形品、樹脂の後硬化を完全にするためにエージング処理が必要な成形品などを挙げることができる。
(Preparation process)
In the preparation process, a molded product is prepared.
The material of the molded product is typically metal or plastic.
An example of a molded product is an article (part, housing, etc.) obtained by press-molding a metal plate. More specifically, metal housings and parts for electronic devices, parts for automobiles, and the like can be mentioned.
Another example of a molded product is an article formed by pouring molten resin into a mold. More specifically, resin parts for automobiles and the like can be mentioned.
Of course, the molded product is not limited to the one specified above. For example, a molded product in which distortion and residual stress are generated by molding and an annealing treatment is required, and a molded product in which an aging treatment is required to complete the post-curing of the resin can be mentioned.

ここでの「準備」とは、広義に解釈されるものである。つまり、後述する加熱工程を行う者自身が、成形品を製造して準備する態様は、当然、「準備工程」に含まれる。のみならず、後の加熱工程を行う者とは異なる者が製造した成形品を譲り受けて準備する態様も「準備」に含まれる。
成形品を準備する方法は特に限定されない。例えば、成形品を製造する方法については、公知の種々の成形技術を用いることができる。
"Preparation" here is interpreted in a broad sense. That is, the mode in which the person who performs the heating step described later himself manufactures and prepares the molded product is naturally included in the "preparation step". Not only that, the "preparation" also includes a mode in which a molded product manufactured by a person different from the person performing the subsequent heating step is transferred and prepared.
The method for preparing the molded product is not particularly limited. For example, as a method for producing a molded product, various known molding techniques can be used.

(加熱工程(図1(A))
図1(A)は、加熱工程の一例を模式的に示す図である。
図1(A)は、樹脂フィルム3により支持された成形品5(樹脂フィルム3の上面に載置された成形品5)が、加熱装置1の中で加熱されている状態を模式的に示している。
(Heating step (FIG. 1 (A))
FIG. 1A is a diagram schematically showing an example of a heating step.
FIG. 1A schematically shows a state in which the molded product 5 supported by the resin film 3 (molded product 5 placed on the upper surface of the resin film 3) is heated in the heating device 1. ing.

加熱装置1は、例えば、角筒状の加熱部を有する。換言すると、加熱装置1は、四角柱または直方体の6面のうち、対向する2面を除いた4面を少なくとも備える、角筒状の加熱部を有する。その筒状の加熱部の内部に、樹脂フィルム3により支持された成形品5を挿入することで、成形品5を加熱することができる(なお、図1(A)では、説明のため、角筒状の加熱部の4面のうち、図の手前側の面は省略されている)。
もちろん、加熱装置1の加熱部の形状は、角筒状に限定されない。加熱装置1は、樹脂フィルム3により支持された成形品5を加熱できるものである限り、任意のものであることができる。
The heating device 1 has, for example, a square tubular heating portion. In other words, the heating device 1 has a square tubular heating portion including at least four of the six surfaces of a prism or a rectangular parallelepiped, excluding two opposing surfaces. By inserting the molded product 5 supported by the resin film 3 into the tubular heating portion, the molded product 5 can be heated (note that in FIG. 1A, the corners are for illustration purposes. Of the four surfaces of the tubular heating unit, the front surface in the figure is omitted).
Of course, the shape of the heating portion of the heating device 1 is not limited to the square tubular shape. The heating device 1 can be arbitrary as long as it can heat the molded product 5 supported by the resin film 3.

図1(A)において、成形品5が上面に載置された樹脂フィルム3は、例えば、図の左右方向に張力が加えられることで、自重および成形品5による重さによるたるみ(たわみ)が抑えられた状態にある(左右から張力を加える手段については、図1(A)には明示されていない)。 In FIG. 1A, the resin film 3 on which the molded product 5 is placed has, for example, slack (deflection) due to its own weight and the weight of the molded product 5 due to tension being applied in the left-right direction of the drawing. It is in a suppressed state (means for applying tension from the left and right are not specified in FIG. 1 (A)).

加熱工程は、任意の方法により行われてよいが、例えば、赤外線照射により行われる。
すなわち、加熱装置1として、好ましくは「IRオーブン」などと呼ばれる、赤外線により物品を加熱する機構のものを用いることができる。
赤外線の波長は、成形品5を加熱できる限りにおいて特に限定されない。典型的には赤外線は遠赤外線である。
The heating step may be performed by any method, for example, by infrared irradiation.
That is, as the heating device 1, a device having a mechanism for heating an article by infrared rays, preferably called an "IR oven" or the like, can be used.
The wavelength of infrared rays is not particularly limited as long as the molded product 5 can be heated. Infrared is typically far infrared.

加熱工程において、成形品5が加熱される温度は特に限定されず、加熱の目的に応じて適宜設定すればよい。一例として、一般的なエージングまたはアニーリングにおいては、成形品5は140〜180℃に加熱される。
なお、成形品5がどの程度加熱されているかは、例えば、放射温度計などにより知ることができる。
In the heating step, the temperature at which the molded product 5 is heated is not particularly limited, and may be appropriately set according to the purpose of heating. As an example, in general aging or annealing, the part 5 is heated to 140-180 ° C.
The degree to which the molded product 5 is heated can be known by, for example, a radiation thermometer.

加熱工程の時間は特に限定されず、加熱の目的に応じて適宜設定すればよい。一例として、一般的なエージングまたはアニーリングにおいては、1〜120分程度である。より具体的には、成形品5が140〜180℃に加熱される時間は、10〜60分程度である。もちろん、この時間は目安である。 The time of the heating step is not particularly limited, and may be appropriately set according to the purpose of heating. As an example, in general aging or annealing, it takes about 1 to 120 minutes. More specifically, the time for the molded product 5 to be heated to 140 to 180 ° C. is about 10 to 60 minutes. Of course, this time is a guide.

加熱工程において、樹脂フィルム3及びその上の成形品5は、静止していてもよいし、動いていてもよい。大量の成形品5を効率的・連続的に加熱処理するため、例えば、樹脂フィルム3を図中の左方向から右方向(または左方向から右方向)にゆっくりと移動させながら成形品5を加熱し、そして、加熱装置1から出てきた成形品5を自動または手動で樹脂フィルム3から離すようにしてもよい。 In the heating step, the resin film 3 and the molded product 5 on the resin film 3 may be stationary or may be moving. In order to efficiently and continuously heat-treat a large amount of molded product 5, for example, the molded product 5 is heated while slowly moving the resin film 3 from the left direction to the right direction (or from the left direction to the right direction) in the drawing. Then, the molded product 5 coming out of the heating device 1 may be automatically or manually separated from the resin film 3.

・成形品5
成形品5としては、前述した成形品を挙げることができる。よって改めての説明は省略する。
・ Molded product 5
Examples of the molded product 5 include the above-mentioned molded product. Therefore, a new description will be omitted.

・樹脂フィルム3
前述しているが、加熱工程で用いられる樹脂フィルム3は、以下の性質を有する。
(1)樹脂フィルム3の縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下である。
(2)樹脂フィルム3の波長500nmの光の透過率は38%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である。
・ Resin film 3
As described above, the resin film 3 used in the heating step has the following properties.
(1) The rate of change in thermal dimensions of the resin film 3 from 23 ° C. to 160 ° C. in the vertical direction is 10% or less.
(2) The transmittance of light having a wavelength of 500 nm of the resin film 3 is 38% or more, and the haze value is 40% or less.

なお、本明細書における「縦方向」の語句は、樹脂フィルムの技術分野において通常用いられる「縦方向」と同じ意味で用いられる(「縦方向」は、流れ方向、MD方向(Machine Directionの略)などとも表記される)。図1(A)および後述の図1(B)においては、通常、図の左右方向、すなわち、フィルムの長辺方向が「縦方向」である。 The term "vertical direction" in the present specification is used in the same meaning as "vertical direction" usually used in the technical field of resin films ("vertical direction" is an abbreviation for flow direction and MD direction (Machine Direction). ) Etc.). In FIG. 1 (A) and FIG. 1 (B) described later, the left-right direction of the figure, that is, the long side direction of the film is usually the “vertical direction”.

上記(1)の熱寸法変化率は、10%以下であればよいが、好ましくは8.5%以下、より好ましくは5%以下である。 The thermal dimensional change rate of the above (1) may be 10% or less, but is preferably 8.5% or less, and more preferably 5% or less.

熱寸法変化率は、具体的には、熱機械分析装置(Thermomechanical Analyzer)を用いて、以下条件で測定することができる。そして、測定前のサンプルの長さをLとし、測定後のサンプルの長さをLとしたとき、{(L−L)/L}×100の値を熱寸法変化率(%)とする。
・温度:23〜160℃
・昇温:5℃/min
・雰囲気:窒素ガス
・モード:引張
・荷重:49mN
・サンプル:樹脂フィルム3を、縦方向10mm×横方向4mmに切り出したものを使用
Specifically, the rate of change in thermal dimensions can be measured under the following conditions using a thermomechanical analyzer (Thermomechanical Analyzer). Then, when the length of the sample before measurement is L 1 and the length of the sample after measurement is L 2 , the value of {(L 2- L 1 ) / L 1 } × 100 is the thermal dimension change rate ( %).
・ Temperature: 23-160 ℃
・ Temperature rise: 5 ° C / min
・ Atmosphere: Nitrogen gas ・ Mode: Tensile / Load: 49mN
-Sample: A resin film 3 cut out in a length direction of 10 mm and a width direction of 4 mm is used.

上記(2)の波長500nmの光の透過率は、38%以上であればよいが、好ましくは42%以上、より好ましくは44%以上である。上限は特にないが、現実的には95%以下である。
ヘーズ値は、40%以下であればよいが、好ましくは35%以下、より好ましくは30%以下である。
波長500nmの光の透過率および/またはヘーズ値を適切に調整することで、成形品の視認性をより高めることができる。特に、後述の図1(B)に示されるように、成形品5を2枚の樹脂フィルム3で挟持する場合に、視認性が高いことは重要である。
The transmittance of the light having a wavelength of 500 nm in (2) may be 38% or more, but is preferably 42% or more, more preferably 44% or more. There is no particular upper limit, but in reality it is 95% or less.
The haze value may be 40% or less, but is preferably 35% or less, more preferably 30% or less.
By appropriately adjusting the transmittance and / or haze value of light having a wavelength of 500 nm, the visibility of the molded product can be further improved. In particular, as shown in FIG. 1 (B) described later, it is important that the molded product 5 has high visibility when it is sandwiched between the two resin films 3.

波長500nmの光の透過率については、例えば、公知の分光光度計により測定することができる。
ヘーズ値については、JIS K 7361に基づき、例えば市販のヘーズメータにより測定することができる。
The transmittance of light having a wavelength of 500 nm can be measured by, for example, a known spectrophotometer.
The haze value can be measured by, for example, a commercially available haze meter based on JIS K 7361.

成形品の視認性という点では、樹脂フィルム3の、JIS K 7361で規定される全光線透過率は、好ましくは65%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは75%以上である。
通常求められる視認性のレベルからすれば、樹脂フィルム3は、上記(1)および(2)を満たせば十分な場合が多い。しかし、特に高い視認性が求められる場合は、全光線透過率(即ち、可視光全体での光の透過率)が70%以上である樹脂フィルム3を用いることが好ましい。
In terms of visibility of the molded product, the total light transmittance of the resin film 3 defined by JIS K 7361 is preferably 65% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 75% or more.
From the level of visibility usually required, it is often sufficient for the resin film 3 to satisfy the above (1) and (2). However, when particularly high visibility is required, it is preferable to use the resin film 3 having a total light transmittance (that is, a light transmittance of the entire visible light) of 70% or more.

一態様として、樹脂フィルム3は、基材層と、耐熱樹脂層の少なくとも2層を備える。
さらに言うと、樹脂フィルム3は、表と裏の両面に耐熱樹脂層が存在し、その2つの耐熱樹脂層の間に基材層が存在する3層構成であってもよい。このような3層構成の樹脂フィルム3は、例えば、加熱工程の際に、表裏を区別なく用いることができるという点で好ましい。また、樹脂フィルム3を裏返して再利用することが可能である(再利用しても汚れの付着を抑えやすい)という利点もありうる。
As one aspect, the resin film 3 includes at least two layers, a base material layer and a heat-resistant resin layer.
Furthermore, the resin film 3 may have a three-layer structure in which heat-resistant resin layers are present on both the front and back surfaces, and a base material layer is present between the two heat-resistant resin layers. Such a three-layered resin film 3 is preferable in that, for example, the front and back surfaces can be used without distinction during the heating step. Further, there may be an advantage that the resin film 3 can be turned over and reused (even if it is reused, it is easy to suppress the adhesion of dirt).

上記の3層構成の樹脂フィルム3においては、表面の耐熱樹脂層と裏面の耐熱樹脂層の素材や厚みなどは、同一であっても異なっていてもよい。ただし、上述の再利用性の観点などからは、表面の耐熱樹脂層と裏面の耐熱樹脂層は、同一の樹脂素材を含むこと、また、厚みがほぼ同じであること(一方の耐熱樹脂層の厚みを基準として、他方の耐熱樹脂層の厚みが±20%以内であること)が好ましい。 In the above-mentioned three-layered resin film 3, the materials and thicknesses of the heat-resistant resin layer on the front surface and the heat-resistant resin layer on the back surface may be the same or different. However, from the viewpoint of reusability described above, the heat-resistant resin layer on the front surface and the heat-resistant resin layer on the back surface contain the same resin material and have almost the same thickness (of one heat-resistant resin layer). The thickness of the other heat-resistant resin layer is preferably within ± 20% based on the thickness).

樹脂フィルム3において、成形品5と接する部分を耐熱樹脂層とする(つまり、成形品5と接する部分の耐熱性を高める)ことで、成形品5の汚染を一層低減することができる。
また、樹脂フィルム3が耐熱樹脂層を有することで、樹脂フィルム3全体としての耐熱性が一層向上する。これにより、加熱工程時の樹脂フィルム3の変形を一層抑えやすくなる。
In the resin film 3, by forming the portion in contact with the molded product 5 as a heat-resistant resin layer (that is, increasing the heat resistance of the portion in contact with the molded product 5), contamination of the molded product 5 can be further reduced.
Further, since the resin film 3 has the heat-resistant resin layer, the heat resistance of the resin film 3 as a whole is further improved. This makes it easier to suppress the deformation of the resin film 3 during the heating step.

耐熱樹脂層の「耐熱性」については、例えば、基材層よりも耐熱層のほうが、軟化点が高いことをいう。
また、別の観点として、耐熱樹脂層は、それ自身、加熱されたときの重量減少率が小さいということもできる。より具体的には、耐熱樹脂層のみを、以下条件で熱重量・示差熱同時測定したときの、測定前後での重量減少率が、好ましくは2%以下、より好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下である。この重量減少率が小さいことで、例えば、成形品5の汚染が一層抑えられる等の効果を得ることができる。
[条件]
開始温度:25℃
最終温度:160℃
昇温:10℃/min
ホールド:160℃、30min
雰囲気:空気
Regarding the "heat resistance" of the heat-resistant resin layer, for example, it means that the heat-resistant layer has a higher softening point than the base material layer.
From another point of view, it can be said that the heat-resistant resin layer itself has a small weight loss rate when heated. More specifically, when only the heat-resistant resin layer is simultaneously measured by thermogravimetric analysis and differential thermal analysis, the weight reduction rate before and after the measurement is preferably 2% or less, more preferably 1% or less, still more preferable. Is 0.5% or less. When this weight reduction rate is small, for example, it is possible to obtain an effect such as further suppressing contamination of the molded product 5.
[conditions]
Starting temperature: 25 ° C
Final temperature: 160 ° C
Temperature rise: 10 ° C / min
Hold: 160 ° C, 30 min
Atmosphere: Air

耐熱樹脂層の素材は特に限定されない。耐熱樹脂層を構成する素材としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド樹脂などの中から、耐熱性の高い樹脂を用いることができる。
素材の例として具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート(PTT)、ポリヘキサメチレンテレフタレート(PHT)等のポリアルキレンテレフタレート、ポリ4−メチル1−ペンテン(TPX:以下、ポリメチルペンテンともいう)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリプロピレン樹脂(PP)及び他の成分を共重合した共重合体樹脂が挙げられる。また、ポリアミド樹脂としては、公知のナイロン系樹脂の中から、比較的熱に強いものの選択して用いることができる。
これらは、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
特に、耐熱樹脂層は、ポリメチルペンテンおよびポリブチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含むことが好ましい。
The material of the heat-resistant resin layer is not particularly limited. As the material constituting the heat-resistant resin layer, a resin having high heat resistance can be used from among polyolefin-based resins, polyester-based resins, and polyamide resins.
Specific examples of materials include polyalkylene terephthalates such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polytrimethylene terephthalate (PTT), and polyhexamethylene terephthalate (PHT), and poly-4-methyl1-pentene. Examples thereof include (TPX: hereinafter also referred to as polymethylpentene), syndiotactic polystyrene (SPS), polypropylene resin (PP), and a copolymer resin obtained by copolymerizing other components. Further, as the polyamide resin, one that is relatively heat-resistant can be selected and used from known nylon-based resins.
These may be used alone or in combination of two or more.
In particular, the heat-resistant resin layer preferably contains at least one resin selected from the group consisting of polymethylpentene and polybutylene terephthalate.

耐熱樹脂層の厚みは、例えば20〜150μm、好ましくは22〜110μm、より好ましくは28〜100μmである。耐熱樹脂層が2層以上存在する場合は、各々の耐熱樹脂層の厚みがこれら数値範囲内であることが好ましい。
耐熱樹脂層の厚みが20μm以上であることで、耐熱樹脂層が耐熱樹脂層としての十二分な性能を果たすことができる。つまり、十二分な耐熱性を得ることができる。また、耐熱樹脂層が適度に厚いことで、樹脂フィルム3全体としての剛性を大きくすることができる。樹脂フィルム3の剛性が大きいことで、加熱工程時の樹脂フィルム3のたわみが十二分に抑えられ、そしてフィルムおよび/または成形品が、加熱装置内の熱源に一層触れにくくなる。
耐熱樹脂層の厚みが150μm以下であることで、樹脂フィルム3全体の厚みを薄くしやすくなり、例えば樹脂フィルム3のハンドリング性を上げることができる。
The thickness of the heat-resistant resin layer is, for example, 20 to 150 μm, preferably 22 to 110 μm, and more preferably 28 to 100 μm. When there are two or more heat-resistant resin layers, it is preferable that the thickness of each heat-resistant resin layer is within these numerical ranges.
When the thickness of the heat-resistant resin layer is 20 μm or more, the heat-resistant resin layer can achieve sufficient performance as the heat-resistant resin layer. That is, sufficient heat resistance can be obtained. Further, when the heat-resistant resin layer is appropriately thick, the rigidity of the resin film 3 as a whole can be increased. Due to the high rigidity of the resin film 3, the deflection of the resin film 3 during the heating step is sufficiently suppressed, and the film and / or the molded product is more difficult to touch the heat source in the heating device.
When the thickness of the heat-resistant resin layer is 150 μm or less, the thickness of the entire resin film 3 can be easily reduced, and the handleability of the resin film 3 can be improved, for example.

基材層の素材は特に限定されない。
樹脂フィルム3が、耐熱樹脂層と基材層の2層以上の構成であることで、樹脂フィルム3全体として耐熱性を高めつつ、フィルムとしてのしなやかさやハンドリング性の良さ、機械的強度の向上なども得ることができる。また、基材層の素材を適切に選択することで、これら特徴を一層高めることができる。
The material of the base material is not particularly limited.
Since the resin film 3 has two or more layers of a heat-resistant resin layer and a base material layer, the heat resistance of the resin film 3 as a whole is improved, and the suppleness and handleability of the film are improved, and the mechanical strength is improved. Can also be obtained. In addition, these characteristics can be further enhanced by appropriately selecting the material of the base material.

基材層の素材としては、例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィンを挙げることができる。また、ポリプロピレン以外のα−オレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を重合体成分として有するα−オレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂を挙げることもできる。 Examples of the material of the base material layer include polyolefins such as polypropylene. Further, engineering plastics such as α-olefin polymers other than polypropylene, α-olefin copolymers containing ethylene, propylene, butene, penten, hexene, methylpentene and the like as polymer components, polyether sulfone, polyphenylene sulfide and the like. Engineering plastics can also be mentioned.

別観点として、基材層は、オレフィン系共重合体(オレフィンモノマーと、非オレフィンモノマーとの共重合体)を含むことが好ましい。オレフィン系共重合体としては、エチレン等のオレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体(例えば、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体など)、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体、およびこれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。 From another viewpoint, the base material layer preferably contains an olefin-based copolymer (a copolymer of an olefin monomer and a non-olefin monomer). Examples of the olefin-based copolymer include a copolymer of an olefin such as ethylene and a (meth) acrylic acid ester (for example, an ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer and an ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer. Etc.), a copolymer of ethylene and vinyl acetate, a copolymer of ethylene and (meth) acrylic acid, and a partially ionized crosslinked product thereof.

さらに別観点として、基材層は、前述の、耐熱樹脂層の素材例として列挙されたような、耐熱性が比較的高い樹脂を含むことが好ましい。すなわち、基材層は、前述のポリブチレンテレフタレート(PBT)などのポリアルキレンテレフタレート、ポリメチルペンテンなどのうち一種又は二種以上を含むことが好ましい。 From a further viewpoint, it is preferable that the base material layer contains a resin having relatively high heat resistance as described above as a material example of the heat resistant resin layer. That is, the base material layer preferably contains one or more of the above-mentioned polyalkyleneene terephthalate such as polybutylene terephthalate (PBT) and polymethylpentene.

基材層は、樹脂素材を1種のみ含んでもよいし、2種以上含んでもよい。特に、基材層は、上記で挙げられた素材(ポリオレフィン、オレフィン系共重合体、耐熱性が比較的高い樹脂)のうち2種以上を含むことで、耐熱性やしなやかさ等を一層高めうる。
基材層が、2種以上の樹脂素材を含む場合、好ましい組合せの具体例は、例えば以下である。もちろん、基材層の樹脂素材の組合せはこれらのみに限定されるものではない。
・ポリプロピレンと、α−オレフィン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体
・ポリプロピレンと、ポリブチレンテレフタレート
・ポリプロピレンと、1,4−シクロヘキサンジメタノール共重合ポリエチレンテレフタレート
・ポリプロピレンと、エチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)
・ポリプロピレンと、ポリブチレンテレフタレートと、エチレン−メチルメタクリレート共重合体
・ポリプロピレンと、ポリブチレンテレフタレートと、エチレン
・ポリエチレンと、ポリブチレンテレフタレート
・ポリメチルペンテンと、ポリプロピレンと、エチレン−メチルメタクリレート共重合体
The base material layer may contain only one type of resin material, or may contain two or more types of resin material. In particular, the base material layer can further enhance heat resistance, suppleness, etc. by containing two or more of the above-mentioned materials (polyolefin, olefin copolymer, resin having relatively high heat resistance). ..
When the base material layer contains two or more kinds of resin materials, specific examples of preferable combinations are as follows, for example. Of course, the combination of the resin materials of the base material layer is not limited to these.
-Polypropylene, α-olefin- (meth) acrylic acid ester copolymer-Polypropylene, polybutylene terephthalate-Polypropylene, 1,4-cyclohexanedimethanol copolymer polyethylene terephthalate-Polypropylene, ethylene-methylmethacrylate copolymer (EMMA)
-Polypropylene, polybutylene terephthalate, ethylene-methylmethacrylate copolymer-Polypropylene, polybutylene terephthalate, ethylene-polyethylene, polybutylene terephthalate-polymethylpentene, polypropylene, ethylene-methylmethacrylate copolymer

フィルム3が基材層を備える場合、基材層の厚みは、例えば10〜100μm、好ましくは20〜90μm、より好ましくは30〜80μmである。
基材層の厚みが10μm以上であることで、基材層が基材層としての十分な性能を果たすことができる。また、基材層が適度に厚いことで、樹脂フィルム3全体としてのしなやかさを付与することができる。樹脂フィルム3がしなやかになることで、フィルム搬送時にシワが入りにくく、フィルム搬送しやすくなる。
基材層の厚みが100μm以下であることで、樹脂フィルム3全体の厚みを薄くしやすくなる。よって、例えば樹脂フィルム3のハンドリング性を上げることができる。
When the film 3 includes a base material layer, the thickness of the base material layer is, for example, 10 to 100 μm, preferably 20 to 90 μm, and more preferably 30 to 80 μm.
When the thickness of the base material layer is 10 μm or more, the base material layer can fulfill sufficient performance as a base material layer. Further, when the base material layer is appropriately thick, the suppleness of the resin film 3 as a whole can be imparted. Since the resin film 3 becomes supple, wrinkles are less likely to occur during film transfer, and film transfer becomes easier.
When the thickness of the base material layer is 100 μm or less, the thickness of the entire resin film 3 can be easily reduced. Therefore, for example, the handleability of the resin film 3 can be improved.

樹脂フィルム3の全体の厚みは、例えば50〜200μm、好ましくは55〜120μm、より好ましくは60〜110μmである。
全体の厚みが50μm以上であることで、十二分な強度、剛性、機械的耐久性などを得ることができる。樹脂フィルム3の剛性が大きいことで、加熱工程時の樹脂フィルム3のたわみが抑えられる。そして、フィルムおよび/または成形品が、加熱装置内の熱源に一層触れにくくなる。
全体の厚みが200μm以下であることで、樹脂フィルム3のハンドリング性を高めることができる。
The total thickness of the resin film 3 is, for example, 50 to 200 μm, preferably 55 to 120 μm, and more preferably 60 to 110 μm.
When the total thickness is 50 μm or more, sufficient strength, rigidity, mechanical durability and the like can be obtained. Since the resin film 3 has high rigidity, the deflection of the resin film 3 during the heating process can be suppressed. Then, the film and / or the molded product becomes more difficult to touch the heat source in the heating device.
When the total thickness is 200 μm or less, the handleability of the resin film 3 can be improved.

先に、耐熱樹脂層の耐熱性については、加熱されたときの重量減少率が小さいほうが好ましいことを説明した。同様に、樹脂フィルム3全体としても、加熱時の重量減少率が小さいことが好ましい。
具体的には、樹脂フィルム3を、以下条件(上述の、耐熱樹脂層の耐熱性の測定条件と同じである)で熱重量・示差熱同時測定したときの、測定前後での重量減少率が、好ましくは1%以下であり、より好ましくは0.8%以下であり、さらに好ましくは0.5%以下である。
なお、樹脂フィルム3が多層構造である場合は、熱重量・示差熱同時測定の際のサンプルとして、樹脂フィルム3の各層の厚み(比率)を反映したサンプルを準備すべきことに留意する。
[条件]
開始温度:25℃
最終温度:160℃
昇温:10℃/min
ホールド:160℃、30min
雰囲気:空気
Previously, regarding the heat resistance of the heat-resistant resin layer, it was explained that it is preferable that the weight loss rate when heated is small. Similarly, it is preferable that the weight loss rate of the resin film 3 as a whole is small when heated.
Specifically, when the resin film 3 is simultaneously measured for thermogravimetric analysis and differential thermal under the following conditions (the same as the above-mentioned measurement conditions for heat resistance of the heat-resistant resin layer), the weight loss rate before and after the measurement is It is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, and further preferably 0.5% or less.
When the resin film 3 has a multilayer structure, it should be noted that a sample reflecting the thickness (ratio) of each layer of the resin film 3 should be prepared as a sample for simultaneous measurement of thermogravimetric analysis and differential thermal analysis.
[conditions]
Starting temperature: 25 ° C
Final temperature: 160 ° C
Temperature rise: 10 ° C / min
Hold: 160 ° C, 30 min
Atmosphere: Air

上述のように、樹脂フィルム3は、2層以上の構成であることが好ましい。
一方、別の態様として、樹脂フィルム3は、単層構成であってもよい。例えば、上記の「耐熱樹脂層」に相当する層のみを備える単層のフィルムも、成形品5を支持できる限り、用いることができる。
As described above, the resin film 3 preferably has a structure of two or more layers.
On the other hand, as another aspect, the resin film 3 may have a single-layer structure. For example, a single-layer film having only a layer corresponding to the above-mentioned "heat-resistant resin layer" can be used as long as the molded product 5 can be supported.

別観点として、樹脂フィルム3を、160℃、引張りモード、周波数1Hzで粘弾性測定したときの貯蔵弾性率は、20MPa以上であることが好ましく、35MPa以上であることがより好ましい。
この、160℃での貯蔵弾性率がある程度大きいということは、樹脂フィルム3が、160℃に加熱されたときにおいても、ある程度大きな剛性を有しているということを意味する。つまり、樹脂フィルム3は、加熱環境下においても変形しにくく、成形品5を安定的に支持できることを意味する。
貯蔵弾性率の上限は特にないが、例えば700MPa以下である。
As another viewpoint, the storage elastic modulus of the resin film 3 when viscoelasticity is measured at 160 ° C., a tensile mode, and a frequency of 1 Hz is preferably 20 MPa or more, and more preferably 35 MPa or more.
The fact that the storage elastic modulus at 160 ° C. is large to some extent means that the resin film 3 has a certain degree of rigidity even when heated to 160 ° C. That is, it means that the resin film 3 is not easily deformed even in a heating environment and can stably support the molded product 5.
There is no particular upper limit on the storage elastic modulus, but it is, for example, 700 MPa or less.

加熱工程で、樹脂フィルム3の、成形品5と接している面の表面粗さRaは、好ましくは1.0μm以下、より好ましくは0.8μmである。下限は特にないが、通常の樹脂フィルムの製造条件などから、例えば0.01μm以上である。
表面粗さRaは、JIS B 0601で定義されているものである。Raの測定は公知の表面粗さ測定機により行うことができる。
In the heating step, the surface roughness Ra of the surface of the resin film 3 in contact with the molded product 5 is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.8 μm. There is no particular lower limit, but it is, for example, 0.01 μm or more due to the usual manufacturing conditions of the resin film.
The surface roughness Ra is defined by JIS B 0601. Ra can be measured by a known surface roughness measuring machine.

より具体的には、樹脂フィルム3が、耐熱樹脂層と基材層の少なくとも2層を備え、この耐熱樹脂層が成形品5と接する場合には、この耐熱樹脂層の表面のRaが上記値であることが好ましい。
別の例として、樹脂フィルム3が単層構成のフィルムである場合、少なくとも片面のRaが上記値であることが好ましく、そして、その面が成形品5と接することが好ましい。
More specifically, when the resin film 3 includes at least two layers, a heat-resistant resin layer and a base material layer, and the heat-resistant resin layer is in contact with the molded product 5, Ra on the surface of the heat-resistant resin layer has the above value. Is preferable.
As another example, when the resin film 3 is a single-layer film, it is preferable that Ra on at least one side has the above value, and that side is in contact with the molded product 5.

樹脂フィルム3の、成形品5と接している面の表面粗さRaが小さいことで、樹脂フィルム3と成形品5との接触面積がより大きくなる。これは、成形品5が樹脂フィルム3の上で滑りにくく、落下しにくいという利点につながる。
また、加熱工程後の樹脂フィルム3を回収して巻物とする際に、巻き取りやすい(巻ズレが生じにくい)という利点にもつながる。
Since the surface roughness Ra of the surface of the resin film 3 in contact with the molded product 5 is small, the contact area between the resin film 3 and the molded product 5 becomes larger. This leads to the advantage that the molded product 5 is hard to slip on the resin film 3 and is hard to fall.
In addition, when the resin film 3 after the heating step is collected and made into a scroll, it also leads to an advantage that it is easy to wind up (it is difficult for winding deviation to occur).

表面粗さRa(および/または光の透過性など)を調整する方法は特に限定されないが、例えば、一般的な樹脂フィルムの加工でしばしば行われる「エンボス加工」を行わないことが考えられる。また、エアナイフを用いる方法やタッチロールを用いる方法なども検討することができる。 The method for adjusting the surface roughness Ra (and / or light transmission, etc.) is not particularly limited, but for example, it is conceivable that the "embossing" that is often performed in the processing of a general resin film is not performed. Further, a method using an air knife, a method using a touch roll, and the like can also be considered.

樹脂フィルム3は、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、核剤、帯電防止剤、プロセスオイル、可塑剤、難燃剤、難燃助剤、顔料等の添加成分を含んでもよい。 The resin film 3 may contain additive components such as an anti-blocking agent, an antioxidant, a nucleating agent, an antistatic agent, a process oil, a plasticizer, a flame retardant, a flame retardant aid, and a pigment.

例えば、樹脂フィルム3が、耐熱樹脂層と基材層の2層以上を備える場合、耐熱樹脂層は、上記の添加成分の少なくともいずれかを含んでもよいし、含まなくてもよい。 For example, when the resin film 3 includes two or more layers of a heat-resistant resin layer and a base material layer, the heat-resistant resin layer may or may not contain at least one of the above-mentioned additive components.

耐熱樹脂層が含んでもよい添加成分について具体的に挙げる。 Specific examples of the additive components that the heat-resistant resin layer may contain.

アンチブロッキング剤としては、以下のような無機粒子または有機粒子が挙げられる。無機粒子としては、IA族、IIA族、IVA族、VIA族、VIIA族、VIIIA族、IB族、IIB族、IIIB族、IVB族元素の酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、並びにそれらを中心とする複合化合物及び天然鉱物粒子が挙げられる。 Examples of the anti-blocking agent include the following inorganic particles or organic particles. Examples of the inorganic particles include IA, IIA, IVA, VIA, VIIA, VIIIA, IB, IIB, IIIB, and IVB element oxides, hydroxides, sulfides, nitrates, and halogens. Compounds, carbonates, sulfates, acetates, phosphates, phosphites, organic carboxylates, silicates, titanates, boronates and their hydrous compounds, as well as complex compounds and natural mineral particles centered on them. Can be mentioned.

無機粒子の具体的な例としては、フッ化リチウム、ホウ砂(ホウ酸ナトリウム含水塩)等のIA族元素化合物;炭酸マグネシウム、リン酸マグネシウム、酸化マグネシウム(マグネシア)、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、フッ化マグネシウム、チタン酸マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸マグネシウム含水塩(タルク)、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、亜リン酸カルシウム、硫酸カルシウム(石膏)、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、ケイ酸カルシウム、フッ化カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バリウム、リン酸バリウム、硫酸バリウム、亜硫酸バリウム等のIIA族元素化合物;二酸化チタン(チタニア)、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム(ジルコニア)、一酸化ジルコニウム等のIVA族元素化合物;二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、硫化モリブデン等のVIA族元素化合物;塩化マンガン、酢酸マンガン等のVIIA族元素化合物;塩化コバルト、酢酸コバルト等のVIII族元素化合物;ヨウ化第一銅等のIB族元素化合物;酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のIIB族元素化合物;酸化アルミニウム(アルミナ)、水酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、アルミナシリケート(ケイ酸アルミナ、カオリン、カオリナイト)等のIIIB族元素化合物;酸化ケイ素(シリカ、シリカゲル)、石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等のIVB族元素化合物;カーナル石、カイナイト、雲母(マイカ、キンウンモ)、バイロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられる。
有機粒子としては、テフロン(登録商標)、メラミン系樹脂、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、アクリル系レジンシリコーン及びそれらの架橋体が挙げられる。
これらは、1種のみまたは2種組み合わせて用いることができる。
無機粒子や有機粒子の平均粒径は0.1〜10μmであるのが好ましい。
Specific examples of the inorganic particles include Group IA element compounds such as lithium fluoride and borosand (hydrous salt of sodium borate); magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, and foot. Magnesium buffalo, magnesium titanate, magnesium silicate, magnesium silicate hydrous salt (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, calcium phosphite, calcium sulfate (plaster), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, foot Group IIA element compounds such as calcium dioxide, calcium titanate, strontium titanate, barium carbonate, barium phosphate, barium sulfate, barium sulfite; titanium dioxide (titania), titanium monoxide, titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia), one IVA group element compounds such as zirconium oxide; VIA group element compounds such as molybdenum dioxide, molybdenum trioxide and molybdenum sulfide; VIIA group element compounds such as manganese chloride and manganese acetate; Group VIII element compounds such as cobalt chloride and cobalt acetate; Group IB element compounds such as cuprous chemicals; Group IIB element compounds such as zinc oxide and zinc acetate; aluminum oxide (alumina), aluminum hydroxide, aluminum fluoride, alumina silicates (alumina silicate, kaolin, kaolinite), etc. Group IIIB element compounds; IVB group element compounds such as silicon oxide (silica, silica gel), stone ink, carbon, graphite, glass; particles of natural minerals such as carnal stone, kainite, mica (mica, kinunmo), baylose ore, etc. Be done.
Examples of the organic particles include Teflon (registered trademark), melamine-based resin, styrene-divinylbenzene copolymer, acrylic-based resin silicone, and crosslinked products thereof.
These can be used alone or in combination of two.
The average particle size of the inorganic particles and organic particles is preferably 0.1 to 10 μm.

酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、2−[(1−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートなどが挙げられる。
酸化防止剤は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。
Antioxidants include phosphorus-based antioxidants, phenol-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, 2-[(1-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6- Examples thereof include di-t-pentylphenyl acrylate.
The antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

核剤としては、アルミニウムジ(p−t−ブチルベンゾエート)等のカルボン酸の金属塩、メチレンビス(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)アシッドホスフェートナトリウム等のリン酸の金属塩、タルク、フタロシアニン誘導体等が挙げられる。
核剤は単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the nucleating agent include metal salts of carboxylic acids such as aluminum di (pt-butylbenzoate), metal salts of phosphoric acid such as methylenebis (2,4-di-t-butylphenol) acid phosphate sodium, talc, and phthalocyanine derivatives. And so on.
The nucleating agent can be used alone or in combination of two or more.

可塑剤としては、ポリエチレングリコール、ポリアミドオリゴマー、エチレンビスステアロアマイド、フタル酸エステル、ポリスチレンオリゴマー、ポリエチレンワックス、シリコーンオイル等が挙げられる。
可塑剤は、単独で、または、二種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the plasticizer include polyethylene glycol, polyamide oligomer, ethylene bisstearoamide, phthalate ester, polystyrene oligomer, polyethylene wax, silicone oil and the like.
The plasticizer may be used alone or in combination of two or more.

プロセスオイルとしては、パラフィン系オイル、ナフテン系オイル、アロマ系オイルが挙げられる。これらの中でもn−d−M法で算出されるパラフィン(直鎖)に関わる炭素数の全炭素数に対する百分率が60%Cp以上のパラフィン系オイルが好ましい。 Examples of the process oil include paraffin oil, naphthenic oil, and aroma oil. Among these, paraffin-based oil having a percentage of the total carbon number of carbons related to paraffin (straight chain) calculated by the nd-M method to 60% Cp or more is preferable.

添加成分の添加量は、耐熱樹脂層全体に対して0.01〜15重量%であるのが好ましい。 The amount of the added component added is preferably 0.01 to 15% by weight based on the entire heat-resistant resin layer.

基材層も、各種の添加成分を含んでもよい。基材像は、例えば、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、染料および顔料等の着色剤、安定剤等の添加剤、フッ素樹脂、シリコンゴム等の耐衝撃性付与剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填剤のうち、一種又は二種以上を含んでもよい。
また、基材層は、ゴム成分を含んでもよい。ゴム成分としては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体等のスチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アミド系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等の熱可塑性エラストマー材料、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム等のゴム材料等が挙げられる。
The base material layer may also contain various additive components. The substrate image is, for example, an antioxidant, a slip agent, an antiblocking agent, an antioxidant, a colorant such as a dye and a pigment, an additive such as a stabilizer, an impact resistance imparting agent such as a fluororesin and a silicone rubber, and the like. Of the inorganic fillers such as titanium oxide, calcium carbonate, and talc, one or more of them may be contained.
Further, the base material layer may contain a rubber component. Examples of the rubber component include styrene-based thermoplastic elastomers such as styrene-butadiene copolymers and styrene-isoprene copolymers, olefin-based thermoplastic elastomers, amide-based elastomers, and thermoplastic elastomer materials such as polyester-based elastomers, and natural rubber. , Isoprene rubber, chloroprene rubber, rubber materials such as silicon rubber and the like.

・樹脂フィルム3の製造方法
樹脂フィルム3は、任意の方法で製造することができる。
例えば、共押出法、押出ラミネート法、ドライラミネート法、インフレーション法等公知の方法を用いて製造することができる。
樹脂フィルム3が、耐熱樹脂層および基材層の2層以上を有する場合、各層を別々に製造してからラミネーター等により接合してもよい。しかし、好ましくは、空冷式または水冷式共押出インフレーション法や共押出Tダイ法で一括して成膜することが好ましい。なかでも、共押出Tダイ法で成膜する方法が各層の厚さ制御に優れる点で特に好ましい。
各層を別々に製造してから接合する場合には、そのまま接合してもよいし、接着層を介して接合してもよい。
-Method of manufacturing the resin film 3 The resin film 3 can be manufactured by any method.
For example, it can be produced by using a known method such as a coextrusion method, an extrusion laminating method, a dry laminating method, or an inflation method.
When the resin film 3 has two or more layers of a heat-resistant resin layer and a base material layer, each layer may be manufactured separately and then bonded with a laminator or the like. However, it is preferable to collectively form a film by an air-cooled or water-cooled coextrusion inflation method or a coextrusion T-die method. Of these, the method of forming a film by the coextrusion T-die method is particularly preferable because it is excellent in controlling the thickness of each layer.
When each layer is manufactured separately and then joined, it may be joined as it is, or it may be joined via an adhesive layer.

なお、光の透過性をより高めるなどの点では、例えば、一般的な樹脂フィルムの加工でしばしば行われる「エンボス加工」を行わないほうがよいと考えられる。 From the viewpoint of further enhancing the light transmission, for example, it is considered better not to perform the "embossing" that is often performed in the processing of a general resin film.

(加熱工程(図1(B))
図1(B)は、図1(A)とは異なる、加熱工程の一例を模式的に示す図である。
図1(B)が図1(A)と異なるのは、成形品5が、2枚の樹脂フィルム3により、上下から挟持されている点である。これにより、加熱工程時の成形品5の汚染を一層抑えることができる。
成形品5が、2枚の樹脂フィルム3により、上下から挟持されることで、成形品5が一層安定し、成形品5の落下等が十二分に抑えられる。
(Heating step (FIG. 1 (B))
FIG. 1B is a diagram schematically showing an example of a heating process, which is different from FIG. 1A.
FIG. 1 (B) is different from FIG. 1 (A) in that the molded product 5 is sandwiched between the two resin films 3 from above and below. As a result, contamination of the molded product 5 during the heating process can be further suppressed.
By sandwiching the molded product 5 from above and below by the two resin films 3, the molded product 5 is more stable and the fall of the molded product 5 is sufficiently suppressed.

樹脂フィルム3は高透明である(波長500nmの光の透過率が大きく、ヘーズ値が小さい)。よって、2枚の樹脂フィルム3で成形品5が挟持されていても、成形品5の視認性は十分に高い。これは、成形品の目視検査をしやすいという点で好ましい。 The resin film 3 is highly transparent (the transmittance of light having a wavelength of 500 nm is large and the haze value is small). Therefore, even if the molded product 5 is sandwiched between the two resin films 3, the visibility of the molded product 5 is sufficiently high. This is preferable in that it is easy to visually inspect the molded product.

なお、成形品5を、2枚の樹脂フィルム3により、上下から挟持するにあたり、その挟持力を与えるための適当な装置等が用いられてもよい(図1(B)には明示していない)。
また、上側の樹脂フィルム3には、下側の樹脂フィルム3と同様、例えば、図の左右方向に張力が加えられてもよい。
When the molded product 5 is sandwiched between the two resin films 3 from above and below, an appropriate device or the like for imparting the sandwiching force may be used (not clearly shown in FIG. 1B). ).
Further, like the lower resin film 3, tension may be applied to the upper resin film 3 in the left-right direction of the drawing, for example.

図1(B)における2枚の樹脂フィルム3は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
上側の樹脂フィルム3の具体的態様としては、図1(A)で説明した樹脂フィルム3(すなわち下側の樹脂フィルム3)と同様であることができる。
なお、図1(B)において、上側の樹脂フィルム3が、基材層と、耐熱樹脂層の少なくとも2層を備える場合には、通常、その耐熱樹脂層が、成形品5と接する。
The two resin films 3 in FIG. 1B may be the same or different.
The specific aspect of the upper resin film 3 can be the same as that of the resin film 3 (that is, the lower resin film 3) described with reference to FIG. 1 (A).
In FIG. 1B, when the upper resin film 3 includes at least two layers, a base material layer and a heat-resistant resin layer, the heat-resistant resin layer is usually in contact with the molded product 5.

(その他の工程)
本実施形態の成形品の製造方法は、準備工程と加熱工程に加え、その他の工程を含んでもよい。
例えば、加熱工程後に、加熱された成形品5を放冷する放冷工程を含んでもよい。放冷工程は、室温で行ってもよいし、適当な装置により徐冷する形であってもよい。放冷工程の各種条件は成形品5の性状等により適宜調整すればよい。
(Other processes)
The method for producing a molded product of the present embodiment may include other steps in addition to the preparation step and the heating step.
For example, after the heating step, a cooling step of allowing the heated molded product 5 to cool may be included. The cooling step may be carried out at room temperature, or may be slowly cooled by an appropriate device. Various conditions of the cooling process may be appropriately adjusted according to the properties of the molded product 5.

<樹脂フィルム>
本発明は、特定の構成の樹脂フィルムを用いる「成形品の製造方法」という捉え方とは別に、成形品の製造方法に好適に適用される、特定の構成の「樹脂フィルム」という捉え方をすることもできる。すなわち、本発明は、成形品を加熱してエージングまたはアニーリング処理を施す際に、その成形品を支持するために用いられる樹脂フィルムと捉えることもできる。
この樹脂フィルムの実施形態は、上記<成形品の製造方法>で説明した「樹脂フィルム3」と同様であるが、念のため、前述の事項も含めて、簡単に説明しておく。
<Resin film>
In addition to the concept of "a method for manufacturing a molded product" using a resin film having a specific configuration, the present invention has a concept of a "resin film" having a specific configuration, which is suitably applied to a method for manufacturing a molded product. You can also do it. That is, the present invention can also be regarded as a resin film used to support a molded product when the molded product is heated and subjected to an aging or annealing treatment.
The embodiment of this resin film is the same as that of the “resin film 3” described in the above <Method for manufacturing a molded product>, but just in case, the above items will be briefly described.

樹脂フィルムは、成形品を加熱してエージングまたはアニーリング処理を施す際に、その成形品を支持するために用いられる。
樹脂フィルムの、縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下である。
樹脂フィルムの、波長500nmの光の透過率は38(概算)%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である。
樹脂フィルムの、JIS K 7361で規定される全光線透過率は、好ましくは65%以上である。
The resin film is used to support a molded product when it is heated and subjected to an aging or annealing treatment.
The rate of change in thermal dimension of the resin film from 23 ° C. to 160 ° C. in the vertical direction is 10% or less.
The transmittance of light having a wavelength of 500 nm of the resin film is 38 (approximate)% or more, and the haze value is 40% or less.
The total light transmittance of the resin film specified by JIS K 7361 is preferably 65% or more.

樹脂フィルムは、好ましくは、基材層と、耐熱樹脂層の少なくとも2層を備える。樹脂フィルムは、より好ましくは、表と裏の両面に耐熱樹脂層が存在し、その2つの耐熱樹脂層の間に基材層が存在する3層構成である。
各層が好ましく含む素材、各層の厚み、全体の厚み、耐熱樹脂層を熱重量・示差熱同時測定したときの重量減少率、樹脂フィルムを熱重量・示差熱同時測定したときの重量減少率、樹脂フィルムを粘弾性測定したときの貯蔵弾性率などについては、前述のとおりである。
樹脂フィルムが、基材層と、耐熱樹脂層の少なくとも2層を備える場合には、樹脂フィルムは、耐熱樹脂層がエージングまたはアニーリングされる成形品と接するように用いられることが好ましい。
The resin film preferably includes at least two layers, a base material layer and a heat-resistant resin layer. The resin film is more preferably a three-layer structure in which heat-resistant resin layers are present on both the front and back surfaces, and a base material layer is present between the two heat-resistant resin layers.
Material preferably contained in each layer, thickness of each layer, overall thickness, weight reduction rate when heat weight and differential heat are simultaneously measured for heat-resistant resin layer, weight reduction rate when thermal weight and differential heat are simultaneously measured for resin film, resin The storage elastic modulus and the like when the film is measured for viscoelasticity are as described above.
When the resin film includes at least two layers of a base material layer and a heat-resistant resin layer, the resin film is preferably used so that the heat-resistant resin layer is in contact with the molded product to be aged or annealed.

樹脂フィルムの、少なくとも片面の表面粗さRaは、好ましくは1.0μm以下である。
樹脂フィルムは、表面粗さRaが1.0μm以下である面が、エージングまたはアニーリングされる成形品と接するように用いられることが好ましい。樹脂フィルムが、基材層と耐熱樹脂層の少なくとも2層を備える場合には、耐熱樹脂層の表面粗さRaは1.0μm以下であることが好ましい。
The surface roughness Ra of at least one side of the resin film is preferably 1.0 μm or less.
The resin film is preferably used so that the surface having a surface roughness Ra of 1.0 μm or less is in contact with the molded product to be aged or annealed. When the resin film includes at least two layers, a base material layer and a heat-resistant resin layer, the surface roughness Ra of the heat-resistant resin layer is preferably 1.0 μm or less.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like within the range in which the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.

本発明の実施態様を、実施例および比較例に基づき詳細に説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。 Embodiments of the present invention will be described in detail based on Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the examples.

<樹脂フィルムの製造>
まず、各層の素材として、後掲の表1に記載の樹脂種(基材層については、比較例2を除き、複数の樹脂種の混合物)を準備した。
これら素材を用いて、押出Tダイ法によって、エアナイフ装置からの風を当てつつ、3層構成または単層の樹脂フィルムを製造した(3層構成のフィルムについてはマルチダイを、単層のフィルムについてはシングルダイを用いた)。このとき、各層の厚みは、表1に記載の値となるように、樹脂材料の押出量や製膜速度を調整した。
<Manufacturing of resin film>
First, as a material for each layer, the resin types shown in Table 1 below (for the base material layer, a mixture of a plurality of resin types except for Comparative Example 2) were prepared.
Using these materials, a three-layer or single-layer resin film was produced by an extrusion T-die method while applying wind from an air knife device (multi-die for a three-layer film and single-layer film for a single-layer film). A single die was used). At this time, the thickness of each layer was adjusted to the extrusion amount of the resin material and the film forming speed so as to have the values shown in Table 1.

なお、比較例1においては、製膜の際、離型フィルムの製造等でしばしば行われるエンボス加工を行い、フィルム表面を粗くした。
また、比較例2においては、製膜の際、エアナイフ装置からの風を当てなかった。
In Comparative Example 1, when the film was formed, the film surface was roughened by embossing, which is often performed in the production of a release film.
Further, in Comparative Example 2, the wind from the air knife device was not applied during the film formation.

<樹脂フィルムの各種性状、物性について>
上記の樹脂フィルム(またはその素材など)の各種性状、物性を、以下のようにして測定した。
[樹脂フィルムの縦方向の熱寸法変化率(23〜160℃)]
熱機械分析装置 EXSTAR TMA/SS6100(旧・セイコーインスツルメンツ社製、現・日立ハイテクサイエンス社製)に、縦方向10mm×横方向4mmに切り出した樹脂フィルムをセットした。その後、以下条件で熱機械分析を行った。測定前のサンプルの長さをLとし、測定後のサンプルの長さをLとしたとき、{(L−L)/L}×100の値を熱寸法変化率(%)とした。
・温度:23〜160℃
・昇温:5℃/min
・雰囲気:窒素ガス
・モード:引張
・荷重:49mN
<Various properties and physical properties of resin film>
Various properties and physical properties of the above resin film (or its material, etc.) were measured as follows.
[Vertical thermal dimension change rate of resin film (23 to 160 ° C)]
A resin film cut out in a vertical direction of 10 mm and a horizontal direction of 4 mm was set in a thermomechanical analyzer EXSTAR TMA / SS6100 (formerly manufactured by Seiko Instruments, now manufactured by Hitachi High-Tech Science). Then, thermomechanical analysis was performed under the following conditions. When the length of the sample before measurement is L 1 and the length of the sample after measurement is L 2 , the value of {(L 2- L 1 ) / L 1 } × 100 is the thermal dimension change rate (%). And said.
・ Temperature: 23-160 ℃
・ Temperature rise: 5 ° C / min
・ Atmosphere: Nitrogen gas ・ Mode: Tensile / Load: 49mN

[波長500nmの光の透過率]
日本分光株式会社製の紫外可視分光光度(品番:V−650)を用いて測定した。
[Transmittance of light with a wavelength of 500 nm]
The measurement was performed using an ultraviolet-visible spectrophotometric intensity (product number: V-650) manufactured by JASCO Corporation.

[ヘーズ値]
日本電色工業株式会社製の濁度計(品番:NDH2000)を用いて測定した。
[Haze value]
The measurement was performed using a turbidity meter (product number: NDH2000) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

[全光線透過率]
日本電色工業株式会社製の濁度計(品番:NDH2000)を用いて測定した。
[Total light transmittance]
The measurement was performed using a turbidity meter (product number: NDH2000) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

[樹脂フィルムの重量減少率]
装置名:TG/DTA6200(旧・セイコーインスツルメンツ社製、現・日立ハイテクサイエンス社製)を用い、以下の条件で重量減少率を求めた。
・開始温度:25℃
・最終温度:160℃
・昇温:10℃/min
・ホールド:160℃、30min
・雰囲気:空気
[Weight reduction rate of resin film]
Device name: TG / DTA6200 (formerly manufactured by Seiko Instruments, now manufactured by Hitachi High-Tech Science) was used, and the weight reduction rate was determined under the following conditions.
・ Starting temperature: 25 ° C
・ Final temperature: 160 ℃
・ Temperature rise: 10 ° C / min
・ Hold: 160 ℃, 30min
・ Atmosphere: Air

[樹脂フィルムの貯蔵弾性率(160℃)]
装置名:DMS6100(旧・セイコーインスツルメンツ社製、現・日立ハイテクサイエンス社製)を用い、以下の条件で粘弾性測定を行った。得られたデータから、160℃における貯蔵弾性率を求めた。
・モード:引張り
・温度:23〜250℃
・昇温:5℃/min
・周波数:1Hz
・測定サンプル:各実施例または比較例の樹脂フィルムを、縦方向20mm×横方向4mmの大きさに切断したもの
[Resilient storage modulus of resin film (160 ° C)]
Device name: DMS6100 (formerly manufactured by Seiko Instruments, now manufactured by Hitachi High-Tech Science) was used to measure viscoelasticity under the following conditions. From the obtained data, the storage elastic modulus at 160 ° C. was determined.
-Mode: Tension-Temperature: 23-250 ° C
・ Temperature rise: 5 ° C / min
・ Frequency: 1Hz
-Measurement sample: A resin film of each Example or Comparative Example cut into a size of 20 mm in the vertical direction x 4 mm in the horizontal direction.

[樹脂フィルムの表面粗さRa]
JIS B 0601に準じ、株式会社東京精密製の装置「ハンディサーフ E−35B」を用い、各樹脂フィルムの、成形品と接する耐熱樹脂層表面の算術平均粗さRa(単位:μm)を測定した。
測定は、準備した各樹脂フィルムの中央付近で3回行い、3回の平均値をRaとして採用した。
[Surface roughness Ra of resin film]
According to JIS B 0601, the arithmetic mean roughness Ra (unit: μm) of the surface of the heat-resistant resin layer in contact with the molded product of each resin film was measured using the equipment "Handy Surf E-35B" manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. ..
The measurement was performed three times near the center of each prepared resin film, and the average value of the three times was adopted as Ra.

<成形品の準備>
市販のフェノール樹脂系成形材料を、160℃に熱した金型に流しこみ、適宜加熱/冷却することで、評価用の樹脂成形品を得た。
<Preparation of molded products>
A commercially available phenolic resin-based molding material was poured into a mold heated to 160 ° C. and appropriately heated / cooled to obtain a resin molded product for evaluation.

<加熱工程>
各樹脂フィルムを2枚ずつ準備し、以下のようにして行った。
(1)2枚のうち1枚の樹脂フィルムを、できるだけたるみが無いように、水平に張った。この際、樹脂フィルムが多層構成である場合には、耐熱樹脂層が上面となるようにした。
(2)上記の樹脂フィルムの上面に、複数個の成形品を載置した。
(3)上記の成形品の上から、もう1枚の樹脂フィルムをかぶせ、2枚の樹脂フィルムで成形品を上下から挟持した。この際、樹脂フィルムが多層構成である場合には、耐熱樹脂層が成形品と接するようにした。これにより、成形品が上下から樹脂フィルムで挟持されたものを得た。
(4)上記の、上下から樹脂フィルムで挟持された成形品を、樹脂フィルムごと赤外線炉に入れ、加熱した。加熱は、赤外線の強さを調整するなどして、160℃で30分とした。
(5)加熱後、成形品を、樹脂フィルムで挟持した状態のまま、室温となるまで自然冷却した。
(6)樹脂フィルムを取り除き、加熱処理された成形品を得た。
<Heating process>
Two sheets of each resin film were prepared, and the procedure was as follows.
(1) One of the two resin films was stretched horizontally so as not to have slack as much as possible. At this time, when the resin film has a multi-layer structure, the heat-resistant resin layer is on the upper surface.
(2) A plurality of molded products were placed on the upper surface of the above resin film.
(3) Another resin film was put on the above-mentioned molded product, and the molded product was sandwiched between the two resin films from above and below. At this time, when the resin film has a multi-layer structure, the heat-resistant resin layer is brought into contact with the molded product. As a result, a molded product was obtained by being sandwiched between resin films from above and below.
(4) The above-mentioned molded product sandwiched between the resin films from above and below was placed in an infrared furnace together with the resin film and heated. The heating was performed at 160 ° C. for 30 minutes by adjusting the intensity of infrared rays.
(5) After heating, the molded product was naturally cooled to room temperature while being sandwiched between resin films.
(6) The resin film was removed to obtain a heat-treated molded product.

<評価>
[視認性]
上記<加熱工程>の(5)の工程終了後の、2枚の樹脂フィルムで挟持された状態の成形品を目視で観察した(この観察を「観察1」とする)。
また、樹脂フィルムを除いた後の成形品を目視で観察した(この観察を「観察2」とする)。
観察1と観察2で、成形品の外見(色調、表面の質感、傷や汚れの付着有無など)、が変わらないかどうかを評価した。
○(良好):観察1と観察2で、成形品の外見は実質上変わらない。つまり、樹脂フィルム越しであっても、成形品の目視検査を十分行うことができる。
×(不良):観察1と観察2で、成形品の外見が異なって観察される。つまり、樹脂フィルム越しに成形品を観察すると、成形品に不良があった場合に見逃してしまうおそれがある。
<Evaluation>
[Visibility]
After the completion of step (5) of the above <heating step>, the molded product in a state of being sandwiched between the two resin films was visually observed (this observation is referred to as "observation 1").
In addition, the molded product after removing the resin film was visually observed (this observation is referred to as "observation 2").
In Observation 1 and Observation 2, it was evaluated whether or not the appearance (color tone, surface texture, presence / absence of scratches and stains, etc.) of the molded product did not change.
◯ (Good): The appearance of the molded product is substantially the same between Observation 1 and Observation 2. That is, the visual inspection of the molded product can be sufficiently performed even through the resin film.
X (defective): The appearance of the molded product is observed differently in observation 1 and observation 2. That is, when the molded product is observed through the resin film, if the molded product is defective, it may be overlooked.

[耐熱性/剛性]
上記<加熱工程>において、樹脂フィルムがたるむなどしていないかを確認した。具体的には、<加熱工程>後の樹脂フィルムを観察し、樹脂フィルムが弛んでシワが発生していないか、樹脂フィルムが赤外線炉の内壁に触れて樹脂フィルムの一部が溶融するなどしていないかなどを確認した。そして以下基準により評価した。
○(良好):耐熱性、剛性は良好(樹脂フィルムのシワ、溶融などは認められず)
×(不良):耐熱性、剛性に改善の余地あり(樹脂フィルムの一部溶融などが認められた)
[Heat resistance / rigidity]
In the above <heating step>, it was confirmed whether the resin film was sagging. Specifically, by observing the resin film after the <heating process>, the resin film is loosened and wrinkles are not generated, or the resin film touches the inner wall of the infrared furnace and a part of the resin film is melted. I checked if it wasn't. Then, it was evaluated according to the following criteria.
○ (Good): Good heat resistance and rigidity (no wrinkles or melting of the resin film are observed)
× (Defective): There is room for improvement in heat resistance and rigidity (partial melting of the resin film was observed).

[成形品の汚染の有無]
加熱処理された成形品を観察し、加熱前に存在しなかった汚れ、不純物の付着などが無いかを確認した。そして以下基準により評価した。
○(良好):加熱前に存在しなかった汚れ、不純物の付着などは認められなかった。
×(不良):加熱前に存在しなかった汚れ、不純物の付着などが認められた。
[Presence or absence of contamination of molded products]
The heat-treated molded product was observed and confirmed for dirt and impurities that did not exist before heating. Then, it was evaluated according to the following criteria.
◯ (Good): No stains or impurities that did not exist before heating were observed.
X (defective): Dirt that did not exist before heating, adhesion of impurities, etc. were observed.

樹脂フィルムの各層の使用素材および厚み、透過率などの各種性状(物性)、および、視認性などの評価結果を、表1にまとめて示す。 Table 1 summarizes the materials used for each layer of the resin film, various properties (physical properties) such as thickness and transmittance, and evaluation results such as visibility.

Figure 0006769583
Figure 0006769583

表1中、樹脂種の略号は以下を表す。
・TPX:ポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、RT31)
・PP:ポリプロピレン樹脂(プライムポリマー社製、E−203GP)
・EMMA:変性ポリエチレン樹脂(エチレン―メチルメタクリレート共重合体)(住友化学社製、WD106)
・PBT:ポリブチレンテレフタレート樹脂(ウィンテックポリマー社製、ジュラネックス201AC)
In Table 1, the abbreviations of the resin types represent the following.
-TPX: Polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, RT31)
-PP: Polypropylene resin (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., E-203GP)
-EMMA: Modified polyethylene resin (ethylene-methylmethacrylate copolymer) (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., WD106)
-PBT: Polybutylene terephthalate resin (manufactured by Wintech Polymer, Duranex 201AC)

以上、縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率が10%以下で、波長500nmの光の透過率は38%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である樹脂フィルムにより、成形品を支持し、そして成形品を加熱処理することができた。つまり、成形品の後加熱(エージング処理やアニーリング処理など)の新たな方法を提供することができた。 As described above, the resin film has a thermal dimensional change rate of 10% or less from 23 ° C. to 160 ° C. in the vertical direction, a light transmittance of 38% or more at a wavelength of 500 nm, and a haze value of 40% or less. The article was supported and the part could be heat treated. That is, it was possible to provide a new method for post-heating of the molded product (aging treatment, annealing treatment, etc.).

具体的には、表1に示されているとおり、実施例1〜7において、視認性、耐熱性/剛性、成型品の汚染の有無の評価は全て良好であった。つまり、特定のフィルムで成形品を支持(挟持)しながら成形品を加熱することで、成形品の目視検査をしやすい、フィルムおよび/または成形品が加熱装置内の熱源に触れにくい、成形品が汚染されにくい、等の利点があることが示された。 Specifically, as shown in Table 1, in Examples 1 to 7, the visibility, heat resistance / rigidity, and evaluation of the presence or absence of contamination of the molded product were all good. That is, by heating the molded product while supporting (holding) the molded product with a specific film, it is easy to visually inspect the molded product, and the film and / or the molded product does not easily come into contact with the heat source in the heating device. It was shown that there are advantages such as less contamination.

一方、比較例1のフィルムを用いた場合、視認性の評価結果が悪く、成形品の目視検査などの点で不利であった。これの原因は、エンボス加工が行われていたことにより、光の透過率が小さく、また、ヘーズ値が大きかったためと考えられる。
また、比較例2のフィルムを用いた場合、視認性の評価結果が悪く、加えて、耐熱性/剛性の評価結果も悪かった。これの原因は、(1)製膜の際にエアナイフ装置からの風が当たらなかったこと(これにより表面の平滑性が若干甘くなる)や総厚みが大きかったため、また、(2)比較例2のフィルムは耐熱樹脂層を有さず、寸法変化率(23〜160℃)が大きかったためと考えられる。
On the other hand, when the film of Comparative Example 1 was used, the evaluation result of visibility was poor, which was disadvantageous in terms of visual inspection of the molded product. It is considered that the cause of this is that the light transmittance was small and the haze value was large due to the embossing.
Further, when the film of Comparative Example 2 was used, the evaluation result of visibility was poor, and in addition, the evaluation result of heat resistance / rigidity was also poor. The causes of this were (1) the wind from the air knife device did not hit during film formation (this made the surface smoother slightly) and the total thickness was large, and (2) Comparative Example 2 It is considered that this film did not have a heat-resistant resin layer and had a large dimensional change rate (23 to 160 ° C.).

この出願は、2018年8月29日に出願された日本出願特願2018−160083号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。 This application claims priority on the basis of Japanese application Japanese Patent Application No. 2018-160083 filed on August 29, 2018, the entire disclosure of which is incorporated herein by reference.

Claims (20)

エージングまたはアニーリング処理が施された成形品の製造方法であって、
成形品を準備する準備工程と、
前記成形品を、樹脂フィルムにより支持しながら加熱して、エージングまたはアニーリング処理を施す加熱工程とを含み、
前記樹脂フィルムの縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下であり、
前記樹脂フィルムの波長500nmの光の透過率は38%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である、成形品の製造方法。
A method for manufacturing a molded product that has been aged or annealed.
The preparatory process for preparing the molded product and
A heating step of heating the molded product while supporting it with a resin film to perform an aging or annealing treatment is included.
The rate of change in thermal dimension from 23 ° C to 160 ° C in the vertical direction of the resin film is 10% or less.
A method for producing a molded product, wherein the resin film has a transmittance of light having a wavelength of 500 nm of 38% or more and a haze value of 40% or less.
請求項1に記載の成形品の製造方法であって、
前記樹脂フィルムは、基材層と、耐熱樹脂層の少なくとも2層を備え、
前記加熱工程では、前記成形品と、前記樹脂フィルムの前記耐熱樹脂層とが接している、成形品の製造方法。
The method for manufacturing a molded product according to claim 1.
The resin film includes at least two layers, a base material layer and a heat-resistant resin layer.
A method for producing a molded product in which the molded product and the heat-resistant resin layer of the resin film are in contact with each other in the heating step.
請求項2に記載の成形品の製造方法であって、
前記耐熱樹脂層が、ポリメチルペンテンおよびポリブチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む、成形品の製造方法。
The method for manufacturing a molded product according to claim 2.
A method for producing a molded product, wherein the heat-resistant resin layer contains at least one resin selected from the group consisting of polymethylpentene and polybutylene terephthalate.
請求項2または3に記載の成形品の製造方法であって、
前記耐熱樹脂層の厚みが20〜150μmである、成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to claim 2 or 3.
A method for producing a molded product, wherein the heat-resistant resin layer has a thickness of 20 to 150 μm.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
当該樹脂フィルムを、以下条件で熱重量・示差熱同時測定したときの、測定前後での重量減少率が1%以下である、成形品の製造方法。
<条件>
開始温度:25℃
最終温度:160℃
昇温:10℃/min
ホールド:160℃、30min
雰囲気:空気
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 4.
A method for producing a molded product, in which the weight loss rate before and after the measurement of the resin film is 1% or less when the thermogravimetric analysis and the differential thermal are simultaneously measured under the following conditions.
<Conditions>
Starting temperature: 25 ° C
Final temperature: 160 ° C
Temperature rise: 10 ° C / min
Hold: 160 ° C, 30 min
Atmosphere: Air
請求項1〜5のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
前記樹脂フィルムの全体の厚みが50〜200μmである、成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 5.
A method for producing a molded product, wherein the total thickness of the resin film is 50 to 200 μm.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
前記樹脂フィルムを、160℃、引張りモード、周波数1Hzで粘弾性測定したときの貯蔵弾性率が20MPa以上である、成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 6.
A method for producing a molded product, wherein the resin film has a storage elastic modulus of 20 MPa or more when viscoelasticity is measured at 160 ° C., a tensile mode, and a frequency of 1 Hz.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
前記樹脂フィルムの、JIS K 7361に基づき測定される全光線透過率が65%以上である、成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 7.
A method for producing a molded product of the resin film, wherein the total light transmittance measured based on JIS K 7361 is 65% or more.
請求項1〜8のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
前記加熱工程で、前記成形品と接している前記樹脂フィルムの面の表面粗さRaが1.0μm以下である、成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 8.
A method for producing a molded product, wherein the surface roughness Ra of the surface of the resin film in contact with the molded product is 1.0 μm or less in the heating step.
請求項1〜9のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
前記加熱工程が、赤外線照射により行われる成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 9.
A method for manufacturing a molded product in which the heating step is performed by infrared irradiation.
請求項1〜10のいずれか1項に記載の成形品の製造方法であって、
前記加熱工程において、前記成形品が140〜180℃に加熱される、成形品の製造方法。
The method for producing a molded product according to any one of claims 1 to 10.
A method for producing a molded product, wherein the molded product is heated to 140 to 180 ° C. in the heating step.
成形品を加熱してエージングまたはアニーリング処理を施す際に、当該成形品を支持するために用いられる樹脂フィルムであって、
前記樹脂フィルムの縦方向の23℃から160℃までの熱寸法変化率は10%以下であり、
前記樹脂フィルムの波長500nmの光の透過率は38%以上で、かつ、ヘーズ値は40%以下である、樹脂フィルム。
A resin film used to support a molded product when it is heated and subjected to an aging or annealing treatment.
The rate of change in thermal dimension from 23 ° C to 160 ° C in the vertical direction of the resin film is 10% or less.
A resin film having a transmittance of light having a wavelength of 500 nm of 38% or more and a haze value of 40% or less.
請求項12に記載の樹脂フィルムであって、
基材層と、耐熱樹脂層の少なくとも2層を備える、樹脂フィルム。
The resin film according to claim 12.
A resin film comprising at least two layers, a base material layer and a heat-resistant resin layer.
請求項13に記載の樹脂フィルムであって、
前記耐熱樹脂層が、ポリメチルペンテンおよびポリブチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む、樹脂フィルム。
The resin film according to claim 13.
A resin film in which the heat-resistant resin layer contains at least one resin selected from the group consisting of polymethylpentene and polybutylene terephthalate.
請求項13または14に記載の樹脂フィルムであって、
前記耐熱樹脂層の厚みが20〜150μmである、樹脂フィルム。
The resin film according to claim 13 or 14.
A resin film having a heat-resistant resin layer having a thickness of 20 to 150 μm.
請求項12〜15のいずれか1項に記載の樹脂フィルムであって、
当該樹脂フィルムを、以下条件で熱重量・示差熱同時測定したときの、測定前後での重量減少率が1%以下である、樹脂フィルム。
<条件>
開始温度:25℃
最終温度:160℃
昇温:10℃/min
ホールド:160℃、30min
雰囲気:空気
The resin film according to any one of claims 12 to 15.
A resin film having a weight reduction rate of 1% or less before and after the measurement when the thermogravimetric analysis and the differential thermal are simultaneously measured under the following conditions.
<Conditions>
Starting temperature: 25 ° C
Final temperature: 160 ° C
Temperature rise: 10 ° C / min
Hold: 160 ° C, 30 min
Atmosphere: Air
請求項12〜16のいずれか1項に記載の樹脂フィルムであって、
全体の厚みが50〜200μmである、樹脂フィルム。
The resin film according to any one of claims 12 to 16.
A resin film having an overall thickness of 50 to 200 μm.
請求項12〜17のいずれか1項に記載の樹脂フィルムであって、
160℃、引張りモード、周波数1Hzで粘弾性測定したときの貯蔵弾性率が20MPa以上である、樹脂フィルム。
The resin film according to any one of claims 12 to 17.
A resin film having a storage elastic modulus of 20 MPa or more when measured in viscoelasticity at 160 ° C., a tensile mode, and a frequency of 1 Hz.
請求項12〜18のいずれか1項に記載の樹脂フィルムであって、
前記樹脂フィルムの、JIS K 7361に基づき測定される全光線透過率が60%以上である、樹脂フィルム。
The resin film according to any one of claims 12 to 18.
A resin film having a total light transmittance of 60% or more as measured based on JIS K 7361.
請求項13〜19のいずれか1項に記載の樹脂フィルムであって、
少なくとも片面の表面粗さRaが1.0μm以下である、樹脂フィルム。
The resin film according to any one of claims 13 to 19.
A resin film having a surface roughness Ra of at least one side of 1.0 μm or less.
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