JP6630617B2 - 液体処理装置および液体処理方法 - Google Patents
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Description
実施例1,2では図1の液体処理装置1を用い、比較例1では図2に示す液体処理装置3を用いた。図2の液体処理装置3は、原水槽70と、反応槽72と、処理液槽74と、凝集剤槽76と、原水ポンプ78と、逆洗ポンプ80と、凝集剤ポンプ82と、原水バルブ84と、逆洗排液バルブ86と、逆洗液バルブ88と、処理液バルブ90とを備える。反応槽72には、下から支持層92、後ろ過層94、アンスラサイト層96が形成されている。
[反応槽]
・反応槽本体:圧力式ろ過塔、φ200mm×H3,000mm
・通水条件:ろ過速度10m/h(0.3m3/h)、凝集剤(ポリ塩化アルミニウム(PAC))注入率5mg/L、有効差圧30kPa
・ろ層構成:
(比較例1)
アンスラサイト層:有効径1.0mm、均等係数1.4、層高300mm
後ろ過層(硅砂層):有効径0.7mm、均等係数1.4、層高400mm
支持層:砂利、層高400mm
(実施例1,2)
紫外線発光ろ材層:紫外線発光粒状ろ材 径(φ)2mm×高さ(L)5mm、層高300mm
後ろ過層(硅砂層):有効径0.7mm、均等係数1.4、層高400mm
支持層:砂利、層高400mm
・サイズ:ガス封入部 径(φ)2mm×高さ(L)3mm+比重調整部 径(φ)2mm×高さ(L)2mm
・材質:石英
・封入ガス:水銀ガス、封入圧力10Pa
・沈降速度:35m/h
・処理液槽:0.3m3
・逆洗ポンプ:仕様3m3/h、逆洗LV 35〜45m/h(1.1〜1.4m3/h)×10min
・電源装置:300W(30〜300W可変式)
・マイクロウェーブ発振器:マグネトロン
・周波数:2.45GHz
・導波管:L400mm×W200mm×H300mm、アルミニウム製
・チューナー:スリースタブ方式
Claims (8)
- マイクロウェーブにより紫外線発光する粒状ろ材を充填した紫外線発光ろ材層を有する反応槽と、
マイクロウェーブ発生手段と、
を備え、
前記マイクロウェーブ発生手段により発生させたマイクロウェーブを前記粒状ろ材に照射しながら、固形分を含む被処理液体を前記反応槽に通液させて、前記被処理液体の前記固形分の固液分離処理とともに紫外線照射処理を行うことを特徴とする液体処理装置。 - 請求項1に記載の液体処理装置であって、
前記粒状ろ材の沈降速度が、10〜100m/hの範囲であることを特徴とする液体処理装置。 - 請求項1または2に記載の液体処理装置であって、
前記紫外線発光ろ材層の下流部に後ろ過層を有することを特徴とする液体処理装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の液体処理装置であって、
前記粒状ろ材を逆流洗浄する逆流洗浄手段をさらに備えることを特徴とする液体処理装置。 - マイクロウェーブ発生手段により発生させたマイクロウェーブを、マイクロウェーブにより紫外線発光する粒状ろ材を充填した紫外線発光ろ材層を有する反応槽における前記粒状ろ材に照射しながら、固形分を含む被処理液体を前記反応槽に通液させて、前記被処理液体の前記固形分の固液分離処理とともに紫外線照射処理を行う処理工程を含むことを特徴とする液体処理方法。
- 請求項5に記載の液体処理方法であって、
前記粒状ろ材の沈降速度が、10〜100m/hの範囲であることを特徴とする液体処理方法。 - 請求項5または6に記載の液体処理方法であって、
前記紫外線発光ろ材層の下流部に後ろ過層を有することを特徴とする液体処理方法。 - 請求5〜7のいずれか1項に記載の液体処理方法であって、
前記粒状ろ材を逆流洗浄する逆流洗浄工程をさらに含むことを特徴とする液体処理方法。
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