JP6634417B2 - Manufacturing method of polarizing plate - Google Patents

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Description

本発明は、偏光板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a polarizing plate.

偏光板は、液晶テレビ、有機ELテレビ又はスマートフォン等の画像表示装置を構成する光学部品の一つである。偏光板は、フィルム状の偏光子と、偏光子に重なる光学フィルム(例えば、保護フィルム)と、を備える。画像表示装置の設計上の理由から、偏光板の端部に切欠き部(cut‐out portion)が形成されることがある。例えば、下記特許文献1には、液晶の注入口として、切欠き部が偏光板の端部に形成されることが記載されている。   A polarizing plate is one of optical components that constitute an image display device such as a liquid crystal television, an organic EL television, and a smartphone. The polarizing plate includes a film-shaped polarizer and an optical film (for example, a protective film) overlapping the polarizer. A cut-out portion may be formed at the end of the polarizing plate due to the design of the image display device. For example, Patent Literature 1 below describes that a notch is formed at an end of a polarizing plate as a liquid crystal injection port.

特開2000−155325号公報JP 2000-155325 A

本発明者らによる研究の結果、打ち抜き加工によって切欠き部を偏光板に形成する際に、切欠き部の内側に位置する隅部(corner)にクラック(crack)が形成され易いことが判明した。   As a result of a study by the present inventors, it has been found that when a notch is formed on a polarizing plate by punching, a crack is easily formed in a corner located inside the notch. .

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、偏光板の切欠き部におけるクラックを抑制することができる偏光板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a polarizing plate capable of suppressing cracks in a notch of the polarizing plate.

本発明の一側面に係る偏光板の製造方法は、フィルム状の偏光子と偏光子に重なる少なくとも一つの光学フィルムとを含む第一積層体を作製する工程と、第一積層体の打ち抜きにより、凹状の切欠き部が形成された第二積層体を作製する工程と、切欠き部の内側に位置する隅部を研磨して、隅部の曲率半径を減少させる工程と、を備える。   The method for manufacturing a polarizing plate according to one aspect of the present invention includes a step of producing a first laminate including a film-shaped polarizer and at least one optical film overlapping the polarizer, and punching the first laminate, The method includes a step of producing a second laminated body having a concave cutout, and a step of polishing a corner located inside the cutout to reduce the radius of curvature of the corner.

本発明の一側面においては、隅部が研磨される前では、第二積層体の積層方向からみた隅部が略曲線状であってよく、且つ隅部の曲率半径がRであってよく、隅部が研磨された後では、第二積層体の積層方向からみた隅部の曲率半径がRであってよく、RがRsよりも大きくてよい。 In one aspect of the present invention, before the corner is polished, the corner seen from the laminating direction of the second laminate may be substantially curved, and the radius of curvature of the corner may be RL. , after the corner has been polished may curvature of the corner portion as viewed from the stacking direction of the second laminate radius a R S, R L may be greater than Rs.

本発明の一側面においては、隅部をエンドミル(endmill)により研磨してよい。   In one aspect of the invention, the corners may be polished by an endmill.

本発明の一側面においては、第二積層体が、偏光子の吸収軸線Aに直交しない第一端部を有してよく、切欠き部が第一端部に形成されてよい。換言すると、第二積層体を作製する工程において、第一端部が偏光子の吸収軸線Aとなす角度θを、0°以上90°未満に調整してよい。さらに第二積層体が、第一端部の反対側に位置する第二端部を有してよく、切欠き部が、第一端部から第二端部へ向かって延びていてよく、切欠き部が延びる方向Eが、吸収軸線Aと平行でなくてよい。換言すると、第二積層体を作製する工程において、切欠き部が延びる方向Eが偏光子の吸収軸線Aとなす角度αを、0°よりも大きく90°以下に調整してよい。   In one aspect of the present invention, the second laminate may have a first end that is not orthogonal to the absorption axis A of the polarizer, and a notch may be formed at the first end. In other words, in the step of manufacturing the second laminate, the angle θ formed between the first end and the absorption axis A of the polarizer may be adjusted to 0 ° or more and less than 90 °. Further, the second laminate may have a second end located opposite the first end, and the notch may extend from the first end toward the second end. The direction E in which the notch extends may not be parallel to the absorption axis A. In other words, in the step of manufacturing the second laminate, the angle α between the direction E in which the notch extends and the absorption axis A of the polarizer may be adjusted to be larger than 0 ° and 90 ° or less.

本発明の一側面においては、第二積層体が、第一端部と、第一端部の反対側に位置する第二端部と、を有してよく、切欠き部が第一端部に形成されてよく、切欠き部が、第一端部から第二端部へ向かって延びていてよく、切欠き部が延びる方向Eが、偏光子の吸収軸線Aと平行でなくてよい。換言すると、第二積層体を作製する工程において、切欠き部が延びる方向Eが偏光子の吸収軸線Aとなす角度αを、0°よりも大きく90°以下に調整してよい。   In one aspect of the present invention, the second stacked body may have a first end and a second end located on the opposite side of the first end, and the notch is the first end. The notch may extend from the first end to the second end, and the direction E in which the notch extends may not be parallel to the absorption axis A of the polarizer. In other words, in the step of manufacturing the second laminate, the angle α between the direction E in which the notch extends and the absorption axis A of the polarizer may be adjusted to be larger than 0 ° and 90 ° or less.

本発明によれば、偏光板の切欠き部におけるクラックを抑制することができる偏光板の製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the polarizing plate which can suppress the crack in the notch part of a polarizing plate is provided.

図1は、本発明の一実施形態に係る第一積層体の模式的斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a first laminate according to one embodiment of the present invention. 図2中の(a)は、研磨される前の第二積層体の上面図であり、図2中の(b)は、図2中の(a)に示された第二積層体の変形例である。(A) in FIG. 2 is a top view of the second laminate before being polished, and (b) in FIG. 2 is a deformation of the second laminate shown in (a) in FIG. It is an example. 図3は、図2中の(a)の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of (a) in FIG. 図4は、図2中の(a)及び図3に示された第二積層体の拡大図であり、研磨される前の切欠き部を示す。FIG. 4 is an enlarged view of (a) in FIG. 2 and the second laminate shown in FIG. 3, and shows a notched portion before being polished. 図5は、第二積層体(偏光板)の拡大図であり、研磨された後の切欠き部を示す。FIG. 5 is an enlarged view of the second laminate (polarizing plate), showing a cutout portion after being polished. 図6は、図5に示された第二積層体(偏光板)の模式的斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view of the second laminate (polarizing plate) shown in FIG. 図7は、本発明の他の実施形態に係る第二積層体の拡大図であり、研磨される前の切欠き部を示す。FIG. 7 is an enlarged view of a second laminated body according to another embodiment of the present invention, showing a notched portion before being polished. 図8は、本発明の他の実施形態に係る第二積層体(偏光板)の拡大図であり、研磨された後の切欠き部を示す。FIG. 8 is an enlarged view of a second laminate (polarizing plate) according to another embodiment of the present invention, and shows a cutout portion after being polished.

以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明する。図面において、同等の構成要素には同等の符号を付す。本発明は下記実施形態に限定されるものではない。各図に示すX,Y及びZは、互いに直交する3つの座標軸を意味する。各座標軸が示す方向は、全図に共通する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, equivalent components are denoted by the same reference numerals. The present invention is not limited to the following embodiments. X, Y and Z shown in each figure mean three coordinate axes orthogonal to each other. The direction indicated by each coordinate axis is common to all drawings.

本実施形態に係る偏光板の製造方法は、フィルム状の偏光子と偏光子に重なる少なくとも一つの光学フィルムとを含む第一積層体を作製する工程と、第一積層体の打ち抜きにより、凹状の切欠き部が形成された第二積層体を作製する工程(打ち抜き加工)と、切欠き部の内側を切削・研磨工具で研磨して、切欠き部の内側に位置する隅部の曲率半径を減少させる工程(研磨加工)と、を備える。打ち抜き加工(punching)は、blankingと言い換えてよい。打ち抜き加工とは、例えば、第一積層体を雄型(punch)と雌型(die)と間に挟み、雄型を雌型へ押し込むことにより、第二積層体を第一積層体から抜き出す方法であってよい。打ち抜き加工とは、例えば、第一積層体を抜型(cutting die)と面板(face plate)と間に挟み、第一積層体を抜型と面板とで加圧することにより、第二積層体を第一積層体から抜き出す方法であってもよい。打ち抜き加工と、刃物又はレーザーを用いた切断加工を組み合わせて、第一積層体から第二積層体を作製してもよい。以下では、各工程(特に、打ち抜き加工及び研磨加工)を詳しく説明する。切欠き部の内側の研磨加工に用いる切削・研磨工具は、例えば、ヤスリ(file)、タップ(tap)、グラインダー(grinder)、リュータ(leutor)、及びフライス(milling cutter)からなる群より選ばれる少なくとも一種の工具であってよい。複数種の切削・研磨工具を研磨加工に用いてよい。   The method for manufacturing a polarizing plate according to this embodiment includes a step of manufacturing a first laminate including a film-shaped polarizer and at least one optical film overlapping the polarizer, and punching of the first laminate to form a concave. A step (punching) of producing a second laminate having a notch formed therein, and polishing the inside of the notch with a cutting / polishing tool to reduce a radius of curvature of a corner located inside the notch. Reducing (polishing). Punching may be referred to as blanking. The punching process is, for example, a method in which the first laminate is sandwiched between a male die (punch) and a female die (die), and the male die is pushed into the female die, thereby extracting the second laminate from the first laminate. It may be. The punching process is, for example, sandwiching the first laminate between a cutting die and a face plate, and pressing the first laminate with the die and the face plate to thereby press the second laminate into the first laminate. It may be a method of extracting from the laminate. The second laminate may be manufactured from the first laminate by combining the punching with the cutting using a cutting tool or a laser. Hereinafter, each step (particularly, punching and polishing) will be described in detail. The cutting / polishing tool used for polishing the inside of the notch is selected from the group consisting of, for example, a file, a tap, a grinder, a leutor, and a milling cutter. It may be at least one type of tool. A plurality of types of cutting / polishing tools may be used for polishing.

第一積層体は、フィルム状の偏光子と、少なくとも一つの光学フィルムと、を重ね合わせて、且つこれらを貼合することによって作製される。光学フィルムとは、偏光板を構成するフィルム状の部材(偏光子自体を除く。)を意味する。光学フィルムは、層、又は光学層と言い換えてよい。光学フィルムは、例えば、保護フィルム及び離型フィルムであってよい。偏光子及び光学フィルムそれぞれは、長尺な帯状であってよく、第一積層体も長尺な帯状であってよい。第一積層体が有する光学フィルムの種類、数及び組成は限定されない。第一積層体の積層構造も限定されない。   The first laminate is produced by laminating a film-shaped polarizer and at least one optical film and laminating them. The optical film means a film-like member constituting the polarizing plate (excluding the polarizer itself). The optical film may be called a layer or an optical layer. The optical film may be, for example, a protective film and a release film. Each of the polarizer and the optical film may have a long strip shape, and the first laminate may have a long strip shape. The type, number, and composition of the optical films included in the first laminate are not limited. The laminated structure of the first laminate is not limited.

例えば、図1に示されるように、第一積層体107は、フィルム状の偏光子8と、偏光子8に重なる複数の光学フィルム(3,5,9,13)と、を備える。偏光子8及び複数の光学フィルム(3,5,9,13)のいずれも、四角形である。複数の光学フィルム(3,5,9,13)とは、第一保護フィルム5、第二保護フィルム9、第三保護フィルム3、及び離型フィルム13(セパレータ)である。つまり、第一積層体107は、偏光子8、第一保護フィルム5、第二保護フィルム9、第三保護フィルム3、及び離型フィルム13を備える。第一積層体107は、第二保護フィルム9と離型フィルム13との間に位置する粘着層11も備える。偏光子8の一方の表面には第一保護フィルム5が重なっており、偏光子8の他方の表面には第二保護フィルム9が重なっている。つまり、偏光子8の両表面に保護フィルムが密着している。第三保護フィルム3は、第一保護フィルム5に重なっている。つまり、第一保護フィルム5は、偏光子8と第三保護フィルム3との間に位置する。離型フィルム13は、粘着層11を介して、第二保護フィルム9に重なっている。換言すると、第二保護フィルム9は、偏光子8と粘着層11との間に位置する。   For example, as shown in FIG. 1, the first laminate 107 includes a film-shaped polarizer 8 and a plurality of optical films (3, 5, 9, 13) overlapping the polarizer 8. Each of the polarizer 8 and the plurality of optical films (3, 5, 9, 13) is rectangular. The plurality of optical films (3, 5, 9, 13) are the first protective film 5, the second protective film 9, the third protective film 3, and the release film 13 (separator). That is, the first laminate 107 includes the polarizer 8, the first protective film 5, the second protective film 9, the third protective film 3, and the release film 13. The first laminate 107 also includes the adhesive layer 11 located between the second protective film 9 and the release film 13. The first protective film 5 overlaps one surface of the polarizer 8, and the second protective film 9 overlaps the other surface of the polarizer 8. That is, the protective films adhere to both surfaces of the polarizer 8. The third protective film 3 overlaps the first protective film 5. That is, the first protective film 5 is located between the polarizer 8 and the third protective film 3. The release film 13 overlaps the second protective film 9 via the adhesive layer 11. In other words, the second protective film 9 is located between the polarizer 8 and the adhesive layer 11.

第一積層体107の打ち抜き加工により、図2又は図3に示されるような第二積層体7’を作製する。第一積層体107から複数の第二積層体7’が作製されてよい。   By punching the first laminate 107, a second laminate 7 'as shown in FIG. 2 or 3 is manufactured. A plurality of second laminates 7 'may be made from the first laminate 107.

第二積層体7’の端部(第一端部7e)には、凹状の切欠き部7C’(concave cut‐out portion)が形成されている。この切欠き部7C’は、第二積層体7’の積層方向(Z軸方向)において、偏光子8及び光学フィルム(3,5,9,13)及び粘着層11の全てを貫通している。つまり、第二積層体7’の端面には、偏光子8、光学フィルム(3,5,9,13)及び粘着層11の全てに共通する凹状の切欠き部7C’が形成されている。積層方向(Z軸方向)から見た偏光子8の切欠き部の形状は、積層方向から見た第二積層体7’の切欠き部7C’の形状と同じ又は相似であってよい。積層方向から見た第二積層体7’の切欠き部7C’の形状を、積層方向から見た偏光子8の切欠き部の形状とみなしてよい。切欠き部7C’は、長方形である。ただし、切欠き部7C’の形状は長方形に限定されない。   At an end (first end 7e) of the second laminate 7 ', a concave cut-out portion 7C' (concave cut-out port) is formed. The notch 7C 'penetrates all of the polarizer 8, the optical films (3, 5, 9, 13) and the adhesive layer 11 in the laminating direction (Z-axis direction) of the second laminate 7'. . That is, a concave cutout portion 7C 'common to all of the polarizer 8, the optical films (3, 5, 9, 13) and the adhesive layer 11 is formed on the end face of the second laminate 7'. The shape of the notch of the polarizer 8 as viewed from the stacking direction (Z-axis direction) may be the same as or similar to the shape of the notch 7C 'of the second laminate 7' as viewed from the stacking direction. The shape of the notch 7C 'of the second laminate 7' as viewed from the lamination direction may be regarded as the shape of the notch of the polarizer 8 as viewed from the lamination direction. The notch 7C 'is rectangular. However, the shape of the notch 7C 'is not limited to a rectangle.

図4に示されるように、第二積層体7’の積層方向(Z軸方向)から見た切欠き部7C’の内側には隅部7Cが位置する。隅部7Cは、略曲線状である。換言すると、隅部7Cが切削・研磨工具で研磨される前では、第二積層体7’の積層方向からみた隅部7Cは、略曲線状である。三次元空間では、第二積層体7’の切欠き部7C’の内側に位置する隅部7Cは、略曲面状である。切削・研磨工具で研磨される前の隅部7Cを第二積層体7’の積層方向からみた場合、隅部7Cの曲率半径はRである。つまり、第二積層体7’の積層方向からみた隅部7Cが大円Cの弧で近似される場合、隅部7Cの曲率半径Rは大円Cの半径に等しい。 As shown in FIG. 4, the inside of the second stacked body 7 'notch 7C viewed from the laminating direction (Z axis direction) of the' corners 7C L is located. Corners 7C L is substantially curvilinear. In other words, in the prior corners 7C L is polished by cutting and polishing tool, corners 7C L as viewed from the stacking direction of the second stacked body 7 'is substantially curved. In three-dimensional space, a corner portion 7C L located inside the 'notch 7C' of the second stacked body 7 has a substantially curved shape. If the corner portion 7C L before being polished by the cutting and polishing tools as viewed from the stacking direction of the second stacked body 7 ', the curvature radius of the corner portion 7C L is R L. That is, if the corner portion 7C L as viewed from the stacking direction of the second stacked body 7 'is approximated by an arc of a great circle C L, the radius of curvature R L of the corner portion 7C L is equal to the radius of the great circle C L.

打ち抜き加工に続いて、第二積層体7’の切欠き部7C’の内側に位置する隅部7Cを切削・研磨工具で研磨する。つまり、打ち抜き加工に続いて、切欠き部7C’の隅部7Cを切削・研磨工具で研磨することにより、隅部7Cの曲率半径Rを減少させる。隅部7Cの研磨に用いる切削・研磨工具としては、フライスの一種であるエンドミル(endmill)が好ましい。エンドミルを用いることにより、研磨の対象物の形状に応じて、対象物を直線状又は曲線状に研磨し易い。エンドミルとは、切削・研磨加工用のフライスの一種である。エンドミルの刃は、エンドミルの回転軸に略平行なエンドミルの側面に位置する。エンドミルの回転により、エンドミルの刃が押し当てられた被加工物(ワーク)の表面が切削・研磨される。切欠き部7C’の隅部7Cをエンドミルで切削・研磨することにより、隅部7Cが平滑に仕上がる。隅部7Cを含む切欠き部7C’の内側全体をエンドミルで研磨してよい。切欠き部7C’の内側(隅部7C)に加えて、切欠き部7C’の外側に位置する第二積層体7’の端部(端面)をエンドミルで研磨してもよい。第二積層体7’の端部(外縁)の一部又は全体をエンドミルで研磨してもよい。 Following stamping, polishing with cutting and polishing tools corners 7C L located inside the 'notch 7C' of the second stack 7. In other words, following the stamping, by grinding the cutting and polishing tools corners 7C L notches 7C ', reducing the radius of curvature R L of the corner portion 7C L. The cutting and polishing tools for use in polishing corners 7C L, end mill (endmill) preferably is a kind of milling cutter. By using an end mill, the object is easily polished linearly or curvedly depending on the shape of the object to be polished. An end mill is a type of milling cutter for cutting and polishing. The blade of the end mill is located on the side surface of the end mill substantially parallel to the rotation axis of the end mill. By the rotation of the end mill, the surface of the workpiece (work) against which the blade of the end mill is pressed is cut and polished. By cutting and polishing in the end mill corners 7C L notches 7C ', corners 7C L is finished smooth. The entire inside of the notched portion 7C 'including the corner portion 7C L may be polished with the end mill. 'In addition to the inside of the (corner 7C L), the notch portion 7C' notch 7C end of the second stacked body 7 'located outside of (end surface) may be polished with the end mill. A part or the whole of the end (outer edge) of the second laminate 7 'may be polished by an end mill.

以下では、研磨加工前の第二積層体を、「第二積層体7’」と表記する場合がある。研磨加工後の第二積層体を、「第二積層体7」と表記する場合がある。また、研磨加工前の第二積層体7’の切欠き部を、「切欠き部7C’」と表記する場合がある。研磨加工後の第二積層体7の切欠き部を、「切欠き部7C」と表記する場合がある。   Hereinafter, the second laminate before polishing may be referred to as “second laminate 7 ′”. The second laminate after the polishing process may be referred to as “second laminate 7”. In addition, the notched portion of the second stacked body 7 'before polishing may be referred to as "notched portion 7C'". The notched portion of the second laminate 7 after the polishing process may be referred to as “notched portion 7C”.

図5に示されるように、切削・研磨工具で研磨された後の隅部7Cを第二積層体7の積層方向からみた場合、隅部7Cの曲率半径はRである。つまり、第二積層体7の積層方向からみた隅部7Cが小円Cの弧で近似される場合、隅部7Cの曲率半径Rは小円Cの半径に等しい。図4及び図5に示めされるように、切削・研磨工具で研磨される前の隅部7Cの曲率半径Rは、切削・研磨工具で研磨された後の隅部7Cの曲率半径Rよりも小さい。 As shown in FIG. 5, when the corner portion 7C S after being polished by the cutting and polishing tools as viewed from the stacking direction of the second stacked body 7, the curvature radius of the corner portion 7C S is R S. That is, if the corner portion 7C S viewed from the laminating direction of the second stacked body 7 is approximated by an arc of a small circle C S, the radius of curvature R S of the corner portion 7C S is equal to the radius of the small circle C S. 4 and as fit shown in Figure 5, the radius of curvature R L of the corner portion 7C L before being polished by the cutting and polishing tools, the curvature of the corner portion 7C S after being polished by the cutting and polishing tools It is smaller than the radius RS .

切削・研磨工具による隅部7Cの研磨を経た第二積層体7(図6に示される第二積層体7)は、完成された偏光板であってよい。 Second stacked body 7 which has undergone polishing of corners 7C L by cutting and polishing tools (second stacked body 7 shown in FIG. 6) may be the finished polarizer.

本実施形態では、打ち抜き加工と、それに続く研磨加工によって、切欠き部7Cの隅部7Cが面取され、隅部7Cの表面が平滑になる。その結果、切欠き部7C(特に隅部7C)においてクラックが抑制される。研磨された隅部7Cの曲率半径Rが大きい程、完成された偏光板の切欠き部7C(特に隅部7C)においてクラックが抑制され易い。 In this embodiment, the punching, the polishing subsequent, are chamfered is corner 7C S notches 7C, the surface of the corner portion 7C S becomes smooth. As a result, cracks are suppressed in the notch 7C (especially corners 7C S). As the radius of curvature R S of the polished corner 7C S is larger, cracks are more likely to be suppressed in the notch 7C (particularly, the corner 7C S ) of the completed polarizing plate.

仮に、一度の打ち抜き加工のみによって、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径を小さい値(R)に調整する場合、打ち抜き加工の過程で、切欠き部7C’の隅部7Cに応力が集中し易い。その結果、打ち抜き加工に伴って、切欠き部7C’(特に隅部7C)において多数の大きなクラックが形成され易い。打ち抜き加工によって多数の大きなクラックが切欠き部7C’(隅部7C)に形成された後では、切欠き部7C’の内側(隅部7C)を切削・研磨工具で研磨したとしても、クラックが残ってしまう場合がある。 If, only by a single stamping, 'when adjusting the corner 7C smaller radius of curvature L of (R S), in the course of punching, the notch portion 7C' notch 7C corners 7C L of Stress tends to concentrate on As a result, many large cracks are likely to be formed in the notch 7C '(particularly, the corner 7C L ) with the punching. After a large number of large cracks are formed in the notch 7C '(corner 7C L ) by punching, even if the inside of the notch 7C' (corner 7C L ) is polished with a cutting / polishing tool, Cracks may remain.

一方、本実施形態では、打ち抜き加工の際に、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径を比較的大きい値R(Rよりも大きい値)に調整する。そして、打ち抜き加工に続く研磨加工によって、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径RをRまで減少させる。つまり、打ち抜き加工と研磨加工との2つのステップによって、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径Rを段階的に(徐々に)減少させる。その結果、一度の打ち抜き加工のみによって隅部7Cの曲率半径を小さい値Rに調整する場合に比べて、打ち抜き加工に伴う切欠き部7C’(特に隅部7C)でのクラックが抑制される。打ち抜き加工において調整される隅部7Cの曲率半径Rが大きい程、打ち抜き加工に伴う切欠き部7C’(特に隅部7C)でのクラックが抑制され易い。打ち抜き加工において調整される隅部7Cの曲率半径Rが大きい程、打ち抜き加工に伴って切欠き部7C’(特に隅部7C)に形成されたクラックを、切削・研磨工具(特にエンドミル)を用いた研磨加工によって除去し易い。 On the other hand, in the present embodiment, when the punching is adjusted to (greater than R S) relatively large value R L of the curvature radius of the corner portion 7C L notches 7C '. Then, the polishing following the punching, reducing the radius of curvature R L of the corner portion 7C L notches 7C 'to R S. In other words, the two steps of polishing and punching, the curvature radius R L of the corner portion 7C L notches 7C 'stepwise (gradually) decreases. As a result, once as compared with the case of adjusting the radius of curvature of the corner portion 7C L to a small value R S by punching only, cracks suppression in accompanying punching notch 7C '(especially the corner portion 7C L) Is done. As the radius of curvature R L of the corner portion 7C L is adjusted in punching is large, easy to crack at the accompanying punching notch 7C '(especially the corner portion 7C L) is suppressed. As the radius of curvature R L of the corner portion 7C L is adjusted in punching is large, a crack formed in the notched portion 7C '(especially the corner portion 7C L) with the stamping, cutting and polishing tools (especially end mill ) Is easy to remove by polishing.

打ち抜き加工によって形成される切欠き部7C’の形状は、打ち抜き加工に用いるパンチ又は抜型の形状に対応する。研磨加工前の隅部7Cの曲率半径Rは、パンチ又は抜型の形状の調整により、自在に制御されてよい。研磨加工後の切欠き部7Cの隅部7Cの曲率半径Rは、切削・研磨工具の移動経路の調整により、自在に制御されてよい。切削・研磨工具としてエンドミルを用いる場合、研磨加工後の隅部7Cの曲率半径Rは、エンドミルの太さの調整により、自在に制御されてもよい。例えば、曲率半径Rの下限値は、エンドミルの太さ(直径)の1/2程度であってよい。研磨加工後の隅部7Cの曲率半径Rは、エンドミルの刃の寸法の調整により、自在に制御されてもよい。 The shape of the notch 7C 'formed by the punching corresponds to the shape of a punch or a punch used for the punching. The radius of curvature R L of the corner portion 7C L before polishing processing, by adjusting the shape of the punch or cutting dies may be freely controlled. The radius of curvature R S of the corner 7 C S of the notch 7 C after the polishing may be freely controlled by adjusting the movement path of the cutting / polishing tool. When using an end mill as a cutting and polishing tools, the radius of curvature R S of the corner portion 7C S after polishing is by adjusting the thickness of the end mill, it may be freely controlled. For example, the lower limit of the radius of curvature R S may be about 1 / of the thickness (diameter) of the end mill. The radius of curvature R S of the corner portion 7C S after polishing is by adjusting the size of the blade of the end mill, it may be freely controlled.

切削・研磨工具で研磨される前の隅部7Cの曲率半径Rは、例えば、2.3〜20mmであってよい。切削・研磨工具で研磨された後の隅部7Cの曲率半径Rは、例えば、2.0〜10mmであってよい。R/Rは、例えば、1.2〜2.0であってよい。R,R及びR/Rそれぞれが上記の範囲内である場合、切削・研磨工具による研磨を経た切欠き部7C(特に隅部7C)におけるクラックが抑制され易い。 The radius of curvature R L of the corner portion 7C L before being polished by the cutting and polishing tools may be, for example, 2.3~20Mm. The radius of curvature R S of the corner 7C S after being polished by the cutting / polishing tool may be, for example, 2.0 to 10 mm. RL / RS may be, for example, from 1.2 to 2.0. R L, when each R S and R L / R S is within the above range, cracks are easily suppressed in notch 7C passing through the polishing by cutting and polishing tools (especially corners 7C S).

打ち抜き加工に伴って切欠き部7C’(特に隅部7C)に形成され得るクラックの長さは、例えば、300〜600μm程度であってよい。切削・研磨工具によって第二積層体7’の隅部7Cから削り取られる部分の幅は、例えば、300〜500μmであってよい。 The length of the crack which may be formed in the cutout portion 7C with the punching '(especially the corner portion 7C L) may be, for example, about 300~600Myuemu. Width of the portion cut away by the cutting and polishing tools from the corner portion 7C L of the second stack 7 'may be, for example, 300 to 500 [mu] m.

第一積層体107の打ち抜きにより、偏光子8の吸収軸線Aに直交しない第一端部7eを有する第二積層体7’を作製してよく、切欠き部7C’を第一端部7eに形成してよい。図2中の(a)、図2中の(b)又は図3に示されるように、基準線Lが、切欠き部7C’の両端に位置する一対の角部7C1及び7C2を結ぶ直線と定義されるとき、基準線Lが偏光子8の吸収軸線Aと直交しなくてよい。換言すると、切欠き部7C’の基準線Lが偏光子8の吸収軸線Aとなす角度θは、0°以上90°未満であってよい。基準線Lは、第二積層体7’の積層方向(Z軸方向)に垂直な方向において一対の角部7C1及び7C2を結ぶ直線と言い換えてよい。   By punching the first laminate 107, a second laminate 7 'having a first end 7e that is not orthogonal to the absorption axis A of the polarizer 8 may be manufactured, and the cutout 7C' is formed in the first end 7e. May be formed. As shown in FIG. 2 (a), FIG. 2 (b) or FIG. 3, the reference line L is a straight line connecting a pair of corners 7C1 and 7C2 located at both ends of the notch 7C '. When defined, the reference line L need not be orthogonal to the absorption axis A of the polarizer 8. In other words, the angle θ between the reference line L of the notch 7C 'and the absorption axis A of the polarizer 8 may be 0 ° or more and less than 90 °. The reference line L may be referred to as a straight line connecting the pair of corners 7C1 and 7C2 in a direction perpendicular to the stacking direction (Z-axis direction) of the second stacked body 7 '.

吸収軸線Aとは、例えば、偏光子8におけるポリビニルアルコール(PVA)分子の配向方向に略平行な直線と言い換えてよい。吸収軸線Aとは、例えば、偏光子8においてポリビニルアルコールに吸着する色素分子(例えばポリヨウ素又は有機染料)の配向方向に略平行な直線と言い換えてもよい。一つのPVA分子を構成する多数の炭素原子は、吸収軸線Aに沿った共有結合(C‐C結合)によって互いに結合している、といえる。一方、吸収軸線Aに略垂直な方向では、PVA分子同士が、架橋剤(例えばホウ酸)を介した架橋結合によって結合している。換言すれば、吸収軸線Aに略垂直な方向では、各PVA分子が有するヒドロキシ基が、PVA分子間に位置するホウ酸と水素結合又は酸素・ホウ素間結合(O‐B結合)を形成することによって、PVA分子同士が架橋されている。吸収軸線Aに沿って形成されているC‐C結合は、吸収軸線Aに略垂直な方向に沿って形成されている架橋結合よりも強固である。したがって、吸収軸線Aに略平行な方向における偏光子8の機械的強度は、吸収軸線Aに略垂直な方向における偏光子8の機械的強度よりも高い。換言すると、吸収軸線Aに略平行な方向における偏光子8の熱収縮は、吸収軸線Aに略垂直な方向における偏光子8の熱収縮に比べて、クラックを引き起こし難い。   The absorption axis A may be, for example, a straight line that is substantially parallel to the orientation direction of the polyvinyl alcohol (PVA) molecules in the polarizer 8. The absorption axis A may be, for example, a straight line that is substantially parallel to the orientation direction of a dye molecule (for example, polyiodine or an organic dye) adsorbed on polyvinyl alcohol in the polarizer 8. It can be said that a large number of carbon atoms constituting one PVA molecule are connected to each other by a covalent bond (CC bond) along the absorption axis A. On the other hand, in a direction substantially perpendicular to the absorption axis A, the PVA molecules are bonded by a cross-linking via a cross-linking agent (for example, boric acid). In other words, in a direction substantially perpendicular to the absorption axis A, the hydroxy group of each PVA molecule forms a hydrogen bond or an oxygen-boron bond (OB bond) with boric acid located between the PVA molecules. Thereby, PVA molecules are cross-linked. CC bonds formed along the absorption axis A are stronger than cross-links formed along a direction substantially perpendicular to the absorption axis A. Therefore, the mechanical strength of the polarizer 8 in a direction substantially parallel to the absorption axis A is higher than the mechanical strength of the polarizer 8 in a direction substantially perpendicular to the absorption axis A. In other words, the heat shrinkage of the polarizer 8 in a direction substantially parallel to the absorption axis A is less likely to cause cracks than the heat shrinkage of the polarizer 8 in a direction substantially perpendicular to the absorption axis A.

仮に基準線Lが吸収軸線Aと直交する場合(角度θが90°である場合)、基準線Lに平行な方向では、PVA分子内のC‐C結合に比べて弱い架橋結合が形成されている。したがって、基準線Lが吸収軸線Aと直交する場合、切欠き部7C’の深部7Cd(奥部)が、基準線Lに略平行な方向において収縮すると、切欠き部7C’の深部においてクラックが形成され易い。   If the reference line L is orthogonal to the absorption axis A (when the angle θ is 90 °), a weak cross-link is formed in the direction parallel to the reference line L as compared with the CC bond in the PVA molecule. I have. Therefore, when the reference line L is orthogonal to the absorption axis A, when the deep part 7Cd (rear part) of the notch part 7C ′ contracts in a direction substantially parallel to the reference line L, cracks occur in the deep part of the notch part 7C ′. Easy to form.

一方、基準線Lが、偏光子8の吸収軸線Aと直交しない場合(つまり、角度θが0°以上90°未満である場合)、PVA分子間の架橋結合に比べて強固なPVA分子内のC‐C結合が、基準線Lに平行な方向における偏光子8の機械的強度を高める。その結果、切欠き部7C’の深部7Cdが、基準線Lに略平行な方向において収縮したとしても、切欠き部7C’においてクラックが形成され難い。特に、基準線Lが吸収軸線Aと平行である場合(角度θが0°である場合)、偏光子8を構成する殆どのPVA分子内のC‐C結合が、吸収軸線Aに沿って形成されている。したがって、基準線Lが吸収軸線Aと平行である場合、基準線Lに平行な方向における偏光子8の機械的強度が顕著に高く、切欠き部7C’におけるクラックの形成が顕著に抑制される。ただし、基準線Lが、偏光子8の吸収軸線Aと直交する場合であっても、本発明の効果は奏される。   On the other hand, when the reference line L is not orthogonal to the absorption axis A of the polarizer 8 (that is, when the angle θ is equal to or greater than 0 ° and less than 90 °), the strength of the PVA molecule is stronger than the cross-linking between PVA molecules. The CC bond increases the mechanical strength of the polarizer 8 in a direction parallel to the reference line L. As a result, even if the deep portion 7Cd of the notch 7C 'shrinks in a direction substantially parallel to the reference line L, cracks are not easily formed in the notch 7C'. In particular, when the reference line L is parallel to the absorption axis A (when the angle θ is 0 °), CC bonds in most PVA molecules constituting the polarizer 8 are formed along the absorption axis A. Have been. Therefore, when the reference line L is parallel to the absorption axis A, the mechanical strength of the polarizer 8 in the direction parallel to the reference line L is significantly high, and the formation of cracks in the cutouts 7C 'is significantly suppressed. . However, even when the reference line L is orthogonal to the absorption axis A of the polarizer 8, the effect of the present invention is achieved.

基準線Lが吸収軸線Aとなす角度θが小さいほど、切欠き部7C’においてクラックが形成され難い。角度θは、0°以上75°以下、又は0°以上60°以下であってよい。   The smaller the angle θ between the reference line L and the absorption axis A, the more difficult it is for a crack to be formed in the notch 7C '. May be between 0 ° and 75 °, or between 0 ° and 60 °.

図2中の(a)、図2中の(b)又は図3に示されるように、打ち抜き加工によって得られる第二積層体7’は、切欠き部7C’が形成された第一端部7eと、第一端部7eの反対側に位置する第二端部17eと、を有してよい。打ち抜き加工では、切欠き部7C’を、第一端部7eから第二端部17eへ向かって延ばしてよい。そして、切欠き部7C’が延びる方向Eを、偏光子8の吸収軸線Aと平行でない方向に調整してよい。換言すると、切欠き部7C’が延びる方向Eが吸収軸線Aとなす角度αが、0°よりも大きく90°以下であってよい。第切欠き部7C’が延びる方向Eは、切欠き部7C’の長手方向に等しくてよい。つまり、切欠き部7C’の長手方向は、切欠き部7C’が延びる方向Eに沿っていてよい。第一端部7e及び第二端部17eのいずれも直線状であってよく、第一端部7eは第二端部17eと平行であってよい。   As shown in (a) in FIG. 2, (b) in FIG. 2 or FIG. 3, the second laminated body 7 ′ obtained by the punching process has a first end portion in which a cutout portion 7C ′ is formed. 7e and a second end 17e opposite to the first end 7e. In the punching process, the notch 7C 'may be extended from the first end 7e toward the second end 17e. Then, the direction E in which the notch 7C 'extends may be adjusted to a direction that is not parallel to the absorption axis A of the polarizer 8. In other words, the angle α formed by the direction E in which the notch 7C 'extends and the absorption axis A may be greater than 0 ° and 90 ° or less. The direction E in which the notch 7C 'extends may be equal to the longitudinal direction of the notch 7C'. That is, the longitudinal direction of the notch 7C 'may be along the direction E in which the notch 7C' extends. Both the first end 7e and the second end 17e may be linear, and the first end 7e may be parallel to the second end 17e.

切欠き部7C’が延びる方向Eが、偏光子8の吸収軸線Aと平行でない場合、PVA分子間の架橋結合に比べて強固なPVA分子内のC‐C結合が、方向Eに垂直な方向における偏光子8の機械的強度を高める。その結果、切欠き部7C’の深部7Cdが、方向Eに略垂直な方向において収縮したとしても、切欠き部7C’においてクラックが形成され難い。方向Eが吸収軸線Aとなす角度αが大きいほど、切欠き部7C’においてクラックが形成され難い。特に、方向Eが吸収軸線Aと垂直である場合(角度αが90°である場合)、偏光子8を構成する殆どのPVA分子内のC‐C結合が、方向Eに対して垂直に形成されている。したがって、方向Eが吸収軸線Aと垂直である場合、方向Eに垂直な方向における偏光子8の機械的強度が顕著に高く、切欠き部7C’におけるクラックの形成が顕著に抑制される。ただし、切欠き部7C’が延びる方向Eが偏光子8の吸収軸線Aと平行である場合であっても、本発明の効果は奏される。   When the direction E in which the notch portion 7C 'extends is not parallel to the absorption axis A of the polarizer 8, the CC bond in the PVA molecule which is stronger than the cross-linking between PVA molecules becomes a direction perpendicular to the direction E. , The mechanical strength of the polarizer 8 is increased. As a result, even if the deep portion 7Cd of the notch 7C 'contracts in a direction substantially perpendicular to the direction E, a crack is not easily formed in the notch 7C'. The larger the angle α between the direction E and the absorption axis A, the more difficult it is for a crack to be formed in the notch 7C '. In particular, when the direction E is perpendicular to the absorption axis A (when the angle α is 90 °), CC bonds in most PVA molecules constituting the polarizer 8 are formed perpendicular to the direction E. Have been. Therefore, when the direction E is perpendicular to the absorption axis A, the mechanical strength of the polarizer 8 in the direction perpendicular to the direction E is significantly high, and the formation of cracks in the notch 7C 'is significantly suppressed. However, even when the direction E in which the notch 7C 'extends is parallel to the absorption axis A of the polarizer 8, the effect of the present invention is achieved.

基準線Lに平行な方向における切欠き部7Cの幅Wcは、例えば、2mm以上600mm未満、又は5mm以上30mm以下であってよい。幅Wcは、第二積層体7の端部(第一端部7e)に平行な方向における切欠き部7Cの幅と言い換えてよい。切削・研磨工具による研磨加工に伴って、切欠き部7C’の幅W’cが拡がってもよい。つまり、研磨加工後の切欠き部7Cの幅Wcは、研磨加工前の切欠き部7C’の幅W’cよりも大きくてよい。基準線Lに平行な方向における第二積層体7全体の幅Wは、例えば、30mm以上600mm以下であってよい。第二積層体7全体の幅Wは、基準線Lに平行な方向における第二積層体7全体の幅と言い換えてよい。切削・研磨工具による研磨加工に伴って、第二積層体7全体の幅Wが狭まってもよい。第二積層体7全体の幅Wは、偏光板全体(研磨加工後の第二積層体7全体)の幅と言い換えてよい。切欠き部7Cの幅Wcは、第二積層体7全体の幅W未満であればよい。切欠き部7Cの幅Wcが5mm以上30mm以下である場合、第二積層体7全体の幅W(偏光板全体の幅)は、20mmより大きく160mm以下、好ましくは25mmより大きく130mm以下、より好ましくは30mmより大きく100mm以下、さらに好ましくは30mmより大きく70mm以下であってよい(但し、Wc<W)。切欠き部7Cの幅Wcと第二積層体7全体の幅Wとの比Wc/Wは、0.05以上1.0未満、0.08以上1.0未満、0.10以上1.0未満、又は0.13以上1.0未満、好ましくは0.15以上1.0未満、又は0.17以上1.0未満、より好ましくは0.20以上1.0未満、又は0.22以上1.0未満、さらに好ましくは0.30以上1.0未満、0.33以上1.0未満、又は0.40以上1.0未満であってよい。比Wc/Wは、0.05以上0.90以下、0.05以上0.80以下、0.05以上0.78以下、0.05以上0.45以下、又は0.40以上0.80以下であってもよい。Wc/Wは、切欠き部7Cの幅Wcと第一端部7e全体の幅Wとの比と言い換えてよい。Wc/Wが上記の範囲にある場合、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。その理由は、次の通りである。切欠き部7Cの幅Wcが第二積層体7全体の幅Wよりも小さいほど、温度変化に伴う第二積層体7全体の収縮に因り、切欠き部7Cの幅Wcを拡げる力が生じ易く、切欠き部7Cにクラックが生じ易い。つまりWc/Wが小さいほど、切欠き部7Cにクラックが生じ易い。一方、Wc/Wが大きいほど(第二積層体7全体の幅Wが小さいほど)、温度変化に伴う第二積層体7全体の収縮量が低減される。つまり、第二積層体7全体の幅Wが小さいほど、第二積層体7の全体の幅Wの変化量の絶対値が低減される。温度変化に伴う第二積層体7全体の収縮量が低減されることに因り、切欠き部7Cの幅Wcを拡げる力が生じ難く、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。ただし、Wc/Wが上記の数値範囲外である場合であっても、切欠き部7Cにおけるクラックを抑制することは可能である。   The width Wc of the notch 7C in the direction parallel to the reference line L may be, for example, 2 mm or more and less than 600 mm, or 5 mm or more and 30 mm or less. The width Wc may be rephrased as the width of the notch 7C in a direction parallel to the end (first end 7e) of the second stacked body 7. The width W'c of the notch 7C 'may increase with the polishing by the cutting / polishing tool. That is, the width Wc of the notch 7C after polishing may be larger than the width W'c of the notch 7C 'before polishing. The width W of the entire second laminate 7 in a direction parallel to the reference line L may be, for example, 30 mm or more and 600 mm or less. The width W of the entire second laminate 7 may be rephrased as the width of the entire second laminate 7 in a direction parallel to the reference line L. The width W of the entire second laminate 7 may be reduced with the polishing by the cutting / polishing tool. The width W of the entire second laminate 7 may be rephrased as the width of the entire polarizing plate (the entire second laminate 7 after polishing). The width Wc of the notch 7C may be smaller than the width W of the entire second laminate 7. When the width Wc of the notch 7C is 5 mm or more and 30 mm or less, the width W of the entire second laminate 7 (the width of the entire polarizing plate) is greater than 20 mm and 160 mm or less, preferably greater than 25 mm and 130 mm or less, more preferably. May be greater than 30 mm and less than or equal to 100 mm, more preferably greater than 30 mm and less than or equal to 70 mm (Wc <W). The ratio Wc / W of the width Wc of the notch 7C to the width W of the entire second laminate 7 is 0.05 or more and less than 1.0, 0.08 or more and less than 1.0, or 0.10 or more and 1.0 or less. Less than, or 0.13 or more and less than 1.0, preferably 0.15 or more and less than 1.0, or 0.17 or more and less than 1.0, more preferably 0.20 or more and less than 1.0, or 0.22 or more It may be less than 1.0, more preferably 0.30 or more and less than 1.0, 0.33 or more and less than 1.0, or 0.40 or more and less than 1.0. The ratio Wc / W is 0.05 to 0.90, 0.05 to 0.80, 0.05 to 0.78, 0.05 to 0.45, or 0.40 to 0.80. It may be as follows. Wc / W may be rephrased as the ratio of the width Wc of the notch 7C to the width W of the entire first end 7e. When Wc / W is in the above range, cracks in notch 7C are likely to be suppressed. The reason is as follows. As the width Wc of the notch 7C is smaller than the width W of the entire second laminate 7, a force for expanding the width Wc of the notch 7C is more likely to be generated due to the contraction of the entire second laminate 7 due to the temperature change. In addition, cracks are easily generated in the notch 7C. That is, as Wc / W is smaller, cracks are more likely to occur in the notch 7C. On the other hand, as Wc / W increases (the width W of the entire second laminate 7 decreases), the amount of contraction of the entire second laminate 7 due to a temperature change is reduced. That is, as the width W of the entire second laminate 7 is smaller, the absolute value of the amount of change in the overall width W of the second laminate 7 is reduced. Since the amount of shrinkage of the entire second laminate 7 due to the temperature change is reduced, a force for expanding the width Wc of the notch 7C is not easily generated, and cracks in the notch 7C are easily suppressed. However, even when Wc / W is out of the above numerical range, it is possible to suppress the crack in the notch 7C.

基準線Lに垂直な方向における切欠き部7Cの長さ(深さ)Dcは、例えば、1mm以上30mm以下であってよい。長さDcは、基準線Lに垂直な方向における切欠き部7Cの深さと言い換えてよい。切削・研磨工具による研磨加工に伴って、切欠き部7C’の長さD’cが延長されてよい。つまり、研磨加工後の切欠き部7Cの長さDcは、研磨加工後の切欠き部7C’の長さD’cよりも長くてよい。基準線Lに垂直な方向における第二積層体7全体の長さDは、例えば、30mm以上600mm以下であってよい。切削・研磨工具による研磨加工に伴って、第二積層体7全体の長さDが狭まってもよい。第二積層体7全体の長さDは、基準線Lに垂直な方向における偏光板全体(研磨加工後の第二積層体7全体)の長さと言い換えてよい。第二積層体7の厚みは、例えば、10μm以上1200μm以下、10μm以上500μm以下、10μm以上300μm以下、又は10μm以上200μm以下であってよい。第二積層体7の厚みは、偏光板全体(研磨加工後の第二積層体7全体)の厚みとおなじであってよい。切欠き部7Cの幅Wcは、切欠き部7Cの長さDcよりも大きくてよい。切欠き部7Cの幅Wcは、切欠き部7Cの長さDcよりも小さくてもよい。切欠き部7Cの幅Wcは、切欠き部7Cの長さDcと等しくてもよい。   The length (depth) Dc of the notch 7C in a direction perpendicular to the reference line L may be, for example, 1 mm or more and 30 mm or less. The length Dc may be rephrased as the depth of the notch 7C in a direction perpendicular to the reference line L. The length D'c of the notch 7C 'may be extended with the polishing by the cutting / polishing tool. That is, the length Dc of the notched portion 7C after the polishing process may be longer than the length D'c of the notched portion 7C 'after the polishing process. The overall length D of the second laminate 7 in a direction perpendicular to the reference line L may be, for example, 30 mm or more and 600 mm or less. The length D of the entire second laminate 7 may be reduced with the polishing by the cutting / polishing tool. The entire length D of the second stacked body 7 may be referred to as the length of the entire polarizing plate (the entire second stacked body 7 after polishing) in a direction perpendicular to the reference line L. The thickness of the second laminate 7 may be, for example, 10 μm or more and 1200 μm or less, 10 μm or more and 500 μm or less, 10 μm or more and 300 μm or less, or 10 μm or more and 200 μm or less. The thickness of the second laminate 7 may be the same as the thickness of the entire polarizing plate (the whole second laminate 7 after polishing). The width Wc of the notch 7C may be larger than the length Dc of the notch 7C. The width Wc of the notch 7C may be smaller than the length Dc of the notch 7C. The width Wc of the notch 7C may be equal to the length Dc of the notch 7C.

打ち抜き加工前の第一積層体の作製方法の詳細は、以下の通りであってよい。   The details of the method for producing the first laminate before the punching may be as follows.

長尺な帯状の偏光子フィルムと、長尺な帯状の複数の光学フィルムと、を貼合して、積層体(第一積層体)を作製してよい。長尺な帯状の偏光子フィルムとは、加工・成形前の偏光子8である。偏光子フィルムの吸収軸線は、加工・成形後の偏光子8の吸収軸線Aと同じであってよい。長尺な帯状の複数の光学フィルムとは、加工・成形前の光学フィルム(3,5,9,13)である。   A laminate (first laminate) may be produced by laminating a long strip-shaped polarizer film and a plurality of long strip-shaped optical films. The long strip-shaped polarizer film is the polarizer 8 before processing and molding. The absorption axis of the polarizer film may be the same as the absorption axis A of the polarizer 8 after processing and molding. The plurality of long strip-shaped optical films are the optical films (3, 5, 9, 13) before processing and molding.

第二積層体7’に含まれる偏光子8の吸収軸線Aの方向は、打ち抜き加工よりも前の時点で既に把握されている。したがって、第一積層体107の打ち抜きの方向を調整することにより、角度θを0°以上90°未満に調整してよい。また、切欠き部7C’を第二積層体7’の第一端部7eに形成する際に、切欠き部7C’の向きを調整することにより、角度αを、0°より大きく90°以下である範囲に制御してよい。偏光子フィルム(偏光子8)における吸収軸線Aの方向自体は、打ち抜き加工よりも前に行うPVAフィルムの延伸の方向及び延伸倍率によって調整・制御されてよい。   The direction of the absorption axis A of the polarizer 8 included in the second laminate 7 'has already been grasped before the punching. Therefore, the angle θ may be adjusted to 0 ° or more and less than 90 ° by adjusting the punching direction of the first laminate 107. When the notch 7C 'is formed at the first end 7e of the second laminate 7', by adjusting the direction of the notch 7C ', the angle α is larger than 0 ° and equal to or less than 90 °. May be controlled in a range. The direction itself of the absorption axis A in the polarizer film (polarizer 8) may be adjusted and controlled by the stretching direction and the stretching ratio of the PVA film performed before the punching.

偏光子8は、延伸、染色及び架橋等の工程によって作製されたフィルム状のポリビニルアルコール系樹脂(PVAフィルム)であってよい。偏光子8の詳細は以下の通りである。   The polarizer 8 may be a film-shaped polyvinyl alcohol-based resin (PVA film) produced by processes such as stretching, dyeing, and crosslinking. Details of the polarizer 8 are as follows.

例えば、まず、PVAフィルムを、一軸方向又は二軸方向に延伸する。一軸方向に延伸された偏光子8の二色比は高い傾向がある。延伸に続いて、染色液を用いて、PVAフィルムをヨウ素、二色性色素(ポリヨウ素)又は有機染料によって染色する。染色液は、ホウ酸、硫酸亜鉛、又は塩化亜鉛を含んでいてもよい。染色前にPVAフィルムを水洗してもよい。水洗により、PVAフィルムの表面から、汚れ及びブロッキング防止剤が除去される。また水洗によってPVAフィルムが膨潤する結果、染色の斑(不均一な染色)が抑制され易い。染色後のPVAフィルムを、架橋のために、架橋剤の溶液(例えば、ホウ酸の水溶液)で処理する。架橋剤による処理後、PVAフィルムを水洗し、続いて乾燥する。以上の手順を経て、偏光子8が得られる。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、又は、酢酸ビニルと他の単量体との共重合体(例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体)であってよい。酢酸ビニルと共重合する他の単量体は、エチレンの他に、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、又はアンモニウム基を有するアクリルアミド類であってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、アルデヒド類で変性されていてもよい。変性されたポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、又はポリビニルブチラールであってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリビニルアルコールの脱水処理物、又はポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルムであってよい。延伸前に染色を行ってもよく、染色液中で延伸を行ってもよい。延伸された偏光子8の長さは、例えば、延伸前の長さの3〜7倍であってよい。   For example, first, the PVA film is stretched uniaxially or biaxially. The dichroic ratio of the polarizer 8 stretched in the uniaxial direction tends to be high. Subsequent to the stretching, the PVA film is dyed with iodine, a dichroic dye (polyiodine) or an organic dye using a dye solution. The staining solution may contain boric acid, zinc sulfate, or zinc chloride. Before dyeing, the PVA film may be washed with water. Washing removes dirt and an anti-blocking agent from the surface of the PVA film. In addition, as a result of swelling of the PVA film by washing with water, spots of dyeing (uneven dyeing) are easily suppressed. The dyed PVA film is treated with a solution of a crosslinking agent (for example, an aqueous solution of boric acid) for crosslinking. After treatment with the crosslinking agent, the PVA film is washed with water and subsequently dried. Through the above procedure, the polarizer 8 is obtained. The polyvinyl alcohol-based resin is obtained by saponifying a polyvinyl acetate-based resin. The polyvinyl acetate resin is, for example, polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and another monomer (for example, an ethylene-vinyl acetate copolymer). Good. Other monomers copolymerized with vinyl acetate may be, in addition to ethylene, unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, or acrylamides having an ammonium group. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified with aldehydes. The modified polyvinyl alcohol-based resin may be, for example, partially formalized polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, or polyvinyl butyral. The polyvinyl alcohol-based resin may be a polyene-based oriented film such as a dehydrated polyvinyl alcohol or a dehydrochlorinated polyvinyl chloride. Dyeing may be performed before stretching, or stretching may be performed in a dyeing solution. The length of the stretched polarizer 8 may be, for example, 3 to 7 times the length before stretching.

偏光子8の厚みは、例えば、1μm以上50μm以下、1μm以上10μm以下、1μm以上8μm以下、1μm以上7μm以下、又は4μm以上30μm以下であってよい。偏光子8が薄いほど、温度変化に伴う偏光子8自体の収縮が抑制され、偏光子8自体の寸法の変化が抑制される。その結果、応力が偏光子8に作用し難く、偏光子8におけるクラックが抑制され易い。   The thickness of the polarizer 8 may be, for example, 1 μm to 50 μm, 1 μm to 10 μm, 1 μm to 8 μm, 1 μm to 7 μm, or 4 μm to 30 μm. As the polarizer 8 is thinner, the shrinkage of the polarizer 8 itself due to the temperature change is suppressed, and the change in the dimension of the polarizer 8 itself is suppressed. As a result, stress does not easily act on the polarizer 8, and cracks in the polarizer 8 are easily suppressed.

第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9は、透光性を有する熱可塑性樹脂であればよく、光学的に透明な熱可塑性樹脂であってもよい。第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9を構成する樹脂は、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィンポリマー系樹脂(COP系樹脂)、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、又はこれらの混合物若しくは共重合体であってよい。第一保護フィルム5の組成は、第二保護フィルム9の組成と全く同じであってよい。第一保護フィルム5の組成は、第二保護フィルム9の組成と異なっていてもよい。   The first protective film 5 and the second protective film 9 may be a thermoplastic resin having a light transmitting property, and may be an optically transparent thermoplastic resin. The resin constituting the first protective film 5 and the second protective film 9 is, for example, a chain polyolefin resin, a cyclic olefin polymer resin (COP resin), a cellulose ester resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, or It may be a (meth) acrylic resin, a polystyrene resin, or a mixture or copolymer thereof. The composition of the first protective film 5 may be exactly the same as the composition of the second protective film 9. The composition of the first protective film 5 may be different from the composition of the second protective film 9.

鎖状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ポリエチレン樹脂又はポリプロピレン樹脂のような鎖状オレフィンの単独重合体であってよい。鎖状ポリオレフィン系樹脂は、二種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体であってもよい。   The chain polyolefin-based resin may be, for example, a homopolymer of a chain olefin such as a polyethylene resin or a polypropylene resin. The chain polyolefin resin may be a copolymer composed of two or more chain olefins.

環状オレフィンポリマー系樹脂(環状ポリオレフィン系樹脂)は、例えば、環状オレフィンの開環(共)重合体、又は環状オレフィンの付加重合体であってよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、例えば、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体(例えば、ランダム共重合体)であってよい。共重合体を構成する鎖状オレフィンは、例えば、エチレン又はプロピレンであってよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、上記の重合体を不飽和カルボン酸若しくはその誘導体で変性したグラフト重合体、又はそれらの水素化物であってもよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、例えば、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系モノマー等のノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂であってよい。   The cyclic olefin polymer-based resin (cyclic polyolefin-based resin) may be, for example, a ring-opened (co) polymer of a cyclic olefin or an addition polymer of a cyclic olefin. The cyclic olefin polymer-based resin may be, for example, a copolymer of a cyclic olefin and a chain olefin (for example, a random copolymer). The chain olefin constituting the copolymer may be, for example, ethylene or propylene. The cyclic olefin polymer-based resin may be a graft polymer obtained by modifying the above polymer with an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, or a hydride thereof. The cyclic olefin polymer-based resin may be, for example, a norbornene-based resin using a norbornene-based monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene-based monomer.

セルロースエステル系樹脂は、例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース(TAC))、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート又はセルロースジプロピオネートであってよい。これらの共重合物を用いてもよい。水酸基の一部が他の置換基で修飾されたセルロースエステル系樹脂を用いてもよい。   The cellulose ester-based resin may be, for example, cellulose triacetate (triacetyl cellulose (TAC)), cellulose diacetate, cellulose tripropionate, or cellulose dipropionate. These copolymers may be used. A cellulose ester resin in which a part of hydroxyl groups is modified with another substituent may be used.

セルロースエステル系樹脂以外のポリエステル系樹脂を用いてもよい。ポリエステル系樹脂は、例えば、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、ジカルボン酸又はその誘導体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、又はナフタレンジカルボン酸ジメチルであってよい。多価アルコールは、例えば、ジオールであってよい。多価アルコールは、例えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、又はシクロヘキサンジメタノールであってよい。   A polyester resin other than the cellulose ester resin may be used. The polyester resin may be, for example, a polycondensate of a polyhydric carboxylic acid or a derivative thereof and a polyhydric alcohol. The polycarboxylic acid or a derivative thereof may be a dicarboxylic acid or a derivative thereof. The polycarboxylic acid or derivative thereof may be, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, or dimethyl naphthalenedicarboxylate. The polyhydric alcohol may be, for example, a diol. The polyhydric alcohol may be, for example, ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, or cyclohexanedimethanol.

ポリエステル系樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、又はポリシクロヘキサンジメチルナフタレートであってよい。   The polyester resin may be, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, polytrimethylene naphthalate, polycyclohexane dimethyl terephthalate, or polycyclohexane dimethyl naphthalate. .

ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介して重合単位(モノマー)が結合された重合体である。ポリカーボネート系樹脂は、修飾されたポリマー骨格を有する変性ポリカーボネートであってよく、共重合ポリカーボネートであってもよい。   The polycarbonate resin is a polymer in which polymerized units (monomers) are bonded via a carbonate group. The polycarbonate resin may be a modified polycarbonate having a modified polymer skeleton, or may be a copolymerized polycarbonate.

(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例えば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA));メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体;メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体;メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体;(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体(例えば、MS樹脂);メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体等)であってよい。   (Meth) acrylic resin is, for example, poly (meth) acrylate (for example, polymethyl methacrylate (PMMA)); methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl methacrylate- (meth) acrylic Acid ester copolymer; methyl methacrylate-acrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl (meth) acrylate-styrene copolymer (for example, MS resin); methyl methacrylate and alicyclic hydrocarbon It may be a copolymer with a compound having a group (for example, a methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, a methyl methacrylate-norbornyl (meth) acrylate copolymer).

偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)のうち少なくとも一方の光学フィルムが、トリアセチルセルロース(TAC)を含んでよい。偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)のうち少なくとも一方の光学フィルムが、環状オレフィンポリマー系樹脂(COP系樹脂)を含んでよい。偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)のうち少なくとも一方の光学フィルムが、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)を含んでよい。偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)の両方が、トリアセチルセルロースを含んでもよい。偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)のうち一方のフィルムが、トリアセチルセルロースを含み、偏光子8を挟む一対の光学フィルムのうち他方のフィルムが、環状オレフィンポリマーを含んでもよい。偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)のうち一方のフィルムが、トリアセチルセルロースを含み、偏光子8を挟む一対の光学フィルムのうち他方のフィルムが、ポリメタクリル酸メチルを含んでもよい。偏光子8を挟む一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)のうち一方のフィルムが、環状オレフィンポリマー系樹脂を含み、偏光子8を挟む一対の光学フィルムのうち他方のフィルムが、ポリメタクリル酸メチルを含んでもよい。偏光子8が一対の光学フィルム(第一保護フィルム5及び第二保護フィルム9)に挟まれている場合、光学フィルム(保護フィルム)が偏光子8に密着して、温度変化に伴う偏光子8の膨張又は収縮を抑制するので、偏光子8におけるクラックが生じ難い。例えば、偏光子8が、TACからなる第一保護フィルム5と、COP系樹脂からなる第二保護フィルム9とで挟まれている場合、偏光子8におけるクラックが生じ難い。   At least one of the pair of optical films (the first protective film 5 and the second protective film 9) sandwiching the polarizer 8 may include triacetyl cellulose (TAC). At least one of the pair of optical films (the first protective film 5 and the second protective film 9) sandwiching the polarizer 8 may include a cyclic olefin polymer-based resin (COP-based resin). At least one of the pair of optical films (the first protective film 5 and the second protective film 9) sandwiching the polarizer 8 may include polymethyl methacrylate (PMMA). Both of the pair of optical films (the first protective film 5 and the second protective film 9) sandwiching the polarizer 8 may include triacetyl cellulose. One of the pair of optical films sandwiching the polarizer 8 (the first protective film 5 and the second protective film 9) includes triacetyl cellulose, and the other of the pair of optical films sandwiching the polarizer 8 includes , A cyclic olefin polymer. One of the pair of optical films sandwiching the polarizer 8 (the first protective film 5 and the second protective film 9) includes triacetyl cellulose, and the other of the pair of optical films sandwiching the polarizer 8 includes , Polymethyl methacrylate. One of the pair of optical films (the first protective film 5 and the second protective film 9) sandwiching the polarizer 8 includes a cyclic olefin polymer-based resin, and the other one of the pair of optical films sandwiching the polarizer 8 The film may include polymethyl methacrylate. When the polarizer 8 is sandwiched between a pair of optical films (the first protective film 5 and the second protective film 9), the optical film (protective film) adheres to the polarizer 8, and the polarizer 8 accompanying the temperature change. The expansion or contraction of the polarizer 8 is suppressed, so that cracks in the polarizer 8 hardly occur. For example, when the polarizer 8 is sandwiched between the first protective film 5 made of TAC and the second protective film 9 made of a COP-based resin, cracks in the polarizer 8 hardly occur.

第一保護フィルム5又は第二保護フィルム9は、滑剤、可塑剤、分散剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、及び酸化防止剤からな群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含んでよい。   The first protective film 5 or the second protective film 9 is at least one member selected from the group consisting of a lubricant, a plasticizer, a dispersant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antistatic agent, and an antioxidant. It may contain additives.

第一保護フィルム5の厚みは、例えば、5μm以上90μm以下、5μm以上80μm以下、又は5μm以上50μm以下であってよい。第二保護フィルム9の厚みも、例えば、5μm以上90μm以下、5μm以上80μm以下、又は5μm以上50μm以下であってよい。   The thickness of the first protective film 5 may be, for example, 5 μm or more and 90 μm or less, 5 μm or more and 80 μm or less, or 5 μm or more and 50 μm or less. The thickness of the second protective film 9 may be, for example, 5 μm or more and 90 μm or less, 5 μm or more and 80 μm or less, or 5 μm or more and 50 μm or less.

第一保護フィルム5又は第二保護フィルム9は、位相差フィルム又は輝度向上フィルムのように、光学機能を有するフィルムであってよい。例えば、上記熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸したり、該フィルム上に液晶層等を形成したりすることにより、任意の位相差値が付与された位相差フィルムが得られる。   The first protective film 5 or the second protective film 9 may be a film having an optical function, such as a retardation film or a brightness enhancement film. For example, a retardation film having an arbitrary retardation value can be obtained by stretching a film made of the thermoplastic resin or forming a liquid crystal layer or the like on the film.

第一保護フィルム5は、接着層を介して、偏光子8に貼合されていてよい。第二保護フィルム9も、接着層を介して、偏光子8に貼合されていてよい。接着層は、ポリビニルアルコール等の水系接着剤を含んでよく、後述する活性エネルギー線硬化性樹脂を含んでもよい。   The first protective film 5 may be bonded to the polarizer 8 via an adhesive layer. The second protective film 9 may also be bonded to the polarizer 8 via an adhesive layer. The adhesive layer may include a water-based adhesive such as polyvinyl alcohol, and may include an active energy ray-curable resin described later.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線を照射されることにより、硬化する樹脂である。活性エネルギー線は、例えば、紫外線、可視光、電子線、又はX線であってよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂であってよい。   The active energy ray-curable resin is a resin that cures when irradiated with an active energy ray. The active energy ray may be, for example, an ultraviolet ray, a visible light, an electron beam, or an X-ray. The active energy ray-curable resin may be an ultraviolet-curable resin.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、一種の樹脂であってよく、複数種の樹脂を含んでもよい。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂は、カチオン重合性の硬化性化合物、又はラジカル重合性の硬化性化合物を含んでよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤を含んでよい。   The active energy ray-curable resin may be one type of resin, or may include a plurality of types of resins. For example, the active energy ray-curable resin may contain a cationically polymerizable curable compound or a radically polymerizable curable compound. The active energy ray-curable resin may include a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator for initiating a curing reaction of the curable compound.

カチオン重合性の硬化性化合物は、例えば、エポキシ系化合物(分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物)、又はオキセタン系化合物(分子内に少なくとも一つのオキセタン環を有する化合物)であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、例えば、(メタ)アクリル系化合物(分子内に少なくとも一つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、ラジカル重合性の二重結合を有するビニル系化合物であってもよい。   The cationically polymerizable curable compound may be, for example, an epoxy compound (a compound having at least one epoxy group in a molecule) or an oxetane compound (a compound having at least one oxetane ring in a molecule). The radical polymerizable curable compound may be, for example, a (meth) acrylic compound (a compound having at least one (meth) acryloyloxy group in a molecule). The radical polymerizable curable compound may be a vinyl compound having a radical polymerizable double bond.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、必要に応じて、カチオン重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、又は溶剤等を含んでよい。   The active energy ray-curable resin may be, if necessary, a cationic polymerization accelerator, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, a defoamer. Agents, antistatic agents, leveling agents, or solvents.

粘着層11は、例えば、アクリル系感圧型接着剤、ゴム系感圧型接着剤、シリコーン系感圧型接着剤、又はウレタン系感圧型接着剤などの感圧型接着剤を含んでよい。粘着層11の厚みは、例えば、2μm以上500μm以下、2μm以上200μm以下、又は2μm以上50μm以下であってよい。   The adhesive layer 11 may include, for example, a pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, or a urethane-based pressure-sensitive adhesive. The thickness of the adhesive layer 11 may be, for example, 2 μm or more and 500 μm or less, 2 μm or more and 200 μm or less, or 2 μm or more and 50 μm or less.

第三保護フィルム3を構成する樹脂は、第一保護フィルム5又は第二保護フィルム9を構成する樹脂として列挙された上記の樹脂と同じであってよい。第三保護フィルム3の厚みは、例えば、5μm以上200μm以下であってよい。   The resin constituting the third protective film 3 may be the same as the above-mentioned resins listed as the resin constituting the first protective film 5 or the second protective film 9. The thickness of the third protective film 3 may be, for example, not less than 5 μm and not more than 200 μm.

離型フィルム13を構成する樹脂は、第一保護フィルム5又は第二保護フィルム9を構成する樹脂として列挙された上記の樹脂と同じであってよい。離型フィルム13の厚みは、例えば、5μm以上200μm以下であってよい。   The resin constituting the release film 13 may be the same as the resin listed above as the resin constituting the first protective film 5 or the second protective film 9. The thickness of the release film 13 may be, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。   The embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above embodiments.

例えば、第一積層体の打ち抜き加工により、複数の切欠き部を第二積層体に形成していてよい。複数の切欠き部のうち一部の切欠き部の内側に位置する隅部の曲率半径Rを、研磨加工によって減少させてよい。複数の切欠き部のうち全ての切欠き部の内側に位置する隅部の曲率半径Rを研磨加工によって減少させてよい。一つの切欠き部の内側に一つの隅部があってよい。一つの切欠き部の内側に複数の隅部があってもよい。複数の隅部のうち一部の隅部の曲率半径Rを、研磨加工によって減少させてよい。複数の隅部全ての曲率半径Rを、研磨加工によって減少させてもよい。 For example, a plurality of notches may be formed in the second laminate by punching the first laminate. The radius of curvature RL of a corner located inside some of the notches of the plurality of notches may be reduced by polishing. The radius of curvature RL of a corner located inside all the notches of the plurality of notches may be reduced by polishing. There may be one corner inside one notch. There may be a plurality of corners inside one notch. The radius of curvature RL of some of the plurality of corners may be reduced by polishing. The radius of curvature RL of all the plurality of corners may be reduced by polishing.

偏光板及び切欠き部其々の形状は、用途に応じた様々な形であってよい。例えば、図7に示されるように、研磨加工前の切欠き部7C’の形状は、略三角形であってもよい。図8に示されるように、研磨加工後の切欠き部7Cの形状も、略三角形であってもよい。切欠き部(7C’,7C)全体の形状は、半円状又は円弧状であってもよい。切欠き部(7C’,7C)の形状は、四角形又は三角形に限定されず、他の多角形であってもよい。切欠き部(7C’,7C)の深部が複数に枝分かれしていてもよい。   The shapes of the polarizing plate and the notch may be various shapes depending on the application. For example, as shown in FIG. 7, the shape of the notch 7C 'before polishing may be substantially triangular. As shown in FIG. 8, the shape of the notch 7C after the polishing process may be substantially triangular. The entire shape of the notch (7C ', 7C) may be a semicircle or an arc. The shape of the notch (7C ', 7C) is not limited to a square or a triangle, and may be another polygon. The deep portion of the notch (7C ', 7C) may be branched into a plurality.

第二積層体(7’,7)の外縁全体は、四角形以外の多角形であってよい。第二積層体(7’,7)の外縁全体は閉曲線であってもよい。例えば、第二積層体(7’,7)の外縁全体が、円形又は楕円形であってもよい。第二積層体(7’,7)の外縁の一部が直線状であってよく、第二積層体(7’,7)の外縁の残部が曲線状であってもよい。完成された偏光板の外縁の形状は、第二積層体(7’,7)の外縁の形状と略同じであってよい。   The entire outer edge of the second laminate (7 ', 7) may be a polygon other than a square. The entire outer edge of the second laminate (7 ', 7) may be a closed curve. For example, the entire outer edge of the second laminate (7 ', 7) may be circular or oval. A part of the outer edge of the second laminate (7 ', 7) may be linear, and the remaining outer edge of the second laminate (7', 7) may be curved. The shape of the outer edge of the completed polarizing plate may be substantially the same as the shape of the outer edge of the second laminate (7 ', 7).

切欠き部7C’が形成される第一端部7eは、第二端部17eと平行でなくてもよい。第一端部7eが第二端部17eと平行でなく、且つ切欠き部7Cの深部7Cd(底部)が直線状である場合、「切欠き部7C’の延びる方向E」とは、一対の角部7C1,7C2を結ぶ線分を二等分し、且つ切欠き部7C’の深部7Cdを二等分する直線に平行であってよい。第一端部7eが第二端部17eと平行でなく、且つ切欠き部7Cの深部7Cdが曲線状である場合、「切欠き部7Cの延びる方向E」は、切欠き部7Cの深部7Cd(最深部)と、角部7C1,7C2を結ぶ線分の中点と、を結ぶ直線に平であってよい。   The first end 7e in which the cutout 7C 'is formed may not be parallel to the second end 17e. When the first end 7e is not parallel to the second end 17e and the deep portion 7Cd (bottom) of the notch 7C is straight, the “direction E in which the notch 7C ′ extends” is defined as a pair of A line segment connecting the corners 7C1 and 7C2 may be bisected, and may be parallel to a straight line bisecting the deep portion 7Cd of the notch 7C '. When the first end 7e is not parallel to the second end 17e and the deep portion 7Cd of the notch 7C is curved, the “direction E in which the notch 7C extends” is the deep portion 7Cd of the notch 7C. It may be flat as a straight line connecting the (deepest part) and the midpoint of the line connecting the corners 7C1 and 7C2.

第二積層体(7’,7)又は偏光板を構成する光学フィルムの種類、数及び積層の順序は、限定されない。光学フィルムは、反射型偏光フィルム、防眩機能付フィルム、表面反射防止機能付フィルム、反射フィルム、半透過反射フィルム、視野角補償フィルム、光学補償層、タッチセンサー層、帯電防止層又は防汚層であってもよい。第二積層体(7’,7)又は偏光板が、ハードコート層をさらに備えてもよい。   The type and number of optical films constituting the second laminate (7 ', 7) or the polarizing plate and the order of lamination are not limited. The optical film is a reflective polarizing film, a film with an antiglare function, a film with a surface antireflection function, a reflective film, a transflective film, a viewing angle compensation film, an optical compensation layer, a touch sensor layer, an antistatic layer, or an antifouling layer. It may be. The second laminate (7 ', 7) or the polarizing plate may further include a hard coat layer.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
偏光子フィルム(切断前の偏光子8)と4枚の光学フィルム(3,5,9,13)と感圧型の粘着層11とから構成される長方形状の第一積層体107を作製した。第一積層体107は、離型フィルム13と、離型フィルム13に重なる粘着層11と、粘着層11に重なる第二保護フィルム9と、第二保護フィルム9に重なる偏光子フィルム(7)と、偏光子フィルム(7)に重なる第一保護フィルム5と、第一保護フィルム5に重なる第三保護フィルム3と、を備えていた。偏光子フィルム(7)としては、延伸され、且つ染色されたフィルム状のポリビニルアルコールを用いた。第一保護フィルム5としては、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムを用いた。第二保護フィルム9としては、環状オレフィンポリマー系樹脂(COP系樹脂)から構成されるフィルムを用いた。第三保護フィルム3としては、PETプロテクトフィルムを用いた。離型フィルム13としては、PETセパレーターを用いた。離型フィルム13の厚みは、38μmであった。粘着層11の厚みは、20μmであった。第二保護フィルム9の厚みは、13μmであった。偏光子8の厚みは、7μmであった。第一保護フィルム5の厚みは、25μmであった。第三保護フィルム3の厚みは、58μmであった。
(Example 1)
A rectangular first laminate 107 composed of a polarizer film (polarizer 8 before cutting), four optical films (3, 5, 9, 13), and a pressure-sensitive adhesive layer 11 was produced. The first laminate 107 includes a release film 13, an adhesive layer 11 overlapping the release film 13, a second protective film 9 overlapping the adhesive layer 11, and a polarizer film (7) overlapping the second protective film 9. , A first protective film 5 overlapping the polarizer film (7), and a third protective film 3 overlapping the first protective film 5. Stretched and dyed film-like polyvinyl alcohol was used as the polarizer film (7). As the first protective film 5, a triacetyl cellulose (TAC) film was used. As the second protective film 9, a film composed of a cyclic olefin polymer-based resin (COP-based resin) was used. As the third protective film 3, a PET protect film was used. As the release film 13, a PET separator was used. The thickness of the release film 13 was 38 μm. The thickness of the adhesive layer 11 was 20 μm. The thickness of the second protective film 9 was 13 μm. The thickness of the polarizer 8 was 7 μm. The thickness of the first protective film 5 was 25 μm. The thickness of the third protective film 3 was 58 μm.

第一積層体107の打ち抜き加工により、切欠き部7C’が形成された第二積層体7’を作製した。第二積層体7’全体の形状(外縁)は、略長方形であった。打ち抜き加工では、第二積層体7’の横辺(切欠き部7C’が形成された第一端部7e)の幅Wを、150mmに調整した。第二積層体7’の縦辺の幅(第二積層体7’全体の長さD)を、80mmに調整した。   By punching the first laminated body 107, a second laminated body 7 'having a cutout 7C' was formed. The entire shape (outer edge) of the second laminate 7 'was substantially rectangular. In the punching process, the width W of the side (the first end 7e where the notch 7C 'was formed) of the second laminate 7' was adjusted to 150 mm. The width of the vertical side of the second laminate 7 '(the entire length D of the second laminate 7') was adjusted to 80 mm.

打ち抜き加工では、凹状の切欠き部7C’を、第二積層体7’の第一端部7eの略中央部に形成した。図4に示されるように、切欠き部7C’の形状は、略長方形であった。第二積層体7’の積層方向からみた切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径Rは、3.0mmに調整した。つまり、研磨加工前の隅部7Cの曲率半径Rは3.0mmであった。切欠き部7C’の幅W’cは、20mmに調整した。切欠き部7C’の長さD’cは、10mmに調整した。 In the punching process, a concave cutout portion 7C 'was formed substantially at the center of the first end 7e of the second laminate 7'. As shown in FIG. 4, the shape of the notch 7C ′ was substantially rectangular. The radius of curvature R L of the corner portion 7C L of the second 'notch 7C viewed from the laminating direction of the' stacked body 7 was adjusted to 3.0 mm. In other words, the radius of curvature R L of the corner portion 7C L before polishing was 3.0 mm. The width W'c of the notch 7C 'was adjusted to 20 mm. The length D'c of the notch 7C 'was adjusted to 10 mm.

研磨加工前の切欠き部7C’の全体を光学顕微鏡で観察した。観察の結果、少数のクラックが切欠き部7C’に形成されていることが確認された。各クラックの長さを測定した。クラックの長さとしては、クラックの一方の端部とクラックの他方の端部との間の距離を測定した。クラックの長さの最大値は、300μmであった。   The entire cutout 7C 'before polishing was observed with an optical microscope. As a result of the observation, it was confirmed that a small number of cracks were formed in the notch 7C '. The length of each crack was measured. As the length of the crack, a distance between one end of the crack and the other end of the crack was measured. The maximum value of the crack length was 300 μm.

打ち抜き加工に続いて、隅部7Cを含む切欠き部7C’の内側全体をエンドミルで均一に研磨した。つまり、研磨加工により、隅部7Cの曲率半径Rを減少させた。エンドミルによって第二積層体7’の隅部7Cから削り取られた部分の幅は、300μmに調整した。図5に示されるように、第二積層体7の積層方向からみた研磨加工後の切欠き部7Cの隅部7Cの曲率半径Rは、2.0mmに調整した。 Following stamping, and the whole inside of the notched portion 7C 'including the corner portion 7C L uniformly polished end mill. That is, by polishing, reduced the curvature radius R L of the corner portion 7C L. Width of the portion shaved off from the corner portion 7C L of the second stacked body 7 'by end mill was adjusted to 300 [mu] m. As shown in FIG. 5, the curvature radius R S of the corner portion 7C S notches 7C after polishing viewed from the laminating direction of the second stacked body 7 was adjusted to 2.0 mm.

以上の工程により、実施例1の偏光板(第二積層体7)を完成させた。偏光板に形成された凹状の切欠き部の全体を光学顕微鏡で観察した。実施例1の欠き部7C(研磨加工後の切欠き部7C)にはクラックが形成されていなかった。   Through the steps described above, the polarizing plate (second laminated body 7) of Example 1 was completed. The whole of the concave notch formed in the polarizing plate was observed with an optical microscope. No crack was formed in the notch 7C of Example 1 (notch 7C after polishing).

(実施例2)
実施例2の打ち抜き加工では、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径Rを、2.5mmに調整した。曲率半径Rの値を除いて実施例1と同様の方法で、実施例2の第二積層体7’(研磨加工前の第二積層体7’)を作製した。実施例2の第二積層体7’に形成された切欠き部7C’の全体を光学顕微鏡で観察した。観察の結果、少数のクラックが切欠き部7C’に形成されていることが確認された。クラックの長さの最大値は、350μmであった。
(Example 2)
The stamping of Example 2, the curvature radius R L of the corner portion 7C L notches 7C ', was adjusted to 2.5 mm. A second laminate 7 'of Example 2 (a second laminate 7' before polishing) was produced in the same manner as in Example 1, except for the value of the radius of curvature RL . The entire cutout 7C 'formed in the second laminate 7' of Example 2 was observed with an optical microscope. As a result of the observation, it was confirmed that a small number of cracks were formed in the notch 7C '. The maximum value of the crack length was 350 μm.

研磨加工前の曲率半径Rの値を除いて実施例1と同様の方法で、実施例2の偏光板(第二積層体7)を完成させた。実施例2の偏光板に形成された切欠き部7Cの全体を光学顕微鏡で観察した。実施例2の欠き部7C(研磨加工後の切欠き部7C)にはクラックが形成されていなかった。 A polarizing plate (second laminate 7) of Example 2 was completed in the same manner as in Example 1 except for the value of the radius of curvature RL before polishing. The entire cutout 7C formed in the polarizing plate of Example 2 was observed with an optical microscope. No crack was formed in the notch 7C of Example 2 (notch 7C after polishing).

(実施例3)
実施例3の打ち抜き加工では、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径Rを、2.3mmに調整した。曲率半径Rの値を除いて実施例1と同様の方法で、実施例3の第二積層体7’(研磨加工前の第二積層体7’)を作製した。実施例3の第二積層体7’に形成された切欠き部7C’の全体を光学顕微鏡で観察した。観察の結果、少数のクラックが切欠き部7C’に形成されていることが確認された。クラックの長さの最大値は、350μmであった。
(Example 3)
The stamping of Example 3, the curvature radius R L of the corner portion 7C L notches 7C ', was adjusted to 2.3 mm. A second laminate 7 'of Example 3 (a second laminate 7' before polishing) was produced in the same manner as in Example 1 except for the value of the radius of curvature RL . The entire cutout 7C 'formed in the second laminate 7' of Example 3 was observed with an optical microscope. As a result of the observation, it was confirmed that a small number of cracks were formed in the notch 7C '. The maximum value of the crack length was 350 μm.

研磨加工前の曲率半径Rの値を除いて実施例1と同様の方法で、実施例3の偏光板(第二積層体7)を完成させた。実施例3の偏光板に形成された切欠き部7Cの全体を光学顕微鏡で観察した。実施例3の欠き部7C(研磨加工後の切欠き部7C)にはクラックが形成されていなかった。 A polarizing plate (second laminated body 7) of Example 3 was completed in the same manner as in Example 1 except for the value of the radius of curvature RL before polishing. The entire cutout 7C formed in the polarizing plate of Example 3 was observed with an optical microscope. No crack was formed in the notch 7C of Example 3 (the notch 7C after polishing).

(実施例4)
実施例4の打ち抜き加工では、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径Rを、2.1mmに調整した。曲率半径Rの値を除いて実施例1と同様の方法で、実施例4の第二積層体7’(研磨加工前の第二積層体7’)を作製した。実施例4の第二積層体7’に形成された切欠き部7C’の全体を光学顕微鏡で観察した。観察の結果、少数のクラックが切欠き部7C’に形成されていることが確認された。クラックの長さの最大値は、400μmであった。
(Example 4)
The stamping of the fourth embodiment, the curvature radius R L of the corner portion 7C L notches 7C ', was adjusted to 2.1 mm. A second laminate 7 'of Example 4 (a second laminate 7' before polishing) was produced in the same manner as in Example 1 except for the value of the radius of curvature RL . The entire cutout 7C 'formed in the second laminate 7' of Example 4 was observed with an optical microscope. As a result of the observation, it was confirmed that a small number of cracks were formed in the notch 7C '. The maximum value of the crack length was 400 μm.

研磨加工前の曲率半径Rの値を除いて実施例1と同様の方法で、実施例4の偏光板(第二積層体7)を完成させた。実施例4の偏光板に形成された切欠き部7Cの全体を光学顕微鏡で観察した。実施例4の欠き部7C(研磨加工後の切欠き部7C)には、少数のクラックが残っていた。しかし、研磨加工後の切欠き部7Cに残っていたクラックの数は、研磨加工前の切欠き部7C’に形成されていたクラックの数よりも少なかった。研磨加工後の切欠き部7Cに残っていたクラックの長さの最大値は、研磨加工前の切欠き部7C’に形成されていたクラックの長さの最大値よりも小さかった。 A polarizing plate (second laminated body 7) of Example 4 was completed in the same manner as in Example 1 except for the value of the radius of curvature RL before polishing. The entire cutout 7C formed in the polarizing plate of Example 4 was observed with an optical microscope. A small number of cracks remained in the notched portion 7C of Example 4 (notched portion 7C after polishing). However, the number of cracks remaining in the notch 7C after the polishing was smaller than the number of cracks formed in the notch 7C 'before the polishing. The maximum value of the length of the crack remaining in the notch 7C after the polishing was smaller than the maximum value of the length of the crack formed in the notch 7C 'before the polishing.

(比較例1)
比較例1の打ち抜き加工では、切欠き部7C’の隅部7Cの曲率半径Rを、2.0mmに調整した。また比較例1では、研磨加工を実施しなかった。つまり、比較例1では、抜き加工と研磨加工との2つのステップを経ずに、一度の打ち抜き加工のみによって、実施例1〜4の同様の形状及び寸法を有する偏光板を作製した。
(Comparative Example 1)
The stamping of Comparative Example 1, the curvature radius R L of the corner portion 7C L notches 7C ', was adjusted to 2.0 mm. In Comparative Example 1, the polishing was not performed. That is, in Comparative Example 1, a polarizing plate having the same shape and dimensions as those of Examples 1 to 4 was manufactured by only one punching process without going through two steps of punching and polishing.

比較例1の偏光板に形成された切欠き部の全体を光学顕微鏡で観察した。比較例1の欠き部には、多数のクラックが形成されていた。比較例1の切欠き部に形成されたクラックの数は、実施例1〜4の研磨加工後の切欠き部7Cに形成されていたクラックの数よりも多かった。比較例1の切欠き部に形成されたクラックの長さの最大値は、実施例1〜4の研磨加工後の切欠き部7Cに形成されていたクラックの長さの最大値よりも大きかった。   The entire cutout formed in the polarizing plate of Comparative Example 1 was observed with an optical microscope. Many cracks were formed in the notched portion of Comparative Example 1. The number of cracks formed in the notch portion of Comparative Example 1 was larger than the number of cracks formed in the notched portion 7C after polishing in Examples 1 to 4. The maximum value of the length of the crack formed in the notch of Comparative Example 1 was larger than the maximum value of the length of the crack formed in the notch 7C after the polishing in Examples 1 to 4. .

本発明に係る偏光板は、例えば、液晶セル又は有機ELデバイス等に貼着され、液晶テレビ、有機ELテレビ又はスマートフォン等の画像表示装置を構成する光学部品として適用される。   The polarizing plate according to the present invention is attached to, for example, a liquid crystal cell or an organic EL device, and is applied as an optical component constituting an image display device such as a liquid crystal television, an organic EL television, or a smartphone.

7…研磨加工後の第二積層体(偏光板)、7’…研磨加工前の第二積層体、3…第三保護フィルム、5…第一保護フィルム、8…フィルム状の偏光子、7C…研磨加工後の凹状の切欠き部、7C’…研磨加工前の凹状の切欠き部、7C1,7C2…切欠き部7C’の両端に位置する一対の角部、7C…研磨加工前の切欠き部7C’の隅部、7C…研磨加工後の切欠き部7Cの隅部、7e…第二積層体7’の第一端部、9…第二保護フィルム、7Cd…切欠き部7C’の深部、11…粘着層、13…離型フィルム、17e…第二積層体7’の第二端部、107…第一積層体、R…研磨加工前の隅部7Cの曲率半径、R…研磨加工後の隅部7Cの曲率半径、L…基準線、A…吸収軸線、E…切欠き部7C’が延びる方向、θ…基準線Lが吸収軸線Aとなす角度、α…切欠き部7C’の延びる方向Eが偏光子8の吸収軸線Aとがなす角度。 7: Second laminated body (polarizing plate) after polishing, 7 ': Second laminated body before polishing, 3: Third protective film, 5: First protective film, 8: Film-shaped polarizer, 7C .., A concave notch after polishing, 7C ′: a concave notch before polishing, 7C1, 7C2, a pair of corners located at both ends of the notch 7C ′, 7C L , before polishing. notch 7C 'corners of the corner portions of 7C S ... notch 7C after polishing, 7e ... second laminate 7' first end of the, 9 ... second protective film, 7Cd ... notch 7C 'deep, 11 ... adhesive layer, 13 ... release film, 17e ... second laminate 7' second end of the, 107 ... first laminate curvature R L ... polished front corner portion 7C L radius, R S ... curvature radius of the corner portion 7C S after polishing, L ... reference line, a ... absorption axis, E ... notch 7C 'extend direction, theta ... reference line L Angle between Osamujiku line A, alpha ... notch 7C 'of extending direction E absorption axis A and the angle of the polarizer 8.

Claims (6)

フィルム状の偏光子と前記偏光子に重なる少なくとも一つの光学フィルムとを含む第一積層体を作製する工程と、
前記第一積層体の打ち抜きにより、凹状の切欠き部が形成された第二積層体を作製する工程と、
前記切欠き部の内側に位置する隅部を研磨して、前記隅部の曲率半径を減少させる工程と、
を備え
前記隅部が研磨される前では、前記第二積層体の積層方向からみた前記隅部が略曲線状であり、且つ前記隅部の曲率半径がR であり、
前記隅部が研磨された後では、前記第二積層体の積層方向からみた前記隅部の曲率半径がR であり、
前記R が前記Rsよりも大きい、
偏光板の製造方法。
A step of producing a first laminate including a film-shaped polarizer and at least one optical film overlapping the polarizer,
By punching the first laminate, a step of producing a second laminate in which a concave notch is formed,
Polishing a corner located inside the notch to reduce the radius of curvature of the corner,
Equipped with a,
Before the corner is polished, the corner seen from the laminating direction of the second laminate is substantially curved, and the radius of curvature of the corner is RL ,
After the corner is polished, the radius of curvature of the corner as viewed from the laminating direction of the second laminate is R S ,
The RL is greater than the Rs;
A method for manufacturing a polarizing plate.
前記隅部をエンドミルにより研磨する、
請求項1に記載の偏光板の製造方法。
Polishing the corner by an end mill,
A method for manufacturing the polarizing plate according to claim 1 .
前記第二積層体が、前記偏光子の吸収軸線Aに直交しない第一端部を有し、
前記切欠き部が前記第一端部に形成される、
請求項1又は2に記載の偏光板の製造方法。
The second laminate has a first end that is not orthogonal to the absorption axis A of the polarizer,
The notch is formed in the first end,
Method for producing a polarizing plate according to claim 1 or 2.
前記第二積層体が、前記第一端部の反対側に位置する第二端部を有し、
前記切欠き部が前記第一端部に形成され、
前記切欠き部が、前記第一端部から前記第二端部へ向かって延びており、
前記切欠き部が延びる方向Eが、前記吸収軸線Aと平行でない、
請求項に記載の偏光板の製造方法。
The second laminate has a second end located opposite to the first end,
The notch is formed in the first end,
The notch extends from the first end toward the second end,
The direction E in which the notch extends is not parallel to the absorption axis A;
A method for producing the polarizing plate according to claim 3 .
前記第二積層体が、第一端部と、前記第一端部の反対側に位置する第二端部と、を有し、
前記切欠き部が前記第一端部に形成され、
前記切欠き部が、前記第一端部から前記第二端部へ向かって延びており、
前記切欠き部が延びる方向Eが、前記偏光子の吸収軸線Aと平行でない、
請求項1又は2に記載の偏光板の製造方法。
The second laminate has a first end and a second end located on the opposite side of the first end,
The notch is formed in the first end,
The notch extends from the first end toward the second end,
The direction E in which the notch extends is not parallel to the absorption axis A of the polarizer,
Method for producing a polarizing plate according to claim 1 or 2.
前記第二積層体の積層方向からみた前記第一端部が、直線状である、The first end as viewed from the stacking direction of the second stacked body is linear.
請求項3〜5のいずれか一項に記載の偏光板の製造方法。A method for producing the polarizing plate according to claim 3.
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