JP6615146B2 - Laminated body, touch panel, and display device with touch panel - Google Patents

Laminated body, touch panel, and display device with touch panel Download PDF

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Description

本開示は、積層体、タッチパネル、及びタッチパネル付表示装置に関する。   The present disclosure relates to a laminate, a touch panel, and a display device with a touch panel.

タッチパネル方式の情報端末等に使用される透明電極としては、従来から酸化インジウムスズ(ITO)膜が広く知られている。ところが、ITO膜は、入力動作の繰り返しによって割れが生じやすく、曲げにも弱いという問題が指摘されている。また、ITO膜の製造に必要とされる蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスは、多大な設備コストを必要とするため、膜を大面積化する際の障壁ともなっている。   Conventionally, indium tin oxide (ITO) films are widely known as transparent electrodes used for touch panel type information terminals and the like. However, it has been pointed out that the ITO film is easily cracked by repeated input operations and is also susceptible to bending. Moreover, since vacuum processes, such as vapor deposition or sputtering required for manufacture of an ITO film | membrane, require a huge installation cost, it is also a barrier at the time of enlarging a film | membrane.

一方、ITO膜の代替材料として、導電性のフィラーを利用した透明電極が提案されており、バインダー中に銀ナノワイヤを含む透明導電膜を備えた透明導電性シートを用いたタッチパネルが知られている(例えば、特許文献1参照)。   On the other hand, a transparent electrode using a conductive filler has been proposed as an alternative material for the ITO film, and a touch panel using a transparent conductive sheet provided with a transparent conductive film containing silver nanowires in a binder is known. (For example, refer to Patent Document 1).

さらに、導電性のフィラーを含む透明電極に関連する技術として、導電性ナノワイヤが一方向に配向された複数の透明電極基板を積層して有し、一方向に配向された導電性ナノワイヤが同方向に配置されるように透明電極基板配置された表示装置が開示されており、透明電極基板の観察面側に偏光板を配置した例も示されている(例えば、特許文献2参照)。また、カーボンナノチューブがその長軸が一定方向に沿って整列するように配向され、カーボンナノチューブを分散配置したことによる導電性と、上記一定方向と直交する振動方向を有する光を透過させる偏光機能とを有する導電性偏光フィルムが開示されている(例えば、特許文献3参照)。   Furthermore, as a technology related to transparent electrodes containing conductive fillers, a plurality of transparent electrode substrates in which conductive nanowires are oriented in one direction are stacked, and conductive nanowires oriented in one direction are in the same direction. A display device in which a transparent electrode substrate is disposed so as to be disposed on the transparent electrode substrate is disclosed, and an example in which a polarizing plate is disposed on the observation surface side of the transparent electrode substrate is also shown (for example, see Patent Document 2). Further, the carbon nanotubes are oriented so that their long axes are aligned along a certain direction, and the conductivity due to the dispersive arrangement of the carbon nanotubes, and the polarization function that transmits light having a vibration direction orthogonal to the certain direction, There is disclosed a conductive polarizing film having (see, for example, Patent Document 3).

特開2015−128036号公報JP2015-128036A 特開2013−195969号公報JP 2013-195969 A 特開2006−285068号公報JP 2006-285068 A

上記のように、従来から使用されているITO膜には、フレキシブル性に乏しいという課題がある。更に、ITO膜は、透明性に優れる反面、タッチパネル等に使用した場合に、電極パターンが見えやすいという課題もある。
また、ITO膜の代替材料として提案されている導電性のフィラーは、外光を散乱しやすいため、ヘイズが大きくなるという課題がある。
As described above, the ITO film that has been used conventionally has a problem of poor flexibility. Furthermore, while the ITO film is excellent in transparency, there is also a problem that the electrode pattern is easily visible when used for a touch panel or the like.
Moreover, since the conductive filler proposed as an alternative material for the ITO film easily scatters external light, there is a problem that haze increases.

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、フレキシブル性を有し、低ヘイズであり、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製した際の電極パターンの視認性がより改善される積層体を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、電極パターンの視認性がより改善されたタッチパネル及びタッチパネル付表示装置を提供することにある。
Problem to be solved by an embodiment of the present invention is to provide a laminate having flexibility, low haze, and improved visibility of an electrode pattern when a film sensor such as a touch panel is manufactured. There is.
The problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a touch panel and a display device with a touch panel in which the visibility of an electrode pattern is further improved.

繊維状のフィラーの導電性能、外光が入射した際の反射性、機械的強度といった性能を引き出すためには、外光を直線偏光成分に変え、その偏光方向と直交する一方向に繊維状のフィラーを配向させることが望ましいとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
本開示は上記に鑑みたものであり、上記の課題を解決するための具体的手段には以下の態様が含まれる。
In order to bring out the conductive performance of the fibrous filler, the reflectivity when external light is incident, and the mechanical strength, the external light is changed to a linearly polarized component, and the fibrous filler is in one direction perpendicular to the polarization direction. The knowledge that it is desirable to orient the filler has been obtained and achieved based on such knowledge.
The present disclosure has been made in view of the above, and specific means for solving the above-described problems include the following aspects.

<1> 偏光板と、λ/2板と、基材と、偏光板とλ/2板との間に配置されており、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第1の透明導電層と、λ/2板と基材との間に配置されており、第1の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第2の透明導電層と、を有する積層体である。   <1> A metal nanowire disposed between a polarizing plate, a λ / 2 plate, a substrate, a polarizing plate and a λ / 2 plate, and oriented in a direction perpendicular to the transmission axis of the polarizing plate, and The first transparent conductive layer containing at least one kind of fibrous conductive particles selected from metal nanotubes, and the fibrous conductive material disposed between the λ / 2 plate and the base material and contained in the first transparent conductive layer And a second transparent conductive layer including at least one kind of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, which are aligned in a direction orthogonal to the alignment direction of the particles.

<2> 金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤを含む<1>に記載の積層体である。
<3> <1>又は<2>に記載の積層体を備えたタッチパネルである。
<4> <3>に記載のタッチパネルと、表示装置と、を備えたタッチパネル付表示装置である。
A <2> metal nanowire is a laminated body as described in <1> containing a silver nanowire.
<3> A touch panel comprising the laminate according to <1> or <2>.
<4> A touch panel-equipped display device comprising the touch panel according to <3> and a display device.

<5> 仮支持体上に、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含み、繊維状導電粒子が面内の一方向に配向された透明導電層を有する転写材料である。   <5> A transfer material having at least one type of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes on a temporary support and having a transparent conductive layer in which the fibrous conductive particles are oriented in one direction in the plane. .

本発明の一実施形態によれば、フレキシブル性を有し、低ヘイズであり、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製した際の電極パターンの視認性がより改善される積層体が提供される。
本発明の一実施形態によれば、電極パターンの視認性がより改善されたタッチパネル及びタッチパネル付表示装置が提供される。
According to one embodiment of the present invention, a laminate is provided that has flexibility, low haze, and improved visibility of an electrode pattern when a film sensor such as a touch panel is produced.
According to one embodiment of the present invention, a touch panel and a display device with a touch panel in which the visibility of an electrode pattern is further improved are provided.

本開示の積層体の構成の一例を分解して示す分解構成図である。It is a disassembled block diagram which decomposes | disassembles and shows an example of a structure of the laminated body of this indication.

以下、本開示の積層体、タッチパネル、及びタッチパネル付表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the laminate, the touch panel, and the display device with a touch panel of the present disclosure will be described in detail.

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
In the present specification, numerical ranges indicated using “to” indicate ranges including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively. In a numerical range described in stages in the present disclosure, an upper limit value or a lower limit value described in a numerical range may be replaced with an upper limit value or a lower limit value in another numerical range. Further, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the values shown in the examples.
In this specification, the amount of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. means.

また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。   In addition, the term “process” in this specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term is used as long as the intended purpose of the process is achieved. included.

本明細書において、「金属ナノワイヤ」とは、導電性を有し、かつ、長軸長が直径(短軸長)に比べて長く、短軸長(即ち、長軸方向と直交する断面の最大長さ)がナノオーダーサイズの形状を持つ金属粒子をいう。また、「金属ナノチューブ」とは、導電性を有し、かつ、内部中空の管状の形状を有し、長軸長が直径(短軸長)に比べて長く、短軸長(即ち、長軸方向と直交する断面の最大長さ)がナノオーダーサイズの形状を持つ金属粒子をいう。
なお、本開示の積層体に含有される「繊維状導電粒子」は、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる粒子のことを指し、本明細書における「繊維状導電材料」には、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブに加え、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブ以外の、導電性を有する繊維状の粒子も包含される。
また、「繊維状」には、ワイヤ状もしくは線状、又は棒状の形状が含まれる。
In the present specification, the “metal nanowire” is conductive and has a long axis length longer than a diameter (short axis length) and a short axis length (that is, the maximum cross section perpendicular to the long axis direction). This refers to metal particles that have a shape with a nano-order size. In addition, the “metal nanotube” has a conductive and hollow inner tubular shape, the long axis length is longer than the diameter (short axis length), and the short axis length (that is, the long axis) The maximum length of the cross section perpendicular to the direction) is a metal particle having a nano-order size shape.
The “fibrous conductive particles” contained in the laminate of the present disclosure refer to particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, and the “fibrous conductive material” in this specification includes metal nanowires and metals. In addition to nanotubes, metallic particles other than metal nanowires and metal nanotubes are also included.
The “fibrous” includes a wire shape, a wire shape, or a rod shape.

繊維状導電粒子の長軸方向の長さは、平均長軸長のことを指し、以下において繊維状導電粒子の長さを「平均長軸長」ともいう。また、繊維状導電粒子の短軸方向の長さは、平均短軸長のことを指し、以下において繊維状導電粒子の長さを「平均短軸長」ともいう。   The length of the fibrous conductive particles in the major axis direction refers to the average major axis length, and hereinafter, the length of the fibrous conductive particles is also referred to as “average major axis length”. The length of the fibrous conductive particles in the minor axis direction refers to the average minor axis length, and the length of the fibrous conductive particles is also referred to as “average minor axis length” below.

<積層体>
本開示の積層体は、偏光板と、λ/2板(1/2λ偏光板)と、基材と、偏光板とλ/2板との間に配置されており、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第1の透明導電層と、λ/2板と基材との間に配置されており、第1の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第2の透明導電層と、を有している。
本開示の積層体は、偏光板の側から自然光が照射された場合に、第2の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する直線偏光成分を透過するものである。
<Laminate>
The laminate of the present disclosure is disposed between a polarizing plate, a λ / 2 plate (1 / 2λ polarizing plate), a substrate, a polarizing plate, and a λ / 2 plate, and a transmission axis of the polarizing plate A first transparent conductive layer containing at least one type of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, oriented in an orthogonal direction, and disposed between a λ / 2 plate and a substrate, A second transparent conductive layer containing at least one type of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, which is oriented in a direction orthogonal to the orientation direction of the fibrous conductive particles contained in one transparent conductive layer; Have.
When the natural light is irradiated from the polarizing plate side, the laminate of the present disclosure transmits a linearly polarized light component orthogonal to the orientation direction of the fibrous conductive particles contained in the second transparent conductive layer.

従来から用いられている酸化インジウムスズ(ITO)膜は、外力により割れが生じやすく、曲げ等に対するフレキシブル性に乏しいことが課題とされている。
また、ITO膜の代替材料として導電性のフィラーが提案されているが、導電性のフィラーの一例である金属ナノワイヤ等は、直径こそ可視光波長より小さいものの、長さが可視光波長より大きいため、長さ方向に平行に振動する光(偏光)に対して反射しやすい性状を有している。そのため、金属ナノワイヤ等を含有する透明電極層に入射した光は、層中に分散された金属ナノワイヤ等で反射し、光の散乱を生じやすい。透明電極層で生じる光の散乱は、ヘイズを高める一因となる。
Conventionally used indium tin oxide (ITO) films are susceptible to cracking due to external forces and have a problem of poor flexibility with respect to bending and the like.
In addition, conductive fillers have been proposed as an alternative material for ITO films, but metal nanowires, which are examples of conductive fillers, have a diameter that is smaller than the visible light wavelength but longer than the visible light wavelength. , It has the property of being easily reflected with respect to light (polarized light) that vibrates parallel to the length direction. Therefore, light incident on the transparent electrode layer containing metal nanowires or the like is reflected by the metal nanowires or the like dispersed in the layer, and light scattering is likely to occur. Light scattering generated in the transparent electrode layer contributes to an increase in haze.

上記に鑑み、本開示の積層体では、繊維状導電粒子として金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる比較的アスペクト比の高い材料を含有する少なくとも2層の透明導電層を設け、透明導電層の一方(第1の透明導電層)は、偏光板とλ/2板との間に配置し、繊維状導電粒子の配向方向を偏光板の透過軸と直交する方向とし、かつ、透明導電層の他方(第2の透明導電層)は、λ/2板と基材との間に配置し、繊維状導電粒子の配向方向を第1の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向とする。つまり、偏光板側から積層体に入射した外光は、偏光板の透過軸の方向に振動する光が選択的に入射した後、下層に位置する第1の透明導電層及び第2の透明導電層において、それぞれ繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に振動する直線偏光成分が選択的に透過していく構成となっている。
これにより、積層体にフレキシブル性が付与され、かつ、繊維状導電粒子由来の光の散乱が抑えられ、低ヘイズが達成される。また、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製する場合に、電極パターンの視認性をより軽減することができる。
In view of the above, in the laminate of the present disclosure, at least two transparent conductive layers containing a material having a relatively high aspect ratio selected from metal nanowires and metal nanotubes are provided as fibrous conductive particles, and one of the transparent conductive layers ( The first transparent conductive layer is disposed between the polarizing plate and the λ / 2 plate, the orientation direction of the fibrous conductive particles is set to a direction orthogonal to the transmission axis of the polarizing plate, and the other transparent conductive layer ( The second transparent conductive layer) is disposed between the λ / 2 plate and the substrate, and the orientation direction of the fibrous conductive particles is orthogonal to the orientation direction of the fibrous conductive particles contained in the first transparent conductive layer. The direction. That is, the external light incident on the laminate from the polarizing plate side is selectively incident with light that vibrates in the direction of the transmission axis of the polarizing plate, and then the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer located in the lower layer. In each layer, linearly polarized light components that vibrate in a direction orthogonal to the orientation direction of the fibrous conductive particles are selectively transmitted.
Thereby, flexibility is provided to the laminate, and scattering of light derived from the fibrous conductive particles is suppressed, and low haze is achieved. Moreover, when producing film sensors, such as a touch panel, the visibility of an electrode pattern can be reduced more.

[透明導電層]
まず、本開示の積層体における透明導電層について説明する。
本開示の積層体は、少なくとも2層の透明導電層を有している。2層のうちの一方は、後述の偏光板とλ/2板との間に配置され、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第1の透明導電層である。また、2層のうちの他方は、後述のλ/2板と基材との間に配置され、第1の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第2の透明導電層である。
[Transparent conductive layer]
First, the transparent conductive layer in the laminate of the present disclosure will be described.
The laminate of the present disclosure has at least two transparent conductive layers. One of the two layers is at least one fiber selected from a metal nanowire and a metal nanotube, which is arranged between a polarizing plate and a λ / 2 plate, which will be described later, and is oriented in a direction perpendicular to the transmission axis of the polarizing plate. It is the 1st transparent conductive layer containing a cylindrical conductive particle. The other of the two layers is disposed between a λ / 2 plate, which will be described later, and the base material, and is oriented in a direction perpendicular to the orientation direction of the fibrous conductive particles contained in the first transparent conductive layer. And a second transparent conductive layer containing at least one fibrous conductive particle selected from metal nanowires and metal nanotubes.

本明細書において、「直交する」とは、ある方向に対して他の方向が90°の角度(直角)をもって交差することを指すのみならず、ある方向に対して他の方向が70°〜110°の範囲の角度にある場合をも包含するものである。「直交する」角度の範囲は、透明導電層又は隣接層との界面での光の散乱をより抑えられる点で、80°〜100°の範囲が好ましく、85°〜95°の範囲がより好ましい。   In this specification, “perpendicular” not only indicates that another direction intersects with a certain direction at an angle of 90 ° (right angle), but the other direction has a direction from 70 ° to 70 °. The case where the angle is in the range of 110 ° is also included. The range of the “orthogonal” angle is preferably in the range of 80 ° to 100 °, more preferably in the range of 85 ° to 95 °, in that light scattering at the interface with the transparent conductive layer or the adjacent layer can be further suppressed. .

本明細書において、「透明」とは、波長400nm〜700nmの可視光の透過率が、80%以上であることを意味する。したがって、「透明導電層」とは、波長400nm〜700nmの可視光の透過率が80%以上である層を指す。「透明導電層」の可視光の透過率は、90%以上であることが好ましい。
また、透明導電層の透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計U−3310を用いて測定することができる。
In this specification, “transparent” means that the transmittance of visible light having a wavelength of 400 nm to 700 nm is 80% or more. Therefore, the “transparent conductive layer” refers to a layer having a visible light transmittance of 80% or more at a wavelength of 400 nm to 700 nm. The visible light transmittance of the “transparent conductive layer” is preferably 90% or more.
Moreover, the transmittance | permeability of a transparent conductive layer is a value measured using a spectrophotometer, for example, can be measured using the Hitachi Ltd. spectrophotometer U-3310.

第1の透明導電層と第2の透明導電層とは、例えばタッチパネル等のセンサフィルムに積層されるX方向電極又はY方向電極として利用することが可能であり、このような使用態様では、電気抵抗がより低減され、電気導電性の向上効果が期待できる。   The first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer can be used as, for example, an X-direction electrode or a Y-direction electrode laminated on a sensor film such as a touch panel. Resistance is further reduced, and an effect of improving electrical conductivity can be expected.

第1の透明導電層と第2の透明導電層とにそれぞれ含まれる繊維状導電粒子は、同一の導電材料であってもよいし、互いに異なる種類の導電材料であってもよい。   The fibrous conductive particles contained in each of the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer may be the same conductive material or different types of conductive materials.

−第1の透明導電層−
第1の透明導電層は、後述の偏光板とλ/2板との間に配置されており、例えば図1に示すように、偏光板14によってその透過軸10と平行に振動する偏光hνが入射される。第1の透明導電層22は、少なくとも金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含有し、層中に含有される繊維状導電粒子12が偏光板14の透過軸10と直交する方向に配向されているので、偏光板14からの偏光は、第1の透明導電層22で散乱し難い。そして、透過光は、更に下層のλ/2板18へ入射する。
-First transparent conductive layer-
The first transparent conductive layer is disposed between a polarizing plate, which will be described later, and a λ / 2 plate. For example, as shown in FIG. 1, the polarization hν that vibrates in parallel with the transmission axis 10 is applied by the polarizing plate 14. Incident. The first transparent conductive layer 22 contains at least one kind of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, and the fibrous conductive particles 12 contained in the layer are orthogonal to the transmission axis 10 of the polarizing plate 14. Therefore, the polarized light from the polarizing plate 14 is hardly scattered by the first transparent conductive layer 22. The transmitted light then enters the lower λ / 2 plate 18.

図1は、本開示の積層体の構成の一例を分解して示す分解構成図である。
図1に示す積層体100には、等方性基材24上に第1の透明導電層22が積層された銀ナノワイヤフィルム(透明導電部材)16がλ/2板18の上に配置されており、第1の透明導電層22がパターニングされると等方性基材24上に電極パターンを有することになる。
なお、図1には、第1の透明導電層22とλ/2板18との間に等方性基材24を有する態様を示したが、場合によっては等方性基材24を有していなくてもよい。
FIG. 1 is an exploded configuration diagram illustrating an example of a configuration of a laminate according to the present disclosure.
In the laminate 100 shown in FIG. 1, a silver nanowire film (transparent conductive member) 16 in which a first transparent conductive layer 22 is laminated on an isotropic substrate 24 is disposed on a λ / 2 plate 18. When the first transparent conductive layer 22 is patterned, it has an electrode pattern on the isotropic substrate 24.
Although FIG. 1 shows an embodiment in which the isotropic base material 24 is provided between the first transparent conductive layer 22 and the λ / 2 plate 18, the isotropic base material 24 may not be provided in some cases. Good.

(繊維状導電粒子)
繊維状導電粒子とは、導電性の物質が繊維状の形態となったものをいう。繊維状導電粒子として含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの金属としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよい。また、金属種は、1種以外にも2種以上の金属を組み合わせてもよく、合金を用いてもよい。
(Fibrous conductive particles)
The fibrous conductive particles are those in which a conductive substance is in a fibrous form. There is no restriction | limiting in particular as a metal of the metal nanowire and metal nanotube contained as a fibrous conductive particle, Any metal may be sufficient. Moreover, 2 or more types of metals other than 1 type may be combined, and an alloy may be used.

金属としては、周期律表(IUPAC1991)の第4周期、第5周期、及び第6周期の金属から選ばれる少なくとも1種の金属が好ましく、第2族〜第14族の金属から選ばれる少なくとも1種の金属がより好ましく、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及び第14族の金属から選ばれる少なくとも1種の金属が更に好ましい。金属として、上記の金属を主成分として含む場合が特に好ましい。なお、「主成分」とは、金属の全量に対する比率が50モル%以上であることを指す。
金属の例としては、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、及びこれらの少なくとも一つを含む合金などが挙げられる。中でも、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、又はこれらの少なくとも一つを含む合金が好ましく、パラジウム、銅、銀、金、白金、錫、又はこれらの少なくとも一つを含む合金がより好ましく、銀又は銀を含む合金が特に好ましい。「銀を含む合金」における銀の含有量は、合金の全量に対して50モル%以上であることが好ましく、60モル%以上であることがより好ましく、80モル%以上であることが更に好ましい。
The metal is preferably at least one metal selected from metals of the fourth period, the fifth period, and the sixth period of the periodic table (IUPAC 1991), and at least one selected from metals of Group 2 to Group 14 More preferably, the group of metals is at least one metal selected from Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, Group 13, and Group 14 metals. Further preferred. It is particularly preferable that the metal contains the above metal as a main component. The “main component” means that the ratio to the total amount of metal is 50 mol% or more.
Examples of metals include copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantalum, titanium, bismuth, antimony, lead, And an alloy containing at least one of them. Among them, copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, or an alloy containing at least one of these is preferable, palladium, copper, silver, gold, platinum, tin, or at least these More preferred is an alloy containing one, and particularly preferred is silver or an alloy containing silver. The silver content in the “silver-containing alloy” is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and still more preferably 80 mol% or more based on the total amount of the alloy. .

第1の透明導電層が金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブを含む場合、第1の透明導電層に含まれる繊維状導電材料の全質量に対する金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの合計の含有比率は、特に制限はなく、50質量%以上の範囲とすることが好ましく、中でも80質量%以上がより好ましい。更には、第1の透明導電層に含有される繊維状導電材料の全量が実質的に銀ナノワイヤであることが好ましい。なお、「実質的に銀ナノワイヤである」とは、不可避的に混入する銀ナノワイヤ以外の繊維状導電材料が存在し得ることを意味する。   When the first transparent conductive layer includes metal nanowires and metal nanotubes, the total content ratio of the metal nanowires and metal nanotubes with respect to the total mass of the fibrous conductive material included in the first transparent conductive layer is not particularly limited. The range is preferably 50% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more. Furthermore, it is preferable that the total amount of the fibrous conductive material contained in the first transparent conductive layer is substantially silver nanowires. Note that “substantially silver nanowires” means that there may be fibrous conductive materials other than silver nanowires inevitably mixed.

また、後述する他の導電性材料が更に含有されている場合、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率は、上記の繊維状導電粒子及び繊維状導電材料を含む導電性材料の総量に対して、体積基準で50%以上が好ましく、60%以上がより好ましく、75%以上が更に好ましい。金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率が50%以上であると、金属ナノワイヤ等同士の密なネットワークが形成され、優れた導電性を有する第1の透明導電層が得られやすい。   Further, when other conductive materials described later are further contained, the content ratio of the metal nanowires and the metal nanotubes is a volume with respect to the total amount of the conductive materials including the fibrous conductive particles and the fibrous conductive material. 50% or more is preferable on the basis, 60% or more is more preferable, and 75% or more is still more preferable. When the content ratio of the metal nanowires and the metal nanotubes is 50% or more, a dense network of metal nanowires or the like is formed, and a first transparent conductive layer having excellent conductivity is easily obtained.

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率は、下記の方法で求められる。
例えば、繊維状導電粒子として銀ナノワイヤ及び金属ナノチューブを含み、かつ、他の導電性材料として銀粒子を含む場合、銀ナノワイヤ及び金属ナノチューブを含む水分散液をろ過して、銀ナノワイヤ及び金属ナノチューブとそれ以外の導電性材料とに分離し、誘導結合プラズマ(ICP)発光分析装置を用いて、ろ紙に残存する銀の量と、ろ紙を透過した銀の量と、を各々測定することで、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブ(繊維状導電粒子)の比率は算出される。
The content ratio of the metal nanowire and the metal nanotube is obtained by the following method.
For example, when silver nanowires and metal nanotubes are contained as fibrous conductive particles and silver particles are contained as other conductive materials, an aqueous dispersion containing silver nanowires and metal nanotubes is filtered to obtain silver nanowires and metal nanotubes. Separated from other conductive materials, using an inductively coupled plasma (ICP) emission spectrometer, the amount of silver remaining on the filter paper and the amount of silver that has passed through the filter paper are measured, respectively. The ratio of nanowires and metal nanotubes (fibrous conductive particles) is calculated.

第1の透明導電層に含まれる金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有量は、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの種類等に応じて、第1の透明導電層の抵抗率、全光透過率、及びヘイズ値が所望の範囲となるように適宜選択されることが好ましい。
金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの第1の透明導電層中における総含有量としては、第1の透明導電層の全質量に対して、1質量%〜60質量%が好ましく、3質量%〜50質量%がより好ましく、5質量%〜40質量%が更に好ましい。
また、第1の透明導電層の抵抗率を制御する観点から、第1の透明導電層の単位面積当たりの金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの量は、0.020g/m〜2.00g/mの範囲が好ましい。
The content of metal nanowires and metal nanotubes contained in the first transparent conductive layer is such that the resistivity, total light transmittance, and haze value of the first transparent conductive layer depend on the types of metal nanowires and metal nanotubes. It is preferable to select appropriately so as to be in a desired range.
The total content of metal nanowires and metal nanotubes in the first transparent conductive layer is preferably 1% by mass to 60% by mass with respect to the total mass of the first transparent conductive layer, and 3% by mass to 50% by mass. Is more preferable, and 5 mass%-40 mass% is still more preferable.
From the viewpoint of controlling the resistivity of the first transparent conductive layer, the amount of metal nanowires and metal nanotubes per unit area of the first transparent conductive layer, 0.020g / m 2 ~2.00g / m 2 The range of is preferable.

また、後述のバインダーに対する金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの合計量の比率(金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有量/バインダーの含有量)としては、1/20〜1/2の範囲が好ましい。   In addition, the ratio of the total amount of metal nanowires and metal nanotubes to the binder described later (content of metal nanowires and metal nanotubes / content of binder) is preferably in the range of 1/20 to 1/2.

(金属ナノワイヤ)
繊維状導電粒子として含有される金属ナノワイヤとしては、銀ナノワイヤ、銅ナノワイヤ、銅−ニッケルナノワイヤ等が挙げられる。中でも、銀ナノワイヤが好ましい。
(Metal nanowires)
Examples of the metal nanowires contained as the fibrous conductive particles include silver nanowires, copper nanowires, and copper-nickel nanowires. Among these, silver nanowires are preferable.

金属ナノワイヤの平均短軸長は、0.5nm〜500nmが好ましく、1nm〜200nmがより好ましく、15nm〜100nmが更に好ましい。金属ナノワイヤの平均短軸長が500nm以下であると、光散乱によるヘイズが抑えられ、透明性により優れたものとなる。また、金属ナノワイヤの平均短軸長が0.5nm以上であると、透明性に優れ、かつ、酸化劣化による導電性の低下が少ない。
金属ナノワイヤの平均長軸長は、0.5μm〜50μmが好ましく、1μm〜30μmがより好ましく、5μm〜20μmが更に好ましい。金属ナノワイヤの平均長軸長が0.5μm以上であると、導電体を塗布により作製した場合において、金属同士の接点を確保しやすく、導通性がより良好になり、抵抗を低く抑えやすい。また、金属ナノワイヤの平均長軸長が50μm以下であると、分散安定性がより向上する。
中でも、平均短軸長が15nm〜100nmであって、平均長軸長が5μm〜20μmの銀ナノワイヤを含有することが好ましい。
The average minor axis length of the metal nanowire is preferably 0.5 nm to 500 nm, more preferably 1 nm to 200 nm, and still more preferably 15 nm to 100 nm. When the average minor axis length of the metal nanowire is 500 nm or less, haze due to light scattering is suppressed, and the transparency is improved. Further, when the average short axis length of the metal nanowire is 0.5 nm or more, the transparency is excellent and the decrease in conductivity due to oxidative degradation is small.
The average major axis length of the metal nanowire is preferably 0.5 μm to 50 μm, more preferably 1 μm to 30 μm, still more preferably 5 μm to 20 μm. When the average major axis length of the metal nanowire is 0.5 μm or more, when the conductor is produced by coating, it is easy to secure a contact between the metals, the conductivity is improved, and the resistance is easily suppressed low. Further, when the average major axis length of the metal nanowire is 50 μm or less, the dispersion stability is further improved.
Among these, it is preferable to contain silver nanowires having an average minor axis length of 15 nm to 100 nm and an average major axis length of 5 μm to 20 μm.

金属ナノワイヤの平均短軸長(平均直径)及び平均長軸長は、透過型電子顕微鏡(TEM)又は光学顕微鏡を用い、TEM像又は光学顕微鏡像を観察して求められる。
具体的には、金属ナノワイヤの平均短軸長(平均直径)及び平均長軸長は、透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製、商品名:JEM−2000FX)を用い、ランダムに選択した300個の金属ナノワイヤについて短軸長及び長軸長を測定し、各々の測定値から平均値を求めることによって得られる。
なお、金属ナノワイヤの短軸方向断面が円形でない場合の短軸長は、短軸方向の測定値のうち最も長い箇所の長さを短軸長とする。また、金属ナノワイヤが曲がっている場合、曲がっている粒子を弧とする円を想定し、円の半径及び曲率から算出される値を長軸長とする。
The average minor axis length (average diameter) and average major axis length of the metal nanowire are determined by observing a TEM image or an optical microscope image using a transmission electron microscope (TEM) or an optical microscope.
Specifically, the average minor axis length (average diameter) and the average major axis length of the metal nanowires were 300 randomly selected using a transmission electron microscope (trade name: JEM-2000FX, manufactured by JEOL Ltd.). It is obtained by measuring the short axis length and the long axis length of the metal nanowires and obtaining an average value from each measured value.
In addition, the short-axis length when the short-axis direction cross section of metal nanowire is not circular makes the length of the longest part among the measured values of a short-axis direction short-axis length. In addition, when the metal nanowire is bent, a circle having a bent particle as an arc is assumed, and a value calculated from the radius and the curvature of the circle is a major axis length.

金属ナノワイヤの平均アスペクト比としては、目的又は場合に応じて適宜選択することができ、1.5〜1,000,000の範囲とすることができ、10〜1,000,000の範囲であってもよく、10〜1,000の範囲であってもよい。平均アスペクト比が1.5以上、更には10以上であると、金属ナノワイヤによりネットワークが形成され、導電性が良好に発現しやすい。また、アスペクト比が1,000,000以下であると、金属ナノワイヤの形成時又はその後の取扱いにおいて、成膜前に金属ナノワイヤの絡まりに伴う凝集が生じにくい。
平均アスペクト比とは、金属ナノワイヤの平均短軸長に対する平均長軸長の比(平均長軸長/平均短軸長の比)を意味する。
The average aspect ratio of the metal nanowire can be appropriately selected according to the purpose or case, and can be in the range of 1.5 to 1,000,000, and in the range of 10 to 1,000,000. Or in the range of 10 to 1,000. When the average aspect ratio is 1.5 or more, and further 10 or more, a network is formed by the metal nanowires, and the electrical conductivity is easily developed well. Further, when the aspect ratio is 1,000,000 or less, aggregation during the formation of the metal nanowire or subsequent handling is unlikely to occur due to the entanglement of the metal nanowire before film formation.
The average aspect ratio means the ratio of the average major axis length to the average minor axis length of the metal nanowire (ratio of average major axis length / average minor axis length).

平均アスペクト比の測定は、透過型電子顕微鏡により測定される。
具体的には、金属ナノワイヤの平均アスペクト比は、ろ紙に残っている金属ナノワイヤを透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し、300個の金属ナノワイヤの短軸長及び長軸長をそれぞれ測定し、平均値を求め、金属ナノワイヤの平均短軸長に対する平均長軸長の比(平均長軸長/平均短軸長の比)を算出して求められる。
金属ナノワイヤの平均アスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、金属ナノワイヤの平均アスペクト比が上記範囲にあることは、電子顕微鏡の1視野で確認できればよい。また、金属ナノワイヤの平均長軸長と平均短軸長とを各々別に測定することによって、金属ナノワイヤ全体の平均アスペクト比を見積ることもできる。
The average aspect ratio is measured with a transmission electron microscope.
Specifically, the average aspect ratio of the metal nanowires is to observe the metal nanowires remaining on the filter paper with a transmission electron microscope (TEM), and measure the short axis length and the long axis length of 300 metal nanowires, The average value is obtained, and the ratio of the average major axis length to the average minor axis length of the metal nanowire (average major axis length / average minor axis length ratio) is calculated.
When measuring the average aspect-ratio of metal nanowire with an electron microscope, it should just be able to confirm with one visual field of an electron microscope that the average aspect-ratio of metal nanowire exists in the said range. Moreover, the average aspect ratio of the whole metal nanowire can also be estimated by separately measuring the average major axis length and the average minor axis length of the metal nanowire.

(金属ナノチューブ)
繊維状導電粒子として含有される金属ナノチューブとしては、銀ナノチューブ、銅ナノチューブ等が挙げられる。
(Metal nanotube)
Examples of the metal nanotubes contained as the fibrous conductive particles include silver nanotubes and copper nanotubes.

金属ナノチューブの平均短軸長(平均直径)及び平均長軸長は、既述の金属ナノワイヤと同様の理由から、金属ナノワイヤの平均短軸長及び平均長軸長と同様の範囲であることが好ましい。
金属ナノチューブの平均短軸長及び平均長軸長も、既述の金属ナノワイヤと同様に、透過型電子顕微鏡(TEM)と光学顕微鏡とを用い、TEM像又は光学顕微鏡像を観察することで求められる。具体的には、金属ナノチューブの平均短軸長(平均直径)及び平均長軸長は、透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製、商品名:JEM−2000FX)を用い、ランダムに選択した300個の金属ナノチューブについて短軸長及び長軸長を測定し、各々の測定値から平均値を求めることによって得られる。
なお、金属ナノチューブの短軸方向断面が円形でない場合の短軸長は、短軸方向の測定値のうち最も長い箇所の長さを短軸長とする。また、金属ナノチューブが曲がっている場合、曲がっている粒子を弧とする円を想定し、円の半径及び曲率から算出される値を長軸長とする。
The average minor axis length (average diameter) and the average major axis length of the metal nanotube are preferably in the same range as the average minor axis length and the average major axis length of the metal nanowire for the same reason as the metal nanowire described above. .
The average minor axis length and the average major axis length of the metal nanotube are also obtained by observing a TEM image or an optical microscope image using a transmission electron microscope (TEM) and an optical microscope, as in the case of the metal nanowire described above. . Specifically, the average short axis length (average diameter) and the average long axis length of the metal nanotubes are 300 randomly selected using a transmission electron microscope (trade name: JEM-2000FX, manufactured by JEOL Ltd.). It is obtained by measuring the short axis length and the long axis length of each metal nanotube, and obtaining an average value from each measured value.
In addition, the short-axis length when the short-axis direction cross section of the metal nanotube is not circular is the length of the longest portion among the measured values in the short-axis direction. When the metal nanotube is bent, a circle whose arc is a bent particle is assumed, and a value calculated from the radius and the curvature of the circle is a long axis length.

金属ナノチューブの平均アスペクト比も、既述の金属ナノワイヤと同様の理由から、金属ナノワイヤの平均アスペクト比と同様の範囲であることが好ましい。
また、平均アスペクト比の測定方法も、既述の金属ナノワイヤにおける場合と同様である。但し、金属ナノチューブの平均アスペクト比を算出するための直径には、金属ナノチューブの外径が用いられる。
The average aspect ratio of the metal nanotube is also preferably in the same range as the average aspect ratio of the metal nanowire for the same reason as that of the metal nanowire described above.
The average aspect ratio is measured in the same manner as in the metal nanowire described above. However, the outer diameter of the metal nanotube is used as the diameter for calculating the average aspect ratio of the metal nanotube.

〜繊維状導電粒子の製造方法〜
繊維状導電粒子(金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブ)の製造方法には、特に制限はなく、いかなる方法で作製されてもよい。
繊維状導電粒子が例えば銀ナノワイヤである場合、ハロゲン化合物と分散剤を溶解した溶媒中で金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。また、繊維状導電粒子を形成した後は、常法により脱塩処理を行うことが、分散性及び第1の透明導電層の経時安定性の観点から好ましい。
金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの製造方法は、特開2009−215594号公報、特開2009−242880号公報、特開2009−299162号公報、特開2010−84173号公報、特開2010−86714号公報等に記載の方法を用いることができる。
~ Method for producing fibrous conductive particles ~
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of fibrous electroconductive particle (metal nanowire and metal nanotube), You may produce by what kind of method.
When the fibrous conductive particles are, for example, silver nanowires, it is preferably produced by reducing metal ions in a solvent in which a halogen compound and a dispersant are dissolved. Moreover, after forming the fibrous conductive particles, it is preferable to perform a desalting treatment by a conventional method from the viewpoints of dispersibility and temporal stability of the first transparent conductive layer.
The manufacturing method of metal nanowires and metal nanotubes is disclosed in JP2009-215594A, JP2009-242880A, JP2009-299162A, JP2010-84173A, JP2010-86714A, and the like. Can be used.

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの製造に用いられる溶媒としては、親水性溶剤が好ましく、例えば、水、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤などが挙げられる。溶媒は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等が挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン等が挙げられる。
The solvent used for the production of the metal nanowires and the metal nanotubes is preferably a hydrophilic solvent, and examples thereof include water, alcohol solvents, ether solvents, and ketone solvents. A solvent may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, and the like.
Examples of ether solvents include dioxane and tetrahydrofuran.
Examples of the ketone solvent include acetone.

製造時に加熱する場合、加熱温度は、250℃以下が好ましく、20℃以上200℃以下がより好ましく、30℃以上180℃以下が更に好ましい。加熱温度を20℃以上とすることで、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの長さが、分散安定性を確保するのにより適した範囲となる。また、加熱温度を250℃以下とすることで、繊維状導電粒子の長軸方向と直交する断面における外周に鋭角な突起を有しない、滑らかな外形が得られやすく、繊維状導電粒子の表面プラズモン吸収による着色が抑えられ、透明性により優れたものとなる。
なお、必要に応じて、粒子形成過程で温度を変更してもよく、途中での温度変更は核形成の制御や再核発生の抑制、選択成長の促進による単分散性の向上効果が期待できる。
When heating at the time of manufacture, the heating temperature is preferably 250 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and further preferably 30 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. By setting the heating temperature to 20 ° C. or higher, the lengths of the metal nanowires and the metal nanotubes are in a more suitable range for ensuring dispersion stability. In addition, by setting the heating temperature to 250 ° C. or less, it is easy to obtain a smooth outer shape having no sharp protrusion on the outer periphery in the cross section orthogonal to the long axis direction of the fibrous conductive particles, and the surface plasmon of the fibrous conductive particles Coloring due to absorption is suppressed, and the transparency is excellent.
If necessary, the temperature may be changed during the grain formation process. Changing the temperature in the middle can be expected to improve monodispersity by controlling nucleation, suppressing renucleation, and promoting selective growth. .

加熱処理は、還元剤を添加して行うことが好ましい。
還元剤としては、特に制限はなく、通常使用されるものの中から適宜選択することができ、例えば、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム塩、アルカノールアミン、脂肪族アミン、ヘテロ環式アミン、芳香族アミン、アラルキルアミン、アルコール、有機酸類、還元糖類、糖アルコール類、亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、エチレングリコール、グルタチオンなどが挙げられる。これらの中でも、還元糖類、その誘導体としての糖アルコール類、エチレングリコールが特に好ましい。
還元剤によっては、機能として分散剤や溶媒としても機能する化合物があり、同様に好ましく用いることができる。
The heat treatment is preferably performed by adding a reducing agent.
The reducing agent is not particularly limited and can be appropriately selected from those usually used. For example, borohydride metal salt, aluminum hydride salt, alkanolamine, aliphatic amine, heterocyclic amine, aromatic Group amines, aralkylamines, alcohols, organic acids, reducing sugars, sugar alcohols, sodium sulfite, hydrazine compounds, dextrin, hydroquinone, hydroxylamine, ethylene glycol, glutathione and the like. Among these, reducing sugars, sugar alcohols as derivatives thereof, and ethylene glycol are particularly preferable.
Depending on the reducing agent, there is a compound that functions as a dispersant or a solvent as a function, and can be preferably used in the same manner.

繊維状導電粒子の製造は、分散剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化金属微粒子と、を添加して行うことが好ましい。
分散剤及びハロゲン化合物の添加タイミングは、還元剤の添加前又は添加後のいずれでもよく、金属イオン又はハロゲン化金属微粒子の添加前又は添加後のいずれでもよい。単分散性のより良好な繊維状導電粒子を得るには、核形成と成長を制御する観点から、ハロゲン化合物の添加を2段階以上に分けて行うことが好ましい。
The production of the fibrous conductive particles is preferably performed by adding a dispersant and a halogen compound or metal halide fine particles.
The timing for adding the dispersant and the halogen compound may be before or after the addition of the reducing agent, and may be either before or after the addition of the metal ions or metal halide fine particles. In order to obtain fibrous conductive particles with better monodispersity, it is preferable to add the halogen compound in two or more stages from the viewpoint of controlling nucleation and growth.

分散剤を添加する段階は、特に制限されない。繊維状導電粒子を調製する前にあらかじめ分散剤を添加しておき、分散剤存在下で繊維状導電粒子を添加してもよいし、繊維状導電粒子の調製後に分散状態を制御する観点から分散剤を添加してもよい。
分散剤としては、例えば、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、スルフィド基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類、多糖類由来の天然高分子、合成高分子、又はこれらに由来するゲル等の高分子化合物などが挙げられる。
The step of adding the dispersant is not particularly limited. Before preparing the fibrous conductive particles, a dispersant may be added in advance, and the fibrous conductive particles may be added in the presence of the dispersant, or the dispersion is performed from the viewpoint of controlling the dispersion state after the preparation of the fibrous conductive particles. An agent may be added.
Examples of the dispersant include amino group-containing compounds, thiol group-containing compounds, sulfide group-containing compounds, amino acids or derivatives thereof, peptide compounds, polysaccharides, polysaccharide-derived natural polymers, synthetic polymers, or these. Examples thereof include polymer compounds such as gel.

分散剤として好適に用いられるポリマーとしては、例えば保護コロイド性のあるポリマーであるゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプルピルセルロース、ポリアルキレンアミン、アクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン構造を含む共重合体、アミノ基やチオール基を有するアクリル酸等の親水性基を有するポリマーが好ましく挙げられる。
その他、分散剤として使用可能な化合物の構造については、例えば「顔料の事典」(伊藤征司郎編、株式会社朝倉書院発行、2000年)の記載を参照できる。
Examples of the polymer suitably used as the dispersant include gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, polyalkylene amine, partial alkyl esters of acrylic acid, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl pyrrolidone structures, which are protective colloidal polymers. Preferred examples include a copolymer containing, and a polymer having a hydrophilic group such as acrylic acid having an amino group or a thiol group.
In addition, for the structure of the compound that can be used as the dispersant, for example, the description of “Encyclopedia of Pigments” (edited by Seijiro Ito, published by Asakura Shoin Co., Ltd., 2000) can be referred to.

ハロゲン化合物は、臭素、塩素、ヨウ素を含有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、臭化ナトリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、塩化カリウム等のアルカリハライド又は下記の分散添加剤と併用できる化合物が好ましい。ハロゲン化合物によっては、分散添加剤として機能するものがあり得るが、同様に好ましく用いることができる。また、ハロゲン化合物の代替としてハロゲン化銀微粒子を使用してもよいし、ハロゲン化合物とハロゲン化銀微粒子を共に使用してもよい。   The halogen compound is not particularly limited as long as it is a compound containing bromine, chlorine, or iodine, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, sodium bromide, sodium chloride, sodium iodide, potassium iodide, Compounds that can be used in combination with alkali halides such as potassium bromide and potassium chloride or the following dispersion additives are preferred. Some halogen compounds may function as a dispersion additive, but can be preferably used in the same manner. Further, as a substitute for the halogen compound, silver halide fine particles may be used, or both a halogen compound and silver halide fine particles may be used.

また、分散剤の機能とハロゲン化合物の機能との双方を有する単一の物質を用いてもよい。すなわち、分散剤としての機能を有するハロゲン化合物を用いることで、1つの化合物で、分散剤とハロゲン化合物の双方の機能を発現する。
分散剤の機能を有するハロゲン化合物としては、例えば、アミノ基と臭化物イオンを含むヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド(HTAB)、アミノ基と塩化物イオンを含むヘキサデシル−トリメチルアンモニウムクロライド(HTAC)、アミノ基と臭化物イオン又は塩化物イオンを含むドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジステアリルアンモニウムブロミド、ジメチルジステアリルアンモニウムクロリド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロミド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジパルミチルアンモニウムブロミド、ジメチルジパルミチルアンモニウムクロリドが挙げられる。
A single substance having both the function of a dispersant and the function of a halogen compound may be used. That is, by using a halogen compound having a function as a dispersant, the functions of both the dispersant and the halogen compound are expressed with one compound.
Examples of the halogen compound having a dispersant function include hexadecyl-trimethylammonium bromide (HTAB) containing an amino group and a bromide ion, hexadecyl-trimethylammonium chloride (HTAC) containing an amino group and a chloride ion, an amino group and a bromide. Dodecyl trimethyl ammonium bromide, dodecyl trimethyl ammonium chloride, stearyl trimethyl ammonium bromide, stearyl trimethyl ammonium chloride, decyl trimethyl ammonium bromide, decyl trimethyl ammonium chloride, dimethyl distearyl ammonium bromide, dimethyl distearyl ammonium chloride, di Lauryldimethylammonium bromide, dilauryldimethylammonium chloride Chloride, dimethyl dipalmityl ammonium bromide, dimethyl dipalmityl ammonium chloride.

繊維状導電粒子の製造においては、繊維状導電粒子の形成後に脱塩処理を行うことが好ましい。金属ナノワイヤ形成後の脱塩処理は、限外ろ過、透析、ゲルろ過、デカンテーション、遠心分離などの手法により行うことができる。   In the production of the fibrous conductive particles, it is preferable to perform a desalting treatment after the formation of the fibrous conductive particles. The desalting treatment after the formation of the metal nanowires can be performed by techniques such as ultrafiltration, dialysis, gel filtration, decantation, and centrifugation.

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブは、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、ハロゲン化物イオン等の無機イオンをなるべく含まないことが好ましい。   It is preferable that the metal nanowire and the metal nanotube contain as little inorganic ions as possible, such as alkali metal ions, alkaline earth metal ions, and halide ions.

(バインダー)
本開示における第1の透明導電層は、バインダーを含有することが好ましい。
バインダーを含有することにより、第1の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子等を分散状態で安定的に保持し、隣接層との密着性を向上させることができる。
バインダーは、後述するエッチング液に対して溶解しないことが好ましい。エッチングによって繊維状導電粒子を除去し、パターン形状を有する第1の透明導電層の非導電性領域を形成させる際に、光散乱性物質を非導電性領域に残存させるためである。
(binder)
It is preferable that the 1st transparent conductive layer in this indication contains a binder.
By containing the binder, the fibrous conductive particles and the like contained in the first transparent conductive layer can be stably held in a dispersed state, and the adhesion with the adjacent layer can be improved.
It is preferable that the binder does not dissolve in the etching solution described later. This is because when the fibrous conductive particles are removed by etching and the non-conductive region of the first transparent conductive layer having a pattern shape is formed, the light-scattering substance remains in the non-conductive region.

バインダーとしては、エッチング液に対する耐性を有する限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよい。例えば、ポリビニルピロリドン(PVP)、キチン、ポリアクリル酸、アクリル樹脂、カルボキシメチルセルロース等の高分子材料を用いてもよい。   The binder is not particularly limited as long as it has resistance to the etching solution, and may be appropriately selected according to the purpose. For example, a polymer material such as polyvinyl pyrrolidone (PVP), chitin, polyacrylic acid, acrylic resin, carboxymethyl cellulose, or the like may be used.

第1の透明導電層におけるバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよい。繊維状導電粒子とバインダーの比率は、バインダー100質量部に対して、繊維状導電粒子が1質量部〜1,000質量部が好ましく、5質量部〜900質量部がより好ましく、10質量部〜800質量部が更に好ましい。
バインダー100質量部に対する繊維状導電粒子の含有量が1質量部以上であると、導電性が発現しやすい。バインダー100質量部に対する繊維状導電粒子の含有量が1,000質量部以下であると、第1の透明導電層の膜強度、特に密着などの機械的特性が高くなる。
There is no restriction | limiting in particular as content of the binder in a 1st transparent conductive layer, What is necessary is just to select suitably according to the objective. The ratio of the fibrous conductive particles to the binder is preferably 1 to 1,000 parts by mass, more preferably 5 to 900 parts by mass, and more preferably 10 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder. 800 parts by mass is more preferable.
When the content of the fibrous conductive particles with respect to 100 parts by mass of the binder is 1 part by mass or more, conductivity is easily exhibited. When the content of the fibrous conductive particles with respect to 100 parts by mass of the binder is 1,000 parts by mass or less, the film strength of the first transparent conductive layer, in particular, mechanical properties such as adhesion are increased.

(他の成分)
第1の透明導電層は、上記以外の他の成分が含まれてもよい。他の成分には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよい。他の成分としては、例えば、界面活性剤、増粘剤などが挙げられる。
界面活性剤を含有すると、第1の透明導電層を塗布形成する場合の塗布均一性を向上させることができる。
(Other ingredients)
The first transparent conductive layer may contain components other than those described above. There is no restriction | limiting in particular in another component, What is necessary is just to select suitably according to the objective. Examples of other components include surfactants and thickeners.
When the surfactant is contained, the coating uniformity when the first transparent conductive layer is formed by coating can be improved.

第1の透明導電層の厚みとしては、導電性と透明性の観点から、1nm〜20μmであることが好ましく、10nm〜10μmであることがより好ましい。   The thickness of the first transparent conductive layer is preferably 1 nm to 20 μm and more preferably 10 nm to 10 μm from the viewpoint of conductivity and transparency.

第1の透明導電層におけるヘイズは、3%以下であることが好ましく、1%〜3%がより好ましく、1.5%〜3%が更に好ましく、2%〜3%が特に好ましい。
また、パターン形状の視認性の観点から、第1の透明導電層のヘイズに対する、第1の透明導電層のヘイズと非導電性の領域のヘイズとの差の絶対値の比率は、値が小さいほど好ましく、50%以下がより好ましく、30%以下が更に好ましく、20%以下が特に好ましい。
ヘイズは、ヘイズメーター(ヘイズガードプラス、ガードナー社製)を用いて測定される値である。
The haze in the first transparent conductive layer is preferably 3% or less, more preferably 1% to 3%, still more preferably 1.5% to 3%, and particularly preferably 2% to 3%.
Further, from the viewpoint of the visibility of the pattern shape, the ratio of the absolute value of the difference between the haze of the first transparent conductive layer and the haze of the non-conductive region to the haze of the first transparent conductive layer is small. More preferably, it is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and particularly preferably 20% or less.
Haze is a value measured using a haze meter (Haze Guard Plus, manufactured by Gardner).

−第2の透明導電層−
第2の透明導電層は、後述のλ/2板と基材との間に配置されており、例えば図1に示すように、λ/2板18で変えられた偏光軸に平行に振動する偏光が入射される。
第2の透明導電層26は、少なくとも金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子12を含有し、層中に含有される繊維状導電粒子12が第1の透明導電層22に含まれる繊維状導電粒子12の配向方向と直交する方向に配向されているので、λ/2板18からの偏光は、第2の透明導電層26で散乱しにくく反射されにくい。そして、透過光は、更に下層の等方性基材28に入射する。
-Second transparent conductive layer-
The second transparent conductive layer is disposed between a later-described λ / 2 plate and the substrate, and vibrates in parallel with the polarization axis changed by the λ / 2 plate 18, for example, as shown in FIG. Polarized light is incident.
The second transparent conductive layer 26 contains at least one type of fibrous conductive particles 12 selected from at least metal nanowires and metal nanotubes, and the fibrous conductive particles 12 contained in the layer form the first transparent conductive layer 22. Since it is oriented in the direction orthogonal to the orientation direction of the fibrous conductive particles 12 contained, the polarized light from the λ / 2 plate 18 is not easily scattered and reflected by the second transparent conductive layer 26. The transmitted light then enters the lower isotropic substrate 28.

図1に示す積層体100には、等方性基材28上に第2の透明導電層26が積層された銀ナノワイヤフィルム20が配置されており、第2の透明導電層26がパターニングされると等方性基材28上に電極パターンを有することになる。   In the laminate 100 shown in FIG. 1, a silver nanowire film 20 in which a second transparent conductive layer 26 is laminated on an isotropic substrate 28 is disposed, and when the second transparent conductive layer 26 is patterned, etc. An electrode pattern is provided on the isotropic substrate 28.

第2の透明導電層に含有される繊維状導電粒子は、第1の透明導電層と同一の繊維状導電粒子及び必要に応じて繊維状導電粒子以外の繊維状導電材料等を含有することができる。また、第2の透明導電層に含有される繊維状導電粒子は、第1の透明導電層に含有される繊維状導電粒子と異なる種類のものでもよい。   The fibrous conductive particles contained in the second transparent conductive layer may contain the same fibrous conductive particles as the first transparent conductive layer and, if necessary, a fibrous conductive material other than the fibrous conductive particles. it can. Further, the fibrous conductive particles contained in the second transparent conductive layer may be of a different type from the fibrous conductive particles contained in the first transparent conductive layer.

第2の透明導電層に繊維状導電粒子として含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブは、第1の透明導電層に含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブと同義であり、好ましい態様も同様である。   The metal nanowires and metal nanotubes contained as fibrous conductive particles in the second transparent conductive layer are synonymous with the metal nanowires and metal nanotubes contained in the first transparent conductive layer, and the preferred embodiments are also the same.

また、第2の透明導電層に含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブについて、第2の透明導電層に含まれる繊維状導電材料の全質量に対する金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率、後述する他の導電性材料が更に含有されている場合の金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率の算出方法、並びに、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの第2の透明導電層中における総含有量は、いずれも第1の透明導電層における場合と同様であり、好ましい態様についても同様である。   In addition, regarding the metal nanowires and metal nanotubes contained in the second transparent conductive layer, the content ratio of the metal nanowires and metal nanotubes relative to the total mass of the fibrous conductive material contained in the second transparent conductive layer, other conductivity described later Content ratio of metal nanowires and metal nanotubes when a conductive material is further contained, method for calculating content ratio of metal nanowires and metal nanotubes, and total content of metal nanowires and metal nanotubes in the second transparent conductive layer Are the same as those in the first transparent conductive layer, and the same applies to the preferred embodiments.

第2の透明導電層は、第1の透明導電層と同様に、バインダー及び他の成分を含有することができる。第2の透明導電層に含有することができるバインダー及び他の成分の詳細及び好ましい態様については、第1の透明導電層において既述した通りである。   Similar to the first transparent conductive layer, the second transparent conductive layer can contain a binder and other components. Details and preferred embodiments of the binder and other components that can be contained in the second transparent conductive layer are as described above for the first transparent conductive layer.

第2の透明導電層の厚みとしては、導電性と透明性の観点から、1nm〜20μmであることが好ましく、10nm〜10μmであることがより好ましい。   The thickness of the second transparent conductive layer is preferably 1 nm to 20 μm, more preferably 10 nm to 10 μm, from the viewpoints of conductivity and transparency.

第2の透明導電層におけるヘイズは、3%以下であることが好ましく、1%〜3%がより好ましく、1.5%〜3%が更に好ましく、2%〜3%が特に好ましい。
ヘイズの測定方法は、既述の通りである。
また、パターン形状の視認性の観点から、第1の透明導電層のヘイズに対する、第1の透明導電層のヘイズと非導電性の領域のヘイズとの差の絶対値の比率は、値が小さいほど好ましく、50%以下がより好ましく、30%以下が更に好ましく、20%以下が特に好ましい。
The haze in the second transparent conductive layer is preferably 3% or less, more preferably 1% to 3%, still more preferably 1.5% to 3%, and particularly preferably 2% to 3%.
The method for measuring haze is as described above.
Further, from the viewpoint of the visibility of the pattern shape, the ratio of the absolute value of the difference between the haze of the first transparent conductive layer and the haze of the non-conductive region to the haze of the first transparent conductive layer is small. More preferably, it is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and particularly preferably 20% or less.

〜パターン化された透明導電層〜
本開示の積層体における第1の透明導電層及び第2の透明導電層は、導電性領域と非導電性領域とからなるパターン形状を有して設けられていることが好ましい。パターン形状については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。パターン形状は、基材上に第1の透明導電層又は第2の透明導電層を付設した後、エッチング処理を実施することにより形成されるものであることが好ましい。また、エッチング処理が、第1の透明導電層又は第2の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子を溶解するエッチャントを、第1の透明導電層又は第2の透明導電層に接触させることにより実施されることが好ましい。
エッチングに関する詳細については後述する。
~ Patterned transparent conductive layer ~
It is preferable that the 1st transparent conductive layer and the 2nd transparent conductive layer in the laminated body of this indication are provided with the pattern shape which consists of an electroconductive area | region and a nonelectroconductive area | region. There is no restriction | limiting in particular about a pattern shape, According to the objective, it can select suitably. The pattern shape is preferably formed by performing an etching process after the first transparent conductive layer or the second transparent conductive layer is provided on the substrate. In addition, the etching treatment brings an etchant that dissolves the fibrous conductive particles contained in the first transparent conductive layer or the second transparent conductive layer into contact with the first transparent conductive layer or the second transparent conductive layer. Preferably, it is implemented.
Details regarding the etching will be described later.

導電性領域の表面抵抗は、0.1Ω/□以上5kΩ/□未満が好ましく、1Ω/□以上500Ω/□以下がより好ましい。
一方、非導電性領域の表面抵抗は、5kΩ/□以上が好ましく、100kΩ/□以上がより好ましく、1MΩ/□以上であることが更に好ましい。上限値は、109Ω/□以下が好ましい。
ここで、表面抵抗は、例えば、透明導電層を、表面抵抗計(三菱化学株式会社、Loresta−GP MCP−T600)を用いて測定される値である。なお、「Ω/□」は「Ω/square」と同義である。
The surface resistance of the conductive region is preferably from 0.1 Ω / □ to less than 5 kΩ / □, and more preferably from 1 Ω / □ to 500 Ω / □.
On the other hand, the surface resistance of the non-conductive region is preferably 5 kΩ / □ or more, more preferably 100 kΩ / □ or more, and further preferably 1 MΩ / □ or more. The upper limit is preferably 109 Ω / □ or less.
Here, the surface resistance is, for example, a value obtained by measuring the transparent conductive layer using a surface resistance meter (Mitsubishi Chemical Corporation, Loresta-GP MCP-T600). “Ω / □” has the same meaning as “Ω / square”.

<積層体の製造方法>
本開示の積層体は、既述のように、偏光板、第1の透明導電層、λ/2板、第2の透明導電層、及び基材が積層された構造に製造することができる方法であれば、いずれの方法で製造されてもよく、好ましくは、以下に示す透明導電部材の製造方法を有し、製造された2つの透明導電部材を、λ/2板を介して、それぞれの繊維状導電粒子の配向方向が互いに直交するように積層し、2つの透明導電部材のうち上層側の透明導電部材の上に偏光板を積層する方法によって製造される。
なお、透明導電部材は、基材と透明導電層(第1の透明導電層又は第2の透明導電層)との積層体を指す。
ここでは、第1の透明導電層及び第2の透明導電層を総じて、単に「透明導電層」ともいう。
<Method for producing laminate>
As described above, the laminate of the present disclosure can be manufactured in a structure in which a polarizing plate, a first transparent conductive layer, a λ / 2 plate, a second transparent conductive layer, and a substrate are stacked. The transparent conductive member may be manufactured by any method, and preferably has the following transparent conductive member manufacturing method, and the two manufactured transparent conductive members are connected to each other through a λ / 2 plate. It is manufactured by a method in which the orientation directions of the fibrous conductive particles are laminated so as to be orthogonal to each other, and a polarizing plate is laminated on the upper transparent conductive member of the two transparent conductive members.
In addition, a transparent conductive member points out the laminated body of a base material and a transparent conductive layer (a 1st transparent conductive layer or a 2nd transparent conductive layer).
Here, the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are collectively referred to simply as “transparent conductive layer”.

透明導電部材の製造方法は、以下の工程(a)〜工程(e)を有する。
(a)透明導電層上に感光性樹脂組成物を含むフォトレジスト層を形成する工程(フォトレジスト層形成工程)
(b)フォトレジスト層をパターン露光する工程(パターン露光工程)
(c)パターン露光されたフォトレジスト層を現像し、パターン露光された露光領域又は非露光領域のフォトレジスト層を除去し、透明導電層の表面にパターン状のレジスト層を形成する工程(現像工程)
(d)透明導電層におけるフォトレジスト層で被覆されていない領域にある繊維状導電粒子をエッチャントで溶解、除去して非導電性領域を形成する工程(エッチング工程)
(e)上記の工程(d)後に残存する非露光領域又は露光領域のレジスト層をレジスト剥離液で除去する工程(レジスト剥離工程)
以下、透明導電部材の製造方法について説明する。
The manufacturing method of a transparent conductive member has the following process (a)-process (e).
(A) The process of forming the photoresist layer containing the photosensitive resin composition on a transparent conductive layer (photoresist layer formation process)
(B) Step of pattern exposure of photoresist layer (pattern exposure step)
(C) A step of developing the pattern-exposed photoresist layer, removing the photoresist layer in the pattern-exposed exposed region or non-exposed region, and forming a patterned resist layer on the surface of the transparent conductive layer (developing step) )
(D) A step of forming a non-conductive region by dissolving and removing fibrous conductive particles in a region of the transparent conductive layer not covered with the photoresist layer with an etchant (etching step)
(E) Step of removing the resist layer in the non-exposed region or exposed region remaining after the step (d) with a resist stripping solution (resist stripping step)
Hereinafter, the manufacturing method of a transparent conductive member is demonstrated.

[透明導電層の形成]
透明導電部材の製造方法においては、基材上に透明導電層を形成する。
基材に透明導電層を形成するに際し、密着性の向上及び塗布液の濡れ性の向上を目的として、基材の片面又は両面に親水化処理又は凹凸処理などの前処理を施すことが好ましい。
[Formation of transparent conductive layer]
In the method for producing a transparent conductive member, a transparent conductive layer is formed on a substrate.
When forming the transparent conductive layer on the substrate, it is preferable to perform a pretreatment such as a hydrophilic treatment or an uneven treatment on one or both sides of the substrate for the purpose of improving the adhesion and improving the wettability of the coating solution.

−前処理−
前処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理、クロム酸処理(湿式)、ケン化処理(湿式)等が挙げられ、コロナ放電処理、プラズマ処理(真空グロー放電及び大気圧グロー放電処理)が好ましい。
−Pretreatment−
Examples of the pretreatment include corona discharge treatment, glow discharge treatment, plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, chromic acid treatment (wet), and saponification treatment (wet). Corona discharge treatment and plasma treatment (vacuum glow discharge and atmospheric pressure glow discharge treatment) are preferable.

(プラズマ処理)
プラズマ処理としては、真空グロー放電、大気圧グロー放電等が挙げられ、他の方法としてフレームプラズマ処理等が挙げられる。これらは、例えば、特開平6−123062号公報、特開平11−293011号公報、特開平11−5857号公報等に記載された方法を用いることができる。
プラズマ処理については、特開2013−200999号公報の段落0075〜0081の記載を参照することができる。
(Plasma treatment)
Examples of the plasma treatment include vacuum glow discharge and atmospheric pressure glow discharge, and other methods include flame plasma treatment and the like. For example, the methods described in JP-A-6-123062, JP-A-11-293011, JP-A-11-5857, and the like can be used.
Regarding the plasma treatment, the description in paragraphs 0075 to 0081 of JP2013-200999A can be referred to.

(コロナ放電処理)
コロナ放電処理は、従来公知の方法、例えば、特公昭48−5043号公報、特公昭47−51905号公報、特開昭47−28067号公報、特開昭49−83767号公報、特開昭51−41770号公報、特開昭51−131576号公報等に記載の方法により行うことができる。処理機としては、市販の各種コロナ処理機を適用でき、例えばSOFTAL(ソフタル)社のマルチナイフ電極を有するコロナ処理機は多数本の電極で構成され、電極の間に空気を送ることによりフィルムの加熱防止やフィルム表面に出てくる低分子の除去等が行えるので有用である。また、片面に透明導電層が形成された基材の、透明導電層が形成されていない側に対して、電極と透明導電層との間のスパークを避けるため、放電電極として誘電体被覆電極(セラミック電極、クォーツ電極など)を、対向電極としてはステンレスなどの金属ロールを用いてコロナ処理を行うことが望ましい。
(Corona discharge treatment)
Corona discharge treatment may be performed by a conventionally known method, for example, Japanese Patent Publication No. 48-5043, Japanese Patent Publication No. 47-51905, Japanese Patent Publication No. 47-28067, Japanese Patent Publication No. 49-83767, Japanese Patent Publication No. Sho 51. No. 41770, JP-A No. 51-131576, and the like. Various commercially available corona treatment machines can be used as the treatment machine. For example, a corona treatment machine having a multi-knife electrode manufactured by SOFTAL (Sophthal) is composed of a large number of electrodes, and the film is formed by sending air between the electrodes. This is useful because it can be used to prevent heating and remove small molecules that appear on the film surface. Moreover, in order to avoid the spark between an electrode and a transparent conductive layer with respect to the side in which the transparent conductive layer is not formed of the base material in which the transparent conductive layer was formed in one side, a dielectric covering electrode ( It is desirable to perform a corona treatment using a ceramic roll, a quartz electrode, etc.) and using a metal roll such as stainless steel as a counter electrode.

コロナ処理の条件としては、基材の種類、塗膜のマトリクスの種類、及びコロナ処理機の種類等によって異なり、中でも、照射エネルギーが0.1J/m〜10J/mの範囲で行うコロナ表面処理が好ましく、0.5J/m〜5J/mの範囲で行うコロナ表面処理がより好ましい。 The corona treatment conditions vary depending on the type of substrate, the type of coating matrix, the type of corona treatment machine, and the like, and above all, the corona treatment is performed in the range of irradiation energy of 0.1 J / m 2 to 10 J / m 2. surface treatment is preferable, a corona surface treatment performed in the range of 0.5J / m 2 ~5J / m 2 is more preferable.

上記の表面処理を施すことにより基材の表面を親水化処理した場合、基材の表面の水に対する接触角としては、0°〜40°が好ましく、0°〜20°がより好ましく、更に好ましくは0°〜10°の範囲である。   When the surface of the substrate is hydrophilized by performing the above surface treatment, the contact angle of the substrate surface with respect to water is preferably 0 ° to 40 °, more preferably 0 ° to 20 °, and still more preferably. Is in the range of 0 ° to 10 °.

−透明導電層の形成−
透明導電層を基材上に形成する方法としては、塗布方法又は転写方法を採用して行うことができる。
塗布方法には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すれなよい。塗布方法としては、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法などが挙げられる。
-Formation of transparent conductive layer-
As a method for forming the transparent conductive layer on the substrate, a coating method or a transfer method can be employed.
There is no restriction | limiting in particular in the application method, According to the objective, you may select suitably. Examples of the coating method include a roll coating method, a bar coating method, a dip coating method, a spin coating method, a casting method, a die coating method, a blade coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a curtain coating method, a spray coating method, and a doctor. Examples include a coating method.

なお、バインダー塗布量を少なくする場合、ダイコーター、スリットコーターなどの塗布方法とすることで繊維状導電粒子の塗布ムラを抑制することができる。   In addition, when reducing the coating amount of the binder, uneven application of the fibrous conductive particles can be suppressed by using a coating method such as a die coater or a slit coater.

転写方法では、透明導電層を塗布形成する際に用いられる塗布液を仮支持体の上に付与することにより仮支持体上に形成された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子と必要に応じてバインダー及び他の成分とを含む透明導電層を有する転写材料を用い、基材上に透明導電層を転写することにより基材上に透明導電層を形成してもよい。
具体的には、例えば転写フィルムを、その透明導電層の表面を基材に接触させて基材上のラミネートし、仮支持体を剥離することによって基材上に透明導電層を形成することができる。
なお、転写材料は、フィルム又はシートのいずれの形態で用いてもよい。
In the transfer method, at least one fibrous form selected from metal nanowires and metal nanotubes formed on a temporary support by applying a coating solution used when applying and forming a transparent conductive layer on the temporary support. The transparent conductive layer may be formed on the substrate by transferring the transparent conductive layer onto the substrate using a transfer material having a transparent conductive layer containing conductive particles and, if necessary, a binder and other components. .
Specifically, for example, a transparent conductive layer can be formed on a substrate by laminating the transfer film on the substrate by bringing the surface of the transparent conductive layer into contact with the substrate and peeling the temporary support. it can.
The transfer material may be used in any form of a film or a sheet.

転写材料としては、仮支持体上に、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含み、繊維状導電粒子が面内の一方向に配向された透明導電層を有し、必要に応じて、他の層を有するものであってもよい。
転写フィルムは、フレキシブル性を有し、低ヘイズの透明膜が得られる材料として好適であり、例えば、既述の本開示の積層体における第1の透明導電層及び第2の透明導電層の形成に好適に用いられる。
As a transfer material, on a temporary support, it contains at least one kind of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, and has a transparent conductive layer in which the fibrous conductive particles are oriented in one direction in the plane, It may have other layers as required.
The transfer film has flexibility and is suitable as a material from which a low-haze transparent film can be obtained. For example, the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer in the laminate of the present disclosure described above are formed. Is preferably used.

〜仮支持体〜
仮支持体の材質は、フィルム形成した際に必要な強度と柔軟性を有する限り、特に制限はない。成形性、コストの観点からは樹脂フィルムであることが好ましい。
仮支持体として用いられるフィルムは、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じないフィルムが好ましい。より具体的には、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、トリ酢酸セルロース(TAC)フィルム、ポリスチレン(PS)フィルム、ポリカーボネート(PC)フィルム等が挙げられ、2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
仮支持体の外観にも特に制限はなく、透明フィルムでもよく、着色されたフィルムでもよい。着色されたフィルムとしては、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有する樹脂フィルムが挙げられる。
仮支持体には、特開2005−221726号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
-Temporary support-
The material of the temporary support is not particularly limited as long as it has the necessary strength and flexibility when the film is formed. A resin film is preferable from the viewpoint of moldability and cost.
The film used as the temporary support is preferably a film that has flexibility and does not cause significant deformation, shrinkage, or elongation under pressure or under pressure and heat. More specifically, examples of the temporary support include polyethylene terephthalate (PET) film, cellulose triacetate (TAC) film, polystyrene (PS) film, polycarbonate (PC) film and the like. preferable.
The appearance of the temporary support is not particularly limited, and may be a transparent film or a colored film. Examples of the colored film include resin films containing dyed silicon, alumina sol, chromium salt, zirconium salt and the like.
The temporary support can be imparted with conductivity by the method described in JP-A-2005-221726.

〜透明導電層〜
透明導電層は、既述の第1の透明導電層及び第2の透明導電層に用いられる成分、具体的には、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子、並びに、必要に応じてバインダー及び他の成分を含む。
透明導電層に含有される成分の詳細については、既述の通りである。
透明導電層は、上記の成分を含有する調製液を調製し、調製した調製液を例えば塗布等により仮支持体状に付与し、乾燥させることにより形成することができる。
塗布は、上記の塗布方法を適用することができる。
~ Transparent conductive layer ~
The transparent conductive layer is a component used in the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer described above, specifically, at least one fibrous conductive particle selected from metal nanowires and metal nanotubes, and necessary Depending on the binder and other ingredients.
Details of the components contained in the transparent conductive layer are as described above.
The transparent conductive layer can be formed by preparing a preparation solution containing the above components, applying the prepared preparation solution to a temporary support by, for example, coating, and drying.
The above application method can be applied for the application.

転写材料は、既述の透明導電層に加え、効果を損なわない範囲で他の任意の層を有していてもよい。   In addition to the transparent conductive layer described above, the transfer material may have any other layer as long as the effect is not impaired.

〜熱可塑性樹脂層〜
転写フィルムは、仮支持体と透明導電層との間に熱可塑性樹脂層を設けることができる。熱可塑性樹脂層を設けることで、転写フィルムを被転写体に転写して積層体を形成する場合、各層における気泡の発生が抑制され、気泡に起因する画像ムラなどが発生し難くなるため好ましい。
熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂層を設けることで、被転写体表面の凹凸を吸収するクッション材として機能することが好ましく、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有している樹脂層であることが好ましい。
~ Thermoplastic resin layer ~
The transfer film can be provided with a thermoplastic resin layer between the temporary support and the transparent conductive layer. By providing a thermoplastic resin layer, when a transfer film is transferred to a transfer material to form a laminate, it is preferable because the generation of bubbles in each layer is suppressed and image unevenness due to the bubbles is less likely to occur.
The thermoplastic resin layer preferably contains an alkali-soluble resin. By providing the thermoplastic resin layer, it preferably functions as a cushioning material that absorbs irregularities on the surface of the transfer object, and is preferably a resin layer having a property that can be deformed according to the irregularities of the target surface. .

熱可塑性樹脂層は、特開平5−72724号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー(Vicat)法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも1種を含む態様が特に好ましい。   The thermoplastic resin layer preferably includes an organic polymer substance described in JP-A-5-72724 as a component. The Vicat method [specifically, a polymer by American Material Testing Method ASTM D1235] An embodiment containing at least one selected from organic polymer substances having a softening point of about 80 ° C. or less according to the softening point measurement method] is particularly preferable.

熱可塑性樹脂層を設ける場合の層厚は、3μm〜30μmが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚を上記範囲とすることで、転写時の追随性が良好で、被転写体表面の凹凸を吸収でき、かつ、熱可塑性樹脂層の形成時における乾燥、現像が簡易に行なえるため好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚としては、4μm〜25μmが更に好ましく、5μm〜20μmが特に好ましい。   The layer thickness when the thermoplastic resin layer is provided is preferably 3 μm to 30 μm. By making the layer thickness of the thermoplastic resin layer within the above range, the followability at the time of transfer is good, the unevenness of the surface of the transfer object can be absorbed, and drying and development at the time of forming the thermoplastic resin layer are easy. It is preferable because it can be done. The thickness of the thermoplastic resin layer is more preferably 4 μm to 25 μm, and particularly preferably 5 μm to 20 μm.

〜中間層〜
転写フィルムは、任意に設けられる熱可塑性樹脂層と透明導電層との間に中間層を設けることができる。中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている層を適用することができる。
~ Middle layer ~
In the transfer film, an intermediate layer can be provided between the optionally provided thermoplastic resin layer and the transparent conductive layer. As the intermediate layer, a layer described as “separation layer” in JP-A-5-72724 can be applied.

〜保護フィルム〜
転写フィルムは、透明導電層の表面に保護フィルムを設けることができる。保護フィルムを設けることで、転写フィルにおける被転写体と密着する面である透明導電層の表面を保護することができる。
~Protective film~
The transfer film can be provided with a protective film on the surface of the transparent conductive layer. By providing the protective film, it is possible to protect the surface of the transparent conductive layer which is a surface in close contact with the transfer target in the transfer film.

保護フィルムとしては、特開2006−259138号公報の段落0083〜0087及び0093に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。   As the protective film, protective films described in paragraphs 0083 to 0087 and 0093 of JP-A-2006-259138 can be appropriately used.

(中間層)
基材と透明導電層との間には、中間層が設けられてもよい。
中間層を有することにより、基材と透明導電層との密着性、透明導電層の光透過率、ヘイズ、及び膜強度を向上させることが可能になる。
(Middle layer)
An intermediate layer may be provided between the base material and the transparent conductive layer.
By having the intermediate layer, it becomes possible to improve the adhesion between the base material and the transparent conductive layer, the light transmittance of the transparent conductive layer, the haze, and the film strength.

中間層としては、基材と透明導電層との接着力を向上させるための接着剤層、透明導電層に含まれる成分との相互作用により機能性を向上させる機能性層等が挙げられ、目的に応じて適宜設けられる。中間層は、単層でもよく、複数の層を含んでいてもよい。   Examples of the intermediate layer include an adhesive layer for improving the adhesive force between the base material and the transparent conductive layer, and a functional layer for improving functionality by interaction with components contained in the transparent conductive layer. Depending on the situation, it is provided as appropriate. The intermediate layer may be a single layer or may include a plurality of layers.

中間層の詳細については、特開2013−200999号公報の段落0089〜0100及び段落0101〜0106の記載を参照することができる。   For details of the intermediate layer, reference can be made to the descriptions in paragraphs 0089 to 0100 and paragraphs 0101 to 0106 of JP2013-200999A.

中間層は、中間層を構成する化合物が溶解、分散(懸濁又は乳化)した液を基材上に塗布し、乾燥することで形成することができる。塗布方法としては、目的に応じて適宜選択すればよく、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等が挙げられる。   The intermediate layer can be formed by applying a solution in which a compound constituting the intermediate layer is dissolved and dispersed (suspended or emulsified) on a substrate and drying. The coating method may be appropriately selected according to the purpose, for example, roll coating method, bar coating method, dip coating method, spin coating method, casting method, die coating method, blade coating method, gravure coating method, curtain coating method. , Spray coating method, doctor coating method and the like.

−フォトレジスト層形成工程−
透明導電部材の製造方法では、まず、透明導電層上に感光性樹脂組成物を含むフォトレジスト層を形成する。
フォトレジスト層は、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、ポジ型レジスト層でもよく、ネガ型レジスト層でもよい。ポジ型レジスト層の場合には、パターン状の露光領域が可溶化され、未露光領域(未溶解化領域)にパターン状のレジスト層が形成され、ネガ型レジスト層の場合には、露光領域が硬化されたレジスト層となり、溶解液の付与により、未露光部、即ち未硬化部のレジスト層が除去され、パターン状のレジスト層が形成される。
-Photoresist layer formation process-
In the method for producing a transparent conductive member, first, a photoresist layer containing a photosensitive resin composition is formed on the transparent conductive layer.
The photoresist layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, and may be a positive resist layer or a negative resist layer. In the case of a positive resist layer, the patterned exposure region is solubilized, and a patterned resist layer is formed in the unexposed region (unsolubilized region). In the case of a negative resist layer, the exposure region is A cured resist layer is formed, and application of the solution removes the unexposed portion, that is, the uncured portion of the resist layer, thereby forming a patterned resist layer.

レジスト層形成用材料には、特に制限はなく、ネガ型、ポジ型、ドライフイルムタイプなどのいずれも用いることができる。
レジスト層の形成には、市販のアルカリ可溶性フォトレジストを適宜選択してもよい。
The resist layer forming material is not particularly limited, and any of a negative type, a positive type and a dry film type can be used.
For the formation of the resist layer, a commercially available alkali-soluble photoresist may be appropriately selected.

−パターン露光工程−
透明導電部材の製造方法では、形成されたフォトレジスト層をパターン状に露光(パターン露光)する。
パターン露光に用いる光源は、フォトレジスト組成物の感光波長域との関連で選定され、一般的にはg線、h線、i線、j線等の紫外線が好ましい。光源種としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、及び発光ダイオード(LED)が挙げられる。
-Pattern exposure process-
In the method for producing a transparent conductive member, the formed photoresist layer is exposed in a pattern (pattern exposure).
The light source used for pattern exposure is selected in relation to the photosensitive wavelength range of the photoresist composition, and generally ultraviolet rays such as g-line, h-line, i-line, and j-line are preferable. Examples of the light source type include a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, and a light emitting diode (LED).

パターン露光の方法には、特に制限はなく、フォトマスクを利用した面露光により行ってもよいし、レーザービーム等による走査露光により行ってもよい。また、レンズを用いた屈折式露光により行ってもよいし、反射鏡を用いた反射式露光により行ってもよい。また、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いて行ってもよい。   The pattern exposure method is not particularly limited, and may be performed by surface exposure using a photomask, or may be performed by scanning exposure using a laser beam or the like. Further, it may be performed by refractive exposure using a lens, or may be performed by reflective exposure using a reflecting mirror. Moreover, you may perform using exposure systems, such as contact exposure, proximity exposure, reduction projection exposure, and reflection projection exposure.

−現像工程−
透明導電部材の製造方法では、パターン露光後、パターン露光されたフォトレジスト層を現像する。これにより、パターン露光された露光領域又は非露光領域のフォトレジスト層を除去し、透明導電層の表面にパターン状のレジスト層を形成する。
-Development process-
In the manufacturing method of a transparent conductive member, after pattern exposure, the pattern-exposed photoresist layer is developed. Thereby, the photoresist layer in the exposed region or the non-exposed region subjected to the pattern exposure is removed, and a patterned resist layer is formed on the surface of the transparent conductive layer.

現像工程では、アルカリ現像液が一般に用いられる。
アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム及びアンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン及びn−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン及びジ−n−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン及びメチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン及びトリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、又は、ピロール及びピヘリジン等の環状アミン類を含んだアルカリ性水溶液が挙げられる。
現像方式としては、シャワー方式又はディップ方式等のいずれでもよい。
In the development process, an alkaline developer is generally used.
Examples of the alkaline developer include inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate and aqueous ammonia, primary amines such as ethylamine and n-propylamine, diethylamine and Secondary amines such as di-n-butylamine, tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine, alcohol amines such as dimethylethanolamine and triethanolamine, and fourth amines such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide. Examples include alkaline aqueous solutions containing a quaternary ammonium salt or cyclic amines such as pyrrole and pihelidine.
As the developing method, either a shower method or a dip method may be used.

−エッチング工程−
透明導電部材の製造方法では、透明導電層におけるフォトレジスト層で被覆されていない領域にある繊維状導電粒子をエッチャントで溶解、除去して非導電性領域を形成する。
これにより、パターン状の導電性領域(即ち、電極パターン)が形成される。
-Etching process-
In the method for producing a transparent conductive member, fibrous conductive particles in a region of the transparent conductive layer not covered with the photoresist layer are dissolved and removed with an etchant to form a non-conductive region.
Thereby, a patterned conductive region (that is, an electrode pattern) is formed.

エッチング工程としては、公知の方法としてエッチャントによる処理(ウェットエッチング)、及び減圧下で反応性ガスをプラズマ放電で活性化させた処理(ドライエッチング)が知られているが、本開示における透明導電部材の製造に際しては、エッチャントによる処理が好適に行われる。
エッチャントには、塩化第二鉄/塩酸系、塩酸/硝酸系、臭化水素酸系などを代表例として、公知のエッチング液が挙げられる。繊維状導電粒子として銀を含む金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブを用いる場合には、硝酸を含むことが好ましい。
As the etching process, known methods include etchant treatment (wet etching) and reactive gas activated plasma discharge under reduced pressure (dry etching). The transparent conductive member according to the present disclosure is known. In manufacturing, an etchant is preferably used.
Examples of the etchant include known etching solutions such as ferric chloride / hydrochloric acid, hydrochloric acid / nitric acid, and hydrobromic acid. When metal nanowires and metal nanotubes containing silver are used as the fibrous conductive particles, it is preferable to contain nitric acid.

エッチングは、シャワー方式又はディップ方式のいずれで行ってもよい。
また、フォトレジスト層で被覆されない領域の透明導電層上にエッチャントをスクリーン印刷等により印刷してもよい。
Etching may be performed by either a shower method or a dip method.
Further, an etchant may be printed by screen printing or the like on the transparent conductive layer in a region not covered with the photoresist layer.

−レジスト剥離工程−
透明導電部材の製造方法では、最後に、上記のエッチング工程でエッチングされずに残った非露光領域又は露光領域のレジスト層をレジスト剥離液で除去する。
レジスト剥離液は、現像工程で用いた現像液を用いることができる。レジスト剥離液による剥離は、シャワー方式又はディップ方式のいずれの方法で行ってもよい。
-Resist stripping process-
In the method for producing the transparent conductive member, finally, the resist layer in the non-exposed region or the exposed region remaining without being etched in the above etching process is removed with a resist stripping solution.
As the resist stripping solution, the developer used in the developing step can be used. Stripping with a resist stripper may be performed by either a shower method or a dip method.

−偏光板−
本開示の積層体は、外光が入射する側の最表面に偏光板を備えている。
偏光板を載置することにより、様々な偏光成分を有する外光のうち、あらかじめ定めた透過軸と平行に振動する光(偏光)を選択的に通過させる。
偏光板の透過軸と、第1の透明導電層金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子の配向方向と、が直交する配置であることにより、電極パターンの視認性を改善でき、ヘイズを低くすることができる。
-Polarizing plate-
The laminated body of this indication is equipped with the polarizing plate in the outermost surface in the side into which external light injects.
By placing the polarizing plate, light (polarized light) that vibrates in parallel with a predetermined transmission axis among the external light having various polarization components is selectively transmitted.
By arranging the transmission axis of the polarizing plate and the orientation direction of at least one fibrous conductive particle selected from the first transparent conductive layer metal nanowire and the metal nanotube to be orthogonal, the visibility of the electrode pattern can be improved. , Haze can be lowered.

偏光板には、従来公知のものを任意に選択して用いることができる。例えば、フィルム内にヨウ素系や染料系の高分子有機物を含有させた二色性の偏光板、基材上に光の波長よりも小さいピッチで金属等の細線を形成したワイヤグリッド型偏光板等を挙げることができる。   A conventionally well-known thing can be arbitrarily selected and used for a polarizing plate. For example, a dichroic polarizing plate containing iodine-based or dye-based polymeric organic matter in the film, a wire grid type polarizing plate in which fine wires such as metal are formed on the substrate at a pitch smaller than the wavelength of light, etc. Can be mentioned.

−λ/2板−
本開示の積層体は、既述の第1の透明導電層と第2の透明導電層との間にλ/2板を備えている。λ/2板を有することで、第1の透明導電層を通過した光の偏光方向を略90°回転させることができる。第1の透明導電層と第2の透明導電層との間で偏光方向を略90°回転させることにより、第1の透明導電層と第2の透明導電層を、タッチパネルのX方向電極とY方向電極にとして使用した際に、透明導電層の低抵抗と、透明導電層の低ヘイズ及び良好な視認性と、を両立できる。
本発明で用いるλ/2板は、光の偏光方向を90°回転させる目的に適えば、単層のλ/2板であっても、波長帯域や視野角を拡大するために複数の位相差板を積層した形態でも構わない。また、液晶が連続的に90°捩れた形態の位相差板を用いても構わない。
-Λ / 2 plate-
The laminate of the present disclosure includes a λ / 2 plate between the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer described above. By having the λ / 2 plate, the polarization direction of the light that has passed through the first transparent conductive layer can be rotated by approximately 90 °. By rotating the polarization direction between the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer by approximately 90 °, the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are moved to the X-direction electrode and Y of the touch panel. When used as a directional electrode, both the low resistance of the transparent conductive layer and the low haze and good visibility of the transparent conductive layer can be achieved.
If the λ / 2 plate used in the present invention is suitable for the purpose of rotating the polarization direction of light by 90 °, even if it is a single-layer λ / 2 plate, a plurality of phase differences are used to expand the wavelength band and viewing angle. The form which laminated | stacked the board may be sufficient. Further, a retardation plate in which the liquid crystal is continuously twisted by 90 ° may be used.

λ/2板には、従来公知のものを任意に選択して用いることができる。λ/2板は、上市されている市販品を用いることができ、市販品の例として、ポリマー位相差フィルムλ/2(エドモンド・オプティクス・ジャパン製)、λ/2水晶波長板(シグマ光機製)、HI−RETAX−1/2λ波長板(ルケオ製)等が挙げられる。   As the λ / 2 plate, a conventionally known plate can be arbitrarily selected and used. As the λ / 2 plate, a commercially available product can be used. Examples of the commercially available product include a polymer retardation film λ / 2 (manufactured by Edmund Optics Japan) and a λ / 2 quartz wave plate (manufactured by Sigma Kogyo Co., Ltd.). ), HI-RETAX-1 / 2λ wavelength plate (manufactured by Luceo) and the like.

−基材−
本開示の積層体は、基材を備えている。
既述の第1の透明導電層と第2の透明導電層を基材上に形成して透明導電部材を作製する場合には、透明導電部材を用いて積層体を製造することにより、基材を備えた積層体が得られる。
-Base material-
The laminated body of this indication is equipped with the base material.
When the transparent conductive member is produced by forming the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer described above on the base material, the base material is manufactured by manufacturing a laminate using the transparent conductive member. Is obtained.

基材としては、特に制限はなく、偏光板を経て入射した直線偏光成分の偏光性を妨げない観点から、光学的に等方な等方性基材が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as a base material, From a viewpoint which does not prevent the polarization property of the linearly polarized light component which injected through the polarizing plate, an optically isotropic base material is preferable.

等方性基材としては、シクロオレフィンポリマー、アクリル、タック等を用いた光学フィルムが好ましく、上市されている市販品の例として、日本ゼオン株式会社のゼノアフィルム(登録商標;例えば、ZF14、ZF16)等が挙げられる。   As the isotropic substrate, an optical film using a cycloolefin polymer, acrylic, tack or the like is preferable, and as an example of a commercially available product on the market, Zeno Film (registered trademark; for example, ZF14, ZF16) of Nippon Zeon Co., Ltd. Is mentioned.

基材の厚みとしては、10μm〜200μmが好ましい。   The thickness of the substrate is preferably 10 μm to 200 μm.

<タッチパネル及びタッチパネル付表示装置>
本開示のタッチパネルは、既述の本開示の積層体を備えている。また、本開示のタッチパネル付表示装置は、本開示の積層体を備えタッチパネルと、表示装置とを備えている。
本開示のタッチパネル及びタッチパネル付表示装置は、本開示の積層体を備えるので、電極パターンの視認性がより改善されている。
<Touch panel and display device with touch panel>
The touch panel of the present disclosure includes the above-described laminated body of the present disclosure. Moreover, the display apparatus with a touch panel of this indication is equipped with the laminated body of this indication, and is provided with the touch panel and the display apparatus.
Since the touch panel and the display device with a touch panel of the present disclosure include the laminated body of the present disclosure, the visibility of the electrode pattern is further improved.

タッチパネルとしては、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投射型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。
タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものである。
Examples of the touch panel include a surface capacitive touch panel, a projection capacitive touch panel, and a resistive touch panel.
The touch panel includes a so-called touch sensor and a touch pad.

タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、2枚の透明電極を貼合する貼合方式、1枚の基材の両面に透明電極を具備する方式などを挙げることができる。   Examples of the layer configuration of the touch panel sensor electrode portion in the touch panel include a bonding method in which two transparent electrodes are bonded, a method in which transparent electrodes are provided on both surfaces of a single substrate, and the like.

表面型静電容量方式タッチパネルについては、例えば特表2007−533044号公報に記載されている。   The surface capacitive touch panel is described in, for example, JP-T-2007-533044.

タッチパネル付表示装置における表示装置には、特に制限はなく、タッチパネルが搭載されてタッチパネルを介して画像が表示され、タッチパネル上で操作を行うことができる装置であればいずれであってもよい。   There is no restriction | limiting in particular in the display apparatus in a display apparatus with a touch panel, Any may be sufficient as long as it is an apparatus which can mount a touch panel and can display an image via a touch panel and can operate on a touch panel.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof.

−銀ナノワイヤの作製−
容器内に、常温(25℃)でエチレングリコール60gとポリビニルピロリドン(PVP)2.5gとを入れ、500rpm(rotation per minute)で撹拌しながら10分かけて135℃まで昇温した。その後も135℃に維持した状態で撹拌を継続した。また、135℃に到達した時点から10分経過後、予め別の容器にてエチレングリコール0.6gに塩化ナトリウム0.006g(0.1mmol)を溶解させて得た塩化ナトリウム溶液を添加した。塩化ナトリウム溶液を添加した時点から3分経過後に、予め別の容器にてエチレングリコール7.65gに硝酸銀0.85g(5.0mmol)を溶解させた硝酸銀溶液を添加した。硝酸銀溶液を添加した後、撹拌速度を100rpmに変更し、135℃で3.0時間保持して加熱を終了し、そのまま室温になるまで自然冷却した。
容器内の溶液温度が室温(25℃)になった後、反応後のスラリーを遠心管に分取し、蒸留水を添加して洗浄し、3000rpmで5分間、遠心分離を行った。遠心分離後の上澄みを除去した後、残った沈殿物にメタノールを添加してスラリーとし、2500rpmで5分間、遠心分離を施した。遠心分離後の上澄みを除去した後、残った沈殿物に再びメタノールを添加してスラリーとし、1500rpmで10分間の遠心分離を施した。遠心分離後の上澄みを除去した後、残った沈殿物を水に加えて500rpmで10分攪拌して銀ナノワイヤ分散液を得た。
得られた銀ナノワイヤ分散液に、市販の磁性流体MSG−W11(FeroTec社)を混合し、磁性流体を含む銀ナノワイヤ分散液A1を調製した。この際、磁性粒子の銀ナノワイヤ分散液に対する体積濃度を4%とし、銀ナノワイヤの銀ナノワイヤ分散液に対する体積濃度を40%として銀ナノワイヤ分散液A1を調製した。
-Fabrication of silver nanowires-
In the container, 60 g of ethylene glycol and 2.5 g of polyvinyl pyrrolidone (PVP) were added at room temperature (25 ° C.), and the temperature was raised to 135 ° C. over 10 minutes while stirring at 500 rpm (rotation per minute). Thereafter, stirring was continued while maintaining the temperature at 135 ° C. Further, after 10 minutes from the time when the temperature reached 135 ° C., a sodium chloride solution obtained by dissolving 0.006 g (0.1 mmol) of sodium chloride in 0.6 g of ethylene glycol in a separate container in advance was added. Three minutes after the addition of the sodium chloride solution, a silver nitrate solution prepared by previously dissolving 0.85 g (5.0 mmol) of silver nitrate in 7.65 g of ethylene glycol was added in a separate container. After the silver nitrate solution was added, the stirring speed was changed to 100 rpm, the heating was terminated by maintaining at 135 ° C. for 3.0 hours, and the mixture was naturally cooled to room temperature.
After the solution temperature in the container reached room temperature (25 ° C.), the slurry after the reaction was separated into a centrifuge tube, washed with distilled water, and centrifuged at 3000 rpm for 5 minutes. After removing the supernatant after centrifugation, methanol was added to the remaining precipitate to form a slurry, which was centrifuged at 2500 rpm for 5 minutes. After removing the supernatant after centrifugation, methanol was again added to the remaining precipitate to form a slurry, which was then centrifuged at 1500 rpm for 10 minutes. After removing the supernatant after centrifugation, the remaining precipitate was added to water and stirred at 500 rpm for 10 minutes to obtain a silver nanowire dispersion.
The obtained silver nanowire dispersion was mixed with a commercially available magnetic fluid MSG-W11 (FeroTec) to prepare a silver nanowire dispersion A1 containing a magnetic fluid. At this time, the silver nanowire dispersion A1 was prepared by setting the volume concentration of the magnetic particles to the silver nanowire dispersion to 4% and the volume concentration of the silver nanowire to the silver nanowire dispersion to 40%.

得られた銀ナノワイヤの平均長軸長及び平均短軸長を以下の方法で測定したところ、平均長軸長が10μmであり、平均短軸長(平均直径)が70nmであり、平均アスペクト比が140であった。
<金属ナノワイヤの平均長軸長及び平均短軸長の測定>
透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子株式会社製、JEM−2000FX)を用い、拡大観察された金属ナノワイヤのうち、ランダムに300個の金属ナノワイヤを選択し、選択した金属ナノワイヤの長軸長さと短軸長さ(直径)を測定し、それぞれの算術平均値を金属ナノワイヤの平均長軸長及び平均短軸長(平均直径)とした。
When the average major axis length and the average minor axis length of the obtained silver nanowire were measured by the following method, the average major axis length was 10 μm, the average minor axis length (average diameter) was 70 nm, and the average aspect ratio was 140.
<Measurement of average major axis length and average minor axis length of metal nanowires>
Using a transmission electron microscope (TEM; JEM-2000FX, manufactured by JEOL Ltd.), 300 metal nanowires were randomly selected from the observed metal nanowires, and the major axis length and shortness of the selected metal nanowires were selected. The axial length (diameter) was measured, and the arithmetic average value of each was taken as the average major axis length and the average minor axis length (average diameter) of the metal nanowires.

−透明導電層の形成−
等方性基材であるゼノアフィルムZF14(登録商標;Zeonor Film ZF14、日本ゼオン株式会社、厚み:100μm)上に、上記の銀ナノワイヤ分散液A1を塗布し、80℃で2分間乾燥させて、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み200nmの透明導電層を有する銀ナノワイヤフィルムB1(透明導電部材)を作製した。銀ナノワイヤの透明導電層中における含有量は、透明導電層の全量に対して40質量%であった。
また、銀ナノワイヤフィルムB1を作製する際、塗布終了の時点から2分間の乾燥が完了するまでの間、等方性基材の2つの主平面に対して平行な方向に100mTの磁場を印加した。
-Formation of transparent conductive layer-
The above-mentioned silver nanowire dispersion liquid A1 is applied onto Xenore film ZF14 (registered trademark; Zeonor Film ZF14, Nippon Zeon Co., Ltd., thickness: 100 μm), which is an isotropic substrate, and dried at 80 ° C. for 2 minutes. A silver nanowire film B1 (transparent conductive member) having a transparent conductive layer having a thickness of 200 nm containing silver nanowires on the material was produced. Content in the transparent conductive layer of silver nanowire was 40 mass% with respect to the whole quantity of a transparent conductive layer.
Further, when the silver nanowire film B1 was produced, a magnetic field of 100 mT was applied in a direction parallel to the two main planes of the isotropic substrate from the end of the application until the drying for 2 minutes was completed.

<銀ナノワイヤの配向確認>
上記のように作製した銀ナノワイヤフィルムB1の透明導電層中に含まれる銀ナノワイヤの配向状態を以下の方法で確認した。即ち、
下記構造のバインダー(A−1)3.80質量部(固形分40.0質量%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)溶液)、感光性化合物としてのKAYARAD DPHA(6官能モノマー;日本化薬株式会社製)1.59質量部、感光性化合物としてのIRGACURE379(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製)0.159質量部、架橋剤としてのEHPE−3150(ダイセル化学株式会社製)0.150質量部、メガファックF781F(界面活性剤;DIC株式会社製)0.002質量部、及びPGMEA 19.3質量部を混合して攪拌し、ネガ型のレジスト用感光性組成物C1を調製した。
次に、銀ナノワイヤフィルムB1の上に、レジスト用感光性組成物C1を乾燥膜厚5μmとなるようバー塗布し、100℃のオーブンで1分間乾燥させて感光性層を形成した。
続いて、銀ナノワイヤフィルムB1上の感光性層に対して、ネガパターン(細線のライン/スペース:150μm/150μm、細線の長さ:5cm、細線の本数:50本)が形成されたマスクを介して、高圧水銀灯を用いてi線(365nm)を60mJ/cm(照度20mW/cm)にて照射した。この際、マスクの細線の方向と磁場の印加方向とが平行になるようにした。
<Confirmation of silver nanowire orientation>
The orientation state of the silver nanowires contained in the transparent conductive layer of the silver nanowire film B1 produced as described above was confirmed by the following method. That is,
3.80 parts by mass of binder (A-1) having the following structure (solid content: 40.0% by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solution), KAYARAD DPHA as a photosensitive compound (hexafunctional monomer; Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.59 parts by mass of IRGACURE 379 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photosensitive compound, 0.150 parts by mass of EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.) as a crosslinking agent , Megafac F781F (surfactant; manufactured by DIC Corporation) (0.002 parts by mass) and PGMEA (19.3 parts by mass) were mixed and stirred to prepare a negative resist photosensitive composition C1.
Next, the photosensitive composition C1 for resist was coated on the silver nanowire film B1 so as to have a dry film thickness of 5 μm, and dried in an oven at 100 ° C. for 1 minute to form a photosensitive layer.
Subsequently, a negative pattern (line / space of fine lines: 150 μm / 150 μm, length of fine lines: 5 cm, number of fine lines: 50) is formed on the photosensitive layer on the silver nanowire film B1 through a mask. Then, i-line (365 nm) was irradiated at 60 mJ / cm 2 (illuminance 20 mW / cm 2 ) using a high-pressure mercury lamp. At this time, the direction of the fine line of the mask and the direction of application of the magnetic field were made parallel.

なお、バインダー(A−1)の構造中の数値は、バインダー中に含まれる各構成単位のモル比を示す。
また、バインダー(A−1)の重量平均分子量(Mw)は30,000であり、分子量分布(Mw/Mn)は2.21である。Mw及びMw/Mnは、下記の条件にてゲル透過クロマトグラフ(GPC)により行った。検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製した。
<条件>
・GPC:HLC(登録商標)−8020GPC(東ソー(株)製)
・カラム:TSKgel(登録商標)、Super MultiporeHZ−H(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本
・溶離液:THF(テトラヒドロフラン)
・試料濃度:0.45質量%
・流速:0.35ml/min
・サンプル注入量:10μl
・測定温度:40℃
・検出器:示差屈折計(RI)
In addition, the numerical value in the structure of a binder (A-1) shows the molar ratio of each structural unit contained in a binder.
Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of a binder (A-1) is 30,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) is 2.21. Mw and Mw / Mn were performed by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions. The calibration curve is “Standard sample TSK standard, polystyrene” manufactured by Tosoh Corporation: “F-40”, “F-20”, “F-4”, “F-1”, “A-5000”, “A -2500 "," A-1000 ", and" n-propylbenzene ".
<Condition>
GPC: HLC (registered trademark) -8020 GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
-Column: TSKgel (registered trademark), Super Multipore HZ-H (manufactured by Tosoh Corporation, 4.6 mm ID x 15 cm)-Eluent: THF (tetrahydrofuran)
Sample concentration: 0.45% by mass
・ Flow rate: 0.35 ml / min
Sample injection volume: 10 μl
・ Measurement temperature: 40 ℃
・ Detector: Differential refractometer (RI)

露光後、感光性層が形成された銀ナノワイヤフィルムB1を、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、シャワー圧0.04MPaにてシャワー現像を60秒間行った。その後、純水のシャワーでリンスし、50℃で1分間乾燥させて、レジストパターン付銀ナノワイヤフィルムを作製した。   After exposure, the silver nanowire film B1 on which the photosensitive layer was formed was subjected to shower development for 60 seconds at a shower pressure of 0.04 MPa using a 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution. Then, it rinsed with the shower of pure water, and it was made to dry at 50 degreeC for 1 minute, and produced the silver nanowire film with a resist pattern.

次に、レジストパターン付銀ナノワイヤフィルムを、1.0質量%の硝酸、1.0質量%のFe(III)−EDTA(エチレンジアミンテトラ酢酸鉄(III)ナトリウム塩三水和物)、1.0質量%のチオ硫酸アンモニウムを含む混合水溶液からなる30℃のエッチング液に2分間浸漬し、エッチングを行った後、純水のシャワーでリンスし、更に50℃で1分間乾燥した。
その後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液でレジストを剥離し、純水のシャワーでリンスした。その後、50℃で1分間乾燥し、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み200nmの透明導電層からなるパターンを形成した。パターン形状は、ライン/スペースが150μm/150μmであり、長さが5cmであった。
その後、パターン中の細線の長手方向の電気抵抗を四端子法抵抗器を用いて測定した。結果、電気抵抗は、20Ωであった。
Next, a silver nanowire film with a resist pattern was prepared by adding 1.0% by mass of nitric acid, 1.0% by mass of Fe (III) -EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid iron (III) sodium salt trihydrate), 1.0% by mass. After immersing in an etching solution at 30 ° C. made of a mixed aqueous solution containing mass% ammonium thiosulfate for 2 minutes, etching was performed, rinsed with a shower of pure water, and further dried at 50 ° C. for 1 minute.
Thereafter, the resist was peeled off with an aqueous 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide solution, and rinsed with a shower of pure water. Then, it dried at 50 degreeC for 1 minute, and formed the pattern which consists of a 200-nm-thick transparent conductive layer containing silver nanowire on an isotropic base material. The pattern shape had a line / space of 150 μm / 150 μm and a length of 5 cm.
Thereafter, the electrical resistance in the longitudinal direction of the thin wires in the pattern was measured using a four-terminal resistor. As a result, the electric resistance was 20Ω.

上記とは別に、感光性層の面方向におけるマスクの細線の長手方向と磁場の印加方向との角度を5°ずつ間隔を変えたこと以外は、上記と同様にして、角度0°〜90°の範囲でi線を照射し、現像等を経ることにより、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み200nmの透明導電層からなるパターンを18種形成し、パターン中の細線の長手方向の電気抵抗を測定した。
その結果、マスクの細線の長手方向と磁場の印加方向とを平行(0°)にして露光して得られたパターンにおける電気抵抗が最も低く(20Ω)、マスクの細線の長手方向と磁場の印加方向とが90°の角度をなすように露光して得られたパターンにおける電気抵抗が最も高かった(1kΩ)。
以上の結果より、上記で作製した銀ナノワイヤフィルムB1は、透明導電層中の銀ナノワイヤは磁場の印加方向と平行に配向していることが確認された。
Apart from the above, the angle of 0 ° to 90 ° is the same as above except that the angle between the longitudinal direction of the fine line of the mask in the surface direction of the photosensitive layer and the application direction of the magnetic field is changed by 5 °. 18 types of patterns made of a transparent conductive layer having a thickness of 200 nm containing silver nanowires are formed on an isotropic substrate by irradiating with i-line in the range of 1 and developing and the like. Resistance was measured.
As a result, the electrical resistance in the pattern obtained by exposure with the longitudinal direction of the fine wire of the mask parallel to the magnetic field application direction (0 °) is the lowest (20Ω), and the longitudinal direction of the fine wire of the mask and the application of the magnetic field The electric resistance in the pattern obtained by exposing so that the direction forms an angle of 90 ° was the highest (1 kΩ).
From the above results, it was confirmed that in the silver nanowire film B1 produced above, the silver nanowires in the transparent conductive layer were aligned in parallel to the magnetic field application direction.

(実施例1)
−パターン化された銀ナノワイヤフィルムの形成−
上記のように作製した銀ナノワイヤフィルムB1を、上記の「銀ナノワイヤの配向確認」と同様の方法によりパターンニングし、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み200nmの透明導電層からなる電極パターンが形成されたパターン化銀ナノワイヤフィルムD1を作製した。
パターンニングは、ネガパターン(細線のライン/スペース:150μm/150μm、細線の長さ:5cm、細線の本数:50本)が形成されたマスクを介して、マスクの細線の長手方向と磁場の印加方向とを平行にしてi線を感光性層に照射することにより行った。パターン化銀ナノワイヤフィルムD1は、銀ナノワイヤの配向方向に平行な方向に長い細線パターンを有している。
Example 1
-Formation of patterned silver nanowire film-
The silver nanowire film B1 produced as described above is patterned by the same method as the above “confirmation of silver nanowire orientation”, and an electrode pattern comprising a transparent conductive layer having a thickness of 200 nm containing silver nanowires on an isotropic substrate. A patterned silver nanowire film D1 was formed.
Patterning is performed by applying a longitudinal direction of a fine line of the mask and applying a magnetic field through a mask on which a negative pattern (line / space of fine line: 150 μm / 150 μm, length of fine line: 5 cm, number of fine lines: 50) is formed. This was performed by irradiating the photosensitive layer with i-line in parallel with the direction. The patterned silver nanowire film D1 has a long thin line pattern in a direction parallel to the orientation direction of the silver nanowires.

−積層体の作製−
続いて、パターン化銀ナノワイヤフィルムD1を2枚用意し、それぞれの細線の長手方向が互いに90°の角度をなすように2枚のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1を積層した。
この際、2枚のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1の間にλ/2板(ポリマー位相差フィルムλ/2(エドモンド・オプティクス・ジャパン製))を、λ/2板の光学軸とパターン化銀ナノワイヤフィルムD1のそれぞれの銀ナノワイヤの配向方向とが互いに45°の角度をなすように配置して挟んだ。即ち、パターン化銀ナノワイヤフィルムD1の電極パターン上にλ/2板を積層し、λ/2板上に、等方性基材がλ/2板と接するように別のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1を積層した。
続いて、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1の電極パターンの上に偏光板を、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1の銀ナノワイヤの配向方向と偏光板の透過軸とが互いに90°の角度をなすように配置して積層した。
上記のようにして、図1に示す積層構造を有する積層体を作製した。作製された積層体の2枚のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1における銀ナノワイヤの配向方向は、互いに90°の角度をなす状態となっている。
-Fabrication of laminates-
Subsequently, two patterned silver nanowire films D1 were prepared, and the two patterned silver nanowire films D1 were laminated so that the longitudinal directions of the fine lines formed an angle of 90 ° with each other.
At this time, a λ / 2 plate (polymer retardation film λ / 2 (manufactured by Edmund Optics Japan)) is placed between the two patterned silver nanowire films D1, and the optical axis of the λ / 2 plate and the patterned silver nanowires. The films D1 were sandwiched by being arranged so that the orientation directions of the respective silver nanowires of the film D1 form an angle of 45 °. That is, a λ / 2 plate is laminated on the electrode pattern of the patterned silver nanowire film D1, and another patterned silver nanowire film D1 is laminated on the λ / 2 plate so that the isotropic substrate is in contact with the λ / 2 plate. did.
Subsequently, the polarizing plate is placed on the electrode pattern of the patterned silver nanowire film D1 on the upper layer side, and the orientation direction of the silver nanowires of the patterned silver nanowire film D1 on the upper layer side and the transmission axis of the polarizing plate are 90 ° to each other. And arranged so as to form a layer.
As described above, a laminated body having the laminated structure shown in FIG. 1 was produced. The orientation direction of the silver nanowires in the two patterned silver nanowire films D1 of the produced laminate is in a state of making an angle of 90 ° with each other.

(実施例2〜3)
実施例1において、偏光板の透過軸と、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムD1の銀ナノワイヤの配向方向と、がなす角度を80°又は70°に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、積層体を作製した。この際、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムの銀ナノワイヤの配向方向と、下層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムの銀ナノワイヤの配向方向と、とのなす角度は90°とした。
(Examples 2-3)
Example 1 is the same as Example 1 except that the angle formed by the transmission axis of the polarizing plate and the orientation direction of the silver nanowires of the patterned silver nanowire film D1 on the upper layer side is changed to 80 ° or 70 °. Thus, a laminate was produced. At this time, the angle formed by the orientation direction of the silver nanowires of the patterned silver nanowire film on the upper layer side and the orientation direction of the silver nanowires of the patterned silver nanowire film on the lower layer side was 90 °.

(比較例1)
実施例1において、偏光板を設けなかったこと以外は、実施例1と同様にして、積層体を作製した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the polarizing plate was not provided.

(比較例2)
実施例1において、銀ナノワイヤフィルムB1を作製する際に磁場を印加しなかったこと以外は、実施例1と同様にして積層体を作製した。
(Comparative Example 2)
In Example 1, a laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that no magnetic field was applied when producing the silver nanowire film B1.

(評価)
実施例1〜3及び比較例1〜2で作製した積層体に対して、以下の評価を行った。評価結果を書き表1に示す。
(Evaluation)
The following evaluation was performed on the laminates produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. The evaluation results are written and shown in Table 1.

−1.ヘイズ−
積層体のヘイズをヘイズメーター(ヘイズガードプラス、ガードナー社製)を用いて測定し、下記の評価基準にしたがって評価した。評価基準のうち、Aが実用上の許容範囲である。
<評価基準>
A:1%未満
B:1%以上3%未満
C:3%以上
-1. Haze
The haze of the laminate was measured using a haze meter (Haze Guard Plus, manufactured by Gardner) and evaluated according to the following evaluation criteria. Of the evaluation criteria, A is a practically acceptable range.
<Evaluation criteria>
A: Less than 1% B: 1% or more and less than 3% C: 3% or more

−2.電極パターンの視認性−
透明接着テープ(商品名:OCAテープ8171CL、スリーエムジャパン株式会社製)を用い、積層体の偏光板を有する側とは反対側の等方性基材の表面に黒色のポリエチレンテレフタレート(PET)材を貼り付けた。暗室内で積層体に対して偏光板側から蛍光灯の光をあて、偏光板からの反射光を斜めから目視で観察し、電極パターンの見え方を下記の評価基準にしたがって評価した。評価基準のうち、A,B及びCが実用上の許容範囲であり、A又はBが好ましく、Aがより好ましい。
<評価基準>
A:積層体から15cm離れた位置から凝視しても電極パターンが見えず、積層体から40cm離れた位置から普通に目視した際にも電極パターンは見えない。
B:積層体から15cm離れた位置から凝視すると電極パターンが僅かに見え、積層体から40cm離れた位置から普通に目視した際は電極パターンは見えない。
C:積層体から15cm離れた位置から凝視すると電極パターンが僅かに見え、積層体から40cm離れた位置から普通に目視した際も電極パターンが僅かに見える。
D:積層体から15cm離れた位置から凝視すると電極パターンがはっきり見え、積層体から40cm離れた位置から普通に目視したい際は電極パターンが僅かに見える。
E:積層体から15cm離れた位置から凝視すると電極パターンがはっきり見え、積層体から40cm離れた位置から普通に目視した際も電極パターンがはっきり見える。
-2. Visibility of electrode pattern
Using a transparent adhesive tape (trade name: OCA tape 8171CL, manufactured by 3M Japan Co., Ltd.), a black polyethylene terephthalate (PET) material is pasted on the surface of the isotropic substrate opposite to the side having the polarizing plate of the laminate. It was. The light from the fluorescent lamp was applied to the laminate in the dark room from the side of the polarizing plate, the reflected light from the polarizing plate was visually observed from an oblique direction, and the appearance of the electrode pattern was evaluated according to the following evaluation criteria. Among the evaluation criteria, A, B and C are practically acceptable ranges, A or B is preferable, and A is more preferable.
<Evaluation criteria>
A: The electrode pattern is not visible even when staring from a position 15 cm away from the laminate, and the electrode pattern is not visible even when viewed normally from a position 40 cm away from the laminate.
B: The electrode pattern is slightly visible when staring from a position 15 cm away from the laminate, and the electrode pattern is not visible when viewed normally from a position 40 cm away from the laminate.
C: The electrode pattern is slightly visible when staring from a position 15 cm away from the laminate, and the electrode pattern is also slightly visible when viewed normally from a position 40 cm away from the laminate.
D: The electrode pattern can be clearly seen when staring from a position 15 cm away from the laminate, and the electrode pattern can be seen slightly from the position 40 cm away from the laminate.
E: The electrode pattern is clearly visible when staring from a position 15 cm away from the laminate, and the electrode pattern is also clearly visible when viewed normally from a position 40 cm away from the laminate.


表1に示すように、実施例では、銀ナノワイヤの配向方向と直交する方向に振動する偏光光を入射させ、かつ、λ/2板を介して2枚の透明導電層を配置したことで、電極パターンの視認性が著しく改善され、ヘイズも低く抑えられた。また、実施例では、電極パターンの抵抗をより効果的に低減することができた。   As shown in Table 1, in the example, polarized light that vibrates in a direction perpendicular to the orientation direction of the silver nanowires was incident, and two transparent conductive layers were disposed via a λ / 2 plate. The visibility of the electrode pattern was remarkably improved and the haze was kept low. In the example, the resistance of the electrode pattern could be reduced more effectively.

本開示の積層体は、電極パターンの視認性が改善され、低ヘイズかつ低抵抗あるので、例えば、タッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ELディスプレイ用電極、無機ELディスプレイ用電極、電子パーパー、及びフレキシブルディスプレイ用電極等、並びに、集積型太陽電池、液晶表示装置、及びタッチパネル機能付表示装置等の各種デバイスなどに幅広く適用される。中でも、タッチパネルへの適用が特に好ましい。   Since the laminate of the present disclosure has improved visibility of the electrode pattern and has low haze and low resistance, for example, a touch panel, a display electrode, an electromagnetic wave shield, an organic EL display electrode, an inorganic EL display electrode, an electronic paper, It is widely applied to various devices such as electrodes for flexible displays, integrated solar cells, liquid crystal display devices, and display devices with touch panel functions. Among these, application to a touch panel is particularly preferable.

10 透過軸
12 繊維状導電粒子(金属ナノワイヤ、金属ナノチューブ)
14 偏光板
16 銀ナノワイヤフィルム(透明導電部材)
18 λ/2板
20 銀ナノワイヤフィルム(透明導電部材)
22 第1の透明導電層
24,28 等方性基材
26 第2の透明導電層
100 積層体
hν 光
10 Transmission axis 12 Fibrous conductive particles (metal nanowires, metal nanotubes)
14 Polarizing plate 16 Silver nanowire film (transparent conductive member)
18 λ / 2 plate 20 Silver nanowire film (transparent conductive member)
22 1st transparent conductive layers 24 and 28 Isotropic base material 26 2nd transparent conductive layer 100 Laminate hν Light

Claims (4)

偏光板と、
λ/2板と、
基材と、
前記偏光板と前記λ/2板との間に配置されており、前記偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第1の透明導電層と、
前記λ/2板と前記基材との間に配置されており、前記第1の透明導電層に含まれる前記繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第2の透明導電層と、
を有する積層体。
A polarizing plate;
a λ / 2 plate;
A substrate;
It is disposed between the polarizing plate and the λ / 2 plate, and includes at least one kind of fibrous conductive particles selected from metal nanowires and metal nanotubes, which are oriented in a direction perpendicular to the transmission axis of the polarizing plate. A first transparent conductive layer;
Metal nanowires and metal nanotubes arranged between the λ / 2 plate and the base material and oriented in a direction orthogonal to the orientation direction of the fibrous conductive particles contained in the first transparent conductive layer A second transparent conductive layer containing at least one fibrous conductive particle selected from:
A laminate having
前記金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤを含む請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the metal nanowire includes a silver nanowire. 請求項1又は請求項2に記載の積層体を備えたタッチパネル。   A touch panel comprising the laminate according to claim 1. 請求項3に記載のタッチパネルと、表示装置と、を備えたタッチパネル付表示装置。
A display device with a touch panel comprising the touch panel according to claim 3 and a display device.
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