JP6641663B2 - Method for manufacturing glass plate and apparatus for manufacturing the same - Google Patents

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Description

本発明は、フッ化水素等の処理ガスを用いてガラス板にエッチング処理を施す工程を有するガラス板の製造方法及びその製造装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass plate having a step of etching a glass plate using a processing gas such as hydrogen fluoride and an apparatus for manufacturing the same.

周知のように、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等に代表されるフラットパネルディスプレイ(FPD)や、スマートフォン、タブレット型PC等のモバイル機器、その他の各種電子デバイス等には、種々の板厚やサイズのガラス板が組み込まれている。   As is well known, a flat panel display (FPD) represented by a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, a field emission display, a mobile device such as a smartphone and a tablet PC, and various other electronic devices include: Glass plates of various thicknesses and sizes are incorporated.

この種の最終製品たるガラス板を作り出すための元になるガラス板の製造工程では、静電気の帯電に起因する問題が生じ得る。例えば、作業台上にガラス板を置いて所定の処理を施す際には、静電気の帯電に起因してガラス板が作業面に貼り付く事態が生じ得る。そのため、所定の処理を終えたガラス板を作業台から剥離させる際には、当該ガラス板の破損を招来し得る。   In a manufacturing process of a glass sheet as a base for producing a glass sheet as a final product of this kind, a problem due to electrostatic charging may occur. For example, when a glass plate is placed on a worktable and a predetermined process is performed, a situation may occur in which the glass plate is stuck to a work surface due to electrostatic charging. Therefore, when the glass plate after the predetermined processing is peeled off from the work table, the glass plate may be damaged.

このような問題の対応策として、フッ化水素等の処理ガスをガラス板に吹き付けてエッチング処理を施し、当該ガラス板の表面を粗化させることで、上述の静電気の帯電に起因する問題を解決しようとする試みが推進されている。   As a countermeasure against such a problem, a processing gas such as hydrogen fluoride is sprayed on a glass plate to perform an etching process, and the surface of the glass plate is roughened, thereby solving the above-described problem caused by electrostatic charging. Attempts to do so are underway.

その具体例として、特許文献1によれば、一定の搬送経路に沿って搬送されるガラス板が処理空間を通過する際に、吹出しノズルから吹き出されて吸引ノズルに吸い込まれる処理ガスによって、該ガラス板の下面にエッチング処理を施すことが開示されている。   As a specific example, according to Patent Literature 1, when a glass plate conveyed along a certain conveyance path passes through a processing space, the glass plate is blown from a blowing nozzle and sucked into a suction nozzle by the processing gas. It is disclosed that an etching process is performed on the lower surface of the plate.

詳述すると、同文献に開示されたエッチング装置では、上部構成体(上側の構成部)の下面と、下部構成体(下側の構成部)の上面との相互間に、搬送中のガラス板の下面にエッチング処理を施すための処理空間が形成される。この場合、上部構成体は天板のみで形成される。一方、下部構成体は、ガラス板の搬送方向後側(搬送経路の上流側)に配置された吹出しノズルと、ガラス板の搬送方向前側(搬送経路の下流側)に配置された吸引ノズルと、この両ノズル間に介設された底板とを一体化して形成される。   More specifically, in the etching apparatus disclosed in the document, the glass plate being transported is placed between the lower surface of the upper component (upper component) and the upper surface of the lower component (lower component). A processing space for performing an etching process is formed on the lower surface of the substrate. In this case, the upper structure is formed only of the top plate. On the other hand, the lower structure includes a blowing nozzle disposed on the rear side (upstream of the transport path) of the glass plate in the transport direction, a suction nozzle disposed on the front side of the glass sheet in the transport direction (downstream of the transport path), It is formed integrally with a bottom plate interposed between the two nozzles.

国際公開第2011/105331号International Publication No. 2011/105331

ところで、特許文献1に開示されたエッチング装置は、下部構成体である吹出しノズルと底板と吸引ノズルとの各上面が面一状態とされ、この各上面は、天板の下面と平行に配列されている。そのため、下部構成体の上面と天板の下面との間に形成される処理空間の上下方向寸法は、ガラス板の搬送方向全長に亘って均一とされている。しかも、天板の下面は単一の平面であるため、処理空間の高さは、ガラス板の搬送方向全長に亘って同一とされている。   By the way, in the etching apparatus disclosed in Patent Literature 1, the upper surfaces of the blowing nozzle, the bottom plate, and the suction nozzle, which are the lower components, are flush with each other, and the respective upper surfaces are arranged in parallel with the lower surface of the top plate. ing. For this reason, the vertical dimension of the processing space formed between the upper surface of the lower structure and the lower surface of the top plate is uniform over the entire length of the glass plate in the transport direction. Moreover, since the lower surface of the top plate is a single plane, the height of the processing space is the same over the entire length of the glass plate in the transport direction.

このエッチング装置によれば、下部構成体の上面と天板の下面との間の空間、詳しくは吹出しノズルの配置領域から吸引ノズルの配置領域に亘る処理空間に、ガラス板が進入していない場合には、処理空間内に処理ガスが充満した状態となる。この状態で、処理空間にガラス板が進入した場合には、処理空間がガラス板によって上側の空間と下側の空間とに分断されるが、上側の空間では、吸引ノズルによる処理ガスの吸引を行うことができない。そのため、ガラス板の搬送方向前端部の上面が、既に充満していた処理ガスによってエッチングされるが、この処理ガスは補充されない。   According to this etching apparatus, when the glass plate does not enter the space between the upper surface of the lower structure and the lower surface of the top plate, specifically, the processing space from the arrangement region of the blow nozzle to the arrangement region of the suction nozzle. , The processing space is filled with the processing gas. In this state, when the glass plate enters the processing space, the processing space is divided into an upper space and a lower space by the glass plate. In the upper space, the suction of the processing gas by the suction nozzle is performed. Can't do it. Therefore, the upper surface of the front end of the glass sheet in the transport direction is etched by the already filled processing gas, but this processing gas is not replenished.

この場合、処理空間の高さが既述のように形成されていると、この処理ガスは、上側の空間に適量が溜められない状態になるため、ガラス板と反応しつつ短時間で減少していく。そして、ガラス板が処理空間から出ていく途中で、この処理ガスは完全に存在しなくなるため、ガラス板の搬送方向中央部がこの処理ガスによって適切にエッチングされることはない。この後、ガラス板が処理空間から出ていく際には、ガラス板の下面に吹き付けられていた処理ガスが、ガラス板の搬送方向後端から上側の空間に回り込む。そのため、ガラス板の搬送方向後端部の上面が処理ガスによってエッチングされるが、この処理ガスはガラス板の搬送方向中央部にまで流れることはない。   In this case, if the height of the processing space is formed as described above, the processing gas is reduced in a short time while reacting with the glass plate because an appropriate amount is not stored in the upper space. To go. Then, while the glass sheet is leaving the processing space, the processing gas is completely absent, so that the central portion of the glass sheet in the transport direction is not properly etched by the processing gas. Thereafter, when the glass sheet exits the processing space, the processing gas blown to the lower surface of the glass sheet flows from the rear end in the transport direction of the glass sheet to the upper space. Therefore, the upper surface of the rear end portion of the glass sheet in the transport direction is etched by the processing gas, but the processing gas does not flow to the central portion of the glass sheet in the transport direction.

以上のように、ガラス板が処理空間に進入してから出ていくまでの過程では、ガラス板の上面は、先ず搬送方向前端部がエッチングされ、搬送方向中央部は殆どエッチングされず、再び搬送方向後端部がエッチングされる。なお、ガラス板の搬送方向と直交する幅方向両端部でも、処理ガスがガラス板の上面側に回り込むが、この処理ガスもガラス板の幅方向中央部にまで流れることはない。   As described above, in the process from when the glass plate enters the processing space to when it exits, the top surface of the glass plate is first etched at the front end in the transport direction, the center portion in the transport direction is hardly etched, and the transport is performed again. The rear end in the direction is etched. At both ends in the width direction orthogonal to the transport direction of the glass sheet, the processing gas flows around the upper surface of the glass sheet, but this processing gas does not flow to the center in the width direction of the glass sheet.

したがって、ガラス板の上面は、外周部と中央部とでエッチングにバラツキが生じ、エッチング処理後におけるガラス板の高品質化を図ることが困難となる。   Therefore, the upper surface of the glass plate varies in etching between the outer peripheral portion and the central portion, and it is difficult to improve the quality of the glass plate after the etching process.

以上の観点から、本発明の課題は、処理空間でガラス板を搬送しつつその下面にエッチング処理を施す際に、ガラス板の上面についても外周部と中央部とで均一なエッチング処理が施されるようにし、エッチング処理後のガラス板の高品質化を図ることである。   In view of the above, an object of the present invention is to provide an etching process on a lower surface of a glass plate while carrying the glass plate in a processing space. And to improve the quality of the glass plate after the etching process.

上記課題を解決するために創案された本発明は、給気口及び排気口を有する下部構成体の上面と、上部構成体の下面とを対向させて配置し、対向する両面の相互間に形成される処理空間で、給気口から吹き出されて排気口に吸い込まれる処理ガスによって、水平方向に搬送されるガラス板の下面にエッチング処理を施すと共に、給気口と排気口とを、ガラス板の搬送方向に離隔して位置させたガラス板の製造方法において、処理空間は、給気口が位置する領域の高さが、排気口が位置する領域の高さよりも高いことに特徴づけられる。ここで、「水平方向に搬送されるガラス板」とは、ガラス板が非傾斜方向である水平方向に搬送される場合のみならず、ガラス板が水平面に対して上下に30°以下の角度で傾斜した方向に搬送される場合をも含む(以下、同様)。また、これらの場合におけるガラス板の姿勢は、ガラス板が搬送方向の両側方に対して非傾斜状態となる姿勢のみならず、ガラス板が搬送方向の一側方から他側方に対して30°以下の角度で傾斜状態となる姿勢をも含む(以下、同様)。   In order to solve the above-described problems, the present invention has a configuration in which an upper surface of a lower structure having an air supply port and an exhaust port and a lower surface of an upper structure are arranged to face each other, and a space is formed between the opposing surfaces. In the processing space, the lower surface of the glass plate conveyed in the horizontal direction is etched by the processing gas blown out from the air supply port and sucked into the exhaust port, and the air supply port and the exhaust port are connected to the glass plate. In the method for manufacturing a glass plate spaced apart in the transport direction, the processing space is characterized in that the height of the region where the air supply port is located is higher than the height of the region where the exhaust port is located. Here, the “horizontally conveyed glass sheet” means not only the case where the glass sheet is conveyed in the horizontal direction, which is a non-inclination direction, but also that the glass sheet is not more than 30 ° vertically with respect to the horizontal plane. This includes the case where the sheet is conveyed in an inclined direction (the same applies hereinafter). In addition, the posture of the glass plate in these cases is not limited to the posture in which the glass plate is in a non-inclined state with respect to both sides in the conveyance direction, and also the glass plate is moved from one side in the conveyance direction to the other side in the conveyance direction. Includes a posture that is inclined at an angle equal to or less than ° (the same applies hereinafter).

このような構成によれば、処理空間(詳しくは、給気口が位置する領域から排気口が位置する領域までの空間)にガラス板が進入していない場合には、給気口から上方に向かって吹き出された処理ガスは、処理空間の全域に亘って充満されつつ排気口に至る。この状態で、処理空間内にガラス板が進入して、処理空間がガラス板によって上側の空間と下側の空間に分断された場合には、上側の空間に既に充満していた処理ガスが、上側の空間に依然として十分に溜められた状態になり得る。すなわち、処理空間は、給気口が位置する領域の方が、排気口が位置する領域よりも高さが高いため、処理空間の上側の空間においては、高さが高い方の領域に十分な量の処理ガスを溜めておくことができる。加えて、高さの高い方の領域に溜められた処理ガスは、高さの低い方の領域によって外方への流れが阻止されるため、処理ガスの減量が抑制され、これによっても上側の空間に十分な量の処理ガスが溜められた状態を維持し得る。したがって、ガラス板が処理空間から出ていく途中であっても、処理ガスはガラス板の上面と反応しつつ適量が残存することになり、ガラス板の上面における搬送方向中央部が適切にエッチングされる。そして、このような態様であれば、ガラス板が処理空間から完全に抜け出るまで、上側の空間に溜められている処理ガスによって、ガラス板の上面が適切にエッチングされ得る。したがって、ガラス板が処理空間に進入してから抜け出るまでの間において、ガラス板の上面における搬送方向前端部及び後端部を含む外周部のみならず、中央部についても適切なエッチング処理が施され得る。その結果、ガラス板の上面全域に亘ってエッチング処理の均一化が図られ、ガラス板の下面が本来的に適切且つ均一なエッチング処理を受ける事と相俟って、エッチング処理後におけるガラス板の高品質化が実現する。   According to such a configuration, when the glass plate does not enter the processing space (specifically, the space from the area where the air supply port is located to the area where the exhaust port is located), the glass plate goes upward from the air supply port. The processing gas blown out reaches the exhaust port while being filled over the entire processing space. In this state, when the glass plate enters the processing space and the processing space is divided into the upper space and the lower space by the glass plate, the processing gas that has already filled the upper space, It may still be well stored in the upper space. That is, the processing space is higher in the area where the air supply port is located than in the area where the exhaust port is located. Therefore, in the space above the processing space, there is not enough space for the higher area. An amount of process gas can be stored. In addition, since the processing gas stored in the higher region is prevented from flowing outward by the lower region, the reduction of the processing gas is suppressed, and the processing gas stored in the upper region is also reduced. It is possible to maintain a state where a sufficient amount of the processing gas is stored in the space. Therefore, even when the glass plate is in the process of exiting the processing space, an appropriate amount of the processing gas remains while reacting with the upper surface of the glass plate, and the center of the upper surface of the glass plate in the transport direction is appropriately etched. You. In such a mode, the upper surface of the glass plate can be appropriately etched by the processing gas stored in the upper space until the glass plate completely comes out of the processing space. Therefore, between the time when the glass plate enters the processing space and when it exits, not only the outer peripheral portion including the front end and the rear end in the transport direction on the upper surface of the glass plate, but also the central portion is appropriately etched. obtain. As a result, the etching process is made uniform over the entire upper surface of the glass plate, and the lower surface of the glass plate is inherently subjected to an appropriate and uniform etching process. High quality is realized.

上記の方法において、給気口は、排気口よりもガラス板の搬送方向後側に位置していることが好ましい。   In the above method, the air supply port is preferably located on the rear side in the transport direction of the glass sheet with respect to the exhaust port.

このようにすれば、上述の効果を、より一層高い確率で享受することができる。   With this configuration, the above-described effect can be enjoyed with a higher probability.

以上の方法において、上部構成体の下面は、給気口が位置する領域と排気口が位置する領域との間に高低差を有する二つの平面部を備え、これら二つの平面部の内、前者の領域に対応する平面部が、後者の領域に対応する平面部よりも高い位置に形成されていることが好ましい。   In the above method, the lower surface of the upper structure includes two flat portions having a height difference between a region where the air supply port is located and a region where the exhaust port is located, and of the two flat portions, the former is used. It is preferable that the plane portion corresponding to the region is formed at a higher position than the plane portion corresponding to the latter region.

このようにすれば、処理空間でガラス板の上側の空間に存する処理ガスは、溜められる量が十分になることに加えて、二つの平面部の段差部が流通抵抗となって外方向への流れが阻止され得る。そのため、処理空間の上側の空間には、処理ガスがより一層十分に溜まり易い状態になる。したがって、処理空間の上側の空間では、ガラス板の上面全域に対する処理ガスによるエッチング処理が、より一層均一化され得る。   In this way, the processing gas existing in the space above the glass plate in the processing space becomes sufficient in amount to be stored, and in addition, the stepped portion between the two flat portions becomes a flow resistance, so that the gas flows outward. Flow may be blocked. Therefore, the processing gas is more easily accumulated in the space above the processing space. Therefore, in the space above the processing space, the etching process using the processing gas over the entire upper surface of the glass plate can be further uniformed.

以上の方法において、下部構成体の上面は、給気口が位置する領域と排気口が位置する領域との間に高低差を有しない一つの平面部を備えていることが好ましい。   In the above method, it is preferable that the upper surface of the lower structure includes one flat portion having no difference in height between a region where the air supply port is located and a region where the exhaust port is located.

このようにすれば、下部構成体の構造に大幅な改良や特殊設計を加える必要がなくなると共に、上述の上部構成体の下面が高低差を有する二つの平面部を備えるという技術的思想との組み合わせによって、処理空間の形態が好適で意義のあるものとなる。   In this way, it is not necessary to add a significant improvement or special design to the structure of the lower structure, and a combination with the technical idea that the lower surface of the above-described upper structure includes two flat portions having a height difference. This makes the form of the processing space suitable and meaningful.

以上の方法において、給気口が位置する領域の高さと、排気口が位置する領域の高さとの差が、5〜100mmであることが好ましい。   In the above method, the difference between the height of the region where the air supply port is located and the height of the region where the exhaust port is located is preferably 5 to 100 mm.

このようにすれば、処理空間でガラス板の上側の空間に存する処理ガスは、不当に減量されることなく適量が確実に溜められた状態に維持され得る。すなわち、上記の高低差が5mm未満であると、処理ガスの溜められる量が不足すると共に処理ガスの処理空間外方への流れを十分に阻止できなくなり、ガラス板の中央部を適度にエッチングできなくなるおそれがある。一方、上記の高低差が100mmを超えると、処理ガスの量に対して高い方の領域が広くなり過ぎて処理ガスの分布状態がまばらになるため、均一なエッチング処理に支障を来たすおそれがある。したがって、この場合の高低差は、上記の数値範囲内にあることが好ましい。   With this configuration, the processing gas existing in the space above the glass plate in the processing space can be maintained in a state where an appropriate amount is reliably stored without being unduly reduced. That is, if the height difference is less than 5 mm, the amount of the processing gas stored is insufficient and the flow of the processing gas to the outside of the processing space cannot be sufficiently prevented, so that the central portion of the glass plate can be appropriately etched. It may disappear. On the other hand, when the above-mentioned height difference exceeds 100 mm, the higher region with respect to the amount of the processing gas becomes too wide and the distribution state of the processing gas becomes sparse, which may hinder uniform etching. . Therefore, the height difference in this case is preferably within the above numerical range.

以上の方法において、上部構成体の下面に、水平方向に搬送されるガラス板の上面にエッチング処理を施すべく処理ガスを吹き出させる第二の給気口を形成してもよい。   In the above method, a second air supply port for blowing out a processing gas to perform an etching process on the upper surface of the glass plate conveyed in the horizontal direction may be formed on the lower surface of the upper structure.

このようにすれば、第二の給気口から下方に向かって吹き出された処理ガスによって、ガラス板の上面が全面に亘って均一で且つ十分なエッチング処理を受け得る。すなわち、第二の給気口が形成されていない場合には、エッチング処理の均一化が可能であっても、ガラス板の上面には、残存した少量の処理ガスが接触して反応するに過ぎない。しかしながら、第二の給気口からガラス板の上面に向かって処理ガスを吹き付ければ、ガラス板の上面が十分な量の処理ガスと反応するため、エッチング不足等の不具合が生じ難くなる。なお、第二の給気口から吹き出された処理ガスが、既述の排気口に吸い込まれるようにすれば、当該排気口が共用されることになり、部品点数の削減や構成の簡素化が図られる。この場合における処理ガスの排気口への吸い込みは、ガラス板の幅方向(搬送方向と直交する方向)の両端部を通じても行われ得る。   In this case, the upper surface of the glass plate can be uniformly and sufficiently etched over the entire surface by the processing gas blown downward from the second air supply port. That is, when the second air supply port is not formed, even if the etching process can be uniformized, only a small amount of the remaining processing gas contacts and reacts on the upper surface of the glass plate. Absent. However, if the processing gas is blown from the second air supply port toward the upper surface of the glass plate, the upper surface of the glass plate reacts with a sufficient amount of the processing gas, so that problems such as insufficient etching hardly occur. If the processing gas blown out from the second air supply port is sucked into the above-described exhaust port, the exhaust port is shared, and the number of parts and the configuration can be reduced. It is planned. In this case, the suction of the processing gas into the exhaust port can also be performed through both ends of the glass plate in the width direction (the direction orthogonal to the transport direction).

以上の方法において、上部構成体は、天板を有し、天板の下面と下部構成体の上面との相互間に、処理空間を形成するようにしてもよい。   In the above method, the upper structure may have a top plate, and a processing space may be formed between the lower surface of the top plate and the upper surface of the lower structure.

このようにすれば、従来から使用されている既存の装置の構成要素(既述の特許文献1参照)である天板が有効利用される。   In this way, the top plate, which is a component of an existing device that has been conventionally used (see Patent Document 1 described above), is effectively used.

この場合において、上述の天板は、ガラス板の搬送方向前側の前側天板と、搬送方向後側の後側天板とに分割されており、前側天板の下面と後側天板の下面との間に高低差が設けられていることが好ましい。   In this case, the top plate is divided into a front top plate on the front side in the transport direction of the glass plate and a rear top plate on the rear side in the transport direction, and the lower surface of the front top plate and the lower surface of the rear top plate. It is preferable that a height difference is provided between the two.

このようにすれば、既存の天板を、前側天板と後側天板とに分割して、この両者間に高低差を設けて組み付け一体化するだけで、所望の形態の処理空間を形成することができるため、構成の簡略化等が図られる。   In this way, the existing top plate is divided into a front top plate and a rear top plate, and a height difference is provided between the two to assemble and integrate them, thereby forming a processing space of a desired form. Therefore, the configuration can be simplified.

さらにこの場合において、前側天板と後側天板との分割部に、水平方向に搬送されるガラス板の上面にエッチング処理を施すべく処理ガスを吹き出させる第二の給気口を位置させてもよい。   Further, in this case, at the divided portion between the front top plate and the rear top plate, a second air supply port for blowing out a processing gas to perform an etching process on the upper surface of the glass plate conveyed in the horizontal direction is located. Is also good.

このようにすれば、第二の給気口の配設位置として、前側天板と後側天板との分割部が有効利用され、部品点数の削減や組み付け作業の容易化等が図られる。   With this configuration, the divided portion between the front top plate and the rear top plate is effectively used as the arrangement position of the second air supply port, so that the number of parts can be reduced and the assembling work can be facilitated.

以上の方法において、第二の給気口を、ガラス板の搬送方向における給気口と排気口との間に位置させることが好ましい。   In the above method, it is preferable that the second air supply port is located between the air supply port and the air exhaust port in the glass sheet conveyance direction.

このようにすれば、給気口から吹き出されて排気口に向かう処理ガスの流れ方向と、第二の給気口から吹き出されて排気口に向かう処理ガスの流れ方向とを同一方向にすることができる。これにより、処理ガスの乱流等が生じ難くなり、ガラス板の上面及び下面の全面に対して均一なエッチング処理を施す上で有利となる。   With this configuration, the flow direction of the processing gas blown out from the air supply port toward the exhaust port and the flow direction of the processing gas blown out from the second air supply port toward the exhaust port are made to be the same direction. Can be. This makes it difficult to generate a turbulent flow of the processing gas, which is advantageous in performing a uniform etching process on the entire upper surface and lower surface of the glass plate.

上記課題を解決するために創案された本発明に係る装置は、給気口及び排気口を有する下部構成体の上面と、上部構成体の下面とを対向させて配置し、対向する両面の相互間に形成される処理空間で、給気口から吹き出されて排気口に至る処理ガスによって、水平方向に搬送されるガラス板の下面にエッチング処理を施すと共に、給気口と排気口とを、ガラス板の搬送方向に離隔して位置させたガラス板の製造装置において、処理空間は、給気口が位置する領域の高さが、排気口が位置する領域の高さよりも高いことに特徴づけられる。   The device according to the present invention that has been devised to solve the above-described problem has an arrangement in which the upper surface of a lower structure having an air supply port and an exhaust port and the lower surface of an upper structure are opposed to each other. In the processing space formed between, by the processing gas blown out from the air supply port to reach the exhaust port, while etching the lower surface of the glass plate conveyed in the horizontal direction, the air supply port and the exhaust port, In the apparatus for manufacturing a glass plate which is located at a distance in the direction of transport of the glass plate, the processing space is characterized in that the height of the region where the air supply port is located is higher than the height of the region where the exhaust port is located. Can be

このガラス板の製造装置は、既述の本発明に係るガラス板の製造方法と実質的に同一の構成要件を備えている。したがって、この装置についての説明事項も、既述の方法についての説明事項と実質的に同一となるため、ここではその説明を省略する。   This apparatus for manufacturing a glass sheet has substantially the same components as the method for manufacturing a glass sheet according to the present invention described above. Therefore, the description of this apparatus is substantially the same as the description of the above-described method, and a description thereof will be omitted.

本発明によれば、処理空間でガラス板を搬送しつつその下面にエッチング処理を施す際に、ガラス板の上面についても外周部と中央部とで均一なエッチング処理が施されて、エッチング処理後のガラス板の高品質化が図られる。   According to the present invention, when the lower surface of the glass plate is etched while being transported in the processing space, the upper surface of the glass plate is also uniformly etched at the outer peripheral portion and the central portion, and after the etching process. Quality of the glass plate is improved.

本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の全体概略構成を示す縦断正面図である。1 is a vertical sectional front view showing the overall schematic configuration of a glass sheet manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の要部構成を示す拡大縦断正面図である。1 is an enlarged vertical sectional front view showing a configuration of a main part of a glass sheet manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の構成要素である給気構体及びその周辺を示す拡大縦断側面図である。1 is an enlarged vertical sectional side view showing an air supply structure which is a component of a glass sheet manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention and the periphery thereof. 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の構成要素である給気口の周辺構造を示す要部拡大縦断正面図である。It is an important section enlarged longitudinal section front view showing a peripheral structure of an air supply opening which is a component of a glass sheet manufacturing device concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の作用を示す要部拡大縦断正面図である。It is a principal part enlarged longitudinal front view which shows the effect | action of the manufacturing apparatus of the glass plate which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の作用を示す要部拡大縦断正面図である。It is a principal part enlarged longitudinal front view which shows the effect | action of the manufacturing apparatus of the glass plate which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造装置の要部構成を示す拡大縦断正面図である。It is an enlarged vertical section front view showing the important section composition of the glass sheet manufacturing device concerning a second embodiment of the present invention. 本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造装置の作用を示す要部拡大縦断正面図である。It is a principal part enlarged longitudinal front view which shows the effect | action of the manufacturing apparatus of the glass plate which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造装置の作用を示す要部拡大縦断正面図である。It is a principal part enlarged longitudinal front view which shows the effect | action of the manufacturing apparatus of the glass plate which concerns on 2nd embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態に係るガラス板の製造方法及びその製造装置について添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing a glass sheet and an apparatus for manufacturing the glass sheet according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

<第一実施形態>
先ず、本発明の第一実施形態に係るガラス板の製造装置の全体概略構成を説明する。図1は、その全体概略構成を示す縦断正面図である。なお、以下の説明に際しては、図1における紙面と直交する方向を幅方向という。同図に示すように、ガラス板の製造装置1は、搬入口2aからチャンバー2内に搬入したガラス板3を水平方向に搬送しつつ、チャンバー2内におけるガラス板3の搬送経路上に設けた処理エリア4で、処理ガス5としてのフッ化水素によりエッチング処理を施す構成とされている。そして、エッチング処理後のガラス板3は、搬出口2bからチャンバー2外に搬出される。また、このガラス板の製造装置1は、チャンバー2内外に配置された複数のローラー6によって、水平方向に一直線状に延びた搬送経路に沿ってガラス板3を搬送する構成とされている。なお、ローラー6は、搬送経路に沿う方向に複数配置されているだけでなく、幅方向にも複数配置されている(図3参照)。
<First embodiment>
First, the overall schematic configuration of the glass sheet manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a vertical sectional front view showing the overall schematic configuration. In the following description, a direction orthogonal to the plane of the paper of FIG. 1 is referred to as a width direction. As shown in the figure, the glass sheet manufacturing apparatus 1 is provided on a transfer path of the glass sheet 3 in the chamber 2 while horizontally transferring the glass sheet 3 carried into the chamber 2 from the carry-in entrance 2a. In the processing area 4, an etching process is performed by using hydrogen fluoride as the processing gas 5. Then, the glass plate 3 after the etching process is carried out of the chamber 2 from the carry-out port 2b. Further, the glass sheet manufacturing apparatus 1 is configured to transfer the glass sheet 3 along a transfer path extending linearly in a horizontal direction by a plurality of rollers 6 arranged inside and outside the chamber 2. Note that a plurality of rollers 6 are arranged not only in the direction along the transport path but also in the width direction (see FIG. 3).

チャンバー2は、その外形が幅方向に長尺な直方体状に形成され、その内部空間からの処理ガス5の流出を防止している。そして、このチャンバー2の側壁部2cに、既述の搬入口2aと搬出口2bとが形成されている。なお、チャンバー2の材質は、処理ガス5(フッ化水素)に対する耐食性に優れたポリ塩化ビニルである。   The outer shape of the chamber 2 is formed in a rectangular parallelepiped shape that is long in the width direction, and prevents the processing gas 5 from flowing out from its internal space. The above-described carry-in port 2a and carry-out port 2b are formed in the side wall 2c of the chamber 2. The material of the chamber 2 is polyvinyl chloride having excellent corrosion resistance to the processing gas 5 (hydrogen fluoride).

処理エリア4には、チャンバー2内に設置された複数のローラー6により搬送されるガラス板3に対して、処理ガス5を吹き付けることでエッチング処理を施すためのエッチング装置7が配置されている。このエッチング装置7は、チャンバー2の天井壁2dとの間に隙間8が形成されるように、チャンバー2の底部2eに設置されている。   In the processing area 4, an etching device 7 for performing an etching process by spraying a processing gas 5 on the glass plate 3 conveyed by a plurality of rollers 6 installed in the chamber 2 is arranged. The etching device 7 is installed at the bottom 2 e of the chamber 2 so that a gap 8 is formed between the etching device 7 and the ceiling wall 2 d of the chamber 2.

図2は、エッチング装置7の構成を詳細に説明するための拡大縦断正面図である。なお、以下の説明に際しては、図2における紙面と直交する方向を幅方向という。また、図2に示す矢印A方向は、ガラス板3の搬送方向であって、この矢印A方向を単に搬送方向という。したがって、図2における左側が搬送方向前側(搬送経路の下流側)であり、右側が搬送方向後側(搬送経路の上流側)である。   FIG. 2 is an enlarged vertical sectional front view for explaining the configuration of the etching apparatus 7 in detail. In the following description, the direction orthogonal to the plane of FIG. 2 is referred to as the width direction. The direction of arrow A shown in FIG. 2 is the direction in which the glass plate 3 is conveyed, and the direction of arrow A is simply called the direction of conveyance. Therefore, the left side in FIG. 2 is the front side in the transport direction (downstream side of the transport path), and the right side is the rear side in the transport direction (upstream side of the transport path).

図2に示すように、エッチング装置7は、上側に配置された上部構成体9と、下側に配置された下部構成体10とを有し、この両構成体9、10は、幅方向の両端で連結壁11によって連結一体化されている。そして、上部構成体9の下面と下部構成体10の上面との相互間に、搬送されるガラス板3の下面に対して処理ガス5によるエッチング処理を施すための処理空間12が形成されている。なお、上部構成体9及び下部構成体10の材質は、ポリ塩化ビニルである。   As shown in FIG. 2, the etching apparatus 7 has an upper structure 9 disposed on the upper side and a lower structure 10 disposed on the lower side. Both ends are connected and integrated by a connecting wall 11. A processing space 12 is formed between the lower surface of the upper structure 9 and the upper surface of the lower structure 10 for performing an etching process with the processing gas 5 on the lower surface of the glass plate 3 to be conveyed. . The material of the upper structure 9 and the lower structure 10 is polyvinyl chloride.

下部構成体10は、上面が単一の平面とされた底板13と、底板13の搬送方向後部に垂下固定された給気構体14と、底板13の搬送方向前部に垂下固定された排気構体15とから構成される。底板13の搬送方向後部には、処理空間12に通じる給気孔16が形成されると共に、給気構体14には、給気孔16に通じる給気路17が形成されている。したがって、処理ガス5を上方に導いて処理空間12に吹出させるための給気用通路18は、給気孔16と給気路17とから構成される。そして、この給気用通路18の上端開口部が、底板13の上面19に形成された給気口20となる。なお、給気孔16は、上部が絞られて通路面積が小さくされた給気小孔部16aを有し、この給気小孔部16aの上端が既述の給気口20である。   The lower structure 10 includes a bottom plate 13 having a single upper surface, an air supply structure 14 fixed to the rear of the bottom plate 13 in the conveyance direction, and an exhaust structure fixed to the front of the bottom plate 13 in the conveyance direction. 15. An air supply hole 16 communicating with the processing space 12 is formed at the rear of the bottom plate 13 in the transport direction, and an air supply passage 17 communicating with the air supply hole 16 is formed in the air supply structure 14. Therefore, the air supply passage 18 for guiding the processing gas 5 upward and blowing it out to the processing space 12 includes the air supply hole 16 and the air supply passage 17. The upper end opening of the air supply passage 18 serves as an air supply port 20 formed on the upper surface 19 of the bottom plate 13. The air supply hole 16 has an air supply small hole portion 16a whose upper part is narrowed and the passage area is reduced, and the upper end of the air supply small hole portion 16a is the above-described air supply port 20.

底板13の搬送方向前部には、処理空間12に通じる排気孔21が形成されると共に、排気構体15には、排気孔21に通じる排気路22が形成されている。したがって、処理ガス5を処理空間12から下方に吸い込んで回収するための回収用通路23は、排気孔21と排気路22とから構成される。そして、この回収用通路23の上端開口部が、底板13の上面19に形成された排気口24となる。なお、排気孔21は、上部が絞られて通路面積が小さくされた排気小孔部21aを有し、この排気小孔部21aの上端が既述の排気口24である。そして、給気路17の下端及び排気路22の下端は、チャンバー2の底壁2fに形成された貫通孔25、26をそれぞれ介してチャンバー2外の管路(図示略)に通じている。   An exhaust hole 21 communicating with the processing space 12 is formed at a front portion of the bottom plate 13 in the transport direction, and an exhaust passage 22 communicating with the exhaust hole 21 is formed in the exhaust structure 15. Therefore, the recovery passage 23 for sucking the processing gas 5 downward from the processing space 12 and recovering the same is constituted by the exhaust hole 21 and the exhaust path 22. The upper end opening of the collection passage 23 serves as an exhaust port 24 formed on the upper surface 19 of the bottom plate 13. The exhaust hole 21 has an exhaust hole 21a whose upper part is narrowed to reduce the passage area, and the upper end of the exhaust hole 21a is the above-described exhaust port 24. The lower end of the air supply passage 17 and the lower end of the exhaust passage 22 communicate with a pipe (not shown) outside the chamber 2 through through holes 25 and 26 formed in the bottom wall 2f of the chamber 2, respectively.

上部構成体9は、天板27で構成され、この天板27は、搬送方向前側の前側天板28と、搬送方向後側の後側天板29とに分割され、この分割された両天板28、29は、段差30(高低差)をもって固定一体化されている。したがって、上部構成体9の下面は、相対的に高い位置に存する後側天板29の下面31と、相対的に低い位置に存する前側天板28の下面32と、これら下面31、32に垂直な段差(段差形成面)30とからなる。そして、後側天板29の下面31が、給気口20が位置する領域の上方に形成され、前側天板28の下面32が、排気口24が位置する領域の上方に形成されている。なお、前側天板28の下面32及び後側天板29の下面31は、何れもが平面である。また、段差30を構成する垂直面も平面である。   The upper structural body 9 is composed of a top plate 27. The top plate 27 is divided into a front top plate 28 on the front side in the transport direction and a rear top plate 29 on the rear side in the transport direction. The plates 28 and 29 are fixedly integrated with a step 30 (a height difference). Therefore, the lower surface of the upper structure 9 is perpendicular to the lower surface 31 of the rear top plate 29 located at a relatively high position, the lower surface 32 of the front top plate 28 located at a relatively low position, and the lower surfaces 31 and 32. (Step forming surface) 30. The lower surface 31 of the rear top plate 29 is formed above the region where the air supply port 20 is located, and the lower surface 32 of the front top plate 28 is formed above the region where the exhaust port 24 is located. The lower surface 32 of the front top plate 28 and the lower surface 31 of the rear top plate 29 are both flat. Further, the vertical surface forming the step 30 is also a flat surface.

本実施形態では、両天板29、28の下面31、32の段差30における高低差寸法Hが、5〜100mmに設定されている。したがって、処理空間12は、給気口20が位置する領域の高さが、排気口24が位置する領域の高さよりも、上記高低差寸法Hだけ高くされている。また、給気口20は、排気口24よりも搬送方向後側に位置し、給気口20と排気口24との間における搬送方向中間部(本実施形態では、搬送方向中央部)に段差30が位置している。さらに、後側天板29及び前側天板28の両下面31、32は相互に平行であり、これら両下面31、32は底板13の上面19と平行である。加えて、これら両下面31、32及び上面19は、処理空間12に搬送されてくるガラス板3の上面3b及び下面3aと平行である。ここで、処理空間12は、厳密には、上部構成体9の下面31、32と下部構成体10の上面19との相互間における給気口20から排気口24までの搬送方向離隔範囲内に形成される空間である。   In the present embodiment, the height difference dimension H at the step 30 between the lower surfaces 31 and 32 of the top plates 29 and 28 is set to 5 to 100 mm. Therefore, in the processing space 12, the height of the region where the air supply port 20 is located is higher than the height of the region where the exhaust port 24 is located by the height difference dimension H. In addition, the air supply port 20 is located on the rear side in the transport direction from the exhaust port 24, and a step is formed at a middle part in the transport direction between the air supply port 20 and the exhaust port 24 (in the present embodiment, a central part in the transport direction). 30 are located. Further, the lower surfaces 31 and 32 of the rear top plate 29 and the front top plate 28 are parallel to each other, and the lower surfaces 31 and 32 are parallel to the upper surface 19 of the bottom plate 13. In addition, the lower surfaces 31 and 32 and the upper surface 19 are parallel to the upper surface 3b and the lower surface 3a of the glass plate 3 conveyed to the processing space 12. Here, strictly speaking, the processing space 12 is located within the separation distance in the transport direction from the air supply port 20 to the exhaust port 24 between the lower surfaces 31 and 32 of the upper structure 9 and the upper surface 19 of the lower structure 10. It is a space that is formed.

上部構成体9の搬送方向後端部すなわち後側天板29の搬送方向後端部には、後側天板29の下面31から下方に突出する凸部9aが形成されている。本実施形態では、この凸部9aは、後側天板29の搬送方向後端面に固定された端板29aの下端部である。そして、この凸部9aは、処理空間12から搬送方向後方への処理ガス5の流出を阻止するため或いはその流出の阻止を確実化するために形成される。この凸部9aの下端面の高さ位置は、前側天板28の下面32の高さ位置と同一または略同一である。なお、下部構成体10の給気構体14及び排気構体15と、上部構成体9の後側天板29及び前側天板28とには、処理ガス5による結露の発生を防止するための加熱部材33(例えば、ヒーター等)が内蔵されている。   At the rear end in the transport direction of the upper structure 9, that is, at the rear end in the transport direction of the rear top plate 29, a convex portion 9 a projecting downward from the lower surface 31 of the rear top plate 29 is formed. In the present embodiment, the projection 9a is the lower end of the end plate 29a fixed to the rear end surface of the rear top plate 29 in the transport direction. The projection 9a is formed to prevent the processing gas 5 from flowing out from the processing space 12 to the rear in the transport direction or to ensure that the processing gas 5 is prevented from flowing out. The height position of the lower end surface of the convex portion 9a is the same or substantially the same as the height position of the lower surface 32 of the front top plate 28. A heating member for preventing dew condensation due to the processing gas 5 is provided between the air supply structure 14 and the exhaust structure 15 of the lower structure 10 and the rear top plate 29 and the front top plate 28 of the upper structure 9. 33 (for example, a heater or the like) is incorporated.

図3は、給気構体14及び底板13を、給気用通路18の流れ中心軸線を含む態様で切断した拡大縦断側面図である。同図に示すように、給気用通路18は、給気構体14を構成する第一〜第四板材14a、14b、14c、14dと、底板13の搬送方向後部とからなる五層構造体の内部に形成されている。最下層に位置する第一板材14aには、この第一板材14aに処理ガス5を供給するための供給流路14aaが形成されている。そして、この第一板材14aと、その上方に積層される第二板材14bとを重ね合わせることで、供給流路14aaから供給された処理ガス5の分岐流路14baが形成される。さらに、第二板材14bと、その上方に積層される第三板材14cとを重ね合わせることで、上記の分岐流路14baをさらに枝分かれさせる分岐流路14caが形成される。第三板材14cの上方に積層される第四板材14dには、枝分かれした分岐流路14caを合流させるための空間14daが形成される。さらに、第四板材14dには、処理ガス5を通過させるための多数の貫通孔14dbが形成された多孔板14dcが取り付けられる。最上層に位置する底板13には、処理空間12に処理ガス5を吹き出させるための既述の給気小孔部16aを含む給気孔16が形成される。   FIG. 3 is an enlarged vertical sectional side view of the air supply structure 14 and the bottom plate 13 cut in a mode including a flow center axis of the air supply passage 18. As shown in the figure, the air supply passage 18 has a five-layer structure composed of first to fourth plate members 14 a, 14 b, 14 c, 14 d constituting the air supply structure 14 and a rear portion of the bottom plate 13 in the transport direction. Formed inside. A supply flow path 14aa for supplying the processing gas 5 to the first plate member 14a is formed in the first plate member 14a located at the lowermost layer. Then, the first plate member 14a and the second plate member 14b laminated thereon are overlapped to form a branch passage 14ba for the processing gas 5 supplied from the supply passage 14aa. Further, by overlapping the second plate member 14b and the third plate member 14c laminated thereon, a branch passage 14ca for further branching the branch passage 14ba is formed. A space 14da is formed in the fourth plate 14d stacked above the third plate 14c to merge the branched flow paths 14ca. Further, a perforated plate 14dc having a large number of through holes 14db for passing the processing gas 5 is attached to the fourth plate 14d. In the bottom plate 13 located on the uppermost layer, the air supply holes 16 including the above-described small air supply holes 16a for blowing the processing gas 5 into the processing space 12 are formed.

底板13の搬送方向後部に形成されている給気孔16及び給気口20と、底板13の搬送方向前部に形成されている排気孔21及び排気口24とは、いずれも幅方向に長尺なスロット状に形成される。これら給気孔16、給気口20、排気孔21、及び排気口24の幅方向寸法は、ガラス板3の幅方向寸法よりも長くされている。したがって、給気口20及び排気口24は何れも、ガラス板3の幅方向両端部の外側隙間を介して、ガラス板3の上面3bに通じている。換言すれば、ガラス板3の下側の空間(下部空間)12aは、ガラス板3の幅方向両端部の外側隙間を介して、ガラス板3の上側の空間(上部空間)12bに連通している。   The air supply hole 16 and the air supply port 20 formed at the rear of the bottom plate 13 in the conveyance direction, and the exhaust hole 21 and the gas exhaust port 24 formed at the front of the bottom plate 13 in the conveyance direction are all long in the width direction. It is formed in a simple slot shape. The width direction dimensions of these air supply holes 16, the air supply ports 20, the exhaust holes 21, and the exhaust ports 24 are longer than the width direction dimensions of the glass plate 3. Therefore, both the air supply port 20 and the exhaust port 24 communicate with the upper surface 3 b of the glass plate 3 via the outer gaps at both ends in the width direction of the glass plate 3. In other words, the lower space (lower space) 12a of the glass plate 3 communicates with the upper space (upper space) 12b of the glass plate 3 via outer gaps at both ends in the width direction of the glass plate 3. I have.

図4は、底板13に形成された給気孔16の上部を構成する給気小孔部16aの周辺構造を示す要部拡大縦断正面図である。同図に示すように、給気小孔部16aの搬送方向寸法Lは、当該給気小孔部16aの上下方向中間に位置して幅方向に複数設置されたスペーサー34によって一定寸法となるように調節されている。すなわち、本実施形態では、給気小孔部16aを含む給気孔16は、底板13を搬送方向後部で分割した各分割底板の対向端面間の隙間であって、この隙間の大きさがスペーサー34によって調整されている。   FIG. 4 is an enlarged longitudinal sectional front view of a main part showing a peripheral structure of an air supply small hole portion 16a constituting an upper portion of the air supply hole 16 formed in the bottom plate 13. As shown in the drawing, the dimension L in the transport direction of the small air supply hole 16a is made constant by a plurality of spacers 34 arranged in the width direction at the middle in the vertical direction of the small air supply hole 16a. Has been adjusted. That is, in the present embodiment, the air supply holes 16 including the small air supply holes 16a are gaps between the opposed end faces of the divided bottom plates obtained by dividing the bottom plate 13 at the rear in the transport direction. Has been adjusted by

ここで、給気小孔部16aにおける給気口20からスペーサー34までの深さ寸法Dは、10〜100mmの範囲内とすることが好ましい。この深さ寸法Dが短すぎると、スペーサー34の存在によって給気小孔部16a内の処理ガス5の流れに乱れが生じ、エッチング処理によるガラス板3の下面の粗化にむらが生じるおそれがある。これに対して、深さ寸法Dが長すぎると、給気口20の搬送方向寸法Lを微調節することが困難となる。そのため、給気口20から処理空間12への処理ガス5の供給量が過大あるいは過少となってガラス板3の下面を所望の表面粗さに粗化できないおそれがある。したがって、給気口20からスペーサー34までの深さ寸法Dは、上記の数値範囲内にあることが好ましい。   Here, it is preferable that the depth dimension D from the air supply port 20 to the spacer 34 in the small air supply hole 16a is in the range of 10 to 100 mm. If the depth D is too short, the flow of the processing gas 5 in the small air supply portion 16a may be disturbed by the presence of the spacer 34, and the lower surface of the glass plate 3 may be unevenly roughened by the etching process. is there. On the other hand, if the depth dimension D is too long, it becomes difficult to finely adjust the transport direction dimension L of the air supply port 20. Therefore, the supply amount of the processing gas 5 from the air supply port 20 to the processing space 12 may be excessively large or small, and the lower surface of the glass plate 3 may not be roughened to a desired surface roughness. Therefore, it is preferable that the depth dimension D from the air supply port 20 to the spacer 34 be within the above numerical range.

次に、以上の構成を備えたガラス板の製造装置1の作用すなわちガラス板の製造方法について説明する。   Next, the operation of the glass sheet manufacturing apparatus 1 having the above configuration, that is, a method of manufacturing a glass sheet will be described.

先ず、図2に示すように、処理空間12にガラス板3が進入していない状態の下では、処理空間12で処理ガス5が下記のように流通する。すなわち、給気用通路18に流入した処理ガス5は、給気口20から上方(鉛直上方)に向かって吹き出され、処理空間12を流れた後、排気口24に吸い込まれて、回収用通路23を通過して回収される。この場合、処理空間12で処理ガス5が流通するに際して、処理ガス5は、全体的に搬送方向前側に向かって流れようとするが、その流通経路の途中には、段差30が設けられている。この段差30が邪魔部となって、処理ガス5は、段差30の周辺において、符号Eで示すように屈曲状に方向変換を強いられ、その状態で処理ガス5は、排気口24に吸い込まれる。ここで、同図に示す矢印付きの実線は、処理ガス5の流れ方向を表わしている。   First, as shown in FIG. 2, when the glass plate 3 does not enter the processing space 12, the processing gas 5 flows in the processing space 12 as described below. That is, the processing gas 5 flowing into the air supply passage 18 is blown upward (vertically upward) from the air supply port 20, flows through the processing space 12, is sucked into the exhaust port 24, and is collected. Collected through 23. In this case, when the processing gas 5 flows in the processing space 12, the processing gas 5 tends to flow toward the front side in the transport direction as a whole, but a step 30 is provided in the middle of the flow path. . The step 30 serves as an obstruction, and the processing gas 5 is forced to change direction around the step 30 in a bent shape as indicated by reference numeral E. In this state, the processing gas 5 is sucked into the exhaust port 24. . Here, a solid line with an arrow shown in the figure represents the flow direction of the processing gas 5.

この場合、処理ガス5は、給気口20から吹き出されて排気口24に吸い込まれつつ、同図に符号J1を付した鎖線で囲まれた領域すなわち処理空間12の略全領域に、充満された状態となる。この場合、処理空間12では、給気口20が位置する領域の高さが、排気口24が位置する領域の高さよりも高いため、給気口20が位置する領域には多量の処理ガス5が充満された状態になる。そして、結果的には、処理空間12の全域に亘って、多量の処理ガス5が充満された状態になる。なお、処理空間12に充満されている処理ガス5が、処理空間12の搬送方向後端から外部に流出しようとしても、その流出は、凸部9aによって効果的に阻止される。   In this case, the processing gas 5 is blown out from the air supply port 20 and is sucked into the exhaust port 24, and is filled in a region surrounded by a chain line denoted by reference numeral J 1 in FIG. State. In this case, in the processing space 12, the height of the region where the air supply port 20 is located is higher than the height of the region where the exhaust port 24 is located. Becomes full. As a result, the entire processing space 12 is filled with a large amount of the processing gas 5. In addition, even if the processing gas 5 filled in the processing space 12 tries to flow out from the rear end of the processing space 12 in the transport direction, the outflow is effectively prevented by the projection 9a.

次に、図5に示すように、ガラス板3が処理空間12に進入してきた場合には、処理空間12がガラス板3によって下部空間12aと上部空間12bとに分断されていく。この状態の下では、上部空間12bに給気口20から処理ガス5が補充されないが、上部空間12bには、符号J2を付した鎖線で囲まれた領域に、依然として十分な量の処理ガス5が溜められた状態となる。すなわち、処理空間12は、給気口20が位置する領域の方が、排気口24が位置する領域よりも高さが高いため、処理空間12の上部空間12bにおいては、高さが高い方の領域に十分な量の処理ガス5が溜められた状態になる。しかも、上部空間12bに残存する処理ガス5は、両天板29、28の下面31、32の段差30が流通抵抗となって搬送方向前側への流れが阻止されて、処理空間12から搬送方向前側に流出することが抑制される。そのため、処理空間12の上部空間12bには、処理ガス5がより一層十分に溜まり易い状態になる。したがって、ガラス板3の上面3bにおける搬送方向前端部から中央部近傍に至る部位は、十分な量の処理ガス5によってエッチング処理が施される。   Next, as shown in FIG. 5, when the glass plate 3 enters the processing space 12, the processing space 12 is divided into the lower space 12a and the upper space 12b by the glass plate 3. In this state, the upper space 12b is not replenished with the processing gas 5 from the air supply port 20, but the upper space 12b is still filled with a sufficient amount of the processing gas 5 in a region surrounded by a dashed line denoted by J2. Is stored. That is, in the processing space 12, the region where the air supply port 20 is located is higher in height than the region where the exhaust port 24 is located. Therefore, in the upper space 12 b of the processing space 12, The region is in a state where a sufficient amount of the processing gas 5 is stored. In addition, the processing gas 5 remaining in the upper space 12b is prevented from flowing forward in the transport direction due to the flow resistance of the step 30 between the lower surfaces 31 and 32 of the top plates 29 and 28, so that the processing gas 5 flows from the processing space 12 in the transport Outflow to the front side is suppressed. Therefore, the processing gas 5 is more easily accumulated in the upper space 12b of the processing space 12. Accordingly, a portion of the upper surface 3b of the glass plate 3 from the front end in the transport direction to the vicinity of the center is subjected to an etching process with a sufficient amount of the processing gas 5.

次に、図6に示すように、処理空間12にガラス板3が搬送されることで、処理空間12をガラス板3が下部空間12aと上部空間12bとに完全に分離した場合には、処理ガス5の流れは下記のような態様となる。すなわち、下部空間12aでは、処理ガス5が、給気口20から上方に向かって吹き出され、ガラス板3の下面に沿って下流側に流れた後、排気口24に吸い込まれる。これにより、水平方向に搬送されるガラス板3の下面3aに対して適正なエッチング処理が施され、ガラス板3の下面3aは全域に亘って均一に粗化される。   Next, as shown in FIG. 6, when the glass plate 3 is transported to the processing space 12, the processing space 12 is completely separated into the lower space 12a and the upper space 12b. The flow of the gas 5 is as follows. That is, in the lower space 12 a, the processing gas 5 is blown upward from the air supply port 20, flows downstream along the lower surface of the glass plate 3, and is sucked into the exhaust port 24. Thus, the lower surface 3a of the glass plate 3 conveyed in the horizontal direction is appropriately etched, and the lower surface 3a of the glass plate 3 is uniformly roughened over the entire area.

これに対して、上部空間12bでは、給気口20から処理ガス5が補充されない。しかしながら、上部空間12bには、上述のように十分な量の処理ガス5が既に溜められていたため、ガラス板3の上面3bとの反応に伴って処理ガス5の量が減っていても、符号J3を付した鎖線で囲まれた領域に、依然として十分な量の処理ガス5が溜められた状態にある。したがって、この処理ガス5によって、ガラス板3の上面3bにおける搬送方向中央部が適切にエッチングされる。しかも、この処理ガス5は、ガラス板3が処理空間12から完全に抜け出るまで、ガラス板3の上面3bを適切にエッチングしていく。したがって、ガラス板3が処理空間12に進入してから抜け出るまでの間において、ガラス板3の上面3b全域に亘って適切なエッチング処理を施していくことになり、ガラス板3の下面3aのみならず上面3bについてもエッチング処理の均一化が図られる。   On the other hand, in the upper space 12b, the processing gas 5 is not replenished from the air supply port 20. However, since a sufficient amount of the processing gas 5 has already been stored in the upper space 12b as described above, even if the amount of the processing gas 5 is reduced due to the reaction with the upper surface 3b of the glass plate 3, the reference numeral is used. A sufficient amount of the processing gas 5 is still stored in a region surrounded by a chain line with J3. Therefore, the processing gas 5 appropriately etches the center of the upper surface 3b of the glass plate 3 in the transport direction. Moreover, the processing gas 5 appropriately etches the upper surface 3b of the glass plate 3 until the glass plate 3 completely escapes from the processing space 12. Therefore, during the period from when the glass plate 3 enters the processing space 12 to when it exits, the appropriate etching process is performed over the entire upper surface 3b of the glass plate 3, and if only the lower surface 3a of the glass plate 3 is used. Even on the upper surface 3b, the etching process can be made uniform.

以上の作用が行われる際に、両天板29、28の下面31、32の段差30の高低差寸法Hが、5mm未満であると、後側天板29の下面31の下方領域すなわち処理空間12の高さが高い方の領域に、十分な処理ガス5を溜めることが困難になる。加えて、溜められた処理ガス5が処理空間12から搬送方向前側の外方に流出することを阻止できなくなるおそれもある。そのため、ガラス板3の搬送方向中央部を適度にエッチングすることが困難になり得る。一方、上記の高低差が100mmを超えると、給気口20から吹き出される処理ガス5の量に対して、処理空間12の高い方の領域が広くなり過ぎ、処理ガス5の分布状態がまばらになるため、均一なエッチング処理に支障を来たすおそれがある。したがって、段差30の高低差寸法Hは、5〜100mmに設定されているが、以上のような事項を勘案すれば、この高低差寸法Hは、10〜70mmに設定されることが好ましく、10〜50mmに設定されることがより好ましい。そして、この段差30の高低差寸法Hの長短に応じて、段差30の搬送方向後方に向かって流出しようとする処理ガス5の流量が変化する。そこで、凸部9aが後側天板29の下面31から下方に突出する寸法の長短を、上記の段差30の高低差寸法Hに倣わせるようにすれば、処理ガス5の流出を効率良く阻止することができる。   When the above operation is performed, if the height difference H of the step 30 between the lower surfaces 31 and 32 of the top plates 29 and 28 is less than 5 mm, the lower region of the lower surface 31 of the rear top plate 29, that is, the processing space It becomes difficult to store a sufficient amount of the processing gas 5 in the higher region of the processing gas 12. In addition, there is a possibility that the stored processing gas 5 may not be prevented from flowing out of the processing space 12 to the front outside in the transport direction. Therefore, it may be difficult to appropriately etch the central portion of the glass plate 3 in the transport direction. On the other hand, if the above-mentioned height difference exceeds 100 mm, the higher region of the processing space 12 becomes too large with respect to the amount of the processing gas 5 blown out from the air supply port 20, and the distribution state of the processing gas 5 is sparse. Therefore, there is a possibility that the uniform etching process is hindered. Therefore, the height difference dimension H of the step 30 is set to 5 to 100 mm, but in consideration of the above matters, the height difference dimension H is preferably set to 10 to 70 mm, preferably 10 to 70 mm. More preferably, it is set to 5050 mm. Then, the flow rate of the processing gas 5 that is going to flow backward in the transport direction of the step 30 changes according to the length of the height difference H of the step 30. Therefore, if the length of the protrusion of the projection 9a protruding downward from the lower surface 31 of the rear top plate 29 is made to correspond to the height H of the step 30, the outflow of the processing gas 5 can be efficiently performed. Can be blocked.

なお、上記の段差30の高低差寸法Hは、底板13の上面19とガラス板3の下面3aとの上下方向離隔寸法S1に対して、0.5〜10.0の比率、好ましくは2.0〜9.0の比率となるように設定されている。また、処理空間12をガラス板3が下部空間12aと上部空間12bとに分断している状態の下で、底板13の上面19とガラス板3の下面3aとの上下方向離隔寸法S1は、前側天板28の下面32とガラス板3の下面3aとの上下方向離隔寸法S2に対して、0.5〜2.0の比率、好ましくは0.7〜1.5の比率となるように設定されている。   The height H of the step 30 is 0.5 to 10.0, preferably 2.10, with respect to the vertical separation S1 between the upper surface 19 of the bottom plate 13 and the lower surface 3a of the glass plate 3. The ratio is set so as to be 0 to 9.0. Further, under the condition that the glass plate 3 divides the processing space 12 into the lower space 12a and the upper space 12b, the vertical separation dimension S1 between the upper surface 19 of the bottom plate 13 and the lower surface 3a of the glass plate 3 is The distance S2 between the lower surface 32 of the top plate 28 and the lower surface 3a of the glass plate 3 in the vertical direction is set to a ratio of 0.5 to 2.0, preferably 0.7 to 1.5. Have been.

<第二実施形態>
次に、本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造装置(その製造方法)について説明する。なお、この第二実施形態の説明において、上記の第一実施形態で既に説明した構成要素については、参照図面に同一符号を付すことで重複する説明を省略し、ここでは第一実施形態との相違点についてのみ説明する。
<Second embodiment>
Next, a glass plate manufacturing apparatus (the manufacturing method thereof) according to the second embodiment of the present invention will be described. In the description of the second embodiment, for the components already described in the first embodiment, the same reference numerals are given to the reference drawings to omit redundant description, and here, the same components as those in the first embodiment will be described. Only the differences will be described.

図7に示すように、この第二実施形態に係るガラス板の製造装置1が、上記の第一実施形態に係るガラス板の製造装置1と相違している点は、上部構成体9が、前側天板28と後側天板29との分割部に第二の給気構体40を載置固定して構成されている点である。そして、第二の給気構体40における給気用通路41の下端開口部である第二の給気口42は、前側天板28と後側天板29との分割部に位置し、フッ化水素からなる処理ガス43を下方(鉛直下方)に向かって吹き出させる。この第二の給気口42は、後側天板29の下面31と同一高さとなるように形成されている。加えて、前側天板28と後側天板29との分割部及び第二の給気口42は、給気口20と排気口24との搬送方向中間部(本実施形態では、搬送方向中央部)に位置している。なお、第二の給気構体40は、図3に示す給気構体14を上下逆にした内部構造と実質的に同一である。   As shown in FIG. 7, the glass sheet manufacturing apparatus 1 according to the second embodiment is different from the glass sheet manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment in that the upper structure 9 is The point is that the second air supply structure 40 is mounted and fixed on a divided portion between the front top plate 28 and the rear top plate 29. The second air supply port 42, which is the lower end opening of the air supply passage 41 in the second air supply structure 40, is located at a division between the front top plate 28 and the rear top plate 29, and is fluorinated. The processing gas 43 made of hydrogen is blown downward (vertically downward). The second air supply port 42 is formed so as to be flush with the lower surface 31 of the rear top plate 29. In addition, the divided portion of the front top plate 28 and the rear top plate 29 and the second air supply port 42 are located at the intermediate portion in the conveyance direction between the air supply port 20 and the exhaust port 24 (in this embodiment, the center in the conveyance direction). Division) is located. The second air supply structure 40 has substantially the same internal structure as the air supply structure 14 shown in FIG.

このような構成によれば、図7に示すように、処理空間12にガラス板3が進入していない状態の下では、処理空間12で処理ガス5が下記のように流通する。すなわち、処理空間12において、下部構成体10の給気口20から上方に向かって吹き出された処理ガス5と、上部構成体9の第二の給気口42から下方(鉛直下方)に向かって吹き出された処理ガス43とは、何れもが、下部構成体10の排気口24に吸い込まれる。したがって、下部構成体10の給気口20からの処理ガス5の流れと、上部構成体9の第二の給気口42からの処理ガス43の流れとは、何れもが、搬送方向前側に向かう。そのため、両者の処理ガス5、43が正面衝突して乱流等を招く事態は生じない。この状態の下では、処理ガス5、43は、給気口20及び第二の給気口42から吹き出されて排気口24に吸い込まれつつ、処理空間12の略全領域に充満された状態となる。この場合には、上記の第一実施形態の場合よりも多量の処理ガス5、43が処理空間12に充満された状態となる。   According to such a configuration, as shown in FIG. 7, when the glass plate 3 does not enter the processing space 12, the processing gas 5 flows in the processing space 12 as follows. That is, in the processing space 12, the processing gas 5 blown upward from the air supply port 20 of the lower structure 10, and downward (vertically downward) from the second gas supply port 42 of the upper structure 9. All of the blown processing gas 43 is sucked into the exhaust port 24 of the lower structure 10. Therefore, both the flow of the processing gas 5 from the air supply port 20 of the lower structure 10 and the flow of the processing gas 43 from the second air supply port 42 of the upper structure 9 are directed forward in the transport direction. Heading. Therefore, there is no occurrence of a situation in which the processing gases 5 and 43 collide head-on and cause turbulence and the like. Under this state, the processing gas 5 and 43 are blown out from the air supply port 20 and the second air supply port 42 and are sucked into the exhaust port 24 while being filled in substantially the entire area of the processing space 12. Become. In this case, a larger amount of the processing gas 5 and 43 is filled in the processing space 12 than in the first embodiment.

そして、図8に示すように、ガラス板3が処理空間12に進入してきた場合には、処理空間12がガラス板3によって下部空間12aと上部空間12bとに分断されていく。この状態の下では、給気口20から下部空間12aに吹き出された処理ガス5が、ガラス板3の下面3aにエッチング処理を施した後に排気口24に吸い込まれると共に、第二の給気口42から上部空間12bに吹き出された処理ガス43が、ガラス板3の上面3bにエッチング処理を施した後に排気口24に吸い込まれる。したがって、ガラス板3の下面3aのみならず上面3bも、搬送方向前端部から中央部近傍までの部位が、処理ガス43によって均一に且つ十分にエッチングされる。   Then, as shown in FIG. 8, when the glass plate 3 enters the processing space 12, the processing space 12 is divided by the glass plate 3 into a lower space 12a and an upper space 12b. In this state, the processing gas 5 blown out from the air supply port 20 into the lower space 12a is sucked into the exhaust port 24 after performing etching on the lower surface 3a of the glass plate 3, and the second air supply port The processing gas 43 blown out from 42 into the upper space 12 b is sucked into the exhaust port 24 after performing an etching process on the upper surface 3 b of the glass plate 3. Therefore, not only the lower surface 3a but also the upper surface 3b of the glass plate 3 is uniformly and sufficiently etched by the processing gas 43 in the region from the front end in the transport direction to the vicinity of the center.

このような処理ガス5、43の流れが生じている間に、図9に示すように、ガラス板3が処理空間12を下部空間12aと上部空間12bとに完全に分離した場合には、処理ガス5、43の流れは下記のような態様となる。すなわち、下部空間12aでは、給気口20から上方に向かって吹き出された処理ガス5が、ガラス板3の下面3aに適正なエッチング処理を施した後に排気口24に吸い込まれる。これに対して、上部空間12bでは、第二の給気口42から下方に向かって吹き出された処理ガス43が、ガラス板3の上面3bに適正なエッチング処理を施した後、ガラス板3の幅方向両端部から外側隙間を通じて排気口24に吸い込まれる。したがって、この状態の下でも、ガラス板3の下面3aのみならず上面3bも、処理ガス43によって均一に且つ十分にエッチングされると共に、処理ガス43の吸い込みも適正に行われる。そして、この処理ガス43は、ガラス板3が処理空間12から完全に抜け出るまで、ガラス板3の上面3bを適切にエッチングしていく。したがって、ガラス板3が処理空間12に進入してから抜け出るまでの間において、ガラス板3の上面3b全域に亘って適切なエッチング処理を施していくことになり、ガラス板3の下面3aのみならず上面3bについてもエッチング処理の均一化が図られる。なお、このような処理ガス5、43の流れが生じることを考慮すれば、前側天板28の搬送方向前端部にも、その下面32から下方に突出する凸部(図示略)を設けることが好ましい。この場合、第二の給気口42から吹き出される処理ガス43の流量は、給気口20から吹き出される処理ガス5の流量よりも少量または多量であってもよく、或いは同量であってもよい。   When the glass plate 3 completely separates the processing space 12 into the lower space 12a and the upper space 12b as shown in FIG. 9 during the flow of the processing gases 5 and 43, the processing is performed. The flows of the gases 5 and 43 are as follows. That is, in the lower space 12a, the processing gas 5 blown upward from the air supply port 20 is sucked into the exhaust port 24 after performing an appropriate etching process on the lower surface 3a of the glass plate 3. On the other hand, in the upper space 12 b, the processing gas 43 blown downward from the second air supply port 42 performs an appropriate etching process on the upper surface 3 b of the glass plate 3, It is sucked into the exhaust port 24 from both ends in the width direction through the outer gap. Therefore, even in this state, not only the lower surface 3a but also the upper surface 3b of the glass plate 3 is uniformly and sufficiently etched by the processing gas 43, and the processing gas 43 is properly sucked. Then, the processing gas 43 appropriately etches the upper surface 3b of the glass plate 3 until the glass plate 3 completely escapes from the processing space 12. Therefore, during the period from when the glass plate 3 enters the processing space 12 to when it exits, the appropriate etching process is performed over the entire upper surface 3b of the glass plate 3, and if only the lower surface 3a of the glass plate 3 is used. Even on the upper surface 3b, the etching process can be made uniform. In consideration of such a flow of the processing gases 5 and 43, a convex portion (not shown) projecting downward from the lower surface 32 may be provided at the front end of the front top plate 28 in the transport direction. preferable. In this case, the flow rate of the processing gas 43 blown out from the second air supply port 42 may be smaller or larger than the flow rate of the processing gas 5 blown out from the air supply port 20, or may be the same. You may.

なお、以上の第一、第二実施形態では、ガラス板3の搬送方向が給気口20から排気口24に向かう方向とされているが、これとは逆に、ガラス板3の搬送方向が排気口24から給気口20に向かう方向であっても、同様にして本発明を適用することができる。   In the first and second embodiments described above, the transport direction of the glass plate 3 is the direction from the air supply port 20 to the exhaust port 24. On the contrary, the transport direction of the glass plate 3 is opposite. The present invention can be similarly applied to the direction from the exhaust port 24 to the air supply port 20.

また、以上の第一、第二実施形態では、段差(段差形成面)30は、平面からなる垂直面で構成されているが、搬送方向前側に向かって下降傾斜する傾斜面あるいは搬送方向後側に向かって下降傾斜する傾斜面であってもよく、さらには湾曲面や屈曲面であってもよい。   In the first and second embodiments described above, the step (step forming surface) 30 is formed of a vertical surface formed of a flat surface, but the inclined surface is inclined downward toward the front in the transport direction or the rear surface in the transport direction. It may be an inclined surface that is inclined downward toward, or may be a curved surface or a curved surface.

さらに、以上の第一、第二実施形態では、給気口20が位置する領域が平面部(処理空間12を形成する下部構成体10の搬送方向後部の上面)とされ、排気口24が位置する領域も平面部(処理空間12を形成する下部構成体10の搬送方向全部の上面)とされている。但し、この両者の何れか一方または双方の領域は、平面部としての機能を過度に損なわない範囲内で湾曲した湾曲面部などであってもよい。また、給気口20が位置する領域と、排気口24が位置する領域との広さは、同一であってもよいが、異なっていてもよい。   Furthermore, in the first and second embodiments described above, the region where the air supply port 20 is located is a flat portion (the upper surface of the rear in the transport direction of the lower structure 10 forming the processing space 12), and the exhaust port 24 is located at the position. The area to be formed is also a flat portion (the upper surface in the transport direction of the lower structure 10 forming the processing space 12). However, one or both of these regions may be a curved surface portion or the like that is curved within a range that does not excessively impair the function as the flat portion. Also, the area where the air supply port 20 is located and the area where the exhaust port 24 is located may be the same or different.

加えて、以上の第一、第二実施形態では、給気構体14と排気構体15とが別体とされて、搬送方向に相互に離隔して配置されているが、この両者14、15は一体化されていてもよい。   In addition, in the above-described first and second embodiments, the air supply structure 14 and the exhaust structure 15 are separated from each other and are arranged separately from each other in the transport direction. They may be integrated.

また、上記の第二実施形態では、第二の給気口42を前側天板28と後側天板29との分割部に位置させたが、分割部以外の箇所(段差30から搬送方向後側または前後側に離隔した箇所)に第二の給気口42を位置させてもよい。   Further, in the above-described second embodiment, the second air supply port 42 is located at the division between the front top plate 28 and the rear top plate 29. The second air supply port 42 may be located at a position separated from the side or the front and rear sides).

1 ガラス板の製造装置
3 ガラス板
3a ガラス板の下面
3b ガラス板の上面
3x ガラス板の搬送方向後端
5 処理ガス
9 上部構成体
10 下部構成体
12 処理空間
13 底板
14 給気構体
15 排気構体
20 給気口
24 排気口
27 天板
28 前側天板
29 後側天板
30 段差(高低差)
31 後側天板の下面
32 前側天板の下面
33 加熱部材
34 スペーサー
40 給気構体
42 第二の給気口
43 処理ガス
H 高低差寸法
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass plate manufacturing apparatus 3 Glass plate 3a Lower surface of glass plate 3b Upper surface of glass plate 3x Rear end of glass plate in transport direction 5 Processing gas 9 Upper structure 10 Lower structure 12 Processing space 13 Bottom plate 14 Supply structure 15 Exhaust structure Reference Signs List 20 air supply port 24 exhaust port 27 top plate 28 front top plate 29 rear top plate 30 step (difference in height)
31 Lower surface of the rear top plate 32 Lower surface of the front top plate 33 Heating member 34 Spacer 40 Air supply structure 42 Second air supply port 43 Processing gas H Height difference dimension

Claims (11)

給気口及び排気口を有する下部構成体の上面と、上部構成体の下面とを対向させて配置し、前記対向する両面の相互間に形成される処理空間で、前記給気口から吹き出されて前記排気口に吸い込まれる処理ガスによって、水平方向に搬送されるガラス板の下面にエッチング処理を施すと共に、前記給気口と前記排気口とを、前記ガラス板の搬送方向に離隔して位置させたガラス板の製造方法において、
前記処理空間は、前記給気口が位置する領域の高さが、前記排気口が位置する領域の高さよりも高いことを特徴とするガラス板の製造方法。
The upper surface of the lower structure having the air supply port and the exhaust port and the lower surface of the upper structure are arranged to face each other, and the processing space formed between the opposed surfaces is blown out from the air supply port. The lower surface of the glass plate transported in the horizontal direction is subjected to an etching process by the processing gas sucked into the exhaust port, and the air supply port and the exhaust port are separated from each other in the transport direction of the glass plate. In the method for producing a glass plate,
The process space is characterized in that a height of a region where the air supply port is located is higher than a height of a region where the exhaust port is located.
前記給気口は、前記排気口よりも前記ガラス板の搬送方向後側に位置していることを特徴とする請求項1に記載のガラス板の製造方法。   The method for manufacturing a glass sheet according to claim 1, wherein the air supply port is located behind the exhaust port in a conveying direction of the glass sheet. 前記上部構成体の下面は、前記給気口が位置する領域と前記排気口が位置する領域との間に高低差を有する二つの平面部を備え、これら二つの平面部の内、前者の領域に対応する平面部が、後者の領域に対応する平面部よりも高い位置に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のガラス板の製造方法。   The lower surface of the upper structure includes two plane portions having a height difference between a region where the air supply port is located and a region where the exhaust port is located, and the former region of the two plane portions. The method for manufacturing a glass sheet according to claim 1, wherein the flat portion corresponding to the first region is formed at a position higher than the flat portion corresponding to the latter region. 前記下部構成体の上面は、前記給気口が位置する領域と前記排気口が位置する領域との間に高低差を有しない一つの平面部を備えていることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のガラス板の製造方法。   The upper surface of the lower structure has one flat portion having no height difference between a region where the air supply port is located and a region where the exhaust port is located, wherein: 3. The method for producing a glass plate according to any one of 3. 前記給気口が位置する領域の高さと、前記排気口が位置する領域の高さとの差が、5〜100mmであることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のガラス板の製造方法。   The difference between the height of the region where the air supply port is located and the height of the region where the exhaust port is located is 5 to 100 mm, the glass plate according to any one of claims 1 to 4, wherein Production method. 前記上部構成体の下面に、前記水平方向に搬送されるガラス板の上面にエッチング処理を施すべく処理ガスを吹き出させる第二の給気口を形成したことを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のガラス板の製造方法。   The second air supply port for blowing out a processing gas to perform an etching process on an upper surface of the glass plate conveyed in the horizontal direction is formed on a lower surface of the upper structure, according to claim 1, wherein: The method for producing a glass plate according to any one of the above. 前記上部構成体は、天板を有し、前記天板の下面と前記下部構成体の上面との相互間に、前記処理空間を形成したことを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載のガラス板の製造方法。   The said upper structure has a top plate, The said processing space was formed between the lower surface of the said top plate and the upper surface of the said lower structure, The one in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. The method for producing a glass plate according to the above. 前記天板は、前記ガラス板の搬送方向前側の前側天板と、搬送方向後側の後側天板とに分割されており、前記前側天板の下面と前記後側天板の下面との間に高低差が設けられていることを特徴とする請求項7に記載のガラス板の製造方法。   The top plate is divided into a front top plate on the front side in the conveyance direction of the glass plate, and a rear top plate on the rear side in the conveyance direction, and a lower surface of the front top plate and a lower surface of the rear top plate. The method for manufacturing a glass sheet according to claim 7, wherein a height difference is provided between the glass sheets. 前記前側天板と前記後側天板との分割部に、前記水平方向に搬送されるガラス板の上面にエッチング処理を施すべく処理ガスを吹き出させる第二の給気口を位置させたことを特徴とする請求項8に記載のガラス板の製造方法。   In the division between the front top plate and the rear top plate, a second air supply port for blowing out a processing gas to perform an etching process on the upper surface of the glass plate conveyed in the horizontal direction is located. The method for producing a glass sheet according to claim 8, wherein: 前記第二の給気口を、前記ガラス板の搬送方向における前記給気口と前記排気口との間に位置させたことを特徴とする請求項6または9に記載のガラス板の製造方法。 Wherein the second air supply port, a manufacturing method of a glass plate according to claim 6 or 9, characterized in that is located between the air inlet and the air outlet in the conveying direction of the glass plate. 給気口及び排気口を有する下部構成体の上面と、上部構成体の下面とを対向させて配置し、前記対向する両面の相互間に形成される処理空間で、前記給気口から吹き出されて前記排気口に至る処理ガスによって、水平方向に搬送されるガラス板の下面にエッチング処理を施すと共に、前記給気口と前記排気口とを、前記ガラス板の搬送方向に離隔して位置させたガラス板の製造装置において、
前記処理空間は、前記給気口が位置する領域の高さが、前記排気口が位置する領域の高さよりも高いことを特徴とするガラス板の製造装置。
The upper surface of the lower structure having the air supply port and the exhaust port and the lower surface of the upper structure are arranged to face each other, and the processing space formed between the opposed surfaces is blown out from the air supply port. With the processing gas reaching the exhaust port, an etching process is performed on the lower surface of the glass plate transported in the horizontal direction, and the air supply port and the exhaust port are located apart from each other in the transport direction of the glass plate. Glass plate manufacturing equipment,
The apparatus for manufacturing a glass sheet, wherein the processing space has a region in which the supply port is located higher than a region in which the exhaust port is located.
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