JP6609902B2 - Method for producing epoxy compound - Google Patents

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Description

本発明は、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合をエポキシ化してエポキシ化合物を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an epoxy compound by epoxidizing a carbon-carbon double bond of a compound having a carbon-carbon double bond.

エポキシ化合物は、エポキシ樹脂の原料となるエポキシモノマーや農薬、医薬中間体等の各種化学製品、その中間体や原料として幅広く利用されている。
近年、過酸化水素をタングステン酸類、リン酸、およびオニウム塩の存在下反応させる方法が開発されている(例えば非特許文献1)。この方法では、過酸化物の調製の必要がなく、入手が容易な過酸化水素水で反応を行うことができる。また、過酸化物で酸化されやすい芳香族環を有する化合物にも用いることができ、汎用性が高い製造方法である。
Epoxy compounds are widely used as epoxy monomers as raw materials for epoxy resins, various chemical products such as agricultural chemicals and pharmaceutical intermediates, and intermediates and raw materials thereof.
In recent years, a method of reacting hydrogen peroxide in the presence of tungstic acid, phosphoric acid, and onium salt has been developed (for example, Non-Patent Document 1). In this method, it is not necessary to prepare a peroxide, and the reaction can be carried out with an easily available hydrogen peroxide solution. Further, it can be used for a compound having an aromatic ring that is easily oxidized with a peroxide, and is a highly versatile production method.

しかし特許文献1には触媒調製時にタングステン酸類と過酸化水素との接触により酸素が発生するという報告もされている。
一方、エポキシ化合物を製造する際に原料として用いる炭素−炭素二重結合を有する化合物を製造する際に、パラジウム、ルテニウム、銅等の金属触媒を使用する場合がある(例えば特許文献2、3)。こうした原料中にはこれら金属触媒由来の金属不純物の混入している可能性がある。また使用原料以外に装置や保管容器等からコバルト、ニッケル、鉄等の金属が溶出し、これらが金属不純物として反応系に混入してしまう場合もあった。
However, Patent Document 1 also reports that oxygen is generated by contact between tungstic acids and hydrogen peroxide during catalyst preparation.
On the other hand, when manufacturing a compound having a carbon-carbon double bond used as a raw material when manufacturing an epoxy compound, a metal catalyst such as palladium, ruthenium, or copper may be used (for example, Patent Documents 2 and 3). . Such raw materials may contain metal impurities derived from these metal catalysts. In addition to the raw materials used, metals such as cobalt, nickel, and iron may be eluted from the apparatus and storage container, and these may be mixed into the reaction system as metal impurities.

特開2010−229065号公報JP 2010-229065 A 特表平10−511721号公報Japanese National Patent Publication No. 10-511721 特開2012−116782号公報JP 2012-116782 A

Bull.Chem.Soc.Jpn、70、905(1997)Bull. Chem. Soc. Jpn, 70, 905 (1997)

炭素−炭素二重結合を有する化合物をエポキシ化する際に、前記のタングステン酸類とオニウム塩との存在下、過酸化水素を反応させる方法は汎用性の高い製造方法であるが、過酸化水素は加熱より分解し酸素を発生する。特にエポキシ化反応中に前記の金属不純物が混入している場合には、過酸化水素の分解は更に加速され、当該分解に伴う酸素の発生や発熱は安全上大きな問題となるため、より安全性の高い製造方法が求められている。   When epoxidizing a compound having a carbon-carbon double bond, the method of reacting hydrogen peroxide in the presence of the tungstic acid and the onium salt is a highly versatile production method. Decomposes by heating to generate oxygen. In particular, when the metal impurities are mixed during the epoxidation reaction, the decomposition of hydrogen peroxide is further accelerated, and the generation of oxygen and heat generation associated with the decomposition become a major safety issue, so the safety is further improved. A high production method is demanded.

本発明は上記の状況を鑑み成されたものであり、炭素−炭素二重結合を有する化合物に、タングステン化合物等の触媒金属とオニウム塩の存在下、過酸化水素を反応させるエポキシ化合物の製造方法において、過酸化水素の分解を抑制し、効率的、且つ安全に製造を行うことを課題とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and a method for producing an epoxy compound in which hydrogen peroxide is reacted with a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of a catalytic metal such as a tungsten compound and an onium salt. In the present invention, it is an object to suppress the decomposition of hydrogen peroxide and to manufacture efficiently and safely.

発明者は、炭素−炭素二重結合を有する化合物に、タングステン化合物及びモリブデン化合物のうち少なくとも一方とオニウム塩の存在下、過酸化水素を反応させるエポキシ化合物の製造方法において、水相中の過酸化水素の濃度を低く、または水相中の過酸化水素の量を少なく保つことにより、反応速度を低下させることなく過酸化水素の分解を抑制し
、安全にエポキシ化を行うことができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
The inventor has disclosed a method for producing an epoxy compound in which a compound having a carbon-carbon double bond is reacted with hydrogen peroxide in the presence of an onium salt and at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound. We found that by keeping the hydrogen concentration low or the amount of hydrogen peroxide in the aqueous phase small, the decomposition of hydrogen peroxide can be suppressed and the epoxidation can be performed safely without reducing the reaction rate. The present invention has been completed.

すなわち本発明の要旨は、下記に存する。
[1]炭素−炭素二重結合を有する化合物に過酸化水素を反応させてエポキシ化反応によりエポキシ化合物を製造する方法であって、前記エポキシ化反応を、オニウム塩の存在下、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を含む水相と、炭素−炭素二重結合を有する化合物を含む有機相とからなる二相系溶液中で行い、かつ、前記水相中の過酸化水素濃度が7質量%以下になるように前記過酸化水素を前記二相系溶液に添加することを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
[2]炭素−炭素二重結合を有する化合物に過酸化水素を反応させてエポキシ化反応によりエポキシ化合物を製造する方法であって、前記エポキシ化反応を、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方とオニウム塩との存在下で行い、かつ、前記過酸化水素の含有量を、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物に含まれる二重結合の数に前記炭素−炭素二重結合を有する化合物のモル数を乗じた量に対し、モル比で0.5倍以下とすることを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。
[3]前記エポキシ化反応を、前記タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を含む水相と、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物を含む有機相とからなる二相系溶液中で行うことを特徴とする上記[2]に記載のエポキシ化合物の製造方法。
[4]前記水相の質量が、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物の質量の1.5倍以上であり、かつ前記有機相の質量が、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物の質量の5倍以下であることを特徴とする上記[1]又は[3]に記載のエポキシ化合物の製造方法。[5]炭素−炭素二重結合を有する化合物、タングステン及びモリブデン化合物の少なくとも一方、及びオニウム塩を含む混合物に、過酸化水素を添加する前又は添加中に、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物の含有量に対し、質量比で0.1倍〜5倍の水を添加することを特徴とする上記[1]〜[4]のいずれか1に記載のエポキシ化合物の製造方法。
[6]前記エポキシ化合物1分子中のエポキシ基の数に対する前記エポキシ化合物の分子量が100以上であることを特徴とする上記[1]〜[5]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[7]前記エポキシ化反応を50〜75℃で行うことを特徴とする上記[1]〜[6]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
[8]前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、金属不純物を質量比で500ppm以下含むことを特徴とする上記[1]〜[7]のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] A method for producing an epoxy compound by reacting hydrogen peroxide with a compound having a carbon-carbon double bond and epoxidizing the epoxidation reaction in the presence of an onium salt, a tungsten compound and molybdenum. It is carried out in a two-phase system solution comprising an aqueous phase containing at least one of the compounds and an organic phase containing a compound having a carbon-carbon double bond, and the hydrogen peroxide concentration in the aqueous phase is 7% by mass or less The method according to claim 1, wherein the hydrogen peroxide is added to the two-phase solution.
[2] A method for producing an epoxy compound by reacting hydrogen peroxide with a compound having a carbon-carbon double bond and performing an epoxidation reaction, wherein the epoxidation reaction is performed using at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and onium. In the presence of a salt, and the content of the hydrogen peroxide is the number of double bonds contained in the compound having a carbon-carbon double bond in terms of the number of moles of the compound having the carbon-carbon double bond. The manufacturing method of the epoxy compound characterized by making it 0.5 times or less by molar ratio with respect to the quantity which multiplied the number.
[3] The epoxidation reaction is carried out in a two-phase solution comprising an aqueous phase containing at least one of the tungsten compound and molybdenum compound and an organic phase containing the compound having a carbon-carbon double bond. The method for producing an epoxy compound as described in [2] above,
[4] The mass of the water phase is 1.5 times or more of the mass of the compound having a carbon-carbon double bond, and the mass of the organic phase is the compound having a carbon-carbon double bond. It is 5 times or less of mass, The manufacturing method of the epoxy compound as described in said [1] or [3] characterized by the above-mentioned. [5] Having a carbon-carbon double bond before or during the addition of hydrogen peroxide to a mixture containing at least one of a compound having a carbon-carbon double bond, a tungsten and molybdenum compound, and an onium salt The method for producing an epoxy compound according to any one of the above [1] to [4], wherein water having a mass ratio of 0.1 to 5 times is added to the content of the compound.
[6] The method for producing an epoxy compound according to any one of the above [1] to [5], wherein the molecular weight of the epoxy compound with respect to the number of epoxy groups in one molecule of the epoxy compound is 100 or more.
[7] The method for producing an epoxy compound according to any one of [1] to [6], wherein the epoxidation reaction is performed at 50 to 75 ° C.
[8] The method for producing an epoxy compound according to any one of [1] to [7], wherein the compound having a carbon-carbon double bond contains a metal impurity in a mass ratio of 500 ppm or less.

本発明の製造方法によれば、タングステン化合物等の触媒金属とオニウム塩の存在下、炭素−炭素二重結合を有する化合物に過酸化水素を反応させるエポキシ化合物の製造方法において、過酸化水素の分解を抑制し、原料等から金属不純物等が混入した場合でも効率的、かつ安全にエポキシ化合物の製造を行うことができる。   According to the production method of the present invention, in the production method of an epoxy compound in which hydrogen peroxide is reacted with a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of a catalytic metal such as a tungsten compound and an onium salt, the decomposition of hydrogen peroxide is performed. Thus, the epoxy compound can be efficiently and safely produced even when metal impurities are mixed from the raw material.

以下、本発明の実施の形態について更に詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではなく、その要旨の範囲で種々変形して実施することができる。
本発明のエポキシ化合物の製造方法の第一の態様は、炭素−炭素二重結合を有する化合物(以下、「オレフィン化合物」と称することがある。)に過酸化水素を反応させてエポキシ化する際に、触媒金属としてタングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、オニウム塩とを存在させ、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を含む水相と、前記オレフィン化合物を含む有機相とからなる二相系溶液中で、前
記エポキシ化反応を行い、かつ、前記水相中の過酸化水素濃度が7質量%以下になるように過酸化水素を前記二相系溶液に添加することを特徴とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the description of the constituent elements described below is an example of embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these contents. Various modifications can be made within the scope of the gist.
In the first aspect of the method for producing an epoxy compound of the present invention, a compound having a carbon-carbon double bond (hereinafter sometimes referred to as “olefin compound”) is reacted with hydrogen peroxide for epoxidation. And a two-phase solution comprising an aqueous phase containing at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound, and an organic phase containing the olefin compound, in which at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound as an catalytic metal and an onium salt are present. Among them, the epoxidation reaction is performed, and hydrogen peroxide is added to the two-phase solution so that the hydrogen peroxide concentration in the aqueous phase is 7% by mass or less.

また本発明のエポキシ化合物の製造方法の第二の態様は、炭素−炭素二重結合を有する化合物に過酸化水素を反応させてエポキシ化反応によりエポキシ化化合物を製造する方法において、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方とオニウム塩との存在下、過酸化水素の含有量を、前記オレフィン化合物に含まれる二重結合の数に前記炭素−炭素二重結合を有する化合物のモル数を乗じた値に対し、0.5倍モル以下とすることを特徴とする。   A second aspect of the method for producing an epoxy compound according to the present invention is a method for producing an epoxidized compound by epoxidation reaction by reacting a compound having a carbon-carbon double bond with hydrogen peroxide. In the presence of at least one of the compounds and the onium salt, the content of hydrogen peroxide is obtained by multiplying the number of double bonds contained in the olefin compound by the number of moles of the compound having a carbon-carbon double bond. On the other hand, it is characterized by being 0.5 mol or less.

(タングステン化合物及びモリブデン化合物)
本発明ではタングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を触媒金属として使用する。ここで触媒金属とは、炭素−炭素二重結合を有する化合物の炭素−炭素二重結合を過酸化水素を用いてエポキシ化する際に、過酸化水素と共に反応系内に存在することで触媒として作用する金属種をいう。以下、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を触媒金属ともいう。
(Tungsten compounds and molybdenum compounds)
In the present invention, at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound is used as a catalyst metal. Here, the catalyst metal is used as a catalyst by being present in the reaction system together with hydrogen peroxide when the carbon-carbon double bond of the compound having a carbon-carbon double bond is epoxidized with hydrogen peroxide. This refers to the metal species that acts. Hereinafter, at least one of the tungsten compound and the molybdenum compound is also referred to as a catalyst metal.

本発明におけるタングステン化合物は、タングステンを含有し、上記の触媒としての作用を有するものであれば特に限定はされない。具体的にはタングステン酸やその塩等(以下、これらを「タングステン酸類」と総称する)等がタングステン化合物として挙げられる。
前記タングステン酸類としては、具体的には例えば、タングステン酸;タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム等のタングステン酸塩;前記タングステン酸塩の水和物;12−タングストリン酸、18−タングストリン酸等のリンタングステン酸;12−タングストケイ酸等のケイタングステン酸;12−タングストホウ酸または金属タングステン等が挙げられる。好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、リンタングステン酸であり、入手しやすさの点から、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カルシウム、12−タングストリン酸がより好ましい。
The tungsten compound in the present invention is not particularly limited as long as it contains tungsten and has an effect as the above catalyst. Specific examples of the tungsten compound include tungstic acid and salts thereof (hereinafter collectively referred to as “tungstic acids”).
Specific examples of the tungstic acids include tungstic acid; tungstates such as sodium tungstate, potassium tungstate, calcium tungstate, and ammonium tungstate; hydrates of the tungstates; 12-tungstophosphoric acid Phosphotungstic acid such as 18-tungstophosphoric acid; silicotungstic acid such as 12-tungstosilicic acid; 12-tungstoboric acid or metallic tungsten. Tungstic acid, tungstate, and phosphotungstic acid are preferable, and tungstic acid, sodium tungstate, calcium tungstate, and 12-tungstophosphoric acid are more preferable from the viewpoint of availability.

本発明におけるモリブデン化合物は、モリブデンを含有し、上記の触媒としての作用を有するものであれば特に限定されないが、具体的にはモリブデン酸やその塩等(以下、これらを「モリブデン酸類」と総称する)等が挙げられる。
前記モリブデン酸類としては、モリブデン酸;モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム等のモリブデン酸塩;前記モリブデン酸塩の水和物が挙げられる。
The molybdenum compound in the present invention is not particularly limited as long as it contains molybdenum and has the above-mentioned action as a catalyst. Specifically, molybdic acid or a salt thereof (hereinafter these are collectively referred to as “molybdic acids”). And the like).
Examples of the molybdic acids include molybdic acid; molybdates such as sodium molybdate, potassium molybdate, and ammonium molybdate; and hydrates of the molybdates.

上記タングステン化合物およびモリブデン化合物の中では、入手しやすさの点で、タングステン化合物が好ましく、タングステン酸類、具体的にはタングステン酸、またはタングステン酸ナトリウム及びその水和物、タングステン酸カルシウム及びその水和物がより好ましい。
本発明における触媒金属は、単独又は2種以上を適宜組み合わせて使用することができる。前記触媒金属の使用量は、使用する前記オレフィン化合物等の性質により適宜調節することができ、特に限定されるものではないが、通常、前記オレフィン化合物中に含まれる炭素−炭素二重結合1モル(前記オレフィン化合物中に含まれる炭素−炭素二重結合の数に前記オレフィン化合物の分子量を乗じたもの)に対して触媒金属原子(例えばタングステン化合物を用いる場合はタングステン原子)に換算して、通常0.001モル以上、好ましくは0.005モル以上、より好ましくは0.01モル以上であり、通常1.0モル以下、好ましくは0.50モル以下、より好ましくは0.10モル以下である。前記範囲内に調整することで、反応が進行しやすく、また経済性がよいためである。
Among the above tungsten compounds and molybdenum compounds, tungsten compounds are preferable in view of availability, and tungstic acids, specifically tungstic acid, or sodium tungstate and hydrates thereof, calcium tungstate and hydration thereof. More preferred.
The catalyst metals in the present invention can be used alone or in combination of two or more. The amount of the catalyst metal used can be appropriately adjusted depending on the properties of the olefin compound and the like to be used, and is not particularly limited, but is usually 1 mol of a carbon-carbon double bond contained in the olefin compound. Usually converted to a catalytic metal atom (for example, a tungsten atom when using a tungsten compound) with respect to (the number of carbon-carbon double bonds contained in the olefin compound multiplied by the molecular weight of the olefin compound) 0.001 mol or more, preferably 0.005 mol or more, more preferably 0.01 mol or more, usually 1.0 mol or less, preferably 0.50 mol or less, more preferably 0.10 mol or less. . This is because the reaction is likely to proceed and the economy is good by adjusting within the above range.

前記触媒金属を用いる場合、前記オレフィン化合物と反応系内で混合して用いても、予め反応系外でオレフィン化合物と混合してから用いてもよく、また前記混合の際に、後述する過酸化水素を併せて混合し、触媒金属を活性化させてから用いることもできる。また後述するオニウム塩、有機溶媒、及びその他の添加物も併せて適宜混合して用いることもできる。   When the catalyst metal is used, it may be used after being mixed with the olefin compound in the reaction system or may be used after being mixed with the olefin compound outside the reaction system in advance. It can also be used after hydrogen is mixed together and the catalytic metal is activated. Further, an onium salt, an organic solvent, and other additives, which will be described later, can be appropriately mixed and used.

(過酸化水素)
過酸化水素水を用いる場合、その濃度は特に限定されないが、通常1質量%以上、好ましくは20質量%以上、通常60質量%以下であり、より好ましくは、入手のしやすさや生産性、運搬コスト等を考慮すると、30質量%以上、45質量%以下である。
(hydrogen peroxide)
In the case of using hydrogen peroxide solution, the concentration is not particularly limited, but is usually 1% by mass or more, preferably 20% by mass or more and usually 60% by mass or less, and more preferably availability, productivity, transportation Considering the cost and the like, it is 30% by mass or more and 45% by mass or less.

過酸化水素の使用量は、前記オレフィン化合物の反応性等に応じて適宜調整することができ、特に限定はされないが、前記オレフィン化合物のモル数にオレフィン化合物1分子中に有する炭素−炭素二重結合の数を乗じた値に対し、通常0.5倍モル以上、好ましくは1倍モル以上、通常10倍モル以下、好ましくは3倍モル以下を用いる。前記範囲内の使用量であれば、生産性よく、効率のよいエポキシ化ができるためである。
なおここでいう「使用量」は、前記オレフィン化合物からエポキシ化合物を製造する際に使用する過酸化水素の総量をいう。
The amount of hydrogen peroxide used can be appropriately adjusted according to the reactivity of the olefin compound and the like, and is not particularly limited. However, the carbon-carbon duplex contained in one molecule of the olefin compound is the number of moles of the olefin compound. The amount multiplied by the number of bonds is usually 0.5 times mol or more, preferably 1 time mol or more, usually 10 times mol or less, preferably 3 times mol or less. This is because if the amount used is within the above range, the epoxidation can be performed efficiently and efficiently.
The “use amount” here refers to the total amount of hydrogen peroxide used in producing an epoxy compound from the olefin compound.

(オニウム塩)
本発明の製造方法は、オニウム塩の存在下でエポキシ化反応を行うことができる。オニウム塩は、前記触媒金属及び過酸化水素と混合して用いることで、活性型のエポキシ化触媒を形成すると考えられ、反応活性が高くなることから本発明の製造方法において使用することが好ましい。具体的には、オニウム塩は、前記触媒金属と複合体を形成し、さらにこの複合体が過酸化水素によって酸化されることで、反応活性の高い活性型のエポキシ化触媒(以下、「活性触媒」という。)になると考えられる。
(Onium salt)
The production method of the present invention can carry out an epoxidation reaction in the presence of an onium salt. The onium salt is considered to form an active epoxidation catalyst when used in combination with the catalyst metal and hydrogen peroxide, and the reaction activity becomes high. Therefore, the onium salt is preferably used in the production method of the present invention. Specifically, the onium salt forms a complex with the catalytic metal, and the complex is further oxidized by hydrogen peroxide, whereby an active epoxidation catalyst (hereinafter referred to as “active catalyst”) having high reaction activity. ").

前記活性触媒は、エポキシ化反応の際には脂溶性となり、通常、必要に応じて用いられる溶媒に、前記オレフィン化合物とともに安定に溶解するものが好ましい。そのため前記活性触媒は、安定的に溶媒中に分配するために、高い脂溶性を有することが好ましい。
本発明においてオニウム塩は、前記触媒金属が脂溶性になる程度の高い脂溶性を有することが好ましいため、より脂溶性が高いオニウム塩を使用することが好ましい。オニウム塩の脂溶性の目安の一つとしては、オニウム塩の有する炭素数が挙げられ、(炭素数/1分子中のオニウム塩の数)が20以上であり、より好ましくは25以上である。さらに好ましくはその構造内に炭素原子を20個以上有するカチオン種のオニウム塩がより好ましい。
The active catalyst is preferably fat-soluble during the epoxidation reaction, and normally soluble in the solvent used as needed together with the olefin compound. Therefore, it is preferable that the active catalyst has high fat solubility in order to stably distribute it in a solvent.
In the present invention, since the onium salt preferably has a high fat solubility such that the catalyst metal becomes fat-soluble, it is preferable to use an onium salt having a higher fat solubility. One measure of the fat solubility of the onium salt is the number of carbons of the onium salt, and (carbon number / number of onium salts in one molecule) is 20 or more, more preferably 25 or more. More preferably, a cationic onium salt having 20 or more carbon atoms in its structure is more preferable.

オニウム塩としては、例えばメチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラヘキシルアンモニウム塩、ジラウリルジメチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、セシルピリジニウム塩等のピリジニウム塩、テトラヘキシルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。
またオニウム塩としては、本発明者らが発明し、PCT/JP2013/059461号に開示したオニウム塩を使用することもできる。具体的には活性水素を含む官能基またはその塩に変換可能な置換基を1つ以上有し、かつ炭素原子を20以上含むオニウム塩を用いることが好ましい。
これらのオニウム塩は、エポキシ反応時には脂溶性を呈するが、エポキシ化反応終了後に加水分解等の簡単な後処理をすることで水溶性物質に変換することができ、タングステン等の前記触媒金属をより効率よく水相に溶解、分離できる点で好ましい。
Examples of the onium salt include ammonium salts such as methyltrioctylammonium salt, tetrahexylammonium salt, dilauryldimethylammonium salt, benzyltributylammonium salt, pyridinium salts such as cesylpyridinium salt, and phosphonium salts such as tetrahexylphosphonium salt. It is done.
As the onium salt, an onium salt invented by the present inventors and disclosed in PCT / JP2013 / 059461 can also be used. Specifically, it is preferable to use an onium salt having at least one substituent that can be converted into a functional group containing active hydrogen or a salt thereof and containing 20 or more carbon atoms.
These onium salts exhibit fat solubility during the epoxy reaction, but can be converted into a water-soluble substance by simple post-treatment such as hydrolysis after completion of the epoxidation reaction. This is preferable in that it can be efficiently dissolved and separated in the aqueous phase.

本発明において、オニウム塩は単独でも2種以上適宜組み合わせて使用してもよい。
本発明で用いられるオニウム塩のアニオン種は、特に限定はされないが、具体的には硫酸水素イオン、モノメチル硫酸イオン、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸二水素イオン、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、水酸化物イオン等の1価のアニオン、リン酸水素イオン、硫酸イオン等の2価のアニオンが挙げられ、調整が容易である点から一価のアニオンが好ましい。このうちアニオン種が反応生成物であるエポキシ化合物のエポキシ基や、基質の炭素−炭素二重結合に付加しない点や、調製が容易である点からモノメチル硫酸イオン、硫酸水素イオン、酢酸イオン、リン酸二水素イオン又は水酸化物イオンが好ましい。なおアニオン種は単独でも2種以上適宜組み合わせて使用してもよい。
In the present invention, onium salts may be used alone or in combination of two or more.
The anion species of the onium salt used in the present invention is not particularly limited, but specifically, hydrogen sulfate ion, monomethyl sulfate ion, halide ion, nitrate ion, acetate ion, hydrogen carbonate ion, dihydrogen phosphate ion, Examples include monovalent anions such as sulfonate ions, carboxylate ions, and hydroxide ions, and divalent anions such as hydrogen phosphate ions and sulfate ions. Monovalent anions are preferred from the viewpoint of easy adjustment. Among them, monomethyl sulfate ion, hydrogen sulfate ion, acetate ion, phosphorus ion because the anion species is not added to the epoxy group of the epoxy compound that is the reaction product, the carbon-carbon double bond of the substrate, or the preparation is easy. Acid dihydrogen ions or hydroxide ions are preferred. The anionic species may be used alone or in combination of two or more.

本発明においてオニウム塩を使用する場合、特に限定はされないが、有機相と水相とからなる二相系反応溶液中で使用することが好ましい。通常脂溶性を有する前記オレフィン化合物が、脂溶性を付与された活性触媒と有機相中で反応するため、副反応が起こりにくいためである。   When using onium salt in this invention, although it does not specifically limit, It is preferable to use in the two-phase system reaction solution which consists of an organic phase and an aqueous phase. This is because the olefin compound having normal fat solubility reacts with the active catalyst imparted with fat solubility in the organic phase, so that side reactions are unlikely to occur.

オニウム塩の使用量は、使用するオレフィン化合物等の性質により適宜調整可能であり、特に制限はされないが、反応時に使用する前記触媒金属に対して、通常モル比で0.1倍モル以上、好ましくは0.2倍モル以上、より好ましくは0.3倍モル以上、通常5.0倍モル以下であり、好ましくは2.0倍モルであり、より好ましくは1.0倍モル以下である。   The amount of the onium salt used can be appropriately adjusted depending on the properties of the olefin compound to be used, and is not particularly limited, but is usually 0.1 times mole or more, preferably in a molar ratio with respect to the catalyst metal used in the reaction. Is 0.2 times mol or more, more preferably 0.3 times mol or more, usually 5.0 times mol or less, preferably 2.0 times mol or less, more preferably 1.0 times mol or less.

(有機溶媒)
本発明では、必要に応じ有機溶媒を用いることができ、オレフィン化合物が固体である場合など、有機溶媒を含む反応液は操作性が向上する点で用いることが好ましい。
本発明のエポキシ化反応において有機溶媒を使用した際、オレフィン化合物は、有機溶媒中に溶解していても、懸濁状態でもよいが、通常、反応温度条件下で有機溶媒に溶解していることが好ましい。
(Organic solvent)
In the present invention, an organic solvent can be used if necessary, and a reaction liquid containing an organic solvent is preferably used in terms of improving operability, such as when the olefin compound is a solid.
When an organic solvent is used in the epoxidation reaction of the present invention, the olefin compound may be dissolved or suspended in the organic solvent, but is usually dissolved in the organic solvent under the reaction temperature conditions. Is preferred.

本発明において用いられる有機溶媒は、使用するオレフィン化合物や、前記活性触媒に対して不活性であれば特に限定はされないが、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチルなどのエステル化合物;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N− ジメチルアセトアミド等のアミド類;N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等のウレア類;及びこれら溶媒の混合物が挙げられ、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、およびこれら有機溶媒の混合物が好ましい。さらに反応に対して安定である芳香族炭化水素が好ましく、より好ましくは反応温度より高い沸点を有するトルエンが挙げられる。特に反応活性の高い前記活性触媒を使用する際に、水と二相系を形成する有機溶媒を用いて、二相系反応で行なうことが反応の効率や操作上好ましいためである。   The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it is inactive with respect to the olefin compound to be used and the active catalyst, but specifically, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, etc .; hexane Aliphatic hydrocarbons such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, hexanol, cyclohexanol; halogen solvents such as chloroform, dichloromethane, dichloroethane; ethers such as tetrahydrofuran, dioxane; Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone; nitriles such as acetonitrile and butyronitrile; ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl formate; N, N-dimethylphenol Amides such as muamide, N, N-dimethylacetamide; ureas such as N, N′-dimethylimidazolidinone; and mixtures of these solvents, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and these A mixture of organic solvents is preferred. Furthermore, aromatic hydrocarbons that are stable to the reaction are preferable, and toluene having a boiling point higher than the reaction temperature is more preferable. This is because when using the active catalyst having a particularly high reaction activity, it is preferable to carry out a two-phase reaction using an organic solvent that forms a two-phase system with water in terms of reaction efficiency and operation.

本発明における有機溶媒の使用量は、オレフィン化合物の溶解度や各種物性により適宜調整して使用することができ、特に限定されるものではないが、生産性と安全性の観点から使用するオレフィン化合物の通常0.1倍量以上、10倍量以下であり、好ましくは5倍量以下、より好ましくは3倍量以下である。   The amount of the organic solvent used in the present invention can be appropriately adjusted and used according to the solubility and various physical properties of the olefin compound, and is not particularly limited, but the olefin compound used from the viewpoint of productivity and safety. Usually, it is 0.1 times or more and 10 times or less, preferably 5 times or less, more preferably 3 times or less.

(リン酸類及びホスホン酸類)
本発明の製造方法においては、リン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方を使用することができる。特に前記オニウム塩等を用いて、前記触媒金属を前記活性触媒としてエポキシ化反応を行なう際には、さらにリン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方を用いることが反応性の向上の点で好ましい。
(Phosphoric acids and phosphonic acids)
In the production method of the present invention, at least one of phosphoric acids and phosphonic acids can be used. In particular, when the epoxidation reaction is performed using the onium salt or the like using the catalytic metal as the active catalyst, it is preferable to use at least one of phosphoric acids and phosphonic acids from the viewpoint of improving the reactivity.

本発明におけるリン酸類としては、具体的には例えばリン酸、亜リン酸等の無機リン酸;ポリリン酸、ピロリン酸等のリン酸重合体;リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素カルシウム等の無機リン酸塩;モノメチルリン酸、ジメチルリン酸、トリメチルリン酸、トリエチルリン酸、トリフェニルリン酸等のリン酸エステル類;等が挙げられる。このうちリン酸類としては、リン酸を用いることが好ましい。   Specific examples of phosphoric acids in the present invention include inorganic phosphoric acids such as phosphoric acid and phosphorous acid; phosphoric acid polymers such as polyphosphoric acid and pyrophosphoric acid; sodium phosphate, potassium phosphate, ammonium phosphate, phosphorus Inorganic phosphates such as sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate, ammonium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, calcium dihydrogen phosphate; monomethyl phosphate, dimethyl phosphate, trimethyl phosphate, And phosphoric acid esters such as triethyl phosphoric acid and triphenyl phosphoric acid; Of these, phosphoric acid is preferably used as the phosphoric acid.

本発明におけるホスホン酸類としては、アミノメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸などが挙げられる。
これらのうち本発明では安価なリン酸を用いることが好ましい。
リン酸類及びホスホン酸類の使用量は、特に限定されるものではなく、その種類や触媒金属の種類によって適宜使用量を調整できるが、好ましくは前記活性触媒を使用する二相系反応の水相のpHが適切な範囲になるように使用量を調整する。該リン酸類及びホスホン酸類のいずれかに含まれるリンの当量としては、使用する前記触媒金属中の金属に対して通常モル比で0.1倍モル以上、好ましくは0.2倍モル以上、より好ましくは0.3倍モル以上であり、通常5.0倍モル以下、好ましくは2.0倍モル以下、より好ましくは1.0倍モル以下である。
Examples of phosphonic acids in the present invention include aminomethylphosphonic acid and phenylphosphonic acid.
Of these, in the present invention, it is preferable to use inexpensive phosphoric acid.
The amount of phosphoric acid and phosphonic acid used is not particularly limited, and the amount used can be appropriately adjusted depending on the type and the type of the catalyst metal, but preferably the aqueous phase of the two-phase reaction using the active catalyst. The amount used is adjusted so that the pH is in an appropriate range. The equivalent amount of phosphorus contained in any of the phosphoric acids and phosphonic acids is usually 0.1 times mol or more, preferably 0.2 times mol or more, in a molar ratio with respect to the metal in the catalyst metal used. Preferably it is 0.3 times mole or more, and is usually 5.0 times mole or less, preferably 2.0 times mole or less, more preferably 1.0 times mole or less.

リン酸類及びホスホン酸類の少なくとも一方を反応液の水相のpHが適切な範囲になるように添加することができ、また必要に応じて他の酸や塩基を添加し、pHの調製を行うこともできる。   At least one of phosphoric acids and phosphonic acids can be added so that the pH of the aqueous phase of the reaction solution is in an appropriate range, and other acids and bases can be added as necessary to adjust the pH. You can also.

(キレート化剤)
本発明においてエポキシ化合物の製造は、キレート化剤の共存下で行なうことができる。キレート化剤を共存させることにより、後述する金属不純物との間でキレート化合物を形成すると考えられ、過酸化水素の分解を生じることなく、安全にエポキシ化反応を行なうことができる。
本発明におけるキレート化剤とは、金属イオンと結合してキレート化合物を形成する多座配位子をもつ化合物をいう。
(Chelating agent)
In the present invention, the epoxy compound can be produced in the presence of a chelating agent. By allowing the chelating agent to coexist, it is considered that a chelate compound is formed with the metal impurities described later, and the epoxidation reaction can be performed safely without causing decomposition of hydrogen peroxide.
The chelating agent in the present invention refers to a compound having a multidentate ligand that binds to a metal ion to form a chelate compound.

前記キレート化剤としては、特に限定はされないが、具体的には、エチレンジアミン四酢酸およびその塩、ジエチレントリアミン五酢酸及びその塩、トリエチレントリアミン六酢酸 およびその塩、イミノ酢酸およびその塩等のアミノカルボン酸類;クエン酸、グリ
コール酸およびこれらの塩等のオキシカルボン酸類;ヒドロキシエタンジホスホンなどの有機リン酸類;ピロリン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム等の縮合リン酸塩;エチレンジアミン、サイクレン等のアミン化合物、ビピリジン、フェナントロリン、ポルフィリン等の含窒素ヘテロ環、クラウンエーテル等のエーテル化合物等が挙げられる。これらのうち、分子内にアミノ基とカルボキシル基を有するアミノカルボン酸類が本発明で得られる効果が大きい点から好ましく、特にエチレンジアミン四酢酸およびその塩が安価で入手容易であることから好ましく、さらには、pH調製の容易さから、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩が好ましい。また、キレート化剤の配位可能な置換基数は多い方がより強固に金属に配位するため好ましく、通常2以上、好ましくは3以上、更に好ましくは4以上である。
The chelating agent is not particularly limited, and specific examples thereof include aminocarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid and salts thereof, diethylenetriaminepentaacetic acid and salts thereof, triethylenetriaminehexaacetic acid and salts thereof, iminoacetic acid and salts thereof, and the like. Acids; oxycarboxylic acids such as citric acid, glycolic acid and salts thereof; organic phosphoric acids such as hydroxyethane diphosphones; condensed phosphates such as sodium pyrophosphate and sodium polyphosphate; amine compounds such as ethylenediamine and cyclene; bipyridine And nitrogen-containing heterocycles such as phenanthroline and porphyrin, and ether compounds such as crown ether. Of these, aminocarboxylic acids having an amino group and a carboxyl group in the molecule are preferred from the viewpoint of great effects obtained in the present invention, and particularly preferred because ethylenediaminetetraacetic acid and its salts are inexpensive and readily available. From the viewpoint of easy pH adjustment, ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt is preferred. The number of substituents that can be coordinated by the chelating agent is more preferably coordinated to the metal more strongly, and is usually 2 or more, preferably 3 or more, and more preferably 4 or more.

また、キレート化剤は単独でも2種類以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
本発明において用いられるキレート化剤の使用量は、後述する金属不純物の含有量により適宜調整することができ、特に制限されるものではないが、通常、金属不純物の含有量に対して等モル以上である。また上限も制限はされないが、通常、キレート化剤が析出しない範囲の量である。
The chelating agents may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the chelating agent used in the present invention can be appropriately adjusted depending on the content of metal impurities described later, and is not particularly limited, but is usually equimolar or more with respect to the content of metal impurities. It is. Moreover, although an upper limit is also not restrict | limited, Usually, it is the quantity of the range which does not precipitate a chelating agent.

またエポキシ化反応時の反応液中の前記キレート化剤の含有量は、特に限定されないが、通常反応液中、特に有機相と水相とからなる二相系溶液における水相中のキレート化剤の含有量で、通常1ppm(μg/g)以上であり、好ましくは50ppm以上、通常10000ppm以下であり、好ましくは5000ppm以下であり、さらに好ましくは2000ppm以下である。   Further, the content of the chelating agent in the reaction solution at the time of the epoxidation reaction is not particularly limited, but the chelating agent in the aqueous phase is usually in the reaction solution, particularly in a two-phase solution composed of an organic phase and an aqueous phase. The content is usually 1 ppm (μg / g) or more, preferably 50 ppm or more, usually 10,000 ppm or less, preferably 5000 ppm or less, and more preferably 2000 ppm or less.

(炭素−炭素二重結合を有する化合物)
本発明において原料として使用する炭素−炭素二重結合を有する化合物(オレフィン化合物)としては、分子中に炭素−炭素二重結合を一つ以上有する化合物であれば、特に限定はされない。
本発明において用いられる前記オレフィン化合物としては、脂溶性の高いものが好ましい。脂溶性が高い化合物の場合、水相への分配が低く、系中に水を添加した場合でも、水相中でのエポキシ化合物の加水分解分解が起こりにくいためである。
脂溶性の目安の一つとして、前記オレフィン化合物が分子中に有する炭素−炭素二重結合がすべてエポキシ化され、エポキシ基になったときに有するエポキシ基の数に対し、(分子量/1分子中のエポキシ基の数)が100以上であるものが好ましく、120以上であるものがより好ましく、通常1000以下、好ましくは500以下である。
(Compound having a carbon-carbon double bond)
The compound (olefin compound) having a carbon-carbon double bond used as a raw material in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having one or more carbon-carbon double bonds in the molecule.
As said olefin compound used in this invention, a thing with high fat solubility is preferable. This is because a compound having high fat solubility has a low distribution to the aqueous phase, and even when water is added to the system, hydrolysis of the epoxy compound in the aqueous phase hardly occurs.
As a measure of fat solubility, the number of epoxy groups possessed when all the carbon-carbon double bonds in the molecule of the olefin compound are epoxidized to become epoxy groups (molecular weight / in one molecule) The number of epoxy groups is preferably 100 or more, more preferably 120 or more, and usually 1000 or less, preferably 500 or less.

前記オレフィン化合物の具体例としては、特開2011−213716号公報に記載されている化合物が挙げられる。特に高純度化、特に低ハロゲン化されたエポキシ化合物を製造できる点で、下記の一般式(1)〜(5)で表わされるオレフィン化合物を原料とすることが好ましい。このうち(2)で表されるオレフィン化合物が好ましく、中でも、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル(別名称 3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール ジアリルエーテル)が好ましい。   Specific examples of the olefin compound include compounds described in JP2011-213716A. In particular, it is preferable to use an olefin compound represented by the following general formulas (1) to (5) as a raw material in that a highly purified, particularly low halogenated epoxy compound can be produced. Among these, the olefin compound represented by (2) is preferable, and among them, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′- Biphenyl (other name 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol diallyl ether) is preferred.

[数1]
(R23n1−(A)−(OR)m1・・・(1)
[Equation 1]
(R 23 ) n1- (A 1 )-(OR) m1 (1)

一般式(1)中、Aは芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基、及び脂肪族炭化水素基のいずれかを表し、OR基、R23以外の置換基を有していてもよい。
における芳香族炭化水素基としては、特に限定はされず、フェニル基等の単環式芳香族炭化水素基、ナフチル基等の縮合環芳香族炭化水素基、複素環芳香族炭化水素基、または式(1)のRが水素原子で置き換えられた化合物が、トリス(4−ヒドロキシフェニル)−トリアジン、1,1‘−メチレンビス−ナフタレンジオール、メチリデントリスフェノール等である前記芳香族が複数連結したものであってもよい。好ましくは炭素数6〜22の芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基が複数連結したものが挙げられる。
In the general formula (1), A 1 represents any one of an aromatic hydrocarbon group, a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced, and an aliphatic hydrocarbon group, and other than the OR group and R 23 You may have the substituent of.
The aromatic hydrocarbon group for A 1 is not particularly limited, and is a monocyclic aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a condensed ring aromatic hydrocarbon group such as a naphthyl group, a heterocyclic aromatic hydrocarbon group, Or the compound in which R in the formula (1) is replaced with a hydrogen atom is a plurality of linked aromatics such as tris (4-hydroxyphenyl) -triazine, 1,1′-methylenebis-naphthalenediol, methylidenetrisphenol, etc. It may be what you did. Preferably, those having a plurality of aromatic hydrocarbon groups having 6 to 22 carbon atoms and aromatic hydrocarbon groups linked to each other can be mentioned.

同様に芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基としては、特に限定はされないが、炭素数6〜14の芳香族炭化水素の少なくとも一部が還元された基が挙げられ、具体的にはシクロへキシル基等が挙げられる。
同様に脂肪族基としては特に限定はされないが、一部の炭素原子がヘテロ原子で置換さ
れていてもよく、かつ置換基を有していてもよい炭素数1〜25の脂肪族炭化水素基である。具体的には、炭素数1〜25の直鎖脂肪族炭化水素、エチレンオキシ基等のエーテル結合を有する脂肪族炭化水素が挙げられる。
Rはアリル基、又はグリシジル基を表し、これらはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよいが、好ましくは無置換のアリル基、又はグリシジル基である。なおOR基を複数有するときは、それぞれのOR基は同一でも異なっていてもよい。
Similarly, the group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced is not particularly limited, and examples thereof include a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon having 6 to 14 carbon atoms is reduced. Specific examples include a cyclohexyl group.
Similarly, the aliphatic group is not particularly limited, but a part of carbon atoms may be substituted with a heteroatom, and the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent. It is. Specific examples include C1-C25 linear aliphatic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons having an ether bond such as an ethyleneoxy group.
R represents an allyl group or a glycidyl group, which may have a substituent such as an alkyl group, a phenyl group, or an alkoxycarbonyl group, but is preferably an unsubstituted allyl group or a glycidyl group. In addition, when it has two or more OR groups, each OR group may be the same or different.

が有するORおよびR23以外の置換基としては、グリシジル基、フェニル基、フェニルオキシ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
23は、アリル基を表し、これらはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよいが、好ましくは無置換のアリル基である。
OR基、R23以外の置換基としては特に限定されないが、グリシジル基、フェニル基、フェニルオキシ基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
は1以上の整数を表わし、Aで表される置換基上の置換可能な水素原子の数により異なり限定されないが、好ましくは2以上、4以下である。
なおmが2以上のとき、Rは互いに同一でも異なっていてもよい。
は0以上の整数を表わし、mとnの合計は2以上である。
一般式(1)で表わされるものとしては具体的には1,6−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−ナフタレン、1,4−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン、1,4−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)メチル]−シクロヘキサン、1,1,1,1−テトラ(アリルオキシメチル)メタン、1,1’−メチレンビス−2,7−ナフタレンジオールテトラアリルエーテル、2,4,6−トリス[4−(2−アリルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、1,3―ジアリル−2,4−ジグリシジルオキシベンゼン、2−アリル−1,5−ジグリシジルオキシナフタレン等が挙げられる。
Examples of the substituent other than OR and R 23 that A 1 has include a glycidyl group, a phenyl group, a phenyloxy group, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom.
R 23 represents an allyl group, which may have a substituent such as an alkyl group, a phenyl group, or an alkoxycarbonyl group, but is preferably an unsubstituted allyl group.
OR group is not particularly limited as substituents other than R 23, a glycidyl group, a phenyl group, a phenyl group, an alkoxy group and a halogen atom.
m 1 represents an integer of 1 or more and is not limited and varies depending on the number of substitutable hydrogen atoms on the substituent represented by A 1 , but is preferably 2 or more and 4 or less.
When m 1 is 2 or more, Rs may be the same or different.
n 1 represents an integer of 0 or more, and the sum of m 1 and n 1 is 2 or more.
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include 1,6-bis (2-propen-1-yloxy) -naphthalene, 1,4-bis (2-propen-1-yloxy) -benzene, 1 , 4-Bis (2-propen-1-yloxy) methyl] -cyclohexane, 1,1,1,1-tetra (allyloxymethyl) methane, 1,1′-methylenebis-2,7-naphthalenediol tetraallyl ether 2,4,6-tris [4- (2-allyloxy) phenyl] -1,3,5-triazine, 1,3-diallyl-2,4-diglycidyloxybenzene, 2-allyl-1,5- And diglycidyloxynaphthalene.

Figure 0006609902
一般式(2)中、A、Aはそれぞれ独立に、2価の芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基、及び脂肪族炭化水素基のいずれかを表し、OR基、X、R23以外の置換基を有していてもよい。それぞれの価数が2価である以外は、上記Aと同義である。
Figure 0006609902
In general formula (2), A 2 and A 3 are each independently a divalent aromatic hydrocarbon group, a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced, or an aliphatic hydrocarbon group. And may have a substituent other than the OR group, X 1 and R 23 . Except each valence is bivalent, the same meanings as in A 1.

は、直接結合又は置換基を有していてもよい2価の連結基を表わす。
2価の連結基としては、ヘテロ元素で置換されていてもよく、かつ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基や芳香族炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、−SO−等が挙げられ、連結基中には不飽和結合を有していても、環状構造を有していてもよい。
としては、直接結合、炭素数1〜4の2価アルキレン基、架橋縮合環構造を有する炭素数7〜10の脂環式炭化水素が好ましく、直接結合、炭素数1〜2のアルキレン基がより好ましい。
X 1 represents a divalent linking group which may have a direct bond or a substituent.
As the divalent linking group, an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group which may be substituted with a hetero element and may have a substituent, -O-, -S-, -SO 2- , -SO-, etc. are mentioned, and the linking group may have an unsaturated bond or a cyclic structure.
X 1 is preferably a direct bond, a divalent alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon having 7 to 10 carbon atoms having a crosslinked condensed ring structure, and a direct bond or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms. Is more preferable.

また、Xを介して連結する隣接するAとAは、また複数のAは、その置換基が更に連結しての環を形成していてもよい。例えば、キサンテン環、スピロジベンゾピラン環、スピロビインダン環等が挙げられる。
R、R23、nは一般式(1)と同義である。
上記A、Aが有するORおよびR23以外の置換基は、一般式(1)と同じである。
In addition, adjacent A 2 and A 3 connected via X 1 may also form a ring in which a plurality of A 3 are further connected by substituents thereof. For example, a xanthene ring, a spirodibenzopyran ring, a spirobiindane ring and the like can be mentioned.
R, R 23 , and n 1 have the same meaning as in general formula (1).
Substituents other than OR and R 23 included in A 2 and A 3 are the same as those in General Formula (1).

は1以上の整数を表し、Aで表される置換基上の置換可能な水素原子の数により異なり限定されないが、通常4以下であり、好ましくは2以下である。
なおmが2以上のときは、Rは互いに同一でも異なっていてもよい。mとnの合計は2以上であり、好ましくはm2の合計が2であり、n1の合計が0または2であり、更に好ましくはn1が0である。
nは0または1以上の整数を表し、通常5以下であり、好ましくは3以下であり、より好ましくは0である。
なおnが2以上のときは、Aは互いに同一でも異なっていてもよい。
m 2 represents an integer of 1 or more, and varies depending on the number of substitutable hydrogen atoms on the substituent represented by A 2 and is not limited, but is usually 4 or less, preferably 2 or less.
When m 2 is 2 or more, Rs may be the same or different from each other. The sum of m 1 and n 1 is 2 or more, preferably the sum of m2 is 2, the sum of n1 is 0 or 2, and more preferably n1 is 0.
n represents 0 or an integer of 1 or more, and is usually 5 or less, preferably 3 or less, more preferably 0.
When n is 2 or more, A 3 may be the same as or different from each other.

一般式(2)で表わされるものとして具体的には3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル(別名称 3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジアリルエーテル)、1,1’−(1−
メチルエチリデン)ビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン](別名称
ビスフェノールA ジアリルエーテル)、1,1’−[2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデン]ビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン]、1,1’−スルホニルビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)−ベンゼン]、4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル、1,1’−(1−メチルエチリデン)ビス[4−(2−プロペン−1−イルオキシ)]−シクロヘキサン]、3,3’−ジアリルビフェニル−4,4’−ジグリシジルエーテル(別名称 3,3’−ジアリル−4,4’−ジグリシジルオキシ―1,1’−ビフェニル)、3,3’−ジアリルビフェニル−4,4’−ジアリルエーテル(別名称 3,3’−ジアリル−4,4’−ジアリルオキシ−1,1’−ビフェニル)、3,3’−ジアリルビスフェノールA−ジグリシジルエーテル(別名称 2,2−ビス(3−アリル−4-グリシジ
ルオキシフェニル)プロパン)、3,3’−ジアリルビスフェノールA−ジアリルエーテル(別名称 2,2−ビス(3−アリル−4-アリルオキシフェニル)プロパン)等が挙
げられる。
Specifically, as represented by the general formula (2), 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl ( Other names 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diallyl ether), 1,1 ′-(1-
Methylethylidene) bis [4- (2-propen-1-yloxy) -benzene] (also known as bisphenol A diallyl ether), 1,1 ′-[2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) Ethylidene] bis [4- (2-propen-1-yloxy) -benzene], 1,1′-sulfonylbis [4- (2-propen-1-yloxy) -benzene], 4,4′-bis (2 -Propen-1-yloxy) -1,1'-biphenyl, 1,1 '-(1-methylethylidene) bis [4- (2-propen-1-yloxy)]-cyclohexane], 3,3'-diallyl Biphenyl-4,4′-diglycidyl ether (other name 3,3′-diallyl-4,4′-diglycidyloxy-1,1′-biphenyl), 3,3′-diallylbiphenyl-4,4′- Giant Ether (alternative name 3,3′-diallyl-4,4′-diallyloxy-1,1′-biphenyl), 3,3′-diallylbisphenol A-diglycidyl ether (alternative name 2,2-bis (3- Allyl-4-glycidyloxyphenyl) propane), 3,3′-diallylbisphenol A-diallyl ether (other name: 2,2-bis (3-allyl-4-allyloxyphenyl) propane) and the like.

[数3]
H−[(R23n1−(A(OR)m2)−X]−H (3)
[Equation 3]
H - [(R 23) n1 - (A 2 (OR) m2) -X 2] i -H (3)

一般式(3)中、A、m、n、OR基以外の置換基は一般式(2)と同義である。
R、R23は一般式(1)と同義である。
は、直接結合、置換基を有していてもよいアルキレン基または2つ以上のアルキレン基を置換基として有するフェニレン基を表す。アルキレン基の炭素数は通常1〜4、好ましくは炭素数1又は2のアルキレン基である。
iは2以上の整数を表わし、通常20以下であり、好ましくは10以下である。
In General Formula (3), substituents other than A 2 , m 2 , n 1 , and OR group have the same meaning as in General Formula (2).
R and R 23 have the same meaning as in general formula (1).
X 2 represents a direct bond, an alkylene group which may have a substituent, or a phenylene group having two or more alkylene groups as a substituent. Carbon number of an alkylene group is 1-4 normally, Preferably it is a C1-C2 alkylene group.
i represents an integer of 2 or more and is usually 20 or less, preferably 10 or less.

一般式(3)で表される化合物の具体例としては、4−(2−プロペン−1−イルオキシ)安息香酸−1,1’−(1,4−フェニレン)エステル、トリス[4−アリルオキシフェニル)メタン、クレゾールノボラックのポリアリルエーテル、トリス[3−アリル−4−グリシジルオキシフェニル)メタン、アリルクレゾールノボラックのポリアリルエーテル、アリルクレゾールノボラックのポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
上記一般式(1)〜(3)に記載の化合物に、本発明の製造方法を適用することで、タングステン等の重金属含有量が極めて少なく、さらに塩素含有量の少ないエポキシ化合物を製造することができる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include 4- (2-propen-1-yloxy) benzoic acid-1,1 ′-(1,4-phenylene) ester, tris [4-allyloxy Phenyl) methane, polyallyl ether of cresol novolak, tris [3-allyl-4-glycidyloxyphenyl) methane, polyallyl ether of allyl cresol novolak, polyglycidyl ether of allyl cresol novolak, and the like.
By applying the production method of the present invention to the compounds described in the general formulas (1) to (3), it is possible to produce an epoxy compound having a very small content of heavy metals such as tungsten and a low content of chlorine. it can.

Figure 0006609902
Figure 0006609902

上記式(4)において、m41及びn41はそれぞれ独立して1〜4の整数を表し、A41〜A48はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、ニトロ基、アルコキシル基、アシルオキシ基、カルボニル基、カルボキシル基もしくはその塩を表す。
ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
In the above formula (4), m 41 and n 41 each independently represent an integer of 1 to 4, and A 41 to A 48 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. An alkyl group, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, a nitro group, an alkoxyl group, an acyloxy group, a carbonyl group, a carboxyl group or a salt thereof is represented.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

アルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、セチル基、ステアリル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基などが挙げられる。これらのアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基;ニトロ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基などが挙げられる。   As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable. For example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, Linear or branched alkyl groups such as hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, cetyl group, stearyl group; cycloalkyl groups such as cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc. Is mentioned. These alkyl groups may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group. Examples include alkoxyl groups such as nitro groups; carboxyl groups; alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl groups and ethoxycarbonyl groups; acyloxy groups such as acetyloxy groups and propionyloxy groups.

芳香族炭化水素基としては、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよく、その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基;ニトロ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基などのアシル基;アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基などが挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group and a naphthyl group.
The aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, Alkoxy group such as butoxy group; nitro group; carboxyl group; alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group; acyl group such as acetyl group, propionyl group and benzoyl group; acyloxy group such as acetyloxy group and propionyloxy group Etc.

アルコキシル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
またアシルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。
カルボニル基としてはアルコキシカルボニル、カルボキシル基またはその塩としては、やカルボン酸、およびそのナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩を挙げることができる。
Examples of the alkoxyl group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group.
Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a benzoyloxy group.
Examples of the carbonyl group include alkoxycarbonyl, the carboxyl group or a salt thereof, carboxylic acid, and alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt thereof.

なお、A41〜A48のうちいずれか2以上が互いに結合して、環を形成していてもよい。2分子は同一であっても、単一であってもよい。
結合部位としてはヘテロ原子で置換されていてもよいアルキレン、エステル、アミド、ウレア結合などが挙げられる。
一般式(4)で示される環状オレフィンとしては、例えば1,4−シクロヘキサジエン
、1,5−シクロオクタジエン、1,5,9−シクロドデカトリエン、1,5−ジメチル−1,5−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、2,5−ノルボルナジエンなどの環状非共役オレフィン類、エステル架橋構造を有する3−シクロヘキセン−1−カルボン酸 3−シクロヘキセン−1−イルメチルエステル(セロキサイド前駆体)が挙げられる。
In addition, any two or more of A 41 to A 48 may be bonded to each other to form a ring. The two molecules may be the same or single.
Examples of the bonding site include alkylene, ester, amide, urea bond and the like which may be substituted with a hetero atom.
Examples of the cyclic olefin represented by the general formula (4) include 1,4-cyclohexadiene, 1,5-cyclooctadiene, 1,5,9-cyclododecatriene, 1,5-dimethyl-1,5-cyclo Examples thereof include cyclic non-conjugated olefins such as octadiene, dicyclopentadiene, and 2,5-norbornadiene, and 3-cyclohexen-1-carboxylic acid 3-cyclohexen-1-ylmethyl ester (celloxide precursor) having an ester bridge structure. .

本発明において原料として使用する炭素−炭素二重結合を有する化合物の別の例としては、下記一般式(5)で表されるスチレン化合物が挙げられる。   Another example of the compound having a carbon-carbon double bond used as a raw material in the present invention includes a styrene compound represented by the following general formula (5).

Figure 0006609902
Figure 0006609902

(上記式(5)において、A51〜A55はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アシル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基又はアシルオキシ基を示す。 (In the above formula (5), A 51 ~A 55 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, 3 carbon atoms -7, a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, an aralkyl group, an acyl group, a hydroxy group, a halogen atom, a carboxyl group or an acyloxy group.

56は、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アシル基、カルボキシル基又はアシルオキシ基が挙げられる。炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、2−エチル−1,3−インダンジオン、トリクロロメチル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、N−アルキルスルファモイルが挙げられる。A57及びA58はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、アシル基、カルボキシル基又はアシルオキシ基を示す。
なお、A51〜A58のうちいずれか2つ以上が互いに結合し、環を形成していてもよい。)
A 56 is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, or a cycloalkyl having 3 to 7 carbon atoms. Group, aromatic hydrocarbon group, aralkyl group, acyl group, carboxyl group or acyloxy group. The linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms may have a substituent, and examples of the substituent include 2-ethyl-1,3-indandione, trichloromethyl group, imidazolyl group, A triazolyl group and N-alkylsulfamoyl are mentioned. A 57 and A 58 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, carbon A cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, an aralkyl group, an acyl group, a carboxyl group, or an acyloxy group having a number of 3 to 7 is shown.
Note that any two or more of A 51 to A 58 may be bonded to each other to form a ring. )

一般式(5)で表されるスチレン類の具体例としては、スチレン、4−メチルスチレン、4−フルオロスチレン、2,4−ジフルオロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、4−ブロモスチレン、4−ニトロスチレン、4−ビニル安息香酸、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、1−フェニル−1−シクロヘキセン、インデン、ジヒドロナフタレン、2−[2−(3−クロロフェニル)−2−プロペン−1−イル]−2−エチル−1H−インデン−1,3(2H)−ジオン(インダノファン前駆体)、1,3−ジクロロー5−(3,3,3−トリクロロー1−メチレンプロピル)−ベンゼン(タンデム前駆体)、1−[2−(2,4−ジフロロフェニル)−2−プロペンー1−イル]−1
H−1,2,4−トリアゾール]-等が挙げられる。
Specific examples of the styrene represented by the general formula (5) include styrene, 4-methylstyrene, 4-fluorostyrene, 2,4-difluorostyrene, 3-chlorostyrene, 4-chlorostyrene, and 4-bromostyrene. 4-nitrostyrene, 4-vinylbenzoic acid, α-methylstyrene, β-methylstyrene, 1-phenyl-1-cyclohexene, indene, dihydronaphthalene, 2- [2- (3-chlorophenyl) -2-propene- 1-yl] -2-ethyl-1H-indene-1,3 (2H) -dione (indanophan precursor), 1,3-dichloro-5- (3,3,3-trichloro-1-methylenepropyl) -benzene ( Tandem precursor), 1- [2- (2,4-difluorophenyl) -2-propen-1-yl] -1
H-1,2,4-triazole]-and the like.

(金属不純物)
本発明における金属不純物とは、前記オレフィン化合物中に含まれる金属、およびオレフィン化合物を含むエポキシ化で用いられる溶液(反応液)中に含まれる、該オレフィン化合物や触媒金属、その他の反応剤以外の金属をいう。金属不純物は、金属イオンの他に金属単体であっても金属化合物であってもよい。
(Metal impurities)
The metal impurities in the present invention are metals other than the olefin compound, catalyst metal, and other reactants contained in the solution (reaction solution) used in the epoxidation containing the metal and the olefin compound. Says metal. In addition to metal ions, the metal impurity may be a simple metal or a metal compound.

上記キレート化剤は、金属イオンに配位して効果を示すことが知られているため、金属不純物の中でも金属イオンが重要である。
さらに、上記キレート化剤は、通常、配位座の非共有電子対を金属イオンの空軌道に供与することで配位するので、空軌道を有する、あるいは交換可能な配位子を有するカチオン性の金属イオンが特に重要である。
Since the chelating agent is known to coordinate with metal ions and exhibit an effect, metal ions are important among metal impurities.
Furthermore, since the above chelating agent is usually coordinated by donating an unshared electron pair in the coordination site to the vacant orbital of the metal ion, it has a vacant orbital or has a replaceable ligand. The metal ions are particularly important.

前記金属不純物の金属種としては特に限定はされないが、通常は過酸化水素の分解に寄与し得る金属種である。なお金属種としては、いわゆる半金属に分類されるものでもよく、特に限定はされないが、通常軌道相互作用を示す周期表3族から16族に属する元素であり、具体的には例えばチタン、クロム、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、ホウ素、ケイ素、テルル等が挙げられる。   The metal species of the metal impurity is not particularly limited, but is usually a metal species that can contribute to the decomposition of hydrogen peroxide. The metal species may be classified as a so-called semi-metal, and is not particularly limited. However, it is an element belonging to Groups 3 to 16 of the periodic table showing normal orbital interaction. , Manganese, iron, ruthenium, cobalt, iridium, nickel, palladium, boron, silicon, tellurium and the like.

このうち過酸化物の分解能が高い点からは、金属不純物は、周期表第8族から第11族に属する金属元素が挙げられ、具体的には、ルテニウム、コバルト、イリジウム、ニッケル、パラジウム、鉄、銅等である。特にコバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウムを含む金属不純物は、その含有量が少ない場合でも過酸化水素を分解するため、存在濃度を考慮すべきものである。   Among these, from the point of high resolution of peroxide, metal impurities include metal elements belonging to Group 8 to Group 11 of the periodic table. Specifically, ruthenium, cobalt, iridium, nickel, palladium, iron , Copper and the like. In particular, metal impurities including cobalt, nickel, palladium, and ruthenium should be considered in terms of their concentration because hydrogen peroxide is decomposed even when its content is small.

前記金属不純物の由来は特に限定はされないが、例えば前記オレフィン化合物の製造過程で反応剤や金属触媒等として使用した金属化合物に由来するもの;オレフィン化合物の製造過程やエポキシ化反応で使用した反応容器や配管等の製造設備に由来するもの;及びオレフィン化合物の製造原料、前記有機溶媒、または各種反応助剤等の購入時の容器、包材等に由来するもの;等が挙げられる。前記オレフィン化合物中に含まれうる可能性の高いものとしては、製造過程で反応剤や金属触媒等として使用した金属化合物に由来するものであり、特に前記オレフィン化合物の製造の際に使用する金属触媒に由来するもの、例えばパラジウム、ルテニウムは、含まれる可能性が高いものであることから、その存在濃度を考慮すべきものである。その他に前記オレフィン化合物中に含まれうる可能性の高いものとしては、反応容器や保管容器との接触に由来するものがあり、鉄、コバルト、クロム、ニッケルが挙げられる。   Although the origin of the metal impurities is not particularly limited, for example, those derived from a metal compound used as a reactant or a metal catalyst in the production process of the olefin compound; a reaction vessel used in the production process or epoxidation reaction of the olefin compound And those derived from production equipment such as pipes and the like; and those derived from containers, packaging materials, etc. at the time of purchase of the raw materials for producing olefin compounds, the organic solvents, or various reaction aids, and the like. The thing that is highly likely to be contained in the olefin compound is derived from a metal compound used as a reactant or a metal catalyst in the production process, and in particular, a metal catalyst used in the production of the olefin compound. Since those that are derived from the above, such as palladium and ruthenium, are highly likely to be contained, their concentration should be considered. Others that are highly likely to be contained in the olefin compound include those derived from contact with a reaction vessel or a storage vessel, and examples thereof include iron, cobalt, chromium, and nickel.

金属不純物の影響の大きさは、過酸化水素の濃度、反応条件、金属不純物の種類により異なり、過酸化水素の濃度が高い場合や、反応温度が高い場合には影響が顕著化する。そのため、オレフィン化合物中の金属不純物の含有量は、前記オレフィン化合物の量に対し、通常、重量比で500ppm(μg/g)以下であり、好ましくは200ppm以下である。また、金属不純物の下限は1ppm(μg/g)以上が好ましく、0.1ppm(μg/g)以上がより好ましく、金属不純物が含まれない場合、すなわち0ppm以上がさらに好ましい。前記範囲内の金属不純物含有量である場合には、本願発明の効果が十分に得られるためである。   The magnitude of the influence of metal impurities varies depending on the concentration of hydrogen peroxide, the reaction conditions, and the type of metal impurity, and the influence becomes significant when the concentration of hydrogen peroxide is high or when the reaction temperature is high. Therefore, the content of metal impurities in the olefin compound is usually 500 ppm (μg / g) or less, preferably 200 ppm or less, in terms of the weight ratio with respect to the amount of the olefin compound. Further, the lower limit of the metal impurity is preferably 1 ppm (μg / g) or more, more preferably 0.1 ppm (μg / g) or more, and more preferably 0 ppm or more when no metal impurity is contained. This is because when the metal impurity content is within the above range, the effect of the present invention is sufficiently obtained.

上記金属不純物は、少ない方が好ましい。エポキシ化を上述のキレート化剤の共存下で行う場合は、上記金属不純物の、反応溶液、すなわち前記炭素−炭素二重結合を有する化合物と、前記触媒金属と、前記過酸化水素と、前記キレート化剤とを含有する溶液中に含
まれる含有量は、通常500ppm(μg/g)以下であり、好ましくは200ppm(μg/g)以下である。また、金属不純物の反応溶液中の含有量の下限は1ppm(μg/g)以上が好ましく、0.1ppm(μg/g)以上がより好ましく、0.05ppmがさらに好ましい。前記範囲内の金属不純物含有量である場合には、キレート化剤の効果が十分に得られるためである。
Less metal impurities are preferred. When epoxidation is performed in the presence of the chelating agent, the reaction solution of the metal impurity, that is, the compound having a carbon-carbon double bond, the catalyst metal, the hydrogen peroxide, and the chelate. The content contained in the solution containing the agent is usually 500 ppm (μg / g) or less, preferably 200 ppm (μg / g) or less. Further, the lower limit of the content of metal impurities in the reaction solution is preferably 1 ppm (μg / g) or more, more preferably 0.1 ppm (μg / g) or more, and further preferably 0.05 ppm. This is because when the metal impurity content is within the above range, the effect of the chelating agent is sufficiently obtained.

(エポキシ化合物の製造方法)
本発明の製造方法は、前記オレフィン化合物を、前記触媒金属、オニウム塩及び過酸化水素の共存下でエポキシ化する際に、過酸化水素の濃度、またはオレフィン化合物に対する過酸化水素の量を特定の範囲にすることを特徴とするものである。
(Method for producing epoxy compound)
In the production method of the present invention, when the olefin compound is epoxidized in the presence of the catalyst metal, onium salt and hydrogen peroxide, the concentration of hydrogen peroxide or the amount of hydrogen peroxide relative to the olefin compound is specified. It is characterized by a range.

本発明の第一の態様は、前記オレフィン化合物に過酸化水素を反応させる際、オニウム塩の存在下、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方を含む水相と、炭素−炭素二重結合を有する化合物を含む有機相とからなる二相系溶液を形成させ、前記水相中の過酸化水素濃度が7質量%以下になるように前記過酸化水素を前記二相系溶液に添加する。
前記濃度よりも過酸化水素濃度が高い場合、加熱による分解が起こりやすく、金属などの異物の混入がある場合はさらに加速されるためである。過酸化水素濃度が上記濃度以下の場合、過酸化水素が瞬時に分解した場合でも、その発熱量は水の潜熱で十分に吸収可能な濃度範囲であり、冷却装置が作動しない等のトラブルがあった場合でも、安全にエポキシ化合物を製造することができる。
The first aspect of the present invention is a compound having an aqueous phase containing at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound in the presence of an onium salt and a carbon-carbon double bond when hydrogen peroxide is reacted with the olefin compound. A two-phase solution comprising an organic phase containing is formed, and the hydrogen peroxide is added to the two-phase solution so that the hydrogen peroxide concentration in the aqueous phase is 7% by mass or less.
This is because when the hydrogen peroxide concentration is higher than the above concentration, decomposition due to heating is likely to occur, and when there is contamination of foreign substances such as metal, it is further accelerated. If the hydrogen peroxide concentration is lower than the above concentration, even if hydrogen peroxide is instantly decomposed, the calorific value is in a concentration range that can be sufficiently absorbed by the latent heat of water, causing problems such as the cooling device not working. Even if it is, the epoxy compound can be produced safely.

前記二相系溶液においては、水相の過酸化水素濃度は安全の面からより低いことが好ましく、5質量%以下が好ましく、4質量%以下がより好ましい。下限は特に制限されるものではないが、過酸化水素による触媒の活性化が常時進行し、基質の酸化反応が効率的に進行するためには、通常0.1質量%以上であり、0.3質量%以上が好ましく、1.0%以上がより好ましい。
本発明の第二の態様は、タングステン化合物及びモリブデン化合物の少なくとも一方と、オニウム塩の存在下、前記オレフィン化合物に過酸化水素を反応させる際、反応系内に含まれる過酸化水素の量を、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物に含まれる二重結合の数に前記炭素−炭素二重結合を有する化合物のモル数を乗じた値に対し、0.5倍モル以下とする。
In the two-phase solution, the hydrogen peroxide concentration in the aqueous phase is preferably lower from the viewpoint of safety, preferably 5% by mass or less, and more preferably 4% by mass or less. The lower limit is not particularly limited, but is usually 0.1% by mass or more in order for the activation of the catalyst by hydrogen peroxide to constantly proceed and the substrate oxidation reaction to proceed efficiently. 3 mass% or more is preferable and 1.0% or more is more preferable.
In the second aspect of the present invention, when hydrogen peroxide is reacted with at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and the olefin compound in the presence of an onium salt, the amount of hydrogen peroxide contained in the reaction system is The value is 0.5 times or less the value obtained by multiplying the number of double bonds contained in the compound having carbon-carbon double bonds by the number of moles of the compound having carbon-carbon double bonds.

過酸化水素の量は少ない方が好ましく、0.3倍モル以下が好ましい。特にオレフィン原料が消費され、反応終盤になった際は過酸化水素の消費速度が低下するため、0.25倍モル以下がより好ましい。
反応系内の過酸化水素の量が多い場合、金属不純物の混入で過酸化水素が分解した場合、または急激な反応による温度上昇により過酸化水素が分解した場合、酸素ガスの急激な発生や温度上昇、これに伴う発泡が起こり、安全上好ましくない。反応系内に存在する過酸化水素の量が上記の量以下である場合、この過酸化水素が瞬時に分解、または反応した場合でも、その発熱量は系内の水、溶媒及び前記オレフィン化合物等の比熱、または潜熱により吸収可能な発熱量であるため、より安全に反応を行なうことができる。
The amount of hydrogen peroxide is preferably small, and is preferably 0.3 times mol or less. In particular, when the olefin raw material is consumed and the end of the reaction is reached, the consumption rate of hydrogen peroxide is reduced, and therefore 0.25 times mol or less is more preferable.
When the amount of hydrogen peroxide in the reaction system is large, when hydrogen peroxide is decomposed due to contamination with metal impurities, or when hydrogen peroxide is decomposed due to a rapid temperature increase, oxygen gas is rapidly generated or Ascending, foaming accompanying this occurs, which is not preferable for safety. When the amount of hydrogen peroxide present in the reaction system is less than the above amount, even when this hydrogen peroxide is instantly decomposed or reacted, the amount of heat generated is the water, solvent in the system, the olefin compound, etc. Therefore, the reaction can be carried out more safely.

前記第一及び第二の態様において、反応を二相系溶液で行なう場合、水相及び有機相の量は特に限定されないが、前記水相の質量は、前記オレフィン化合物の質量に対し、通常1.5倍以上であり、1.8倍以上、さらには2.0倍以上がより好ましい。この範囲だと反応熱や過酸化水素の分解熱を水の比熱や潜熱で吸収しやすく、また金属不純物による過酸化水素の分解を抑える目的で過酸化水素水濃度を低くするため、水で希釈するのが好ましいからである。上限は、過酸化水素濃度が上記適正範囲内である限りにおいて特に限定はされないが、生産性等の面で、通常10倍以下、好ましくは6倍以下である。   In the first and second embodiments, when the reaction is performed in a two-phase solution, the amounts of the aqueous phase and the organic phase are not particularly limited, but the mass of the aqueous phase is usually 1 with respect to the mass of the olefin compound. 0.5 times or more, 1.8 times or more, and more preferably 2.0 times or more. In this range, the heat of reaction and the decomposition heat of hydrogen peroxide are easily absorbed by the specific heat and latent heat of water, and diluted with water to reduce the concentration of hydrogen peroxide to reduce the decomposition of hydrogen peroxide by metal impurities. This is because it is preferable. The upper limit is not particularly limited as long as the hydrogen peroxide concentration is within the appropriate range, but is usually 10 times or less, preferably 6 times or less in terms of productivity.

また前記有機相の質量は、前記オレフィン化合物の質量に対し、通常5倍以下であり、有機相中の基質およびオニウム塩の濃度の低下により反応速度が低下するため、3倍以下が好ましく、2倍以下がより好ましい。下限は特に限定されないが、通常1.1倍以上である。
尚、有機相には溶媒、オレフィン化合物、オニウム塩が溶解しており、有機相の重量とは有機相に溶解しているこれらすべを合わせた重量を表す。
Further, the mass of the organic phase is usually 5 times or less with respect to the mass of the olefin compound, and the reaction rate decreases due to a decrease in the concentration of the substrate and the onium salt in the organic phase, preferably 3 times or less. It is more preferably less than twice. Although a minimum is not specifically limited, Usually, it is 1.1 times or more.
In addition, a solvent, an olefin compound, and an onium salt are dissolved in the organic phase, and the weight of the organic phase represents a total weight of these dissolved in the organic phase.

有機相と水相の総量は、特に限定されないが、安全性の面からは、反応熱や過酸化水素の分解熱を吸収する観点からは、基質に対し通常質量比で2倍以上であり、生産性の面からは8倍以下である。
有機相/水相の比は限定されないが、通常1以下であり、0.5以下が好ましい。反応速度は有機相中のオレフィン化合物とオニウム塩化合物の濃度には影響されるが、過酸化水素の濃度の影響を受けないため、反応速度を低下することなく、反応熱や過酸化水素の分解熱を吸収する観点から、水の割合が多い方が好ましいからである。
The total amount of the organic phase and the aqueous phase is not particularly limited, but in terms of safety, from the viewpoint of absorbing the heat of reaction and the heat of decomposition of hydrogen peroxide, it is usually more than twice the mass ratio to the substrate. In terms of productivity, it is 8 times or less.
Although the ratio of the organic phase / aqueous phase is not limited, it is usually 1 or less, preferably 0.5 or less. Although the reaction rate is affected by the concentration of the olefin compound and onium salt compound in the organic phase, it is not affected by the concentration of hydrogen peroxide, so it does not decrease the reaction rate and decomposes the heat of reaction and hydrogen peroxide. This is because a higher proportion of water is preferable from the viewpoint of absorbing heat.

前記第一及び第二の態様において、前記二相系溶液の水相の過酸化水素濃度を低く保つ方法は、特に限定されないが、過酸化水素添加前、あるいは添加中に、水を添加することが好ましい。水を添加することにより、過酸化水素濃度を低く保つことができるだけでなく、反応系の比熱吸収および潜熱吸収が大きくなり、安全性が更に向上するためである。過酸化水素濃度を低くする別の方法としては、濃度の低い過酸化水素を添加する方法も挙げられるが、その場合、反応初期と比べ反応終了時の水相の量が多くなり、生産効率が低下する傾向があり、また、反応により生成する水により、系内の過酸化水素濃度が更に低下し、前述の過酸化水素濃度の適正範囲を下回る場合があるので、水を添加する方法の方が好ましい。
水の全添加量は、前記の過酸化水素濃度の適正範囲内であれば特に限定はされないが、通常オレフィン化合物に対し、質量比で通常0.1倍量以上、好ましくは0.5倍量以上、より好ましくは1倍量以上であり、通常5倍量以下、好ましくは3倍量以下である。
In the first and second embodiments, the method for keeping the hydrogen peroxide concentration in the aqueous phase of the two-phase solution low is not particularly limited, but water is added before or during the addition of hydrogen peroxide. Is preferred. This is because by adding water, not only can the hydrogen peroxide concentration be kept low, but also the specific heat absorption and latent heat absorption of the reaction system increase, and the safety is further improved. Another method for lowering the hydrogen peroxide concentration is to add hydrogen peroxide having a low concentration, but in this case, the amount of aqueous phase at the end of the reaction is larger than that in the initial reaction, and the production efficiency is increased. Since the hydrogen peroxide concentration in the system is further lowered by the water produced by the reaction and may fall below the appropriate range of the above-mentioned hydrogen peroxide concentration, the method of adding water Is preferred.
The total amount of water added is not particularly limited as long as it is within the appropriate range of the hydrogen peroxide concentration, but is usually 0.1 times or more, preferably 0.5 times the mass of the olefin compound. As described above, it is more preferably 1 time or more, usually 5 times or less, preferably 3 times or less.

前記第一及第二の態様において、過酸化水素および基質および他の反応資材の添加方法や順番は、特に限定はされないが、過酸化水素濃度および量を低く保つ観点から、またエポキシ化反応および過酸化水素分解の際に発熱を伴うため、反応の進行や発熱のコントロールをする観点からも、前記触媒金属及びオニウム塩、必要に応じ添加する水や溶媒等を添加した後に、過酸化水素を徐々に添加する方法、または、予め前記触媒金属を酸化するのに必要な量の過酸化水素を添加し、触媒金属を活性化した後、残りの過酸化水素を徐々に添加する方法が好ましい。   In the first and second embodiments, the addition method and order of hydrogen peroxide and the substrate and other reaction materials are not particularly limited, but from the viewpoint of keeping the hydrogen peroxide concentration and amount low, the epoxidation reaction and Since heat generation occurs during the decomposition of hydrogen peroxide, from the viewpoint of controlling the progress of the reaction and heat generation, hydrogen peroxide is added after adding the catalyst metal and onium salt, water or solvent added as necessary. A method of adding gradually, or a method of adding hydrogen peroxide in an amount necessary for oxidizing the catalyst metal in advance and activating the catalyst metal, and then gradually adding the remaining hydrogen peroxide.

また過酸化水素の徐々に添加する方法としては、分割して添加しても、連続で除々に添加してもよい。安全上の観点から、未反応の過酸化水素が反応系中に滞留しないように、反応の進行具合に応じて添加することが好ましく、反応終盤は過酸化水素の消費速度が低下するため、反応初期と比較して添加速度を遅くすることが好ましい。   Further, as a method of gradually adding hydrogen peroxide, it may be added in divided portions or continuously and gradually. From the viewpoint of safety, it is preferable to add hydrogen peroxide according to the progress of the reaction so that unreacted hydrogen peroxide does not stay in the reaction system. It is preferable to slow down the addition rate compared to the initial stage.

(反応条件)
本発明の製造方法における反応温度は、反応が進行する範囲であれば特に限定されないが、通常10℃以上、好ましくは35℃以上、より好ましくは50℃以上であり、通常90℃以下、好ましくは80℃以下、より好ましくは75℃以下である。前記温度範囲で反応させることにより、反応速度の低下がなく反応を進行させることができ、またより安全に反応を進行させることができるためである。
(Reaction conditions)
The reaction temperature in the production method of the present invention is not particularly limited as long as the reaction proceeds, but is usually 10 ° C or higher, preferably 35 ° C or higher, more preferably 50 ° C or higher, and usually 90 ° C or lower, preferably 80 ° C. or lower, more preferably 75 ° C. or lower. This is because by reacting in the above temperature range, the reaction can proceed without lowering the reaction rate, and the reaction can proceed more safely.

本発明の製造方法における反応時間は反応温度、触媒量、原料の種類等によって適宜選
択でき、特に限定されるものではないが、通常1時間以上、好ましくは3時間以上、より好ましくは4時間以上であり、生成物のエポキシ化合物の分解物の生成を抑制する観点から、通常48時間以下、好ましくは36時間以下、より好ましくは24時間以下である。
本発明の製造方法における反応時のpHは、反応に供するオレフィン化合物の構造や性質等により適宜調整が可能であり、特に限定されるものではないが、通常pHは2以上、好ましくは2.5以上、通常6以下である。前記オニウム塩を反応に使用し、二相系反応である場合は、その水相のpHが上記範囲であることが好ましい。
The reaction time in the production method of the present invention can be appropriately selected depending on the reaction temperature, the amount of catalyst, the type of raw material and the like, and is not particularly limited, but is usually 1 hour or longer, preferably 3 hours or longer, more preferably 4 hours or longer. From the viewpoint of suppressing the production of a decomposition product of the epoxy compound of the product, it is usually 48 hours or shorter, preferably 36 hours or shorter, more preferably 24 hours or shorter.
The pH during the reaction in the production method of the present invention can be appropriately adjusted depending on the structure and properties of the olefin compound to be subjected to the reaction and is not particularly limited, but the pH is usually 2 or more, preferably 2.5. As described above, it is usually 6 or less. When the onium salt is used for the reaction and the reaction is a two-phase reaction, the pH of the aqueous phase is preferably within the above range.

例えばオレフィン化合物が環状オレフィンである場合は、エポキシ化されやすい一方、生成したエポキシ環が転移や開裂しやすい傾向があるため、中性に近いpHでの反応が好ましい。一方オレフィン化合物がアリルエーテルの場合は、環状オレフィンと比較してエポキシ化されにくく、開裂しにくい傾向があるため、環状オレフィンの場合に比べ酸性、すなわち低いpHで反応を行なうことが好ましい傾向がある。反応時、前記オニウム塩を使用した場合は、二相系反応の水相中の過酸化水素の量によりpHが変化する、また、反応後半では生成したエポキシが酸性条件下で開裂するため、反応の進行具合に応じて適宜、酸または塩基を添加して、pHを最適な範囲に保つことが好ましい。   For example, when the olefin compound is a cyclic olefin, the reaction is preferably carried out at a pH close to neutrality because it tends to be epoxidized but the produced epoxy ring tends to be transferred or cleaved. On the other hand, when the olefin compound is allyl ether, it tends to be less epoxidized and less prone to cleavage than the cyclic olefin, so that the reaction tends to be more acidic, that is, at a lower pH than the cyclic olefin. . When the onium salt is used during the reaction, the pH changes depending on the amount of hydrogen peroxide in the aqueous phase of the two-phase reaction, and the epoxy produced in the latter half of the reaction is cleaved under acidic conditions. It is preferable to keep the pH within the optimum range by adding an acid or a base as appropriate according to the degree of progress.

本発明の製造方法においては必要に応じて緩衝液を使用することもできる。緩衝液の種類としては、反応を阻害しないものであれば、目的のpHに合わせた緩衝液を適宜用いることができる。緩衝液の例としては、リン酸塩水溶液、リン酸水素塩、又はリン酸二水素塩、又はフェニルリン酸の組み合わせとしては、クエン酸とクエン酸ナトリウム、酢酸と酢酸ナトリウムなどが挙げられる。場合によっては先のタングステン酸類を組み合わせて緩衝液としてもよい。   In the production method of the present invention, a buffer may be used as necessary. As the type of the buffer, any buffer that matches the target pH can be used as long as it does not inhibit the reaction. Examples of the buffer solution include citric acid and sodium citrate, acetic acid and sodium acetate, and the like as a combination of an aqueous phosphate solution, hydrogen phosphate, dihydrogen phosphate, or phenyl phosphate. In some cases, the above tungstic acids may be combined to form a buffer solution.

本発明の製造方法においては、反応を円滑に進行させる目的で、共酸化剤を使用することもできる。具体的には、カルボン酸、好ましくは炭素数1〜10の脂肪族カルボン酸を触媒組成物中に含んでいてもよい。共酸化剤は組成物中に添加してもよく、例えばエステル基を有するオニウム塩の場合、エステル基が加水分解を受けて発生したものであってもよい。   In the production method of the present invention, a co-oxidant can be used for the purpose of causing the reaction to proceed smoothly. Specifically, the catalyst composition may contain a carboxylic acid, preferably an aliphatic carboxylic acid having 1 to 10 carbon atoms. The co-oxidant may be added to the composition. For example, in the case of an onium salt having an ester group, the co-oxidant may be generated by hydrolysis of the ester group.

本発明の製造方法における反応は、安全上の観点から、常圧、窒素気流下で行うことが好ましい。
本発明において、エポキシ化反応終了後に必要に応じ還元剤を加えて過剰な過酸化水素のクエンチ処理を行う。反応に前記のオニウム塩を使用した場合は、二相系反応の水相を廃棄後、有機相を水洗後、上記クエンチ処理を行なうことが好ましい。
上記クエンチ処理に用いる還元剤としては特に限定されないが、亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ヒドラジン、シュウ酸などが挙げられる。
The reaction in the production method of the present invention is preferably performed under normal pressure and a nitrogen stream from the viewpoint of safety.
In the present invention, after the epoxidation reaction is completed, a reducing agent is added as necessary to quench excess hydrogen peroxide. When the onium salt is used in the reaction, it is preferable to perform the quenching treatment after discarding the aqueous phase of the two-phase reaction and washing the organic phase with water.
Although it does not specifically limit as a reducing agent used for the said quench process, Sodium sulfite, sodium thiosulfate, hydrazine, an oxalic acid etc. are mentioned.

(オレフィン化合物の前処理)
本発明におけるオレフィン化合物は、本発明のエポキシ化反応に用いる際に、必要に応じて前処理を行なってもよい。前処理を行なうことで、金属不純物の量を減少することができるため、本発明の効果を顕著に得る上では、下記する前処理を行なうことが好ましい。
前記前処理の方法としてオレフィン化合物を、酸性水溶液で洗浄する方法やキレート化剤水溶液で洗浄する方法が挙げられる。
前処理の方法としては、オレフィン化合物に直接酸性水溶液やキレート化剤水溶液を作用させて処理することもできれば、前記オレフィン化合物を有機溶媒等に溶解させた後、混合し、酸性水溶液やキレート化剤水溶液で処理することもできる。
(Pretreatment of olefin compounds)
The olefin compound in the present invention may be pretreated as necessary when used in the epoxidation reaction of the present invention. Since the amount of metal impurities can be reduced by performing the pretreatment, the following pretreatment is preferably performed in order to obtain the effects of the present invention remarkably.
Examples of the pretreatment method include a method of washing the olefin compound with an acidic aqueous solution and a method of washing with an aqueous chelating agent solution.
As a pretreatment method, if an acidic aqueous solution or a chelating agent aqueous solution can be directly applied to the olefin compound for treatment, the olefin compound is dissolved in an organic solvent and then mixed, and the acidic aqueous solution or chelating agent is mixed. It can also be treated with an aqueous solution.

酸性水溶液に用いる酸の種類は、特に限定はされないが、具体的には塩酸、硫酸、硝酸
、リン酸などの無機酸;酢酸、クエン酸などの有機酸が挙げられる。
酸性水溶液のpHは特に限定はされず、用いるオレフィン化合物の安定性により異なるが、通常pHは1以上、好ましくは3以上、通常5以下、好ましくは4以下で行う。pHの調整の目的で、各種の塩を加えてもよく、例えば硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、クエン酸ナトリウム等を添加してもよい。
Although the kind of acid used for acidic aqueous solution is not specifically limited, Specifically, inorganic acids, such as hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid; Organic acids, such as an acetic acid and a citric acid, are mentioned.
The pH of the acidic aqueous solution is not particularly limited, and varies depending on the stability of the olefin compound to be used. Usually, the pH is 1 or more, preferably 3 or more, usually 5 or less, preferably 4 or less. For the purpose of adjusting pH, various salts may be added. For example, sodium sulfate, sodium acetate, sodium phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium citrate and the like may be added.

具体的には、酢酸と硫酸ナトリウムの混合水溶液が好ましい。例えば4%の酢酸と1%硫酸ナトリウムを含むpH=4の水溶液がより好ましい。上記の洗浄処理を行なうことで金属が水に可溶化し、水相と共に除去される。
前記キレート化剤水溶液としては、金属とのキレート化能力を有する化合物を含む水溶液であれば、特に限定はされないが、好ましくは、いわゆる金属マスク剤を含む水溶液が好ましい。前記キレート化剤水溶液に用いるキレート化剤としては、上述したキレート化剤と同じであり、操作性や汎用性の面でエチレンジアミン四酢酸、ピロリン酸が好ましい。
Specifically, a mixed aqueous solution of acetic acid and sodium sulfate is preferable. For example, a pH = 4 aqueous solution containing 4% acetic acid and 1% sodium sulfate is more preferable. By performing the above washing treatment, the metal is solubilized in water and removed together with the aqueous phase.
The aqueous chelating agent solution is not particularly limited as long as it is an aqueous solution containing a compound capable of chelating with a metal, but an aqueous solution containing a so-called metal mask agent is preferable. The chelating agent used in the aqueous chelating agent solution is the same as the above-mentioned chelating agent, and ethylenediaminetetraacetic acid and pyrophosphoric acid are preferable in terms of operability and versatility.

なお前記キレート化剤水溶液に用いるキレート化剤は、反応系内に共存させるキレート化剤と同じであっても、異なるものであってもよい。
酸性水溶液やキレート化剤水溶液で洗浄する条件は特に限定はされないが、洗浄時間は通常30分間以上、2時間以下であり、洗浄温度は通常10℃以上、30℃以下である。これらの処理を行なうことで金属が水に可溶化し、水相と共に除去される。
The chelating agent used in the aqueous chelating agent solution may be the same as or different from the chelating agent that coexists in the reaction system.
The conditions for washing with an aqueous acid solution or an aqueous chelating agent solution are not particularly limited, but the washing time is usually from 30 minutes to 2 hours, and the washing temperature is usually from 10 ° C. to 30 ° C. By performing these treatments, the metal is solubilized in water and removed together with the aqueous phase.

(精製)
上記の方法で得られたエポキシ化合物は、必要に応じてさらに精製することができる。特に本発明の製造方法において使用した触媒由来の金属、タングステン及びモリブデン化合物の少なくとも一方や、必要に応じ使用したオニウム塩は、通常、精製により除去する。具体的な精製方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を適宜使用することができる。エポキシ化合物が固体の場合は晶析、懸洗、分液、吸着、昇華等が挙げられ、エポキシ化合物が液体の場合は分液、洗浄、吸着、蒸留が挙げられる。
(Purification)
The epoxy compound obtained by the above method can be further purified as necessary. In particular, the catalyst-derived metal used in the production method of the present invention, at least one of tungsten and molybdenum compounds, and the onium salt used as necessary are usually removed by purification. A specific purification method is not particularly limited, and a known method can be appropriately used. When the epoxy compound is a solid, crystallization, hanging washing, liquid separation, adsorption, sublimation and the like can be mentioned, and when the epoxy compound is a liquid, liquid separation, washing, adsorption and distillation can be mentioned.

分液、洗浄による精製は、水と水に不溶または難溶な有機溶媒を組み合わせる場合と、お互いに混合しない複数の有機溶媒同士を組み合わせる場合がある。水と水に不溶または難溶な有機溶媒の組み合わせとしては、例えば酢酸エチル、トルエン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、n−へキサン等の有機溶媒と水の組み合わせが挙げられる。お互いに混合しない複数の有機溶媒同士の組合せとしては例えばN,N−ジメチルホルムアミドとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタン、ジイソプロピルエーテル、キシレンのうち少なくともひとつとの組合せ、ジメチルスルホキシドとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタン、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、キシレンのうち少なくともひとつとの組合せ、アセトニトリルとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタン、シクロへキサン、シクロペンタンのうち少なくともひとつとの組合せ、メタノールとn−ヘプタン、n−へキサン、n−ペンタンのうち少なくともひとつとの組合せがある。   Purification by separation and washing may be performed by combining water and an organic solvent that is insoluble or hardly soluble in water, or combining a plurality of organic solvents that are not mixed with each other. Examples of the combination of water and an organic solvent insoluble or hardly soluble in water include a combination of an organic solvent such as ethyl acetate, toluene, diethyl ether, diisopropyl ether, n-hexane, and water. Examples of combinations of a plurality of organic solvents that are not mixed with each other include, for example, a combination of N, N-dimethylformamide and n-heptane, n-hexane, n-pentane, diisopropyl ether, xylene, dimethyl sulfoxide and n -In combination with at least one of heptane, n-hexane, n-pentane, diisopropyl ether, diethyl ether, xylene, among acetonitrile and n-heptane, n-hexane, n-pentane, cyclohexane, cyclopentane There is a combination with at least one and a combination with at least one of methanol and n-heptane, n-hexane and n-pentane.

晶析による精製には、溶媒を減圧留去する、または留去することなしに冷却して晶析させる方法、化合物の溶解度の低い溶媒、いわゆる貧溶媒を加え析出する方法、化合物の溶解度の高い溶媒、いわゆる易溶媒と貧溶媒を組み合わせて析出する方法、反応終了後、水を加えて晶析させる方法等のいずれでも良い。溶媒としては有機溶媒、水、またはその混合物、有機溶媒同士を組み合わせる等、いずれでも良く、化合物の溶解度により適切なものを選択する。有機溶媒としては、酢酸エチル等のエステル類、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサンなど脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等の非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、2-プロパノール、n−ブタノール等のア
ルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
For purification by crystallization, the solvent is distilled off under reduced pressure, or it is cooled and crystallized without distilling off, a solvent having a low solubility of the compound, a method of adding a so-called poor solvent to precipitate, and a compound having a high solubility. Any of a method of precipitation by combining a solvent, a so-called easy solvent and a poor solvent, a method of crystallization by adding water after completion of the reaction, and the like may be used. The solvent may be an organic solvent, water, a mixture thereof, a combination of organic solvents, or the like, and an appropriate one is selected depending on the solubility of the compound. Examples of organic solvents include esters such as ethyl acetate, aliphatic hydrocarbons such as heptane, hexane, and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane, and the like. Aprotic solvents, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and n-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, aprotic such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and dimethyl sulfoxide A polar solvent.

懸洗による精製には、化合物の溶解度の低い溶媒、いわゆる貧溶媒を用いる。好ましい貧溶媒は化合物により異なるが、メタノールなどのアルコール類などの極性の高いものや、逆にプタン、ヘキサン、シクロヘキサンなど極性の低い脂肪族炭化水素が上げられる。水溶性の溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、N,N-ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキサイド等が挙げられ、これらは水と混合して用いることができる。溶媒量は少なすぎる場合は精製効果が十分ではなく、多すぎる場合には、回収率の低下につながる。懸洗終了後、固形物をろ過回収し、乾燥することによって目的物を得ることができる。
For purification by hanging washing, a solvent having a low compound solubility, a so-called poor solvent is used. Although a preferable poor solvent changes with compounds, highly polar things, such as alcohols, such as methanol, and low polarity aliphatic hydrocarbons, such as a pentane, hexane, and a cyclohexane, are raised conversely. Examples of the water-soluble solvent include tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like, and these can be used by mixing with water. When the amount of the solvent is too small, the purification effect is not sufficient, and when it is too large, the recovery rate is lowered. After completion of the hanging washing, the target product can be obtained by collecting the solid by filtration and drying.

吸着による精製は、活性炭、活性白土、モレキュラーシーブス、アルミナ、ゼオライト、イオン交換樹脂等が挙げられる。
上記精製法の中でも、操作法の点からは、エポキシ化合物の性状に関わらず分液法、吸着法が好ましい。エポキシ化合物が固体の場合は晶析法が有効である。
Examples of purification by adsorption include activated carbon, activated clay, molecular sieves, alumina, zeolite, and ion exchange resin.
Among the above purification methods, from the viewpoint of operation methods, a liquid separation method and an adsorption method are preferable regardless of the properties of the epoxy compound. When the epoxy compound is solid, the crystallization method is effective.

(エポキシ化合物)
本発明の製造方法により得られるエポキシ化合物は、上記のオレフィン化合物の炭素−炭素二重結合がエポキシ基に変換されたものが得られ、エポキシ化合物がエポキシモノマーの場合は、2つ以上の炭素−炭素二重結合がエポキシ化されたものが好ましい。 上記エポキシ化反応、前記触媒金属や、必要に応じ用いたオニウム塩等の分離・除去工程、必要に応じ精製工程を経て、エポキシ化合物を得る。
本発明の製造方法により得られたエポキシ化合物は、触媒金属由来の金属元素の含有量量は特に限定されるものではないが、通常200ppm以下、好ましくは100ppm以下に、より好ましくは10ppm以下に、更に好ましくは1ppm以下である。
(Epoxy compound)
The epoxy compound obtained by the production method of the present invention is obtained by converting the carbon-carbon double bond of the olefin compound to an epoxy group. When the epoxy compound is an epoxy monomer, two or more carbon- Those in which the carbon double bond is epoxidized are preferred. An epoxy compound is obtained through the above epoxidation reaction, separation / removal step of the catalyst metal and onium salt used if necessary, and purification step as necessary.
In the epoxy compound obtained by the production method of the present invention, the content of the metal element derived from the catalyst metal is not particularly limited, but is usually 200 ppm or less, preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, More preferably, it is 1 ppm or less.

同様に、本発明の製造方法により得られたエポキシ化合物は、オニウム塩由来の窒素含有量は通常500ppm以下、好ましくは200ppm以下、より好ましくは10ppm以下に、更に好ましくは1ppm以下である。
本発明の製造方法において、塩素化合物を用いない方法でオニウム塩を調製した場合、反応中に含塩素化合物が生成することがない。よって、塩素含有量の少ない反応原料を用い、この方法により得られたエポキシ化合物は、一般的にエピクロルヒドリンを用いて合成したエポキシ化合物に比べ、塩素含有量が少ないという特徴を有する。
Similarly, in the epoxy compound obtained by the production method of the present invention, the nitrogen content derived from the onium salt is usually 500 ppm or less, preferably 200 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and further preferably 1 ppm or less.
In the production method of the present invention, when an onium salt is prepared by a method that does not use a chlorine compound, a chlorine-containing compound is not produced during the reaction. Therefore, an epoxy compound obtained by this method using a reaction raw material having a low chlorine content generally has a characteristic that the chlorine content is lower than that of an epoxy compound synthesized using epichlorohydrin.

通常ハロゲン原子の含有量が少ないものとなり、その含有量は通常200ppm以下、好ましくは50ppm以下、より好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは1ppm以下である。
本発明の製造方法は、後述するエポキシ樹脂の他、エポキシ構造を有する医薬中間体や、農薬の原体の製造に用いることができる。例えば、ハロゲン置換スチレンオキサイド構造を有する抗真菌剤や糖尿病薬の中間体等の製造が上げられる。本発明の方法で得られたエポキシ化合物は、不純物が少ないため、不純物に由来する毒性の懸念が低減する。
Usually, the halogen atom content is low, and the content is usually 200 ppm or less, preferably 50 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and even more preferably 1 ppm or less.
The production method of the present invention can be used for the production of a pharmaceutical intermediate having an epoxy structure and a raw material for agricultural chemicals in addition to the epoxy resin described later. For example, production of an antifungal agent having a halogen-substituted styrene oxide structure, an intermediate of a diabetic drug, and the like can be raised. Since the epoxy compound obtained by the method of the present invention has few impurities, the concern about toxicity derived from the impurities is reduced.

(エポキシ樹脂)
本発明の製造方法によって得られたエポキシ化合物は、重合することによりエポキシ樹脂を製造することができる。重合反応は、公知の方法を適用することができ、具体的には特開2007−246819号公報等に記載の方法等により行なうことができる。
本発明で得られたエポキシ化合物を用いた高純度エポキシ樹脂は、電子材料、光学材料、接着剤、建築分野等で用いることができる。半導体封止材、プリント配線基板、ビルド
アップ配線板、ソルダーレジスト等の電子部品材料として用いた場合、不純物が原因で起きる配線の腐食や短絡の、照明の封止剤等の光学材料として用いた場合、着色や劣化の低減や回避が可能となる。
(Epoxy resin)
The epoxy compound obtained by the production method of the present invention can produce an epoxy resin by polymerization. A known method can be applied to the polymerization reaction. Specifically, the polymerization reaction can be performed by a method described in JP-A-2007-246819.
The high-purity epoxy resin using the epoxy compound obtained in the present invention can be used in electronic materials, optical materials, adhesives, construction fields and the like. Used as optical materials such as lighting sealants for wiring corrosion and short circuits caused by impurities when used as electronic component materials such as semiconductor encapsulants, printed wiring boards, build-up wiring boards, solder resists, etc. In this case, it is possible to reduce or avoid coloring and deterioration.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により何等限定されるものではない。
H−NMR分析条件>
装置 :BRUKER社製 AVANCE400, 400MHz
溶媒 :0.03体積%テトラメチルシラン含有重クロロホルム
実施例中のデータは、H−NMR(400MHz、CDCl)におけるδ値を表す。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited at all by the following examples.
<1 H-NMR analysis conditions>
Apparatus: AVANCE400, 400MHz made by BRUKER
Solvent: 0.03 vol% tetramethylsilane-containing deuterated chloroform Data in the examples represent δ values in 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ).

<LC分析条件>
LC装置:島津製作所製 SPD−10Avp
温度 :35℃
カラム :Mightysil RP−18GP aqua 150−4.6(5μ
m)(関東化学社製)
(以下、分析条件1とし、特に断りがない場合は本条件でLC分析をおこなった。)
検出器 :UV 280nm
溶離液 :アセトニトリル/0.1%トリフルオロ酢酸水溶液=90/10(体積%)
流量 :0.5ml/分
(以下、分析条件2とする。)
検出器 :UV 254nm
溶離液 :アセトニトリル/0.1体積%トリフルオロ酢酸水溶液60/40→20分
間で100/0(体積%)、その後100/0(体積%)で10分間保持
流量 :0.5ml/分
<LC analysis conditions>
LC device: SPD-10Avp manufactured by Shimadzu Corporation
Temperature: 35 ° C
Column: Mightysil RP-18GP aqua 150-4.6 (5μ
m) (manufactured by Kanto Chemical)
(Hereafter, it was set as analysis condition 1, and unless otherwise indicated, LC analysis was performed under this condition.)
Detector: UV 280nm
Eluent: acetonitrile / 0.1% trifluoroacetic acid aqueous solution = 90/10 (volume%)
Flow rate: 0.5 ml / min (hereinafter referred to as analysis condition 2)
Detector: UV 254nm
Eluent: acetonitrile / 0.1 volume% trifluoroacetic acid aqueous solution 60/40 → 20 minutes
Held at 100/0 (volume%) for 10 minutes and then at 100/0 (volume%) Flow rate: 0.5 ml / minute

なお以下の実施例において「LC面積」とは、液体クロマトグラフ(LC)分析で得られた分析対象化合物のピーク面積をいい、「LC面積%」とは、組成物全量のピーク面積に対する対象化合物のピーク面積の割合をいう。
また実施例における「収率」は、得られた化合物の重量に、純度として「LC面積%」を乗じたものを収量とみなして算出した。
In the following examples, “LC area” refers to the peak area of the analysis target compound obtained by liquid chromatography (LC) analysis, and “LC area%” refers to the target compound relative to the peak area of the total amount of the composition. The ratio of the peak area.
The “yield” in the examples was calculated by considering the weight of the compound obtained by multiplying the purity by “LC area%” as the yield.

<酸化還元滴定条件>
滴定装置:三菱化学社製
検出電極:白金(複合型)
滴定方法:水相を7質量%硫酸水で希釈後、過剰量の10質量%ヨウ化カリウム水溶液
を加え、遊離したヨウ素を0.1Nチオ硫酸ナトリウム水溶液で過酸化物を
還元滴定した。過酸化物の量は過酸化水素重量%換算で表した。
<Redox titration conditions>
Titration device: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation Detection electrode: platinum (composite type)
Titration method: After diluting the aqueous phase with 7% by mass sulfuric acid aqueous solution, an excess amount of 10% by mass potassium iodide aqueous solution
Add the free iodine to 0.1N sodium thiosulfate aqueous solution to form peroxide.
Reduced titration. The amount of peroxide was expressed in terms of hydrogen peroxide weight percent.

<ICP−MS分析条件>
前処理法:乾式灰化−酸溶解法
分析装置:Agilent Technologies社製 ICP質量分析装置
7500ce型
<ICP-MS analysis conditions>
Pretreatment method: dry ashing-acid dissolution method Analytical device: ICP mass spectrometer manufactured by Agilent Technologies
7500ce type

また以下の実施例において、エポキシ化反応中にエポキシ環が開環したジオール化合物、同じくエポキシ環が熱または酸によりアルデヒド異性化後、酸化されたカルボン酸等、エポキシ化合物より極性が高く、上記LC分析条件でエポキシ化合物より早い保持時間を与える化合物が副生した。これらの化合物を総称して、「極性化合物」と称することがあ
る。
In the following examples, a diol compound in which an epoxy ring was opened during an epoxidation reaction, and also an epoxy ring having higher polarity than an epoxy compound, such as an oxidized carboxylic acid after aldehyde isomerization with heat or acid, the LC A compound giving a faster retention time than the epoxy compound under the analysis conditions was by-produced. These compounds are sometimes collectively referred to as “polar compounds”.

以下の実施例において「転化率」とは、反応原料として用いたオレフィン化合物中に含まれる炭素−炭素二重結合のうち、エポキシ化された炭素−炭素二重結合の割合を百分率で示すものであり、具体的には、例えばオレフィン化合物1分子中のオレフィンの数を2である場合は、下記式で算出した値を表わす。
(転化率)=100−[原料LC面積%+(中間体LC面積%/2)](%)
In the following examples, “conversion rate” refers to the percentage of epoxidized carbon-carbon double bonds among the carbon-carbon double bonds contained in the olefin compound used as a reaction raw material. Yes, specifically, for example, when the number of olefins in one molecule of the olefin compound is 2, the value calculated by the following formula is represented.
(Conversion) = 100− [Raw material LC area% + (Intermediate LC area% / 2)] (%)

(合成例1)
(エポキシ化反応原料の合成)
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル(別名称:3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジアリルエーテル)は、特開2011−213716号公報の実施例2に準ずる方法で合成したものを用いた。この化合物中の約60元素の金属含有量を上記のICP−MS分析法で全定性・半定量測定を行った(検出下限:約1ppm)。反応装置から混入する懸念があり、ごく微量で過酸化水素を分解するクロム、コバルトに関しては、定量分析を行った(検出下限0.01ppm)。分析の結果、鉄2ppm、クロム0.02ppmを含んでいた。コバルトは検出限界以下であった。
(Synthesis Example 1)
(Synthesis of epoxidation reaction raw materials)
3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl (alternative name: 3,3 ′, 5,5′-tetra Methyl biphenol diallyl ether) synthesized by a method according to Example 2 of JP 2011-213716 A was used. The metal content of about 60 elements in this compound was subjected to total qualitative and semi-quantitative measurement by the above ICP-MS analysis method (detection lower limit: about 1 ppm). Quantitative analysis was performed on chromium and cobalt that decompose hydrogen peroxide in a very small amount due to the possibility of contamination from the reactor (detection lower limit 0.01 ppm). As a result of the analysis, 2 ppm of iron and 0.02 ppm of chromium were contained. Cobalt was below the detection limit.

上記で得られた3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビス(2−プロペン−1−イルオキシ)−1,1’−ビフェニル10.0gを、トルエン10mlに溶解した溶液を、無水硫酸ナトリウム1質量%および酢酸を1体積%含む水溶液30mlで洗浄した後、3質量%ピロリン酸ナトリウム水溶液0.26ml、10質量%エチレンジアミン四酢酸溶液0.12ml、水30mlの混合液で洗浄した。これを水30mlで洗浄した後、濃縮し、得られた粗結晶を反応に供した。以下、これを反応原料Aという。反応原料Aの純度は99.9%であった(LC面積%、上記分析条件1)。この化合物中の鉄およびクロムの含有量をICP−MSで定量分析したところ、鉄は0.3ppm、クロムは検出限界(0.01ppm)以下であった。   10.0 g of 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-bis (2-propen-1-yloxy) -1,1′-biphenyl obtained above was dissolved in 10 ml of toluene. The solution was washed with 30 ml of an aqueous solution containing 1% by weight of anhydrous sodium sulfate and 1% by volume of acetic acid, and then a mixed solution of 0.26 ml of 3% by weight sodium pyrophosphate aqueous solution, 0.12 ml of 10% by weight ethylenediaminetetraacetic acid solution and 30 ml of water. Washed with. This was washed with 30 ml of water and then concentrated, and the resulting crude crystals were subjected to the reaction. Hereinafter, this is referred to as reaction raw material A. The purity of the reaction raw material A was 99.9% (LC area%, the above analysis condition 1). When the contents of iron and chromium in this compound were quantitatively analyzed by ICP-MS, iron was 0.3 ppm and chromium was below the detection limit (0.01 ppm).

(合成例2)
2−[2−(3−クロロフェニル)−2−プロペン−1−イル]−2−エチル−1H−インデン−1,3(2H)−ジオンを、有機合成協会誌(2001)、59(9)、845−854記載に準ずる方法で合成した。以下、これを反応原料Bという。反応原料Bの純度は96.6%であった(LC面積%、上記分析条件2)。
(Synthesis Example 2)
2- [2- (3-Chlorophenyl) -2-propen-1-yl] -2-ethyl-1H-indene-1,3 (2H) -dione was synthesized from the Society of Organic Synthesis (2001), 59 (9). , 845-854. Hereinafter, this is referred to as reaction raw material B. The purity of the reaction raw material B was 96.6% (LC area%, the above analysis condition 2).

以下の実施例中の転化率とは、エポキシ化されたオレフィンのパーセンテージを示し、オレフィンを分子中に2個有する化合物の場合は、100−[原料LC面積%+(中間体LC面積%/2)](%)で算出した。原料とはオレフィン化合物の事を表し、中間体とはオレフィンのひとつがエポキシ化された化合物のことを表す。オレフィンを分子中に1個有する化合物の場合は、100−原料LC面積%(%)で算出した。   The conversion rate in the following examples indicates the percentage of epoxidized olefin, and in the case of a compound having two olefins in the molecule, 100- [raw material LC area% + (intermediate LC area% / 2) ]] (%). The raw material represents an olefin compound, and the intermediate represents a compound obtained by epoxidizing one of the olefins. In the case of a compound having one olefin in the molecule, it was calculated as 100-raw material LC area% (%).

また以下の実施例において「過酸化水素分解率」とは、反応液中に加えた過酸化水素のうち、分解により消費された過酸化水素の割合を表す。具体的には下記式で算出した値を表わす。
理論転化率とは、加えた過酸化水素がすべて反応した場合の転化率であり、転化率は、実際の反応の結果得られた転化率をいう。
(過酸化水素分解率)=[理論転化率(%)−転化率(%)]/理論転化率(%)
In the following examples, “hydrogen peroxide decomposition rate” represents the proportion of hydrogen peroxide consumed by decomposition in the hydrogen peroxide added to the reaction solution. Specifically, the value calculated by the following formula is represented.
The theoretical conversion rate is the conversion rate when all of the added hydrogen peroxide has reacted, and the conversion rate means the conversion rate obtained as a result of the actual reaction.
(Hydrogen peroxide decomposition rate) = [theoretical conversion rate (%) − conversion rate (%)] / theoretical conversion rate (%)

反応時の水相中の過酸化水素の量および濃度の近似値はLC分析にて上記転化率を求め、これにより反応で消費された過酸化水素のモル数を算出し、以下の方法で求めた。但し
、実際の過酸化水素の量や濃度は、過酸化水素が反応に消費される以外に、表1に示すように分解により消失している。そのため、実際の系内の過酸化水素量および濃度は近似値より低い値となる。
(水相中の過酸化水素のモル数の近似値)=(添加した過酸化水素のモル数)−(反応で消費された過酸化水素のモル数)
(水相中の過酸化水素の濃度の近似値)=(添加した過酸化水素のモル数)−(反応で消費された過酸化水素のモル数)×34/水相の量(ml)×100
The approximate value of the amount and concentration of hydrogen peroxide in the aqueous phase during the reaction is determined by the following method by calculating the above conversion rate by LC analysis, thereby calculating the number of moles of hydrogen peroxide consumed in the reaction. It was. However, the actual amount and concentration of hydrogen peroxide are lost by decomposition as shown in Table 1 in addition to the consumption of hydrogen peroxide in the reaction. Therefore, the actual amount and concentration of hydrogen peroxide in the system are lower than approximate values.
(Approximate number of moles of hydrogen peroxide in the aqueous phase) = (number of moles of hydrogen peroxide added)-(number of moles of hydrogen peroxide consumed in the reaction)
(Approximate value of the concentration of hydrogen peroxide in the aqueous phase) = (number of moles of hydrogen peroxide added) − (number of moles of hydrogen peroxide consumed in the reaction) × 34 / amount of water phase (ml) × 100

以下、実施例1及び2、比較例1及び2では、反応原料であるオレフィン化合物に対し、1.4倍モルの過酸化水素を分割添加し、反応により消費された過酸化水素の量と分解により消費された過酸化水素の量を算出した。
以下、実施例3、比較例3及び4では、水とトルエンの量が反応速度に与える影響を調べた。
以下、実施例4〜6では、反応の進行、すなわち過酸化水素の消費に合わせて過酸化水素を添加することにより、反応系内の過酸化水素の量および濃度を制御しながら反応を行った。実施例6では取得した化合物の含塩素量の測定を行った。
Hereinafter, in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, 1.4 times moles of hydrogen peroxide was dividedly added to the olefin compound as a reaction raw material, and the amount and decomposition of hydrogen peroxide consumed by the reaction. The amount of hydrogen peroxide consumed was calculated.
Hereinafter, in Example 3 and Comparative Examples 3 and 4, the influence of the amount of water and toluene on the reaction rate was examined.
Hereinafter, in Examples 4 to 6, the reaction was performed while controlling the amount and concentration of hydrogen peroxide in the reaction system by adding hydrogen peroxide in accordance with the progress of the reaction, that is, consumption of hydrogen peroxide. . In Example 6, the chlorine content of the obtained compound was measured.

(実施例1)
合成例1で得られた反応原料A2.0g(6.2mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬製)205mg(0.62mmol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液0.64ml(0.56mmol)、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩(東京化成製)145mg(0.31mmol)、トルエン2.0mlの混合液を調製した。これに水を3.3ml添加した。この混合液中に含まれる水の総量は4.0mlであった。
Example 1
Reaction raw material A2.0 g (6.2 mmol) obtained in Synthesis Example 1, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 205 mg (0.62 mmol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution A mixed solution of 0.64 ml (0.56 mmol), methyltrioctylammonium hydrogen sulfate (manufactured by Tokyo Chemical Industry) 145 mg (0.31 mmol), and toluene 2.0 ml was prepared. To this was added 3.3 ml of water. The total amount of water contained in this mixture was 4.0 ml.

窒素気流下、この混合液を65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.10ml(1.5mmol)を反応開始時、および反応開始30分後に添加し、更に反応開始から1時間後、2時間後に0.20ml(0.30mmol)を加えた後、64〜66℃にて計5時間反応させた。反応中、有機相を上記LC分析条件1にて1時間ごとに分析を行った。反応開始4時間後に反応の進行が停止し、反応開始5時間目の有機相の組成比はLC面積%で3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール ジグリシジルエーテル(以下、ジエポキシ体と略す)42.2%、4,4’−ジヒドロキシー3,3’ ,5
,5’−テトラメチルビフェニル モノアリルエーテル モノグリシジルエーテル(以下、モノエポキシ体と略す)40.3%、反応原料A10.9%、極性化合物6.1% であり、アリル基の転化率は69%であった。
反応後、水相を上記滴定条件により酸化還元滴定を行ったところ、過酸化物濃度は過酸化水素濃度換算で0.1質量%であった。
This mixture was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.10 ml (1.5 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction. After 2 hours later, 0.20 ml (0.30 mmol) was added, followed by reaction at 64-66 ° C. for a total of 5 hours. During the reaction, the organic phase was analyzed every hour under the above LC analysis condition 1. The reaction stopped 4 hours after the start of the reaction, and the composition ratio of the organic phase 5 hours after the start of the reaction was 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol diglycidyl ether in LC area%. (Hereinafter abbreviated as diepoxy) 42.2%, 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5
, 5′-tetramethylbiphenyl monoallyl ether monoglycidyl ether (hereinafter abbreviated as monoepoxy compound) 40.3%, reaction raw material A 10.9%, polar compound 6.1%, and conversion rate of allyl group is 69 %Met.
After the reaction, the aqueous phase was subjected to oxidation-reduction titration under the above titration conditions. The peroxide concentration was 0.1% by mass in terms of hydrogen peroxide concentration.

(比較例1)
上記実施例1と同様の方法で反応原料A、タングステン酸ナトリウム二水和物、8.5%(重量/体積)りん酸水溶液、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩およびトルエンの混合液を調整し、これにさらに水0.55mlを添加し、混合液中に含まれる水の総量を1.2mlとした。
(Comparative Example 1)
A mixture of reaction raw material A, sodium tungstate dihydrate, 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution, methyltrioctylammonium hydrogensulfate and toluene was prepared in the same manner as in Example 1 above. Further, 0.55 ml of water was added thereto, so that the total amount of water contained in the mixed solution was 1.2 ml.

実施例1と同様に反応を行ない、反応開始5時間目の有機相の組成比はLC面積%で、ジエポキシ体39.8%、モノエポキシ体43.6%、反応原料A13.2%、極性化合物3.2%であった。アリル基の転化率は65%であった。
反応後、水相を上記滴定条件により酸化還元滴定を行ったところ、過酸化水素濃度は過酸化水素濃度換算で0.1質量%であった。
The reaction was conducted in the same manner as in Example 1. The composition ratio of the organic phase at 5 hours after the start of the reaction was LC area%, diepoxy 39.8%, monoepoxy 43.6%, reaction raw material A 13.2%, polar The compound was 3.2%. The conversion rate of allyl group was 65%.
After the reaction, the aqueous phase was subjected to oxidation-reduction titration under the above titration conditions. The hydrogen peroxide concentration was 0.1% by mass in terms of hydrogen peroxide concentration.

(比較例2)
上記実施例1と同様の方法で反応原料A、タングステン酸ナトリウム二水和物、8.5%(重量/体積)りん酸水溶液、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩およびトルエンの混合液を調整し、0.01%(重量/体積)酢酸パラジウム水溶液を0.42mlと水0.13mlを添加し、混合溶液中に含まれる水の総量を1.2mlとした。
実施例1と同様の反応条件で反応を行い、反応開始4時間後に反応の進行が停止し、反応開始5時間目の有機相の組成比はLC面積%でジエポキシ体23.9%、モノエポキシ体46.8%、反応原料A27.2%、極性化合物2.0%であり、アリル基の転化率は49%であった。
(Comparative Example 2)
A mixture of reaction raw material A, sodium tungstate dihydrate, 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution, methyltrioctylammonium hydrogensulfate and toluene was prepared in the same manner as in Example 1 above. 0.42 ml of 0.01% (weight / volume) palladium acetate aqueous solution and 0.13 ml of water were added to make the total amount of water contained in the mixed solution 1.2 ml.
The reaction was carried out under the same reaction conditions as in Example 1. The reaction stopped after 4 hours from the start of the reaction, and the composition ratio of the organic phase at 5 hours after the start of the reaction was LC area%, 23.9% diepoxy, monoepoxy Body 46.8%, reaction raw material A 27.2%, polar compound 2.0%, allyl group conversion was 49%.

(実施例2)
上記実施例1と同様の方法で反応原料A、タングステン酸ナトリウム二水和物、8.5%(重量/体積)りん酸水溶液、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩およびトルエンの混合液を調整し、0.01%(重量/体積)酢酸パラジウム水溶液0.42mlと水2.9mlを加え、混合液中に含まれる水の総量を4.0mlとした。
実施例1と同様の反応条件で反応を行い、反応開始4時間後に反応の進行が停止し、5時間目の有機相の組成比はLC面積%でジエポキシ体34.2%、モノエポキシ体45.7%、反応原料A17.2%、極性化合物0.2%であり、アリル基の転化率は60%であった。
(Example 2)
A mixture of reaction raw material A, sodium tungstate dihydrate, 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution, methyltrioctylammonium hydrogensulfate and toluene was prepared in the same manner as in Example 1 above. 0.42 ml of 0.01% (weight / volume) palladium acetate aqueous solution and 2.9 ml of water were added to make the total amount of water contained in the mixed solution 4.0 ml.
The reaction was carried out under the same reaction conditions as in Example 1. The reaction stopped after 4 hours from the start of the reaction, and the composition ratio of the organic phase at the 5th hour was LC area%, diepoxy compound 34.2%, monoepoxy compound 45 0.7%, reaction raw material A 17.2%, polar compound 0.2%, and the conversion rate of allyl group was 60%.

(比較例3)
合成例1で得られた反応原料A5.0g(15.5mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)512mg(1.55mmol)、8.5%(重量/体積)りん酸水溶液1.6ml(1.40mmol)、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩(東京化成製)361mg(0.78mmol)、トルエン5mlの混合液を調製した。
(Comparative Example 3)
Reaction raw material A 5.0 g (15.5 mmol) obtained in Synthesis Example 1, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 512 mg (1.55 mmol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid A mixed solution of 1.6 ml (1.40 mmol) of an aqueous solution, 361 mg (0.78 mmol) of methyltrioctylammonium hydrogen sulfate (manufactured by Tokyo Chemical Industry) and 5 ml of toluene was prepared.

窒素気流下、この混合液を65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.26ml(3.64mmol)を反応開始時、および反応開始30分後に添加し、更に反応開始から1時間後、2時間後、3時間後、5時間後に0.20ml(7.28mmol)を加え、64〜66℃にて計9時間反応した。反応中、有機相を上記LC分析条件1にて1時間ごとに分析を行った。9時間目の有機相の組成比はLC面積%でジエポキシ体86.1%、モノエポキシ体5.4%、反応原料A0.1%、極性化合物8.0%であり、アリル基の転化率は97%であった。
反応中の過酸化水素の濃度を、上記の方法により求めたところ、最大値は19%と推定された。
The mixture was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.26 ml (3.64 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction. Thereafter, 0.20 ml (7.28 mmol) was added after 2 hours, 3 hours, and 5 hours, and reacted at 64-66 ° C for a total of 9 hours. During the reaction, the organic phase was analyzed every hour under the above LC analysis condition 1. The composition ratio of the organic phase at 9 hours was LC area%: diepoxy compound 86.1%, monoepoxy compound 5.4%, reaction raw material A 0.1%, polar compound 8.0%, allyl group conversion Was 97%.
When the concentration of hydrogen peroxide during the reaction was determined by the above method, the maximum value was estimated to be 19%.

(実施例3)
上記比較例3と同様の方法で、反応原料A、タングステン酸ナトリウム二水和物、8.5%(重量/体積)りん酸水溶液、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩およびトルエンの混合液を調製した。これに水8.4mlを加え、混合液中に含まれる水の総量を10mlとした。
上記比較例3と同様に過酸化水素水を添加して反応を行い、反応開始9時間目の有機相の組成比はLC面積%でジエポキシ体84.0%、モノエポキシ体2.9%、反応原料A0.1%、極性化合物12.7%であり、アリル基の転化率は99%であった。
反応中の過酸化水素の濃度を、上記の方法により求めたところ、最大値は4.5%と推定された。
Example 3
A mixture of reaction raw material A, sodium tungstate dihydrate, 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution, methyltrioctylammonium hydrogensulfate and toluene was prepared in the same manner as in Comparative Example 3 above. . 8.4 ml of water was added thereto, and the total amount of water contained in the mixed solution was made 10 ml.
In the same manner as in Comparative Example 3 above, the reaction was carried out by adding hydrogen peroxide water, and the composition ratio of the organic phase 9 hours after the start of the reaction was LC area% of 84.0% diepoxy compound, 2.9% monoepoxy compound, The reaction raw material A was 0.1%, the polar compound was 12.7%, and the conversion rate of the allyl group was 99%.
When the concentration of hydrogen peroxide during the reaction was determined by the above method, the maximum value was estimated to be 4.5%.

(比較例4)
上記比較例3と同様の方法で、反応原料A、タングステン酸ナトリウム二水和物、8.
5%(重量/体積)りん酸水溶液、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩およびトルエンの混合液を調製し、これにトルエン5mlを更に追加した。
上記実施例5と同様に過酸化水素水を添加して反応を行い、反応開始9時間目の有機相の組成比はLC面積%でジエポキシ体74.2%、モノエポキシ体20.7%、反応原料A1.4%、極性化合物3.1% であり、アリル基の転化率は88%であった。
反応中の過酸化水素の濃度を、上記の方法により求めたところ、最大値は19%と推定された。
(Comparative Example 4)
In the same manner as in Comparative Example 3, the reaction raw material A, sodium tungstate dihydrate, 8.
A mixture of 5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution, methyl trioctyl ammonium hydrogen sulfate and toluene was prepared, and 5 ml of toluene was further added thereto.
In the same manner as in Example 5 above, the reaction was carried out by adding aqueous hydrogen peroxide, and the composition ratio of the organic phase 9 hours after the start of the reaction was 74.2% diepoxy, 20.7% monoepoxy, LC area%, The reaction raw material A was 1.4%, the polar compound was 3.1%, and the conversion rate of the allyl group was 88%.
When the concentration of hydrogen peroxide during the reaction was determined by the above method, the maximum value was estimated to be 19%.

(実施例4)
合成例2で得られた反応原料B2.0g(6.2mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)203mg(0.62mol)、8.5%(重量/体積)りん酸水溶液0.63ml(0.55mmol),メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩(東京化成社製)361mg(0.31mmol),トルエン2.0mlの混合液に、窒素気流下、この混合液を65℃に加温し、42質量%過酸化水素0.10ml(1.4mmol)を反応開始時、および反応開始30分後、1時間後、2時間後、3時間後、8時間後に加えた後、64〜66℃にて計7時間反応した。反応中、有機相を上記LC分析条件1にて1時間ごとに分析を行った。9時間目の有機相の組成比はLC面積%で、2−[[2−(3−クロロフェニル)−2−オキシラニル]メチル]-2-エチル−1H−インデンー1,3(2H)−ジオン(以下、インダノファンと略す)96.4%、反応原料B2.2%であり、アリル基の転化率は98%であった。
反応中の水相の過酸化水素の量を上記計算で推定したところ、常時6.5mmol以下であり、これは仕込んだ反応原料Bのモル数の0.42倍であった。
(Example 4)
Reaction raw material B 2.0 g (6.2 mmol) obtained in Synthesis Example 2, sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 203 mg (0.62 mol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid An aqueous solution 0.63 ml (0.55 mmol), methyltrioctylammonium hydrogensulfate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 361 mg (0.31 mmol), and toluene 2.0 ml were mixed with this mixture at 65 ° C. under a nitrogen stream. After heating, 0.10 ml (1.4 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction, 30 minutes, 1 hour, 2 hours, 3 hours, and 8 hours after the start of the reaction. The reaction was carried out at ~ 66 ° C for a total of 7 hours. During the reaction, the organic phase was analyzed every hour under the above LC analysis condition 1. The composition ratio of the organic phase at 9 hours was LC area%, 2-[[2- (3-chlorophenyl) -2-oxiranyl] methyl] -2-ethyl-1H-indene-1,3 (2H) -dione ( (Hereinafter abbreviated as indanophan) 96.4%, reaction raw material B 2.2%, and the conversion rate of allyl group was 98%.
When the amount of hydrogen peroxide in the aqueous phase during the reaction was estimated by the above calculation, it was always 6.5 mmol or less, which was 0.42 times the number of moles of the reaction raw material B charged.

(合成例3)
(オニウム塩[1]の合成)
p−トルエンスルホン酸一水和物47.2g(0.25mol)、トルエン60mlをデーンスターク管付き200mlのナスフラスコに仕込み、ジャケット温度120℃で加熱し、水を共沸留去した。これに4−t−ブチル安息香酸44.2g(0.25mol)、N−ブチルジエタノールアミン20.0g(0.12mol)を加え、ジャケット温度135℃で10時間、生成する水を留去しながら反応した。更に、p−キシレン30mlを添加し、窒素を反応液面近くに毎分300mlでフィードしながら、ジャケット温度140℃で7時間、生成する水を留去しながら反応した。反応液の組成比はLC面積%(分析条件2)でN−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン81.7%、N−ブチル−N−エタノール−N−[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン9.8%、4−t−ブチル安息香酸6.0%の混合物であった。
(Synthesis Example 3)
(Synthesis of onium salt [1])
47.2 g (0.25 mol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 60 ml of toluene were charged into a 200 ml eggplant flask equipped with a Dane-Stark tube and heated at a jacket temperature of 120 ° C. to distill off water azeotropically. To this was added 44.2 g (0.25 mol) of 4-t-butylbenzoic acid and 20.0 g (0.12 mol) of N-butyldiethanolamine, and the reaction was carried out while distilling off the generated water at a jacket temperature of 135 ° C. for 10 hours. did. Furthermore, 30 ml of p-xylene was added, and the reaction was carried out while distilling off generated water at a jacket temperature of 140 ° C. for 7 hours while feeding nitrogen at a rate of 300 ml per minute near the reaction surface. The composition ratio of the reaction solution was LC area% (analysis condition 2), N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine 81.7%, N-butyl-N- It was a mixture of ethanol-N- [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine 9.8% and 4-t-butylbenzoic acid 6.0%.

反応終了後、トルエン200ml、飽和重曹水150mlを加えて中和後、水相を排出し、更に飽和重曹水100mlで洗浄した。得られた有機相を濃縮し、粗N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミン60.0gを得た。純度81%(LC分析条件2)、収率81%であった。
得られた粗N−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル]アミンを、カラムクロマトグラフィー(関東化学社製 シリカ60N 300g、展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製した。
After completion of the reaction, 200 ml of toluene and 150 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate were added for neutralization, the aqueous phase was discharged, and further washed with 100 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate. The obtained organic phase was concentrated to obtain 60.0 g of crude N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine. The purity was 81% (LC analysis condition 2), and the yield was 81%.
The obtained crude N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl] amine was subjected to column chromatography (300 g of silica 60N manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: hexane / ethyl acetate = Purified in 4/1).

得られた精製物5.13g(10.6mmol)にトルエン15mlを加え80℃に加温し、硫酸ジメチル0.61ml(6.4mmol)を添加し1.5時間反応後、更に硫酸ジメチル0.61ml(6.4mmol)を添加し1.5時間反応した。これにヘキサン30mlを添加し結晶化、これを濾取、乾燥しN−ブチル−N,N−ジ[2−(4−t−ブチルベンゾイルオキシ)エチル−N−メチルアンモニウムモノメチル硫酸塩(以下オ
ニウム塩[1]とする)の結晶を5.73g得た。純度92%(LC分析条件2)、メチル化工程収率82%であった。
To 5.13 g (10.6 mmol) of the obtained purified product, 15 ml of toluene was added and heated to 80 ° C., 0.61 ml (6.4 mmol) of dimethyl sulfate was added and reacted for 1.5 hours. 61 ml (6.4 mmol) was added and reacted for 1.5 hours. To this was added 30 ml of hexane for crystallization, and this was collected by filtration, dried, and N-butyl-N, N-di [2- (4-t-butylbenzoyloxy) ethyl-N-methylammonium monomethyl sulfate (hereinafter referred to as onium). 5.73 g of crystals of salt [1] were obtained. The purity was 92% (LC analysis condition 2) and the methylation step yield was 82%.

(実施例5)
特許2539648号記載に準ずる方法で合成した3,3’−ジアリルビフェニル−4,4’−ジグリシジルエーテル(別名称 3,3’−ジアリル−4,4’−ジグリシジルオキシ―1,1’-ビフェニル、以下これを反応原料Cする)0.50g(1.32mm
ol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)52mg(0.16mol)、8.5%(重量/体積)リン酸水溶液0.15ml(0.13mmol)、上記合成例3で得られたオニウム塩[1]48mg(0.079mmol)、トルエン2.0ml、及び水0.10mlの混合溶液を調製した。この混合溶液を、窒素気流下、65℃に加温し、42質量%過酸化水素水0.03ml(0.44mmol)を反応開始時、及び反応開始30分後に5分間で添加し、更に反応開始から45分後、1,5時間後、2時間後に各0.05ml(0.73mmol)を加え、63〜66℃にて計3時間反応した。混合溶液は二相系であり、その有機相の組成比は、LC面積%(分析条件1)で3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテルが79.3%、3−アリル−3’−グリシジルビフェノール ジグリシジルエーテルが8.4%、極性化合物8.9%であった。
(Example 5)
3,3′-diallylbiphenyl-4,4′-diglycidyl ether (also known as 3,3′-diallyl-4,4′-diglycidyloxy-1,1′-) synthesized by the method described in Japanese Patent No. 2539648 Biphenyl, hereinafter referred to as reaction raw material C) 0.50 g (1.32 mm)
ol), sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 52 mg (0.16 mol), 8.5% (weight / volume) phosphoric acid aqueous solution 0.15 ml (0.13 mmol), in Synthesis Example 3 above A mixed solution of 48 mg (0.079 mmol) of the obtained onium salt [1], 2.0 ml of toluene, and 0.10 ml of water was prepared. This mixed solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen stream, and 0.03 ml (0.44 mmol) of 42% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction and 30 minutes after the start of the reaction for 5 minutes to further react. After 45 minutes from the start, 0.05 ml (0.73 mmol) was added after 1.5 hours and 2 hours, respectively, and reacted at 63 to 66 ° C. for a total of 3 hours. The mixed solution is a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase is LC area% (analysis condition 1), 3,3′-diglycidylbiphenol diglycidyl ether is 79.3%, 3-allyl-3′- Glycidyl biphenol diglycidyl ether was 8.4% and polar compound was 8.9%.

反応終了後、トルエン5ml、水2mlを加えて分液後、分離した水相を排出し、有機相を5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液2mlで洗浄し、還元処理を行った。水相を排出後、メタノール2ml、炭酸カリウム90mgを加え、室温にて30分間処理し、更に水2mlを加えて無機塩を溶解し、水相を排出した。LC分析(条件2)で有機相中のオニウム塩[1]の消失を確認した。得られた有機相を濃縮し、3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテル(別名称 3,3’−ジグリシジル−4,4’−ジグリシジルオキシ―1,1’-ビフェニル)を白色固体として0.48g得た。純度83%(
LC分析条件2)、収率73%。
反応中の過酸化水素の濃度を、上記の方法により求めたところ、最大値は6.5%と推定された。過酸化水素量は、反応原料Cのオレフィンのモル数に対し最大時で0.27倍と推定された。
After completion of the reaction, 5 ml of toluene and 2 ml of water were added for liquid separation, and the separated aqueous phase was discharged. The organic phase was washed with 2 ml of 5% by mass aqueous sodium thiosulfate solution and subjected to reduction treatment. After discharging the aqueous phase, 2 ml of methanol and 90 mg of potassium carbonate were added, and the mixture was treated at room temperature for 30 minutes. Further, 2 ml of water was added to dissolve the inorganic salt, and the aqueous phase was discharged. The disappearance of the onium salt [1] in the organic phase was confirmed by LC analysis (Condition 2). The obtained organic phase was concentrated, and 3,3′-diglycidylbiphenol diglycidyl ether (also known as 3,3′-diglycidyl-4,4′-diglycidyloxy-1,1′-biphenyl) as a white solid 0.48 g was obtained. 83% purity (
LC analysis condition 2), 73% yield.
When the concentration of hydrogen peroxide during the reaction was determined by the above method, the maximum value was estimated to be 6.5%. The amount of hydrogen peroxide was estimated to be 0.27 times at the maximum with respect to the number of moles of olefin of the reaction raw material C.

(実施例6)
合成例1で得られた反応原料A4.0g(12.4mmol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(和光純薬社製)205mg(0.62mol)、85%リン酸水溶液0.102g(0.87mmol)、合成例3の方法で調製したオニウム塩[1]201mg(0.31mmol)、トルエン4ml及び水8mlの混合溶液を調製した。
窒素気流下、この混合溶液を72℃に加温し、35質量%過酸化水素水0.27ml(3.1mmol)を反応開始時、及び反応開始30分後、1時間後、1.5時間後、2時間後、2.5時間後、3時間後、4時間後、5時間後、6.5時間後、8時間後に5分間で分割添加しながら加え、内温71.5〜74℃にて計10時間反応した。混合溶液は二相系であり、その有機相の組成比は、LC面積%で3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジグリシジルエーテル(ジエポキシ体と略す)76.5%、モノエポキシ体
12.1%、極性化合物9.3%であった。
(Example 6)
4.0 g (12.4 mmol) of the reaction raw material A obtained in Synthesis Example 1, 205 mg (0.62 mol) of sodium tungstate dihydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.102 g (0.002 mol) of 85% aqueous phosphoric acid solution. 87 mmol), a mixed solution of 201 mg (0.31 mmol) of the onium salt [1] prepared by the method of Synthesis Example 3, 4 ml of toluene, and 8 ml of water was prepared.
This mixed solution was heated to 72 ° C. under a nitrogen stream, and 0.27 ml (3.1 mmol) of 35% by mass hydrogen peroxide was added at the start of the reaction, 30 minutes after the start of the reaction, 1 hour later, 1.5 hours later. Thereafter, 2 hours later, 2.5 hours later, 3 hours later, 4 hours later, 5 hours later, 6.5 hours later, 8 hours later while adding in 5 minutes, the inner temperature is 71.5 to 74 ° C. For a total of 10 hours. The mixed solution is a two-phase system, and the composition ratio of the organic phase is LC area% of 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether (abbreviated as diepoxy) 76.5%, monoepoxy The body was 12.1% and the polar compound was 9.3%.

同様の方法にて反応原料6.0gより調製した反応液を合わせ、水相を排出し、有機相にトルエン20ml、水10mlを加えて分液後水相を排出、有機相を5質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液10mlで洗浄し、還元処理を行った。得られた有機相にメタノール10ml、炭酸カリウム2.0gを加え、内温40℃にて2時間処理した。水10mlを加え洗浄後、1規定水酸化ナトリウム水溶液5mlを加え内温40℃にて1時間処理後、有
機相を10mlの水で洗浄した。LC分析(条件2)で有機相中のオニウム塩[1]の消
失を確認した後、得られた有機相を濃縮し、9.9gの3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール ジグリシジルエーテル(ジエポキシ体)の粗結晶を得た。純度79%(LC分析条件2)、収率71%。
The reaction liquid prepared from 6.0 g of the reaction raw materials was combined in the same manner, the aqueous phase was discharged, 20 ml of toluene and 10 ml of water were added to the organic phase, and after separation, the aqueous phase was discharged. It was washed with 10 ml of an aqueous sodium sulfate solution and subjected to a reduction treatment. To the obtained organic phase, 10 ml of methanol and 2.0 g of potassium carbonate were added and treated at an internal temperature of 40 ° C. for 2 hours. After adding 10 ml of water and washing, 5 ml of 1N aqueous sodium hydroxide solution was added and treated at an internal temperature of 40 ° C. for 1 hour, and then the organic phase was washed with 10 ml of water. After confirming disappearance of the onium salt [1] in the organic phase by LC analysis (condition 2), the obtained organic phase was concentrated and 9.9 g of 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4 4,4'-biphenol Diglycidyl ether (diepoxy compound) crude crystals were obtained. Purity 79% (LC analysis condition 2), yield 71%.

反応中の過酸化水素の濃度および量を、上記の方法により求めたところ、過酸化水素濃度の最大値は3.4%、過酸化水素量は、反応原料Aのオレフィンのモル数に対し最大0.36倍と推定された。
この粗結晶にトルエン10ml、メタノール50mlを加え溶解した後、これにメタノール20mlを加えて内温2℃まで冷却し、結晶を析出させた。これを濾取し、5.3gのジエポキシ体の結晶を得た。純度91.8%(LC分析条件2)、回収率80%。得られたジエポキシ体の塩素含有量は検出限界(10ppm)以下であった。
以下に比較のために、実施例1、実施例2、比較例1、比較例2、並びに実施例3、比較例3、および比較例4の結果を表1、2に記す。
The concentration and amount of hydrogen peroxide during the reaction were determined by the above method. The maximum value of the hydrogen peroxide concentration was 3.4%, and the hydrogen peroxide amount was the maximum with respect to the number of moles of olefin of the reaction raw material A. It was estimated to be 0.36 times.
To this crude crystal, 10 ml of toluene and 50 ml of methanol were added for dissolution, and then 20 ml of methanol was added thereto and cooled to an internal temperature of 2 ° C. to precipitate crystals. This was collected by filtration to obtain 5.3 g of diepoxy crystals. Purity 91.8% (LC analysis condition 2), recovery 80%. The chlorine content of the obtained diepoxy compound was below the detection limit (10 ppm).
For comparison, the results of Example 1, Example 2, Comparative Example 1, Comparative Example 2, Example 3, Comparative Example 3, and Comparative Example 4 are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0006609902
Figure 0006609902

過酸化水素は反応中に添加した量の約7%が分解するが(比較例1)、水を添加して水相中の過酸化水素の濃度を常に5.4質量%以下と薄くした場合、分解は約1%と著しく低減された(実施例1)。
パラジウムは過酸化水素の分解を促進し、添加した量の約30%が分解するが(比較例2)、水を添加して水相中の過酸化水素濃度を常に5.4質量%以下と薄くした場合、分解は14%まで低減された(実施例2)。
Hydrogen peroxide decomposes about 7% of the amount added during the reaction (Comparative Example 1), but when water is added and the concentration of hydrogen peroxide in the aqueous phase is constantly reduced to 5.4% by weight or less Degradation was significantly reduced to about 1% (Example 1).
Palladium promotes the decomposition of hydrogen peroxide, and about 30% of the amount added is decomposed (Comparative Example 2). However, the concentration of hydrogen peroxide in the aqueous phase is always 5.4% by mass or less by adding water. When thinned, the degradation was reduced to 14% (Example 2).

Figure 0006609902
Figure 0006609902

水の量は、反応速度に対する影響が少なく、反応経時変化はほぼ同様であった。(比較例3、実施例3)水の添加量が多い場合、系内の過酸化水素濃度を常に4.5質量%以下と低い状態に保つことができた。トルエン量が増えると反応速度が低下した。(比較例3、比較例4)   The amount of water had little influence on the reaction rate, and the change with time of the reaction was almost the same. (Comparative Example 3, Example 3) When the amount of water added was large, the concentration of hydrogen peroxide in the system could always be kept low at 4.5% by mass or less. As the amount of toluene increased, the reaction rate decreased. (Comparative Example 3, Comparative Example 4)

反応溶液が有機相と水相の二相系を形成する場合、反応に用いるオレフィン化合物やオニウム塩が脂溶性化合物の場合、これらは水相への分配が小さく、用いる溶媒の種類により程度は異なるが、主に有機相に存在する。下記実施例5〜7に示すように、反応速度は有機相中のオレフィン化合物の濃度とオニウム塩の濃度に影響を受けるが、過酸化水素の濃度の影響を受けない。そのため、水を添加しても反応速度は低下しないが、有機溶媒を多く用いると反応速度は低下する。また、生成するエポキシ化合物も脂溶性である場合は、酸性の水相中でエポキシ環が開環することが少なく、水の添加による収率低下の懸念が少ない。   When the reaction solution forms a two-phase system of an organic phase and an aqueous phase, when the olefin compound or onium salt used in the reaction is a fat-soluble compound, the distribution to the aqueous phase is small, and the degree varies depending on the type of solvent used Is mainly present in the organic phase. As shown in Examples 5 to 7 below, the reaction rate is affected by the concentration of the olefin compound and the onium salt in the organic phase, but not by the concentration of hydrogen peroxide. Therefore, the reaction rate does not decrease even when water is added, but the reaction rate decreases when more organic solvent is used. Moreover, when the epoxy compound to be produced is also fat-soluble, the epoxy ring is rarely opened in an acidic aqueous phase, and there is little concern about a decrease in yield due to the addition of water.

なお反応前後の化合物のNMRデータは以下の通りであった。
H−NMR(400MHz、CDCl)δ値
[3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル−4,4’−ジアリルエーテル]:
2.32(12H,s,−CH),4.34(4H,dt,J=1.5,5.1Hz,O−CH−),5.27(2H,ddd,J=2.3,2.8,10.6Hz,−CH=CH ),5.44(2H,ddd,J=1.5,3.3,17.2Hz,−CH=CH ),6.06−6.19(2H,m,−CH=CH),7.18(4H,s,−C(Me)−)
The NMR data of the compound before and after the reaction were as follows.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ value [3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl-4,4′-diallyl ether]:
2.32 (12H, s, -CH 3 ), 4.34 (4H, dt, J = 1.5,5.1Hz, O-CH 2 -), 5.27 (2H, ddd, J = 2. 3,2.8,10.6Hz, -CH = CH 2), 5.44 (2H, ddd, J = 1.5,3.3,17.2Hz, -CH = CH 2), 6.06- 6.19 (2H, m, - CH = CH 2), 7.18 (4H, s, -C 6 H 2 (Me) 2 -)

[3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジグリシジルエーテル]:
2.34(12H,s,−CH),2.75(2H,dd,J=2.8,4.9Hz,−O−CH−),2.90(2H,dd,J=4.3,4.9Hz,−O−CH−),3.36-3.41(2H,m,−CH−),3.73(2H,dd,J=5.8,1
1.0Hz,−O−CH−),4.07(2H,dd,J=3.3,11.0Hz,−O−CH−),7.18(4H,s,−C(Me)−)
[3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether]:
2.34 (12H, s, -CH 3 ), 2.75 (2H, dd, J = 2.8,4.9Hz, -O-CH 2 -), 2.90 (2H, dd, J = 4 .3, 4.9 Hz, —O—CH 2 —), 3.36-3.41 (2H, m, —CH—), 3.73 (2H, dd, J = 5.8, 1
1.0 Hz, -O-CH 2- ), 4.07 (2H, dd, J = 3.3, 11.0 Hz, -O-CH 2- ), 7.18 (4H, s, -C 6 H 2 (Me) 2 −)

[2− [2−(3−クロロフェニル)−2−プロペン−1−イル]−2−エチル−1
H−インデン−1,3(2H)−ジオン]:
0.66(3H、t、J=8.0Hz、−CH),1.92(4H,dd,J=0.8,12.0Hz,− −CH),3.03(2H,s,−CH−),7.66−7.71(1H,m,C=CH),6.58(1H,dd,J=2.0,2.0Hz,Ph),6.81(1H,dd,J=2.0,8.0Hz,Ph)7.06(1H,dd,J=8.0,8,0Hz,Ph),7.09(1H,ddd,J=0.8,0.8,7.8Hz,Ph)、7.67−7.74(4H,m,Indandion)
[2- [2- (3-Chlorophenyl) -2-propen-1-yl] -2-ethyl-1
H-indene-1,3 (2H) -dione]:
0.66 (3H, t, J = 8.0Hz, -CH 3), 1.92 (4H, dd, J = 0.8,12.0Hz, - C 2 H 2 -CH 3), 3.03 (2H, s, -CH 2 - ), 7.66-7.71 (1H, m, C = CH 2), 6.58 (1H, dd, J = 2.0,2.0Hz, Ph), 6.81 (1H, dd, J = 2.0, 8.0 Hz, Ph) 7.06 (1H, dd, J = 8.0, 8, 0 Hz, Ph), 7.09 (1H, ddd, J = 0.8, 0.8, 7.8 Hz, Ph), 7.67-7.74 (4H, m, Indition)

[インダノファン]:
0.63(3H、t、J=7.6Hz、−CH),1.92(4H,dd,J=7.3,14.6Hz,−C −CH),2.47(1H,d,J=5.2Hz,−CH−),2.58(1H,d,14.4Hz,O−CH−),2.76(1H,d,J=14.4Hz,O−CH−),2.83(1H,d,J=5.2Hz,−CH−),6.81(1H,dd,J=0.5,1.8Hz,Ph),6.96−7.01(1H,m,Ph),7.07−7.15(2H,m,Ph),7.72−7.84(3H,m,Indandion),7.90−7.94(1H,m,Indandion)
[Indanofan]:
0.63 (3H, t, J = 7.6Hz, -CH 3), 1.92 (4H, dd, J = 7.3,14.6Hz, -C 2 H 2 -CH 3), 2.47 (1H, d, J = 5.2Hz , -CH 2 -), 2.58 (1H, d, 14.4Hz, O-CH 2 -), 2.76 (1H, d, J = 14.4Hz, O-CH 2 -), 2.83 (1H, d, J = 5.2Hz, -CH 2 -), 6.81 (1H, dd, J = 0.5,1.8Hz, Ph), 6. 96-7.01 (1H, m, Ph), 7.07-7.15 (2H, m, Ph), 7.72-7.84 (3H, m, Ind.), 7.90-7.94. (1H, m, Indition)

[オニウム塩[1]]:
0.09(3H,t, J=7.3Hz,Me),1.30−1.33(2H,m,−CH−),1.32(18H,s,t−Bu),1.70−1.85(2H,m,−CH−), 3.45(3H,s,N−Me), 3.50−3.60(2H,m、N−CH−C)3.66(3H,s,MeSO),4.08−4.15(4H,m,O−CH−),4.82−4.89(4H,m,N−CH),7.41(4H,d,J
=8.6Hz,Ar),7.89(4H,d,J=8.6Hz,Ar)
[Onium salt [1]]:
0.09 (3H, t, J = 7.3Hz, Me), 1.30-1.33 (2H, m, -CH 2 -), 1.32 (18H, s, t-Bu), 1. 70-1.85 (2H, m, -CH 2 -), 3.45 (3H, s, N-Me), 3.50-3.60 (2H, m, N-CH 2 -C 3 H 7 ) 3.66 (3H, s, MeSO 2), 4.08-4.15 (4H, m, O-CH 2 -), 4.82-4.89 (4H, m, N-CH 2), 7.41 (4H, d, J
= 8.6 Hz, Ar), 7.89 (4H, d, J = 8.6 Hz, Ar)

[3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテル]:
2.58−2.64(2H、m、C−グリシジル末端)、2.77−2.82(2H+2H、m、C−グリシジル末端、O−グリシジル末端)、2.87−2.96(2H+2H、m、C−C −CH−、O−グリシジル末端)、2.97−3.06(2H、m、C−CH−C−)、3.25(2H、m、C−CH−C−)、3.39(2H、m、O−CH−C−)、3.95−4.05(2H、m、O−CH −CH)、4.27−4.34(2H、m、O−CH −CH)、6.88−6.92(2H、m、Ar)7.37−7.41(4H、m、Ar)
[3,3′-diglycidyl biphenol diglycidyl ether]:
2.58-2.64 (2H, m, C-glycidyl terminus), 2.77-2.82 (2H + 2H, m, C-glycidyl terminus, O-glycidyl terminus), 2.87-2.96 (2H + 2H) , m, C-C H 2 -CH-, O- glycidyl terminal), 2.97-3.06 (2H, m, C-CH 2 -C H -), 3.25 (2H, m, C- CH 2 -C H -), 3.39 (2H, m, O-CH 2 -C H -), 3.95-4.05 (2H, m, O- CH 2 -CH), 4.27- 4.34 (2H, m, O- CH 2 -CH), 6.88-6.92 (2H, m, Ar) 7.37-7.41 (4H, m, Ar)

エポキシ化合物1分子中のエポキシ基の数に対する前記エポキシ化合物の分子量(エポキシ化合物の分子量/エポキシ化合物1分子中のエポキシ基の個数)は以下の通りである。
3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール ジグリシジルエーテル:177
インダノファン:341
3,3’−ジグリシジルビフェノール ジグリシジルエーテル:105
The molecular weight of the epoxy compound relative to the number of epoxy groups in one molecule of epoxy compound (molecular weight of epoxy compound / number of epoxy groups in one molecule of epoxy compound) is as follows.
3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether: 177
Indanofan: 341
3,3′-diglycidyl biphenol diglycidyl ether: 105

本発明の製造方法によれば、タングステン化合物等の触媒金属とオニウム塩の存在下、過酸化水素を反応させるエポキシ化合物の製造方法において、過酸化水素の分解を抑制し、原料等から金属不純物等が混入した場合でも効率的、且つ安全に製造を行うことができる。   According to the production method of the present invention, in the production method of an epoxy compound in which hydrogen peroxide is reacted in the presence of a catalytic metal such as a tungsten compound and an onium salt, the decomposition of hydrogen peroxide is suppressed, and metal impurities, etc. Even in the case of mixing, it is possible to manufacture efficiently and safely.

Claims (6)

炭素−炭素二重結合を有する化合物に過酸化水素を反応させてエポキシ化反応によりエ
ポキシ化合物を製造する方法であって、
前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、下記一般式(1)〜(3)のいずれかで表さ
れる化合物であり、
一般式(1):
(R23n1−(A)−(OR)m1 ・・・(1)
(一般式(1)中、Aは、OR基、R23以外の置換基を有していてもよい、芳香族炭
化水素基、芳香族炭化水素基の少なくともその一部が還元された基、又は脂肪族炭化水素
基のいずれかを表す。Rは、アリル基、又はグリシジル基を表す。R23は、アリル基を
表す。m1は、1以上4以下の整数を表わし、n1は0以上の整数を表し、m1とn1の
合計は2以上である。)
一般式(2):
Figure 0006609902
(一般式(2)中、A、Aはそれぞれ独立に、OR基、X、R23以外の置換基を
有していてもよい、2価の芳香族炭化水素基、芳香族炭化水素基の少なくともその一部が
還元された基、又は脂肪族炭化水素基のいずれかを表す。Xは、直接結合又は置換基を
有していてもよい2価の連結基を表わす。ここで、Xを介して連結する隣接するA
、または、複数のAは、その置換基が更に連結しての環を形成していてもよい。
R、R23、n1は一般式(1)と同義である。
m2は1以上4以下の整数を表す。nは0または1以上5以下の整数を表す。)
一般式(3):
H−[(R23n1−(A(OR)m2)−X]−H ・・・(3)
(一般式(3)中、A、m2、n1は一般式(2)と同義であり、R、R23は一般式
(1)と同義である。
は、直接結合、置換基を有していてもよいアルキレン基または2つ以上のアルキレ
ン基を置換基として有するフェニレン基を表す。
iは2以上20以下の整数を表わす。)
前記エポキシ化反応を、オニウム塩の存在下、タングステン化合物及びモリブデン化合
物の少なくとも一方を含む水相と、炭素−炭素二重結合を有する化合物を含む有機相とか
らなる二相系溶液中で行い、前記過酸化水素の含有量を、前記炭素−炭素二重結合を有す
る化合物に含まれる二重結合の数に前記炭素−炭素二重結合を有する化合物のモル数を乗
じた値に対し、0.5倍モル以下とし、かつ、前記水相中の過酸化水素濃度が7質量%以
下になるように前記過酸化水素を前記二相系溶液に添加することを特徴とするエポキシ化
合物の製造方法。
A method for producing an epoxy compound by epoxidation reaction by reacting a compound having a carbon-carbon double bond with hydrogen peroxide,
The compound having a carbon-carbon double bond is a compound represented by any one of the following general formulas (1) to (3),
General formula (1):
(R 23 ) n1- (A 1 )-(OR) m1 (1)
(In General Formula (1), A 1 is an OR group, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent other than R 23 , and a group in which at least a part of the aromatic hydrocarbon group is reduced. Or an aliphatic hydrocarbon group, R represents an allyl group or a glycidyl group, R 23 represents an allyl group, m1 represents an integer of 1 or more and 4 or less, and n1 is 0 or more. The total of m1 and n1 is 2 or more.)
General formula (2):
Figure 0006609902
(In General Formula (2), A 2 and A 3 each independently have a substituent other than OR group, X 1 and R 23 , a divalent aromatic hydrocarbon group and aromatic carbonization. X 1 represents a divalent linking group which may have a direct bond or a substituent, and represents either a group in which at least a part of the hydrogen group is reduced or an aliphatic hydrocarbon group. Thus, adjacent A 2 and A 3 , or a plurality of A 3, which are connected via X 1 , may further form a ring in which the substituents are further connected.
R, R 23 , and n1 have the same meaning as in general formula (1).
m2 represents an integer of 1 or more and 4 or less. n represents 0 or an integer of 1 to 5. )
General formula (3):
H - [(R 23) n1 - (A 2 (OR) m2) -X 2] i -H ··· (3)
In (formula (3), A 2, m2 , n1 is the general formula (2) interchangeably, R, R 23 is as in formula (1) synonymous.
X 2 represents a direct bond, an alkylene group which may have a substituent, or a phenylene group having two or more alkylene groups as a substituent.
i represents an integer of 2 or more and 20 or less. )
The epoxidation reaction is performed in a two-phase system solution comprising an aqueous phase containing at least one of a tungsten compound and a molybdenum compound and an organic phase containing a compound having a carbon-carbon double bond in the presence of an onium salt. The hydrogen peroxide content has the carbon-carbon double bond
Multiply the number of double bonds in the compound by the number of moles of the compound having the carbon-carbon double bond
The hydrogen peroxide is added to the two-phase solution so that the hydrogen peroxide concentration in the water phase is 7% by mass or less with respect to the same value. A method for producing an epoxy compound.
前記水相の質量が、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物の質量の1.5倍以上であ
り、かつ前記有機相の質量が、前記炭素−炭素二重結合を有する化合物の質量の5倍以下
であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ化合物の製造方法。
The mass of the water phase is 1.5 times or more of the mass of the compound having a carbon-carbon double bond, and the mass of the organic phase is 5 of the mass of the compound having the carbon-carbon double bond. The method for producing an epoxy compound according to claim 1, wherein the production method is less than double.
炭素−炭素二重結合を有する化合物、タングステン及びモリブデン化合物の少なくとも
一方、及びオニウム塩を含む混合物に、過酸化水素を添加する前又は添加中に、前記炭素
−炭素二重結合を有する化合物の含有量に対し、質量比で0.1倍〜5倍の水を添加する
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエポキシ化合物の製造方法。
Inclusion of a compound having a carbon-carbon double bond before or during the addition of hydrogen peroxide to a mixture containing at least one of a compound having a carbon-carbon double bond, a tungsten and molybdenum compound, and an onium salt The method for producing an epoxy compound according to claim 1 or 2, wherein water is added in an amount of 0.1 to 5 times by mass with respect to the amount.
前記エポキシ化合物1分子中のエポキシ基の数に対する前記エポキシ化合物の分子量が
100以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のエポキシ化合物の製
造方法。
The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the molecular weight of the epoxy compound with respect to the number of epoxy groups in one molecule of the epoxy compound is 100 or more.
前記エポキシ化反応を50〜75℃で行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに
記載のエポキシ化合物の製造方法。
The said epoxidation reaction is performed at 50-75 degreeC, The manufacturing method of the epoxy compound in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.
前記炭素−炭素二重結合を有する化合物が、金属不純物を質量比で500ppm以下含
むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。
The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 5, wherein the compound having a carbon-carbon double bond contains a metal impurity in a mass ratio of 500 ppm or less.
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