JP6698545B2 - 合わせガラス用中間膜、合わせガラス用中間膜の製造方法、及び、合わせガラス - Google Patents

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Description

本発明は、光学歪みの発生を抑えた合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜の製造方法、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスに関する。
2枚のガラス板の間に、可塑化ポリビニルブチラールを含有する合わせガラス用中間膜を挟み、互いに接着させて得られる合わせガラスは、特に車両用フロントガラスとして広く使用されている。
合わせガラスの製造方法では、例えば、ロール状体から巻き出した合わせガラス用中間膜を適当な大きさに切断し、該合わせガラス用中間膜を少なくとも2枚のガラス板の間に挟持して得た積層体をゴムバックに入れて減圧吸引し、ガラス板と中間膜との間に残留する空気を脱気しながら予備圧着し、次いで、例えばオートクレーブ内で加熱加圧して本圧着を行う方法等が行われる(例えば、特許文献1)。
合わせガラスの製造工程においては、予備圧着工程においてガラスと合わせガラス用中間膜とを積層する際の脱気性が重要である。このため、合わせガラス用中間膜の少なくとも一方の表面には、合わせガラス製造時の脱気性を確保する目的で、多数の凹凸が形成されている。このような凹凸を形成する方法として、近年、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法が行われるようになってきている(例えば、特許文献2)。
合わせガラス用中間膜の表面に形成された凹凸は、予備圧着工程から本圧着工程においてガラスと合わせガラス用中間膜とを積層した後に圧着することにより押しつぶされることから、得られた合わせガラスでは、ほとんど目視で観察されることはない。しかしながら、該凹凸により、得られた合わせガラスに光学歪みが発生することがあった。とりわけ、合わせガラス用中間膜が2層以上の樹脂層が積層された積層体からなる場合に、光学歪みの発生が顕著であった。ここで合わせガラスの光学歪みとは、合わせガラスを通して物体を観測した際に、物体がゆがんで見える現象を意味する。
合わせガラスの光学歪みを低減する方法として、例えば、合わせガラス用中間膜の表面の凹凸形状を制御することが行われている(例えば、特許文献3)。しかしながら、実際には充分に光学歪みの発生を防止することは困難であり、前方を視認することに支障がない程度にまで光学歪みを解消できても、信号や横断歩道のちらつきといった形で光学歪みが残ることがあった。
特開平8−26789号公報 特表2010−523379号公報 特開2009−190947号公報
本発明は、上記現状に鑑み、光学歪みの発生を抑えた合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜の製造方法、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。
本発明は、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により製造された、2層以上の樹脂層が積層された積層体からなり、少なくとも一方の表面に多数の凹凸を有する合わせガラス用中間膜であって、前記凹凸を有する表面において、JIS B 0601(1994)に準拠して測定される最大高さRy(μm)と前記凹凸の平均間隔Sm(μm)とが下記式(1)を満たす合わせガラス用中間膜である。
(Ry×Sm)/2≦3500 (1)
以下に本発明を詳述する。
本発明者らは、2層以上の樹脂層が積層された積層体を含む合わせガラス用中間膜において、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により表面に凹凸を形成したときに、表面の凹凸形状を制御しても充分には光学歪みの発生を防止できない原因について検討した。その結果、合わせガラス用中間膜の段階で凹凸形状を制御しても、合わせガラス製造時の加熱、加圧により、光学歪みが悪化してしまっていることを見出した。
本発明者らは、更に鋭意検討の結果、合わせガラス用中間膜の表面の凹凸の最大高さRyと平均間隔Smとが一定の関係を満たすように制御することにより、充分に光学歪みの発生を抑えた合わせガラスを得ることができることを見出し、本発明を完成した。
本発明の合わせガラス用中間膜は、少なくとも一方の表面に多数の凹凸を有する。これにより、合わせガラスの製造時における脱気性を確保することができる。
本発明の合わせガラス用中間膜は、上記凹凸を一方の表面にのみ有してもよく、両方の表面に有してもよい。なかでも、合わせガラス製造時における脱気性に優れることから、両方の表面に凹凸を有することが好ましい。
本発明の合わせガラス用中間膜は、上記凹凸を有する表面において、JIS B 0601(1994)に準拠して測定される最大高さRy(μm)と凹凸の平均間隔Sm(μm)とが上記式(1)を満たす。
図1に、上記式(1)における「(Ry×Sm)/2」の意義を説明する模式図を示した。図1において合わせガラス用中間膜の表面の凹凸1は、凸部11と凹部12とを有している。
上記最大高さRyは凹凸の高さ方向に係るパラメータであり、図1において凹凸の高さに略該当する。上記最大高さRyが小さいほど、ガラスと合わせガラス用中間膜との界面の歪みが小さくなり、光学歪みが小さくなる傾向がある。一方、上記凹凸の平均間隔Smは凹凸の凹部又は凸部の幅に係るパラメータであり、図1において隣接する凸部11間の間隔を意味する。上記平均間隔Smが小さいほど、ガラスと合わせガラス用中間膜との界面の歪みが小さくなり、光学歪みが小さくなる傾向がある。
「(Ry×Sm)/2」の値は、図1において斜線部で示された三角形の面積に略該当する。合わせガラス用中間膜の表面の凹凸において隣接する2つの凸部11と、該隣接する2つの凸部11の間の凹部12とに囲まれた領域の面積は、この三角形の面積に近似する。この三角形の面積、即ち「(Ry×Sm)/2」の値を3500以下とすることにより、光学歪みの発生を防止することができる。光学歪みの発生をより防止するためには、「(Ry×Sm)/2」の値は3000以下であることが好ましく、2700以下であることがより好ましく(即ち、(Ry×Sm)/2≦2700 (2)を満たすことがより好ましく)、2500以下であることが更に好ましく、2300以下であることが特に好ましく、2000以下であることが最も好ましい。
「(Ry×Sm)/2」の値の下限については特に限定されないが、合わせガラス製造時における脱気性を充分に発揮するためには1000以上であることが好ましく、1500以上であることがより好ましい。
上記最大高さRyの値は、「(Ry×Sm)/2」の値が3500以下である限りにおいて特に限定されないが、好ましい下限は10μm、好ましい上限は25μmである。上記最大高さRyの値がこの範囲内であると、光学歪みの発生を防止しながら、高い脱気性を発揮することができる。上記最大高さRyの値のより好ましい下限は13μm、より好ましい上限は22μmであり、更に好ましい下限は15μm、更に好ましい上限は20μmである。
なお、上記最大高さRyは、例えば、測定機として小坂研究所社製「Surfcorder SE300」を用い、測定時の触針計条件を、カットオフ値=2.5mm、基準長さ=2.5mm、評価長さ=12.5mm、触針の先端半径=2μm、先端角度=60°、測定速度=0.5mm/sの条件で測定することができる。ここで測定時の環境は23℃及び30RH%下とし、触針を動かす方向をシートの流れ方向に対して平行方向とする。
表面の凹凸の規格としては、Ryの他にも凹部の溝深さ(Rzg)、十点平均粗さRz等が存在するが、同一の表面を測定してもそれぞれ異なる値を示し、相関関係もない。なお、凹部の溝深さ(Rzg)は、JIS B−0601(1994)「表面粗さ−定義及び表示」に規定される、粗さ曲線の平均線(粗さ曲線までの偏差の2乗和が最小になるように設定した線)を基準とする溝深さを算出し、測定した溝数の溝深さの平均値を意味する。例えば、凹部の溝深さ(Rzg)は、表面粗さ測定器(小坂研究所製「SE1700α」)を用いて測定されるデジタル信号をデータ処理することによって容易に得られる。また、十点平均粗さであれば、JIS B0601−1982に準拠して測定される。
上記凹凸の平均間隔Smの値は、「(Ry×Sm)/2」の値が3500以下である限りにおいて特に限定されないが、好ましい下限は140μm、好ましい上限は408μmである。上記凹凸の平均間隔Smの値がこの範囲内であると、光学歪みの発生を防止しながら、高い脱気性を発揮することができる。上記凹凸の平均間隔Smの値のより好ましい下限は159μm、より好ましい上限は350μmであり、更に好ましい下限は175μm、更に好ましい上限は269μm、特に好ましい上限は233μmである。
なお、上記凹凸の平均間隔Smは、例えば、測定機として小坂研究所社製「Surfcorder SE300」を用い、測定時の触針計条件を、カットオフ値=2.5mm、基準長さ=2.5mm、評価長さ=12.5mm、触針の先端半径=2μm、先端角度=60°、測定速度=0.5mm/sの条件で測定することができる。また、測定時の環境は23℃及び30RH%下である。
上記凹凸形状は、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により付与される。
メルトフラクチャーとは、樹脂を溶融して金型から押し出すことにより成形する際に、金型出口におけるずり応力がある臨界値を超えると、形成品の表面が波立つ現象である。このメルトフラクチャーを制御することにより、合わせガラス用中間膜の表面に凹凸を付与することができる。
「(Ry×Sm)/2」の値が3500以下である凹凸を付与するためには、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法において、ダイ入り口の樹脂圧力、樹脂の温度、金型の温度、金型の出口の幅、金型の出口の幅当たりの押し出し量、金型出口から吐出された直後の膜表面温度、金型の出口から冷却水槽までの距離、冷却水槽内の水温等を制御する。例えば、樹脂の温度や金型の温度を高くすると上記最大高さRyが小さくなり、金型の出口の幅を小さくすると上記凹凸の平均間隔Smが小さくなる。なお、上記樹脂の温度とは、金型入り口における樹脂の温度を指す。他にもダイ入口の樹脂圧力を高くする、金型の出口の幅当たりの押出量を増やす、金型出口から吐出された直後の膜表面温度を上げる、金型の出口から冷却水槽までの距離を長くする、冷却水槽内の水温を上げる等の方法によって、Ryを小さくすることができる。逆に平均間隔Smは、ダイ入口の樹脂圧力を高くする、金型の出口の幅当たりの押出量を増やす、金型出口から吐出された直後の膜表面温度を上げる、金型の出口から冷却水槽までの距離を長くする、冷却水槽内の水温を上げる等の方法によって、大きくすることができる。より具体的には例えば、ダイ入り口の樹脂圧力を40〜150kgf/cm、樹脂の温度を160〜250℃、金型の温度を100〜270℃、金型の出口の幅を700〜3500mm、金型の出口の幅当たりの押し出し量を130〜1700kg/hr・m、金型出口から吐出された直後の膜表面温度を170〜250℃、金型の出口から冷却水槽までの距離を10〜400mm、冷却水槽内の水温を10〜70℃の範囲で調整して、「(Ry×Sm)/2」の値が3500以下である凹凸を付与する。
本発明の合わせガラス用中間膜を製造する方法であって、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により合わせガラス用中間膜の少なくとも一方の表面に多数の凹凸を付与する工程を含み、該工程において共押出機を用いて各樹脂を共押出する際に、ダイ入り口の樹脂圧力を40〜150kgf/cm、樹脂の温度を160〜250℃、金型の温度を100〜270℃、金型の出口の幅を700〜3500mm、金型の出口の幅当たりの押し出し量を130〜1700kg/hr・m、金型出口から吐出された直後の膜表面温度を170〜250℃、金型の出口から冷却水槽までの距離を10〜400mm、冷却水槽内の水温を10〜70℃の条件とする合わせガラス用中間膜の製造方法もまた、本発明の1つである。
本発明の合わせガラス用中間膜は、「(Ry×Sm)/2」の値が3500以下である凹凸(以下、区別のために「第1の形状」ともいう。)に比べてより大きな凹部として、底部が連続した溝形状を有する多数の凹部を、少なくとも一方の表面に更に付与してもよい(以下、「第2の形状」ともいう。)。このような第2の形状を有することにより、合わせガラス製造時における脱気性を更に向上させることができる。
上記第2の形状の凹部は、少なくとも底部が連続した形状(溝形状)を有すればよく、例えば、刻線状、格子状(ブロック状、球状)等の、一般的に合わせガラス用中間膜の表面に付与される凹部の形状を用いることができる。上記凹部の形状はエンボスロールが転写された形状であってもよい。
上記第2の形状の凹部は、底部が連続した溝形状を有し、隣接する上記凹部が平行して規則的に並列していることが好ましい(以下、「刻線状」ともいう。)。一般に、2枚のガラス板の間に合わせガラス用中間膜が積層された積層体を圧着するときの空気の抜け易さは、上記凹部の底部の連通性及び平滑性と密接な関係がある。上記凹部の形状を刻線状とすることにより、該底部の連通性はより優れ、著しく脱気性が向上する。
なお、「規則的に並列している」とは、隣接する上記溝形状の凹部が平行して等間隔に並列していてもよく、隣接する上記刻線状の凹部が平行して並列しているが、すべての隣接する上記刻線状の凹部の間隔が等間隔でなくともよいことを意味する。
図2及び図3に、溝形状の凹部が等間隔に平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図を示した。また、図4に、溝形状の凹部が等間隔ではないが平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図を示した。図4において、凹部21と凹部22との間隔Aと、凹部21と凹部23との間隔Bとは異なる。
更に、図5に、表面にブロック状の形状を有する合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図を、図6に、表面に球状の形状を有する合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図を示した。
上記第2の形状の凹部のJIS B 0601(1994)に準拠して測定される最大高さRyの好ましい下限は10μm、好ましい上限は75μmである。上記第2の形状の最大高さRyを10μm以上とすることにより、極めて優れた脱気性を発揮させることができ、75μm以下とすることにより、2枚のガラス板の間に挟持して圧着する際に、凹部が潰れ易くなり圧着する際の温度を低くすることができる。上記第2の形状の最大高さRyのより好ましい下限は15μm、より好ましい上限は50μmであり、更に好ましい下限は25μm、更に好ましい上限は40μmである。
上記第2の形状の凹部が、底部が連続した溝形状を有し、隣接する上記凹部が平行して規則的に並列している場合において、上記刻線状の凹部の間隔Smは400μm以下であることが好ましく、200μm以下であることがより好ましく、150μm以下であることが更に好ましい。好ましい下限は80μmである。
上記第2の形状の凹部が、底部が連続した溝形状を有し、隣接する上記凹部が平行して規則的に並列しているものであって、かつ、合わせガラス用中間膜の両面にある場合においては、一方の面に有する上記底部が連続した溝形状の凹部と、他方の面に有する上記底部が連続した溝形状の凹部との交差角度θが10°以上であることが好ましい。これにより保管中に積層した合わせガラス用中間膜同士が接着(自着)するのを防止することができる。上記交差角θは、20°以上であることがより好ましく、45°以上であることが更に好ましく、90°であることが特に好ましい。
上記交差角θは、例えば、合わせガラス用中間膜を目視または光学顕微鏡により観察し、第1の表面が有する底部が連続した溝形状の凹部と、第2の表面が有する底部が連続した溝形状の凹部との交差角θを、目視の場合は両面ともに凹部に平行にインクにて直線を描き、分度器を用いて描かれた直線同士の鋭角を測定した。光学顕微鏡を用いる場合は拡大した表面を撮影し画像処理ソフト等を用いて鋭角の角度を測定することにより測定することができる。
上記第2の形状の凹部に応じて形成される凸部は、頂上部が平面形状であってもよく、平面ではない形状であってもよい。なお、上記凸部の頂上部が平面形状である場合には、該頂上部の平面に更に微細な凹凸が施されていてもよい。
更に、各凹凸の凸部の高さは、同一の高さであってもよいし、異なる高さであってもよく、上記凹部の深さも、該凹部の底辺が連続していれば、同一の深さであってもよいし、異なる深さであってもよい。
上記凸部の回転半径Rは、200μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましく、40μm以下であることが更に好ましく、25μm以下であることが特に好ましい。これにより、合わせガラス用中間膜を積層した状態で保管したときの合わせガラス用中間膜同士の接着力(自着力)をより低下させることができる。
上記凸部の回転半径Rは、例えば、中間膜を刻線状の凹部の方向に対して垂直方向、かつ、膜厚み方向に切断し、その断面をマイクロスコープ(例えば、オリンパス社製「DSX−100」)を用いて観察し、測定倍率を277倍にて撮影し、更に撮影画像を50μ/20mmになるように拡大表示させた状態で、付属ソフト内の計測ソフトを用いて、凸形状の頂点に内接する円を描いたときの該円の半径を該凸部の先端の回転半径とする方法により測定することができる。また、測定時の環境は23℃及び30RH%下である。
上記第2の形状を付与する方法は特に限定されないが、例えば、エンボスロール法、カレンダーロール法、異形押出法等が挙げられる。なかでも、隣接する該刻線状の凹部が平行して形成されている形状及び並列している形状が、容易に得られることから、エンボスロール法が好適である。
本発明の合わせガラス用中間膜は、合わせガラス用中間膜を50℃の温水中に10分間浸漬した後の流れ方向の収縮率が4%以下であることが好ましい。合わせガラス用中間膜の表面の凹凸を上述のように制御するとともに、上記収縮率を4%以下とすることにより、合わせガラス製造時の加熱、加圧を経ても、充分に光学歪みの発生を抑えた合わせガラスを得ることができる。上記収縮率は3%以下であることがより好ましく、1.5%以下であることが更に好ましい。
上記収縮率は、合わせガラス用中間膜を短冊上に切断して測定サンプルとし、50℃の温水中に10分間浸漬した前後で測定サンプルの流れ方向の長さを測定し、以下の式により算出することができる。
収縮率(%)=(浸漬後の流れ方向の長さ)/(浸漬前の流れ方向の長さ)×100
なお、本明細書において合わせガラス用中間膜の流れ方向とは、合わせガラス用中間膜製造時において、原料樹脂組成物を押出し機から押し出した方向を意味する。
合わせガラス用中間膜の流れ方向は、例えば、以下の方法によって確認することができる。即ち、合わせガラス用中間膜を140℃の恒温槽に30分保管した後、フィルムの平行方向と垂直方向の収縮率が大きいほうが流れ方向であることにより確認することができる。他にも、該合わせガラス用中間膜のロール状体の巻取り方向によって確認することができる。これは、合わせガラス用中間膜のロール状体は、合わせガラス用中間膜製造時の膜の流れ方向に巻き取られることから、ロール状体の巻取方向と、合わせガラス用中間膜製造時の膜の流れ方向とが同一であることによる。
合わせガラス用中間膜の収縮率を4%以下とする方法は特に限定されず、各工程内、工程間の速度比を小さくする、アニールによる内部応力を緩和させる等の方法が挙げられる。
本発明の合わせガラス用中間膜は2層以上の樹脂層が積層されている積層体を含む。
上記2層以上の樹脂層として、第1の樹脂層と第2の樹脂層とを有し、かつ、第1の樹脂層と第2の樹脂層とが異なる性質を有することにより、1層だけでは実現が困難であった種々の性能を有する合わせガラス用中間膜を提供することができる。
上記樹脂層は熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
上記熱可塑性樹脂として、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、上記樹脂層はポリビニルアセタール、又は、エチレン−酢酸ビニル共重合体を含有することが好ましく、ポリビニルアセタールを含有することがより好ましい。
上記ポリビニルアセタールは、例えば、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することにより製造できる。上記ポリビニルアルコールは、例えば、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより製造できる。上記ポリビニルアルコールのけん化度は、一般に70〜99.8モル%の範囲内である。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、好ましくは200以上、より好ましくは500以上、更に好ましくは1700以上、特に好ましくは1700を超え、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、特に好ましくは3000未満である。上記平均重合度が上記下限以上であると、合わせガラスの耐貫通性がより一層高くなる。上記平均重合度が上記上限以下であると、中間膜の成形が容易になる。
なお、上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、JIS K6726「ポリビニルアルコール試験方法」に準拠した方法により求められる。
上記ポリビニルアセタールに含まれているアセタール基の炭素数は特に限定されない。上記ポリビニルアセタールを製造する際に用いるアルデヒドは特に限定されない。上記ポリビニルアセタールにおけるアセタール基の炭素数の好ましい下限は3、好ましい上限は6である。上記ポリビニルアセタールにおけるアセタール基の炭素数が3以上であると、中間膜のガラス転移温度が充分に低くなり、また、可塑剤のブリードアウトを防止することができる。アルデヒドの炭素数を6以下とすることにより、ポリビニルアセタールの合成を容易にし、生産性を確保できる。上記炭素数が3〜6のアルデヒドとしては、直鎖状のアルデヒドであってもよいし、分枝状のアルデヒドであってもよく、例えば、n−ブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド等が挙げられる。
上記アルデヒドは特に限定されない。上記アルデヒドとして、一般には、炭素数が1〜10のアルデヒドが好適に用いられる。上記炭素数が1〜10のアルデヒドとしては、例えば、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、2−エチルブチルアルデヒド、n−ヘキシルアルデヒド、n−オクチルアルデヒド、n−ノニルアルデヒド、n−デシルアルデヒド、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド及びベンズアルデヒド等が挙げられる。なかでも、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−ヘキシルアルデヒド又はn−バレルアルデヒドが好ましく、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド又はイソブチルアルデヒドがより好ましく、n−ブチルアルデヒドが更に好ましい。上記アルデヒドは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記ポリビニルアセタールの水酸基の含有率(水酸基量)は、好ましくは10モル%以上、より好ましくは15モル%以上、更に好ましくは18モル%以上、好ましくは40モル%以下、より好ましくは35モル%以下である。上記水酸基の含有率が上記下限以上であると、中間膜の接着力がより一層高くなる。また、上記水酸基の含有率が上記上限以下であると、中間膜の柔軟性が高くなり、中間膜の取扱いが容易になる。
上記ポリビニルアセタールの水酸基の含有率は、水酸基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率で示した値である。上記水酸基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6726「ポリビニルアルコール試験方法」に準拠して又はASTM D1396−92に準拠して、測定することにより求めることができる。
上記ポリビニルアセタールのアセチル化度(アセチル基量)は、好ましくは0.1モル%以上、より好ましくは0.3モル%以上、更に好ましくは0.5モル%以上、好ましくは30モル%以下、より好ましくは25モル%以下、更に好ましくは20モル%以下である。上記アセチル化度が上記下限以上であると、ポリビニルアセタールと可塑剤との相溶性が高くなる。上記アセチル化度が上記上限以下であると、中間膜及び合わせガラスの耐湿性が高くなる。
上記アセチル化度は、主鎖の全エチレン基量から、アセタール基が結合しているエチレン基量と、水酸基が結合しているエチレン基量とを差し引いた値を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率で示した値である。上記アセタール基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠して又はASTM D1396−92に準拠して測定できる。
上記ポリビニルアセタールのアセタール化度(ポリビニルブチラール樹脂の場合にはブチラール化度)は、好ましくは50モル%以上、より好ましくは53モル%以上、更に好ましくは60モル%以上、特に好ましくは63モル%以上、好ましくは85モル%以下、より好ましくは75モル%以下、更に好ましくは70モル%以下である。上記アセタール化度が上記下限以上であると、ポリビニルアセタールと可塑剤との相溶性が高くなる。上記アセタール化度が上記上限以下であると、ポリビニルアセタールを製造するために必要な反応時間が短くなる。
上記アセタール化度は、アセタール基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率で示した値である。
上記アセタール化度は、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法又はASTM D1396−92に準拠した方法により、アセチル化度と水酸基の含有率とを測定し、得られた測定結果からモル分率を算出し、次いで、100モル%からアセチル化度と水酸基の含有率とを差し引くことにより算出され得る。
なお、上記水酸基の含有率(水酸基量)、アセタール化度(ブチラール化度)及びアセチル化度は、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により測定された結果から算出することが好ましい。ポリビニルアセタールがポリビニルブチラール樹脂である場合は、上記水酸基の含有率(水酸基量)、アセタール化度(ブチラール化度)及びアセチル化度は、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により測定された結果から算出することが好ましい。
上記樹脂層は、ポリビニルアセタールと可塑剤とを含むことが好ましい。
上記可塑剤としては、合わせガラス用中間膜に一般的に用いられる可塑剤であれば特に限定されず、例えば、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機可塑剤や、有機リン酸化合物、有機亜リン酸化合物等のリン酸可塑剤等が挙げられる。
上記有機可塑剤として、例えば、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−n−ヘプタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート、テトラエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレート、テトラエチレングリコール−ジ−n−ヘプタノエート、ジエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート、ジエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレート、ジエチレングリコール−ジ−n−ヘプタノエート等が挙げられる。なかでも、上記樹脂層はトリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレート、又は、トリエチレングリコール−ジ−n−ヘプタノエートを含むことが好ましく、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエートを含むことがより好ましい。
上記可塑剤の含有量は特に限定されないが、上記熱可塑性樹脂100質量部に対する上記可塑剤の含有量は、好ましくは25質量部以上、より好ましくは30質量部以上、好ましくは80質量部以下、より好ましくは70質量部以下である。上記可塑剤の含有量が上記下限以上であると、合わせガラスの耐貫通性がより一層高くなる。上記可塑剤の含有量が上記上限以下であると、中間膜の透明性がより一層高くなる。
上記樹脂層は、接着力調整剤を含有することが好ましい。特に、合わせガラスを製造するときに、ガラスと接触する樹脂層は、上記接着力調整剤を含有することが好ましい。
上記接着力調整剤としては、例えば、アルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩が好適に用いられる。上記接着力調整剤として、例えば、カリウム、ナトリウム、マグネシウム等の塩が挙げられる。
上記塩を構成する酸としては、例えば、オクチル酸、ヘキシル酸、2−エチル酪酸、酪酸、酢酸、蟻酸等のカルボン酸の有機酸、又は、塩酸、硝酸等の無機酸が挙げられる。合わせガラスを製造するときに、ガラスと樹脂層との接着力を容易に調製できることから、ガラスと接触する樹脂層は、接着力調整剤として、マグネシウム塩を含むことが好ましい。
上記樹脂層は、必要に応じて、酸化防止剤、光安定剤、接着力調整剤として変成シリコーンオイル、難燃剤、帯電防止剤、耐湿剤、熱線反射剤、熱線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。
本発明の合わせガラス用中間膜の厚みは特に限定されない。実用面の観点、並びに遮熱性を充分に高める観点からは、中間膜の厚みは、好ましくは0.1mm以上、より好ましくは0.25mm以上、好ましくは3mm以下、より好ましくは1.5mm以下である。中間膜の厚みが上記下限以上であると、合わせガラスの耐貫通性が高くなる。
本発明の合わせガラス用中間膜では、2層以上の樹脂層として、少なくとも第1の樹脂層と第2の樹脂層とを有し、上記第1の樹脂層に含まれるポリビニルアセタール(以下、ポリビニルアセタールAという。)の水酸基量が、上記第2の樹脂層に含まれるポリビニルアセタール(以下、ポリビニルアセタールBという。)の水酸基量と異なることが好ましい。
ポリビニルアセタールAとポリビニルアセタールBとの性質が異なるため、1層だけでは実現が困難であった種々の性能を有する合わせガラス用中間膜を提供することができる。例えば、2層の上記第2の樹脂層の間に、上記第1の樹脂層が積層されており、かつ、ポリビニルアセタールAの水酸基量がポリビニルアセタールBの水酸基量より低い場合、上記第1の樹脂層は上記第2の樹脂層と比較してガラス転移温度が低くなる傾向にある。結果として、上記第1の樹脂層が上記第2の樹脂層より軟らかくなり、合わせガラス用中間膜の遮音性が高くなる。また、2層の上記第2の樹脂層の間に、上記第1の樹脂層が積層されており、かつ、ポリビニルアセタールAの水酸基量がポリビニルアセタールBの水酸基量より高い場合、上記第1の樹脂層は上記第2の樹脂層と比較してガラス転移温度が高くなる傾向にある。結果として、上記第1の樹脂層が上記第2の樹脂層より硬くなり、合わせガラス用中間膜の耐貫通性が高くなる。
更に、上記第1の樹脂層及び上記第2の樹脂層が可塑剤を含む場合、上記第1の樹脂層におけるポリビニルアセタール100質量部に対する可塑剤の含有量(以下、含有量Aという。)が、上記第2の樹脂層におけるポリビニルアセタール100質量部に対する可塑剤の含有量(以下、含有量Bという。)と異なることが好ましい。例えば、2層の上記第2の樹脂層の間に、上記第1の樹脂層が積層されており、かつ、上記含有量Aが上記含有量Bより多い場合、上記第1の樹脂層は上記第2の樹脂層と比較してガラス転移温度が低くなる傾向にある。結果として、上記第1の樹脂層が上記第2の樹脂層より軟らかくなり、合わせガラス用中間膜の遮音性が高くなる。また、2層の上記第2の樹脂層の間に、上記第1の樹脂層が積層されており、かつ、上記含有量Aが上記含有量Bより少ない場合、上記第1の樹脂層は上記第2の樹脂層と比較してガラス転移温度が高くなる傾向にある。結果として、上記第1の樹脂層が上記第2の樹脂層より硬くなり、合わせガラス用中間膜の耐貫通性が高くなる。
本発明の合わせガラス用中間膜を構成する2層以上の樹脂層の組み合わせとしては、例えば、合わせガラスの遮音性を向上させるために、上記第1の樹脂層として遮音層と、上記第2の樹脂層として保護層との組み合わせが挙げられる。合わせガラスの遮音性が向上することから、上記遮音層はポリビニルアセタールXと可塑剤とを含み、上記保護層はポリビニルアセタールYと可塑剤とを含むことが好ましい。更に、2層の上記保護層の間に、上記遮音層が積層されている場合、優れた遮音性を有する合わせガラス用中間膜(以下、遮音中間膜ともいう。)を得ることができる。以下、遮音中間膜について、より具体的に説明する。
上記遮音中間膜において、上記遮音層は遮音性を付与する役割を有する。上記遮音層は、ポリビニルアセタールXと可塑剤とを含有することが好ましい。
上記ポリビニルアセタールXは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することにより調製することができる。上記ポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより得られる。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は200、好ましい上限5000である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度を200以上とすることにより、得られる遮音中間膜の耐貫通性を向上させることができ、5000以下とすることにより、遮音層の成形性を確保することができる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度のより好ましい下限は500、より好ましい上限は4000である。
なお、上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、JIS K6726「ポリビニルアルコール試験方法」に準拠した方法により求められる。
上記ポリビニルアルコールをアセタール化するためのアルデヒドの炭素数の好ましい下限は4、好ましい上限は6である。アルデヒドの炭素数を4以上とすることにより、充分な量の可塑剤を安定して含有させることができ、優れた遮音性能を発揮することができる。また、可塑剤のブリードアウトを防止することができる。アルデヒドの炭素数を6以下とすることにより、ポリビニルアセタールXの合成を容易にし、生産性を確保できる。上記炭素数が4〜6のアルデヒドとしては、直鎖状のアルデヒドであってもよいし、分枝状のアルデヒドであってもよく、例えば、n−ブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド等が挙げられる。
上記ポリビニルアセタールXの水酸基量の好ましい上限は30モル%である。上記ポリビニルアセタールXの水酸基量を30モル%以下とすることにより、遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができ、可塑剤のブリードアウトを防止することができる。上記ポリビニルアセタールXの水酸基量のより好ましい上限は28モル%、更に好ましい上限は26モル%、特に好ましい上限は24モル%、好ましい下限は10モル%、より好ましい下限は15モル%、更に好ましい下限は20モル%である。上記ポリビニルアセタールXの水酸基量は、水酸基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率(モル%)で表した値である。上記水酸基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により、上記ポリビニルアセタールXの水酸基が結合しているエチレン基量を測定することにより求めることができる。
上記ポリビニルアセタールXのアセタール基量の好ましい下限は60モル%、好ましい上限は85モル%である。上記ポリビニルアセタールXのアセタール基量を60モル%以上とすることにより、遮音層の疎水性を高くして、遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができ、可塑剤のブリードアウトや白化を防止することができる。上記ポリビニルアセタールXのアセタール基量を85モル%以下とすることにより、ポリビニルアセタールXの合成を容易にし、生産性を確保することができる。上記ポリビニルアセタールXのアセタール基量の下限は65モル%がより好ましく、68モル%以上が更に好ましい。
上記アセタール基量は、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により、上記ポリビニルアセタールXのアセタール基が結合しているエチレン基量を測定することにより求めることができる。
上記ポリビニルアセタールXのアセチル基量の好ましい下限は0.1モル%、好ましい上限は30モル%である。上記ポリビニルアセタールXのアセチル基量を0.1モル%以上とすることにより、遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができ、ブリードアウトを防止することができる。また、上記ポリビニルアセタールXのアセチル基量を30モル%以下とすることにより、遮音層の疎水性を高くして、白化を防止することができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は1モル%、更に好ましい下限は5モル%、特に好ましい下限は8モル%、より好ましい上限は25モル%、更に好ましい上限は20モル%である。上記アセチル基量は、主鎖の全エチレン基量から、アセタール基が結合しているエチレン基量と、水酸基が結合しているエチレン基量とを差し引いた値を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率(モル%)で表した値である。
特に、上記遮音層に遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を容易に含有させることができることから、上記ポリビニルアセタールXは、上記アセチル基量が8モル%以上のポリビニルアセタール、又は、上記アセチル基量が8モル%未満、かつ、アセタール基量が65モル%以上のポリビニルアセタールであることが好ましい。また、上記ポリビニルアセタールXは、上記アセチル基量が8モル%以上のポリビニルアセタール、又は、上記アセチル基量が8モル%未満、かつ、アセタール基量が68モル%以上のポリビニルアセタールであることが、より好ましい。
上記遮音層における可塑剤の含有量は、上記ポリビニルアセタールX100質量部に対する好ましい下限が45質量部、好ましい上限が80質量部である。上記可塑剤の含有量を45質量部以上とすることにより、高い遮音性を発揮することができ、80質量部以下とすることにより、可塑剤のブリードアウトが生じて、合わせガラス用中間膜の透明性や接着性の低下を防止することができる。上記可塑剤の含有量のより好ましい下限は50質量部、更に好ましい下限は55質量部、より好ましい上限は75質量部、更に好ましい上限は70質量部である。
上記遮音層の厚さの好ましい下限は50μmである。上記遮音層の厚さを50μm以上とすることにより、充分な遮音性を発揮することができる。上記遮音層の厚さのより好ましい下限は80μmである。なお、上限は特に限定されないが、合わせガラス用中間膜としての厚さを考慮すると、好ましい上限は300μmである。
上記遮音層は一端と、上記一端の反対側に他端とを有し、上記他端の厚みが、上記一端の厚みよりも大きい形状を有していてもよい。上記遮音層は、厚み方向の断面形状が楔形状である部分を有することが好ましい。この場合、上記遮音層の最小厚みの好ましい下限は50μmである。上記遮音層の最小厚みを50μm以上とすることにより、充分な遮音性を発揮することができる。上記遮音層の最小厚みのより好ましい下限は80μmであり、更に好ましい下限は100μmである。なお、上記遮音層の最大厚みの上限は特に限定されないが、合わせガラス用中間膜としての厚さを考慮すると、好ましい上限は300μmである。上記遮音層の最大厚みのより好ましい上限は220μmである。
上記保護層は、遮音層に含まれる大量の可塑剤がブリードアウトして、合わせガラス用中間膜とガラスとの接着性が低下するのを防止し、また、合わせガラス用中間膜に耐貫通性を付与する役割を有する。
上記保護層は、例えば、ポリビニルアセタールYと可塑剤とを含有することが好ましく、ポリビニルアセタールXより水酸基量が大きいポリビニルアセタールYと可塑剤とを含有することがより好ましい。
上記ポリビニルアセタールYは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することにより調製することができる。上記ポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより得られる。
また、上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は200、好ましい上限は5000である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度を200以上とすることにより、合わせガラス用中間膜の耐貫通性を向上させることができ、5000以下とすることにより、保護層の成形性を確保することができる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度のより好ましい下限は500、より好ましい上限は4000である。
上記ポリビニルアルコールをアセタール化するためのアルデヒドの炭素数の好ましい下限は3、好ましい上限は4である。アルデヒドの炭素数を3以上とすることにより、合わせガラス用中間膜の耐貫通性が高くなる。アルデヒドの炭素数を4以下とすることにより、ポリビニルアセタールYの生産性が向上する。
上記炭素数が3〜4のアルデヒドとしては、直鎖状のアルデヒドであってもよいし、分枝状のアルデヒドであってもよく、例えば、n−ブチルアルデヒド等が挙げられる。
上記ポリビニルアセタールYの水酸基量の好ましい上限は33モル%、好ましい下限は28モル%である。上記ポリビニルアセタールYの水酸基量を33モル%以下とすることにより、合わせガラス用中間膜の白化を防止することができる。上記ポリビニルアセタールYの水酸基量を28モル%以上とすることにより、合わせガラス用中間膜の耐貫通性が高くなる。
上記ポリビニルアセタールYは、アセタール基量の好ましい下限が60モル%、好ましい上限が80モル%である。上記アセタール基量を60モル%以上とすることにより、充分な耐貫通性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができる。上記アセタール基量を80モル%以下とすることにより、上記保護層とガラスとの接着力を確保することができる。上記アセタール基量のより好ましい下限は65モル%、より好ましい上限は69モル%である。
上記ポリビニルアセタールYのアセチル基量の好ましい上限は7モル%である。上記ポリビニルアセタールYのアセチル基量を7モル%以下とすることにより、保護層の疎水性を高くして、白化を防止することができる。上記アセチル基量のより好ましい上限は2モル%であり、好ましい下限は0.1モル%である。なお、ポリビニルアセタールA、B、及び、Yの水酸基量、アセタール基量、及び、アセチル基量は、ポリビニルアセタールXと同様の方法で測定できる。
上記保護層における可塑剤の含有量は、上記ポリビニルアセタールY100質量部に対する好ましい下限が20質量部、好ましい上限が45質量部である。上記可塑剤の含有量を20質量部以上とすることにより、耐貫通性を確保することができ、45質量部以下とすることにより、可塑剤のブリードアウトを防止して、合わせガラス用中間膜の透明性や接着性の低下を防止することができる。上記可塑剤の含有量のより好ましい下限は30質量部、更に好ましい下限は35質量部、より好ましい上限は43質量部、更に好ましい上限は41質量部である。合わせガラスの遮音性がよりいっそう向上することから、上記保護層における可塑剤の含有量は、上記遮音層における可塑剤の含有量よりも少ないことが好ましい。
合わせガラスの遮音性がより一層向上することから、ポリビニルアセタールYの水酸基量はポリビニルアセタールXの水酸基量より大きいことが好ましく、1モル%以上大きいことがより好ましく、5モル%以上大きいことが更に好ましく、8モル%以上大きいことが特に好ましい。ポリビニルアセタールX及びポリビニルアセタールYの水酸基量を調整することにより、上記遮音層及び上記保護層における可塑剤の含有量を制御することができ、上記遮音層のガラス転移温度が低くなる。結果として、合わせガラスの遮音性がより一層向上する。
また、合わせガラスの遮音性がより一層向上することから、上記遮音層におけるポリビニルアセタールX100質量部に対する、可塑剤の含有量(以下、含有量Xともいう。)は、上記保護層におけるポリビニルアセタールY100質量部に対する、可塑剤の含有量(以下、含有量Yともいう。)より多いことが好ましく、5質量部以上多いことがより好ましく、15質量部以上多いことが更に好ましく、20質量部以上多いことが特に好ましい。含有量X及び含有量Yを調整することにより、上記遮音層のガラス転移温度が低くなる。結果として、合わせガラスの遮音性がより一層向上する。
本発明の合わせガラス用中間膜は、一端と、上記一端の反対側に他端とを有していてもよい。上記一端と上記他端とは、中間膜において対向し合う両側の端部である。本発明の合わせガラス用中間膜では、上記他端の厚みが、上記一端の厚みよりも大きいことが好ましい。このような一端と他端の厚みが異なる形状を有することで、本発明の合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスをヘッドアップディスプレイとして好適に用いることができ、その際に、ヘッドアップディスプレイの二重像の発生を効果的に抑制できる。本発明の合わせガラス用中間膜は、断面形状が楔形であってもよい。合わせガラス用中間膜の断面形状が楔形であれば、合わせガラスの取り付け角度に応じて、楔形の楔角θを調整することにより、ヘッドアップディスプレイにおいて二重像の発生を防止した画像表示が可能となる。二重像をより一層抑制する観点から、上記楔角θの好ましい下限は0.1mrad、より好ましい下限は0.2mradであり、更に好ましい下限は0.3mrad、好ましい上限は1mrad、より好ましい上限は0.9mradである。なお、例えば押出機を用いて樹脂組成物を押出し成形する方法により断面形状が楔形の合わせガラス用中間膜を製造した場合、薄い側の一方の端部からわずかに内側の領域(具体的には、一端と他端との間の距離をXとしたときに、薄い側の一端から内側に向かって0X〜0.2Xの距離の領域)に最小厚みを有し、厚い側の一方の端部からわずかに内側の領域(具体的には、一端と他端との間の距離をXとしたときに、厚い側の一端から内側に向かって0X〜0.2Xの距離の領域)に最大厚みを有する形状となることがある。本明細書においては、このような形状も楔形に含まれる。
本発明の合わせガラス用中間膜の断面形状が楔形である場合、遮音層と、保護層を含む多層構造を有するものとすることもできる。上記遮音層の厚みを一定範囲とする一方、上記保護層を積層することにより、合わせガラス用中間膜全体としての断面形状が一定の楔角である楔形となるように調整することができる。
上記保護層の厚さは、上記保護層の役割を果たし得る範囲に調整すればよく、特に限定されない。ただし、上記保護層上に凹凸を有する場合には、直接接する上記遮音層との界面への凹凸の転写を抑えられるように、可能な範囲で厚くすることが好ましい。具体的には、上記保護層の厚さの好ましい下限は100μm、より好ましい下限は300μm、更に好ましい下限は400μm、特に好ましい下限は450μmである。上記保護層の厚さの上限については特に限定されないが、充分な遮音性を達成できる程度に遮音層の厚さを確保するためには、実質的には500μm程度が上限である。
上記保護層は一端と、上記一端の反対側に他端とを有し、上記他端の厚みが、上記一端の厚みよりも大きい形状を有していても良い。上記保護層は、厚み方向の断面形状が楔形状である部分を有することが好ましい。上記保護層の厚さは、上記保護層の役割を果たし得る範囲に調整すればよく、特に限定されない。ただし、上記保護層上に凹凸を有する場合には、直接接する上記遮音層との界面への凹凸の転写を抑えられるように、可能な範囲で厚くすることが好ましい。具体的には、上記保護層の最小厚みの好ましい下限は100μm、より好ましい下限は300μm、更に好ましい下限は400μm、特に好ましい下限は450μmである。上記保護層の最大厚みの上限については特に限定されないが、充分な遮音性を達成できる程度に遮音層の厚さを確保するためには、実質的には1000μm程度が上限であり、800μmが好ましい。
上記遮音中間膜を製造する方法としては特に限定されず、例えば、上記遮音層と保護層とを、押し出し法、カレンダー法、プレス法等の通常の製膜法によりシート状に製膜した後、積層する方法等が挙げられる。
一対のガラス板と、該一対のガラス板の間に積層された本発明の合わせガラス用中間膜とを含む合わせガラスもまた、本発明の1つである。
上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ガラスの表面に紫外線遮蔽コート層を有する紫外線遮蔽ガラスも用いることができる。更に、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、2種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板との間に、本発明の合わせガラス用中間膜を積層した合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、2種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
本発明によれば、光学歪みの発生を抑えた合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜の製造方法、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
式(1)における「(Ry×Sm)/2」の意義を説明する模式図である。 表面に底部が連続した溝形状である凹部が等間隔、かつ、隣接する凹部が平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。 表面に底部が連続した溝形状である凹部が等間隔、かつ、隣接する凹部が平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。 表面に底部が連続した溝形状である凹部が等間隔ではないが、隣接する凹部が平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。 表面にブロック状の形状を有する合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。 表面に球状の形状を有する合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
(実施例1)
(1)保護層用樹脂組成物の調製
平均重合度が1700のポリビニルアルコールをn−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール(アセチル基量1モル%、ブチラール基量69モル%、水酸基量30モル%)100質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート(3GO)40質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、保護層用樹脂組成物を得た。
(2)遮音層用樹脂組成物の調製
平均重合度が2300のポリビニルアルコールをn−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール(アセチル基量12.5モル%、ブチラール基量64.5モル%、水酸基量23.0モル%)100質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート(3GO)60質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、遮音層用樹脂組成物を得た。
(3)合わせガラス用中間膜の作製
得られた保護層用樹脂組成物と、遮音層用樹脂組成物を、共押出機を用いて共押出することにより、保護層用樹脂組成物からなる厚さ350μmの第1の表面層(保護層)、遮音層用樹脂組成物からなる厚さ100μmの中間層(遮音層)及び保護層用樹脂組成物からなる厚さ350μmの第2の表面層(保護層)がこの順に積層された3層構造の積層体を得た。共押出の際の条件を以下の条件に設定することで、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により、合わせガラス用中間膜を成膜すると同時に凹凸を付与した。
即ち、メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法において、ダイ入り口の樹脂圧力を70kgf/cm、金型入り口の樹脂組成物の温度を200℃、金型の温度を210℃、金型の出口の幅を1000mm、金型の出口の幅当たりの押し出し量を300kg/hr・m、金型出口から吐出された直後の膜表面温度を200℃、金型の出口から冷却水槽までの距離を170mm、冷却水槽内の水温を10〜20℃とする条件にて、合わせガラス用中間膜を成膜すると同時に、その両面に凹凸形状を付与した。
得られた合わせガラス用中間膜の厚さは800μmであった。
(4)表面の凹凸の測定
(4−1)Ry値の測定
JIS B 0601(1994)に準じる方法により、得られた合わせガラス用中間膜の両面の最大高さ(Ry)を測定した。測定機として小坂研究所社製「Surfcorder SE300」を用い、測定時の触針計条件を、カットオフ値=2.5mm、基準長さ=2.5mm、評価長さ=12.5mm、触針の先端半径=2μm、先端角度=60°、測定速度=0.5mm/sの条件で測定を行った。測定時の環境は23℃及び30RH%下であった。触針を動かす方向は、シートの流れ方向に対して平行方向とし、幅方向に3mmピッチで5回ずらして測定したそれぞれの値の平均値を算出してRyの値とした。なお、得られたRyの値は、両面とも同じであった。
(4−2)Sm値の測定
JIS B 0601(1994)に準じる方法により、得られた合わせガラス用中間膜の両面の凸凹の平均間隔(Sm)を測定した。測定機として小坂研究所社製「Surfcorder SE300」を用い、測定時の触針計条件を、カットオフ値=2.5mm、基準長さ=2.5mm、評価長さ=12.5mm、触針の先端半径=2μm、先端角度=60°、測定速度=0.5mm/sの条件で測定を行った。測定時の環境は23℃及び30RH%下であった。触針を動かす方向は、シートの流れ方向に対して平行方向とし、幅方向に3mmピッチで5回ずらして測定したそれぞれの値の平均値を算出してSmの値とした。
なお、得られたSmの値は、両面とも同じであった。
(5)収縮率の測定
合わせガラス用中間膜を15cm×10cmの短冊上に切断して測定サンプルを得た。このとき、流れ方向が長辺となるようにした。50℃の温水中に10分間浸漬した後、表面の水分を拭き取り、23℃まで冷却した。その後、測定サンプルの流れ方向の長さを測定し、以下の式により流れ方向の収縮率を算出した。
収縮率(%)={1−(浸漬後の流れ方向の長さ)/(浸漬前の流れ方向の長さ)}×100
(実施例2〜8、比較例1〜4)
メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法による凹凸の付与条件を変更した以外は実施例1と同様にして合わせガラス用中間膜を製造し、その表面凹凸の測定及び収縮率の測定を行った。具体的には、ダイ入り口の樹脂圧力、金型入り口の樹脂組成物の温度、金型の温度、金型の出口の幅当たりの押し出し量、金型出口から吐出された直後の膜表面温度、金型の出口から冷却水槽までの距離、冷却水槽内の水温を調節した。
(評価)
実施例及び比較例で得られた合わせガラス用中間膜を、縦方向(流れ方向)15cm、横方向30cmの大きさで切断した。次いで、切断した合わせガラス用中間膜を、2枚の透明フロートガラス(縦15cm×横30cm、厚さ2.5mm)で挟み込み、240℃で3分間の予備プレス処理をすることにより、予備圧着工程を行った。その後、オートクレーブを用いて135℃、圧力1.2MPaの条件で20分間圧着することにより、本圧着工程を行い、合わせガラスを得た。
得られた合わせガラスに、光源(ハロゲンランプ)からスリットを透過させた光を当て、スクリーンに写った投影歪みをセンサー(カメラ)にて受信し、コンピュータにてデータ処理を行い、光学歪み値とした。光学歪み値が高いほど光学歪み(像のゆがみ)が大きいといえる。
以下に、光学歪み値の測定方法の詳細を述べる。特開平7−306152号公報に記載された装置、即ち、透光性を有する被検査物に向けて照明光を照射する光源ユニットと、スリットと、被検査物を透過した該照明光を投影する投影面と、投影面を撮像して濃淡画像を生成する画像入力部と、画像入力部で得られた濃淡画像の濃淡レベルのばらつきの度合いに基づいて歪みの有無を判定する画像処理部とを有する光学的歪検査装置を用いて、光学歪み値を測定した。具体的には、光源として岩崎電気社製のEYE DICHO−COOL HALOGEN(15V100W)を用い、JIS R 3211(1988)での可視光線透過率(A光Y値、A−Y(380〜780nm))が88%(日立ハイテクテクノロジー社製、「U4100」を使用)の単層膜から構成される合わせガラスの光学歪み値が1.14、ガラスなしの状態の光学歪み値が1.30になるように光源の照度、光学歪み像が投影されるスクリーンの角度、カメラの角度を調整して光学歪み値を評価した。光学歪みの評価は合わせガラス温度が25℃の条件下で行った。光学歪み値として、縦と横の値が算出されるが、数値の低い方を採用した。なお、温度計として接触式温度計を使用した。測定結果を表1及び表2に示した。
なお、光学歪み値が1.24以下であれば、合わせガラスを車両用フロントガラスとして用いたときに、信号や横断歩道のちらつきが発生しない。
Figure 0006698545
Figure 0006698545
本発明によれば、光学歪みの発生を抑えた合わせガラスを得ることができる合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜の製造方法、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
1 合わせガラス用中間膜の表面の凹凸
11 凸部
12 凹部
21 任意に選択した一の凹部
22 任意に選択した一の凹部に隣接する凹部
23 任意に選択した一の凹部に隣接する凹部
A 凹部21と凹部22との間隔
B 凹部21と凹部23との間隔

Claims (5)

  1. メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により製造された、2層以上の樹脂層が積層された積層体からなり、少なくとも一方の表面に多数の凹凸を有する合わせガラス用中間膜であって、
    前記凹凸を有する表面において、JIS B 0601(1994)に準拠して測定される最大高さRy(μm)と前記凹凸の平均間隔Sm(μm)とが下記式(1)を満たし、
    合わせガラス用中間膜を50℃の温水中に10分間浸漬した後の流れ方向の収縮率が4%以下である
    ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
    (Ry×Sm)/2≦3500 (1)
  2. 凹凸を有する表面において、JIS B 0601(1994)に準拠して測定される最大高さRy(μm)と凹凸の平均間隔Sm(μm)とが下記式(2)を満たすことを特徴とする請求項1記載の合わせガラス用中間膜。
    (Ry×Sm)/2≦2700 (2)
  3. 更に、少なくとも一方の表面に、底部が連続した溝形状を有する多数の凹部を有することを特徴とする請求項1又は2記載の合わせガラス用中間膜。
  4. 一対のガラス板と、該一対のガラス板の間に積層された請求項1、2又は3記載の合わせガラス用中間膜とを含むことを特徴とする合わせガラス。
  5. 請求項1、2又は3記載の合わせガラス用中間膜を製造する方法であって、
    メルトフラクチャーを利用した押出リップエンボス法により合わせガラス用中間膜の少なくとも一方の表面に多数の凹凸を付与する工程を含み、
    該工程において共押出機を用いて各樹脂を共押出する際に、ダイ入り口の樹脂圧力を40〜150kgf/cm、樹脂の温度を160〜250℃、金型の温度を100〜270℃、金型の出口の幅を700〜3500mm、金型の出口の幅当たりの押し出し量を130〜1700kg/hr・m、金型出口から吐出された直後の膜表面温度を170〜250℃、金型の出口から冷却水槽までの距離を10〜400mm、冷却水槽内の水温を10〜70℃の条件とする
    ことを特徴とする合わせガラス用中間膜の製造方法。
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