JP6641123B2 - 位置精度管理用スライド、位置精度管理装置及び方法 - Google Patents

Description

本発明は、位置精度管理用スライド、位置精度管理装置及び方法に関する。

近年、癌罹患率が大幅な増加傾向にあるが、癌の治療に際しては、癌の性状を鑑別する病理診断が重要であって、その診断内容如何によって治療方針が決まって行くという状況がある。そのような病理診断においては、組織切片のミクロレベルの微細構造を顕微鏡により詳細に観察することが必須であり、病理医にとって、光学顕微鏡は、とりわけ重要なツールとなっている。

例えば、病理医は、顕微鏡を用いてスライドに載せられている被検体の全体を低倍率でスクリーニングして、詳細な観察が必要な個所（ＲＯＩ；Region of Interestという）が観察された顕微鏡用ステージの位置を記憶または記録しておく。そして、低倍率でのスクリーニングを終えた後、記憶または記録されているＸＹステージの位置をたよりにＲＯＩの観察位置を探し、顕微鏡を高倍率に切り替えて詳細スクリーニングあるいは診断等を行う。その際、観察位置の再現性は、顕微鏡用ステージのスケールに依存している。

一般に、電動ステージには、エンコーダー等のスケールが付いている。そのため、顕微鏡による観測時の位置・距離の較正が重要であり、そのような較正には距離のキャリブレーション用のテストターゲット（テストチャート）等が使用される。例えば、顕微鏡用テストターゲットとしては、エドモンド・オプティクス・ジャパン製のマルチキャリブレーション図票の２０〜１００Ｘ用直尺スケールなどがある。また、特許文献１には、テストターゲットとしてのスライドガラスについて記載がある。

特表平１０−５０６４７８号公報

ところが、上記のようなテストターゲットを利用して、エンコーダー出力の正確な較正をしても、スライドを戴置し直した場合、平行位置ずれ、回転位置ずれが生じる恐れがある。そして、その平行位置ずれ、回転位置ずれがあると、正確に同じＲＯＩ位置へアクセス出来ない、という問題があった。

本出願人は、サブミクロンレベルで位置情報管理可能な顕微鏡システムを提案している。このシステムでは、スライドに、顕微鏡基準で原点、ＸＹ座標軸を規定する為のマークを設け、顕微鏡側に、スライドの回転ずれ、原点位置ずれを補正する為の、顕微鏡ステージ及び撮像機構を設けている。提案の顕微鏡システムによれば、試料の平行位置ずれ、回転位置ずれがあっても、スライドに設けられた、原点、ＸＹ座標軸を規定する為のマークを顕微鏡基準の絶対的な座標系に合わせることができる。これにより、位置ずれが相殺され、絶対的な位置再現性が得られるようになる。

しかしながら、そのような顕微鏡システムを構築する場合、サブミクロンレベルでの位置制御性能を保証するため、その位置管理性能の精度を確認するための手段が必要である。また、病理医側では、病理診断で付与したエビデンス画像の位置情報が、ミクロン・サブミクロンレベルで有効であり、その精度が保証されている必要がある。その為には、病理医側での、日常業務としての位置管理性能の精度確認が必要とされる。しかしながら、現状では、上記のような目的に使用出来る位置管理性能の精度を確認する為の手段が無く、上記の位置情報の精度が損なわれる恐れがある。

本発明は、以上の課題に鑑みてなされたものであり、顕微鏡システムで使用することが可能な位置精度管理用スライドを提供することを目的とするものである。

上記の目的を達成するための本発明の一態様による位置精度管理用スライドは以下の構成を有する。すなわち、
顕微鏡用ステージのための位置精度管理用スライドであって、
スライド原点の位置を特定するための第一のマークと、
マトリクス状に配置され、各々が位置を示す第二のマークと、前記第二のマークの位置の前記スライド原点を基準とした座標値を示す位置座標コードと、を含む複数の位置表示領域と、
前記複数の位置表示領域以外の領域に、前記位置表示領域の間隔よりも小さい間隔でマトリクス状に配置された複数の第三のマークと、を有し、
前記位置座標コードは、前記位置表示領域内の異なる位置に前記第二のマークの座標値を、前記第三のマークと同じマークサイズと同じマーク間間隔で配置された複数のマークにより示す同一のパターンを２以上有している。
また、本発明の他の態様による位置精度管理用スライドは、以下の構成を有する。すなわち、
顕微鏡用ステージのための位置精度管理用スライドであって、
スライド原点の位置を特定するための第一のマークと、
マトリクス状に配置され、各々が位置を示す第二のマークと、前記第二のマークの位置の前記スライド原点を基準とした座標値を示す位置座標コードと、を含む複数の位置表示領域と、
前記複数の位置表示領域以外の領域に、前記位置表示領域の間隔よりも小さい間隔でマトリクス状に配置された複数の第三のマークと、を有し、
前記位置座標コードは、前記第二のマークのＸ座標値を同一のパターンで示す複数のＸ座標パターンと、前記第二のマークのＹ座標値を同一のパターンで示す複数のＹ座標パターンと、有し、前記複数のＸ座標パターン同士、前記複数のＹ座標パターン同士、および、前記Ｘ座標パターンと前記Ｙ座標パターン同士は、それぞれ、前記位置表示領域内の異なる位置に配置されている。

本発明によれば、顕微鏡システムで使用することが可能な位置精度管理用スライドが提供される。

第１実施形態に係る位置精度管理用スライド外観を示す図。 原点マークを有するスライドの例を示す図。 第１実施形態に係る基準マークのレイアウトを示す図。 基準マークの詳細を示す寸法図。 第１実施形態に係る位置精度の管理用領域の概要を示す図。 第１実施形態に係る位置座標の定義を説明する図。 第１実施形態に係るアドレス領域の例を示す図。 第１実施形態に係るアドレス領域の例を示す図。 第１実施形態に係るアドレス領域のレイアウト寸法を示す図。 第１実施形態に係る座標コードを説明する図。 第１実施形態に係る絶対位置アドレス領域の配置図。 第１実施形態に係るレチクルレイアウト図。 実施形態による顕微鏡システムの概要図。 原点とＸＹ座標軸設定時の画像の模式図。 第１実施形態に係る位置座標読み取り時の画像の模式図。 本発明に係るステージ到達地点のアドレス位置確認のフローチャート。 第２実施形態に係る位置精度の管理用領域のレイアウトを示す図。 第２実施形態に係るグリッド線の交叉部の拡大図。 第２実施形態に係るグリッド線のレイアウトを示す図。 第２実施形態に係るアドレス領域近傍のレイアウトを示す図。 第２実施形態に係るアドレス領域近傍のレイアウト寸法を示す図。

以下、添付の図面を参照して本発明の好適な実施形態の一例である、顕微鏡システム用テストスライド、特に、顕微鏡用ステージでの位置、スケールの精度の管理・保証に用いる位置精度管理用スライドについて説明する。

＜第１実施形態＞
図１に第１実施形態による、顕微鏡用ステージの位置精度管理のための位置精度管理用スライド１の外観を示す。日本工業規格（規格番号：JISR3703）によれば、顕微鏡用スライドガラスの外形（長さ×幅）は、標準形；７６×２６［ｍｍ］、大形；７６×５２［ｍｍ］、偏光形；４８×２８［ｍｍ］或いは４５×２６［ｍｍ］である。一方、本実施形態は、ＸＹ方向へ移動可能なステージである顕微鏡用ステージの位置管理性能確認の為の位置精度管理用スライドの提供を目的としている。また、顕微鏡のスライドホルダーで保持することができ、試料が置かれる領域の最大のものは大形スライドガラスである。よって、本実施形態では、位置精度管理用スライド１の外形サイズとして、顕微鏡用スライドガラスの大形のサイズと同じ、７６×５２［ｍｍ］としている。

また、位置精度管理用スライド１の材質には熱膨張の小さい石英が使用され、その厚さは略１ｍｍである。その中の領域には、標準スライドのフロスト領域に相当するラベルエリア２がある。また、位置精度管理用領域３は、試料やカバーガラスを載せる標準スライドのカバーガラスエリアに配置される。Ｘ方向（スライドＸ軸方向）に並ぶラベルエリア２と位置精度管理用領域３（カバーガラスエリア）との間の狭間領域に、スライド１のＹ軸方向と原点位置を特定する第１のマークが配置される。本実施形態では、第１のマークとして、Ｙ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６を含む基準マークが配置される。Ｙ軸マーク４はスライドＹ軸の方向を示し、原点マーク５はスライドＸ軸の方向を示すとともにスライドの原点位置（スライド原点）を含む。補助原点マーク６は、汚れなどにより原点マーク５を使用できなくなった場合の補助として用いられる。基準マークにおいては、Ｙ軸マーク４のＸ方向の重心位置がスライド原点のＸ座標を、原点マーク５のＹ方向の重心位置がスライド原点のＹ座標を特定する。Ｙ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６は、位置精度管理用スライド１の左端から２３ｍｍの位置、位置精度管理用スライド１の上端に配置される。また、原点マーク５と補助原点マーク６はＹ軸マーク４に対して垂直をなすようにレイアウトされている。これらのマークは遮光膜で形成されている。規格により、片端フロストが左端から最大２２ｍｍなので、２３ｍｍの位置に設定している。

ところで、前述したように、サブミクロンレベルでの位置情報管理が可能な顕微鏡システムでは、スライドに顕微鏡基準で原点、ＸＹ座標軸を規定する為のマークが設けられている。そして、顕微鏡システム側には、スライドの回転ずれ、原点位置ずれを補正出来る顕微鏡ステージ、撮像機構が設けられている。図２は、そのような顕微鏡システムで用いられる標準形の外形のスライド１１を示す図である。スライド１１には、ラベルエリア１２と試料やカバーガラスを載せるカバーガラスエリア１３があり、その中間領域に、Ｙ軸およびスライドの原点を決める、Ｙ軸マーク１４、原点マーク１５、補助原点マーク１６が設けられている。この様な基準マークの構成は、ラベルエリア１２とカバーガラスエリア１３の間の狭間の領域しか利用可能な場所が無い場合に好適である。従って、位置精度管理用スライド１（図１）のＹ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６の置かれる位置は、スライド１１（図２）のＹ軸マーク１４、原点マーク１５、補助原点マーク１６と同等である。

次に、スライドの原点について説明する。図３に示すように、Ｙ軸マーク４は、その中心線が、Ｘ軸方向のスライドの原点を示し、原点マーク５は、その中心線がＹ軸方向のスライドの原点を示すとともに、その中心線とＹ軸マーク４の中心線の交点がスライドの原点となっている。尚、以降、この交点をスライド原点７と呼び、位置精度管理用スライド１の位置原点とする。そのスライド原点７は、顕微鏡対物レンズで観測、最終的には、例えば、４０Ｘ／０．９５対物レンズのような高倍・高分解能対物レンズで観測され、決められる。その為、各マークは、最密なところは可視光波長程度の微細な構造でレイアウトしている。

図４に、Ｙ軸マーク４の幅方向のレイアウトを示す。原点マーク５、補助原点マーク６も幅方向レイアウトは同様である。図３に示しているように、目視等では、０．３ｍｍ程度の幅の線に見える。灰色部は遮光膜を表し、線の幅方向レイアウト構造は、図上、左右対称である。よって、寸法は左片側を示している。

図４に示すように、０．３１２５ｍｍ幅線は、上側図面において、左から、６２．５μｍ幅線／６２．５μｍ幅スペース／１２．５μｍ幅線／１２．５μｍスペース／１２．５μｍ幅線部（中央部）／１２．５μｍスペース／１２．５μｍ幅線／６２．５μｍスペース／６２．５μｍ幅線を含む。そして、中央の１２．５μｍ幅線部は、拡大して左下に示すように、２．５μｍ幅線部／２．５μｍスペース／２．５μｍ幅線部／２．５μｍスペース／２．５μｍ幅線を含む。さらにそれらの２．５μｍ幅線部は、拡大して、その右図に示すように、３本の０．５μｍ幅線と間の２本の０．５μｍスペースで形成されている。この可視光波長程度の微細な構造に相当する０．５μｍ幅線が本実施形態のＹ軸マーク４（原点マーク５）の最小線幅である。この中心部０．５μｍのラインアンドスペースは、２０Ｘ／０．８０や４０Ｘ／０．９５対物レンズのような高倍・高分解能対物レンズで観測測定する場合に、高精度に中心位置を決定する際に有用である。また、図で明示していないが、レチクル作成を容易にするため、本実施形態では、１２．５μｍ幅線、６２．５μｍ幅線も、０．５μｍのラインアンドスペースでレイアウトしている。

次に、位置精度管理用領域３のレイアウト構造について説明する。位置精度管理用領域３は、位置精度を管理するための、アドレス領域２１とインクリメントマーク３３が配置される領域であり、カバーガラスエリアに配置される。アドレス領域２１には、図７により後述するように、アドレス領域内の特定の位置を示すための第二のマークと、第二のマークにより特定される位置に関する位置情報が記録されている。本実施形態では、図５（ａ）に示すように、位置精度管理用領域３を第１領域５０１〜第４領域５０４の４つの部分領域に分割している。第１領域５０１の大きさは２５ｍｍ×２５ｍｍ、第２領域５０２の大きさは２５ｍｍ×２５ｍｍ、第３領域５０３の大きさは２４ｍｍ×２５ｍｍ、第４領域５０４の大きさは２４ｍｍ×２５ｍｍである。各分割領域には、スライド原点７を基準とした位置座標を特定するための情報を有する、位置表示領域としてのアドレス領域２１（大きさは□２０μｍ）が、Ｘ方向、Ｙ方向とも０．１ｍｍ毎（１００μｍ毎）に、マトリクス状に配置されている。なお、アドレス領域２１の配置の間隔は、Ｘ方向とＹ方向とで異なっていてもかまわない。すなわち、アドレス領域２１は、Ｘ方向に第１の所定間隔で、Ｙ方向に第２の所定間隔で並んでおり、第１の所定間隔と第２の所定間隔は等しくても、等しくなくてもよい。図５（ｂ）は、第１領域５０１の左上端部を拡大して示した図であり、アドレス領域２１は白抜きの矩形で表している。また、図５（ｂ）で、第１領域５０１のアドレス領域２１以外の領域（位置表示領域以外の領域）には、第三のマークとして、□０．５μｍの大きさの微小マークであるインクリメントマーク３３がピッチ１．０μｍで配置されている。

次に、図６を参照して、本実施形態の位置精度管理用スライド１における座標を説明する。図６（ａ）に原点マーク５と第１領域５０１の左上端近傍との位置関係を示す。図６（ａ）に示されるように、第１領域５０１がスライド原点７基準でＹ方向、紙面上方向に１ｍｍ飛び出している。また、第１領域５０１の左端は、スライド原点７からＸ方向に３ｍｍの位置にある。従って、第１領域５０１のアドレス領域２１の存在範囲は、図５に示されている第１領域５０１の寸法値から、スライド原点７基準で、０．１ｍｍ刻みで考えて、
Ｘ： ３．０〜２７．９、Ｙ： −１．０〜２３．９
となる。ここで、第１領域５０１と第２領域５０２、第３領域５０３との境界は、それぞれ第２領域５０２と第３領域５０３に属する。

同様にして、第２領域５０２は、
Ｘ： ３．０〜２７．９、Ｙ： ２４．０〜４９．０
第３領域５０３は、
Ｘ： ２８．０〜５２．０、Ｙ： −１．０〜２３．９
第４領域５０４は、
Ｘ： ２８．０〜５２．０、Ｙ： ２４．０〜４９．０
となっている。

なお、第２領域５０２および第３領域５０３と第４領域５０４との境界は、それぞれ第４領域５０４に属する。また、第１領域５０１と第３領域５０３のＹ値の−１．０〜−０．１に関しては、上記の第１領域５０１、第３領域５０３の値の続きの、２４．０から２４．９までを当てる。こうすることで、後述する位置座標のコード化を簡便にしている。

図６（ｂ）に第１領域５０１〜第４領域５０４の各領域の基準点（領域の原点）を示す。点２２、２３、２４、２５は、それぞれ、第１領域５０１〜第４領域５０４の原点である。原点のＸ位置は、第１領域５０１〜第４領域５０４の各領域の左端である。また、原点のＹ位置に関しては、第１領域５０１と第３領域５０３では、スライド原点７に並ぶ上端から１ｍｍの位置、第２領域５０２、第４領域５０４に関しては各領域の上端としている。

そこで、各領域で基準点を原点とすると、上述の各領域の位置座標は、
第１領域５１０では、
Ｘ： ０．０〜２４．９、Ｙ： ０．０〜２４．９
第２領域５０２では、
Ｘ： ０．０〜２４．９、Ｙ： ０．０〜２５．０
第３領域５０３では、
Ｘ： ０．０〜２４．０、Ｙ： ０．０〜２４．９
第４領域５０４は、
Ｘ： ０．０〜２４．０、Ｙ： ０．０〜２５．０
となる。これらの座標を相対位置座標と呼ぶ。

以上に基づき、各領域の原点は、スライド原点を基準とした絶対位置座標で表し、その他は相対位置座標で表すものとしてまとめると、以下のようになる。
第１領域５０１ 原点絶対座標：（３．０、０．０）
相対座標：（０．０、０．０）を除き、Ｘ座標＝０．０〜２４．９、Ｙ座標＝０．０〜２４．９
第２領域５０２ 原点絶対座標：（３．０、２４．０）
相対座標：（０．０、０．０）を除き、Ｘ座標＝０．０〜２４．９、Ｙ座標＝０．０〜２４．９
第３領域５０３ 原点絶対座標：（２８．０、０．０）
相対座標：（０．０、０．０）を除き、Ｘ座標＝０．０〜２３．９、Ｙ座標＝０．０〜２４．９
第４領域５０４ 原点絶対座標：（２８．０、２４．０）
相対座標：（０．０、０．０）を除き、Ｘ座標＝０．０〜２３．９、Ｙ座標＝０．０〜２４．９。

以上のように、領域を分割し、その中でスライド原点７と関連付けられた原点を設けると、所定の位置にアクセスし原点に復帰する際に、スライドの原点マーク５まで戻らず、各領域の絶対座標を有する原点に戻れば良いことになる。従って、アクセス時間短縮という利点が期待される。

図７を用いてさらに詳細に説明する。図７は、図６の第１領域５０１の原点、すなわち点２２の近傍の拡大図である。図７に示されるように、点２２の近傍には、アドレス領域２１と、複数のインクリメントマーク３３からなる領域とが形成されている。アドレス領域２１には、特定の位置を示すための第二のマークとしての、十字線の交点により位置を表す位置マーク３１と、該位置のスライド原点を基準とした座標を特定するための、位置情報としての位置座標コード３２が含まれている。なお、インクリメントマーク領域３４については一部が図示されている。図中、灰色部が、遮光膜があるところである。位置座標コード３２では、説明の為、遮光膜無しの場合が白抜きの矩形で示されている。各部分領域に配置されたアドレス領域２１のうち、位置マーク３１が上述した原点位置にあるアドレス領域２１の位置座標コード３２は、スライド原点７を基準とした座標（絶対位置座標）を示す。また、各部分領域に配置された複数のアドレス領域２１の、位置マーク３１が原点位置以外を示すアドレス領域における位置座標コードは、そのアドレス領域２１が属する部分領域の原点位置を基準とした座標（相対位置座標）を示す。

図８に、他の、位置マーク３１と位置座標コード３２とを含むアドレス領域２１の、拡大図を示す。図８では、第１領域５０１における特徴的なアドレス領域２１のレイアウトが示されており、図８（ａ）は座標（０．１、２４．０）、図８（ｂ）は座標（０．０、２４．１）、図８（ｃ）は座標（０．１、２４．１）のアドレス領域近傍を例示している。

ここで、アドレス領域２１について詳しく説明する。図９にアドレス領域２１の寸法的レイアウトを示す。位置マーク３１は、０．５μｍ幅線で構成された長さ１２μｍのＸ方向線３５、長さ１３μｍのＹ方向線３６をクロスさせている。そして、Ｘ方向線３５とＹ方向線３６の交点（以降、位置マーク交点３７と呼ぶ）が、絶対位置座標、或いは相対位置座標（ＸＸ．Ｘ、ＹＹ．Ｙ）［ｍｍ］を示すようにしている。

位置マーク３１、位置座標コード３２、及びインクリメントマーク領域３４の間は、所定のスペースを設けている。位置マーク交点３７とインクリメントマーク３３の最短距離は、ＸＹ方向ともに１０μｍ、位置マーク３１と位置座標コード３２との最短距離は、Ｘ方向に４μｍ、Ｙ方向に３．５μｍである。また、位置座標コード３２とインクリメントマーク３３の最短距離は、Ｘ方向に４μｍ、Ｙ方向に３．５μｍとしている。これにより、画像の取得・処理時のエラー発生を抑えられるようになっている。インクリメントマーク３３は、図示するように、矩形で、サイズは□０．５μｍ、ピッチは１．０μｍで配置されている。

次に、位置座標コード３２について説明する。図１０（ａ）に示すように、（ＸＸ．Ｘ、ＹＹ．Ｙ）［ｍｍ］のＸ座標を表すコードが、Ｘ方向線３５を挟んで、Ｙ方向線３６の左側に配されている。これらのコードは、同一のコードであり、同一のＸ座標値を表す。同様にＹ座標を表すコードが、Ｘ方向線３５を挟んでＹ方向線３６の右側に配されている。これらのコードは、同一のコードであり、同一のＹ座標値を表す。汚れや傷などに対する耐性を向上させるために、位置座標コード３２として、同じ座標値を示すパターンが２組以上配置されるようにしている。なお、本実施形態では座標値を示すパターンを２組配置しているが、３組以上を配置するようにしてもよい。

また、図１０（ｂ）に示すように、位置を表すコード、即ち、Ｘ座標値ＸＸ．Ｘ、Ｙ座標値ＹＹ．Ｙの各桁の数値（ｍｍ表示で、１０の桁、１の桁、小数点以下第１位の桁）は、Ｙ軸に沿って、図示するように、２進法でαβγδと並べている。黒い矩形（マーク有り）を１、白い矩形（マーク無し）を０として、数値をＡで代表すると、
Ａ＝８α+４β+２γ+δ
となる。以上のマークやコードの配置は上記例に限られるものではなく、例えば、Ｘ座標値とＹ座標値を入れ替えても良いし、また、Ｘ座標値Ｙ座標値それぞれ、位置マーク交点３７を挟んで配置されても良い。さらに、αβγδの並びも、Ｘ方向線３５、Ｙ方向線３６、或いは、位置マーク交点３７に対して鏡面対称に配置しても良い。尚、本実施形態では、コードを表すマークは、インクリメントマーク３３と同じサイズ、同じマーク間間隔としている（白い矩形も同じと見做している。）。また、位置を表すコードは、本実施形態に限定されるものではなく、ＱＲコード（登録商標）等でも良いし、コードではなくてマイクロ文字でも良い。

次に、位置精度管理用スライド１の製法について説明する。位置精度管理用スライド１に配されるパターンは、縮小投影型露光装置によりレチクルパターンを投影露光することにより形成される。図１１は、投影露光により位置精度管理用スライド１状に形成されるパターンを説明する図である。投影露光により形成されるパターンは、Ｙ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６、第１領域５０１〜第４領域５０４の各領域（アドレス領域２１とインクリメントマーク領域３４を含む）である。なお、各領域のアドレス領域２１のうち、原点位置にあるアドレス領域は絶対位置アドレス領域である。図１１では、第１領域５０１の絶対位置アドレス領域２６、第２領域５０２の絶対位置アドレス領域２７、第３領域５０３の絶対位置アドレス領域２８、第４領域の絶対位置アドレス領域２９が示されている。

図１２は、マスクとなるレチクルを示している。図１２（ａ）は、図１１のＹ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６と、分割された４つの領域の中の絶対位置アドレス領域２６〜２９に対応するレチクルを示す。Ｙ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６に対応してレチクル領域４１が設けられている。また、絶対位置アドレス領域２６〜２９に対応して、レチクル領域４２〜４５がそれぞれ設けられている。図１２（ｂ）は、第１領域５０１〜第４領域５０４に共通の、絶対位置アドレス領域以外の領域（相対位置アドレス領域とアドレス領域間に配しているインクリメントマーク領域）に相当するパターンからなるレチクルである。

縮小投影型露光装置では、レチクルのパターンを投影レンズにより４分の１から５分の１に縮小して投影露光する。本実施形態では４分の１縮小露光を採用している。従って、マスクとなるレチクルのパターンは、図１１で図示されているパターンの４倍となる。図１１のパターンの形成は、図１２（ａ）、図１２（ｂ）を順次用いて多重露光を行うことによりなされる。第１領域５０１と第３領域５０３の上端１ｍｍ幅の領域は、図１２（ｂ）のレチクルの下端部を用いて露光される。結果、本実施形態の位置精度管理用スライド１のパターンを形成するために必要なレチクルは、図１２（ａ）、（ｂ）に示される２枚のレチクルとなる。

他方、位置精度管理用領域３のアドレス領域が全て絶対位置座標である場合、或いは、位置精度管理用領域３の何処かの１点を原点として絶対位置座標を宛てて他はそれを基準とした相対位置座標である場合を考える。この場合、レチクルは、Ｙ軸マーク４、原点マーク５、補助原点マーク６に対応する１枚と、位置精度管理用領域３に対応するレチクルが必要である。ところが、レチクルサイズは、一般に、□１３２ｍｍ×１３２ｍｍ程度であり、本実施形態の位置精度管理用領域３は□４９ｍｍ×５０ｍｍである。４分の１縮小露光を想定すると、□１９６ｍｍ×２００ｍｍ程度のレチクルサイズが最低必要であり、位置精度管理用領域３のために少なくとも４枚以上のレチクルが必要となる。結果、合計、少なくとも５枚のレチクルが必要となる。一般に、レチクルは高価な電子ビーム露光装置を使用してパターニングを行うので、レチクル枚数の多寡が、製作品コストに影響する。

従って、本第１実施形態によれば、前述したように、レチクル枚数が５枚から２枚へ減らせるので、製作品コストを抑えることが可能となっている。このことが、位置精度管理用領域３を４領域に分割した理由の一つであり、上述した「アクセス時間短縮」に加わる第２の利点である。

次に、本実施形態の位置精度管理用スライド１の利用方法・使用方法について説明する。図１３は、本実施形態による位置情報管理が可能な顕微鏡システムの概要を示す。

顕微鏡システム５１は、鏡基５２を土台として、照明光源５３、照明光学系５４、ＸＹＺステージ５５、対物レンズ５８、接眼レンズ５９、光学アダプタ６０等が装着された透過顕微鏡である。対物レンズ５８からの像は拡大観察するための接眼レンズ５９へ導かれてユーザにより観察される。また、光学アダプタ６０は、接眼レンズ５９へ向かわない、対物レンズ５８からの像を拡大し、デジタルカメラ６１のセンサー上に結像させる。

ＸＹＺステージ５５は、内部スケール（エンコーダー）を用いた電動モードと、ＸＹつまみ５６、Ｚつまみ５７を用いた手動モードで、載置されているスライド６２をＸＹＺ方向へ移動する。また、対物レンズ５８の光軸を基準とした、デジタルカメラ６１のセンサー中心位置、画素配列と厳密に合致するように、ＸＹＺステージ５５の原点、ＸＹ軸が設定され、その稼働方向は、該ＸＹ軸に沿うように、調整されている。さらに、その上には、スライド６２の回転を調整できる機構（明示されない）を有している。たとえば、図２に例示されているスライド１１のようにスライド６２に原点やＸ軸またはＹ軸がある場合、それらの原点、ＸＹ軸は、顕微鏡システム５１の原点・座標軸に厳密に調整されるようになっている。

光学アダプタ６０は、本実施形態では、結像倍率を対物レンズ倍率の２．５倍にするレンズが入っている。デジタルカメラ６１のセンサーは、２４ｍｍ×３６ｍｍのフルサイズで、顕微鏡の結像性能良好視野がφ１８ｍｍ程度以下なので、デジタルカメラ６１のセンサー上の像性能を、余裕を持ってカバーするために、２．５倍程度が一般的である。また、光学アダプタ６０は、鏡基５２を基準としたＸＹ座標軸と画素配列を一致させるための、カメラ回転機構も有している。

以上のような顕微鏡システム５１に於いて、以下、ＸＹＺステージ５５の電動モードでの、位置精度管理フローについて説明する。顕微鏡システム５１は、ＰＣ（パーソナルコンピュータ）等の情報処理装置１３００と接続され、情報処理装置１３００の制御下で動作する。情報処理装置１３００において、ＣＰＵ１３０１はＲＯＭ１３０２に格納されているプログラムを実行することにより、顕微鏡システム５１の動作を制御する。ＲＯＭ１３０２は読み出し専用メモリであり、ＣＰＵ１３０１が実行する各種プログラムを格納する。ＲＡＭ１３０３は随時に読み書きが可能なメモリであり、ＣＰＵ１３０１のワークメモリとして動作する。二次記憶装置１３０４はハードディスク等の大容量の記憶媒体である。

カメラインターフェース１３１０は情報処理装置１３００とデジタルカメラ６１を通信可能に接続する。アダプタインターフェース１３１１は、光学アダプタ６０と情報処理装置１３００を接続し、ＣＰＵ１３０１による光学アダプタ６０の制御を実現する。ステージインターフェース１３１２は、ＸＹＺステージ５５と情報処理装置１３００を接続し、ＣＰＵ１３０１によるＸＹＺステージ５５の駆動を実現する。各インターフェースは、たとえばＵＳＢ等により実現することができる。以下、デジタルカメラ６１のセンサーの画素配列と鏡基５２を基準としたＸＹ座標軸を合致させてあることを前提に説明を行う。

先ず、スライド６２に代わりに位置精度管理用スライド１を載せる。そして、前述の回転調整機構を用いて、図１４（ａ）に示すように、Ｙ軸マーク４をデジタルカメラ６１のセンサー６３のＹ方向（画素のＹ方向配列）に合わせる。その後、ＸＹＺステージ５５のＸ方向並進位置制御によりセンサー６３の中心６４（仮想的に十字マークで示す）にＹ軸マーク４の中心位置を合わせる。図１４（ａ）は、４０倍対物レンズ、２．５倍アダプタレンズの使用時の様子を示す。図１４（ｂ）は、図１４（ａ）の像をデジタルズームにより１０倍に拡大した場合の模式図であり、見えているマーク幅は、０．５μｍである。近年のフルサイズセンサーの画素サイズは、７μｍ程度であり、対物レンズで４０倍、アダプタレンズで２．５倍、合わせて１００倍となり、０．５μｍ幅は、センサー６３上で５０μｍ幅となる。図１４（ｂ）の０．５μｍ幅のマークに対して幅方向で、約７個のセンサー画素が対応する。こうして、図１４（ｂ）の画像の画素毎の情報から、０．０７μｍ以下の誤差精度でＸ方向の重心位置が求まり、Ｙ軸マーク４のＸ方向の中心位置とセンサー６３の中心６４を一致させることができる。

次に、ＸＹＺステージ５５を駆動して原点マーク５に移動し、そのＹ方向並進位置制御により中心マークの重心位置が、センサー６３の中心６４になるように設定する。図１４（ｃ）は、原点マーク５とセンサー６３の関係を示している。図１４（ｄ）は、デジタルズームにより、さらに１０倍した拡大図である。こうして、位置精度管理用スライド１の原点マーク５とＹ軸マーク４のセンターが決定され、その時のＸＹＺステージ５５の座標読み値（エンコーダー出力から算出される位置座標値）が位置精度管理用スライド１の原点（０、０）に設定される。こうして、結果的に顕微鏡システム５１のＸＹ座標軸の原点と位置精度管理用スライド１の原点位置とが合致するように設定される。

次に、指定された移動先アドレスへ向け、ＸＹＺステージ５５を移動させた場合について説明する。位置制御によりＸＹＺステージ５５を移動させると、デジタルカメラ６１から例えば、図１５（ａ）のような画像が得られる。センサー６３の中心６４の近傍を拡大すると、図１５（ｂ）のように見え、アドレス領域が確認出来る。アドレスを読むために、デジタルズームによりに拡大して、センサー６３の中心６４に最も近いアドレス領域２１（位置マーク３１と位置座標コード３２）を見ると図１５（ｃ）のようになる。また、センサー６３の中心６４の近傍は図１５（ｄ）のようになる。２０Ｘ／０．８０対物レンズでも、パターンは、図示されているように分解して観測出来る。

まず、図１５（ｃ）に示されるアドレス領域２１の位置座標コード３２を読む。すると、本例の場合、（１８．０、０６．０）と読める。たとえば、指定された移動先アドレスが位置精度管理用領域３の第４領域５０４（原点の絶対位置アドレスが（２８．０、２５．０））である。この場合、図１５（ｃ）のアドレス領域２１から得られた相対位置（１８．０、０６．０）と合わせて、中心６４が絶対位置（４６．０、３１．０）の近傍にあることが分かる。

さらに、位置マーク交点３７を起点に、Ｘ方向に、インクリメントマーク３３の列をカウント、Ｙ方向に、インクリメントマーク３３の行をカウントする。図１５（ｃ）に示される最短インクリメントマーク（点Ａ）までの距離は、図９で説明したようにＸ、Ｙ方向とも１０μｍなので、そのカウント値はＸ方向、Ｙ方向ともに１０とする。また、本例の場合は、図１５（ｄ）に示すように、点Ａよりセンサー６３の中心６４までのカウント数は、Ｘ、Ｙ方向ともそのカウント値は１０である。よって、合計のカウント値は、Ｘ、Ｙ方向とも２０となり、ＸＹ座標換算すると（０．０２、０．０２）となる。結果、ＸＹＺステージ５５の位置は、先の（４６．０、３１．０）と合わせて、絶対位置（４６．０２、３１．０２）となり、その位置に制御されたことになる。もし、センサー６３の中心６４がインクリメントマークとインクリメントマークの間にある場合は、その位置を内挿して算出する。これにより、ｎｍオーダーの位置確認が出来る。

ここで、顕微鏡システム構築初期には、ＸＹＺステージ５５に組み込まれたエンコーダー（図示せず）の性能によっては、指定先と座標読み値の誤差があることも考えられる。その場合は、移動距離（エンコーダー読み値）と位置精度管理用スライド１を用いた上述の位置確認により得られた誤差値との関係を不図示のメモリに保持し、ＸＹＺステージ５５の移動量を補正するようにしてもよい。

一方、病理医等のユーザ側では、始業にあたっての、ＸＹＺステージ５５の位置管理性能の精度確認する等に、上述の位置確認を利用することができる。例えば、所定位置、所定回数でのテストで、その結果が所定誤差、例えば、±０．５μｍ未満であれば、顕微鏡システムの位置制御に問題無しとみなす、というような確認作業がなされる。さらに、インクリメントマーク３３のピッチは厳密に１μｍなので、新規使用時、或いは対物レンズ５８を改めた後などに、そのピッチをサイズのキャリブレーションに使用することも出来る。

以上のような精度確認等で、ＸＹＺステージ５５の到達地点のアドレス位置確認（アドレス再生）について、フローチャートで説明する。図１６にステージ到達地点のアドレス位置確認のフローチャートを示す。移動指定に基づくＸＹＺステージ５５が終えているものとする。また、ＸＹＺステージ５５の位置管理性能は、誤差±２５μｍ以内で、ＸＹＺステージ５５が移動先した場合のセンサー中心に最近のアドレス領域２１が隣になることは無いものとする。

ステップＳ１０１において、ＣＰＵ１３０１は、デジタルカメラ６１により撮影された画像（顕微鏡画像）から位置精度管理用スライド１のスライド原点７を検出する。そして、ＣＰＵ１３０１は、検出されたスライド原点７にデジタルカメラのセンサーの中心が一致するようにステージを移動する。ステップＳ１０２において、ＣＰＵ１３０１は、ＸＹ方向の移動量を指示してステージを移動させる。たとえば、ＣＰＵ１３０１は、スライド原点７を基準として指定された移動先（Ｘ，Ｙ）へＸＹＺステージ５５を移動させる。ステップＳ１０３において、ＣＰＵ１３０１は、デジタルカメラ６１から画像を取得する。すなわち、ＣＰＵ１３０１は、位置精度管理用スライドの顕微鏡画像を撮影し、取得する。この処理により、たとえば、１５（ａ）のような画像（顕微鏡画像）が取得され、画像中心が、センサー６３（デジタルカメラ６１の撮像素子）の中心６４となる。次に、ステップＳ１０４において、ＣＰＵ１３０１は、画像中心近傍のアドレス領域２１における位置マーク３１、位置マーク交点３７および位置座標コード３２（図１５（ｃ））と、インクリメントマーク３３（図１５（ｃ）、図１５（ｄ））を検出する。

次に、ステップＳ１０５〜Ｓ１１３により、ＸＹＺステージ５５の移動後にステップＳ１０１で撮影された顕微鏡画像に含まれているアドレス領域２１とインクリメントマーク３３に基づいて、顕微鏡画像の特定の位置における座標値を取得する。本実施形態では、顕微鏡画像の中心（デジタルカメラ６１のセンサ中心）における座標値が取得される。以下、具体的に説明する。まず、ステップＳ１０５において、ＣＰＵ１３０１は、ステップＳ１０４で検出された座標コードより、図１０を用いて説明したようにＸＹの座標位置を復号し、（Xrel、Yrel）とする。ごく稀な場合に、画像中心の最近傍のアドレス領域が原点（絶対位置アドレス領域）となる場合もあるが、通常は、相対位置アドレス領域である。さらに、ステップＳ１０６において、ＣＰＵ１３０１は、位置マーク交点３７から画像中心位置（図１５（ｄ）の十字マーク相当）に最も近いインクリメントマーク３３までのインクリメントマーク３３の数をカウントし、（Xinc、Yinc）とする。図１５（ｄ）の例では、Ｘ方向、Ｙ方向とも１０個で（１０、１０）あった。

ここで、図１５（ｄ）では、画像中心とインクリメントマーク３３が合致しているが、それらがずれている場合もある。その場合、ステップＳ１０７において、ＣＰＵ１３０１は、たとえば以下のように、内挿して画像中心の位置を求める。図１５（ｅ）に示されるように、中心６４を囲む４つのインクリメントマーク３３のうち、中心６４に最も近いインクリメントマークＡと、インクリメントマークＡと隣接するインクリメントマークＢ，Ｃを抽出し、画像中心との距離を画像ピクセル基準で測定する。インクリメントマークＡ迄の距離を（xa、ya）、インクリメントマークＢまでの距離を（xb、yb）、インクリメントマークＣまでの距離を（xc、yc）、インクリメントマーク３３のピッチをpとする。すると、最近のインクリメントマーク３３から画像中心までのＸ方向、Ｙ方向の距離（ΔXinc、ΔYinc）は、以下のように表される。なお、本実施形態の場合、p＝１μｍである。
Ｘ方向： ΔXinc＝−xa／（xa＋xb）・p
Ｙ方向： ΔYinc＝−ya／（ya＋yc）・p

次に、図６等で示されている、Ｙ値が負の領域について対処する為に、ステップＳ１０８で、ＣＰＵ１３０１は、指定移動先のＹ値が０以上か否かを判定する。Ｙ値が負の領域である場合（Ｙ値が０未満の場合）、処理はステップＳ１０９へ進み、ＣＰＵ１３０１はステップＳ１０３で算出したYrelをYrel−２５．０で置き換える。Ｙ値が０以上の場合は、処理はステップＳ１０９経ずにステップＳ１１０へ進む。

ステップＳ１１０において、ＣＰＵ１３０１は、指定された移動先が、第１領域５０１〜第４領域５０４のいずれであるかを判断する。指定先と領域との関係を以下に示す（アドレス領域は０．1ｍｍ毎に設けられているので、０．１ｍｍ刻みまでの有効数値を考慮している）。
３．０≦Ｘ≦２７．９かつ−１．０≦Ｙ≦２３．９の場合：第１領域５０１
３．０≦Ｘ≦２７．９かつ２４．０≦Ｙ≦９．０の場合：第２領域５０２
２８．０≦Ｘ≦２．０かつ−１．０≦Ｙ≦２３．９の場合：第３領域５０３
２８．０≦Ｘ≦５２．０かつ２４．０≦Ｙ≦４９．０の場合：第４領域５０４

指定された移動先が属している領域の原点の絶対座標を（Xabs、Yabs）とすると、
指定先が第１領域５０１に属する場合は（Xabs、Yabs）＝（３．０、０．０）、
指定先が第２領域５０２に属する場合は（Xabs、Yabs）＝（３．０、２４．０）、
指定先が第３領域５０３に属する場合は（Xabs、Yabs）＝（２８．０、０．０）、
指定先が第４領域５０１に属する場合は（Xabs、Yabs）＝（２８．０、２４．０）、とする。

次に、指定移動先が、領域の原点である場合を考え、ステップＳ１１１でＣＰＵ１３０１は、指定移動先が領域の原点近傍（絶対位置アドレス領域内）か否かを判断する。指定移動先が領域の原点近傍である場合、ステップＳ１１２で、（Xrel、Yrel）を（０．０、０．０）で置き換える。そして、ステップＳ１１３にて、ＣＰＵ１３０１は、画像中心のアドレス位置（X、Y）を算出する。指定移動先が、領域の原点近傍ではない場合は、ステップＳ１０２で得られた（Xrel、Yrel）がそのまま用いられる。

ステップＳ１１３における、画像中心のアドレス位置（X、Y）の算出について説明する。本実施形態の場合、Xabs、Xrel、Yabs、Yrelはｍｍ単位、Xinc、Yinc、ΔXinc、ΔYincはμｍ単位である。したがって（X、Y）は以下のようにして算出され、原理的はサブミクロンでの位置座標が確認出来る。
X＝Xabs＋Xrel＋Xinc／１０００＋ΔXinc／１０００
Y＝Yabs＋Yrel＋Yinc／１０００＋ΔYinc／１０００

ステップＳ１１４において、ＣＰＵ１３０１は、ステップＳ１１３で取得された座標値に基づくＸＹＺステージ５５の実際の移動量と、ステップＳ１０２で指示された移動量とに基づいて誤差を判定する。判定された誤差は、上述のように、ＸＹＺステージ５５の移動量の補正に用いたり、ＸＹＺステージ５５の位置管理性能の精度確認・評価に用いることができる。なお、上記処理では、デジタルカメラ６１のセンサー６３の中心６４とスライド原点７を一致させた後、ＸＹＺステージ５５の中心位置の座標を求めたが、これに限られるものではない。たとえば、顕微鏡画像中のスライド原点７の位置を画像中の特定の位置とし、指定移動先へのＸＹＺステージ５５の移動後に撮影して得られた画像の上記特定の位置における座標を取得して実際の移動量を得るようにしてもよい。すなわち、ステージの実際の移動量は、ステップＳ１０１で検出されたスライド原点の位置と、ＸＹＺステージ５５を移動した後の顕微鏡画像中の特定の位置（本実施形態では中心位置）の座標値とに基づいて取得されるものである。

以上のように、第１実施形態によれば、大形スライドと同等の外形を有する位置精度管理用スライド１に、座標軸・原点を示すマーク、原点基準の位置座標マークとその位置座標コード、インクリメントマークを設けた。これにより、顕微鏡システム構築時、及び、病理医等のユーザ側において、カバーガラスエリア相当でのステージの位置制御性能の補正・確認が可能となる。

なお、以上説明した第１実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。従って、上述した第１実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含むものである。

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。第２実施形態に於いては、外観、材質は第１実施形態の位置精度管理用スライド１と同じである。但し、描かれているマークやそのレイアウトが第１実施形態とは異なる。

図１７は、第１実施形態の図５（ａ）における第１領域５０１に相当する第２実施形態のレイアウトである。図１７（ａ）は第１領域５０１を示し、図１７（ｂ）は、図１７（ａ）中の○部分を拡大し示している。図１７（ｂ）に示すように、第１実施形態に対して１ｍｍ毎にグリッド線７１を追加している。このように、第２実施形態では、Ｘ方向に並ぶアドレス領域２１の所定数ごとに、Ｙ方向のグリッド線が付加され、Ｙ方向に並ぶアドレス領域の所定数ごとにＸ方向のグリッド線が付加される。

さらに、図１７（ｂ）中の（１）、（２）、（３）、（４）の点線○部を拡大した様子が、それぞれ図１８の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示されている。図１８に示されるように、グリッド線７１は、アドレス領域２１の所を除いて設けられている。グリッド線７１は、Ｘ、Ｙ方向各々、アドレス領域２１の１０個毎に、すなわち、１ｍｍ毎のピッチで配されるようにしている。なお、グリッド線７１の位置は、座標（ＸＸ．０、ＹＹ．０）を表す位置としている。

また、グリッド線７１も、レイアウト構造を有しており、その詳細を図１９を用いて説明する。図１９（ａ）に示すように、グリッド線７１は、第１実施形態（図４）で説明したＹ軸マークの幅レイアウトの中心部と同様に、３本の０．５μｍ幅線とその間の２本の０．５μｍスペースで２．５μｍ幅線部を構成する。そして、３組の２．５μｍ幅線部とその間の２本の２．５μｍスペースによりグリッド線が構成されている。

また、図１９（ｂ）にグリッド線７１、アドレス領域２１（白スペース部）、インクリメントマーク領域３４の一部における配置（寸法）関係を示す。図１９（ｂ）に示すように、グリッド線７１は、長さ方向は、８０μｍの線、２０μｍのスペースからなる（厳密には、８０．５μｍと１９．５μｍ）、破線構造となっており、そのスペース部分がアドレス領域２１に充てられている。すなわち、グリッド線７１は、アドレス領域２１が配置される位置をスペースとする破線であり、アドレス領域２１内の各マークと干渉することなはない。

図２０に、図１８（ａ）と図１８（ｄ）のグリッド線７１が交差する所の拡大レイアウトを示す。このように、第２実施形態では、第１実施形態の図７や図８（ｃ）の一部がグリッド線７１に置き換えられる。実際には、前述したように、アドレス（ＸＸ．０、ＹＹ．０）の部分が置き換えられている。加えて、グリッド線７１とインクリメントマーク領域３４の間に所定の空間が設けられている。図２１の詳細レイアウトに示すように、グリッド線７１とインクリメントマーク領域３４の間は４μｍ離れるようにしている。こうして、冗長性を確保している。

以上のように、第２実施形態は、第１実施形態に、１０個のアドレス領域２１毎にグリッド線７１を付加し、１ｍｍ毎のアドレスを強調するようにしたので、第１実施形態に比べてさらに位置検出が容易に出来る。また、グリッド線７１は、アドレス領域２１に比べ大きいので、ゴミ・傷等に強く、位置検出の冗長性が向上することが期待できる。

以上のように、第１、第２実施形態の位置精度管理用スライドによれば、座標軸・原点を示すマークがあるので、位置精度管理用スライドの座標系を顕微鏡基準の絶対的な座標系に合わせることが出来る。加えて、その原点基準での位置座標マークとその位置座標コード、インクリメントマークがあるので、絶対的な座標系でのサブミクロンレベルでの位置が分かる。これにより、顕微鏡システム構築時、及び、病理医等のユーザ側で、カバーガラスエリア相当の位置管理領域での高精度な評価が可能となる。

また、位置精度管理領域を複数領域に分割しているので、各領域の相対位置座標を共通化して同じフォトマスクの利用を可能とし、位置精度管理用スライドが安価に提供可能となる。さらには、新たなマークをアドレスマーク領域の複数個毎に設けることにより、ゴミ、傷等に対して強い位置精度管理用スライドが実現できる。

１：位置精度管理用スライド、３：位置精度管理領域、４：Ｙ軸マーク、５：原点マーク、２１：アドレス領域、３１：位置マーク、３２：位置座標コード、３３：インクリメントマーク、５１：顕微鏡システム、７１：グリッド線

Claims (16)

1. 顕微鏡用ステージのための位置精度管理用スライドであって、
   スライド原点の位置を特定するための第一のマークと、
   マトリクス状に配置され、各々が位置を示す第二のマークと、前記第二のマークの位置の前記スライド原点を基準とした座標値を示す位置座標コードと、を含む複数の位置表示領域と、
   前記複数の位置表示領域以外の領域に、前記位置表示領域の間隔よりも小さい間隔でマトリクス状に配置された複数の第三のマークと、を有し、
   前記位置座標コードは、前記位置表示領域内の異なる位置に前記第二のマークの座標値を、前記第三のマークと同じマークサイズと同じマーク間間隔で配置された複数のマークにより示す同一のパターンを２以上有していることを特徴とする位置精度管理用スライド。
2. 顕微鏡用ステージのための位置精度管理用スライドであって、
   スライド原点の位置を特定するための第一のマークと、
   マトリクス状に配置され、各々が位置を示す第二のマークと、前記第二のマークの位置の前記スライド原点を基準とした座標値を示す位置座標コードと、を含む複数の位置表示領域と、
   前記複数の位置表示領域以外の領域に、前記位置表示領域の間隔よりも小さい間隔でマトリクス状に配置された複数の第三のマークと、を有し、
   前記位置座標コードは、前記第二のマークのＸ座標値を同一のパターンで示す複数のＸ座標パターンと、前記第二のマークのＹ座標値を同一のパターンで示す複数のＹ座標パターンと、有し、前記複数のＸ座標パターン同士、前記複数のＹ座標パターン同士、および、前記Ｘ座標パターンと前記Ｙ座標パターン同士は、それぞれ、前記位置表示領域内の異なる位置に配置されていることを特徴とする位置精度管理用スライド。
3. 位置精度の管理のための管理領域を分割して得られた複数の部分領域ごとに前記複数の位置表示領域と前記複数の第三のマークが配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の位置精度管理用スライド。
4. 前記複数の部分領域の各々において、
   前記複数の位置表示領域のうち、部分領域の原点位置を示す位置表示領域の前記位置座標コードは前記スライド原点を基準とした座標を示し、
   前記複数の位置表示領域の、前記原点位置を示す位置表示領域以外の位置表示領域の位置座標コードは前記原点位置を基準とした座標を示すことを特徴とする請求項３に記載の位置精度管理用スライド。
5. ラベルエリアと、試料およびカバーガラスを配置するためのカバーガラスエリアとを有し、
   前記管理領域は、前記カバーガラスエリアに配置されることを特徴とする請求項３または４に記載の位置精度管理用スライド。
6. 前記位置座標コードは、前記第二のマークから所定の位置に配置されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の位置精度管理用スライド。
7. 前記位置座標コードは前記第二のマークのＸ座標とＹ座標をそれぞれ示すパターンの組を有し、前記第二のマークの座標値を示す前記パターンの組は前記位置表示領域内の異なる位置に２組以上配置されることを特徴とする請求項１に記載の位置精度管理用スライド。
8. 前記位置表示領域は、Ｘ方向に第１の所定間隔で、Ｙ方向に第２の所定間隔で並んでいることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の位置精度管理用スライド。
9. 前記第１の所定間隔と前記第２の所定間隔は等しいことを特徴とする請求項８に記載の位置精度管理用スライド。
10. Ｘ方向に並ぶ前記位置表示領域の所定数ごとに、Ｙ方向のグリッド線が付加され、
    Ｙ方向に並ぶ前記位置表示領域の所定数ごとに、Ｘ方向のグリッド線が付加されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の位置精度管理用スライド。
11. 前記グリッド線は、前記位置表示領域が配置された位置をスペースとする破線であることを特徴とする請求項１０に記載の位置精度管理用スライド。
12. ラベルエリアと、試料およびカバーガラスを配置するためのカバーガラスエリアとを有し、
    前記第一のマークは前記ラベルエリアと前記カバーガラスエリアの間の狭間領域に配置される事を特徴とする請求項１または２に記載の位置精度管理用スライド。
13. 前記ラベルエリアと前記カバーガラスエリアはＸ方向に並び、前記狭間領域はＹ方向に延び、
    前記第一のマークは、Ｘ方向の重心位置が前記スライド原点のＸ座標を示す第１のマークと、Ｙ方向の重心位置が前記スライド原点のＹ座標を示す第２のマークを含むことを特徴とする請求項１２に記載の位置精度管理用スライド。
14. 前記第１のマークは、Ｙ方向に延び、Ｙ軸方向を規定することを特徴とする請求項１３に記載の位置精度管理用スライド。
15. ステージに載置された、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の位置精度管理用スライドの顕微鏡画像を撮影する撮影手段と、
    前記撮影手段により撮影された顕微鏡画像から前記位置精度管理用スライドのスライド原点を検出する検出手段と、
    前記ステージにＸＹ方向の移動量を指示して前記ステージを移動させる移動手段と、
    前記移動手段による前記ステージの移動後に前記撮影手段により撮影された顕微鏡画像に含まれている位置表示領域と第三のマークに基づいて、前記顕微鏡画像の特定の位置における座標値を取得する取得手段と、
    前記検出手段により検出された前記スライド原点の位置と、前記特定の位置の座標値とに基づいて得られる前記ステージの実際の移動量と、前記指示された移動量とに基づいて誤差を判定する判定手段とを備えることを特徴とする位置精度管理装置。
16. 請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の位置精度管理用スライドを用いた位置精度管理方法であって、
    ステージに載置された、前記位置精度管理用スライドの顕微鏡からの像を撮影して得られた顕微鏡画像から前記位置精度管理用スライドのスライド原点を検出する検出工程と、
    前記ステージにＸＹ方向の移動量を指示して前記ステージを移動させる移動工程と、
    前記移動工程による前記ステージの移動後に顕微鏡からの像を撮影して得られた顕微鏡画像に含まれている位置表示領域と第三のマークに基づいて、前記顕微鏡画像の特定の位置における座標値を取得する取得工程と、
    前記検出工程で検出された前記スライド原点の位置と前記特定の位置の座標値とに基づいて得られる前記ステージの実際の移動量と、前記指示された移動量とに基づいて誤差を判定する判定工程とを有することを特徴とする位置精度管理方法。