JP6704855B2 - 高移動度電界効果トランジスタ用の最適化された緩衝層 - Google Patents
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Description
− 二元または三元または四元窒素化合物を含み、かつ第1のバンドギャップを有する第1の半導体材料を含む緩衝層、
− 二元または三元または四元窒素化合物を含み、かつ第2のバンドギャップを有する第2の半導体材料を含む障壁層
であって、
− 第2のバンドギャップは第1のバンドギャップよりも広い、緩衝層および障壁層と、
− 前記緩衝層と前記障壁層との間のヘテロ接合と、
− z軸に垂直なxy平面内かつヘテロ接合の近傍に配置される二次元電子気体と
を含む、積層において、
− 前記緩衝層が、単位体積当たりの密度が1017cm−3以上の固定負電荷を含むゾーンを含み、前記ゾーンが200nm以下の厚さを有し、固定負電荷の単位体積当たりの密度にゾーンの厚さを乗算した積が1012cm−2〜3.1013cm−2に含まれることを特徴とする、積層である。
[Fv].t=(1±0.3)×1013×VDSMAX/Lg
(式中、
Lgは、nmを単位とするトランジスタのゲート長であり、
VDSMAXは、ボルトを単位とするトランジスタのソースとドレインとの間に印加された最大電圧であり、および
[Fv].tは、cm−2で表される
を満たす。
− 線形性(分散効果)の劣化および利用可能な電力および効率の低下に至る望ましくない捕捉効果を生じることなくチャネル内に電子を良好に閉じ込めること、
− 例えばGaN製の緩衝層の熱伝導率の劣化を防ぐこと
が可能になる。
divEz=q.[Fs]/(ε0.εr)
(式中、
qは電子に掛かる電荷であり、ε0は真空の誘電率であり、εrは緩衝層の相対誘電率であり、[Fs]はチャネル内の可動電荷emから「見える」単位面積当たりの負電荷密度(cm−2で表される)である)
[Fs]≒[Fv].t
を満たす。
[Fv]≧1017cm−3
t≦200nm
1012cm−2≦[Fv].t≦3×1013cm−2
式中、[A]は緩衝層12に導入されたアクセプタ型の不純物Aの単位体積当たりの密度(欠陥とも表記する)である。従って、[A]=[Fv]である。また[A−]は静電相互作用(深中心による電子の捕捉に続く欠陥のイオン化)により「帯電」または「イオン化」された不純物の単位体積当たりの密度であり、各々の「帯電」された不純物は静電相互作用により「設定」された固定負電荷に対応している。
Δ1≒0.1×1012cm−2
Δ2≒1.9×1012cm−2
Δ3≒2.7×1012cm−2
Δ≦1012cm−2
[Fv]≧1018cm−3
t≦40nm
[Fv].t≦4×1012cm−2
およびd≦40nm
[Fv].t=[Fsopt]=(1±0.3)×1013×VDSMAX/Lg(第1の関係)
ここで、[Fsopt]はcm−2、Lgはnm、およびVDSMAXはVを単位とし、
例えば、最大動作電圧VDSMAXが40V、ゲート長が150nmの場合、以下を実現することが必要である。
[Fsopt]=(1±0.3)×1013×40V/150nm
すなわち約(2.7±0.8)×1012個の固定電荷/cm2
電圧の場合、
VMAX=Lg×([Fv]*t)/((1±0.3)×1013)(第2の関係)
ゲート長の場合、
Lg=VMAX×((1±0.3)×1013)/([Fv]*t)(第3の関係)
− 30GHzにおける衛星通信用途
これらの用途において、ゲート長は50nm〜150nmに含まれる。第2の関係を用いて以下が見出された。
− ゲート長Lg=50nmの場合、VMAX≒15V〜28V
− ゲート長Lg=150nmの場合、VMAX≒45V〜85V
− エンベロープ追跡型通信用途
このケースでは、60Vで動作可能な最短ゲート(最短切換時間)得ることが望ましい。第3の関係を用いて次式が得られた。
Lg=VMAX×(1±0.3)×1013/([Fv]*t)=60×(1±0.3)×1013/(4×1012)≒100nm〜200nm
− 自動車電力切換用途
この場合、トランジスタは650V〜1300Vの電圧に耐えられることが望ましい。従ってゲート長は以下のようでなければならない。
− 650Vの場合
Lg=VMAX×(1±0.3)×1013/([Fv]*d)=650×(1±0.3)×1013/(4×1012)
≒1μm〜2μm
− 1300Vの場合
Lg=VMAX×(1±0.3)×1013/([Fv]*d)=1300×(1±0.3)×1013/(4×1012)≒2μm〜4μm
Claims (12)
- 高電子移動度電界効果トランジスタ用のz軸に沿った積層(10)から生成される高電子移動度電界効果トランジスタであって、
前記積層(10)は、
− 二元または三元または四元窒素化合物を含み、かつ第1のバンドギャップを有する第1の半導体材料を含む緩衝層(12)と、
− 二元または三元または四元窒素化合物を含み、かつ第2のバンドギャップを有する第2の半導体材料を含む障壁層(13)
であって、
− 前記第2のバンドギャップが前記第1のバンドギャップよりも広い、緩衝層(12)および障壁層(13)と、
− 前記緩衝層(12)と前記障壁層(13)との間のヘテロ接合(15)と、
− 前記z軸に垂直なxy平面内かつ前記ヘテロ接合(15)の近傍に配置される二次元電子気体(9)と
を備え、
− 前記緩衝層(12)が、単位体積当たりの密度([Fv])が1017cm−3以上の固定負電荷(70)を含むゾーン(Vf)を含み、前記ゾーン(Vf)が200nm以下の厚さ(t)を有し、前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])に前記ゾーン(Vf)の前記厚さ(t)を乗算した積が1012cm−2〜3.1013cm−2に含まれ、
前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])に前記ゾーン(Vf)の前記厚さ(t)を乗算した前記積が、以下の関係:
[Fv].t=(1±0.3)×1013×VDSMAX/Lg
(式中、
Lgは、nmを単位とする前記トランジスタのゲート長であり、
VDSMAXは、ボルトを単位とする前記トランジスタのソースとドレインとの間に印加された最大電圧であり、および
[Fv].tは、cm−2で表される)
を満たすことを特徴とする、高電子移動度電界効果トランジスタ。 - 前記ゾーン(Vf)が、前記固定負電荷(70)を生成するために前記緩衝層(12)に導入されるアクセプタ型不純物(A)を含む、請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記アクセプタ型不純物が炭素または鉄またはマグネシウムである、請求項2に記載のトランジスタ。
- 前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])が1018cm−3以上であり、前記ゾーン(Vf)の前記厚さ(t)が40nm以下であり、前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])に前記ゾーン(Vf)の前記厚さ(t)を乗算した前記積が4×1012cm−2以下であり、および前記ゾーン(Vf)から前記ヘテロ接合(15)までの距離(d)が40nm以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- 前記第1の半導体材料がGaNを含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- 前記第2の半導体材料がAlN、AlGaN、InAlN、InGaAlN、またはBAlGaNを含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- 前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])が、前記z軸に沿ってシルクハット状のプロファイルを有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- 前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])が、前記z軸に沿って台形のプロファイルを有し、前記台形のプロファイルが、第1の上り傾斜、次いで一定値、次いで第2の下り傾斜を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- 前記固定負電荷の単位体積当たりの密度([Fv])が、前記z軸に沿ってベル状のプロファイルを有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- 前記緩衝層(12)が、GaN材料を主成分とする第1の緩衝層およびAlGaN材料を主成分とする第2の緩衝層を含む複合物であり、前記ゾーン(Vf)が前記第1の緩衝層に含まれている、請求項1〜10のいずれか一項に記載のトランジスタ。
- ゲート長(Lg)を有し、前記ゾーン(Vf)から前記ヘテロ接合までの距離(d)が前記ゲート長(Lg)以下である、請求項1〜11のいずれか一項に記載のトランジスタ。
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