JP6756197B2 - 誘電体膜の成膜方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の実施形態に係る誘電体膜の成膜方法は、図1に示すように、チャンバーの内部の残留水分を消費する過程を含む第1の成膜方法によって、第1の屈折率の第1誘電体膜を形成する第1の成膜処理(ステップS1)と、第1の成膜方法と異なる第2の成膜方法によって、第1の屈折率よりも高い第2の屈折率の第2誘電体膜を、第1誘電体膜の上面に形成する第2の成膜処理(ステップS2)とを含む。第1誘電体膜及び第2誘電体膜は、チャンバーの内部で真空連続に形成される。
上記では、第1誘電体膜11、第2誘電体膜12及び第3誘電体膜13を積層した3層構造の誘電体多層膜10を形成する例を示した。しかし、誘電体多層膜10の層数は3層に限られず、4層以上の誘電体多層膜10の形成にも、本発明は適用可能である。即ち、第1の成膜処理の後に第2の成膜処理を行う組み合わせを単位工程とし、真空連続で単位工程を複数回繰り返して、誘電体多層膜10を形成してもよい。
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
11…第1誘電体膜
12…第2誘電体膜
13…第3誘電体膜
20…基体
21…樹脂基板
22…金属膜
Claims (9)
- チャンバーの内部の残留水分を消費する過程を含む第1の成膜方法によって、前記チャンバーの内部で第1の屈折率の第1誘電体膜を形成する第1の成膜処理と、
前記第1の成膜方法と異なる第2の成膜方法によって、前記第1の屈折率よりも高い第2の屈折率の第2誘電体膜を、前記チャンバーの内部で前記第1の成膜処理と真空連続で前記第1誘電体膜の上面に形成する第2の成膜処理と
を含み、
前記チャンバーの内部の到達圧力が0.1〜1Paまで真空排気した後に前記第1の成膜処理を開始することにより、
前記第1誘電体膜と前記第2誘電体膜を積層した誘電体多層膜を形成する ことを特徴とする誘電体膜の成膜方法。 - 前記第1の成膜方法において、成膜中に前記第1誘電体膜に前記残留水分が取り込まれることを特徴とする請求項1に記載の誘電体膜の成膜方法。
- 前記第1の成膜方法がプラズマCVD法であることを特徴とする請求項1又は2に記載の誘電体膜の成膜方法。
- 前記第2の成膜方法がスパッタリング法であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の誘電体膜の成膜方法。
- 前記第2誘電体膜を形成する直前に、前記第2の成膜方法で使用されるターゲットの表面近傍の気相中にプラズマを形成するプレスパッタリングを行うことを特徴とする請求項4に記載の誘電体膜の成膜方法。
- 前記第2の成膜処理と真空連続で前記第2誘電体膜の上面に第3誘電体膜を形成する第3の成膜処理を更に含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の誘電体膜の成膜方法。
- 前記第2の成膜方法がスパッタリング法であり、
前記第3の成膜処理において、前記第2の成膜方法で使用されるターゲットの表面を、
前記第3誘電体膜を構成する材料によって被覆することを特徴とする請求項6に記載の誘電体膜の成膜方法。 - 前記第1の成膜処理の後に前記第2の成膜処理を行う組み合わせを単位工程とし、真空連続で前記単位工程を複数回繰り返すことにより、前記第1誘電体膜と前記第2誘電体膜が交互に積層された誘電体多層膜を形成することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の誘電体膜の成膜方法。
- 樹脂基板の上に形成された金属膜を覆うように前記第1誘電体膜を形成することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の誘電体膜の成膜方法。
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