JP6739163B2 - Semiconductor device - Google Patents

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本発明の一態様は、半導体装置、表示パネル、及び電子機器に関する。 One embodiment of the present invention relates to a semiconductor device, a display panel, and an electronic device.

なお本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。 Note that one embodiment of the present invention is not limited to the above technical field. The technical field of the invention disclosed in this specification and the like relates to an object, a method, or a manufacturing method. Alternatively, one embodiment of the present invention relates to a process, a machine, a manufacture, or a composition (composition of matter). Therefore, as a technical field of one embodiment of the present invention disclosed more specifically in this specification, a semiconductor device, a display device, a light-emitting device, a power storage device, a memory device, a driving method thereof, or a manufacturing method thereof, Can be mentioned as an example.

なお、本明細書等において、半導体装置は、半導体特性を利用することで機能しうる素子、回路、又は装置等を指す。一例としては、トランジスタ、ダイオード等の半導体素子は半導体装置である。別の一例としては、半導体素子を有する回路は、半導体装置である。別の一例としては、半導体素子を有する回路を備えた装置は、半導体装置である。 Note that in this specification and the like, a semiconductor device refers to an element, a circuit, a device, or the like which can function by utilizing semiconductor characteristics. As an example, semiconductor elements such as transistors and diodes are semiconductor devices. As another example, the circuit including the semiconductor element is a semiconductor device. As another example, a device including a circuit having a semiconductor element is a semiconductor device.

表示装置は、入力される映像信号に対応する輝度レベルを表現するための階調電圧を生成する、基準電圧生成回路を具備するソースドライバIC(Integrated Circuit)が設けられている。特許文献1は、複数の基準電圧生成回路を備えたソースドライバICについて開示している。 The display device is provided with a source driver IC (Integrated Circuit) including a reference voltage generation circuit that generates a gradation voltage for expressing a luminance level corresponding to an input video signal. Patent Document 1 discloses a source driver IC including a plurality of reference voltage generation circuits.

米国特許出願公開第2014/0085349号明細書U.S. Patent Application Publication No. 2014/0085349

基準電圧生成回路で生成される複数の電圧は、セレクタによって映像信号に応じた階調電圧として出力される。しかしながら、複数の基準電圧生成回路を備えることで、複数の電圧を伝えるための配線が占める面積が増加する。そのため、ソースドライバICの回路面積が増加するといった問題が生じてしまう。特に異なる基準電圧生成回路から延びる複数の配線を、ソースドライバICの長軸方向に沿って重なるように設ける場合、配線数の増加による回路面積の増加が顕著になる。 The plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuit are output by the selector as gradation voltages according to the video signal. However, the provision of the plurality of reference voltage generation circuits increases the area occupied by the wiring for transmitting the plurality of voltages. Therefore, there arises a problem that the circuit area of the source driver IC increases. In particular, when a plurality of wirings extending from different reference voltage generation circuits are provided so as to overlap each other along the long axis direction of the source driver IC, the increase in the circuit area due to the increase in the number of wirings becomes remarkable.

本発明の一態様は、既存のソースドライバICとして機能する半導体装置とは異なる構成を有する、新規な半導体装置、電子部品、新規な電子機器等を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様は、複数の基準電圧生成回路を有する半導体装置において、回路面積の縮小が図られた、新規な構成の半導体装置等を提供することを課題の一とする。 An object of one embodiment of the present invention is to provide a novel semiconductor device, an electronic component, a novel electronic device, or the like having a structure different from that of a semiconductor device which functions as an existing source driver IC. Alternatively, it is an object of one embodiment of the present invention to provide a semiconductor device or the like having a novel structure in which a circuit area is reduced in a semiconductor device including a plurality of reference voltage generation circuits.

なお本発明の一態様の課題は、上記列挙した課題に限定されない。上記列挙した課題は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお他の課題は、以下の記載で述べる、本項目で言及していない課題である。本項目で言及していない課題は、当業者であれば明細書又は図面等の記載から導き出せるものであり、これらの記載から適宜抽出することができる。なお、本発明の一態様は、上記列挙した記載、及び/又は他の課題のうち、少なくとも一つの課題を解決するものである。 Note that the problem of one embodiment of the present invention is not limited to the problems listed above. The issues listed above do not preclude the existence of other issues. The other issues are the ones not mentioned in this item, which will be described below. Problems that are not mentioned in this item can be derived from descriptions in the specification, drawings, and the like by those skilled in the art, and can be appropriately extracted from these descriptions. Note that one embodiment of the present invention is to solve at least one of the above-listed description and/or other problems.

本発明の一態様は、第1の基準電圧生成回路と、第2の基準電圧生成回路と、第1のセレクタと、第2のセレクタと、第1の配線と、第2の配線と、を有する半導体装置であって、第1の基準電圧生成回路は、第1の複数の電圧を生成することができる機能を有し、第2の基準電圧生成回路は、第2の複数の電圧を生成することができる機能を有し、第1の配線は、第1の基準電圧生成回路が生成する第1の複数の電圧のいずれか一を伝えることができる機能を有し、第2の配線は、第2の基準電圧生成回路が生成する第2の複数の電圧のいずれか一を伝えることができる機能を有し、第1のセレクタは、第1の複数の電圧のいずれか一を選択し出力することができる機能を有し、第2のセレクタは、第2の複数の電圧のいずれか一を選択し出力することができる機能を有し、第1の配線と第2の配線とは、半導体装置の長軸方向に沿って重ならずに設けられる半導体装置である。 One embodiment of the present invention includes a first reference voltage generation circuit, a second reference voltage generation circuit, a first selector, a second selector, a first wiring, and a second wiring. In the semiconductor device having the first reference voltage generation circuit, the first reference voltage generation circuit has a function of generating a first plurality of voltages, and the second reference voltage generation circuit generates a second plurality of voltages. The first wiring has a function of transmitting any one of the first plurality of voltages generated by the first reference voltage generation circuit, and the second wiring has , And has a function of transmitting any one of the second plurality of voltages generated by the second reference voltage generation circuit, and the first selector selects one of the first plurality of voltages. The second selector has a function of outputting, and the second selector has a function of selecting and outputting any one of the second plurality of voltages, and the first wiring and the second wiring are The semiconductor device is provided along the long axis direction of the semiconductor device without overlapping.

本発明の一態様は、第1の基準電圧生成回路と、第2の基準電圧生成回路と、第3の基準電圧生成回路と、第1のセレクタと、第2のセレクタと、第3のセレクタと、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、を有する半導体装置であって、第1の基準電圧生成回路は、第1の複数の電圧を生成することができる機能を有し、第2の基準電圧生成回路は、第2の複数の電圧を生成することができる機能を有し、第3の基準電圧生成回路は、第3の複数の電圧を生成することができる機能を有し、第1の配線は、第1の基準電圧生成回路が生成する第1の複数の電圧のいずれか一を伝えることができる機能を有し、第2の配線は、第2の基準電圧生成回路が生成する第2の複数の電圧のいずれか一を伝えることができる機能を有し、第3の配線は、第3の基準電圧生成回路が生成する第3の複数の電圧のいずれか一を伝えることができる機能を有し、第1のセレクタは、第1の複数の電圧のいずれか一を選択し出力することができる機能を有し、第2のセレクタは、第2の複数の電圧のいずれか一を選択し出力することができる機能を有し、第3のセレクタは、第3の複数の電圧のいずれか一を選択し出力することができる機能を有し、第1の配線と第2の配線と第3の配線とは、半導体装置の長軸方向に沿って重ならずに設けられる半導体装置である。 One embodiment of the present invention is a first reference voltage generation circuit, a second reference voltage generation circuit, a third reference voltage generation circuit, a first selector, a second selector, and a third selector. And a first wiring, a second wiring, and a third wiring, wherein the first reference voltage generation circuit is capable of generating a first plurality of voltages. And the second reference voltage generation circuit has a function of generating a second plurality of voltages, and the third reference voltage generation circuit can generate a third plurality of voltages. The first wiring has a function capable of transmitting any one of the first plurality of voltages generated by the first reference voltage generation circuit, and the second wiring has a second function. Has a function of transmitting any one of the second plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuit, and the third wiring has a third plurality of voltages generated by the third reference voltage generation circuit. Of the first plurality of voltages, the first selector has a function of selecting and outputting any one of the first plurality of voltages, and the second selector has a function of transmitting 2 has a function of selecting and outputting any one of the plurality of voltages, and the third selector has a function of selecting and outputting any one of the third plurality of voltages. The first wiring, the second wiring, and the third wiring are semiconductor devices provided along the long axis direction of the semiconductor device without overlapping.

本発明の一態様において、第1の基準電圧生成回路は、赤色を呈する表示素子を有する画素に供給する階調電圧を生成する回路であり、第2の基準電圧生成回路は、緑色を呈する表示素子を有する画素に供給する階調電圧を生成する回路であり、第3の基準電圧生成回路は、青色を呈する表示素子を有する画素に供給する階調電圧を生成する回路である半導体装置が好ましい。 In one embodiment of the present invention, the first reference voltage generation circuit is a circuit which generates a gray scale voltage supplied to a pixel having a display element which exhibits a red color, and the second reference voltage generation circuit is a display which exhibits a green color. A semiconductor device which is a circuit that generates a grayscale voltage to be supplied to a pixel having an element, and the third reference voltage generation circuit is a circuit that generates a grayscale voltage to be supplied to a pixel having a display element that exhibits blue color is preferable. ..

なおその他の本発明の一態様については、以下で述べる実施の形態における説明、及び図面に記載されている。 Note that other aspects of the present invention are described in the description of the embodiment below and the drawings.

本発明の一態様は、新規な半導体装置、新規な電子機器等を提供することができる。または、本発明の一態様は、回路面積の縮小が図られた、新規な構成の半導体装置等を提供することができる。 One embodiment of the present invention can provide a novel semiconductor device, a novel electronic device, or the like. Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a semiconductor device or the like having a novel structure in which a circuit area is reduced can be provided.

なお本発明の一態様の効果は、上記列挙した効果に限定されない。上記列挙した効果は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお他の効果は、以下の記載で述べる、本項目で言及していない効果である。本項目で言及していない効果は、当業者であれば明細書又は図面等の記載から導き出せるものであり、これらの記載から適宜抽出することができる。なお、本発明の一態様は、上記列挙した効果、及び/又は他の効果のうち、少なくとも一つの効果を有するものである。従って本発明の一態様は、場合によっては、上記列挙した効果を有さない場合もある。 Note that the effects of one embodiment of the present invention are not limited to the effects listed above. The effects listed above do not prevent the existence of other effects. The other effects are the effects which are not mentioned in this item, which will be described below. The effects not mentioned in this item can be derived from the description in the specification or the drawings by those skilled in the art, and can be appropriately extracted from these descriptions. Note that one embodiment of the present invention has at least one of the above-listed effects and/or other effects. Therefore, one embodiment of the present invention may not have the effects listed above in some cases.

ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. 回路図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a circuit diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. ブロック図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a block diagram. 回路図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a circuit diagram. 断面模式図の一例を説明する図。The figure explaining an example of a cross-sectional schematic diagram. 表示パネルの一例を説明する図。FIG. 6 illustrates an example of a display panel. 表示モジュールの一例を説明する図。FIG. 6 illustrates an example of a display module. 電子機器の一例を説明する図。7A to 7C each illustrate an example of an electronic device.

以下、実施の形態について図面を参照しながら説明する。但し、実施の形態は多くの異なる態様で実施することが可能であり、趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は、以下の実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. However, it is easily understood by those skilled in the art that the embodiment can be implemented in many different modes, and that the form and details can be variously changed without departing from the spirit and the scope thereof. .. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments below.

なお本明細書等において、「第1」、「第2」、「第3」という序数詞は、構成要素の混同を避けるために付したものである。従って、構成要素の数を限定するものではない。構成要素の順序を限定するものではない。例えば、本明細書等の実施の形態の一において「第1」に言及された構成要素が、他の実施の形態、あるいは特許請求の範囲において「第2」に言及された構成要素とすることもありうる。例えば、本明細書等の実施の形態の一において「第1」に言及された構成要素を、他の実施の形態、あるいは特許請求の範囲において省略することもありうる。 Note that in this specification and the like, the ordinal numbers “first”, “second”, and “third” are added to avoid confusion among components. Therefore, the number of components is not limited. It does not limit the order of the components. For example, a constituent element referred to as “first” in one of the embodiments of the present specification and the like is a constituent element referred to as “second” in another embodiment or in the claims. There is also a possibility. For example, a component referred to as “first” in one of the embodiments of the present specification and the like may be omitted in another embodiment or the claims.

なお図面において、同一の要素または同様な機能を有する要素、同一の材質の要素、あるいは同時に形成される要素等には同一の符号を付す場合があり、その繰り返しの説明は省略する場合がある。 In the drawings, the same elements, elements having the same function, elements made of the same material, elements formed at the same time, and the like may be denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof may be omitted.

(実施の形態1)
本実施の形態では、ソースドライバICとしての機能を有する半導体装置の一例について説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, an example of a semiconductor device having a function as a source driver IC will be described.

図1は半導体装置の構成を模式的に表したブロック図の一例である。 FIG. 1 is an example of a block diagram schematically showing the configuration of a semiconductor device.

図1に示す半導体装置100は、シフトレジスタ110(図中、SRと図示)、データレジスタ120(図中、DATA REGISTERと図示)、デジタルアナログ(Digital/Analog)変換回路130(図中、DACと図示)、およびバッファアンプ140(図中、BUFFER AMP.と図示)を有する。図1では、半導体装置100から信号を出力されるソース線SL_1乃至SL_n(nは2以上の自然数)を図示している。 The semiconductor device 100 shown in FIG. 1 includes a shift register 110 (denoted by SR in the figure), a data register 120 (denoted by DATA REGISTER in the figure), and a digital/analog (Digital/Analog) conversion circuit 130 (denoted by DAC in the figure). And a buffer amplifier 140 (shown as BUFFER AMP. in the figure). In FIG. 1, source lines SL_1 to SL_n (n is a natural number of 2 or more) from which signals are output from the semiconductor device 100 are illustrated.

デジタルアナログ変換回路130は、複数の基準電圧生成回路132_1、132_2(図中、VGENと図示)、配線群134_1、134_2、およびセレクタ136を有する。 The digital-analog conversion circuit 130 includes a plurality of reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 (indicated as VGEN in the drawing), wiring groups 134_1 and 134_2, and a selector 136.

シフトレジスタ110は、例えばソースクロック、およびソーススタートパルスが入力される。シフトレジスタ110はサンプリングパルスを生成し、データレジスタ120に出力する。 A source clock and a source start pulse, for example, are input to the shift register 110. The shift register 110 generates a sampling pulse and outputs it to the data register 120.

データレジスタ120は、例えばデジタル信号のデータDATAが入力される。データレジスタ120は、シフトレジスタ110のサンプリングパルスによって、データDATAをサンプリングし、保持する。 The data register 120 receives, for example, digital signal data DATA. The data register 120 samples and holds the data DATA according to the sampling pulse of the shift register 110.

デジタルアナログ変換回路130は、例えばデータレジスタ120で保持したデジタル信号のデータDATA(デジタルデータともいう)が入力される。デジタルアナログ変換回路130では、デジタルデータに応じた複数の電圧を生成する。そして複数の配線を有する配線群は、ソース線SL_1乃至SL_nが配置される方向、つまり半導体装置100の長軸方向に沿って配置する。セレクタは、配線群に供給される複数の電圧のいずれか一の電圧をデジタルデータに応じて選択し、アナログ信号のデータDATA(アナログデータともいう)として出力する。アナログデータによる電圧は、階調電圧に相当する。 The digital-analog conversion circuit 130 receives data DATA (also referred to as digital data) of a digital signal held in the data register 120, for example. The digital-analog conversion circuit 130 generates a plurality of voltages according to digital data. The wiring group having a plurality of wirings is arranged along the direction in which the source lines SL_1 to SL_n are arranged, that is, along the long axis direction of the semiconductor device 100. The selector selects one of a plurality of voltages supplied to the wiring group according to digital data and outputs it as data DATA (also referred to as analog data) of an analog signal. The voltage based on the analog data corresponds to the gradation voltage.

なおソース線SL_1乃至SL_nが配置される方向とは、図1中の矢印DSLに平行な方向である。半導体装置100の長軸方向とはソース線SL_1乃至SL_nが昇順または降順に並ぶ方向、つまり図1中のx方向であり、半導体装置100の短軸方向とは、ソース線SL_1乃至SL_nが延びて設けられる方向、つまり図1中のy方向である。なお半導体装置100は、表示部が形成される基板の辺に対して、半導体装置100の長軸方向が平行になるように配置される。そのため、デジタルアナログ変換回路130における複数の配線を有する配線群は、表示部が形成される基板の辺に沿って重ならずに設けられるということもできる。 Note that the direction in which the source lines SL_1 to SL_n are arranged is a direction parallel to the arrow D SL in FIG. The long-axis direction of the semiconductor device 100 is the direction in which the source lines SL_1 to SL_n are arranged in ascending or descending order, that is, the x direction in FIG. 1, and the short-axis direction of the semiconductor device 100 is that the source lines SL_1 to SL_n extend. This is the direction in which it is provided, that is, the y direction in FIG. The semiconductor device 100 is arranged such that the long axis direction of the semiconductor device 100 is parallel to the side of the substrate on which the display section is formed. Therefore, it can be said that the wiring group having a plurality of wirings in the digital-analog conversion circuit 130 is provided without overlapping along the side of the substrate on which the display portion is formed.

バッファアンプ140は、デジタルアナログ変換回路130が出力するアナログデータを増幅する。バッファアンプ140は、増幅したアナログデータをソース線SL[1]乃至[n]に出力する。 The buffer amplifier 140 amplifies the analog data output by the digital-analog conversion circuit 130. The buffer amplifier 140 outputs the amplified analog data to the source lines SL[1] to SL[n].

基準電圧生成回路132_1は、複数の電圧を生成する。配線群134_1は、複数の配線を有する。基準電圧生成回路132_1が生成した複数の電圧は、半導体装置100の長軸方向に沿って配置される配線群134_1の複数の配線に供給される。基準電圧生成回路132_2は、基準電圧生成回路132_1が生成する複数の電圧とは異なる、複数の電圧を生成する。配線群134_2は、複数の配線を有する。配線群134_2は、配線群134_1とは重ならないように半導体装置100の長軸方向に沿って設ける。基準電圧生成回路132_2が生成した複数の電圧は、配線群134_2の複数の配線に供給される。セレクタ136は、図1に示すように、配線群上に設けることができる。セレクタ136は、トーナメント方式またはデコーダ方式等を用いて、基準電圧生成回路132_1、132_2で生成される複数の電圧を基にデジタルデータをアナログデータに変換することができる。 The reference voltage generation circuit 132_1 generates a plurality of voltages. The wiring group 134_1 has a plurality of wirings. The plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuit 132_1 are supplied to the plurality of wirings of the wiring group 134_1 arranged along the long axis direction of the semiconductor device 100. The reference voltage generation circuit 132_2 generates a plurality of voltages different from the plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuit 132_1. The wiring group 134_2 has a plurality of wirings. The wiring group 134_2 is provided along the major axis direction of the semiconductor device 100 so as not to overlap with the wiring group 134_1. The plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuit 132_2 are supplied to the plurality of wirings in the wiring group 134_2. The selector 136 can be provided on the wiring group as shown in FIG. The selector 136 can convert digital data into analog data based on the plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 by using a tournament method, a decoder method, or the like.

基準電圧生成回路132_1、132_2は、別々の電圧を供給する構成の場合に有効である。例えば、表示部の画素が赤、緑、および青の表示素子を有し、それぞれの表示素子が別々の電圧による階調を表現する場合、赤、緑、および青の各色に対応する基準電圧生成回路で複数の電圧を生成する。別々の電圧を基にして各色のデジタルデータをアナログデータに変換することで、各色の表示素子の特性に応じた電圧による明るさの階調表示を行うことができる。 The reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 are effective in the case of a configuration that supplies different voltages. For example, when the pixels of the display section have red, green, and blue display elements, and each display element expresses gradation by different voltages, reference voltage generation corresponding to each color of red, green, and blue is generated. The circuit produces multiple voltages. By converting the digital data of each color into analog data based on different voltages, it is possible to perform gradation display of the brightness by the voltage according to the characteristics of the display element of each color.

複数の基準電圧生成回路で生成される複数の電圧は、デジタルデータのビット数に対応する、明るさの階調を表現するための電圧である。図1のように基準電圧生成回路を複数設ける構成の場合、デジタルデータのビット数が増加すると電圧の数が指数関数的に増加する。例えば12ビットのデジタルデータをアナログデータに変換する場合、4096値の電圧と、4096本の配線が必要になる。 The plurality of voltages generated by the plurality of reference voltage generation circuits are voltages for expressing the gradation of brightness corresponding to the number of bits of digital data. In the case of the configuration in which a plurality of reference voltage generation circuits are provided as in FIG. 1, the number of voltages increases exponentially as the number of bits of digital data increases. For example, when converting 12-bit digital data into analog data, a 4096-value voltage and 4096 wires are required.

配線群134_1、134_2を半導体装置100の長軸方向に沿って重なるように設ける場合、つまり図2に図示する半導体装置100Aのように設ける場合、半導体装置100Aでは、半導体装置100の長軸とほぼ同じ長さとなる配線群134_1、134_2の配線を設けるため、配線群134_1、134_2を配置するための面積が増加する。 When the wiring groups 134_1 and 134_2 are provided so as to overlap each other along the long axis direction of the semiconductor device 100, that is, when provided as in the semiconductor device 100A illustrated in FIG. 2, in the semiconductor device 100A, the long axis of the semiconductor device 100 is almost the same. Since the wirings of the wiring groups 134_1 and 134_2 having the same length are provided, the area for arranging the wiring groups 134_1 and 134_2 increases.

一方で本発明の一態様の構成では、配線群134_1と配線群134_2とを、半導体装置100の長軸方向に沿って重ならないように設ける。このような構成とすることで、半導体装置100の長軸とほぼ同じ長さとなるように配線群134_1、134_2の配線を設ける必要がなくなる。そのため、配線群134_1、134_2を配置するための面積の縮小を図ることができる。言い換えれば、基準電圧生成回路が生成する電圧を伝える配線の長さを短くすることができる。そのため、基準電圧生成回路で生成した電圧を引き回す配線における抵抗および/または寄生容量の影響を受けにくくすることができる。 On the other hand, in the structure of one embodiment of the present invention, the wiring group 134_1 and the wiring group 134_2 are provided so as not to overlap with each other in the long axis direction of the semiconductor device 100. With such a structure, it is not necessary to provide the wirings of the wiring groups 134_1 and 134_2 so as to have substantially the same length as the long axis of the semiconductor device 100. Therefore, the area for arranging the wiring groups 134_1 and 134_2 can be reduced. In other words, the length of the wiring that transmits the voltage generated by the reference voltage generation circuit can be shortened. Therefore, it is possible to reduce the influence of resistance and/or parasitic capacitance in the wiring that draws the voltage generated by the reference voltage generation circuit.

なお図1において基準電圧生成回路132_1、132_2は、半導体装置100の長軸の中央付近、および端部にそれぞれ設けられ、配線群134_1、134_2は、基準電圧生成回路132_1、132_2の一方の方向に延びて設けられる構成としたが他の構成としてもよい。例えば、図3に示す半導体装置100Bの構成としてもよい。 Note that in FIG. 1, the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 are provided near the center and the end portion of the long axis of the semiconductor device 100, respectively, and the wiring groups 134_1 and 134_2 are arranged in one direction of the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2. Although the structure is provided so as to extend, another structure may be used. For example, the configuration of the semiconductor device 100B shown in FIG. 3 may be used.

図3に示す半導体装置100Bで基準電圧生成回路132_1、132_2は、半導体装置100Bの長軸の両端部にそれぞれ設けられ、配線群134_1、134_2は、半導体装置100Bの長軸の中央付近に延びて設けられる構成とする。当該構成とすることで、配線群134_1、134_2上に設けられるセレクタ136を効率よく配置することができる。 In the semiconductor device 100B shown in FIG. 3, the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 are provided at both ends of the long axis of the semiconductor device 100B, and the wiring groups 134_1 and 134_2 extend near the center of the long axis of the semiconductor device 100B. The configuration is provided. With such a structure, the selector 136 provided over the wiring groups 134_1 and 134_2 can be efficiently arranged.

別の構成として、例えば、図4に示す半導体装置100Cの構成としてもよい。 As another configuration, for example, the configuration of the semiconductor device 100C shown in FIG. 4 may be used.

図4に示す半導体装置100Cで基準電圧生成回路132_1、132_2は、半導体装置100Cの長軸の両端部から中央部寄りにそれぞれ設けられ、配線群134_1、134_2は、半導体装置100Cの長軸の両側に延びて設けられる構成とする。当該構成とすることで、基準電圧生成回路132_1、132_2から配線群134_1、134_2に供給される電圧への配線抵抗等の影響を少なくすることができる。 In the semiconductor device 100C shown in FIG. 4, the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 are respectively provided from both ends of the long axis of the semiconductor device 100C toward the central portion, and the wiring groups 134_1 and 134_2 are provided on both sides of the long axis of the semiconductor device 100C. It is configured so as to be extended to. With such a structure, the influence of wiring resistance or the like on the voltage supplied from the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_2 to the wiring groups 134_1 and 134_2 can be reduced.

なお図1において基準電圧生成回路を2つ設ける構成を示したが、3つにしてもよい。例えば、図5に示す半導体装置100Dの構成としてもよい。 Although FIG. 1 shows the configuration in which the two reference voltage generation circuits are provided, the number may be three. For example, the configuration of the semiconductor device 100D shown in FIG. 5 may be used.

図5に示す半導体装置100Dでデジタルアナログ変換回路130は、基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3を有する。基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3で生成される複数の電圧は、配線群134_1、134_2、134_3に供給され、セレクタ136によってデジタルデータを基にしたアナログデータとして出力される。基準電圧生成回路を3つ設ける構成においても、半導体装置100の長軸方向において、配線群134_1と配線群134_2とを重ならないように設けることで、配線群134_1、134_2を配置するための面積の縮小を図ることができる。 In the semiconductor device 100D illustrated in FIG. 5, the digital-analog conversion circuit 130 includes reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, and 132_3. The plurality of voltages generated by the reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, 132_3 are supplied to the wiring groups 134_1, 134_2, 134_3, and output by the selector 136 as analog data based on digital data. Even in the configuration in which the three reference voltage generation circuits are provided, the wiring group 134_1 and the wiring group 134_2 are provided so as not to overlap each other in the major axis direction of the semiconductor device 100, thereby providing an area for arranging the wiring groups 134_1 and 134_2. Can be reduced.

基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3は、3つ以上の別々の電圧を供給する構成の場合に有効である。例えば、表示部の画素が赤、緑、および青の表示素子を有し、それぞれの表示素子が別々の電圧による階調を表現する場合、赤、緑、および青の各色に対応する基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3で複数の電圧を生成しデジタルデータに応じてアナログデータに変換することで、各色の表示素子の特性に応じた電圧による明るさの階調表示を行うことができる。 The reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, 132_3 are effective in the case of a configuration that supplies three or more separate voltages. For example, when the pixels of the display section have red, green, and blue display elements, and each display element expresses gradation by different voltages, reference voltage generation corresponding to each color of red, green, and blue is generated. By generating a plurality of voltages in the circuits 132_1, 132_2, and 132_3 and converting them into analog data in accordance with digital data, it is possible to perform gradation display of brightness with a voltage according to the characteristics of the display element of each color.

図5とは別の構成として、例えば、図6に示す半導体装置100Eの構成としてもよい。 As a configuration different from that of FIG. 5, for example, the configuration of the semiconductor device 100E shown in FIG. 6 may be used.

図6に示す半導体装置100Eで基準電圧生成回路132_1、132_3は、半導体装置100Eの長軸の両端部に設けられ、基準電圧生成回路132_2は、半導体装置100Eの長軸の中央付近に設けられる。そして配線群134_1、134_3は、半導体装置100Eの長軸の中央付近に延びて設ける構成とし、配線群134_2は、半導体装置100Eの長軸の両端部に延びて設ける構成とする。当該構成とすることで、基準電圧生成回路132_2から配線群134_2に供給される電圧への配線抵抗等の影響を少なくするとともに、配線群134_1、134_3上に設けるセレクタ136を効率よく配置することができる。 In the semiconductor device 100E shown in FIG. 6, the reference voltage generation circuits 132_1 and 132_3 are provided at both ends of the long axis of the semiconductor device 100E, and the reference voltage generation circuit 132_2 is provided near the center of the long axis of the semiconductor device 100E. The wiring groups 134_1 and 134_3 are provided so as to extend near the center of the long axis of the semiconductor device 100E, and the wiring groups 134_2 are provided so as to extend at both ends of the long axis of the semiconductor device 100E. With such a structure, the influence of wiring resistance or the like on the voltage supplied from the reference voltage generation circuit 132_2 to the wiring group 134_2 can be reduced and the selector 136 provided over the wiring groups 134_1 and 134_3 can be efficiently arranged. it can.

図7は、アナログデジタル変換回路が有する基準電圧生成回路、セレクタ、および配線群の構成例を示す回路図である。図7中、基準電圧生成回路132は、複数の抵抗133を有する。図7では基準電圧生成回路132から配線群134が延びて設けられている。配線群134には2つのセレクタ136_1、136_2が接続される例を示している。セレクタ136_1、136_2は、pチャネル型のトランジスタ137、nチャネル型のトランジスタ138によって構成される。セレクタ136_1、136_2は、それぞれ配線群134のいずれか一に供給される電圧を選択し、アナログデータVO_1、VO_2として出力する。 FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration example of a reference voltage generation circuit, a selector, and a wiring group included in the analog-digital conversion circuit. In FIG. 7, the reference voltage generation circuit 132 has a plurality of resistors 133. In FIG. 7, a wiring group 134 is provided so as to extend from the reference voltage generation circuit 132. An example in which two selectors 136_1 and 136_2 are connected to the wiring group 134 is shown. The selectors 136_1 and 136_2 are composed of a p-channel type transistor 137 and an n-channel type transistor 138. The selectors 136_1 and 136_2 respectively select a voltage supplied to one of the wiring groups 134 and output it as analog data V O_1 and V O_2 .

なおセレクタ136_1、136_2を構成するトランジスタの配置は、トーナメント方式を一例としてあげて説明したが、デコーダ方式などの他の方式でもよい。 The arrangement of the transistors forming the selectors 136_1 and 136_2 has been described by taking the tournament method as an example, but other methods such as a decoder method may be used.

図1では、デジタルデータのビット数の応じたアナログデータをセレクタ136で選択し、出力する構成について示したが、他の構成としてもよい。例えば、図8では、セレクタ136でデジタルデータの上位ビットに対応する電圧を選択し、デジタルデータの下位ビットに対応する電圧または電流を生成する補間回路139を設ける構成を図示している。補間回路139としては、オペアンプあるいは電圧電流変換回路等を用いて所望のアナログデータを生成する構成とすればよい。 Although FIG. 1 shows the configuration in which the selector 136 selects and outputs the analog data according to the number of bits of the digital data, another configuration may be adopted. For example, FIG. 8 illustrates a configuration in which the selector 136 selects the voltage corresponding to the upper bit of the digital data and provides the interpolation circuit 139 that generates the voltage or the current corresponding to the lower bit of the digital data. The interpolation circuit 139 may be configured to generate desired analog data using an operational amplifier, a voltage-current conversion circuit, or the like.

カラー表示を行う表示部に、図6で説明したアナログデータを供給する半導体装置を適用する構成例について図9、10を用いて説明する。 A configuration example in which the semiconductor device which supplies analog data described in FIG. 6 is applied to a display portion which performs color display will be described with reference to FIGS.

図6で説明した基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3のように3つ以上の基準電圧生成回路を設ける場合、それぞれ別々の電圧を供給する構成とする。例えば、表示部の画素が赤、緑、および青の表示素子を有し、それぞれの表示素子が別々の電圧による階調を表現する場合、基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3をそれぞれ赤、緑、または青の各色に対応する電圧を生成する構成とする。当該構成とすることで各色の表示素子の特性に応じた明るさの階調表示を行うことができる。 When three or more reference voltage generation circuits like the reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, and 132_3 described in FIG. 6 are provided, each voltage is supplied separately. For example, when the pixels of the display section have red, green, and blue display elements, and each display element expresses gradations with different voltages, the reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, and 132_3 are respectively set to red and green. , Or a voltage corresponding to each color of blue is generated. With such a structure, gradation display of brightness according to the characteristics of the display element of each color can be performed.

図9では、デジタルアナログ変換回路130およびバッファアンプ140の他、カラー表示を行う表示部170を図示している。図9では、説明を簡略化するため、一例として12列のソース線SL_1乃至SL_12を図示している。各列のソース線SL_1乃至SL_12は、表示部170において画素172が接続される。画素172は、カラー表示を行うための赤、緑、または青の3色のいずれか一の色を呈する表示素子を有する画素である。説明のため図9では、赤を呈する表示素子を有する画素172をR1乃至R4、緑を呈する表示素子を有する画素172をG1乃至G4、青を呈する表示素子を有する画素172をB1乃至B4、と図示している。図9では、画素(R1乃至R4)に供給する電圧を生成する基準電圧生成回路131_RをVGEN_Rとして図示している。画素(G1乃至G4)に供給する電圧を生成する基準電圧生成回路131_GをVGEN_Gとして図示している。画素(B1乃至B4)に供給する電圧を生成する基準電圧生成回路131_BをVGEN_Bとして図示している。図9では、バッファアンプ140が有するバッファ142を各列に図示している。 In FIG. 9, in addition to the digital-analog conversion circuit 130 and the buffer amplifier 140, the display unit 170 that performs color display is illustrated. In FIG. 9, for simplification of the description, the source lines SL_1 to SL_12 in 12 columns are illustrated as an example. The pixels 172 in the display portion 170 are connected to the source lines SL_1 to SL_12 in each column. The pixel 172 is a pixel including a display element which exhibits any one of three colors of red, green, and blue for performing color display. For the purpose of explanation, in FIG. 9, pixels 172 having display elements exhibiting red are R1 to R4, pixels 172 having display elements exhibiting green are G1 to G4, and pixels 172 having display elements exhibiting blue are B1 to B4. Illustrated. In FIG. 9, the reference voltage generation circuit 131_R that generates a voltage to be supplied to the pixels (R1 to R4) is illustrated as VGEN_R. A reference voltage generation circuit 131_G that generates a voltage to be supplied to the pixels (G1 to G4) is shown as VGEN_G. The reference voltage generation circuit 131_B that generates a voltage to be supplied to the pixels (B1 to B4) is shown as VGEN_B. In FIG. 9, the buffer 142 included in the buffer amplifier 140 is illustrated in each column.

図9では、赤色に対応するデジタルデータをDATA_R1乃至DATA_R4として図示している。図9では、緑色に対応するデジタルデータをDATA_G1乃至DATA_G4として図示している。図9では、青色に対応するデジタルデータをDATA_B1乃至DATA_B4として図示している。DATA_R1乃至DATA_R4、DATA_G1乃至DATA_G4、DATA_B1乃至DATA_B4は、半導体装置の長軸方向に沿って順に入力される。これは、各色に対応する基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3の順に併せてデジタルデータを入力するためである。 In FIG. 9, digital data corresponding to red is shown as DATA_R1 to DATA_R4. In FIG. 9, digital data corresponding to green is illustrated as DATA_G1 to DATA_G4. In FIG. 9, digital data corresponding to blue is shown as DATA_B1 to DATA_B4. DATA_R1 to DATA_R4, DATA_G1 to DATA_G4, and DATA_B1 to DATA_B4 are sequentially input along the long axis direction of the semiconductor device. This is because the reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, and 132_3 corresponding to the respective colors are input in order of digital data.

図9では、赤色に対応するアナログデータをVR1乃至VR4として図示している。図9では、緑色に対応するアナログデータをVG1乃至VG4として図示している。図9では、青色に対応するアナログデータをVB1乃至VB4として図示している。デジタルアナログ変換回路130から出力されるVR1乃至VR4、VG1乃至VG4、VB1乃至VB4は、半導体装置の長軸方向に沿って順に入力される。これは、各色に対応する基準電圧生成回路132_1、132_2、132_3の順に併せてデジタルデータを入力するためである。 9 illustrates the analog data corresponding to red as V R1 to V R4. In FIG. 9, analog data corresponding to green is shown as V G1 to V G4 . In FIG. 9, analog data corresponding to blue is shown as V B1 to V B4 . V R1 to V R4 , V G1 to V G4 , and V B1 to V B4 output from the digital-analog conversion circuit 130 are sequentially input along the long axis direction of the semiconductor device. This is because the reference voltage generation circuits 132_1, 132_2, and 132_3 corresponding to the respective colors are input together in order of the digital data.

図9では、バッファアンプ140の後段に接続切り替え部160を有する。前述のデジタルアナログ変換回路130から出力されるVR1乃至VR4、VG1乃至VG4、VB1乃至VB4が、各列のソース線SL_1乃至SL_12に接続される画素が呈する色に対応するように並び替えるために、接続切り替え部160を設ける。接続切り替え部160によって、ソース線SL_1乃至SL_12に与えられるアナログデータは、VR1、VG1、VB1、VR2、VG2、VB2、VR3、VG3、VB3、VR4、VG4、VB4の順に並び替えることができる。つまり接続切り替え部160を有することで、異なる基準電圧生成回路で生成したアナログデータを、カラー表示を行うために各色を呈する表示素子が一定の順序で並んだ画素に供給することができるため、色毎に異なるように生成された電圧による表示部の表示を行うことができる。 In FIG. 9, the connection switching unit 160 is provided after the buffer amplifier 140. V R1 to V R4 , V G1 to V G4 , and V B1 to V B4 output from the digital-analog conversion circuit 130 described above correspond to the colors of the pixels connected to the source lines SL_1 to SL_12 in each column. A connection switching unit 160 is provided in order to rearrange. The connection switching unit 160, an analog data applied to the source line SL_1 to SL_12 is, V R1, V G1, V B1, V R2, V G2, V B2, V R3, V G3, V B3, V R4, V G4 , V B4 can be rearranged in this order. That is, by including the connection switching unit 160, analog data generated by different reference voltage generation circuits can be supplied to pixels in which display elements each of which represents each color for color display are arranged in a fixed order. It is possible to display on the display unit by the voltage generated differently for each.

なお図9では、バッファアンプ140と各列のソース線SL_1乃至SL_12との間に接続切り替え部160を設ける構成としたが他の構成でもよい。例えば、図10に図示するようにデジタルアナログ変換回路130とバッファアンプ140との間に接続切り替え部160を設ける構成としてもよい。 Although the connection switching unit 160 is provided between the buffer amplifier 140 and the source lines SL_1 to SL_12 in each column in FIG. 9, another configuration may be used. For example, as shown in FIG. 10, the connection switching unit 160 may be provided between the digital-analog conversion circuit 130 and the buffer amplifier 140.

なお図9、図10に示すブロック図の構成において反転駆動を行う場合、図11に示すようにデジタルデータDATA_R1に対応するセレクタ136を2つ設け、別々のアナログデータを生成する。別々のアナログデータは、切り替え回路135で切り替えて出力することでアナログデータVR1として後段のバッファアンプ140等に出力することができる。 When performing inversion driving in the configurations of the block diagrams shown in FIGS. 9 and 10, as shown in FIG. 11, two selectors 136 corresponding to the digital data DATA_R1 are provided to generate different analog data. Separate analog data can be output as analog data V R1 to the buffer amplifier 140 and the like in the subsequent stage by switching and outputting by the switching circuit 135.

上述したように本実施の形態の構成は、複数の基準電圧生成回路で生成される電圧をソース線の各列に供給する場合、異なる基準電圧生成回路から延びる配線を、半導体装置の長軸方向に沿って重ならないように設ける構成とする。当該構成とすることで、異なる基準電圧生成回路から出力される複数の電圧を供給するための配線が占める面積を低減できるため、回路面積の縮小が図られた半導体装置とすることができる。 As described above, in the configuration of this embodiment, when the voltages generated by the plurality of reference voltage generation circuits are supplied to the respective columns of the source lines, the wirings extending from the different reference voltage generation circuits are connected in the long axis direction of the semiconductor device. The structure is provided so that they do not overlap along the line. With such a structure, an area occupied by wirings for supplying a plurality of voltages output from different reference voltage generation circuits can be reduced, so that a semiconductor device with a reduced circuit area can be obtained.

(実施の形態2)
本実施の形態では、上記実施の形態で説明した、ソースドライバICとして機能する半導体装置を含む表示装置の回路ブロック図について説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment mode, a circuit block diagram of a display device including the semiconductor device functioning as a source driver IC described in the above embodiment modes will be described.

図12に示す表示装置の回路ブロック図では、ソースドライバ200、ゲートドライバ180、及び表示部170を有する。図12では、表示部170中に画素172を示している。 The circuit block diagram of the display device illustrated in FIG. 12 includes a source driver 200, a gate driver 180, and a display portion 170. In FIG. 12, the pixel 172 is shown in the display unit 170.

ソースドライバ200には、実施の形態1で説明した半導体装置100であるソースドライバICを用いることができる。図12に示すソースドライバ200は、図1の半導体装置100と同様に、シフトレジスタ110、データレジスタ120、デジタルアナログ変換回路130、バッファアンプ140を有する。そのため、配線が占める分の回路面積を縮小できるソースドライバICとすることができる。 As the source driver 200, the source driver IC which is the semiconductor device 100 described in Embodiment 1 can be used. The source driver 200 illustrated in FIG. 12 includes a shift register 110, a data register 120, a digital-analog conversion circuit 130, and a buffer amplifier 140, like the semiconductor device 100 of FIG. Therefore, the source driver IC can reduce the circuit area corresponding to the wiring.

ソースドライバ200は、実施の形態1で説明した半導体装置100と同様に、ソース線SL[1]乃至[n](nは2以上の自然数)にアナログ信号を出力する機能を有する。 The source driver 200 has a function of outputting an analog signal to the source lines SL[1] to SL[n] (n is a natural number of 2 or more) similarly to the semiconductor device 100 described in Embodiment 1.

ゲートドライバ180は、一例としては、シフトレジスタ、バッファアンプ等を有する。ゲートドライバ180は、ゲートスタートパルス、ゲートクロック等が入力され、パルス信号を出力する。ゲートドライバ180を構成する回路は、ソースドライバ200と同様にIC化してもよいし、表示部170の画素172が有するトランジスタと同じトランジスタを用いてもよい。 The gate driver 180 has, for example, a shift register, a buffer amplifier, and the like. The gate driver 180 receives a gate start pulse, a gate clock, etc. and outputs a pulse signal. The circuit forming the gate driver 180 may be integrated into an IC like the source driver 200, or the same transistor as the transistor included in the pixel 172 of the display portion 170 may be used.

ゲートドライバ180は、ゲート線GL[1]乃至GL[m](mは2以上の自然数)に走査信号を出力する。なお、ゲートドライバ180を複数設け、複数のゲートドライバ180により、ゲート線GL[1]乃至GL[m]を分割して制御してもよい。例えば表示部170の左右にゲートドライバ180を配置し、ゲート線GL[1]乃至GL[m]を1行ごとに分割して制御してもよい。 The gate driver 180 outputs a scanning signal to the gate lines GL[1] to GL[m] (m is a natural number of 2 or more). Note that a plurality of gate drivers 180 may be provided and the gate lines GL[1] to GL[m] may be divided and controlled by the plurality of gate drivers 180. For example, the gate drivers 180 may be arranged on the left and right of the display unit 170, and the gate lines GL[1] to GL[m] may be divided and controlled for each row.

表示部170は、ゲート線GL[1]乃至GL[m]、及びソース線SL[1]乃至SL[n]が概略直交するように設けられている。ゲート線とソース線の交差部には、画素203が設けられる。なお表示部170における画素172の配置は、カラー表示であれば、RGB(赤緑青)の各色に対応した画素が順に設けられる。なお、RGBの画素の配列は、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等適宜用いることができる。RGBに限らず、白あるいは黄といった色を追加してカラー表示を行う構成としてもよい。 The display portion 170 is provided so that the gate lines GL[1] to GL[m] and the source lines SL[1] to SL[n] are substantially orthogonal to each other. A pixel 203 is provided at the intersection of the gate line and the source line. In the case of color display, the pixels 172 are arranged in the display portion 170 in order of pixels corresponding to each color of RGB (red, green, blue). Note that the RGB pixel array can be appropriately used such as a stripe array, a mosaic array, or a delta array. Not limited to RGB, a color such as white or yellow may be added to perform color display.

なお表示部170にタッチセンサの機能を付加する場合、図13に示すようにタッチセンサ190を追加する構成とすればよい。なおタッチセンサ190を表示部170と組み合わせてインセル型のタッチパネルとすることも可能である。なおタッチセンサ190で得られる信号は、ソースドライバ200と一体形成されるタッチドライバIC192で処理する構成とすることができる。 Note that when a function of a touch sensor is added to the display portion 170, the touch sensor 190 may be added as illustrated in FIG. The touch sensor 190 may be combined with the display unit 170 to form an in-cell touch panel. The signal obtained by the touch sensor 190 may be processed by the touch driver IC 192 formed integrally with the source driver 200.

画素172の構成例について、図14(A)、(B)に一例を示し説明する。 An example of the structure of the pixel 172 is described with reference to FIGS. 14A and 14B.

図14(A)の画素172Aは、液晶表示装置が有する画素の一例であり、トランジスタ231、容量素子232、及び液晶素子233を有する。 A pixel 172A in FIG. 14A is an example of a pixel included in a liquid crystal display device and includes a transistor 231, a capacitor 232, and a liquid crystal element 233.

トランジスタ231は、液晶素子233とソース線SLとの接続を制御するスイッチング素子としての機能を有する。トランジスタ231は、ゲート線GLを介して、そのゲートから入力される走査信号により導通状態が制御される。 The transistor 231 has a function as a switching element which controls connection between the liquid crystal element 233 and the source line SL. The conduction state of the transistor 231 is controlled by the scanning signal input from the gate of the transistor 231 via the gate line GL.

容量素子232は、一例として、導電層を積層して形成される素子である。 The capacitor 232 is, for example, an element formed by stacking conductive layers.

液晶素子233は、一例として、共通電極、画素電極及び液晶層で構成される素子である。共通電極と画素電極間に形成される電界の作用により液晶層の液晶材料の配向が変化される。 The liquid crystal element 233 is, for example, an element including a common electrode, a pixel electrode, and a liquid crystal layer. The orientation of the liquid crystal material of the liquid crystal layer is changed by the action of the electric field formed between the common electrode and the pixel electrode.

図14(B)の画素172Bは、EL表示装置が有する画素の一例であり、トランジスタ221、トランジスタ222、及びEL素子223を有する。なお図14(B)では、ゲート線GL及びソース線SLに加えて、電源線VLを図示している。電源線VLは、EL素子223に電流を供給するための配線である。 A pixel 172B in FIG. 14B is an example of a pixel included in an EL display device and includes a transistor 221, a transistor 222, and an EL element 223. Note that in FIG. 14B, the power supply line VL is illustrated in addition to the gate line GL and the source line SL. The power supply line VL is a wiring for supplying a current to the EL element 223.

トランジスタ221は、トランジスタ222のゲートとソース線SLとの接続を制御するスイッチング素子としての機能を有する。トランジスタ221は、ゲート線GLを介して、そのゲートから入力される走査信号によりオン、オフが制御される。 The transistor 221 has a function as a switching element which controls connection between the gate of the transistor 222 and the source line SL. The transistor 221 is controlled to be turned on and off by a scanning signal input from its gate via the gate line GL.

トランジスタ222は、ゲートに印加される電圧に従って、電源線VLとEL素子223との間に流れる電流を制御する機能を有する。 The transistor 222 has a function of controlling a current flowing between the power supply line VL and the EL element 223 according to the voltage applied to the gate.

EL素子223は、一例として、電極に挟持された発光層で構成される素子である。EL素子223は、発光層を流れる電流量に従って輝度を制御することができる。 The EL element 223 is, for example, an element including a light emitting layer sandwiched between electrodes. The EL element 223 can control the luminance according to the amount of current flowing through the light emitting layer.

以上説明した、表示装置の回路ブロック図は、上記実施の形態で説明した半導体装置1000を有する。そのため、回路面積の縮小を図ることができる。 The circuit block diagram of the display device described above includes the semiconductor device 1000 described in any of the above embodiments. Therefore, the circuit area can be reduced.

(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様に係る半導体装置の断面構造の一例について、図15を参照して説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, an example of a cross-sectional structure of the semiconductor device of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

先の実施の形態に示す半導体装置は、シフトレジスタ110、データレジスタ120、デジタルアナログ変換回路130、およびバッファアンプ140等を有し、シリコンなどを用いたトランジスタで形成することができる。なおシリコンは、多結晶シリコン、微結晶シリコン、非結晶シリコンを用いることができる。なおシリコンの代わりに、酸化物半導体などを用いることができる。 The semiconductor device described in any of the above embodiments includes the shift register 110, the data register 120, the digital-analog conversion circuit 130, the buffer amplifier 140, and the like, and can be formed using a transistor including silicon or the like. Note that as silicon, polycrystalline silicon, microcrystalline silicon, or amorphous silicon can be used. Note that an oxide semiconductor or the like can be used instead of silicon.

図15には、本発明の一態様に係る半導体装置の断面模式図を示す。図15に示す断面模式図は、半導体材料(例えば、シリコン)を用いたnチャネル型のトランジスタ及びpチャネル型のトランジスタを有する。 FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention. The schematic cross-sectional view illustrated in FIG. 15 includes an n-channel transistor and a p-channel transistor each including a semiconductor material (eg, silicon).

nチャネル型のトランジスタ510は、半導体材料を含む基板500に設けられたチャネル形成領域501と、チャネル形成領域501を挟むように設けられた低濃度不純物領域502及び高濃度不純物領域503(これらを合わせて単に不純物領域とも呼ぶ)と、該不純物領域に接して設けられた金属間化合物領域507と、チャネル形成領域501上に設けられたゲート絶縁膜504aと、ゲート絶縁膜504a上に設けられたゲート電極層505aと、金属間化合物領域507と接して設けられたソース電極層506a及びドレイン電極層506bと、を有する。ゲート電極層505aの側面には、サイドウォール絶縁膜508aが設けられている。トランジスタ510を覆うように層間絶縁膜521及び層間絶縁膜522が設けられている。層間絶縁膜521及び層間絶縁膜522に形成された開口を通じて、ソース電極層506a及びドレイン電極層506bと、金属間化合物領域507とが接続されている。 The n-channel transistor 510 includes a channel formation region 501 provided in a substrate 500 containing a semiconductor material, a low concentration impurity region 502 and a high concentration impurity region 503 provided so as to sandwich the channel formation region 501 (these are combined). (Also simply referred to as an impurity region), an intermetallic compound region 507 provided in contact with the impurity region, a gate insulating film 504a provided on the channel formation region 501, and a gate provided on the gate insulating film 504a. It has an electrode layer 505a and a source electrode layer 506a and a drain electrode layer 506b which are provided in contact with the intermetallic compound region 507. A sidewall insulating film 508a is provided on a side surface of the gate electrode layer 505a. An interlayer insulating film 521 and an interlayer insulating film 522 are provided so as to cover the transistor 510. The source electrode layer 506a and the drain electrode layer 506b are connected to the intermetallic compound region 507 through the openings formed in the interlayer insulating film 521 and the interlayer insulating film 522.

pチャネル型のトランジスタ520は、半導体材料を含む基板500に設けられたチャネル形成領域511と、チャネル形成領域511を挟むように設けられた低濃度不純物領域512及び高濃度不純物領域513(これらを合わせて単に不純物領域とも呼ぶ)と、該不純物領域に接して設けられた金属間化合物領域517と、チャネル形成領域511上に設けられたゲート絶縁膜504bと、ゲート絶縁膜504b上に設けられたゲート電極層505bと、金属間化合物領域517と接して設けられたソース電極層506c及びドレイン電極層506dと、を有する。ゲート電極層505bの側面には、サイドウォール絶縁膜508bが設けられている。トランジスタ520を覆うように層間絶縁膜521及び層間絶縁膜522が設けられている。層間絶縁膜521及び層間絶縁膜522に形成された開口を通じて、ソース電極層506c及びドレイン電極層506dと、金属間化合物領域517とが接続している。 The p-channel transistor 520 includes a channel formation region 511 provided in a substrate 500 containing a semiconductor material, a low concentration impurity region 512 and a high concentration impurity region 513 provided so as to sandwich the channel formation region 511 (these are combined). (Also simply referred to as an impurity region), an intermetallic compound region 517 provided in contact with the impurity region, a gate insulating film 504b provided over the channel formation region 511, and a gate provided over the gate insulating film 504b. It has an electrode layer 505b and a source electrode layer 506c and a drain electrode layer 506d which are provided in contact with the intermetallic compound region 517. A sidewall insulating film 508b is provided on a side surface of the gate electrode layer 505b. An interlayer insulating film 521 and an interlayer insulating film 522 are provided so as to cover the transistor 520. The source electrode layer 506c and the drain electrode layer 506d are connected to the intermetallic compound region 517 through the openings formed in the interlayer insulating film 521 and the interlayer insulating film 522.

基板500には、トランジスタ510と、トランジスタ520のそれぞれを囲むように素子分離絶縁膜509が設けられている。 An element isolation insulating film 509 is provided over the substrate 500 so as to surround the transistor 510 and the transistor 520, respectively.

なお、図15では、トランジスタ510及びトランジスタ520が、半導体基板にチャネルが形成されるトランジスタである場合について示すが、トランジスタ510及びトランジスタ520が、絶縁表面上に形成された非晶質半導体膜、多結晶半導体膜にチャネルが形成されるトランジスタであってもよい。SOI基板のように、単結晶半導体膜にチャネルが形成されるトランジスタであってもよい。 Note that although FIG. 15 illustrates the case where the transistor 510 and the transistor 520 are transistors in which a channel is formed in a semiconductor substrate, the transistor 510 and the transistor 520 have a plurality of amorphous semiconductor films formed over an insulating surface. A transistor in which a channel is formed in a crystalline semiconductor film may be used. A transistor in which a channel is formed in a single crystal semiconductor film like an SOI substrate may be used.

半導体基板として、単結晶半導体基板を用いることにより、トランジスタ510及びトランジスタ520を、高速動作させることができる。よって、先の実施の形態に示す各回路を構成するトランジスタを、単結晶半導体基板に形成することが好ましい。 By using a single crystal semiconductor substrate as the semiconductor substrate, the transistors 510 and 520 can operate at high speed. Therefore, it is preferable to form the transistors included in each of the circuits described in the above embodiments over the single crystal semiconductor substrate.

トランジスタ510と、トランジスタ520とは、配線523によって、それぞれ接続されている。なお配線523上に層間絶縁膜及び電極層を設け、さらにトランジスタを積層して設ける構成としてもよい。 The transistor 510 and the transistor 520 are connected to each other by a wiring 523. Note that an interlayer insulating film and an electrode layer may be provided over the wiring 523, and a transistor may be stacked and provided.

(実施の形態4)
本実施の形態では、上述の実施の形態で説明した半導体装置を用いた応用例として、表示パネルに適用する例、該表示パネルを表示モジュールに適用する例、該表示モジュールの応用例、及び電子機器への応用例について、図16乃至図18を用いて説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment, as an application example using the semiconductor device described in the above embodiment, an example of application to a display panel, an example of application of the display panel to a display module, an application example of the display module, and an electronic device Application examples to devices will be described with reference to FIGS. 16 to 18.

<表示パネルへの実装例>
ソースドライバICとして機能する半導体装置を、表示パネルに適用する例について、図16(A)、(B)を用いて説明する。
<Example of mounting on display panel>
An example in which a semiconductor device functioning as a source driver IC is applied to a display panel will be described with reference to FIGS.

図16(A)の場合には、表示パネルが有する表示部711の周辺にソースドライバ712、及びゲートドライバ712A、712Bが設けられ、ソースドライバ712として基板713上に半導体装置を有するソースドライバIC714が実装される例を示している。 In the case of FIG. 16A, a source driver 712 and gate drivers 712A and 712B are provided around a display portion 711 included in a display panel, and a source driver IC 714 including a semiconductor device over a substrate 713 is provided as the source driver 712. It shows an example that is implemented.

ソースドライバIC714は、異方性導電接着剤、及び異方性導電フィルムを用いて基板713上に実装される。 The source driver IC 714 is mounted on the substrate 713 using an anisotropic conductive adhesive and an anisotropic conductive film.

なおソースドライバIC714は、FPC715を介して、外部回路基板716と接続される。 The source driver IC 714 is connected to the external circuit board 716 via the FPC 715.

図16(B)の場合には、表示部711の周辺にソースドライバ712、及びゲートドライバ712A、712Bが設けられ、ソースドライバ712としてFPC715上にソースドライバIC714が実装される例を示している。 In the case of FIG. 16B, the source driver 712 and the gate drivers 712A and 712B are provided around the display portion 711, and the source driver IC 714 is mounted on the FPC 715 as the source driver 712.

ソースドライバIC714をFPC715上に実装することで、基板713に表示部711を大きく設けることができ、狭額縁化を達成することができる。 By mounting the source driver IC 714 on the FPC 715, the display portion 711 can be provided in a large size on the substrate 713 and a narrow frame can be achieved.

<表示モジュールの応用例>
次いで図16(A)、(B)の表示パネルを用いた表示モジュールの応用例について、図17を用いて説明を行う。
<Application example of display module>
Next, an application example of a display module including the display panel in FIGS. 16A and 16B will be described with reference to FIGS.

図17に示す表示モジュール8000は、上部カバー8001と下部カバー8002との間に、FPC8003に接続されたタッチパネル8004、FPC8005に接続された表示パネル8006、フレーム8009、プリント基板8010、バッテリー8011を有する。なお、バッテリー8011、タッチパネル8004などは、設けられない場合もある。 A display module 8000 illustrated in FIG. 17 includes a touch panel 8004 connected to an FPC 8003, a display panel 8006 connected to an FPC 8005, a frame 8009, a printed board 8010, and a battery 8011 between an upper cover 8001 and a lower cover 8002. Note that the battery 8011, the touch panel 8004, and the like may not be provided.

上記図16(A)、(B)で説明した表示パネルは、図17における表示パネル8006に用いることができる。 The display panel described in FIGS. 16A and 16B can be used as the display panel 8006 in FIG.

上部カバー8001及び下部カバー8002は、タッチパネル8004及び表示パネル8006のサイズに合わせて、形状および/または寸法を適宜変更することができる。 The shape and/or size of the upper cover 8001 and the lower cover 8002 can be changed as appropriate in accordance with the sizes of the touch panel 8004 and the display panel 8006.

タッチパネル8004は、抵抗膜方式または静電容量方式のタッチパネルを表示パネル8006に重畳して用いることができる。表示パネル8006の対向基板(封止基板)に、タッチパネル機能を持たせるようにすることも可能である。または、表示パネル8006の各画素内に光センサを設け、光学式のタッチパネルとすることも可能である。または、表示パネル8006の各画素内にタッチセンサ用電極を設け、静電容量方式のタッチパネルとすることも可能である。この場合、タッチパネル8004を省略することも可能である。 As the touch panel 8004, a touch panel of a resistance film type or a capacitance type can be used by being superimposed on the display panel 8006. The counter substrate (sealing substrate) of the display panel 8006 can have a touch panel function. Alternatively, an optical sensor can be provided in each pixel of the display panel 8006 to form an optical touch panel. Alternatively, an electrode for a touch sensor may be provided in each pixel of the display panel 8006 so that a touch panel of a capacitance type can be obtained. In this case, the touch panel 8004 can be omitted.

フレーム8009は、表示パネル8006の保護機能の他、プリント基板8010の動作により発生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。フレーム8009は、放熱板としての機能を有していてもよい。 The frame 8009 has a function of protecting the display panel 8006 and a function of an electromagnetic shield for blocking an electromagnetic wave generated by the operation of the printed circuit board 8010. The frame 8009 may have a function as a heat dissipation plate.

プリント基板8010は、電源回路、ビデオ信号及びクロック信号を出力するための信号処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であっても良いし、別途設けたバッテリー8011による電源であってもよい。バッテリー8011は、商用電源を用いる場合には、省略可能である。 The printed circuit board 8010 has a power supply circuit and a signal processing circuit for outputting a video signal and a clock signal. The power supply for supplying power to the power supply circuit may be an external commercial power supply or a power supply by a battery 8011 provided separately. The battery 8011 can be omitted when a commercial power source is used.

表示モジュール8000には、偏光板、位相差板、プリズムシートなどの部材を追加して設けてもよい。 The display module 8000 may be additionally provided with members such as a polarizing plate, a retardation plate, and a prism sheet.

<電子機器への応用例>
次いで、コンピュータ、携帯情報端末(携帯電話、携帯型ゲーム機、音響再生装置なども含む)、電子ペーパー、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、デジタルビデオカメラなどの電子機器の表示パネルを、上述の表示モジュールを適用した表示パネルとする場合について説明する。
<Application example to electronic equipment>
Next, electronic devices such as a computer, a personal digital assistant (including a mobile phone, a portable game machine, and a sound reproducing device), electronic paper, a television device (also referred to as a television or a television receiver), a digital video camera, etc. A case where the display panel is a display panel to which the above-mentioned display module is applied will be described.

図18(A)は、携帯型の情報端末であり、筐体901、筐体902、第1の表示部903a、第2の表示部903bなどによって構成されている。筐体901と筐体902の少なくとも一部には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する表示モジュールが設けられている。そのため、回路面積の縮小が図られた携帯型の情報端末が実現される。 FIG. 18A illustrates a portable information terminal including a housing 901, a housing 902, a first display portion 903a, a second display portion 903b, and the like. At least part of the housings 901 and 902 is provided with the display module including the semiconductor device described in any of the above embodiments. Therefore, a portable information terminal with a reduced circuit area is realized.

なお、第1の表示部903aはタッチ入力機能を有するパネルとなっており、例えば図18(A)の左図のように、第1の表示部903aに表示される選択ボタン904により「タッチ入力」を行うか、「キーボード入力」を行うかを選択できる。選択ボタンは様々な大きさで表示できるため、幅広い世代の人が使いやすさを実感できる。ここで、例えば「キーボード入力」を選択した場合、図18(A)の右図のように第1の表示部903aにはキーボード905が表示される。これにより、従来の情報端末と同様に、キー入力による素早い文字入力などが可能となる。 Note that the first display portion 903a is a panel having a touch input function. For example, as shown in the left diagram in FIG. 18A, a “touch input” is performed by a selection button 904 displayed on the first display portion 903a. , Or "keyboard input" can be selected. The selection buttons can be displayed in various sizes, making it easy for people of all ages to experience. Here, for example, when “keyboard input” is selected, a keyboard 905 is displayed on the first display unit 903a as shown in the right diagram of FIG. As a result, like the conventional information terminal, quick character input by key input can be performed.

図18(A)に示す携帯型の情報端末は、図18(A)の右図のように、第1の表示部903a及び第2の表示部903bのうち、一方を取り外すことができる。第2の表示部903bもタッチ入力機能を有するパネルとし、持ち運びの際、さらなる軽量化を図ることができ、一方の手で筐体902を持ち、他方の手で操作することができるため便利である。 In the portable information terminal illustrated in FIG. 18A, one of the first display portion 903a and the second display portion 903b can be removed as illustrated in the right view of FIG. 18A. The second display portion 903b is also a panel having a touch input function, which makes it possible to further reduce the weight when carrying, and it is convenient because the housing 902 can be held with one hand and operated with the other hand. is there.

図18(A)は、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示する機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示部に表示する機能、表示部に表示した情報を操作又は編集する機能、様々なソフトウェア(プログラム)によって処理を制御する機能、等を有することができる。筐体の裏面または側面に、外部接続用端子(イヤホン端子、USB端子など)、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。 18A shows a function of displaying various pieces of information (still images, moving images, text images, and the like), a function of displaying a calendar, date, time, and the like on the display portion, and operating or editing information displayed on the display portion. It can have a function, a function of controlling processing by various software (programs), and the like. An external connection terminal (earphone terminal, USB terminal, etc.), a recording medium insertion portion, etc. may be provided on the back surface or side surface of the housing.

図18(A)に示す携帯型の情報端末は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすることも可能である。 The portable information terminal illustrated in FIG. 18A may have a structure capable of wirelessly transmitting and receiving data. It is also possible to purchase desired book data and the like from an electronic book server wirelessly and download them.

更に、図18(A)に示す筐体902にアンテナ、マイク機能、および/または無線機能を持たせ、携帯電話として用いてもよい。 Further, the housing 902 illustrated in FIG. 18A may be provided with an antenna, a microphone function, and/or a wireless function and used as a mobile phone.

図18(B)は、電子ペーパーを実装した電子書籍端末910であり、筐体911と筐体912の2つの筐体で構成されている。筐体911及び筐体912には、それぞれ表示部913及び表示部914が設けられている。筐体911と筐体912は、軸部915により接続されており、該軸部915を軸として開閉動作を行うことができる。筐体911は、電源916、操作キー917、スピーカー918などを備えている。筐体911、筐体912の少なくとも一には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する表示モジュールが設けられている。そのため、回路面積の縮小が図られた電子書籍端末が実現される。 FIG. 18B illustrates an electronic book terminal 910 in which electronic paper is mounted, which includes two housings, a housing 911 and a housing 912. The housing 911 and the housing 912 are provided with a display portion 913 and a display portion 914, respectively. The housing 911 and the housing 912 are connected by a shaft portion 915, and an opening/closing operation can be performed around the shaft portion 915. The housing 911 includes a power source 916, operation keys 917, a speaker 918, and the like. At least one of the housings 911 and 912 is provided with the display module including the semiconductor device described in any of the above embodiments. Therefore, an electronic book terminal with a reduced circuit area is realized.

図18(C)は、テレビジョン装置であり、筐体921、表示部922、スタンド923などで構成されている。テレビジョン装置920の操作は、筐体921が備えるスイッチおよび/またはリモコン操作機924により行うことができる。筐体921及びリモコン操作機924には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する表示モジュールが搭載されている。そのため、回路面積の縮小が図られたテレビジョン装置が実現される。 FIG. 18C illustrates a television device including a housing 921, a display portion 922, a stand 923, and the like. The television device 920 can be operated with a switch and/or a remote controller 924 provided in the housing 921. A display module including the semiconductor device described in any of the above embodiments is mounted on the housing 921 and the remote controller 924. Therefore, a television device with a reduced circuit area is realized.

図18(D)は、スマートフォンであり、本体930には、表示部931と、スピーカー932と、マイク933と、操作ボタン934等が設けられている。本体930内には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する表示モジュールが設けられている。そのため回路面積の縮小が図られたスマートフォンが実現される。 FIG. 18D is a smartphone, and a main body 930 is provided with a display portion 931, a speaker 932, a microphone 933, operation buttons 934, and the like. A display module including the semiconductor device described in any of the above embodiments is provided in the main body 930. Therefore, a smartphone with a reduced circuit area is realized.

図18(E)は、デジタルカメラであり、本体941、表示部942、操作スイッチ943などによって構成されている。本体941内には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する表示モジュールが設けられている。そのため、回路面積の縮小が図られたデジタルカメラが実現される。 FIG. 18E illustrates a digital camera, which includes a main body 941, a display portion 942, operation switches 943, and the like. A display module including the semiconductor device described in any of the above embodiments is provided in the main body 941. Therefore, a digital camera with a reduced circuit area is realized.

以上のように、本実施の形態に示す電子機器には、先の実施の形態に示す半導体装置を有する表示モジュールが搭載されている。そのため、回路面積の縮小が図られた電子機器が実現される。 As described above, the electronic device described in this embodiment includes the display module including the semiconductor device described in any of the above embodiments. Therefore, an electronic device with a reduced circuit area is realized.

(本明細書等の記載に関する付記)
以上の実施の形態、及び実施の形態における各構成の説明について、以下に付記する。
(Additional notes regarding the description in this specification, etc.)
The above embodiments and the description of each configuration in the above embodiments will be added below.

<実施の形態で述べた本発明の一態様に関する付記>
各実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて、本発明の一態様とすることができる。1つの実施の形態の中に、複数の構成例が示される場合は、互い構成例を適宜組み合わせることが可能である。
<Additional Notes on One Aspect of the Present Invention Described in Embodiments>
The structure described in each embodiment can be combined with a structure described in any of the other embodiments as appropriate to be one embodiment of the present invention. When a plurality of configuration examples are shown in one embodiment, the configuration examples can be appropriately combined with each other.

なお、ある一つの実施の形態の中で述べる内容(一部の内容でもよい)は、その実施の形態で述べる別の内容(一部の内容でもよい)、及び/又は、一つ若しくは複数の別の実施の形態で述べる内容(一部の内容でもよい)に対して、適用、組み合わせ、又は置き換えなどを行うことが出来る。 In addition, the content (may be part of the content) described in one embodiment is another content (may be part of the content) described in the embodiment, and/or one or a plurality of contents. Application, combination, replacement, or the like can be performed with respect to the content (may be part of the content) described in another embodiment.

なお、実施の形態の中で述べる内容とは、各々の実施の形態において、様々な図を用いて述べる内容、又は明細書に記載される文章を用いて述べる内容のことである。 Note that the content described in the embodiments means the content described using various drawings or the content described in the specification in each embodiment.

なお、ある一つの実施の形態において述べる図(一部でもよい)は、その図の別の部分、その実施の形態において述べる別の図(一部でもよい)、及び/又は、一つ若しくは複数の別の実施の形態において述べる図(一部でもよい)に対して、組み合わせることにより、さらに多くの図を構成させることが出来る。 Note that a diagram (or part of it) described in one embodiment is another part of the diagram, another diagram (or part) described in the embodiment, and/or one or more. More drawings can be configured by combining the drawings (which may be a part) described in another embodiment of 1.

<図面を説明する記載に関する付記>
本明細書等において、「上に」、「下に」などの配置を示す語句は、構成同士の位置関係を、図面を参照して説明するために、便宜上用いている。構成同士の位置関係は、各構成を描写する方向に応じて適宜変化する。そのため、配置を示す語句は、明細書で説明した記載に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。
<Additional remarks regarding the description of the drawings>
In this specification and the like, terms such as “above” and “below” are used for convenience in order to describe the positional relationship between components with reference to the drawings. The positional relationship between the components changes as appropriate according to the direction in which each component is drawn. Therefore, the term indicating the arrangement is not limited to the description described in the specification, and can be appropriately paraphrased according to the situation.

「上」または「下」の用語は、構成要素の位置関係が直上または直下で、かつ、直接接していることを限定するものではない。例えば、「絶縁層A上の電極B」の表現であれば、絶縁層Aの上に電極Bが直接接して形成されている必要はなく、絶縁層Aと電極Bとの間に他の構成要素を含むものを除外しない。 The terms "above" or "below" do not limit that the positional relationship of the components is directly above or below and in direct contact with each other. For example, in the expression “electrode B on insulating layer A”, it is not necessary that the electrode B is formed directly on the insulating layer A, and another structure is provided between the insulating layer A and the electrode B. Do not exclude those that contain elements.

本明細書等において、ブロック図では、構成要素を機能毎に分類し、互いに独立したブロックとして示している。しかしながら実際の回路等においては、構成要素を機能毎に切り分けることが難しく、一つの回路に複数の機能が係わる場合、または、複数の回路にわたって一つの機能が関わる場合、があり得る。そのため、ブロック図のブロックは、明細書で説明した構成要素に限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。 In the present specification and the like, in the block diagram, the constituent elements are classified by function and shown as independent blocks. However, in an actual circuit or the like, it is difficult to divide the constituent elements by function, and there may be a case where a plurality of functions are involved in one circuit or a case where one function is involved over a plurality of circuits. Therefore, the blocks in the block diagram are not limited to the components described in the specification, and can be rephrased appropriately according to the situation.

図面において、大きさ、層の厚さ、又は領域は、説明の便宜上任意の大きさに示したものである。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。なお図面は明確性を期すために模式的に示したものであり、図面に示す形状又は値などに限定されない。例えば、ノイズによる信号、電圧、若しくは電流のばらつき、又は、タイミングのずれによる信号、電圧、若しくは電流のばらつきなどを含むことが可能である。 In the drawings, the size, the layer thickness, or the region is shown as an arbitrary size for convenience of description. Therefore, it is not necessarily limited to that scale. Note that the drawings are schematically shown for the sake of clarity, and are not limited to the shapes or values shown in the drawings. For example, it may include a signal, voltage, or current variation due to noise, or a signal, voltage, or current variation due to a timing shift.

<言い換え可能な記載に関する付記>
本明細書等において、トランジスタの接続関係を説明する際、ソースとドレインとの一方を、「ソース又はドレインの一方」(又は第1電極、又は第1端子)と表記し、ソースとドレインとの他方を「ソース又はドレインの他方」(又は第2電極、又は第2端子)と表記している。これは、トランジスタのソースとドレインは、トランジスタの構造又は動作条件等によって変わるためである。なおトランジスタのソースとドレインの呼称については、ソース(ドレイン)端子、またはソース(ドレイン)電極等、状況に応じて適切に言い換えることができる。
<Additional remark regarding the description in other words>
In this specification and the like, when describing a connection relation of a transistor, one of a source and a drain is referred to as “one of a source and a drain” (or a first electrode or a first terminal) and a source and a drain are referred to. The other is described as "the other of the source and the drain" (or the second electrode or the second terminal). This is because the source and drain of the transistor change depending on the structure of the transistor, operating conditions, or the like. Note that the names of a source and a drain of a transistor can be appropriately referred to as a source (drain) terminal, a source (drain) electrode, or the like depending on circumstances.

本明細書等において「電極」または「配線」の用語は、これらの構成要素を機能的に限定するものではない。例えば、「電極」は「配線」の一部として用いられることがあり、その逆もまた同様である。さらに、「電極」または「配線」の用語は、複数の「電極」または「配線」が一体となって形成されている場合なども含む。 In this specification and the like, the term “electrode” or “wiring” does not functionally limit these components. For example, "electrode" may be used as part of "wiring" and vice versa. Furthermore, the term “electrode” or “wiring” includes a case where a plurality of “electrodes” or “wirings” are integrally formed.

本明細書等において、電圧と電位は、適宜言い換えることができる。電圧は、基準となる電位からの電位差のことであり、例えば基準となる電位をグラウンド電圧(接地電圧)とすると、電圧を電位に言い換えることができる。グラウンド電位は必ずしも0Vを意味するとは限らない。なお電位は相対的なものであり、基準となる電位によっては、配線等に与える電位を変化させる場合がある。 In this specification and the like, voltage and potential can be paraphrased as appropriate. The voltage is a potential difference from a reference potential, and for example, when the reference potential is a ground voltage (ground voltage), the voltage can be paraphrased into a potential. The ground potential does not always mean 0V. Note that the potentials are relative, and the potential applied to wiring or the like may be changed depending on the reference potential.

なお本明細書等において、「膜」、「層」などの語句は、場合によっては、または、状況に応じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜」という用語に変更することが可能な場合がある。または、例えば、「絶縁膜」という用語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能な場合がある。 In this specification and the like, the terms “film”, “layer”, and the like can be replaced with each other depending on the case or circumstances. For example, it may be possible to change the term "conductive layer" to the term "conductive film". Alternatively, for example, it may be possible to change the term “insulating film” to the term “insulating layer”.

なお本明細書等において、1つの画素に1つのトランジスタ及び1つの容量素子を備えた1T−1Cの回路構成、あるいは1つの画素に2つのトランジスタ及び1つの容量素子を備えた2T−1C構造の回路構成を示しているが、本実施の形態はこれに限定されない。1つの画素に3つ以上のトランジスタ及び2つ以上の容量素子を有する回路構成とすることもでき、別途の配線がさらに形成されて、多様な回路構成としてもよい。 Note that in this specification and the like, a 1T-1C circuit structure in which one pixel includes one transistor and one capacitor, or a 2T-1C structure including two transistors and one capacitor in one pixel Although a circuit configuration is shown, this embodiment is not limited to this. A circuit configuration having three or more transistors and two or more capacitor elements in one pixel may be used, and a separate wiring may be further formed to have various circuit configurations.

<語句の定義に関する付記>
以下では、上記実施の形態中で言及した語句の定義について説明する。
<Additional notes regarding the definition of terms>
The definitions of the terms referred to in the above embodiment will be described below.

<<スイッチについて>>
本明細書等において、スイッチとは、導通状態(オン状態)、または、非導通状態(オフ状態)になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有するものをいう。または、スイッチとは、電流を流す経路を選択して切り替える機能を有するものをいう。
<< About switches >>
In this specification and the like, a switch refers to a switch which is in a conductive state (on state) or a non-conductive state (off state) and has a function of controlling whether or not to flow current. Alternatively, the switch has a function of selecting and switching a path through which current flows.

一例としては、電気的スイッチ又は機械的なスイッチなどを用いることができる。つまり、スイッチは、電流を制御できるものであればよく、特定のものに限定されない。 As an example, an electrical switch or a mechanical switch can be used. That is, the switch is not limited to a particular one as long as it can control the current.

電気的なスイッチの一例としては、トランジスタ(例えば、バイポーラトランジスタ、MOSトランジスタなど)、ダイオード(例えば、PNダイオード、PINダイオード、ショットキーダイオード、MIM(Metal Insulator Metal)ダイオード、MIS(Metal Insulator Semiconductor)ダイオード、ダイオード接続のトランジスタなど)、又はこれらを組み合わせた論理回路などがある。 Examples of electrical switches include transistors (for example, bipolar transistors, MOS transistors, etc.), diodes (for example, PN diodes, PIN diodes, Schottky diodes, MIM (Metal Insulator Metal) diodes, and MIS (Metal Insulator Semiconductor) diodes. , A diode-connected transistor, or the like, or a logic circuit in which these are combined.

なお、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、トランジスタの「導通状態」とは、トランジスタのソースとドレインが電気的に短絡されているとみなせる状態をいう。トランジスタの「非導通状態」とは、トランジスタのソースとドレインが電気的に遮断されているとみなせる状態をいう。なおトランジスタを単なるスイッチとして動作させる場合には、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。 Note that when a transistor is used as a switch, the “conductive state” of the transistor means a state where the source and the drain of the transistor can be regarded as being electrically short-circuited. The “non-conduction state” of a transistor means a state in which the source and the drain of the transistor can be regarded as being electrically cut off. Note that when the transistor is operated as a simple switch, the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited.

機械的なスイッチの一例としては、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)のように、MEMS(マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム)技術を用いたスイッチがある。そのスイッチは、機械的に動かすことが可能な電極を有し、その電極が動くことによって、導通と非導通とを制御して動作する。 An example of a mechanical switch is a switch using MEMS (micro electro mechanical system) technology, such as a digital micromirror device (DMD). The switch has a mechanically movable electrode, and movement of the electrode controls conduction and non-conduction.

<<画素について>>
本明細書等において、画素とは、例えば、明るさを制御できる要素一つ分を示すものとする。よって、一例としては、一画素とは、一つの色要素を示すものとし、その色要素一つで明るさを表現する。従って、そのときは、R(赤)G(緑)B(青)の色要素からなるカラー表示装置の場合には、画像の最小単位は、Rの画素とGの画素とBの画素との三画素から構成されるものとする。
<<About pixels>>
In this specification and the like, a pixel refers to, for example, one element whose brightness can be controlled. Therefore, as an example, one pixel indicates one color element, and the brightness is expressed by the one color element. Therefore, in that case, in the case of a color display device including color elements of R (red), G (green), and B (blue), the minimum unit of the image is the R pixel, the G pixel, and the B pixel. It is composed of three pixels.

なお、色要素は、三色に限定されず、それ以上でもよく、例えば、RGBW(Wは白)とすることもできるし、または、RGBに、イエロー、シアン、マゼンタを追加することもできる。 The color elements are not limited to three colors, and may be more than three colors. For example, RGBW (W is white) may be used, or yellow, cyan, and magenta may be added to RGB.

<<表示素子について>>
本明細書等において、表示素子とは、電気的作用または磁気的作用により、コントラスト、輝度、反射率、透過率などが変化する表示媒体を有するものである。表示素子の一例としては、EL(エレクトロルミネッセンス)素子、LEDチップ(白色LEDチップ、赤色LEDチップ、緑色LEDチップ、青色LEDチップなど)、トランジスタ(電流に応じて発光するトランジスタ)、電子放出素子、カーボンナノチューブを用いた表示素子、液晶素子、電子インク、エレクトロウェッティング素子、電気泳動素子、プラズマディスプレイ(PDP)、MEMS(マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム)を用いた表示素子(例えば、グレーティングライトバルブ(GLV)、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、DMS(デジタル・マイクロ・シャッター)、MIRASOL(登録商標)、IMOD(インターフェアレンス・モジュレーション)素子、シャッター方式のMEMS表示素子、光干渉方式のMEMS表示素子、圧電セラミックディスプレイなど)、カーボンナノチューブ、または、量子ドットなど、がある。EL素子を用いた表示装置の一例としては、ELディスプレイなどがある。電子放出素子を用いた表示装置の一例としては、フィールドエミッションディスプレイ(FED)又はSED方式平面型ディスプレイ(SED:Surface−conduction Electron−emitter Display)などがある。液晶素子を用いた表示装置の一例としては、液晶ディスプレイ(透過型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイ、反射型液晶ディスプレイ、直視型液晶ディスプレイ、投射型液晶ディスプレイ)などがある。電子インク、電子粉流体(登録商標)、又は電気泳動素子を用いた表示装置の一例としては、電子ペーパーなどがある。量子ドットを各画素に用いた表示装置の一例としては、量子ドットディスプレイなどがある。なお、量子ドットは、表示素子としてではなく、バックライトの一部に設けてもよい。量子ドットを用いることにより、色純度の高い表示を行うことができる。なお、半透過型液晶ディスプレイまたは反射型液晶ディスプレイを実現する場合には、画素電極の一部、または、全部が、反射電極としての機能を有するようにすればよい。例えば、画素電極の一部、または、全部が、アルミニウム、銀、などを有するようにすればよい。さらに、その場合、反射電極の下に、SRAMなどの記憶回路を設けることも可能である。これにより、さらに、消費電力を低減することができる。なお、LEDチップを用いる場合、LEDチップの電極または窒化物半導体の下に、グラフェンまたはグラファイトを配置してもよい。グラフェンまたはグラファイトは、複数の層を重ねて、多層膜としてもよい。このように、グラフェンまたはグラファイトを設けることにより、その上に、窒化物半導体、例えば、結晶を有するn型GaN半導体層などを容易に成膜することができる。さらに、その上に、結晶を有するp型GaN半導体層などを設けて、LEDチップを構成することができる。なお、グラフェンまたはグラファイトと、結晶を有するn型GaN半導体層との間に、AlN層を設けてもよい。なお、LEDチップが有するGaN半導体層は、MOCVDで成膜してもよい。ただし、グラフェンを設けることにより、LEDチップが有するGaN半導体層は、スパッタ法で成膜することも可能である。MEMS(マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム)を用いた表示素子においては、表示素子が封止されている空間(例えば、表示素子が配置されている素子基板と、素子基板に対向して配置されている対向基板との間)に、乾燥剤を配置してもよい。乾燥剤を配置することにより、MEMSなどが水分によって動きにくくなること、および/または、劣化しやすくなることを防止すること、ができる。
<< about display element >>
In this specification and the like, a display element includes a display medium whose contrast, luminance, reflectance, transmittance, or the like is changed by an electric action or a magnetic action. Examples of display elements include EL (electroluminescence) elements, LED chips (white LED chips, red LED chips, green LED chips, blue LED chips, etc.), transistors (transistors that emit light in response to current), electron-emitting devices, Display element using carbon nanotube, liquid crystal element, electronic ink, electrowetting element, electrophoretic element, plasma display (PDP), display element using MEMS (micro electro mechanical system) (eg, grating light valve) (GLV), digital micro mirror device (DMD), DMS (digital micro shutter), MIRASOL (registered trademark), IMOD (interference modulation) element, shutter-type MEMS display element, optical interference-type MEMS display Devices, piezoceramic displays, etc.), carbon nanotubes, or quantum dots. An example of a display device using an EL element is an EL display. Examples of a display device using an electron-emitting device include a field emission display (FED) or a SED-type flat-panel display (SED: Surface-conduction Electron-emitter Display). A liquid crystal display (transmissive liquid crystal display, semi-transmissive liquid crystal display, reflective liquid crystal display, direct-view liquid crystal display, projection liquid crystal display) is an example of a display device using a liquid crystal element. An example of a display device using electronic ink, electronic powder fluid (registered trademark), or an electrophoretic element is electronic paper. An example of a display device using quantum dots for each pixel is a quantum dot display. Note that the quantum dots may be provided not in the display element but in a part of the backlight. By using quantum dots, display with high color purity can be performed. In the case of realizing a semi-transmissive liquid crystal display or a reflective liquid crystal display, part or all of the pixel electrodes may have a function as a reflective electrode. For example, part or all of the pixel electrode may include aluminum, silver, or the like. Further, in that case, a memory circuit such as SRAM can be provided below the reflective electrode. Thereby, the power consumption can be further reduced. When the LED chip is used, graphene or graphite may be arranged below the electrode of the LED chip or the nitride semiconductor. Graphene or graphite may be a multilayer film in which a plurality of layers are stacked. By providing graphene or graphite in this manner, a nitride semiconductor, for example, an n-type GaN semiconductor layer having a crystal or the like can be easily formed thereover. Further, a p-type GaN semiconductor layer having crystals or the like may be provided thereon to form an LED chip. Note that an AlN layer may be provided between the graphene or graphite and the n-type GaN semiconductor layer having crystals. The GaN semiconductor layer of the LED chip may be formed by MOCVD. However, by providing graphene, the GaN semiconductor layer of the LED chip can be formed by a sputtering method. In a display element using a MEMS (micro electro mechanical system), a space in which the display element is sealed (for example, an element substrate on which the display element is arranged and an element substrate opposed to the element substrate are arranged). A desiccant may be disposed between the counter substrate and the counter substrate. By disposing the desiccant, it is possible to prevent the MEMS and the like from becoming difficult to move due to moisture and/or from easily becoming deteriorated.

<<接続について>>
本明細書等において、AとBとが接続されている、とは、AとBとが直接接続されているものの他、電気的に接続されているものを含むものとする。ここで、AとBとが電気的に接続されているとは、AとBとの間で、何らかの電気的作用を有する対象物が存在するとき、AとBとの電気信号の授受を可能とするものをいう。
<<About connection>>
In this specification and the like, the phrase “A and B are connected” includes the ones in which A and B are directly connected, and the ones that are electrically connected. Here, “A and B are electrically connected” means that when an object having some electric action exists between A and B, transmission and reception of an electric signal between A and B is possible. And what to say.

なお、例えば、トランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1を介して(又は介さず)、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2を介して(又は介さず)、Yと電気的に接続されている場合、またはトランジスタのソース(又は第1の端子など)が、Z1の一部と直接的に接続され、Z1の別の一部がXと直接的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)が、Z2の一部と直接的に接続され、Z2の別の一部がYと直接的に接続されている場合では、以下のように表現することが出来る。 Note that, for example, the source (or the first terminal or the like) of the transistor is electrically connected to X through (or not) Z1, and the drain of the transistor (or the second terminal or the like) is connected to Z2. Through (or without) electrically connected to Y, or the source of the transistor (or the first terminal, etc.) is directly connected to one part of Z1 and another part of Z1 Is directly connected to X, the drain (or the second terminal, etc.) of the transistor is directly connected to part of Z2, and another part of Z2 is directly connected to Y. Then, it can be expressed as follows.

例えば、「XとYとトランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とは、互いに電気的に接続されており、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yの順序で電気的に接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、Xと電気的に接続され、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)はYと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この順序で電気的に接続されている」と表現することができる。または、「Xは、トランジスタのソース(又は第1の端子など)とドレイン(又は第2の端子など)とを介して、Yと電気的に接続され、X、トランジスタのソース(又は第1の端子など)、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)、Yは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。 For example, “X and Y, the source (or the first terminal or the like) of the transistor, and the drain (or the second terminal or the like) are electrically connected to each other, and X, the source (or the first terminal) of the transistor, or the like. Terminal, etc.), the drain of the transistor (or the second terminal, etc.), and Y are electrically connected in this order.” Alternatively, “the source of the transistor (or the first terminal or the like) is electrically connected to X, the drain of the transistor (or the second terminal or the like) is electrically connected to Y, and X, the source of the transistor (or the like). Alternatively, the first terminal or the like), the drain of the transistor (or the second terminal, or the like), and Y are electrically connected in this order”. Alternatively, “X is electrically connected to Y through a source (or a first terminal or the like) and a drain (or a second terminal or the like) of the transistor, and X or the source (or the first terminal) of the transistor is connected. Terminal, etc.), the drain of the transistor (or the second terminal, etc.), and Y are provided in this connection order”. The source (or the first terminal or the like) of the transistor and the drain (or the second terminal or the like) are separated from each other by defining the order of connection in the circuit structure by using the expression method similar to these examples. Apart from this, the technical scope can be determined.

または、別の表現方法として、例えば、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した、トランジスタのソース(又は第1の端子など)とトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)との間の経路であり、前記第1の接続経路は、Z1を介した経路であり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有しておらず、前記第3の接続経路は、Z2を介した経路である。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の接続経路によって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の接続経路は、第2の接続経路を有しておらず、前記第2の接続経路は、トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の接続経路によって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の接続経路は、前記第2の接続経路を有していない。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース(又は第1の端子など)は、少なくとも第1の電気的パスによって、Z1を介して、Xと電気的に接続され、前記第1の電気的パスは、第2の電気的パスを有しておらず、前記第2の電気的パスは、トランジスタのソース(又は第1の端子など)からトランジスタのドレイン(又は第2の端子など)への電気的パスであり、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)は、少なくとも第3の電気的パスによって、Z2を介して、Yと電気的に接続され、前記第3の電気的パスは、第4の電気的パスを有しておらず、前記第4の電気的パスは、トランジスタのドレイン(又は第2の端子など)からトランジスタのソース(又は第1の端子など)への電気的パスである。」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続経路について規定することにより、トランジスタのソース(又は第1の端子など)と、ドレイン(又は第2の端子など)とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。 Alternatively, as another expression method, for example, “the source of the transistor (or the first terminal or the like) is electrically connected to X via at least the first connection path, and the first connection path is The second connection path does not have a second connection path, and the second connection path is provided between the source (or the first terminal or the like) of the transistor and the drain (or the second terminal or the like) of the transistor through the transistor. The first connection path is a path via Z1, and the drain (or the second terminal or the like) of the transistor is electrically connected to Y via at least the third connection path. Connected, the third connection path does not have the second connection path, and the third connection path is a path via Z2.” Alternatively, "the source (or the first terminal or the like) of the transistor is electrically connected to X through at least the first connection path via Z1, and the first connection path is the second connection path. And the second connection path has a connection path through a transistor, and the drain (or the second terminal or the like) of the transistor has at least a third connection path through Z2. , Y, and the third connection path does not have the second connection path.” Or “the source of the transistor (or the first terminal or the like) is electrically connected to X via at least a first electrical path via Z1, and the first electrical path is a second electrical path; The second electrical path is an electrical path from a source (or a first terminal or the like) of the transistor to a drain (or a second terminal or the like) of the transistor, which has no electrical path; A drain (or a second terminal or the like) of the transistor is electrically connected to Y through at least a third electrical path via Z2, and the third electrical path is a fourth electrical path. And the fourth electrical path is an electrical path from the drain of the transistor (or the second terminal or the like) to the source of the transistor (or the first terminal or the like).” can do. By defining the connection path in the circuit configuration using the expression method similar to these examples, the source (or the first terminal or the like) and the drain (or the second terminal or the like) of the transistor can be distinguished from each other. , The technical scope can be determined.

なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、X、Y、Z1、Z2は、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。 Note that these expression methods are examples and are not limited to these expression methods. Here, X, Y, Z1, and Z2 are objects (for example, devices, elements, circuits, wirings, electrodes, terminals, conductive films, layers, etc.).

SL_n ソース線
SL_1 ソース線
SL_12 ソース線
100 半導体装置
100A 半導体装置
100B 半導体装置
100C 半導体装置
100D 半導体装置
100E 半導体装置
110 シフトレジスタ
120 データレジスタ
130 デジタルアナログ変換回路
131_B 基準電圧生成回路
131_G 基準電圧生成回路
131_R 基準電圧生成回路
132 基準電圧生成回路
132_1 基準電圧生成回路
132_2 基準電圧生成回路
132_3 基準電圧生成回路
133 抵抗
134 配線群
134_1 配線群
134_2 配線群
134_3 配線群
135 切り替え回路
136 セレクタ
136_1 セレクタ
136_2 セレクタ
137 トランジスタ
138 トランジスタ
139 補間回路
140 バッファアンプ
142 バッファ
160 部
170 表示部
172 画素
172A 画素
172B 画素
180 ゲートドライバ
190 タッチパネル
192 タッチパネルIC
200 ソースドライバ
203 画素
221 トランジスタ
222 トランジスタ
223 EL素子
231 トランジスタ
232 容量素子
233 液晶素子
500 基板
501 チャネル形成領域
502 低濃度不純物領域
503 高濃度不純物領域
504a ゲート絶縁膜
504b ゲート絶縁膜
505a ゲート電極層
505b ゲート電極層
506a ソース電極層
506b ドレイン電極層
506c ソース電極層
506d ドレイン電極層
507 金属間化合物領域
508a サイドウォール絶縁膜
508b サイドウォール絶縁膜
509 素子分離絶縁膜
510 トランジスタ
511 チャネル形成領域
512 低濃度不純物領域
513 高濃度不純物領域
517 金属間化合物領域
520 トランジスタ
521 層間絶縁膜
522 層間絶縁膜
523 配線
711 表示部
712 ソースドライバ
712A ゲートドライバ
712B ゲートドライバ
713 基板
714 ソースドライバIC
715 FPC
716 外部回路基板
901 筐体
902 筐体
903a 表示部
903b 表示部
904 選択ボタン
905 キーボード
910 電子書籍端末
911 筐体
912 筐体
913 表示部
914 表示部
915 軸部
916 電源
917 操作キー
918 スピーカー
920 テレビジョン装置
921 筐体
922 表示部
923 スタンド
924 リモコン操作機
930 本体
931 表示部
932 スピーカー
933 マイク
934 操作ボタン
941 本体
942 表示部
943 操作スイッチ
1000 半導体装置
8000 表示モジュール
8001 上部カバー
8002 下部カバー
8003 FPC
8004 タッチパネル
8005 FPC
8006 表示パネル
8009 フレーム
8010 プリント基板
8011 バッテリー
SL_n source line SL_1 source line SL_12 source line 100 semiconductor device 100A semiconductor device 100B semiconductor device 100C semiconductor device 100D semiconductor device 100E semiconductor device 110 shift register 120 data register 130 digital-analog conversion circuit 131_B reference voltage generation circuit 131_G reference voltage generation circuit 131_R reference Voltage generation circuit 132 Reference voltage generation circuit 132_1 Reference voltage generation circuit 132_2 Reference voltage generation circuit 132_3 Reference voltage generation circuit 133 Resistance 134 Wiring group 134_1 Wiring group 134_2 Wiring group 134_3 Wiring group 135 Switching circuit 136 Selector 136_1 Selector 136_2 Selector 137 Transistor 138 Transistor 139 interpolation circuit 140 buffer amplifier 142 buffer 160 section 170 display section 172 pixel 172A pixel 172B pixel 180 gate driver 190 touch panel 192 touch panel IC
200 source driver 203 pixel 221 transistor 222 transistor 223 EL element 231 transistor 232 capacitor element 233 liquid crystal element 500 substrate 501 channel formation region 502 low concentration impurity region 503 high concentration impurity region 504a gate insulating film 504b gate insulating film 505a gate electrode layer 505b gate Electrode layer 506a Source electrode layer 506b Drain electrode layer 506c Source electrode layer 506d Drain electrode layer 507 Intermetallic compound region 508a Side wall insulating film 508b Side wall insulating film 509 Element isolation insulating film 510 Transistor 511 Channel forming region 512 Low concentration impurity region 513 High concentration impurity region 517 Intermetallic compound region 520 Transistor 521 Interlayer insulating film 522 Interlayer insulating film 523 Wiring 711 Display unit 712 Source driver 712A Gate driver 712B Gate driver 713 Substrate 714 Source driver IC
715 FPC
716 External circuit board 901 Housing 902 Housing 903a Display 903b Display 904 Selection button 905 Keyboard 910 E-book terminal 911 Housing 912 Housing 913 Display 914 Display 915 Shaft 916 Power supply 917 Operation keys 918 Speaker 920 Television Device 921 Housing 922 Display unit 923 Stand 924 Remote controller 930 Main body 931 Display unit 932 Speaker 933 Microphone 934 Operation button 941 Main body 942 Display unit 943 Operation switch 1000 Semiconductor device 8000 Display module 8001 Upper cover 8002 Lower cover 8003 FPC
8004 Touch panel 8005 FPC
8006 Display panel 8009 Frame 8010 Printed circuit board 8011 Battery

Claims (1)

赤、緑、および青の表示素子を有する表示部と、
前記表示部を駆動するデジタルアナログ変換回路と、を有し、
前記デジタルアナログ変換回路は、
入力されるデジタルデータに応じて複数の第1電圧を生成する第1の基準電圧生成回路と、
前記複数の第1電圧を供給する第1の配線群と、
前記第1の配線群より供給される前記複数の第1電圧の一を選択し、第1アナログ信号を出力する第1のセレクタと、
入力されるデジタルデータに応じて複数の第2電圧を生成する第2の基準電圧生成回路と、
前記複数の第2電圧を供給する第2の配線群と、
前記第2の配線群より供給される前記複数の第2電圧の一を選択し、第2アナログ信号を出力する第2のセレクタと、を有し、
入力されるデジタルデータに応じて複数の第3電圧を生成する第3の基準電圧生成回路と、
前記複数の第3電圧を供給する第3の配線群と、
前記第3の配線群より供給される前記複数の第3電圧の一を選択し、第3アナログ信号を出力する第3のセレクタと、を有し、
前記第1のセレクタから出力された前記第1アナログ信号は、バッファアンプを介して、前記表示部が有する複数のソース線のうち、赤の前記表示素子を有する画素に電気的に接続される第1のソース線に出力され、
前記第2のセレクタから出力された前記第2アナログ信号は、前記バッファアンプを介して、前記複数のソース線のうち、緑の前記表示素子を有する画素に電気的に接続される第2のソース線に出力され、
前記第3のセレクタから出力された前記第3アナログ信号は、前記バッファアンプを介して、前記複数のソース線のうち、青の前記表示素子を有する画素に電気的に接続される第3のソース線に出力され、
前記第1の配線群と前記第2の配線群と前記第3の配線群とは、前記複数のソース線が延びる方向と交差する方向に延び、
前記第1の配線群と前記第2の配線群と前記第3の配線群とは、それぞれ、前記複数のソース線が延びる方向に沿って重ならずに設けられる半導体装置。
A display section having display elements of red, green, and blue ;
A digital-analog conversion circuit for driving the display unit,
The digital-analog conversion circuit,
A first reference voltage generation circuit for generating a plurality of first voltages according to input digital data;
A first wiring group for supplying the plurality of first voltages;
Selecting one of said plurality of first voltage supplied from the first line group, a first selector for outputting a first analog signal,
A second reference voltage generation circuit that generates a plurality of second voltages in accordance with input digital data;
A second wiring group for supplying the plurality of second voltages;
Select one of the plurality of second voltage supplied from the second wiring group includes a second selector for outputting a second analog signal, and
A third reference voltage generation circuit that generates a plurality of third voltages according to input digital data;
A third wiring group that supplies the plurality of third voltages;
A third selector that selects one of the plurality of third voltages supplied from the third wiring group and outputs a third analog signal,
The first analog signal output from the first selector is electrically connected to a pixel having a red display element among a plurality of source lines included in the display section via a buffer amplifier . Output to source line 1
The second analog signal output from the second selector is electrically connected to the second source of the plurality of source lines to the pixel having the green display element via the buffer amplifier. Output to a line ,
The third analog signal output from the third selector is electrically connected to the third source line of the plurality of source lines to the pixel having the blue display element via the buffer amplifier. Output to a line,
The first wiring group, the second wiring group, and the third wiring group extend in a direction intersecting a direction in which the plurality of source lines extend,
A semiconductor device in which the first wiring group, the second wiring group, and the third wiring group are provided without overlapping along a direction in which the plurality of source lines extend, respectively.
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