JP6723359B2 - 波長選択性反射膜、光学フィルム、波長選択性反射膜の製造方法および画像表示装置 - Google Patents
波長選択性反射膜、光学フィルム、波長選択性反射膜の製造方法および画像表示装置 Download PDFInfo
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Description
このとき、上記積層膜の一方の面に積層されたλ/4板をさらに備えてもよい。
塗膜を重合性液晶組成物の液晶相と等方相との転移温度より1〜15℃低い温度で一定時間維持して円盤状液晶化合物をコレステリック相状態とした後に、塗膜を硬化させることにより、円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜を形成することが好ましい。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づくが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書中、ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ1/2でのピークの幅のことを意味する。
本発明において、Re(λ)、Rth(λ)はAxoScan(Axometrics社製)において、波長λで測定した値である。面内レターデーションは、フィルム面の法線方向からフィルムに波長λの光を入射させて測定した値である。また、AxoScanにて平均屈折率((Nx+Ny+Nz)/3)と膜厚(d(μm))を入力することにより、
厚さ方向レターデーションRth(λ)=((Nx+Ny)/2−Nz)×d
が算出される。ここで用いる平均屈折率は、アッベ屈折計(NAR−4T、アタゴ(株)製)を使用し、光源にナトリウムランプ(λ=589nm)を用いて測定した値とする。
本発明の波長選択性反射膜について説明する。
円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜は、通常、厚さ方向レターデーションRthが−100nm以下であるが、本発明の波長選択性反射膜における厚さ方向レターデーションRthは−50nm以上である。Rthは、−50nmより大きいことが好ましく、0以上、正の値を取ってもよい。このRthと反射波長半値幅との関係は現時点においては明らかではなく、ここでは、単にRthは延伸がなされたか否かの指標である。
Δλ=Δn×P
の関係にある。ここで、Pはコレステリック構造における螺旋のピッチ(円盤状液晶化合物(液晶分子)が一回転する膜厚)である。
したがって、原理的には円盤状液晶化合物のΔnを小さくすれば反射波長域を狭くすることができることは明らかである。しかしながら、分子設計等によりΔnの小さいものを得ることは困難であった。
本発明者らは、円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜を二軸延伸することにより、見かけ上のΔnを小さくし、反射波長半値幅Δλを小さくすることができることを見出した。
図2は、本発明の光学フィルムの一実施形態を示す概略断面図である。
図2に示すように、本実施形態の光学フィルム10は、既述の波長選択性反射膜13が、接着層20を介して、λ/4板12に積層されてなる。
図3に示すように、本実施形態の光学フィルム11は、第1の波長選択性反射膜13a、第2の波長選択性反射膜13bおよび第3の波長選択性反射膜13cの積層膜14が、接着層20を介してλ/4板12に積層されてなる。
緑色反射層の反射中心波長は、520〜590nmの波長帯域にあることが好ましく、520〜580nmの波長帯域にあることがより好ましい。
赤色反射層の反射中心波長は、610〜690nmの波長帯域にあることが好ましく、610〜660nmの波長帯域にあることがより好ましい。
各反射層における中心波長は、投影装置等の入射光を出力する光源側の波長に応じて設定すればよい。
本発明の波長選択性反射膜の製造方法について説明する。
本発明の波長選択性反射膜の製造方法は、円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜を形成する光学膜形成工程と、光学膜を二軸延伸する延伸工程を含む。
図4に、波長選択性反射膜の製造方法の実施形態における工程を示す。本実施形態の製造方法においては、円盤状液晶化合物を含む重合性液晶組成物を塗布して塗膜を形成する工程(1)、塗膜を一定温度で維持してコレステリック相状態を安定化させる熟成工程(2)、熟成により安定化されたコレステリック相状態で固定化して光学膜を形成する硬化工程(3)、および、硬化して得られた光学膜を二軸延伸する工程(4)を有する。ここで、工程(1)〜(3)が光学膜形成工程である。この光学膜は従来の反射偏光子に相当し、その形成方法については、特に制限はなく、公知の手法を用いることができ、例えば、特開平1−133003号公報、特許第3416302号公報、特許第3363565号公報、特開平8−271731号公報に記載の方法などを用いることができる。
紫外線の照射エネルギー量については特に制限はないが、一般的には、100mJ/cm2〜800mJ/cm2程度が好ましい。また、塗膜に紫外線を照射する時間については特に制限はないが、硬化膜の充分な強度及び生産性の双方の観点から決定すればよい。
なお、本発明においては、コレステリック相の光学的性質が層中において保持されていればよく、最終的に光学膜中において液晶組成物がもはや液晶性を示す必要はない。したがって、例えば、液晶組成物が、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
光学膜が形成されている支持体ごと、縦一軸延伸機において、所望の延伸倍率で縦延伸した後、テンター式延伸機において所望の延伸倍率で横延伸してもよい。または、横延伸した後、縦延伸してもよい。二軸延伸されたフィルムは、巻取り部前で両端部を切り落とし、巻き取り部で巻き取ることによってロールフィルムとしてもよい。
延伸倍率は、所望の反射波長域半値幅を得られる程度であればよいが、おおむね20%〜50%程度の倍率が好ましく、30%〜40%がより好ましい。縦横の延伸倍率を基本的に同一とする。但し、光学特性に影響を与えない範囲で縦横の延伸倍率は異なっていてもよく、5%程度の差は許容される。
延伸時のフィルム膜面温度はコレステリック液晶相を形成した支持体のガラス転移点Tg−40℃〜Tg+20℃が好ましく、Tg−20℃〜Tg+10℃がより好ましい。
波長選択性反射膜の材料である円盤状液晶化合物について説明する。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報や特開2010−244038号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
波長選択性反射膜を形成するために用いられる組成物には、上記円盤状液晶化合物の他、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。いずれも公知の材料を利用することができる。
各反射偏光子を形成するための組成物の溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N、N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1、2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
支持体としては、透明支持体が好ましく、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂フィルム、およびシクロオレフィンポリマー系フィルム[例えば、商品名「アートン」、JSR社製、商品名「ゼオノア」、日本ゼオン社製]等を挙げることができる。
なお、本発明の波長選択性反射膜は、製膜する際の支持体に支持されたまま使用されるものであってもよいし、製膜する際の支持体は仮支持体とし、他の支持体やλ/4板などの他の層上に転写され、仮支持体を剥離して用いられるものであってもよい。
このような仮支持体としては、特に制限はないが、製造工程における延伸および剥離等に耐えうる物性を有することが好ましい。
配向層は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。配向層は、ポリマーの膜の表面を、ラビング処理することにより形成することが好ましい。配向層は、支持体と共に剥離することが好ましい。
λ/4板は、円偏光を直線偏光に、直線偏光を円偏光に変換するための層である。波長選択性反射膜の光入射面側に配置され、直線偏光を円偏光に変換して波長選択性反射膜において反射される円偏光として入射させ、反射された円偏光を直線偏光に変換して出射する。これにより、特定の直線偏光が光フィルムに入射する場合における、波長選択性反射膜における反射効率を向上させることができる。なお、λ/4板は、直線偏光を、波長選択性反射膜が反射する方向の円偏光に変換するように設計される。
本明細書において、「接着」は「粘着」も含む概念で用いられる。
本発明の光学フィルムにおいては、λ/4板と波長選択性反射膜は、直接接触して、または、接着層を介して積層されていることが好ましい。また、波長選択性反射膜が複数層積層された光学フィルムにおいては、波長選択性反射膜は直接接触して積層される形態のみならず、各反射膜間に接着層を介して積層されてもよい。
本発明の画像表示装置について説明する。図5は、本発明の画像表示装置の一実施形態の概略構成を示す模式図である。
本実施形態の画像表示装置100は、図5に示すように、光透過性を有するスクリーン101と、スクリーン101の表面に貼付された、波長選択性反射膜を含む光学フィルム11と、光学フィルム11が貼付されたスクリーン101に映像を投影する液晶投影装置102とを備える。
<仮支持体の作製>
[下記一般式(II)で表されるラクトン環構造を有するアクリル系樹脂{共重合モノマー質量比=メタクリル酸メチル/2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル=8/2、ラクトン環化率約100%、ラクトン環構造の含有割合19.4%、重量平均分子量133000、メルトフローレート6.5g/10分(240℃、10kgf)、Tg131℃}90質量部と、アクリロニトリル−スチレン(AS)樹脂{トーヨーAS AS20、東洋スチレン社製}10質量部との混合物;Tg127℃]のペレットを二軸押出機に供給し、約280℃でシート状に溶融押出しして、厚さ40μmの長尺状の仮支持体を得た。
上記仮支持体に、下記組成の配向層塗布液(A)を#14のワイヤーバーで連続的に塗布した。60℃の温風で60秒、更に100℃の温風で120秒乾燥した。使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は96.8%であった。
下記の変性ポリビニルアルコール 10質量部
水 308質量部
メタノール 70質量部
イソプロパノール 29質量部
光重合開始剤(IRGACURE(登録商標)2959、BASF社製)
0.8質量部
変性ポリビニルアルコールの組成割合は、モル分率である。
−光学膜の形成−
配向層上に、上記円盤状液晶化合物101、102を用い、円盤状液晶化合物がコレステリック相状態を固定されてなる光学膜を形成した。
下記の光学膜形成用の塗布液(重合性液晶組成物)の成分を、延伸後の乾燥膜厚が3.5μmになるように濃度を調製してMEK(メチルエチルケトン)に溶解し、塗布液を調製した。この塗布液を上記の配向層上にバー塗布して、110℃で3分間加熱熟成を行って、コレステリック相の均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を45℃に保持し、これにメタルハライドランプを用いて300mJ/cm2紫外線照射して、光学膜を形成した。
円盤状液晶化合物101と円盤状液晶化合物102の合計 100質量部
下記界面活性剤1 0.45質量部
下記重合開始剤1 3質量部
下記カイラル剤1(延伸後の反射中心波長が550nmとなる量)
2.8質量部
熟成温度および延伸倍率を表1に記載のものとし、延伸後において反射中心波長が550nmとなるように、カイラル剤の添加量を調整した以外は、実施例1と同様にして波長選択性反射膜を作製した。なお、実施例7においては、熟成温度を85℃とした。
実施例1の延伸前の光学膜を備えた光学膜を比較例1とした。
実施例1において、延伸前の光学膜における反射中心波長が550nmとなるようにカイラル剤の添加量を調整した以外は、実施例1と同様の方法で光学膜を作製した。本比較例では延伸は行っていない。
配向層上に、下記の棒状液晶化合物を用い、棒状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜を形成した。
下記光学膜形成用の塗布液の成分を、延伸後の乾燥膜厚が3.5μmになるように濃度を調製してMEKに溶解し、塗布液を調製した。この塗布液を上記の配向層上にバー塗布して、110℃で1分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を45℃に保持し、これにメタルハライドランプを用いて300mJ/cm2紫外線照射して硬化させ光学膜を作製した。
下記棒状化合物18−1と下記棒状化合物18−2の合計 100質量部
フッ素系水平配向剤1 0.05質量部
フッ素系水平配向剤2 0.01質量部
右旋回性キラル剤LC756(BASF社製) 2.8質量部
多官能モノマーA−TMMT(新中村化学工業(株)社製) 1質量部
重合開始剤IRGACURE819(BASF社製) 3質量部
実施例および比較例の波長選択性反射膜を市販のアクリル接着剤(東亞合成株式会社製UV−3300)を用いてガラス板に貼り合わせ、仮支持体を剥離した後、反射波長および反射半値幅を積分反射計により測定した。測定方法は、先に述べた通りである。
実施例および比較例の波長選択性反射膜について厚さ方向レターデーションRthをAxometrics社のAxoscanを用いて測定した。既述のように、波長選択性反射膜をアクリル接着剤でガラス板に貼り合せ仮支持体を剥離した状態で測定した。
表1に示す反射中心波長(550nm)+100nmである波長650nmを測定光として用いた。波長650nmの光を、波長選択性反射膜の膜面に法線方向から入射させた場合におけるRthを測定した。測定方法は、先に述べた通りである。ガラスおよびアクリル接着剤のRthはほぼ0であるので、測定結果は波長選択性反射膜の特性とみなすことができる。
比較例3は棒状液晶化合物によるコレステリック相を有するものであり、延伸前の光学膜においてRthは正の値を有し、延伸後もRthの値は大きくは変化しない。比較例33のように棒状液晶化合物によるコレステリック相を有するものでは、延伸をしても反射半値幅は60nmであり、十分に小さい反射半値幅は得られなかった。
2 支持体
12 λ/4板
13 波長選択性反射膜
13a 第1の波長選択性反射膜
13b 第2の波長選択性反射膜
13c 第3の波長選択性反射膜
14 積層膜
20 接着層
100 画像表示装置
101 スクリーン
102 液晶投影装置
Claims (9)
- 円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜を二軸延伸してなる二軸延伸膜であって、反射波長域の半値幅が40nm以下である波長選択性反射膜。
- 円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる波長選択性反射膜であって、反射波長域の半値幅が40nm以下であり、反射中心波長+100nmの波長における、厚さ方向レターデーションRthが−50nm以上である波長選択性反射膜。
- 請求項1または2記載の波長選択性反射膜と、
該波長選択性反射膜の一方の面に積層されたλ/4板とを備えた光学フィルム。 - 互いに異なる反射中心波長を有する反射波長域を有する複数の、請求項1または2記載の波長選択性反射膜の積層膜を備えた光学フィルム。
- 前記積層膜の一方の面に積層されたλ/4板をさらに備えた請求項4記載の光学フィルム。
- 円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる光学膜を形成し、
該光学膜を二軸延伸して反射波長域の半値幅が40nm以下である波長選択性反射膜を得る波長選択性反射膜の製造方法。 - 前記円盤状液晶化合物を含む重合性液晶組成物を支持体上に塗布して塗膜を形成し、
該塗膜を前記重合性液晶組成物の液晶相と等方相との転移温度より1〜15℃低い温度で一定時間維持して前記円盤状液晶化合物をコレステリック相状態とした後に、該塗膜を硬化させることにより、前記円盤状液晶化合物がコレステリック相状態で固定されてなる前記光学膜を形成する請求項6記載の波長選択性反射膜の製造方法。 - 前記二軸延伸の倍率が20%〜50%である請求項6または7記載の波長選択性反射膜の製造方法。
- 光透過性を有するスクリーンと、
該スクリーンの表面に貼付された請求項1または2記載の波長選択性反射膜と、
該波長選択性反射膜が貼付された前記スクリーンに映像を投影する液晶投影装置とを備えた画像表示装置。
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