JP6625927B2

JP6625927B2 - Light transmissive electrode laminate

Info

Publication number: JP6625927B2
Application number: JP2016082677A
Authority: JP
Inventors: 直哉西村
Original assignee: Mitsubishi Paper Mills Ltd
Current assignee: Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date: 2016-04-18
Filing date: 2016-04-18
Publication date: 2019-12-25
Anticipated expiration: 2036-04-18
Also published as: JP2017194731A

Description

本発明は、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体に関するものである。 The present invention relates to a light-transmitting electrode laminate excellent in reliability, in which a change in resistance value due to chloride ions is suppressed.

スマートフォン、パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、タブレットＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルセンサーが広く用いられている。 In electronic devices such as smart phones, personal digital assistants (PDAs), notebook PCs, tablet PCs, OA devices, medical devices, and car navigation systems, touch panel sensors are widely used as input means for these displays.

タッチパネルセンサーには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等があり、上記したディスプレイ用途においては抵抗膜方式と投影型静電容量方式が好適に利用されている。抵抗膜方式のタッチパネルセンサーは、支持体上に光透過性導電層を有する光透過性電極を２枚利用し、これら光透過性電極をドットスペーサーを介して対向配置した構造を有しており、タッチパネルセンサーの１点に力を加えることにより光透過性導電層同士が接触し、各光透過性導電層に印加された電圧をもう一方の光透過性導電層を通して測定することで、力の加えられた位置の検出を行うものである。一方、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーは、２層の光透過性導電層を有する光透過性電極を１枚、または１層の光透過性導電層を有する光透過性電極を２枚利用し、指等を接近させた際の光透過性導電層間の静電容量変化を検出し、指を接近させた位置の検出を行うものである。後者は可動部分がないため耐久性に優れる他、多点同時検出ができることから、スマートフォンやタブレットＰＣ等で、とりわけ広く利用されている。 Touch panel sensors include an optical method, an ultrasonic method, a resistive film method, a surface capacitive method, a projected capacitive method, etc., depending on the position detection method. The capacitance type is preferably used. The resistive touch panel sensor has a structure in which two light-transmitting electrodes having a light-transmitting conductive layer on a support are used, and these light-transmitting electrodes are arranged to face each other via a dot spacer. By applying a force to one point of the touch panel sensor, the light-transmitting conductive layers come into contact with each other, and the voltage applied to each light-transmitting conductive layer is measured through the other light-transmitting conductive layer to apply the force. The detected position is detected. On the other hand, a projected capacitive touch panel sensor uses one light-transmitting electrode having two light-transmitting conductive layers or two light-transmitting electrodes having one light-transmitting conductive layer. Then, a change in capacitance between the light-transmitting conductive layers when a finger or the like is approached is detected, and a position where the finger is approached is detected. The latter has excellent durability because it has no moving parts, and is capable of performing simultaneous multipoint detection. Therefore, the latter is widely used particularly in smartphones and tablet PCs.

投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーにおいては、支持体上に光透過性導電層をパターニングすることで得られた複数のセンサーからなるセンサー部を配することで、多点同時検出や移動点の検出を可能にしている。このセンサー部が検出した静電容量の変化を電気信号として外部に取り出すため、光透過性電極が有する全てのセンサーと、外部に電気信号を取り出すために設けられる複数の端子からなる端子部との間には、これらを電気的に接続する複数の周辺配線からなる周辺配線部が設けられる。通常、前述した光透過性導電層はディスプレイ上に位置し、周辺配線部や端子部はディスプレイの外、いわゆる額縁部に位置する。従来技術においては、光透過性導電層はＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）導電膜により形成されるのが一般的であり、周辺配線部や端子部は、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム等の金属により形成されるのが一般的であった。例えば特開２０１５−３２１８３号公報（特許文献１）には、光透過性導電層の材料としてＩＴＯやＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の透明導電体を使用し、取出配線（周辺配線部）の材料として銅等の金属を使用したタッチパネルセンサー部材が開示されている。 In a projected capacitive touch panel sensor, by arranging a sensor unit consisting of multiple sensors obtained by patterning a light-transmitting conductive layer on a support, simultaneous detection of multiple points and detection of moving points are possible. Enables detection. In order to take out the change in the capacitance detected by this sensor part as an electric signal to the outside, all the sensors of the light-transmitting electrode and a terminal part comprising a plurality of terminals provided to take out the electric signal to the outside A peripheral wiring portion including a plurality of peripheral wirings for electrically connecting them is provided between them. Usually, the above-described light-transmitting conductive layer is located on the display, and the peripheral wiring portion and the terminal portion are located outside the display, that is, in a so-called frame portion. In the related art, the light-transmitting conductive layer is generally formed of an ITO (indium-tin oxide) conductive film, and the peripheral wiring portion and the terminal portion are formed of gold, silver, copper, nickel, aluminum, or the like. In general. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-32183 (Patent Document 1) discloses that a transparent conductor such as ITO, IZO (indium-zinc oxide), or ZnO (zinc oxide) is used as a material for a light-transmitting conductive layer, and is extracted. A touch panel sensor member using a metal such as copper as a material of a wiring (peripheral wiring portion) is disclosed.

一方、近年では光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する光透過性電極も開示されている。例えば特開２０１５−１３３２３９号公報（特許文献２）には、網目状金属細線パターンと周辺配線部を、銀微粒子を含有するインクを印刷して形成する方法や、無電解めっき触媒を含有する樹脂塗料を印刷した後に無電解めっきを施す方法、金属層上にフォトレジスト層を設け、レジストパターンを形成した後、金属層をエッチング除去するサブトラクティブ法、銀塩感光材料を用いる方法等、様々な方法により形成できることが記載されている。また、該光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料とを有する光透過性電極積層体も知られており、例えば特開２０１４−１９８８１１号公報（特許文献３）にはタッチパネルセンサー上に粘着シートからなる粘着剤層と、該粘着剤層上に保護基板を有するタッチパネル用積層体が開示されている。該粘着剤層は一般的に、表示装置やタッチパネルセンサー等の各部材間を密着させるために利用されるものである。 On the other hand, in recent years, a light-transmitting electrode having a mesh-like thin metal wire pattern as a light-transmitting conductive layer has also been disclosed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-133239 (Patent Document 2) discloses a method of forming a mesh-like fine metal wire pattern and a peripheral wiring portion by printing an ink containing silver fine particles, and a resin containing an electroless plating catalyst. Various methods such as a method of applying electroless plating after printing paint, providing a photoresist layer on a metal layer, forming a resist pattern, a subtractive method of etching and removing the metal layer, a method of using a silver salt photosensitive material, etc. It is described that it can be formed by a method. Further, a light-transmitting electrode laminate having an adhesive layer on the surface of the light-transmitting electrode having the mesh-like fine metal wire pattern and a functional material on the adhesive layer is also known. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-198811 (Patent Document 3) discloses a laminate for a touch panel having a pressure-sensitive adhesive layer formed of a pressure-sensitive adhesive sheet on a touch panel sensor and a protective substrate on the pressure-sensitive adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer is generally used for bringing the members such as the display device and the touch panel sensor into close contact with each other.

上記した網目状金属細線パターンは、例えば人間の汗に含まれる塩化物イオンにより金属が金属塩化物へ変化し、網目状金属細線パターンの抵抗値が変動する場合があった。網目状金属細線パターンの抵抗値が変動すると、タッチパネルセンサーの検出感度の低下や誤認識が発生する等して、タッチパネルセンサーの信頼性は著しく低下する。上記した塩化物イオンは、前記した粘着剤層側面部より浸透し、網目状金属細線パターンに影響を与えるものと考えられるが、近年は意匠性の観点からタッチパネルの狭額縁化が進められ、網目状金属細線パターンと粘着剤層の側面部が接近することから、塩化物イオンが網目状金属細線パターンにとりわけ作用しやすくなっており、改善が求められていた。 In the above-described reticulated metal fine line pattern, for example, the metal changes to a metal chloride due to chloride ions contained in human sweat, and the resistance value of the reticulated metal fine line pattern sometimes fluctuates. When the resistance value of the reticulated metal thin line pattern changes, the reliability of the touch panel sensor is significantly reduced due to a decrease in the detection sensitivity of the touch panel sensor or erroneous recognition. The above-mentioned chloride ions are considered to penetrate from the side surface of the pressure-sensitive adhesive layer and affect the network-like fine metal wire pattern. However, in recent years, the narrowing of the frame of the touch panel has been promoted from the viewpoint of designability. Since the fine metal wire pattern and the side surface of the pressure-sensitive adhesive layer are close to each other, chloride ions particularly easily act on the network fine metal wire pattern, and improvement has been demanded.

特開２０１４−２９６７１号公報（特許文献４）では、銀を含有する第１電極パターンと、粘着性絶縁層と、第２電極パターンとをこの順で備えるタッチパネル用導電性フィルムが開示され、該粘着性絶縁層に特定の酸価を有する粘着性絶縁材料と共にトリアゾール化合物やテトラゾール化合物、およびベンゾトリアゾール化合物等の金属腐食防止剤を用いることで、タッチパネルの動作不良の発生が抑制されることが記載される。また、特開２０１５−２２３９７号公報（特許文献５）では、無置換のベンゾトリアゾールや、各種置換基を有するベンゾトリアゾール化合物により金属のマイグレーションを抑制し、抵抗値の変化を抑制できることが記載され、特開２０１４−７５１１５号公報（特許文献６）には、銀を含む金属配線間のイオンマイグレーションを抑制し、金属配線間の絶縁信頼性を向上させることを目的として、絶縁基板上の銀を含む金属配線上に、特定の構造を有するフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、およびヒドラジン化合物から選択される化合物と、絶縁樹脂を含有する樹脂層を設けることが記載される。しかし、上記した塩化物イオンによる抵抗値の変動を抑制するには、いずれも十分な方法ではなかった。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-29671 (Patent Document 4) discloses a conductive film for a touch panel including a first electrode pattern containing silver, an adhesive insulating layer, and a second electrode pattern in this order. It is described that the use of a metal corrosion inhibitor such as a triazole compound, a tetrazole compound, and a benzotriazole compound together with a sticky insulating material having a specific acid value in the sticky insulating layer suppresses the occurrence of a touch panel malfunction. Is done. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-22397 (Patent Document 5) describes that unsubstituted benzotriazole or a benzotriazole compound having various substituents can suppress metal migration and suppress a change in resistance value. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-75115 (Patent Document 6) discloses that silver on an insulating substrate is included for the purpose of suppressing ion migration between metal wirings containing silver and improving insulation reliability between metal wirings. It is described that a resin layer containing a compound selected from a phenol compound, a phosphite compound, and a hydrazine compound having a specific structure and an insulating resin is provided on a metal wiring. However, none of these methods is sufficient for suppressing the above-mentioned fluctuation in resistance value due to chloride ions.

一方、特開２００９−１７０８８７号公報（特許文献７）では、導電性薄膜の細線メッシュパターンからなる反射層や、導電性薄膜の細線パターンからなるＦＳＳ素子を有する電磁波吸収体が開示されており、外部光により電磁波吸収体を構成する樹脂の経年劣化を抑えることを目的として、該細線メッシュパターンや細線パターン上に紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール化合物を混入した粘着剤層を設けることが記載され、特開２０１１−１６８６８４号公報（特許文献８）では、長鎖アルキル基を有するベンゾトリアゾール化合物を含有する光学フィルター用粘着性材料が開示されている。 On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-170887 (Patent Document 7) discloses an electromagnetic wave absorber having a reflective layer composed of a fine wire mesh pattern of a conductive thin film and an FSS element composed of a fine wire pattern of a conductive thin film. For the purpose of suppressing the aging of the resin constituting the electromagnetic wave absorber due to external light, it is described that an adhesive layer containing a benzotriazole compound as an ultraviolet absorber is provided on the fine wire mesh pattern or the fine wire pattern. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-168684 (Patent Document 8) discloses an adhesive material for an optical filter containing a benzotriazole compound having a long-chain alkyl group.

特開２０１５−３２１８３号公報JP-A-2005-32183 特開２０１５−１３３２３９号公報JP-A-2013-133239 特開２０１４−１９８８１１号公報JP 2014-198811 A 特開２０１４−２９６７１号公報JP 2014-29671 A 特開２０１５−２２３９７号公報JP 2015-22397 A 特開２０１４−７５１１５号公報JP 2014-75115 A 特開２００９−１７０８８７号公報JP 2009-170887 A 特開２０１１−１６８６８４号公報JP 2011-168684 A

本発明の課題は、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a light-transmitting electrode laminate excellent in reliability, in which a change in resistance value due to chloride ions is suppressed.

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
支持体上に網目状金属細線パターンを有する光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、粘着剤層と、機能材料とを少なくともこの順に有する光透過性電極積層体であって、網目状金属細線パターンが銀を含有し、該粘着剤層が下記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物、および下記一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物を少なくとも含有し、該一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物と、該一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物の質量比が４．５：１〜９．５：１であることを特徴とする光透過性電極積層体。 The above object of the present invention is achieved by the following inventions.
The surface on the side having a mesh-like metal thin wire pattern of the light transmitting electrode having a mesh-like metal thin wire pattern on the supporting lifting member, there a light transmissive electrode laminate having an adhesive layer, and a functional material at least in this order Te, containing silver reticulated metal thin wire pattern contains benzotriazole compounds adhesive layer is represented by the following general formula 1, and benzotriazole compound represented by the following general formula 2 at least, the general formula A light-transmissive electrode laminate, wherein the mass ratio of the benzotriazole compound represented by Formula 1 to the benzotriazole compound represented by Formula 2 is from 4.5: 1 to 9.5: 1 .

一般式１中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基を表し、Ｒ_５はアルキル基、ヒドロキシ基、アミノメチル基を表す。一般式２中、Ｒ_６〜Ｒ_９はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、ニトロ基を表す。 In Formula 1, R _{1 to} R ₄ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R ₅ represents an alkyl group, a hydroxy group, or an aminomethyl group. In Formula 2, R _{6 to} R ₉ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, or a nitro group.

本発明により、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the resistance change by chloride ion is suppressed and the light transmission electrode laminated body excellent in reliability can be provided.

実施例で作製した光透過性電極の概略図Schematic diagram of the light-transmitting electrode manufactured in the example

以下、本発明について詳細に説明する。本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、下記一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物、および下記一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物を少なくとも含有する。以下、一般式１で表されるベンゾトリアゾール化合物をベンゾトリアゾール化合物１、一般式２で表されるベンゾトリアゾール化合物をベンゾトリアゾール化合物２と記載する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. The pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention contains at least a benzotriazole compound represented by the following general formula 1 and a benzotriazole compound represented by the following general formula 2. Hereinafter, the benzotriazole compound represented by the general formula 1 is referred to as benzotriazole compound 1, and the benzotriazole compound represented by the general formula 2 is referred to as benzotriazole compound 2.

一般式１中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基を表し、Ｒ_５はアルキル基、ヒドロキシ基、アミノメチル基を表す。前記したアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、２−エチルヘキシル基、イソプロピル基等が例示できる。Ｒ_１〜Ｒ_５は、さらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、Ｒ_１〜Ｒ_５として上記した各種置換基や、アミノ基、ニトロ基、カルボキシ基、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシアルキル基（ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等）、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基等）、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、ヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、リン酸アミド基、アルキルオキシカルボニル基、およびこれらを組み合わせた基等が例示できる。 In Formula 1, R _{1 to} R ₄ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R ₅ represents an alkyl group, a hydroxy group, or an aminomethyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a heptyl group, a nonyl group, and a 2-ethylhexyl group. And an isopropyl group. R _{1 to} R ₅ may further have a substituent. Examples of the substituent include various substituents described above as R _{1 to} R ₅ , an amino group, a nitro group, a carboxy group, a mercapto group, a cyano group, a sulfo group, and a hydroxyalkyl group (hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, and the like). Aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group Carbamoyl group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), alkylthio group (methylthio group, hexylthio group, etc.), arylthio group (phenylthio group, naphthylthio group, etc.), phosphoric amide group, alkyloxycarbonyl group, and Combined groups and the like can be exemplified.

一般式２中、Ｒ_６〜Ｒ_９はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、ニトロ基を表す。前記したアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、２−エチルヘキシル基、イソプロピル基等が例示できる。Ｒ_６〜Ｒ_９は、さらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、Ｒ_６〜Ｒ_９として上記した各種置換基や、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシアルキル基（ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等）、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基等）、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、ヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、リン酸アミド基、アルキルオキシカルボニル基、およびこれらを組み合わせた基等が例示できる。 In Formula 2, R _{6 to} R ₉ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, or a nitro group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a heptyl group, a nonyl group, and a 2-ethylhexyl group. And an isopropyl group. R _{6 to} R ₉ may further have a substituent. Examples of the substituent include various substituents described above as R _{6 to} R ₉ , mercapto group, cyano group, sulfo group, hydroxyalkyl group (hydroxymethyl group, hydroxyethyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group) ), Alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group (phenyl group) , A naphthyl group, etc.), an alkylthio group (a methylthio group, a hexylthio group, etc.), an arylthio group (a phenylthio group, a naphthylthio group, etc.), a phosphoric amide group, an alkyloxycarbonyl group, and a combination thereof.

ベンゾトリアゾール化合物１の中でも、塩化物イオンによる抵抗値変化を効果的に抑制する観点から、Ｒ_５はアルキル基またはアミノメチル基であることが好ましく、アルキル基であることが特に好ましい。以下にベンゾトリアゾール化合物１の具体例を記載するが、これらに限定されない。 Among the benzotriazole compounds 1, R ₅ is preferably an alkyl group or an aminomethyl group, and particularly preferably an alkyl group, from the viewpoint of effectively suppressing a change in resistance value due to chloride ions. Hereinafter, specific examples of the benzotriazole compound 1 will be described, but the invention is not limited thereto.

上記したベンゾトリアゾール化合物１として市販品を用いることができる。市販品としては、例えば城北化学工業（株）製ＴＴ−ＬＸ、同ＢＴ−Ｍ、同ＢＴ−２５０等、大和化成（株）製ＯＡ−３８６等が例示できる。 Commercial products can be used as the above-mentioned benzotriazole compound 1. Examples of commercially available products include TT-LX, BT-M, and BT-250 manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd., and OA-386 manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd.

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記ベンゾトリアゾール化合物１を該粘着剤層の全質量に対して０．３０〜８．０質量％含有することが好ましい。これにより、塩化物イオンによる抵抗値変化がより効果的に抑制され、信頼性にとりわけ優れた光透過性電極積層体が得られる。なお、本発明において粘着剤層の全質量とは、粘着剤層形成後の全固形分質量を意味する。 The pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention preferably contains the benzotriazole compound 1 in an amount of 0.30 to 8.0% by mass based on the total mass of the pressure-sensitive adhesive layer. As a result, a change in resistance value due to chloride ions is more effectively suppressed, and a light-transmitting electrode laminate with particularly excellent reliability is obtained. In the present invention, the total weight of the pressure-sensitive adhesive layer means the weight of the total solid content after forming the pressure-sensitive adhesive layer.

ベンゾトリアゾール化合物２の中でも、塩化物イオンによる抵抗値変化を効果的に抑制する観点から、Ｒ_６〜Ｒ_９は水素原子、アルキル基、ニトロ基であることが好ましい。以下にベンゾトリアゾール化合物２の具体例を記載するが、これらに限定されない。 Among the benzotriazole compounds 2, R _{6 to} R ₉ are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or a nitro group from the viewpoint of effectively suppressing a change in resistance due to chloride ions. Hereinafter, specific examples of the benzotriazole compound 2 will be described, but the invention is not limited thereto.

上記したベンゾトリアゾール化合物２として市販品を用いることができる。市販品としては、例えば城北化学工業（株）製ＢＴ−１２０、同ＣＢＴ−１、同５Ｍ−ＢＴＡ等、大和化成（株）製ＴＴＡ、同Ｎ−ＢＴＡ、同Ｃ−ＢＴＡ等が例示できる。 A commercially available product can be used as the benzotriazole compound 2 described above. Examples of commercially available products include BT-120, CBT-1, and 5M-BTA manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd., and TTA, N-BTA, and C-BTA manufactured by Daiwa Kasei KK.

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記ベンゾトリアゾール化合物２を該粘着剤層の全質量に対して０．０５〜１．２質量％含有することが好ましい。これにより、塩化物イオンによる抵抗値変化がより効果的に抑制され、信頼性にとりわけ優れた光透過性電極積層体が得られる。 The pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention preferably contains the benzotriazole compound 2 in an amount of 0.05 to 1.2% by mass based on the total mass of the pressure-sensitive adhesive layer. As a result, a change in resistance value due to chloride ions is more effectively suppressed, and a light-transmitting electrode laminate with particularly excellent reliability is obtained.

本発明の光透過性電極積層体において、粘着剤層が含有するベンゾトリアゾール化合物１と、ベンゾトリアゾール化合物２の質量比は２．５：１〜１３．５：１であることが必要であり、好ましくは３．５：１〜１１：１であり、特に好ましくは４．５：１〜９．５：１である。粘着剤層が含有するベンゾトリアゾール化合物１と、ベンゾトリアゾール化合物２の質量比が２．５：１〜１３．５：１の範囲外の場合、塩化物イオンによる抵抗値変化により、十分な信頼性が得られない。また、ベンゾトリアゾール化合物１とベンゾトリアゾール化合物２の合計の含有量は、粘着剤層の全質量に対して０．８７５〜５．２５質量％であることが好ましい。 In the light-transmitting electrode laminate of the present invention, the weight ratio of the benzotriazole compound 1 and the benzotriazole compound 2 contained in the pressure-sensitive adhesive layer needs to be 2.5: 1 to 13.5: 1, It is preferably from 3.5: 1 to 11: 1, particularly preferably from 4.5: 1 to 9.5: 1. When the mass ratio of the benzotriazole compound 1 and the benzotriazole compound 2 contained in the pressure-sensitive adhesive layer is out of the range of 2.5: 1 to 13.5: 1, sufficient reliability is obtained due to a change in resistance due to chloride ions. Can not be obtained. Further, the total content of the benzotriazole compound 1 and the benzotriazole compound 2 is preferably 0.875 to 5.25% by mass based on the total mass of the pressure-sensitive adhesive layer.

本発明において粘着剤層はベンゾトリアゾール化合物１を２種以上含有していてもよく、ベンゾトリアゾール化合物２を２種以上含有していてもよい。 In the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer may contain two or more benzotriazole compounds 1 or two or more benzotriazole compounds 2.

次に、本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層について説明する。該粘着剤層は上記ベンゾトリアゾール化合物以外に、樹脂を好ましく含有する。該樹脂は特に限定されず、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等の公知の樹脂を例示できる。上記樹脂は、樹脂前駆体を重合開始剤により重合させることで得られる。 Next, the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention will be described. The pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a resin in addition to the benzotriazole compound. The resin is not particularly limited, and examples thereof include known resins such as an acrylic resin, a urethane resin, and a silicone resin. The resin is obtained by polymerizing a resin precursor with a polymerization initiator.

樹脂前駆体は特に限定されず、各種樹脂のモノマーやオリゴマーを用いることができる。中でもアクリル系モノマーは、重合により得られる樹脂が透明性に優れ、またモノマーの重合を制御して樹脂に粘着性を付与することも容易であることから、特に好ましい。従って本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層が含有する好ましい樹脂はアクリル系樹脂である。樹脂前駆体として単一のアクリル系モノマーを用いてもよく、２種類以上のアクリル系モノマーを用いてもよく、アクリル系モノマーとアクリル系モノマー以外のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。アクリル系モノマーとしては、直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとが例示できる。なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」および／または「メタクリル」を表し、他も同様である。 The resin precursor is not particularly limited, and monomers and oligomers of various resins can be used. Among them, acrylic monomers are particularly preferable because the resin obtained by polymerization is excellent in transparency and it is easy to control the polymerization of the monomer to impart tackiness to the resin. Therefore, a preferred resin contained in the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention is an acrylic resin. A single acrylic monomer may be used as the resin precursor, two or more acrylic monomers may be used, or an acrylic monomer and a monomer or oligomer other than the acrylic monomer may be used. Examples of the acrylic monomer include (meth) acrylic acid alkyl esters having a linear or branched alkyl group and (meth) acrylic acid alkoxyalkyl esters. In addition, "(meth) acryl" represents "acryl" and / or "methacryl", and the same applies to the others.

上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、（メタ）アクリル酸エイコシル等の炭素数が１〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。上記直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。 Examples of the alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group include, but are not particularly limited to, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, Isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, (meth) ) Isopentyl acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, Isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, iso (meth) acrylate Sil, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate Having a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as octadecyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, nonadecyl (meth) acrylate, and eicosyl (meth) acrylate ( (Meth) acrylic acid alkyl esters. The above-mentioned alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group may be used as a mixture of two or more kinds.

上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸−４−エトキシブチル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルは、２種類以上混合して用いてもよい。 Although it does not specifically limit as said alkoxyalkyl (meth) acrylate, For example, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate , 3-methoxypropyl (meth) acrylate, 3-ethoxypropyl (meth) acrylate, 4-methoxybutyl (meth) acrylate, 4-ethoxybutyl (meth) acrylate and the like. The alkoxyalkyl (meth) acrylate may be used as a mixture of two or more kinds.

上記アクリル系モノマーの中でも、アクリル系モノマーとして（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルを用いることが、上記ベンゾトリアゾール化合物と、アクリル系樹脂との相溶性の観点から好ましく、具体的には重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部のうち、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの質量は、３０〜９０質量部が好ましく、より好ましくは３５〜９０質量部であり、特に好ましくは４０〜８５質量部である。 Among the acrylic monomers, it is preferable to use an alkoxyalkyl (meth) acrylate as the acrylic monomer from the viewpoint of compatibility between the benzotriazole compound and the acrylic resin, and specifically, a resin to be used for polymerization. In the total amount of 100 parts by mass of the precursor, the mass of the alkoxyalkyl (meth) acrylate is preferably from 30 to 90 parts by mass, more preferably from 35 to 90 parts by mass, and particularly preferably from 40 to 85 parts by mass. is there.

上記したアクリル系モノマー以外のモノマーとしては、極性基含有モノマー、多官能性モノマー等が例示できる。 Examples of the monomer other than the above-mentioned acrylic monomer include a polar group-containing monomer and a polyfunctional monomer.

上記極性基含有モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸等のカルボキシ基含有モノマーまたはその無水物（無水マレイン酸等）、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸−６−ヒドロキシヘキシル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、ビニルアルコール、アリルアルコール等のヒドロキシ基含有モノマー、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド等のアミド基含有モノマー、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチルアミノエチル等のアミノ基含有モノマー、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチルグリシジル等のグリシジル基含有モノマー、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のシアノ基含有モノマー、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、（メタ）アクリロイルモルホリンの他、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニルピリミジン、Ｎ−ビニルピペラジン、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルオキサゾール等の複素環含有ビニル系モノマー、ビニルスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸基含有モノマー、２−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェート等のリン酸基含有モノマー、シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のイミド基含有モノマー、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有モノマー等が挙げられる。上記極性基含有モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。 The polar group-containing monomer is not particularly limited. For example, a carboxy group-containing monomer such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid or an anhydride thereof (such as maleic anhydride) ), 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, and the like. Hydroxy group-containing monomers such as hydroxyalkyl acrylate, vinyl alcohol and allyl alcohol, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N -Butoxymethyl (meth) acrylamide Amide group-containing monomers such as N- (2-hydroxyethyl) acrylamide; amino group-containing monomers such as aminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and t-butylaminoethyl (meth) acrylate Glycidyl (meth) acrylate, glycidyl group-containing monomers such as methyl glycidyl (meth) acrylate, cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, N-vinyl-2-pyrrolidone, (meth) acryloylmorpholine, Heterocycle-containing vinyl monomers such as N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, and sulfonic acids such as sodium vinyl sulfonate Group-containing monomer , 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate, etc. of the phosphate group-containing monomer, cyclohexyl maleimide, imide group-containing monomers such as isopropyl maleimide, 2-methacryloyl isocyanate group-containing monomers oxyethyl isocyanate, and the like. The polar group-containing monomer may be used as a mixture of two or more kinds.

上記多官能性モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、ジ（メタ）アクリル酸ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸（ポリ）プロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール、トリ（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパン、トリ（メタ）アクリル酸テトラメチロールメタン、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ビニル等が挙げられる。上記多官能性モノマーは、２種類以上混合して用いてもよい。 Examples of the polyfunctional monomer include, but are not limited to, hexanediol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, and di (meth) acrylic acid. Acid (poly) propylene glycol, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (meth) acryl Trimethylolpropane acid, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate and the like. The above polyfunctional monomers may be used as a mixture of two or more kinds.

上記アクリル系モノマー以外のモノマーの中でも、極性基含有モノマーを用いることが塩化物イオンによる抵抗値変化を効果的に抑制する観点から好ましく、ヒドロキシ基含有モノマーを用いることが特に好ましい。 Of the monomers other than the acrylic monomers, it is preferable to use a polar group-containing monomer from the viewpoint of effectively suppressing a change in resistance value due to chloride ions, and it is particularly preferable to use a hydroxy group-containing monomer.

上記モノマー以外にも、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル等の環状アルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の、公知の共重合性モノマーを用いることができる。 In addition to the above monomers, known copolymerizable monomers such as cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and alkyl (meth) acrylate having a cyclic alkyl group such as isobornyl (meth) acrylate may be used. Can be used.

前述した樹脂前駆体として用いられるオリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、イソプレンアクリレート、ブタジエンアクリレート等のアクリル系オリゴマーが例示できる。本発明におけるアクリル系オリゴマーとは、アクリル基を少なくとも１つ以上有するオリゴマーを意味する。 Examples of the oligomer used as the resin precursor described above include acrylic oligomers such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, isoprene acrylate, and butadiene acrylate. The acrylic oligomer in the present invention means an oligomer having at least one acrylic group.

上記アクリル系オリゴマーは市販されており、いずれも好ましく用いることができる。ウレタンアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−１１００、アロニックスＭ−１２００、新中村化学工業（株）製ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−１６０ＴＭ、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、荒川化学工業（株）製ビームセット５０５Ａ−６、ビームセット５５０Ｂ、ビームセット５７５等が例示できる。エポキシアクリレートとしてはＤＩＣ（株）製ユニディックＶ−５５００、ユニディックＶ−５５０２、共栄社化学（株）エポキシエステル８０ＭＦＡ、エポキシエステル３０００ＭＫ等が例示できる。ポリエステルアクリレートとしては東亞合成（株）製アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８１００、ダイセル・オルネクス（株）製ＥＢＥＣＲＹＬ４３６、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ８１０等が例示できる。イソプレンアクリレートとしては、（株）クラレ製ＵＣ−１０２、ＵＣ−２０３等が例示できる。ブタジエンアクリレートとしては、日本曹達（株）製ＮＩＳＳＯ−ＰＢＴＥ−２０００等が例示できる。 The acrylic oligomer is commercially available, and any of them can be preferably used. Examples of urethane acrylates include Aronix M-1100 and Alonix M-1200 manufactured by Toagosei Co., Ltd., UA-1100H and UA-160TM manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., and EBECRYL210, EBECRYL230, EBECRYL270, and Arakawa manufactured by Daicel Ornex. A beam set 505A-6, a beam set 550B, and a beam set 575 manufactured by Chemical Industry Co., Ltd. can be exemplified. Examples of the epoxy acrylate include Unidick V-5500 and Unidick V-5502 manufactured by DIC Corporation, and 80 KFA of epoxy ester and 3000 MK of epoxy ester manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Examples of the polyester acrylate include Aronix M-7100 and Alonix M-8100 manufactured by Toagosei Co., Ltd., and EBECRYL436, EBECRYL450, and EBECRYL810 manufactured by Daicel Ornex. Examples of isoprene acrylate include UC-102 and UC-203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. Examples of butadiene acrylate include NISSO-PBTE-2000 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.

樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤は特に限定されず、公知の重合開始剤が例示できる。ここで重合開始剤とは、熱や電離放射線により、上記樹脂前駆体の重合反応を開始させる化合物を意味する。熱により重合反応を開始させる重合開始剤としては、メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、（２−エチルヘキサノイル）（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス−２−メチルブチロニトリル等のアゾ化合物が例示でき、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン化合物、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン化合物等が例示できる。なお、電離放射線とは、樹脂前駆体の重合反応を開始させうるエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、紫外線、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が例示でき、中でも紫外線を用いることが生産性の観点から好ましい。 The polymerization initiator used for the polymerization of the resin precursor is not particularly limited, and examples thereof include known polymerization initiators. Here, the polymerization initiator means a compound that initiates a polymerization reaction of the resin precursor by heat or ionizing radiation. Examples of the polymerization initiator that initiates the polymerization reaction by heat include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, (2-ethylhexanoyl) (tert-butyl) peroxide, and tert-butyl. Organic peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, and 2,2'-azobis-2-methylbutyi Examples of azo compounds such as lonitrile include polymerization initiators that initiate a polymerization reaction by ionizing radiation, such as 2,2-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, , 2-Dimethoxy-2-fe Luacetophenone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopro Pan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone, oligo {2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone Acetophenone compounds such as｝, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2-methylpropan-1-one, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether , Benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether A benzoin compound, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyl-diphenylsulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl] benzenemethananium bromide, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium Benzophenone compounds such as chloride, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2- (3-dimethylamino-2-h Thioxanthone compounds such as (droxy) -3,4-dimethyl-9H-thioxanthone-9-one mesochloride. In addition, ionizing radiation means an electromagnetic wave or a charged particle having energy capable of initiating a polymerization reaction of a resin precursor, and examples thereof include ultraviolet rays, visible rays, gamma rays, X-rays, and electron beams. Is preferable from the viewpoint of productivity.

上記重合開始剤は市販されており、いずれも好ましく用いることができる。具体的にはＢＡＳＦジャパン（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３等、大塚化学（株）製ＡＩＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＭＢＮ等が例示できる。 The above polymerization initiators are commercially available, and any of them can be preferably used. Specifically, IRGACURE 127, IRGACURE 2959, IRGACURE B, etc., available from Otsuka Chemical Co., Ltd., A / N, etc., available from A, B, etc.

樹脂前駆体の重合に用いる重合開始剤の量は特に限定されないが、重合に供する樹脂前駆体の全量１００質量部に対し、重合開始剤は０．０５〜５質量部であることが重合速度の観点から好ましく、０．１〜３質量部が特に好ましい。 Although the amount of the polymerization initiator used for the polymerization of the resin precursor is not particularly limited, the polymerization rate is preferably 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin precursor to be subjected to the polymerization. It is preferable from the viewpoint, and 0.1 to 3 parts by mass is particularly preferable.

樹脂前駆体の重合方法としては、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、電離放射線照射重合方法等の公知の重合方法が例示でき、熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は溶液重合方法を、電離放射線により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合は電離放射線照射重合方法を、といったように使用する重合開始剤の特性に合わせて選択すればよい。 Examples of the polymerization method of the resin precursor include known polymerization methods such as a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, and an ionizing radiation irradiation polymerization method, and when a polymerization initiator that initiates a polymerization reaction by heat is used. In the case of using a polymerization initiator that initiates a polymerization reaction by ionizing radiation, a solution polymerization method may be selected according to the characteristics of the polymerization initiator to be used, such as an ionizing radiation irradiation polymerization method.

溶液重合方法を用いて樹脂前駆体を重合する場合に用いる重合用溶媒は特に限定されず、樹脂前駆体および重合開始剤を溶解可能な公知の有機溶媒を用いることができる。具体的には酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒、アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、エタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶媒が例示できる。重合用溶媒として２種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。 The polymerization solvent used when polymerizing the resin precursor using the solution polymerization method is not particularly limited, and a known organic solvent that can dissolve the resin precursor and the polymerization initiator can be used. Specific examples include ester solvents such as ethyl acetate and methyl acetate, ketone solvents such as acetone and 2-butanone, hydrocarbon solvents such as hexane and cyclohexane, and alcohol solvents such as ethanol and 2-propanol. As the solvent for polymerization, two or more kinds of organic solvents may be mixed and used.

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、上記した樹脂、ベンゾトリアゾール化合物以外に、架橋剤（例えばイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤等）、シランカップリング剤（例えば３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基を有するシランカップリング剤、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト基を有するシランカップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリル基を有するシランカップリング剤等）、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等）、酸化防止剤（ヒンダードフェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物等）、紫外線吸収剤（トリアジン化合物、ベンゾフェノン化合物等）、光安定剤（ヒンダードアミン化合物等）、充填剤、着色剤（顔料や染料等）、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤等の公知の樹脂用添加剤を含有していてもよい。上記樹脂用添加剤の中でも、架橋剤を含有することが粘着剤層の粘着性の観点から好ましく、イソシアネート系架橋剤を含有することが特に好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention may include a crosslinking agent (eg, an isocyanate-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, etc.) and a silane coupling agent (eg, 3- Silane coupling agents having an epoxy group such as glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane; silane coupling agents having a mercapto group such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 3-acryloxy Silane coupling agents having an acrylic group such as propyltrimethoxysilane, etc.), tackifiers (eg, rosin derivative resins, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenol resins, etc.), antioxidants (hindered phenol compounds, Phosphate ester compounds, thioether compounds, etc.), External absorber (triazine compound, benzophenone compound, etc.), light stabilizer (hindered amine compound, etc.), filler, colorant (pigment, dye, etc.), chain transfer agent, plasticizer, softener, surfactant, antistatic agent And other known additives for resins. Among the above additives for resins, it is preferable to contain a crosslinking agent from the viewpoint of the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer, and it is particularly preferable to contain an isocyanate-based crosslinking agent.

イソシアネート系架橋剤は特に限定されず、１，２−エチレンジイソシアネート、１，４−ブチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート等の脂環族ポリイソシアネート類、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート類等の公知のイソシアネート系架橋剤が例示できる。また、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート付加物（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名「コロネートＬ」）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート付加物（日本ポリウレタン工業（株）製、商品名「コロネートＨＬ」）等も好ましく用いることができる。 Isocyanate crosslinking agent is not particularly limited, 1,2-ethylene diisocyanate, 1,4-butylene diisocyanate, lower aliphatic polyisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, Alicyclic polyisocyanates such as isophorone diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, etc. And a known isocyanate-based cross-linking agent such as aromatic polyisocyanates. In addition, trimethylolpropane / tolylene diisocyanate adduct (trade name “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and trimethylolpropane / hexamethylene diisocyanate adduct (trade name “Coronate” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. HL ”) can also be preferably used.

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層は、２層以上の組成の異なる粘着剤層からなっていてもよい。例えば、光透過性電極の網目状金属細線パターンを有する側の面に、上記ベンゾトリアゾール化合物を含有する粘着剤層Ａを設け、該粘着剤層Ａ上にベンゾトリアゾール化合物を含有しない粘着剤層Ｂを設けて、１つの粘着剤層としてもよい。 The pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention may be composed of two or more pressure-sensitive adhesive layers having different compositions. For example, the pressure-sensitive adhesive layer A containing the benzotriazole compound is provided on the surface of the light-transmitting electrode on the side having the reticulated metal fine line pattern, and the pressure-sensitive adhesive layer B containing no benzotriazole compound is provided on the pressure-sensitive adhesive layer A. To form a single pressure-sensitive adhesive layer.

粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄すぎると網目状金属細線パターンを有する側の光透過性電極表面の凹凸へ追従しきれず、光透過性電極積層体中に泡が入る場合があり、また厚すぎると光透過性電極積層体の透明性が損なわれる場合がある。よって粘着剤層の厚みは５〜３００μｍが好ましく、より好ましくは１０〜２５０μｍである。また、光透過性電極積層体の透明性の観点から、粘着剤層の全光線透過率は９０％以上であることが好ましく、特に好ましくは９５％以上である。同様の観点から、粘着剤層のヘイズは０〜３％が好ましく、特に好ましくは０〜２％である。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but if it is too thin, it cannot follow the irregularities of the light-transmitting electrode surface on the side having the network-like fine metal wire pattern, and bubbles may enter the light-transmitting electrode laminate, If the thickness is too large, the transparency of the light-transmitting electrode laminate may be impaired. Therefore, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably from 5 to 300 μm, more preferably from 10 to 250 μm. Further, from the viewpoint of the transparency of the light-transmitting electrode laminate, the total light transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more. From the same viewpoint, the haze of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably from 0 to 3%, particularly preferably from 0 to 2%.

本発明の光透過性電極積層体が有する粘着剤層の形成方法を説明する。粘着剤層を形成する方法は特に限定されないが、上記した樹脂、ベンゾトリアゾール化合物、その他の粘着剤層が含有していてもよい添加剤、以上のものを溶媒に溶解させた粘着剤層形成用塗液を作製し、これを塗布・乾燥させ粘着剤層を形成する方法が、生産性の観点から特に好ましい。従って本発明において、該樹脂は溶液重合方法により重合することが重合用溶媒をそのまま粘着剤層形成用塗液の溶媒として利用できるため生産性の観点から好ましく、重合開始剤としては熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いることが好ましい。 The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the light-transmitting electrode laminate of the present invention will be described. The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but the above-described resin, benzotriazole compound, and other additives that the pressure-sensitive adhesive layer may contain, for forming a pressure-sensitive adhesive layer in which the above are dissolved in a solvent A method in which a coating liquid is prepared, applied and dried to form an adhesive layer is particularly preferable from the viewpoint of productivity. Therefore, in the present invention, the resin is preferably polymerized by a solution polymerization method from the viewpoint of productivity because the polymerization solvent can be used as it is as a solvent for the pressure-sensitive adhesive layer-forming coating liquid. Is preferably used.

本発明においては、光透過性電極上に粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に後述する機能材料を積層してもよく、機能材料上に粘着剤層を形成し、該粘着剤層上に光透過性電極を積層してもよく、剥離加工済み支持体上に粘着剤層を形成し、該粘着剤層を光透過性電極上に積層し、該粘着剤層から剥離加工済み支持体を剥離し、さらに該粘着剤層上に機能材料を積層してもよい。中でも剥離加工済み支持体上に粘着剤層を形成する方法が、粘着剤層を形成する工程中に光透過性電極や機能材料を傷つける可能性を回避できるため、生産性の観点から特に好ましい。 In the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer may be formed on the light-transmitting electrode, and a functional material described later may be laminated on the pressure-sensitive adhesive layer. A light-transmissive electrode may be laminated on the support, a pressure-sensitive adhesive layer is formed on the peeled support, the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the light-transmissive electrode, and the support is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer. The body may be peeled off, and a functional material may be further laminated on the pressure-sensitive adhesive layer. Among them, a method of forming a pressure-sensitive adhesive layer on a release-treated support is particularly preferable from the viewpoint of productivity because it can avoid the possibility of damaging a light-transmitting electrode or a functional material during the step of forming a pressure-sensitive adhesive layer.

剥離加工済み支持体の支持体は特に限定されず、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、各種金属、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。剥離加工方法としては、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の公知の剥離処理剤で支持体表面を処理する方法が例示できる。 The support of the peeled support is not particularly limited, and polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer, epoxy resins, polyarylate, polysulfone, and polyethersal Various resin films such as phone, polyimide, fluorine resin, phenoxy resin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyimide, polyphenylene sulfide, polyethylene naphthalate, polycarbonate, acrylic resin, cellophane, nylon, polystyrene resin, ABS resin, and various metals And glass such as quartz glass and non-alkali glass. Examples of the release processing method include a method of treating the surface of the support with a known release treatment agent such as a silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, or molybdenum sulfide.

粘着剤層形成用塗液を剥離加工済み支持体上に付与する方法は特に限定されず、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、キスコート法等の公知の方法を用いて塗布する方法や、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等の公知の方法を用いて印刷する方法等が例示できる。粘着剤層形成用塗液を付与した後は、加熱や自然乾燥等の公知の乾燥方法により溶媒を乾燥させ、粘着剤層とする。 The method for applying the pressure-sensitive adhesive layer forming coating liquid on the peeled support is not particularly limited, and a bar coating method, a dip coating method, a spin coating method, a die coating method, a blade coating method, a gravure coating method, a curtain coating method , Spray coating, kiss coating, and other known methods such as gravure printing, flexo printing, inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure offset printing, dispenser printing, and pad printing. Examples of the method include a method of performing printing using such a method. After the application of the pressure-sensitive adhesive layer-forming coating liquid, the solvent is dried by a known drying method such as heating or natural drying to form a pressure-sensitive adhesive layer.

次に、本発明の光透過性電極積層体が有する光透過性電極について説明する。本発明の光透過性電極積層体が有する光透過性電極は、支持体上に網目状金属細線パターンを有し、該網目状金属細線パターンは金属細線から構成される。光透過性電極の透明性の観点から、光透過性電極の支持体は光透過性を有することが特に好ましい。光透過性を有する支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。光透過性電極積層体の透明性の観点から、支持体の全光線透過率は６０％以上が好ましく、特に好ましくは７０％以上である。支持体は、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層等の、公知の層を有していてもよい。 Next, the light-transmitting electrode included in the light-transmitting electrode laminate of the present invention will be described. The light-transmitting electrode of the light-transmitting electrode laminate of the present invention has a mesh-like metal fine-line pattern on a support, and the mesh-like metal fine-line pattern is composed of a metal thin wire. From the viewpoint of the transparency of the light-transmitting electrode, it is particularly preferable that the support of the light-transmitting electrode has light-transmitting properties. As the support having light transmittance, polyethylene, polyolefin resin such as polypropylene, polyvinyl chloride, vinyl chloride resin such as vinyl chloride copolymer, epoxy resin, polyarylate, polysulfone, polyether sulfone, polyimide, Various resin films such as fluorine resin, phenoxy resin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyimide, polyphenylene sulfide, polyethylene naphthalate, polycarbonate, acrylic resin, cellophane, nylon, polystyrene resin, ABS resin, quartz glass, and alkali-free glass And the like. From the viewpoint of the transparency of the light-transmitting electrode laminate, the total light transmittance of the support is preferably 60% or more, particularly preferably 70% or more. The support may have a known layer such as an easy-adhesion layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a conductive nonmetal layer made of ITO or the like.

網目状金属細線パターンを構成する金属細線が含有する金属種は限定されず、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の公知の金属や公知の金属からなる合金を例示できるが、導電性の観点から銀または銅を含有することが好ましく、銀を含有することが特に好ましい。金属細線が含有する金属の割合は、金属細線の全固形分質量に対し５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が特に好ましい。 The metal species contained in the fine metal wires constituting the mesh-like fine metal wire pattern is not limited, and examples thereof include known metals such as gold, silver, copper, aluminum, and nickel and alloys including known metals. And preferably contains silver or copper, and particularly preferably contains silver. The proportion of the metal contained in the fine metal wire is preferably at least 50 mass%, more preferably at least 70 mass%, particularly preferably at least 80 mass%, based on the total solid content of the fine metal wire.

光透過性電極積層体の信頼性の観点から、支持体上の網目状金属細線パターンを構成する金属細線の線幅は１．５〜１０μｍであることが好ましく、支持体上の網目状金属細線パターンを構成する金属細線の金属量は、０．５〜１０．５ｇ／ｍ^２であることが好ましい。 From the viewpoint of the reliability of the light-transmitting electrode laminate, the line width of the fine metal wires constituting the reticulated fine metal wire pattern on the support is preferably 1.5 to 10 μm, and the fine reticulated metal wires on the support is preferable. It is preferable that the amount of metal of the fine metal wire constituting the pattern is 0.5 to 10.5 g / m ² .

本発明において支持体上の網目状金属細線パターンを構成する金属細線の金属量は、光透過性電極を一部切り取って測定試料とし、蛍光Ｘ線により測定試料中の金属の存在量（ｇ）を測定し、測定試料の網目状金属細線パターンを有する面のうち、金属細線が存在する部分のみの面積（ｍ^２）で割ることで算出する方法を例示できる。 In the present invention, the amount of metal of the fine metal wire constituting the mesh-like fine metal wire pattern on the support is determined by measuring a sample by cutting out a part of the light-transmitting electrode and measuring the amount of the metal in the measurement sample by fluorescent X-rays (g). Of the surface of the measurement sample having the reticulated metal fine line pattern, and dividing by the area (m ² ) of only the portion where the metal fine line exists.

本発明の光透過性電極積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、網目状金属細線パターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することがセンサーの感度、視認性（センサーの形状が見えにくい）等の観点から好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のｎ角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も好ましい網目状金属細線パターンの形状の一つである。 When the light-transmitting electrode laminate of the present invention is used for a touch panel sensor, the mesh-like fine metal wire pattern has a geometric shape in which a plurality of unit lattices are arranged in a mesh shape, and the sensitivity and the visibility of the sensor (for the sensor). This is preferable from the viewpoint that the shape is difficult to see). As the shape of the unit cell, for example, a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a quadrangle such as a trapezoid, a hexagon, an octagon, a dodecagon, a decagon, etc. Examples of such shapes include a combination of n-gons, star shapes, and the like, and a single repetition of these shapes or a combination of two or more types of a plurality of shapes. Among them, a square or rhombus is preferable as the shape of the unit lattice. An irregular geometric shape represented by a Voronoi figure, a Delaunay figure, a Penrose tile figure, etc. is also one of the preferred shapes of the mesh-like metal fine line pattern.

本発明の光透過性電極積層体をタッチパネルセンサーに利用する場合、光透過性電極が有する網目状金属細線パターンは、互いに電気的に絶縁された複数のセンサーからなるセンサー部を構成することが好ましい。また光透過性電極は、該センサー部の難視認性の観点から、支持体上のセンサー部間にはセンサー部と電気的に絶縁された、網目状金属細線パターンからなるダミー部を有していてもよい。さらにセンサー部、ダミー部以外に、外部に電気信号を取り出すために設けられる複数の端子からなる端子部や、センサー部と端子部を電気的に接続する複数の周辺配線からなる周辺配線部を有していてもよい。該端子部および周辺配線部は網目状金属細線パターンからなっていてもよく、ベタパターン（塗りつぶしパターン）であってもよい。 When the light-transmitting electrode laminate of the present invention is used for a touch panel sensor, it is preferable that the mesh-like thin metal wire pattern of the light-transmitting electrode constitutes a sensor unit including a plurality of sensors electrically insulated from each other. . In addition, the light-transmitting electrode has a dummy portion formed of a mesh-like metal thin line pattern electrically insulated from the sensor portion between the sensor portions on the support from the viewpoint of the visibility of the sensor portion. You may. In addition to the sensor section and the dummy section, there are also provided a terminal section comprising a plurality of terminals provided for extracting electric signals to the outside and a peripheral wiring section comprising a plurality of peripheral wirings for electrically connecting the sensor section and the terminal section. It may be. The terminal portion and the peripheral wiring portion may be formed of a mesh-like metal fine wire pattern, or may be a solid pattern (filled pattern).

支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法は特に限定されず、例えば特開２０１５−６９８７７号公報に開示される方法に従い、金属およびバインダーを含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、支持体上に印刷等の方法で付与して網目状金属細線パターンを形成する方法や、特開２００７−５９２７０号公報に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、硬化現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００７−１２３１４号公報等に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、直接現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報、特開２００７−１８８６５５号公報、特開２００４−２０７００１号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１４−１９７５３１号公報に開示される方法に従い、支持体上に下地層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を光透過性電極前駆体として用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に金属を局在化させ、その後レジスト画像を除去し網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１５−８２１７８号公報に開示されている方法に従い、支持体上に金属膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の金属膜をエッチングして除去して網目状金属細線パターンを形成する方法、等が例示できる。 The method of forming the mesh-like metal fine line pattern on the support is not particularly limited, for example, according to a method disclosed in JP-A-2015-67777, a conductive metal ink and a conductive paste containing a metal and a binder, A silver salt having a silver halide emulsion layer on a support in accordance with a method of forming a reticulated metal fine line pattern by applying it on a support by a method such as printing or a method disclosed in JP-A-2007-59270. Using a photosensitive material as a light-transmitting electrode precursor, a method of forming a network-like fine metal wire pattern using a curing development method, a method disclosed in JP-A-2004-221564, JP-A-2007-12314, etc. Using a silver halide photosensitive material having a silver halide emulsion layer on a support as a light-transmitting electrode precursor, using a direct development method, a network-like metal fine wire pattern According to the method for forming, the method disclosed in JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, JP-A-2007-188655, JP-A-2004-207001, etc., a physical development nucleus is formed on a support. Layer, a silver halide photosensitive material having at least a silver halide emulsion layer in this order as a light-transmitting electrode precursor, and a soluble silver salt forming agent and a reducing agent acting in an alkaline solution, a so-called silver salt diffusion transfer method. A method for forming a mesh-like metal fine wire pattern using a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-197531 is used to prepare a light-sensitive electrode material by laminating an underlayer and a photosensitive resist layer on a support. After exposing the photosensitive resist layer to an arbitrary pattern, developing it and forming a resist image, applying electroless plating to the resist According to a method for localizing a metal on an underlayer not covered with an image and then removing a resist image to form a network-like fine metal wire pattern, a method disclosed in JP-A-2015-82178, A metal film and a resist film are provided thereon, the resist film is exposed and developed to form an opening, and the metal film in the opening is removed by etching to form a mesh-like fine metal wire pattern. Can be illustrated.

上記した支持体上に網目状金属細線パターンを形成する方法の中でも、銀を含有する金属細線からなる網目状金属細線パターンが容易に形成でき、パターンの微細化も容易であることから、銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、あるいは感光性レジスト材料を光透過性電極前駆体として用いて無電解めっきを施して網目状金属細線パターンを形成する方法が好ましい。 Among the above-mentioned methods of forming a mesh-like metal fine line pattern on a support, a mesh-like metal fine line pattern composed of a metal thin line containing silver can be easily formed, and the pattern can be easily miniaturized. A method of forming a reticulated metal fine line pattern using a photosensitive material as a light transmitting electrode precursor, or forming a reticulated metal fine line pattern by performing electroless plating using a photosensitive resist material as a light transmitting electrode precursor Is preferred.

支持体上に網目状金属細線パターンを形成後、該金属細線表面に公知の金属表面処理を施してもよい。例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよく、特開２０１１−２０９６２６号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。また、銀塩感光材料を光透過性電極前駆体として用いて網目状金属細線パターンを形成する場合、網目状金属細線パターンを構成する金属細線と、粘着剤層との接着性を向上させる観点から、特開２００７−１２４０４号公報に記載されているようにタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理してもよい。 After forming the mesh-like fine metal wire pattern on the support, the surface of the fine metal wire may be subjected to a known metal surface treatment. For example, a reducing substance, a water-soluble phosphorus oxo acid compound, or a water-soluble halogen compound as described in JP-A-2008-34366 may be allowed to act, as described in JP-A-2013-196779. A triazine having two or more mercapto groups in the molecule or a derivative thereof may be allowed to act, and a blackening treatment by a sulfurization reaction may be performed as described in JP-A-2011-209626. Further, in the case of forming a mesh-like metal fine line pattern using a silver salt photosensitive material as a light-transmitting electrode precursor, from the viewpoint of improving the adhesion between the metal thin wires constituting the mesh-like metal fine line pattern and the adhesive layer. As described in JP-A-2007-12404, the treatment may be performed with a treatment solution containing an enzyme such as a protease.

本発明の光透過性電極積層体が有する機能材料としては、前述の光透過性電極や、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種樹脂からなるフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層、ＩＴＯ等からなる導電性非金属層等の公知の機能層を有する材料が例示できる。 Examples of the functional material of the light-transmitting electrode laminate of the present invention include the light-transmitting electrodes described above, chemically strengthened glass, soda glass, quartz glass, glass such as alkali-free glass, and films made of various resins such as polyethylene terephthalate. And a material having a known functional layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, a polarizing layer, or a conductive nonmetal layer made of ITO or the like on at least one surface of the above-mentioned glass or film.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

＜光透過性電極１の作製＞
支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なお、支持体の全光線透過率は９１％であった。 <Preparation of light transmissive electrode 1>
As a support, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used. The total light transmittance of the support was 91%.

次に下記組成の物理現像核層を支持体上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。 Next, a physical development nucleus layer having the following composition was coated on a support and dried to provide a physical development nucleus layer.

＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液塩化パラジウム５ｇ
塩酸４０ｍｌ
蒸留水１０００ｍｌ
Ｂ液硫化ソーダ８．６ｇ
蒸留水１０００ｍｌ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。 <Preparation of palladium sulfide sol>
Solution A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40ml
Distilled water 1000ml
Liquid B 8.6g Sodium sulfide
Distilled water 1000ml
The A liquid and the B liquid were mixed with stirring, and after 30 minutes, passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain a palladium sulfide sol.

＜物理現像核層組成／１ｍ^２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１）４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ＳＰ−２００水溶液０．５ｍｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００） <Composition of physical development nucleus layer / per 1 m ² >
0.4 mg of the palladium sulfide sol
2% by weight glyoxal aqueous solution 0.2ml
Surfactant (S-1) 4mg
Denacol EX-830 50mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
0.5 mg of 10 mass% SP-200 aqueous solution
(Polyethyleneimine manufactured by Nippon Shokubai; average molecular weight 10,000)

続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。 Subsequently, an intermediate layer having the following composition, a silver halide emulsion layer, and a protective layer were coated on the physical development nucleus liquid layer and dried in order from the side closest to the support to obtain a silver salt photosensitive material. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method of a photographic silver halide emulsion. This silver halide emulsion was prepared so that the average grain size was 0.15 μm with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.

＜中間層組成／１ｍ^２あたり＞
ゼラチン０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１）５ｍｇ
染料１５ｍｇ <Intermediate layer composition / 1 m ² per>
0.5g gelatin
Surfactant (S-1) 5mg
Dye 15mg

＜ハロゲン化銀乳剤層組成／１ｍ^２あたり＞
ゼラチン０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）２０ｍｇ <Silver halide emulsion layer composition / per 1 m ² >
0.5g gelatin
Silver halide emulsion 3.0 g Silver equivalent 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 3 mg
Surfactant (S-1) 20mg

＜保護層組成／１ｍ^２あたり＞
ゼラチン１ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）１０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）１０ｍｇ <Per protective layer composition / 1m ^2>
1g gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5 μm) 10 mg
Surfactant (S-1) 10mg

銀塩感光材料と、網目状細線パターン、周辺配線パターン、端子パターンを有するポジ型透過原稿とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。このようにして図１に示す光透過性電極１を得た。 The silver halide photosensitive material was brought into close contact with a positive-type transmissive document having a mesh-like fine line pattern, a peripheral wiring pattern, and a terminal pattern, and exposed through a resin filter that cuts light of 400 nm or less by a contact printer using a mercury lamp as a light source. . Thereafter, the film was immersed in the following diffusion transfer developer at 20 ° C. for 60 seconds, and then the silver halide emulsion layer, intermediate layer and protective layer were washed off with warm water at 40 ° C. and dried. Thus, the light transmitting electrode 1 shown in FIG. 1 was obtained.

＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム２５ｇ
ハイドロキノン１８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン２ｇ
亜硫酸カリウム８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン１５ｇ
臭化カリウム１．２ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する。 <Diffusion transfer developer composition>
25 g of potassium hydroxide
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
80 g of potassium sulfite
N-methylethanolamine 15g
1.2 g of potassium bromide
1000ml with water
Adjust to pH = 12.2.

光透過性電極１においてセンサー部１１は線幅４．５μｍ、一辺の長さが３００μｍで狭い方の角度が６０°の菱形の単位格子からなる網目状金属細線パターンによって形成されており、周辺配線部１２、端子部１３は全てベタパターン（塗りつぶしパターン）である。周辺配線部１２を構成する周辺配線の線幅は全て２０μｍであり、隣接する周辺配線間の最短距離は２０μｍである。図１中の破線は、後ほど作製する粘着剤層の外縁１４を示したものであり、光透過性電極１上に破線は存在しない。蛍光Ｘ線分析による測定の結果、センサー部１１を構成する金属細線の金属量は１．０ｇ／ｍ^２であった。 In the light-transmitting electrode 1, the sensor section 11 is formed of a mesh-like metal fine line pattern composed of a rhombic unit cell having a line width of 4.5 μm, a side length of 300 μm, and a narrow angle of 60 °. The part 12 and the terminal part 13 are all solid patterns (filled patterns). The line widths of the peripheral wirings constituting the peripheral wiring section 12 are all 20 μm, and the shortest distance between adjacent peripheral wirings is 20 μm. The broken line in FIG. 1 shows the outer edge 14 of the pressure-sensitive adhesive layer to be produced later, and no broken line exists on the light transmitting electrode 1. As a result of the measurement by the fluorescent X-ray analysis, the metal amount of the thin metal wire forming the sensor unit 11 was 1.0 g / m ² .

＜粘着剤層１の作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを６０質量部、アクリル酸−２−エチルヘキシルを３９質量部、アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを１質量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（大塚化学（株）製ＡＩＢＮ）を０．５質量部、重合用溶媒として酢酸エチルを３００部、以上をセパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら１時間撹拌した。その後、６５℃に昇温して１０時間撹拌して溶液重合方法により樹脂前駆体を重合させ、固形分濃度２５質量％の樹脂溶液を得た。 <Preparation of pressure-sensitive adhesive layer 1>
60 parts by mass of 2-methoxyethyl acrylate, 39 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 1 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate, and 2,2′-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator 0.5 parts by mass (AIBN manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and 300 parts of ethyl acetate as a polymerization solvent were charged into a separable flask, and the mixture was stirred for 1 hour while introducing nitrogen gas. Thereafter, the temperature was raised to 65 ° C., and the mixture was stirred for 10 hours to polymerize the resin precursor by a solution polymerization method, thereby obtaining a resin solution having a solid content concentration of 25% by mass.

この樹脂溶液１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を０．５質量部（固形分換算）添加した後、これらを均一に混合し粘着剤層形成用塗液１を得た。該粘着剤層形成用塗液１を厚み３８μｍの剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面上に塗布し、１００℃の温風で３分間加熱し乾燥させ、粘着剤層１（厚み５０μｍ）を作製した。その後、剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面を粘着剤層１上に貼合した。 To 100 parts by mass of the resin solution (in terms of solids), 0.5 part by mass (in terms of solids) of an isocyanate-based cross-linking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was added. A coating liquid 1 for forming an adhesive layer was obtained. The pressure-sensitive adhesive layer forming coating liquid 1 is applied on a release-treated surface of a release-treated polyethylene terephthalate film (MRF38 manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 38 μm, and heated and dried with hot air at 100 ° C. for 3 minutes. An adhesive layer 1 (thickness: 50 μm) was produced. Then, the peeled surface of the peeled polyethylene terephthalate film (MRF38 manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) was bonded onto the pressure-sensitive adhesive layer 1.

＜粘着剤層２〜２６の作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液１に対し、後述する表１に示す化合物を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が後述する表１に示す値になるように混合した以外は粘着剤層１の作製と同様にして、粘着剤層２〜２６を得た。 <Preparation of pressure-sensitive adhesive layers 2 to 26>
Content of the compounds shown in Table 1 described below with respect to the total solid content (corresponding to the total mass of the formed pressure-sensitive adhesive layer) of the pressure-sensitive adhesive layer-forming coating liquid to the pressure-sensitive adhesive layer-forming coating liquid 1 described above. Was obtained in the same manner as in the production of the pressure-sensitive adhesive layer 1 except that the pressure-sensitive adhesives were mixed so as to have the values shown in Table 1 described below.

＜粘着剤層２７の作製＞
アクリル酸−２−メトキシエチルを６０質量部、アクリル酸ｎ−ブチルを３４質量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンを３．５質量部、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドを１質量部、２−アクリル酸−４−ヒドロキシブチルを１質量部、アクリル酸を０．５質量部、重合開始剤として２，２’−アゾビス−２−メチルブチロニトリル（大塚化学（株）製ＡＭＢＮ）を０．５質量部、重合用溶媒として酢酸エチルを３００部、以上をセパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら１時間撹拌した。その後、６５℃に昇温して１０時間撹拌して溶液重合方法により樹脂前駆体を重合させ、固形分濃度２５質量％の樹脂溶液を得た。 <Preparation of adhesive layer 27>
60 parts by mass of 2-methoxyethyl acrylate, 34 parts by mass of n-butyl acrylate, 3.5 parts by mass of N-vinyl-2-pyrrolidone, 1 part by mass of N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, 1 part by mass of 4-hydroxybutyl 2-acrylate, 0.5 part by mass of acrylic acid, and 2,2′-azobis-2-methylbutyronitrile (AMBN manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) as a polymerization initiator. 0.5 parts by mass and 300 parts of ethyl acetate as a polymerization solvent were charged into a separable flask, and the mixture was stirred for 1 hour while introducing nitrogen gas. Thereafter, the temperature was raised to 65 ° C., and the mixture was stirred for 10 hours to polymerize the resin precursor by a solution polymerization method, thereby obtaining a resin solution having a solid content concentration of 25% by mass.

この樹脂溶液１００質量部（固形分換算）に、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＬ）を０．５質量部（固形分換算）、シランカップリング剤（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業（株）製、ＫＢＭ−４０３）を０．３質量部添加した後、これらを均一に混合し粘着剤層形成用塗液２を得た。該粘着剤層形成用塗液２を厚み３８μｍの剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面上に塗布し、１００℃の温風で３分間加熱し乾燥させ、粘着剤層２７（厚み５０μｍ）を作製した。その後、剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂（株）製ＭＲＦ３８）の剥離加工面を粘着剤層２７上に貼合した。 To 100 parts by mass of the resin solution (in terms of solid content), 0.5 parts by mass (in terms of solid content) of an isocyanate-based crosslinking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), and a silane coupling agent (in terms of 3-glycidide) After adding 0.3 parts by mass of xypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-403), these were uniformly mixed to obtain a coating solution 2 for forming an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer forming coating liquid 2 is applied on a release-processed surface of a release-processed polyethylene terephthalate film (MRF38 manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd.) having a thickness of 38 μm, dried by heating with hot air at 100 ° C. for 3 minutes, and dried. An adhesive layer 27 (thickness: 50 μm) was produced. Then, the peeled surface of the peeled polyethylene terephthalate film (MRF38 manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) was bonded onto the adhesive layer 27.

＜粘着剤層２８の作製＞
上記した粘着剤層形成用塗液２に対し、後述する表１に示す化合物を、該粘着剤層形成用塗液の全固形分（形成後の粘着剤層の全質量に相当）に対する含有量が後述する表１に示す値になるように混合した以外は粘着剤層２７の作製と同様にして、粘着剤層２８を得た。 <Preparation of adhesive layer 28>
The content of the compounds shown in Table 1 described below with respect to the total solid content (corresponding to the total mass of the formed pressure-sensitive adhesive layer) of the pressure-sensitive adhesive layer-forming coating liquid with respect to the pressure-sensitive adhesive layer-forming coating liquid 2 described above. Was obtained in the same manner as in the production of the pressure-sensitive adhesive layer 27, except that it was mixed so as to have the values shown in Table 1 described below.

＜試料１〜２８の作製＞
粘着剤層１の一方の剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、粘着剤層１の一方の面を露出させた。次に、光透過性電極１上の、図１で示した外縁１４で囲まれた領域に対し、粘着剤層１の露出させた面を貼合した。その後、粘着剤層１のもう片方の剥離加工済みポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、粘着剤層１上に無アルカリガラス（コーニングジャパン（株）製イーグル２０００）を貼合した。この手順を繰り返し、試料１を３０枚作製した。粘着剤層２〜２８を用いた以外は同様にして、試料２〜２８を各３０枚作製した。 <Preparation of Samples 1 to 28>
One peeled-off polyethylene terephthalate film of the pressure-sensitive adhesive layer 1 was peeled off, exposing one surface of the pressure-sensitive adhesive layer 1. Next, the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer 1 was bonded to a region on the light transmitting electrode 1 surrounded by the outer edge 14 shown in FIG. Thereafter, the other peeled-off polyethylene terephthalate film of the pressure-sensitive adhesive layer 1 was peeled off, and non-alkali glass (Eagle 2000 manufactured by Corning Japan KK) was bonded onto the pressure-sensitive adhesive layer 1. This procedure was repeated to prepare 30 samples. Except that the pressure-sensitive adhesive layers 2 to 28 were used, 30 samples 2 to 28 were prepared in the same manner.

＜抵抗値が変化した試料数＞
全ての試料について、設計上導通している左右の端子間での抵抗値を全端子間について測定し初期抵抗値とした。次に、全試料の全端子の露出している部分（粘着剤層で被覆されていない端子部）をマスキングテープにより一時的に封止したうえで、ＪＩＳＺ２３７１に準じ、スガ試験機（株）製塩水噴霧試験装置内に入れ、７２時間の中性塩水噴霧試験を実施した。試験に使用した塩化ナトリウム水溶液の塩化ナトリウム濃度は５０ｇ／Ｌ、試験時の水温は３５℃であった。試験後、全ての試料の全端子からマスキングテープを剥離し、設計上導通している左右の端子間での抵抗値を全端子間について測定し、初期抵抗値からの抵抗値変化率（単位：％）を算出した。全ての試料について、１端子間でも抵抗値変化率が±１０％を超えたものの枚数を数えた（抵抗値が変化した試料数）。結果を表１に示す。 <Number of samples with changed resistance>
With respect to all the samples, the resistance value between the left and right terminals, which are conductive in design, was measured for all the terminals, and was set as the initial resistance value. Next, the exposed portions of all the terminals of all the samples (terminal portions not covered with the adhesive layer) were temporarily sealed with a masking tape, and then, according to JIS Z 2371, Suga Test Machine Co., Ltd. ) The test was placed in a salt spray test apparatus and subjected to a neutral salt spray test for 72 hours. The sodium chloride concentration of the aqueous sodium chloride solution used in the test was 50 g / L, and the water temperature during the test was 35 ° C. After the test, the masking tape was peeled off from all the terminals of all the samples, and the resistance value between the left and right terminals that were conductive according to the design was measured for all the terminals, and the resistance change rate from the initial resistance value (unit: %) Was calculated. For all samples, the number of samples whose resistance change rate exceeded ± 10% even between one terminal was counted (the number of samples whose resistance values changed). Table 1 shows the results.

表１の結果から、本発明によって、塩化物イオンによる抵抗値変化が抑制され、信頼性に優れた光透過性電極積層体が得られることが判る。 From the results shown in Table 1, it can be seen that the present invention provides a light-transmissive electrode laminate excellent in reliability, in which a change in resistance due to chloride ions is suppressed.

１１センサー部
１２周辺配線部
１３端子部
１４外縁 11 Sensor part 12 Peripheral wiring part 13 Terminal part 14 Outer edge

Claims

A light-transmitting electrode laminate having at least a pressure-sensitive adhesive layer and a functional material on a surface of the light-transmitting electrode having a mesh-like metal fine line pattern on a support, the surface having the mesh-like metal fine line pattern, , containing silver reticulated metal thin wire pattern contains benzotriazole compounds adhesive layer is represented by the following general formula 1, and benzotriazole compound represented by the following general formula 2 at least, the general formula 1 Wherein the mass ratio of the benzotriazole compound represented by the formula: and the benzotriazole compound represented by the formula 2 is from 4.5: 1 to 9.5: 1 .
In Formula 1, R _{1 to} R ₄ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R ₅ represents an alkyl group, a hydroxy group, or an aminomethyl group. In Formula 2, R _{6 to} R ₉ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, or a nitro group.