JP6727626B2 - カルコゲン化合物、その製造方法及びこれを含む熱電素子 - Google Patents

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Description

関連出願との相互引用
本出願は、2017年5月15日付韓国特許出願第10−2017−0060148号に基づいた優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、相対的に低い温度でも優れた相(phase)安定性を示し、出力因子及び熱電性能指数(ZT)が高いカルコゲン化合物、その製造方法及びこれを含む熱電素子に関する。
最近、資源枯渇及び燃焼による環境問題によって代替エネルギの一つとして廃熱を用いた熱電変換材料に対する研究が加速化している。
このような熱電変換材料のエネルギ変換効率は、熱電変換材料の熱電性能指数値であるZTに依存する。ここで、ZTはゼーベック(Seebeck)係数、電気伝導度及び熱伝導度などによって決定されるが、より具体的にはゼーベック係数の自乗及び電気伝導度に比例し、熱伝導度に反比例する。したがって、熱電変換素子のエネルギ変換効率を上げるために、ゼーベック係数または電気伝導度が高いか、熱伝導度が低い熱電変換材料の開発が必要である。
以前から知られている多様な熱電変換材料の中でも、例えば、PbTe、BiTe、SnSeなどのように、塩化ナトリウム(NaCl)と関連するか、類似の結晶格子構造を有し、格子サイトのうち一部が空いている熱電変換材料が優れた熱電変換特性を示すものとして知られている。つまり、このような結晶格子構造を有する材料は、前記塩化ナトリウムと類似の結晶格子構造によって優れた電気伝導度を示し、格子サイトのうち一部が空いたサイト(空孔;vacancy)となることによって低い熱伝導度を示すものと見られる。そのために、前記結晶格子構造を有する熱電変換材料は優れた熱電変換特性を有するものとして知られて適用されている。
それにもかかわらず、図1のように塩化ナトリウムと同じ面心立方格子構造(face−centered cubic lattice)を有し、かつ格子サイトのうち一部が空いたサイト(空孔)である熱電変換素材はほとんど知られていない。
ただし、Sn−Bi−Se系カルコゲン化合物のうち一つであるSnBiSeの場合、塩化ナトリウムと同じ面心立方格子構造を有し、一部の格子サイトが空いたサイトになっていることが知られている。参考までに、図2には代表的なSn−Bi−Se系カルコゲン化合物の相(phase)安定図が示されているが、前記SnBiSeの場合、約580〜720℃の温度(図2の円形表示部分)で、前記面心立方格子構造を有することが知られている。
しかし、このようなカルコゲン化合物の場合、約580〜720℃の温度でのみ安定相を維持し、これより低い温度、特に、熱電素子の駆動温度では異なる相に分解が発生して相安定性を示すことができない。結果的に、前記カルコゲン化合物の構造は、一部の空の格子サイトを含む面心立方格子構造であるため、低い熱伝導度及び優れた熱電特性を示すことが予測されたが、熱電素子の大体の駆動温度に対応する約580℃以下の低い温度で劣悪な相安定性を示すことによって、熱電変換素材に適用するには非常に制約的である問題があった。
本発明は、熱電素子の駆動温度に対応する温度でも優れた相(phase)安定性を示し、出力因子及び熱電性能指数が高い新たなカルコゲン化合物及びその製造方法を提供する。
また、本発明は、前記カルコゲン化合物を含む熱電素子を提供する。
本発明は、下記の化学式1で表されるカルコゲン化合物を提供する:
[化学式1]
PbSn4−zBiSe
前記化学式1において、Vは空孔(Vacancy)であり、Mはアルカリ金属であり、
x、y、z及び4−zはそれぞれV、M、Pb及びSnのモル比であって、xは0超1未満、yは0超1未満、x+yは0超1以下であり、zは0超4以下であり、x+y+zは0超5以下である。
本発明は、また、Sn、Pb、Bi、Se及びアルカリ金属(M)の原料物質を含む混合物を溶融する段階と、前記溶融された混合物を熱処理する段階と、前記熱処理された結果物を粉砕する段階と、前記粉砕された結果物を焼結する段階とを含むカルコゲン化合物の製造方法を提供する。
また、本発明は、前記カルコゲン化合物を熱電変換材料として含む熱電素子を提供する。
以下、発明の具体的な実施例によるカルコゲン化合物、その製造方法及びこれを含む熱電素子についてより詳細に説明する。
本発明の一実施例によれば、下記の化学式1で表されるカルコゲン化合物が提供される:
[化学式1]
PbSn4−zBiSe
前記化学式1において、Vは空孔(Vacancy)であり、Mはアルカリ金属であり、
x、y、z及び4−zはそれぞれV、M、Pb及びSnのモル比であって、xは0超1未満、yは0超1未満、x+yは0超1以下であり、zは0超4以下であり、x+y+zは0超5以下である。
前記一実施例のカルコゲン化合物は、SnBiSeのようなカルコゲン化合物にアルカリ金属とPbが添加され、空孔(Vacancy)サイトを有する化学式1で表されるものであって、前記SnBiSeと同じ結晶格子構造、つまり、塩化ナトリウムと同じ面心立方格子構造(face−centered cubic lattice)の結晶構造を有する。
より具体的に、前記一実施例の化合物は、前記面心立方格子構造において、前記Se、Sn、Pb及びBiが埋めたサイトを除いた空いたサイトである空孔(vacancy)を有し、前記アルカリ金属は、前記空孔サイトの少なくとも一部を埋めているものと見られる。
また、前記一実施例の化合物は、前記面心立方格子構造において、前記Pbは前記Snが埋めるサイトの一部に置換されたものと見られる。
後述する実施例においても立証されるように、このような一実施例の化合物は、前記面心立方格子構造の結晶格子構造及びアルカリ金属の添加によって優れた電気伝導度を示すことが確認された。これは、前記結晶格子構造に起因すると共に、アルカリ金属がイオン形態になり追加電子を提供できるからであると見られる。
また、前記一実施例の化合物は、前記特定の結晶格子構造を有しながらも、アルカリ金属が空の格子サイトである空孔を完全に埋めることができず、空いたサイトが一部残っている。前記空孔は、特定の結晶格子構造で格子点の原子が抜けた状態のものであり、原子の拡散を容易にし、前記空孔の有無により熱処理、変形、析出、相変態などに重要な影響を与え得る。前記一実施例の化合物は、面心立方格子構造を有しながらも一部空孔が残っていることによって、低い熱伝導度を示し、低い熱伝導度に起因した優れた熱電変換特性を示すことが確認された。
一方、後述する実施例においても立証されるように、前記空孔は、塩化ナトリウムと同じ面心立方格子構造を形成するのに非常に重要な役割を果たすが、後述する比較例2〜4のように前記空孔をアルカリ金属、Pb、Sn、またはBiで全て埋め、前記空孔をなくと、面心立方格子構造以外の他の構造を有する二次相が共に形成されるので、電気伝導度などの物性が低下して熱電変換素材への適用が非常に制約的である問題を有する。
さらに、前記一実施例のカルコゲン化合物は、その結晶格子構造中にアルカリ金属が添加されることによって、熱電素子の駆動温度に対応する低い温度(例えば、約580℃以下の低い温度)でも優れた相(phase)安定性を示すことが確認された。このような優れた相安定性は、前記一実施例のカルコゲン化合物を焼結体形態に最終製造した後放置した時にも化合物の分解が発生せず、同じXRDパターンを維持して同じ結晶構造を維持していることから確認できる。
さらに進んで、前記一実施例の化合物は、面心立方格子構造において、Snサイトの一部にPbが置換されることによって、出力因子及び熱電性能指数(ZT)を顕著に向上させることが確認された。PbがSnより原子半径が大きいことによって、Pbの置換量が増加するほど格子が旨く埋められて格子定数が大きくなり、このような結晶構造及び電子構造の変化によってSnサイトに置換されるPbの含有量が増加するほど電気伝導度及びゼーベック係数が高まることが確認された。また、Snサイトに置換されるPbの含有量が増加するほどフォノン散乱(phonon scattering)に起因して格子熱伝導度値が低くなり、これによって総熱伝導度が低くなることが確認できる。特に、電気伝導度及びゼーベック係数は、出力因子に影響を与え、電気伝導度、ゼーベック係数及び熱伝導度は、熱電性能指数ZT値に影響を与えるので、Snサイトに置換されるPbの含有量が増加するほど電気伝導度及びゼーベック係数が高まり、熱伝導度が低くなることによって、結論的に優れた出力因子及び熱電性能指数(ZT)を示すことが確認された。
したがって、一実施例のカルコゲン化合物は、従来に知られているSnBiSeなどが有する劣悪な相安定性の問題点を解決して熱電素子の一般的な駆動温度でも優れた相安定性を示し、かつ特有の結晶格子構造に起因する優れた電気伝導度及び低い熱伝導度を示し、顕著に優れた出力因子及び熱電性能指数(ZT)を示し得る。したがって、一実施例のカルコゲン化合物は、多様な分野及び用途で熱電変換素材として非常に好ましく用いることができる。
一方、前記一実施例のカルコゲン化合物は、前述したように、前述した面心立方格子構造において、前記Se、Pb、Sn及びBiが埋めたサイトを除いた空孔(Vacancy)サイトの少なくとも一部を前記アルカリ金属元素が埋めていると見られる。より具体的に、このような面心立方格子構造では、前記Seは面心立方格子の陰イオンサイトを埋めており、前記Sn、Pb及びBiは面心立方格子の陽イオンサイトを埋めており、前記空孔(V)は前記Sn、Pb及びBiが埋めたサイトを除いて残存する陽イオンサイトの空いたサイトであり、前記アルカリ金属(M)は前記空孔の少なくとも一部を埋めていると見られる。
この時、各陽イオンサイトを埋めている前記アルカリ金属と、Sn、Pb及びBiなどが陽イオンになることにより電子を提供することができるので、一実施例の化合物が示す優れた電気伝導度に寄与できると見られる。また、前記アルカリ金属が添加されることにより優れた相安定性に寄与し得、前記アルカリ金属が空の格子サイトの全部を埋めることができないことにより、一部の空孔サイトが残存するので、前記一実施例のカルコゲン化合物は低い熱伝導度を示し得ると見られる。
さらに、Snサイトの一部にPbが置換されることによって、電気伝導度及びゼーベック係数が高まり、熱伝導度が低くなるので、顕著に優れた出力因子及び熱電性能指数(ZT)を示し得る。
この時、前記アルカリ金属としては、Li、Na及びKからなる群より選ばれる1種以上のアルカリ金属を全て使用し得るが、一実施例の化合物の高い電気伝導度及び優れた相安定性などを考慮してNaを適切に使用することができる。
また、前記化学式1において、x、y、z、4−zは、それぞれ空孔V、アルカリ金属M、Pb、Snのモル比を示し得るが、xは0超1未満、yは0超1未満、x+yは0超1以下であり、zは0超4以下であり、x+y+zは0超5以下であり得る。より具体的な一例において、xは0.05〜0.9、0.3〜0.8、あるいは0.6〜0.8であり得、yは0.05〜0.8、0.1〜0.6、あるいは0.15〜0.2であり得、x+yは0.1〜1、0.4〜1、あるいは0.7〜1であり得る。また、zは0.01〜3.5、0.03〜3、あるいは0.05〜1であり得、x+y+zは0.11〜4.5、0.5〜4、あるいは0.8〜2であり得る。
このような各モル比を満たすことによって、一実施例の化合物が特有の結晶格子構造を維持しながらもアルカリ金属の添加によるより優れた相安定性を示し得、空孔サイトによって低い熱伝導度を示し得る。また、電子を提供するアルカリ金属、Biなどのモル比が最適化され、一実施例の化合物がより優れた電気伝導度を示し得る。さらに、Snサイトの一部にPbが置換されることによって、電気伝導度及びゼーベック係数が高まり、熱伝導度が低くなるので顕著に優れた出力因子及び熱電性能指数(ZT)を示し得る。
前述した一実施例のカルコゲン化合物は、低い熱伝導度、高い電気伝導度、高い出力因子、高い熱電性能指数(ZT)による優れた熱電変換特性及び高い相安定性を有することによって、各種熱電冷却システムまたは熱電発電システムなどにおいて熱電変換材料として好ましく使用することができる。
一方、本発明の他の実施例によれば、前述したカルコゲン化合物の製造方法が提供される。このような製造方法は、Sn、Pb、Bi、Se及びアルカリ金属(M)を含む原料物質を含む混合物を溶融する段階と、前記溶融された混合物を熱処理する段階と、前記熱処理された結果物を粉砕する段階と、前記粉砕された結果物を焼結する段階とを含み得る。
このような製造方法において、前記Sn、Pb、Bi、Se及びアルカリ金属(M)を含む原料物質としては、例えば、Sn、Pb、Bi、Se及びアルカリ金属のショット(shot;角のない粒子)及び/または粉末を使用し得る。また、前記アルカリ金属を含む原料物質としては、特に、制限されないが、MSe(Mはアルカリ金属)の粉末を使用し得る。
前記アルカリ金属(M)、Pb、Bi、Se及びSnを含む原料物質を化学式1のモル比(y、z、4−z、2、7)に対応する比率で重量を測定して混合し、石英管に装入した後前記混合物を溶融させる。例えば前記混合物を真空及び密封状態の石英管の内部で約750〜900℃温度で溶融し得る。この時、原料物質と石英管との反応を防止するために前記混合物はカーボンルツボ(carbon crucible)に先に入れた後、石英管に装入し得る。
このような原料物質の混合物を形成することにおいては、各原料物質を所定の比率で加えた後、グラインディングまたはミリングして選択的にペレット化して行い得る。このように形成された混合物は、その形成工程に応じて粉末状態、ペレット状態、またはインゴット状態などになる。
前記混合物を溶融した後、前記溶融された混合物を熱処理し得、例えば前記溶融された混合物を500〜650℃の温度で24〜72時間熱処理し得る。このような熱処理は、電気炉などの炉(furnace)で行い得、真空または不活性気体雰囲気下で行い得る。また、前記熱処理段階は、単一段階で行うこともできるが、2段階以上に分けて行うこともできる。
前記熱処理段階の後、熱処理された結果物を粉砕する。このような粉砕段階は、以前から知られている熱電変換材料の製造方法及び装置を適用して行い得、このような粉砕段階を経て粉末状態の結果物を得ることができる。
一方、前記熱処理段階及び粉砕段階の間には、前記熱処理段階の結果物を冷却してインゴットを形成する段階をさらに行うこともできる。この時の冷却は、各種冷却媒体を使用して行い得、以前から熱電変換材料の製造過程で適用されていた冷却装置/方法を特に制限なしに全て適用し得る。このような冷却段階によりインゴットを形成した場合、前記インゴットに対して粉砕段階を行い得る。
一方、前述した粉砕段階の後には、前記粉砕された結果物を焼結する段階を行い得る。このような焼結段階を行うことによって焼結体状態のカルコゲン化合物が製造され得る。
このような焼結段階は、当業者によく知られている放電プラズマ焼結法(Spark Plasma Sintering)などによって行われ得、例えば、550〜700℃の温度及び10〜130MPaの圧力下で行われ得る。より具体的な一例において、前記焼結段階は、550〜640℃の温度で行われ得、10〜100MPaの圧力下に5〜10分間行われ得る。
そして、前記焼結を行った後には、選択的に冷却段階をさらに行い得る。
ただし、前述した各段階は熱電変換材料またはカルコゲン化合物などの金属化合物を形成する通常の製造条件、方法及び装置を適用して行い得、具体的な反応条件及び方法は後述する実施例に記載されているので、これに関する追加的な説明は省略する。
一方、発明のまた他の実施例によれば、前述した一実施例のカルコゲン化合物を熱電変換材料として含む熱電素子を提供する。このような熱電素子は、前記一実施例のカルコゲン化合物(熱電変換材料)をp型またはn型熱電変換材料として含み得、これのために前記一実施例の熱電変換材料として追加的なp型元素またはn型元素をさらにドーピングした状態で含み得る。ただし、この時使用可能なp型元素またはn型元素の種類やドーピング方法は特に制限されず、以前から熱電変換材料をp型またはn型で適用するために一般に用いられる元素及びドーピング方法を適用し得る。
前記熱電素子はこのようなp型またはn型熱電変換材料を焼結状態で得た後、加工及び成形して形成された熱電エレメントを含み得、これと共に絶縁基板及び電極を含み得る。このような熱電エレメント、絶縁基板及び電極の結合構造は通常の熱電素子の構造に従ってもよい。
また、前記絶縁基板としては、サファイア基板、シリコン基板、パイレックス(登録商標)基板または石英基板などを用い得、電極としては任意の金属または導電性金属化合物を含む電極を用い得る。
前述した熱電素子は、一実施例の熱電変換材料を含むことによって、優れた熱電変換特性などを示し得、多様な分野及び用途で熱電冷却システムまたは熱電発電システムなどに好ましく適用され得る。
本発明によれば、熱電素子の駆動温度に対応する温度でも優れた相(phase)安定性を示し、出力因子及び熱電性能指数が高いカルコゲン化合物及びその製造方法を提供することができる。このようなカルコゲン化合物を適用して優れた特性を示す熱電素子を提供することができる。
塩化ナトリウムなどが示す面心立方格子構造を示す模式図である。 代表的なSn−Bi−Se系カルコゲン化合物の相(phase)安定図である。 実施例1〜5及び比較例1で焼結工程を経る直前のカルコゲン化合物粉末に対するX線回折分析結果を示すグラフである。 比較例2〜4で焼結工程を経る直前のカルコゲン化合物粉末に対するX線回折分析結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1で焼結工程を経て最終製造された焼結体を徐冷及び常温放置した後のX線回折分析結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物の温度別電気伝導度を測定した結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物の温度別ゼーベック係数を測定した結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物の温度別出力因子を測定した結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物の温度別総熱伝導度を測定した結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物の温度別格子熱伝導度を計算した結果を示すグラフである。 実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物の温度別熱電性能指数を計算した結果を示すグラフである。
発明を下記の実施例でより詳細に説明する。但し、下記の実施例は本発明を例示するためであり、本発明の内容は下記の実施例によって限定されない。
実施例1:カルコゲン化合物の製造(V 0.8 Na 0.2 Pb 0.05 Sn 3.95 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.05:3.95:2:7のモル比で重量を測定してカーボンルツボ(carbon crucible)に入れた後、石英管に装入した。石英管の内部は真空密封した。そして、前記原料物質を750℃で24時間電気炉(furnace)の内部で恒温維持した後常温で徐々に冷却させた。
その後、640℃の温度で48時間熱処理し、前記反応が行われた石英管を水で冷却させた後インゴットを得て、前記インゴットを粒径75μm以下の粉末に細かく粉砕して、50MPaの圧力、620℃の温度で10分間の放電プラズマ焼結法(SPS)により焼結し、V0.8Na0.2Pb0.05Sn3.95BiSeのカルコゲン化合物を製造した。
実施例2:カルコゲン化合物の製造(V 0.8 Na 0.2 Pb 0.1 Sn 3.9 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.1:3.9:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でV0.8Na0.2Pb0.1Sn3.9BiSeのカルコゲン化合物を製造した。
実施例3:カルコゲン化合物の製造(V 0.8 Na 0.2 Pb 0.2 Sn 3.8 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.2:3.8:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でV0.8Na0.2Pb0.2Sn3.8BiSeのカルコゲン化合物を製造した。
実施例4:カルコゲン化合物の製造(V 0.8 Na 0.2 Pb 0.4 Sn 3.6 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.4:3.6:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でV0.8Na0.2Pb0.4Sn3.6BiSeのカルコゲン化合物を製造した。
実施例5:カルコゲン化合物の製造(V 0.8 Na 0.2 Pb 0.8 Sn 3.2 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.8:3.2:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でV0.8Na0.2Pb0.8Sn3.2BiSeのカルコゲン化合物を製造した。
比較例1:カルコゲン化合物の製造(V 0.8 Na 0.2 Sn Bi Se
高純度原料物質であるNa、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:4:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でV0.8Na0.2SnBiSeのカルコゲン化合物を製造した。
比較例2:カルコゲン化合物の製造(NaPb 0.05 Sn 3.95 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで1:0.05:3.95:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でカルコゲン化合物を製造しようとした。
比較例3:カルコゲン化合物の製造(Na 0.2 Pb 0.05 Sn 4.75 Bi Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.05:4.75:2:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でカルコゲン化合物を製造しようとした。
比較例4:カルコゲン化合物の製造(Na 0.2 Pb 0.05 Sn 3.95 Bi 2.8 Se
高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末をグローブボックスで0.2:0.05:3.95:2.8:7のモル比で混合したことを除いては、実施例1と同様の方法でカルコゲン化合物を製造しようとした。
実験例
1.XRDパターンによる相分析
実施例1〜5及び比較例1で焼結工程直前の粉末状態のカルコゲン化合物に対して、X線回折分析を行い、その結果を図3に示した。同様に、比較例2〜4で焼結工程直前の粉末状態のカルコゲン化合物に対して、X線回折分析を行い、その結果を図4に示した。また、実施例1〜5及び比較例1で焼結工程により最終製造された焼結体を約620℃から300℃に徐々に冷却させた後、再び常温(25℃)に冷却させてから焼結体を15日間大気雰囲気に維持した後、各焼結体に対してX線回折分析を行い、その結果を図5に示した。
まず、図3を参照すると、実施例1〜5及び比較例1は、以前から高温で面心立方格子構造を有するものとして知られているSnBiSe7と同じ結晶格子構造を有することが確認され、これにより実施例1〜5及び比較例1の化合物は、いずれも面心立方格子構造の結晶格子構造を有することが確認された。
しかし、図4を参照すると、比較例2〜4は、SnBiSeと同じ結晶構造を一部有する素材のほかにSnSe、Bi3Se4及びBiSnSe3等の多様な二次相を共に含むことが確認された。具体的に、比較例2は、空孔サイトにNaを全て埋め、比較例3は空孔サイトにSnを全て埋め、比較例4は空孔サイトにBiを全て埋めているので、比較例2〜4は空孔サイトが全て埋められており、Na、Sn、あるいはBi含有量を増加させることによって面心立方格子構造の単一相を形成できないことが確認された。したがって、前記化学式1で表される空孔(Vacancy)のモル比(x)は0超1未満、Naのモル比(y)は1未満、SnとPbの合計のモル比は4以下、Biのモル比は2以下の関係式を有する場合のみ空孔サイトを含む単一相の面心立方構造のカルコゲン化合物が形成され得ることが確認された。
さらに、図5を参照すると、実施例1〜5及び比較例1の化合物は、相対的に低い温度で放置した時、二次相の生成なしに、面心立方格子構造をそのまま維持しており、優れた相安定性を示すことが確認された。これにより、実施例1〜5及び比較例1は、相対的に低い温度でも優れた相安定性を示すことが確認された。
2.TOPASプログラムを用いた結果
TOPASプログラムを用いて実施例1〜5及び比較例1の各粉末状態のカルコゲン化合物に対して格子定数を計算し、これを下記表1に示した。さらに、TOPASプログラムにより計算された実施例1〜5及び比較例1のカルコゲン化合物のRietveld refinement結果を下記表2に示した。
Figure 0006727626
Figure 0006727626
前記表1を参照すると、面心立方格子構造においてSnのサイトに置換されるPbの含有量が増加するほど格子定数値が徐々に増加することが確認された。つまり、実施例5>実施例4>実施例3>実施例2>実施例1>比較例1の順に格子定数値が増加することが確認された。これによりPbがSnより原子半径が大きいことによって、Pbの置換量が増加するほど格子が旨く埋められて格子定数が大きくなることが確認された。
一方、前記表2を参照すると、単一相を示す実施例1〜5及び比較例1の場合、空孔(Vacnacy)、Na、Sn、Pb及びBiは、(x、y、z)=(0、0、0)サイトにランダムに位置(random distribution)しており、Seの場合(x、y、z)=(0.5、0.5、0.5)サイトに位置していることが確認された。また、カルコゲン化合物に含まれている各組成は、高純度原料物質であるNa、Pb、Sn、Bi及びSeの各粉末の組成と非常に類似していることが確認された。
3.電気伝導度の温度依存性
実施例1〜5及び比較例1で製造されたカルコゲン化合物試片に対して電気伝導度を温度変化に応じて測定して図6に示した。このような電気伝導度は、非抵抗測定装備であるLinseis社のLSR−3を用いて直流4探針法により100〜400℃の温度領域で測定された。
図6を参照すると、実施例1〜5は比較例1に比べて高い電気伝導度を示すことが確認された。特に、実施例5>実施例4>実施例3>実施例2>実施例1の順に電気伝導度が高いことが確認され、Pb含有量が増加するほど電気伝導度が徐々に増加することが確認された。また、温度が高まるほど電気伝導度が増加する傾向がより大きいことが確認された。これは、Snサイトに置換されるPbの含有量が増加するほどカルコゲン化合物の電子構造の変化をもたらして、このような電子構造の変化によって電気伝導度の増加が示されることが確認された。
4.ゼーベック係数測定及びゼーベック係数の温度依存性
実施例1〜5及び比較例1で製造されたカルコゲン化合物試片に対してゼーベック係数(S)を温度変化に応じて測定して図7に示した。このようなゼーベック係数は、測定装備であるLinseis社のLSR−3を用いて、differential voltage/temperature techniqueを適用して100〜400℃の温度領域で測定された。
図7に示すように、実施例1〜5及び比較例1は、負(−)のゼーベック係数を示すので、素材の主要電荷キャリアが電子(electron)であることが確認され、これはN型半導体素材としての特性を示す。
一方、前述したとおり、実施例1〜5は電気伝導度が高いにもかかわらず、実施例1〜5は比較例1よりゼーベック係数が大体はより大きい傾向であることが確認された。特に、Pb含有量が増加するほどゼーベック係数が高まる傾向を示すことが確認された。これによって、Snサイトに置換されるPbの含有量が増加するほど電気伝導度及びゼーベック係数がいずれも高いため、素材の電気的特性が優れることが確認された。
5.出力因子に対する温度依存性
実施例1〜5及び比較例1で製造されたカルコゲン化合物試片に対して出力因子を温度変化に応じて計算して図8に示した。
出力因子は、Power factor(PF)=σSで定義され、図6及び図7に示すσ(電気伝導度)及びS(ゼーベック係数)の値を用いて計算した。
図8に示すように、実施例1〜5は比較例1に比べて優れた出力因子を示すことが確認され、Snサイトに置換されるPb含有量が増加するほど出力因子が増加することが確認された。特に、400℃で測定された実施例5の出力因子は約2.8μW/cmKであり、これは比較例1に対して206%の増加率を示していることが確認された。
6.総熱伝導度及び格子熱伝導度の温度依存性
実施例1〜5及び比較例1で製造されたカルコゲン化合物試片に対して総熱伝導度及び格子熱伝導度を温度変化に応じて測定し、図9及び10にそれぞれ示した。このような熱伝導度の測定においては、まず、熱伝導度測定装備であるNetzsch社のLFA457装備を用いてレーザー閃光法を適用して熱拡散度(D)及び熱容量(C)を測定した。このような測定値を式「熱伝導度(k)=DρC(ρはアルキメデス法で測定されたサンプル密度)」の式に適用して熱伝導度(k)を算出した。
また、総熱伝導度(k=k+k)は、格子熱伝導度(k)とWiedemann−Franz law(k=LσT)により計算された熱伝導度(k)に区分されるが、ローレンツ数(L)は温度に応じたゼーベック係数から計算された値を用いた。
図9及び10を参照すると、実施例1〜5は、大体低い総熱伝導度が示され、特に格子熱伝導度の場合、実施例1〜5が比較例1に比べていずれも低い値を示すことが確認された。
実施例1、2、4及び5のカルコゲン化合物は、高い電気伝導度によってk値が高いにもかかわらず、比較例1より低い総熱伝導度値を示した。特に実施例5の場合、最も低い総熱伝導度値を示し、これは図10に示すように実施例5の格子熱伝導度値が相対的に最も低い値を示したからである。前記格子熱伝導度は、Snサイトに置換されるPbの含有量が増加するほどフォノン散乱(phonon scattering)に起因してより減少し、特に、200℃で実施例5の格子熱伝導度は0.45W/mKで非常に低い値を示すことが確認された。
7.熱電性能指数(ZT)の温度依存性
実施例1〜5及び比較例1で製造されたカルコゲン化合物試片に対して熱電性能指数を温度変化に応じて計算して図11に示した。熱電性能指数は、ZT=SσT/kで定義され、前記実験例で得られたS(ゼーベック係数)、σ(電気伝導度)、T(絶対温度)及びk(熱伝導度)の値を用いて計算した。
図11を参照すると、実施例1〜5は熱電変換材料として適用可能な優れた熱電性能指数を示すことが確認された。特に、Snサイトに置換されるPb含有量が増加するほどZT値は増加し、400℃で実施例5のZT値が同じ温度で比較例1のZT値に比べて約133%の増加率を示し、100〜400℃で実施例5の平均ZT値は比較例1の平均ZT値に比べて206%の増加率を示した。

Claims (14)

  1. 下記の化学式1で表されるカルコゲン化合物:
    [化学式1]
    PbSn4−zBiSe
    前記化学式1において、Vは空孔(Vacancy)であり、Mはアルカリ金属であり、
    x、y、z及び4−zは、それぞれV、M、Pb及びSnのモル比であって、xは0超1未満、yは0超1未満、x+yは0超1以下であり、zは0超以下であり、x+y+zは0超5以下である。
  2. 前記MはLi、Na及びKからなる群より選ばれる1種以上のアルカリ金属である請求項1に記載のカルコゲン化合物。
  3. 面心立方格子構造(face−centered cubic lattice)の結晶構造を有する請求項1に記載のカルコゲン化合物。
  4. 前記空孔(V)は前記面心立方格子構造において、前記Se、Sn、Pb及びBiが埋めたサイトを除いた空いたサイトであり、
    前記Mは前記空孔(V)の一部に埋められる請求項3に記載のカルコゲン化合物。
  5. 前記Seは面心立方格子構造の陰イオンサイトを埋めており、
    前記Sn、Pb及びBiは面心立方格子構造の陽イオンサイトを埋めており、
    前記空孔(V)は前記Sn、Pb及びBiが埋めたサイトを除いて残存する陽イオンサイトの空いたサイトであり、
    前記Mは前記空孔(V)の一部に埋められる請求項3に記載のカルコゲン化合物。
  6. 前記Pbは前記面心立方格子構造において、前記Snのサイトに置換される請求項3に記載のカルコゲン化合物。
  7. 熱電変換材料として使用される請求項1に記載のカルコゲン化合物。
  8. Sn、Pb、Bi、Se及びアルカリ金属(M)の原料物質を含む混合物を溶融する段階と、
    前記溶融された混合物を熱処理する段階と、
    前記熱処理された結果物を粉砕する段階と、
    前記粉砕された結果物を焼結する段階とを含む請求項1に記載のカルコゲン化合物の製造方法。
  9. 前記溶融は750〜900℃の温度で行われる請求項8に記載のカルコゲン化合物の製造方法。
  10. 前記熱処理は500〜650℃の温度で行われる請求項8に記載のカルコゲン化合物の製造方法。
  11. 前記熱処理段階及び粉砕段階の間に、前記熱処理段階の結果物を冷却してインゴットを形成する段階をさらに含む請求項8に記載のカルコゲン化合物の製造方法。
  12. 前記焼結段階は、放電プラズマ焼結法によって行われる請求項8に記載のカルコゲン化合物の製造方法。
  13. 前記焼結段階は、550〜700℃の温度及び10〜130MPaの圧力下で行われる請求項8に記載のカルコゲン化合物の製造方法。
  14. 請求項1〜6のうちいずれか一項によるカルコゲン化合物を熱電変換材料として含む熱電素子。
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