JP6753038B2 - Photocurable composition - Google Patents

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本発明は、光硬化性組成物に関するものであり、特に、樹脂基板の樹脂表面に光ナノインプリントするための光硬化性組成物であり、着色もなく、接着性、フレキシブル性にも優れた光硬化性組成物に関するものである。 The present invention relates to a photocurable composition, in particular, a photocurable composition for photo-nanoimprinting on a resin surface of a resin substrate, which is not colored and has excellent adhesiveness and flexibility. It relates to a sex composition.

従来、樹脂基板の表面に微細なテクスチャーを付与するためには、フォトリソグラフィ技術が用いられてきたが、ナノインプリント技術の進歩により、形成したいテクスチャー形状の反転パターンを有するモールドを、被転写基板上に形成された樹脂膜層に対して型押しすることで、低コストで生産性良くテクスチャーを形成することが可能になってきた。かかるナノインプリント技術には転写される樹脂膜層によって、2種類に大別される。 Conventionally, photolithography technology has been used to impart a fine texture to the surface of a resin substrate, but with the advancement of nanoimprint technology, a mold having an inverted pattern of the texture shape to be formed is placed on the substrate to be transferred. By embossing the formed resin film layer, it has become possible to form a texture at low cost and with good productivity. Such nanoimprint technology is roughly classified into two types according to the resin film layer to be transferred.

なお、本発明におけるテクスチャーとは、微細な凹凸模様のことであり、周期構造と非周期構造のどちらでもよく、凹凸のサイズは100nm〜100μmである。 The texture in the present invention is a fine uneven pattern, which may be either a periodic structure or a non-periodic structure, and the size of the unevenness is 100 nm to 100 μm.

2種類の内、一方は、転写される樹脂膜層を加熱して、モールドにより塑性変形させたのち、モールドを剥離してテクスチャーを形成する熱ナノインプリント技術であり、他方は、基板上に室温で液状の活性エネルギー線硬化性組成物を塗布したのち、光透過性のモールドをかぶせ、該モールド、もしくは、透明な樹脂基板を通して、活性エネルギー線を照射することで、樹脂基板上の活性エネルギー線硬化性組成物を硬化し、モールドを剥離してテクスチャーを形成する光ナノインプリント技術である。特に光ナノインプリント技術は、室温にてテクスチャーを形成することができるため、熱による樹脂基板の変形や、モールドと樹脂基板の線膨張係数差によるひずみが発生しにくく、高精度なパターニングが可能となる。 Of the two types, one is a thermal nanoimprinting technique in which the transferred resin film layer is heated, plastically deformed by a mold, and then the mold is peeled off to form a texture, and the other is a thermal nanoimprint technique on a substrate at room temperature. After applying the liquid active energy ray-curable composition, a light-transmitting mold is applied, and the active energy ray is irradiated through the mold or a transparent resin substrate to cure the active energy ray on the resin substrate. This is an optical nanoimprint technology that cures a sexual composition and peels off a mold to form a texture. In particular, the optical nanoimprint technology can form a texture at room temperature, so deformation of the resin substrate due to heat and distortion due to the difference in linear expansion coefficient between the mold and the resin substrate are unlikely to occur, enabling highly accurate patterning. ..

そこで、光ナノインプリント技術に用いられる光硬化性組成物として、例えば、特許文献1では、低揮発性かつ低粘度な光硬化性組成物が提案されている。また、特許文献2では、エチレン性不飽和基含有化合物を含み、硬化物のガラス転移温度が60℃以上かつ吸水率が10%以下である硬化型接着剤組成物が提案されている。更に、特許文献3では、高温及び高湿度下において接着性に優れた光硬化性接着剤が提案されている。特許文献4では、親水性プラスチック用活性エネルギー線硬化型接着剤組成物が提案されている。また、特許文献5においては、脂肪族(メタ)アクリレート系オリゴマーと脂肪族アクリレート系モノマーを用いた光硬化性接着剤が提案されている。 Therefore, as a photocurable composition used in the optical nanoimprint technology, for example, Patent Document 1 proposes a photocurable composition having low volatility and low viscosity. Further, Patent Document 2 proposes a curable adhesive composition containing an ethylenically unsaturated group-containing compound and having a glass transition temperature of a cured product of 60 ° C. or higher and a water absorption rate of 10% or lower. Further, Patent Document 3 proposes a photocurable adhesive having excellent adhesiveness under high temperature and high humidity. Patent Document 4 proposes an active energy ray-curable adhesive composition for hydrophilic plastics. Further, Patent Document 5 proposes a photocurable adhesive using an aliphatic (meth) acrylate-based oligomer and an aliphatic acrylate-based monomer.

特開2010−159369号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-159369 特開2013−112693号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-112693 特開平7−292323号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-292323 特許第5633511号公報Japanese Patent No. 5633511 特開2012−72328号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-72328

しかしながら、上記特許文献1の開示技術では、樹脂基板の表面への接着性に劣るものであった。また、上記特許文献2の開示技術では、高粘度であり流動性が低下し、モールドと基板で形成される型へ充填されるまでに長い時間や高い加圧が必要となるものであった。更に、粘度が低いと硬化収縮が比較的大きくなり、モールドの形状と転写後の樹脂形状に差異が生ずるため好ましくない。更に、特許文献3の開示技術では、接着剤として用いるには十分な性能を有しているが、光ナノインプリント用材料として用いる場合には、モールドへの接着が強力なため脱型できず、また硬くてもろいため、硬化時に樹脂内部で破壊が起こり、モールドのテクスチャーを埋めてしまうという問題がある。なお、一旦モールドのテクスチャーが埋まると、モールドの再使用は困難となる。また、硬化後の樹脂が硬くてもろいためフレキシブル性にも劣るものであった。 However, the disclosed technique of Patent Document 1 is inferior in adhesiveness to the surface of the resin substrate. Further, in the technique disclosed in Patent Document 2, the viscosity is high and the fluidity is lowered, and a long time and high pressurization are required until the mold formed of the mold and the substrate is filled. Further, if the viscosity is low, the curing shrinkage becomes relatively large, and the shape of the mold and the shape of the resin after transfer are different, which is not preferable. Further, the technique disclosed in Patent Document 3 has sufficient performance for use as an adhesive, but when used as a material for optical nanoimprint, it cannot be removed from the mold due to its strong adhesion to the mold. Since it is hard and brittle, there is a problem that it breaks inside the resin during curing and fills the texture of the mold. Once the texture of the mold is filled, it becomes difficult to reuse the mold. Moreover, since the cured resin is hard and brittle, it is also inferior in flexibility.

また、特許文献4においては、親水性のフィルムに対してよく接着するものの、基板に制約があり、特に、耐溶剤性に優れ、表面硬度が3H以上の光硬化樹脂への接着に関しては接着しない、または接着しにくいものである。また、特許文献5においては、脂肪族(メタ)アクリレート系オリゴマーと脂肪族アクリレート系モノマー用いた光硬化性接着剤の提案であるが、この材料は非常に低弾性率であり、高温下でテクスチャーの形状が維持できないため不適性である。 Further, in Patent Document 4, although it adheres well to a hydrophilic film, there are restrictions on the substrate, and in particular, it does not adhere to a photocurable resin having excellent solvent resistance and a surface hardness of 3H or more. , Or it is difficult to adhere. Further, Patent Document 5 proposes a photocurable adhesive using an aliphatic (meth) acrylate-based oligomer and an aliphatic acrylate-based monomer, but this material has a very low elastic modulus and is textured at a high temperature. It is unsuitable because the shape of the shape cannot be maintained.

そこで、本発明はこのような背景下において、樹脂基板の表面に、例えば、光ナノインプリントするにあたり、着色もなく、かかる樹脂表面との接着性、更にフレキシブル性に優れた光硬化性組成物を提供することを目的とするものである。 Therefore, under such a background, the present invention provides a photocurable composition which is not colored when, for example, optical nanoimprinting is performed on the surface of a resin substrate, and has excellent adhesiveness to the resin surface and further flexibility. The purpose is to do.

しかるに、本発明者等はかかる事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、光硬化性組成物において、該組成物の粘度、樹脂表面に対する接触角、硬化時の硬化収縮率、更には硬化樹脂のガラス転移温度を最適化することにより、着色もなく、接着性、フレキシブル性に優れることを見出し、本発明を完成した。 However, as a result of diligent research in view of such circumstances, the present inventors, etc., in the photocurable composition, the viscosity of the composition, the contact angle with respect to the resin surface, the curing shrinkage rate at the time of curing, and the glass of the cured resin. By optimizing the transition temperature, we found that there was no coloring and that it was excellent in adhesiveness and flexibility, and completed the present invention.

即ち、本発明の要旨は、下記の成分(A)〜(C)を含有してなる光硬化性組成物であって、該組成物の23℃における粘度が50〜300mPa・s、該組成物のポリメチルメタクリレート基材に対する接触角が25度以下、該組成物を硬化した際の硬化収縮率が6〜9%であり、該組成物を硬化した際のガラス転移温度が80〜150℃であることを特徴とする光硬化性組成物に関するものである。
成分(A):ビニル基、(メタ)アクリロイル基および(メタ)アクリルアミド基から選ばれる1個のエチレン性不飽和基を有する化合物
成分(B):脂環式ジイソシアネートと芳香族ポリカーボネートジオールと水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなり、2個以上のエチレン性不飽和基を有するウレタン(メタ)アクリレート
成分(C):光重合開始剤
That is, the gist of the present invention is a photocurable composition containing the following components (A) to (C), the composition having a viscosity at 23 ° C. of 50 to 300 mPa · s. The contact angle with respect to the polymethylmethacrylate base material is 25 degrees or less, the curing shrinkage rate when the composition is cured is 6 to 9%, and the glass transition temperature when the composition is cured is 80 to 150 ° C. It relates to a photocurable composition characterized by being present.
Component (A): Compound having one ethylenically unsaturated group selected from vinyl group, (meth) acryloyl group and (meth) acrylamide group Component (B): Contains alicyclic diisocyanate, aromatic polycarbonate diol and hydroxyl group Urethane (meth) acrylate component (C): a photopolymerization initiator that is formed by reacting (meth) acrylate and has two or more ethylenically unsaturated groups.

本発明の光硬化性組成物は、着色もなく、光ナノインプリント材料としても樹脂基板への接着性、モールドからの剥離性、フレキシブル性、光学特性と熱特性、機械特性に優れた特性を有しており、とりわけ光ナノインプリント用の材料に適したものである。 The photocurable composition of the present invention is not colored and has excellent properties such as adhesiveness to a resin substrate, peelability from a mold, flexibility, optical and thermal properties, and mechanical properties even as an optical nanoimprint material. It is particularly suitable for materials for optical nanoimprint.

以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称である。
また、本発明において、光ナノインプリントとの表現における「ナノ」とは100nm〜100000nm程度のサイズまでを含むものである。
The present invention will be described in detail below.
In the present invention, "(meth) acrylate" is a general term for acrylate and methacrylate.
Further, in the present invention, "nano" in the expression of optical nanoimprint includes a size of about 100 nm to 100,000 nm.

本発明の光硬化性組成物は、該組成物の23℃における粘度が50〜300mPa・s、該組成物のポリメチルメタクリレート基材に対する接触角が25度以下であり、該組成物を硬化した際の硬化収縮率が6〜9%であり、該組成物を硬化した際のガラス転移温度が40〜150℃である。 The photocurable composition of the present invention has a viscosity of the composition at 23 ° C. of 50 to 300 mPa · s, a contact angle of the composition with respect to a polymethylmethacrylate base material of 25 degrees or less, and the composition is cured. The curing shrinkage rate is 6 to 9%, and the glass transition temperature when the composition is cured is 40 to 150 ° C.

上記の粘度については、モールドへの流動性の点から、50〜300mPa・sであり、好ましくは70〜200mPa・s、特に好ましくは80〜100mPa・sであり、粘度が低いと硬化収縮が比較的大きくなりモールドの形状と転写後の形状に差異が生ずることとなり、高いとモールドのテクスチャーパターンへの流動性が低下し、モールドへ充填されるまでに長い時間や高い加圧が必要となる。 The above viscosity is 50 to 300 mPa · s, preferably 70 to 200 mPa · s, particularly preferably 80 to 100 mPa · s from the viewpoint of fluidity to the mold, and the curing shrinkage is compared when the viscosity is low. The target becomes large and a difference occurs between the shape of the mold and the shape after transfer. If the value is high, the fluidity of the mold to the texture pattern decreases, and a long time or high pressurization is required before the mold is filled.

上記の接触角については、硬化後の樹脂基板との接着性の点で、好ましくは25度以下であり、好ましくは5〜20度であり、接触角が大きいと樹脂基板との接着性が低下することとなる。逆に、極端に小さすぎる場合は微細なテクスチャーのモールドからの剥離が困難になる。接触角の制御は成分の種類と量により行うことができる。 The above contact angle is preferably 25 degrees or less, preferably 5 to 20 degrees in terms of adhesiveness to the resin substrate after curing, and if the contact angle is large, the adhesiveness to the resin substrate is lowered. Will be done. On the contrary, if it is extremely small, it becomes difficult to peel off the fine texture from the mold. The contact angle can be controlled by the type and amount of the components.

上記の硬化収縮率については、モールド転写の精度の点で、6〜9%であり、好ましくは6.5〜8.5%であり、特に好ましくは7〜8%である。収縮率が低いとモールドに密着して剥がれにくい現象が生ずることとなり、高いとモールドのテクスチャー形状と転写後の樹脂のテクスチャー形状に差異が生ずることとなる。 The curing shrinkage rate is 6 to 9%, preferably 6.5 to 8.5%, and particularly preferably 7 to 8% in terms of mold transfer accuracy. If the shrinkage rate is low, the phenomenon of sticking to the mold and being difficult to peel off occurs, and if it is high, the texture shape of the mold and the texture shape of the resin after transfer will be different.

本発明においては、基板への接着性やモールド転写性の点から、光硬化してなる硬化樹脂のガラス転移温度が80〜150℃となる光硬化性組成物であり、好ましくは80〜140℃であり、特に好ましくは80〜130℃である。かかるガラス転移温度が低すぎるとモールドから剥離する際に樹脂が微細な凹凸内に粘着して剥離しづらくなり、転写形状精度が低下する傾向があり、高すぎると剥離の際に樹脂の微細な凹凸に欠けが生ずる傾向がある。 In the present invention, the photocurable composition has a glass transition temperature of 80 to 150 ° C., preferably 80 to 140 ° C., from the viewpoint of adhesiveness to a substrate and mold transferability. It is particularly preferably 80 to 130 ° C. If the glass transition temperature is too low, the resin will adhere to the fine irregularities when peeling from the mold, making it difficult to peel, and the transfer shape accuracy will tend to decrease. If it is too high, the resin will be fine when peeling. The unevenness tends to be chipped.

即ち、本発明の光硬化性組成物を光硬化せしめて、硬化樹脂を形成し、かかる硬化樹脂のガラス転移温度が上記範囲であることが好ましい。
かかるガラス転移温度の調整は、光硬化性組成物の組成と比率を調整することにより得られる。
That is, it is preferable that the photocurable composition of the present invention is photocured to form a cured resin, and the glass transition temperature of the cured resin is in the above range.
The adjustment of the glass transition temperature is obtained by adjusting the composition and ratio of the photocurable composition.

本発明において、上記物性を満足する光硬化性組成物は、下記の成分(A)〜(C)を含有してなることで得られる。
成分(A):ビニル基、(メタ)アクリロイル基および(メタ)アクリルアミド基から選ばれる1個のエチレン性不飽和基を有する化合物
成分(B):脂環式ジイソシアネートと芳香族ポリカーボネートジオールと水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなり、2個以上のエチレン性不飽和基を有するウレタン(メタ)アクリレート
成分(C):光重合開始剤
In the present invention, the photocurable composition satisfying the above physical properties can be obtained by containing the following components (A) to (C).
Component (A): Compound having one ethylenically unsaturated group selected from vinyl group, (meth) acryloyl group and (meth) acrylamide group Component (B): Contains alicyclic diisocyanate, aromatic polycarbonate diol and hydroxyl group Urethane (meth) acrylate component (C): a photopolymerization initiator that is formed by reacting (meth) acrylate and has two or more ethylenically unsaturated groups.

上記成分(A)は、1個のエチレン性不飽和基を有する化合物であり、エチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基が挙げられる。中でも(メタ)アクリロイル基が好適に用いられる。なお、成分(A)は一種類用いても、複数を同時に用いてもよい。 The component (A) is a compound having one ethylenically unsaturated group, as the ethylenically unsaturated group, a bicycloalkyl group, (meth) acryloyl group, include (meth) acrylamide group. Of these, the (meth) acryloyl group is preferably used. One type of component (A) may be used, or a plurality of components (A) may be used at the same time.

ビニル基を有する化合物としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。 Examples of the compound having a vinyl group include styrene, vinyltoluene, N-vinylformamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam and the like.

(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロデカン、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロドデセン、イソボニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、2―メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリンなどが挙げられる。中でも 粘度や樹脂基板との接触角の点で(メタ)アクリロイルモルホリンが好ましい。 Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and stearyl. (Meta) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methacryloyloxymethyltetracyclodecane, methacryloyloxymethyltetracyclododecene, isobonyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, 2-methoxy Ethyl (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethylhexylcarbitol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N- (meth) Examples thereof include acryloyloxyethyl tetrahydrophthalimide, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and (meth) acryloylmorpholin. Of these, (meth) acryloyl morpholine is preferable in terms of viscosity and contact angle with the resin substrate.

(メタ)アクリルアミド基を有する化合物としては、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。 Examples of the compound having a (meth) acrylamide group include N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide and the like.

上記成分(B)は、2個以上のエチレン性不飽和基を有するウレタン(メタ)アクリレートであり、通常、ジイソシアネートとジオールと水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなるものである。 The component (B) is a urethane (meth) acrylate having two or more ethylenically unsaturated groups, and is usually formed by reacting a diisocyanate with a diol and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.

本発明においては、基板への接着性とモールド転写性の点で、脂環式ジイソシアネートと芳香族ポリカーボネートジオールと水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなるウレタン(メタ)アクリレートであることを特徴とするThe present invention is characterized in that it is a urethane (meth) acrylate obtained by reacting an alicyclic diisocyanate with an aromatic polycarbonate diol and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate in terms of adhesion to a substrate and mold transferability. To do .

上記脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、更にはこれらジイソシアネートの3量体化合物などが挙げられる。中でもモールド転写性の点でイソホロンジイソシアネートが好ましい。 Examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hydrogenated xylylene diisocyanate, and hydrogenated. Examples thereof include diphenylmethane diisocyanate and trimeric compounds of these diisocyanates. Of these, isophorone diisocyanate is preferable in terms of mold transferability.

上記芳香族ポリカーボネートジオールとしては、例えば、多価アルコールとホスゲンとの反応物;環状炭酸エステル(アルキレンカーボネートなど)の開環重合物などが挙げられる。中でも基板への接着性の点で多価アルコールはビスフェノールAが好ましい。 Examples of the aromatic polycarbonate diol include a reaction product of a polyhydric alcohol and phosgene; a ring-opening polymer of a cyclic carbonate (alkylene carbonate, etc.). Among them, bisphenol A is preferable as the polyhydric alcohol in terms of adhesiveness to the substrate.

また、芳香族ポリカーボネートジオール中のカーボネート構造単位の繰り返し数が10〜20であることが樹脂基板への接着性とモールド転写性の点で好ましく、特に好ましくは12〜18、更に好ましくは13〜16である。かかる繰り返し数が少なすぎると接着性が低下する傾向があり、多すぎると粘度が上昇する傾向がある。 Further, it is preferable that the number of repetitions of the carbonate structural unit in the aromatic polycarbonate diol is 10 to 20 in terms of adhesiveness to the resin substrate and mold transferability, particularly preferably 12 to 18, and even more preferably 13 to 16. Is. If the number of repetitions is too small, the adhesiveness tends to decrease, and if it is too large, the viscosity tends to increase.

上記水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。中でも硬化収縮率の点で単官能(メタ)アクリレートが好ましく、特には2−ヒドロキエチル(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include monofunctional (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; 2-hydroxy. -3- (Meta) Acryloyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate and other polyfunctional (meth) acrylates Can be mentioned. Among them, monofunctional (meth) acrylate is preferable in terms of curing shrinkage rate, and 2-hydrochiethyl (meth) acrylate is particularly preferable.

また、上記のジイソシアネート、ジオール及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてウレタン(メタ)アクリレート(B)を製造するに際しては、必要に応じて、ジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いることが好ましい。 Further, when the urethane (meth) acrylate (B) is produced by reacting the above-mentioned diisocyanate, diol and hydroxyl group-containing (meth) acrylate, it is preferable to use a catalyst such as dibutyltin dilaurate, if necessary.

かくして成分(B)は、上記のジイソシアネート、ジオール及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られるが、これらの中でも、硬化速度の点からアクリレートが好ましく、柔軟性の観点から2官能が好ましい。 Thus, the component (B) is obtained by reacting the above-mentioned diisocyanate, diol and hydroxyl group-containing (meth) acrylate. Among these, acrylate is preferable from the viewpoint of curing rate, and bifunctional is preferable from the viewpoint of flexibility.

成分(B)のウレタン(メタ)アクリレートは、2種以上混合して用いても良い。また、必要に応じて、さらに上記と異なる多官能ウレタン(メタ)アクリレートを混合してもよい。 The urethane (meth) acrylate of the component (B) may be used by mixing two or more kinds. Further, if necessary, a polyfunctional urethane (meth) acrylate different from the above may be further mixed.

成分(B)のウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、1000〜20000であることが好ましく、特には2000〜15000、更には3000〜10000であることが好ましい。かかる重量平均分子量が小さすぎると硬化樹脂自体がもろくなる傾向があり、大きすぎると光硬化性組成物としての粘度が高くなりモールド成形が困難になる傾向がある。 The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate of the component (B) is preferably 1000 to 20000, particularly preferably 2000 to 15000, and further preferably 3000 to 10000. If the weight average molecular weight is too small, the cured resin itself tends to be brittle, and if it is too large, the viscosity of the photocurable composition tends to be high, making molding difficult.

上記成分(C)は、光重合開始剤であり、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホシフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのラジカル開裂型の光重合開始剤が好ましい。これらの光重合開始剤(C)は単独で用いても、2種以上を併用してもよい。 The above component (C) is a photopolymerization initiator, for example, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin propyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4. , 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. Among these, radical cleavage type photopolymerization initiators such as 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide are preferable. These photopolymerization initiators (C) may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、上記成分(A)、成分(B)及び成分(C)を含有してなるものであるが、各成分の含有量については、成分(A)と成分(B)の合計100重量部に対して、成分(A)の含有量が50〜80重量部、成分(B)の含有量が20〜50重量部、成分(C)の含有量が0.01〜10重量部であることが好ましい。 In the present invention, the above-mentioned component (A), component (B) and component (C) are contained, but the content of each component is 100 in total of the component (A) and the component (B). With respect to parts by weight, the content of the component (A) is 50 to 80 parts by weight, the content of the component (B) is 20 to 50 parts by weight, and the content of the component (C) is 0.01 to 10 parts by weight. It is preferable to have.

成分(A)の好ましい含有量は55〜70重量部であり、特に好ましくは60〜70重量部であり、成分(B)の好ましい含有量は30〜45重量部であり、特に好ましくは30〜40重量部である。成分(A)の含有量が少なすぎ、成分(B)の含有量が多すぎると粘度が高くなる傾向にあり、高粘度ではナノインプリントの微細なテクスチャーへの組成物の流動性が低下する傾向があり、成分(A)の含有量が多すぎ、成分(B)の含有量が少なすぎると硬化樹脂の柔軟性が低下し接着性が低下する傾向がある。 The preferable content of the component (A) is 55 to 70 parts by weight, particularly preferably 60 to 70 parts by weight, and the preferable content of the component (B) is 30 to 45 parts by weight, particularly preferably 30 to 70 parts by weight. It is 40 parts by weight. If the content of the component (A) is too low and the content of the component (B) is too high, the viscosity tends to increase, and at a high viscosity, the fluidity of the composition to the fine texture of nanoimprint tends to decrease. If the content of the component (A) is too large and the content of the component (B) is too small, the flexibility of the cured resin tends to decrease and the adhesiveness tends to decrease.

成分(C)の好ましい含有量は、成分(A)と成分(B)の合計100重量部に対して、0.05〜5重量部であり、特に好ましくは0.1〜3重量部である。成分(C)の含有量が少なすぎると重合速度が低下し、重合が十分に進行しにくい傾向があり、多すぎると着色の原因となる傾向がある。 The preferable content of the component (C) is 0.05 to 5 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the component (A) and the component (B). .. If the content of the component (C) is too small, the polymerization rate is lowered, and the polymerization tends to be difficult to proceed sufficiently, and if it is too large, it tends to cause coloring.

本発明においては、本発明の目的を損ねない範囲で、少量の補助成分を含んでいても良い。例えば、成分(A)及び(B)以外のエチレン性不飽和基を有する単量体、重合禁止剤、熱重合開始剤、連鎖移動剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レべリング剤、ブルーイング剤、染顔料、フィラーなどである。 In the present invention, a small amount of auxiliary components may be contained as long as the object of the present invention is not impaired. For example, a monomer having an ethylenically unsaturated group other than the components (A) and (B), a polymerization inhibitor, a thermal polymerization initiator, a chain transfer agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, and a level. Ring agents, brewing agents, dye pigments, fillers, etc.

成分(A)及び(B)以外のエチレン性不飽和結合を有する単量体としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコール以上のポリエチレングリコールのジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ1,3−ジ(メタ)アクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=アクリレートメタクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=アクリレートメタクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=アクリレートメタクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=アクリレートメタクリレート、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル]プロパン、1,3−ビス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(メタクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メタクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサンなどの2官能(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,3,5−トリス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3,5−トリス(メタクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサンなどの3官能以上の(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the monomer having an ethylenically unsaturated bond other than the components (A) and (B) include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and tetra. Di (meth) acrylate of polyethylene glycol above ethylene glycol, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxy1 , 3-Di (meth) acryloxypropane, 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyphenyl] propane, bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-di (meth) ) Acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = acrylate methacrylate , Bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] Decane = acrylate methacrylate, Bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] Pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] Pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] Pentadecane = acrylate methacrylate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] Pentadecane = acrylate methacrylate, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,3-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3-bis (methacryloyloxyethyl) Bifunctional (meth) acrylates such as oxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis (methacryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane; trimethylpropantri (meth) acrylate, 1, Examples thereof include trifunctional or higher functional (meth) acrylates such as 3,5-tris (methacryloyloxymethyl) cyclohexane and 1,3,5-tris (methacryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane.

成分(A)及び(B)以外のエチレン性不飽和結合を有する単量体の含有量は、成分(A)と成分(B)の合計100重量部に対して、30重量部以下、更には20重量部以下、特には10重量部以下であることが好ましい。含有量が多すぎると粘度や基板との接触角に不都合が生じる傾向にある。 The content of the monomer having an ethylenically unsaturated bond other than the components (A) and (B) is 30 parts by weight or less, moreover, with respect to 100 parts by weight of the total of the component (A) and the component (B). It is preferably 20 parts by weight or less, particularly preferably 10 parts by weight or less. If the content is too large, the viscosity and the contact angle with the substrate tend to be inconvenient.

熱重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができる。例えば、ハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、ジt−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)等のパーオキシエステル、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。 A known compound can be used as the thermal polymerization initiator. For example, hydroperoxides such as hydroperoxide, t-butylhydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, etc. Dialkyl peroxides such as, t-butyl peroxybenzoate, peroxy esters such as t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate), diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, peroxy carbonates such as diisopropyl peroxy carbonate. , Peroxyketal, ketone peroxide and other peroxides.

連鎖移動剤としては、多官能メルカプタン化合物が好ましい。多官能メルカプタン化合物としては、例えば、ペンタエリスルトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネートなどが挙げられる。これらの多官能メルカプタン系化合物は、光硬化性組成物100重量部に対して、通常10重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には5重量部以下、特には3重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、組成物の保存安定性が低下する傾向がある。 As the chain transfer agent, a polyfunctional mercaptan compound is preferable. Examples of the polyfunctional mercaptan compound include pentaerythritol tetrakisthioglycolate and pentaerythritol tetrakisthiopropionate. These polyfunctional mercaptan compounds are preferably used in a ratio of usually 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the photocurable composition, and more preferably 5 parts by weight or less, particularly 3 parts by weight or less. preferable. If the amount used is too large, the storage stability of the composition tends to decrease.

酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−s−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェノール、n−オクタデシル−β−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−
ブチルフェニル)プロピオネート、2,6−ジ−t−ブチル−4−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、2,4−ビス(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、4,4−
メチレン−ビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、1,6−ヘキサンジオールビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、4,4’−ジ−
チオビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−トリ−チオビス(2,6
−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2−チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビ
ス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロキシヒドロシンナミド、N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]
ヒドラジン、カルシウム(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)モノエチルフォスフォネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス(3,5−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)イソシアヌレート、トリス(3,5−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス−2[3(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチルイソシアネート、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスファイト−ジエチルエステル等の化合物が挙げられ、これらの化合物は、単独または2種以上併用してもよい。これらの中でも、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンが、色相を抑制する効果が大きくなる点から特に好ましい。
Examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butylphenol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 2,4,6-tri-t-butylphenol, and 2,6-di-. t-Butyl-4-s-butylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-hydroxymethylphenol, n-octadecyl-β- (4'-hydroxy-3', 5'-di-t-
Butylphenyl) propionate, 2,6-di-t-butyl-4- (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, 2 , 4-Bis (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3', 5'-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, 4,4-
Methylene-bis (2,6-di-t-butylphenol), 1,6-hexanediol bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], bis (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) sulfide, 4,4'-di-
Thiobis (2,6-di-t-butylphenol), 4,4'-tri-thiobis (2,6)
-Di-t-butylphenol), 2,2-thiodiethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N'-hexamethylenebis- (3,5) -Di-t-Butyl-4-hydroxyhydroxyhydrocinnamide, N, N'-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl]
Hydrazine, calcium (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) monoethylphosphonate, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl) -4-Hydroxybenzyl) benzene, tris (3,5-di t-butyl-4-hydroxyphenyl) isocyanurate, tris (3,5-di t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 1,3 5-Tris-2 [3 (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl isocyanate, tetrakis [methylene-3- (3', 5'-di-t-butyl-4-) Hydroxyphenyl) propionate] Compounds such as methane and 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphite-diethyl ester can be mentioned, and these compounds may be used alone or in combination of two or more. Among these, tetrakis [methylene-3- (3', 5'-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane is particularly preferable because it has a large effect of suppressing hue.

酸化防止剤の含有量は、光硬化性組成物100重量部に対して、通常0.001〜1重量部であることが好ましく、特に好ましくは0.01〜0.5重量部である。かかる酸化防止剤が少なすぎると耐光性や耐熱性が低下する傾向があり、多すぎると光線透過率が低下する傾向にある。 The content of the antioxidant is usually preferably 0.001 to 1 part by weight, particularly preferably 0.01 to 0.5 part by weight, based on 100 parts by weight of the photocurable composition. If the amount of the antioxidant is too small, the light resistance and heat resistance tend to decrease, and if the amount is too large, the light transmittance tends to decrease.

かくして本発明の光硬化性組成物が得られる。
次に、本発明の光硬化性組成物を用いて、例えば、光ナノインプリント等に適用する場合など、光により硬化が行われる。
Thus, the photocurable composition of the present invention is obtained.
Next, the photocurable composition of the present invention is cured by light, for example, when it is applied to optical nanoimprint or the like.

本発明における硬化方法としては、上記光硬化性組成物を、波長200〜400nmの紫外線を用いて、照射光量0.1〜100J/cm2以下で光硬化することが好ましい。照射光量のより好ましい範囲は1〜50J/cm2、更に好ましくは5〜30J/cm2である。照射光量が多すぎると生産性が低下する傾向があり、少なすぎると重合が不充分となる傾向にある。紫外線の照度は、10〜5000mW/cm2、特には100〜1000mW/cm2であることが好ましい。照度が小さすぎると硬化樹脂の内部まで十分に硬化しない傾向があり、逆に、照度が大きすぎると重合が暴走し複屈折が増大する傾向がある。 As a curing method in the present invention, it is preferable that the photocurable composition is photocured using ultraviolet rays having a wavelength of 200 to 400 nm at an irradiation light amount of 0.1 to 100 J / cm 2 or less. A more preferable range of the irradiation light amount is 1 to 50 J / cm 2 , and more preferably 5 to 30 J / cm 2 . If the amount of irradiation light is too large, the productivity tends to decrease, and if it is too small, the polymerization tends to be insufficient. The illuminance of ultraviolet rays is preferably 10 to 5000 mW / cm 2 , particularly preferably 100 to 1000 mW / cm 2 . If the illuminance is too low, the inside of the cured resin tends not to be sufficiently cured, and conversely, if the illuminance is too high, the polymerization tends to run away and the birefringence tends to increase.

紫外線源としては、光重合で通常用いられるものであればよく、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ、無電極水銀ランプ、LEDランプ等が挙げられる。光源から発生する赤外線により重合が暴走するのを防ぐため、ランプに赤外線を遮断するフィルターや赤外線を反射しない鏡等を用いることも可能である。本発明で得られた硬化樹脂は、より重合度の向上のため、あるいは応力ひずみ開放のために熱処理することも好ましく、特に100℃以上で熱処理することが好ましい。 The ultraviolet source may be any one usually used in photopolymerization, and examples thereof include metal halide lamps, high-pressure mercury lamps, electrodeless mercury lamps, and LED lamps. In order to prevent the polymerization from running out of control due to infrared rays generated from the light source, it is also possible to use a filter that blocks infrared rays, a mirror that does not reflect infrared rays, or the like for the lamp. The cured resin obtained in the present invention is preferably heat-treated for improving the degree of polymerization or releasing stress-strain, and is particularly preferably heat-treated at 100 ° C. or higher.

また、本発明においては、光硬化してなる硬化樹脂において、空気中で150℃にて、1時間加熱した際に、b*値の変化量と硬化樹脂の厚みとの関係が下記の式(1)を満たすものとなることが好ましく、特に好ましくは式(2)、更に好ましくは式(3)を満たすものである。 Further, in the present invention, in the cured resin obtained by photocuring, the relationship between the amount of change in the b * value and the thickness of the cured resin when heated in air at 150 ° C. for 1 hour is described by the following formula ( It is preferable that it satisfies 1), particularly preferably it satisfies the formula (2), and more preferably it satisfies the formula (3).

*値の変化量/T≦1 ・・・(1)
*値の変化量/T≦0.8 ・・・(2)
*値の変化量/T≦0.5 ・・・(3)
T:硬化樹脂の厚み(mm)
b * Value change / T ≦ 1 ・ ・ ・ (1)
b * Value change / T ≦ 0.8 ・ ・ ・ (2)
b * Value change / T ≦ 0.5 ・ ・ ・ (3)
T: Thickness of cured resin (mm)

更に、本発明においては、樹脂基材間で光硬化してなる硬化樹脂において、樹脂基板と良好な接着性を有するものであり、JIS K6856の接着剤の曲げ接着強さ試験方法で測定した際の曲げ接着強さが、250mN/mm2以上となることが好ましい。上限は通常1000mN/mm2である。かかる接着強度が小さすぎると転写した樹脂基板から剥離してしまうおそれがある。なお、大きすぎると樹脂基板からの剥離は起こらないが、モールドからの剥離に支障をきたす傾向がある。また、硬化樹脂のフレキシブル性の観点からも、かかる曲げ接着強さは上記範囲内であることが好ましい。
さらに、樹脂基板の表面にSiOxが蒸着もしくはスパッタにて形成されている場合においても、接着性が向上し、SiOx表面を模擬的に表現したスライドガラスを用いて試験した曲げ接着強さにおいても高い接着強度を得ることができる。
Further, in the present invention, the cured resin photocured between the resin substrates has good adhesiveness to the resin substrate, and when measured by the bending adhesive strength test method of the JIS K6856 adhesive. The bending adhesive strength of the above is preferably 250 mN / mm 2 or more. The upper limit is usually 1000 mN / mm 2 . If the adhesive strength is too small, it may peel off from the transferred resin substrate. If it is too large, peeling from the resin substrate does not occur, but it tends to hinder peeling from the mold. Further, from the viewpoint of the flexibility of the cured resin, the bending adhesive strength is preferably within the above range.
Further, even when SiO x is formed on the surface of the resin substrate by vapor deposition or sputtering, the adhesiveness is improved, and in the bending adhesive strength tested using a slide glass that simulates the SiO x surface. Can also obtain high adhesive strength.

本発明においては、上記光硬化性組成物を用いて光ナノインプリントに適用することが好ましく、光ナノインプリントする樹脂基板としては、例えば、ポリメチル(メタ)アクリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、(メタ)アクリル系の樹脂基板が好適に使われる。(メタ)アクリル系の樹脂は、熱可塑性であるポリメチルメタクリレート樹脂のほかに、(メタ)アクリル系のモノマーやオリゴマーを光や熱で重合した硬化樹脂も用いることができる。 In the present invention, it is preferable to apply the above photocurable composition to optical nanoimprint, and examples of the resin substrate for optical nanoimprint include polymethyl (meth) acrylate resin, polyethylene terephthalate resin, and polycarbonate resin. However, a (meth) acrylic resin substrate is preferably used. As the (meth) acrylic resin, in addition to the thermoplastic polymethylmethacrylate resin, a cured resin obtained by polymerizing a (meth) acrylic monomer or oligomer with light or heat can also be used.

また、上記の熱可塑性樹脂基板の表面に鉛筆硬度が3H以上の光硬化性のハードコート層が塗布された基板やSiOX膜が蒸着やスパッタにより形成されている樹脂基板も利用することができる。 Further, a substrate in which a photocurable hard coat layer having a pencil hardness of 3H or more is coated on the surface of the above-mentioned thermoplastic resin substrate or a resin substrate in which a SiO X film is formed by vapor deposition or sputtering can also be used. ..

かくして本発明の光硬化性組成物が得られ、特に、樹脂基板の樹脂表面に光ナノプリントをするための光硬化性組成物として、着色もなく、接着性、モールド転写性、フレキシブル性にも優れたものとなり、非常に有用である。 Thus, the photocurable composition of the present invention can be obtained, and in particular, as a photocurable composition for optical nanoprinting on the resin surface of a resin substrate, there is no coloring, and adhesiveness, mold transferability, and flexibility are also obtained. It will be excellent and very useful.

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
尚、例中「部」、「%」とあるのは、重量基準を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.
In the example, "part" and "%" mean a weight standard.

(1)粘度(mPa・s)
BROOKFIELD社製B型粘度計「LV DV−E」を用いて23℃、回転数60rpmで測定した。
(1) Viscosity (mPa · s)
The measurement was performed at 23 ° C. and a rotation speed of 60 rpm using a B-type viscometer "LV DV-E" manufactured by BROOKFIELD.

(2)樹脂基板との接触角(度)
ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA:アクリライト 三菱レイヨン社製)を樹脂基板とし、協和界面科学社製「自動接触角計CA−V150型」を用い、21ゲージで針先角度90°の注射器に、光硬化性組成物を入れ、注射針より作製される液滴を上記樹脂基板と接触、落液させ測定し、θ/2法で、接触角を算出した。測定雰囲気は23℃、65%RHである。
(2) Contact angle (degrees) with the resin substrate
Using polymethylmethacrylate resin (PMMA: Acrylic, manufactured by Mitsubishi Rayon) as a resin substrate and using "Automatic Contact Angle Meter CA-V150" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., a 21-gauge syringe with a needle tip angle of 90 ° is used for light. The curable composition was put in, and the droplets produced from the injection needle were contacted with the resin substrate and dropped to measure, and the contact angle was calculated by the θ / 2 method. The measurement atmosphere is 23 ° C. and 65% RH.

(3)硬化収縮率(%)
硬化前の光硬化性組成物の密度ρ0を、23℃で測定した該組成物の体積と重量から計算し、また、硬化後の硬化樹脂の密度ρ1を、JIS K7112に準拠して、水中で測定して求めた。これらの密度からJIS K7147に準拠して硬化収縮率を下記式から算出した。
硬化収縮率(%)=(ρ0−ρ1)×100/ρ1
(3) Curing shrinkage rate (%)
The density ρ 0 of the photocurable composition before curing was calculated from the volume and weight of the composition measured at 23 ° C., and the density ρ 1 of the cured resin after curing was determined in accordance with JIS K7112. Obtained by measuring in water. From these densities, the curing shrinkage rate was calculated from the following formula according to JIS K7147.
Curing shrinkage rate (%) = (ρ 0 −ρ 1 ) × 100 / ρ 1

(4)ガラス転移温度(Tg)(℃)
研磨ガラス板2枚を対向させ、厚さ0.7mmのシリコン板をスペーサーとした成形型に、光硬化性組成物を注液し、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cm2、光量25J/cm2で紫外線を照射した。照射により硬化させた後、脱型し得られた樹脂を、200℃の真空オーブン中で2時間加熱して、縦140mm×横140mm×厚さ0.7mmの硬化樹脂を得た。
かかる硬化樹脂を縦20mm×横5mmのサイズにカットしたものを試験片として、レオロジ社製動的粘弾性装置「DVE−V4型 FTレオスペクトラー」の引っ張りモードを用いて、周波数10Hz、昇温速度3℃/分、歪0.025%で測定を行なった。得られた複素弾性率実数部(貯蔵弾性率)に対する虚数部(損失弾性率)の比(tanδ)を求め、このtanδの最大ピーク温度をガラス転移温度(Tg)(℃)とした。
(4) Glass transition temperature (Tg) (° C)
The photocurable composition is poured into a molding mold in which two polished glass plates face each other and a silicon plate having a thickness of 0.7 mm is used as a spacer, and an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light intensity of 25 J / are used using a metal halide lamp. Ultraviolet rays were irradiated at cm 2 . After being cured by irradiation, the resin obtained by demolding was heated in a vacuum oven at 200 ° C. for 2 hours to obtain a cured resin having a length of 140 mm, a width of 140 mm, and a thickness of 0.7 mm.
A test piece obtained by cutting the cured resin into a size of 20 mm in length × 5 mm in width is used as a test piece, and the temperature is raised at a frequency of 10 Hz using the tension mode of the dynamic viscoelastic device “DVE-V4 type FT Leospector” manufactured by Rheology. The measurement was performed at a speed of 3 ° C./min and a strain of 0.025%. The ratio (tan δ) of the imaginary part (loss elastic modulus) to the real part (storage elastic modulus) of the obtained complex elastic modulus was determined, and the maximum peak temperature of this tan δ was defined as the glass transition temperature (Tg) (° C.).

(5)曲げ接着強さ(N/mm)
基板として、(1)ポリメチルメタクリレート樹脂(三菱レイヨン社製アクリライト)(幅25mm、長さ100mm、厚さ1mm)、(2)クラウンガラスのスライドガラス(幅25mm、長さ100mm、厚さ1mm)、(3)下記の通り作製した、表面の鉛筆硬度が4Hである光硬化樹脂基板(幅25mm、長さ100mm、厚さ1mm)を用いた。
(5) Bending adhesive strength (N / mm)
As substrates, (1) polymethylmethacrylate resin (Acrylite manufactured by Mitsubishi Rayon) (width 25 mm, length 100 mm, thickness 1 mm), (2) crown glass slide glass (width 25 mm, length 100 mm, thickness 1 mm). ), (3) A photocurable resin substrate (width 25 mm, length 100 mm, thickness 1 mm) having a surface pencil hardness of 4H prepared as described below was used.

<表面の鉛筆硬度が4Hである光硬化樹脂基板の作製>
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート53.34g(0.24モル)、2−ヒドロキシエチルアクリレート55.73g(0.48モル)、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル0.02g、反応触媒としてジブチルスズジラウレート0.02g、メチルエチルケトン500gを仕込み、60℃で3時間反応させ、残存イソシアネート基が0.3%となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してイソホロン骨格含有2官能ウレタンアクリレートを得た。
上記ウレタンアクリレート10部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジアクリレート(新中村化学社製「A−DCP」)90部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製「Irgacure184」)1部を、60℃にて均一になるまで撹拌した後、光硬化性組成物(α)を得た。
得られた光硬化性組成物(α)を厚さ1mmのシリコン板をスペーサーを挟んで対向させた2枚のガラスの間隙に注入し、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cm2、光量25J/cm2で紫外線を照射した。脱型し得られた硬化樹脂を、180℃の真空オーブン中で2時間加熱して光硬化樹脂基板を得た。
なお、上記に記載の光硬化性組成物において、樹脂基板作製用の光硬化性組成物を「光硬化性組成物(α)」と表記した。
<Manufacturing a photocurable resin substrate with a surface pencil hardness of 4H>
53.34 g (0.24 mol) of isophorone diisocyanate, 55.73 g (0.48 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate, polymerized in a four-port flask equipped with a thermometer, a stirrer, a water-cooled condenser, and a nitrogen gas inlet. 0.02 g of hydroquinone methyl ether as a banning agent, 0.02 g of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst, and 500 g of methyl ethyl ketone were charged and reacted at 60 ° C. for 3 hours, and the reaction was terminated when the residual isocyanate group became 0.3%. The solvent was distilled off to obtain an isophorone skeleton-containing bifunctional urethane acrylate.
10 parts of urethane acrylate, 90 parts of bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-diacrylate ("A-DCP" manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone) A part of BASF's "Irgacure 184") was stirred at 60 ° C. until uniform, and then a photocurable composition (α) was obtained.
The obtained photocurable composition (α) was injected into a gap between two glass plates having a thickness of 1 mm and facing each other with a spacer in between, and an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light intensity of 25 J were used using a metal halide lamp. Ultraviolet rays were irradiated at / cm 2 . The cured resin obtained by demolding was heated in a vacuum oven at 180 ° C. for 2 hours to obtain a photocurable resin substrate.
In the photocurable composition described above, the photocurable composition for producing a resin substrate is referred to as "photocurable composition (α)".

<曲げ接着強さ測定用の試験片の作製>
幅25mm、長さ100mm、厚み1mmの上記(1)〜(3)の基板上に、0.01gの光硬化性組成物を滴下し、幅25mm、長さ12.5mmの接着しろ(重ねあわせ部分の面積312.5mm2)で、2枚目の上記(1)〜(3)の基板を重ね、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cm2、光量4J/cm2で紫外線を照射し、試験片を作製した。
<Preparation of test pieces for measuring bending adhesive strength>
0.01 g of the photocurable composition was dropped onto the substrates (1) to (3) having a width of 25 mm, a length of 100 mm and a thickness of 1 mm, and a bonding margin of 25 mm in width and 12.5 mm in length (overlapping). The second substrate (1) to (3) is superposed on the area of the portion (312.5 mm 2 ), and ultraviolet rays are irradiated with an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light intensity of 4 J / cm 2 using a metal halide lamp. A test piece was prepared.

<曲げ接着強さ(N/mm2)の測定>
次に、JIS K6856に準拠して、上記曲げ接着強さ測定用の試験片を用いて、曲げ接着強さを測定した。荷重部の移動距速度は毎分10mmとした。曲げ接着強さは下記の式にて算出した。
曲げ接着強さ(N/mm2)=最大荷重(N)/試験片の重ねあわせ部分の面積(mm2
<Measurement of bending adhesive strength (N / mm 2 )>
Next, in accordance with JIS K6856, the bending adhesive strength was measured using the test piece for measuring the bending adhesive strength. The moving distance speed of the load portion was set to 10 mm per minute. The bending adhesive strength was calculated by the following formula.
Bending adhesive strength (N / mm 2 ) = maximum load (N) / area of the overlapped part of the test piece (mm 2 )

(6)着色評価
〔b*値の測定〕
研磨ガラス板2枚を対向させ、厚さ0.7mmのシリコン板をスペーサーとした成形型に、光硬化性組成物を注液し、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cm2、光量25J/cm2で紫外線を照射した。照射により硬化させた後、脱型し得られた硬化物を、200℃の真空オーブン中で2時間加熱して、縦50mm×横50mm×厚さ0.7mmの樹脂成形体(試験片)を得た。
(6) Coloring evaluation [measurement of b * value]
The photocurable composition is poured into a molding mold in which two polished glass plates face each other and a silicon plate having a thickness of 0.7 mm is used as a spacer, and an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light intensity of 25 J / are used using a metal halide lamp. Ultraviolet rays were irradiated at cm 2 . After curing by irradiation, the cured product obtained by demolding is heated in a vacuum oven at 200 ° C. for 2 hours to form a resin molded product (test piece) having a length of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 0.7 mm. Obtained.

得られた樹脂成形体(試験片)を2枚用意し、150℃の熱風乾燥機中に1時間放置し、取り出した後放冷し、日本電色工業社製Spectrophotometer「SE6000」を用いて、透過測定モードにより加熱前後のb*値を測定し、2枚の平均値を算出した。
〔厚み(mm)の測定〕
マイクロメータを用いて測定した。
〔b*値の変化量〕
上記の加熱前のb*値をb0、150℃1時間加熱後のb*値をb1とし、b*値の変化量を算出した。
そして、上記b*値の変化量と硬化樹脂の厚みから「b*値の変化量/T」の値を算出した。
Two obtained resin molded bodies (test pieces) were prepared, left in a hot air dryer at 150 ° C. for 1 hour, taken out, and then allowed to cool. Using a Spectrophotometer "SE6000" manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., The b * value before and after heating was measured in the permeation measurement mode, and the average value of the two sheets was calculated.
[Measurement of thickness (mm)]
It was measured using a micrometer.
[B * Value change]
The amount of change in the b * value was calculated by setting the b * value before heating as b 0 and the b * value after heating at 150 ° C. for 1 hour as b 1 .
Then, to calculate the value of "b * value of the change amount / T" from the thickness variation and the cured resin of the b * value.

<実施例1〜3、比較例1〜3>
[光硬化性組成物の調製]
表1に記載の通り、各成分を配合し、60℃にて均一になるまで撹拌して光硬化性組成物を得た。
得られた光硬化性組成物について、上記の通り各性能、各物性を測定し、評価した。
実施例及び比較例の評価結果も表1に合わせて示した。
<Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3>
[Preparation of photocurable composition]
As shown in Table 1, each component was blended and stirred at 60 ° C. until uniform to obtain a photocurable composition.
Each performance and each physical property of the obtained photocurable composition was measured and evaluated as described above.
The evaluation results of Examples and Comparative Examples are also shown in Table 1.

注)各成分は下記の通りであり、( )内の数値は配合重量部である。
(*):未測定
〔成分(A)〕
・ACMO:アクリロイルモルホリン(KJケミカルズ社製)
・DMAA:N−ジメチルアクリルアミド(KJケミカルズ社製)
・THFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート(大阪有機化学工業 「ビスコート#150」)
・MOI:2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製「カレンズMOI」)
Note) Each component is as follows, and the values in parentheses are the parts by weight.
(*): Not measured [Component (A)]
・ ACMO: Acryloyl morpholine (manufactured by KJ Chemicals)
DMAA: N-dimethylacrylamide (manufactured by KJ Chemicals)
-THFA: Tetrahydrofurfuryl acrylate (Osaka Organic Chemical Industry "Viscoat # 150")
-MOI: 2-methacryloyloxyethyl isocyanate ("Karenzu MOI" manufactured by Showa Denko KK)

〔成分(B)〕
・B−1:下記方法で得られた2官能の脂環骨格を有するポリカーボネート系ウレタンアクリレート
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート29.9g(0.14モル)、ポリカーボネートジオール54.2g(水酸基価139.5mgKOH/g;水酸基価から計算される分子量804;0.07モル)、反応触媒としてジブチルスズジラウレート0.02gを仕込み、60℃で反応させた。残存イソシアネート基が6.7%以下となった時点で、2−ヒドロキシエチルアクリレート15.9g(0.14モル)、重合禁止剤としてメトキシフェノール0.04gをさらに仕込み、60℃で反応させ、残存イソシアネート基が0.3%以下となった時点で反応を終了し、ウレタン(メタ)アクリレート(B−1)(官能基数:2、重量平均分子量:約5000)を得た。
[Component (B)]
B-1: Isophorone diisocyanate 29.9 g in a four-necked flask equipped with a polycarbonate urethane acrylate thermometer having a bifunctional alicyclic skeleton, a stirrer, a water-cooled condenser, and a nitrogen gas inlet obtained by the following method. (0.14 mol), 54.2 g of polycarbonate diol (hydroxyl value 139.5 mgKOH / g; molecular weight calculated from hydroxyl value 804; 0.07 mol), 0.02 g of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst were charged, and at 60 ° C. It was reacted. When the residual isocyanate group became 6.7% or less, 15.9 g (0.14 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate and 0.04 g of methoxyphenol as a polymerization inhibitor were further charged and reacted at 60 ° C. to remain. The reaction was terminated when the isocyanate group content was 0.3% or less to obtain urethane (meth) acrylate (B-1) (number of functional groups: 2, weight average molecular weight: about 5000).

・B−2:下記方法で得られた6官能の脂環骨格を有するウレタンアクリレート
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えたフラスコに、イソホロンジイソシアネート192.0g(0.86モル)と、ペンタエリスリトールトリアクリレート〔ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(水酸基価120mgKOH/g)〕808.0g(1.73モル)を仕込み、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル0.01g、反応触媒としてジブチルスズジラウレート0.01gを仕込み、60℃で8時間反応させ、残存イソシアネート基が0.3%以下となった時点で反応を終了し、ウレタン(メタ)アクリレート(B−2)を得た。
B-2: 192.0 g (0.86 mol) of isophorone diisocyanate in a flask equipped with a urethane acrylate thermometer having a hexafunctional alicyclic skeleton, a stirrer, a water-cooled condenser, and a nitrogen gas inlet obtained by the following method. ) And 808.0 g (1.73 mol) of pentaerythritol triacrylate [mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (hydroxyl value 120 mgKOH / g)], 0.01 g of hydroquinone methyl ether as a polymerization inhibitor, 0.01 g of dibutyltin dilaurate was charged as a reaction catalyst and reacted at 60 ° C. for 8 hours, and the reaction was terminated when the residual isocyanate group became 0.3% or less to obtain urethane (meth) acrylate (B-2). It was.

・UN9200A:根上工業社製「アートレジン」 -UN9200A: "Art Resin" manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.

〔成分(C)〕
・I184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製「Irgacure184」)
[Component (C)]
-I184: 1-Hydroxycyclohexylphenyl ketone (BASF's "Irgacure 184")

〔その他〕
・ADE−200:ポリエチレングリコールジアクリレート(日油社製「ブレンマーADE−200」
A−TMPT:トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学社製)
・DCP:ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート(新中村化学社製)
[Other]
-ADE-200: Polyethylene glycol diacrylate (NOF Corporation "Blemmer ADE-200" )
· A-TMPT: trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-DCP: Bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] Decane-dimethacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.)

上記評価結果より、実施例1においては、ポリメチルメタクリレート樹脂、スライドガラス、鉛筆硬度4Hの光硬化樹脂基材に対する接着性が良好であった。また、実施例2及び3においても、ポリメチルメタクリレート樹脂、スライドガラスへの接着性が良好であった。また、いずれの実施例においても加熱時の着色が少ないものであった。一方、比較例1では、粘度が高くモールドのテクスチャーパターンへの流動性が不充分であると推測される。更に比較例2及び3では、ポリメチルメタクリレート樹脂、スライドガラスへの接着性が不充分なものであった。 From the above evaluation results, in Example 1, the adhesiveness to the polymethylmethacrylate resin, the slide glass, and the photocurable resin substrate having a pencil hardness of 4H was good. Further, also in Examples 2 and 3, the adhesiveness to the polymethylmethacrylate resin and the slide glass was good. Moreover, in all the examples, the coloring at the time of heating was small. On the other hand, in Comparative Example 1, it is presumed that the viscosity is high and the fluidity of the mold to the texture pattern is insufficient. Further, in Comparative Examples 2 and 3, the adhesiveness to the polymethylmethacrylate resin and the slide glass was insufficient.

本発明の光硬化性組成物は、光硬化してなる硬化樹脂と樹脂基板との接着において、着色もなく、接着性、フレキシブル性に優れるものとなり、例えば、光ナノインプリントをするための光硬化性組成物として非常に有用である。 The photocurable composition of the present invention has excellent adhesiveness and flexibility without coloring in the adhesion between the photocurable cured resin and the resin substrate. For example, the photocurable composition for optical nanoimprinting is performed. It is very useful as a composition.

Claims (5)

下記の成分(A)〜(C)を含有してなる光硬化性組成物であって、該組成物の23℃における粘度が50〜300mPa・s、該組成物のポリメチルメタクリレート基材に対する接触角が25度以下、該組成物を硬化した際の硬化収縮率が6〜9%であり、該組成物を硬化した際のガラス転移温度が80〜150℃であることを特徴とする光硬化性組成物。
成分(A):ビニル基、(メタ)アクリロイル基および(メタ)アクリルアミド基から選ばれる1個のエチレン性不飽和基を有する化合物
成分(B):脂環式ジイソシアネートと芳香族ポリカーボネートジオールと水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなり、2個以上のエチレン性不飽和基を有するウレタン(メタ)アクリレート
成分(C):光重合開始剤
A photocurable composition containing the following components (A) to (C) having a viscosity of 50 to 300 mPa · s at 23 ° C. of the composition, and contact of the composition with a polymethylmethacrylate base material. The photocuring feature is that the angle is 25 degrees or less, the curing shrinkage rate when the composition is cured is 6 to 9%, and the glass transition temperature when the composition is cured is 80 to 150 ° C. Sex composition.
Component (A): Compound having one ethylenically unsaturated group selected from vinyl group, (meth) acryloyl group and (meth) acrylamide group Component (B): Contains alicyclic diisocyanate, aromatic polycarbonate diol and hydroxyl group Urethane (meth) acrylate component (C): a photopolymerization initiator that is formed by reacting (meth) acrylate and has two or more ethylenically unsaturated groups.
光硬化性組成物を硬化してなる硬化樹脂において、空気中で150℃にて、1時間加熱した際に、b*値の変化量と硬化樹脂の厚みとの関係が下記の式(1)を満たすものとなることを特徴とする請求項1記載の光硬化性組成物。
b*値の変化量/T≦1 ・・・(1)
T:硬化樹脂の厚み(mm)
In a cured resin obtained by curing a photocurable composition, the relationship between the amount of change in the b * value and the thickness of the cured resin when heated in air at 150 ° C. for 1 hour is the following formula (1). The photocurable composition according to claim 1, wherein the photocurable composition satisfies the above.
amount of change in b * value / T ≦ 1 ・ ・ ・ (1)
T: Thickness of cured resin (mm)
成分(A)と成分(B)の合計100重量部に対して、成分(A)の含有量が50〜80重量部、成分(B)の含有量が20〜50重量部、成分(C)の含有量が0.01〜10重量部であることを特徴とする請求項1または2記載の光硬化性組成物。 The content of the component (A) is 50 to 80 parts by weight, the content of the component (B) is 20 to 50 parts by weight, and the component (C) is 100 parts by weight in total of the component (A) and the component (B). The photocurable composition according to claim 1 or 2, wherein the content of the photocurable composition is 0.01 to 10 parts by weight. 芳香族ポリカーボネートジオール中のカーボネート構造単位の繰り返し数が10〜20であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the number of repetitions of the carbonate structural unit in the aromatic polycarbonate diol is 10 to 20. 成分(B)の重量平均分子量が1000〜20000であることを特徴とする請求項1〜いずれか記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein the weight average molecular weight of the component (B) is 1000 to 20000.
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