JP6604565B2 - Resin composition for printed wiring board, prepreg, metal-clad laminate and printed wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板およびプリント配線板に関する。   The present invention relates to a resin composition for printed wiring boards, a prepreg, a metal-clad laminate, and a printed wiring board.

プリント配線板は、電子機器、通信機器、計算機など、各種の分野において広く使用されている。近年、特に携帯通信端末やノート型PC等の小型携帯機器では、情報処理量の増大に伴い、搭載される半導体デバイスの高集積化、多機能化、高性能化、薄型化・小型化が急速に進んでおり、このような機器に搭載される半導体パッケージ等の電子部品も薄型化・小型化が進んでいる。これに伴い、これら電子部品を実装するのに用いられるプリント配線板等の絶縁材料には、信号の伝送速度を高め、信号伝送時の損失を低減させるために、誘電率及び誘電正接が低いことが求められる。さらに、プリント配線板も配線パターンの微細化や多層化、薄型化、機械特性等の高性能化が要求されている。   Printed wiring boards are widely used in various fields such as electronic devices, communication devices, and computers. In recent years, especially in small portable devices such as portable communication terminals and notebook PCs, with the increase in the amount of information processing, the integration, multi-functionality, high performance, thinning and miniaturization of mounted semiconductor devices are rapidly increasing. Electronic components such as semiconductor packages mounted on such devices are also becoming thinner and smaller. Along with this, insulating materials such as printed wiring boards used to mount these electronic components have low dielectric constants and dielectric loss tangents in order to increase signal transmission speed and reduce loss during signal transmission. Is required. Furthermore, printed circuit boards are also required to have high performance such as miniaturization, multilayering, thinning, and mechanical properties of wiring patterns.

特許文献1には、ポリフェニレンエーテルの有する優れた誘電特性を維持したまま、優れたガラス転移温度(Tg)を実現するために、ポリフェニレンエーテルの水酸基の少なくとも一部をエポキシ化合物のエポキシ基で予め反応させた反応生成物と、シアネートエステル化合物と、有機金属塩とを含有する樹脂組成物の発明が記載されている。   In Patent Document 1, in order to achieve an excellent glass transition temperature (Tg) while maintaining the excellent dielectric properties of polyphenylene ether, at least a part of the hydroxyl groups of polyphenylene ether is reacted in advance with an epoxy group of an epoxy compound. The invention of the resin composition containing the made reaction product, the cyanate ester compound, and the organometallic salt is described.

一方、特許文献2には、ドリル加工性に優れ、良好な電気絶縁性及び低熱膨張性を実現することを目的として、熱硬化性樹脂と、シリカと、モリブデン化合物とを含み、シリカの含有量が20体積%以上60体積%以下である熱硬化性樹脂組成物の発明が記載されている。   On the other hand, Patent Document 2 includes a thermosetting resin, silica, and a molybdenum compound for the purpose of achieving excellent electrical workability and low thermal expansibility with excellent drill workability, and the content of silica. Describes an invention of a thermosetting resin composition in which is 20 vol% or more and 60 vol% or less.

特開2014−152283号公報JP 2014-152283 A 特開2012−023248号公報JP 2012-023248 A

ポリフェニレンエーテルの水酸基の少なくとも一部をエポキシ化合物のエポキシ基で予め反応させた反応生成物およびシアネートエステル化合物に、シリカおよびモリブデン化合物をさらに添加して得られた樹脂組成物では、その硬化物のガラス転移温度、誘電正接が大幅に低下することがあった。   In a resin composition obtained by further adding silica and a molybdenum compound to a reaction product obtained by reacting at least a part of the hydroxyl group of polyphenylene ether with an epoxy group of an epoxy compound and a cyanate ester compound, a glass of the cured product is obtained. The transition temperature and dielectric loss tangent may be significantly reduced.

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れ、かつ良好なドリル加工性および成形性を実現することができるプリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板およびプリント配線板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and has a stable and excellent glass transition temperature and dielectric properties, and a resin composition for a printed wiring board that can realize good drill processability and moldability, An object is to provide a prepreg, a metal-clad laminate, and a printed wiring board.

本願発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、次の知見を得た。すなわち、新品のシリカ粒子(乾燥状態のシリカ粒子)を用いた場合には、硬化物のガラス転移温度および誘電正接は優れる。一方で、シリカ粒子の保管状態によって、吸湿したシリカ粒子を用いた場合には、硬化物のガラス転移温度および誘電特性が経時的に低下する。かかる知見から、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive investigations to solve the above problems, the inventors of the present application have obtained the following knowledge. That is, when new silica particles (dried silica particles) are used, the glass transition temperature and dielectric loss tangent of the cured product are excellent. On the other hand, depending on the storage state of the silica particles, when the hygroscopic silica particles are used, the glass transition temperature and the dielectric properties of the cured product are deteriorated with time. From this knowledge, the present invention has been completed.

本発明に係るプリント配線板用樹脂組成物は、
(a)ポリフェニレンエーテルとエポキシ基を持つエポキシ化合物とを反応させることにより得られた予備反応物、及び
(b)シアネートエステル化合物を含む樹脂成分と、
(c)比表面積が0.1m/g以上15m/g以下の破砕シリカに表面処理が施された疎水性シリカ粒子、及び
(d)モリブデン化合物以外の材料からなる担体の表面に前記モリブデン化合物が担持又は被覆されたモリブデン化合物粒子を含む無機充填材と、を配合して得られ、
前記モリブデン化合物粒子(d)の含有量が、前記樹脂成分100質量部に対して、0.1質量部以上3.1質量部以下である。
また、前記プリント配線板用樹脂組成物において、前記モリブデン化合物が、モリブデン酸亜鉛、モリブデン酸カルシウム及びモリブデン酸マグネシウムからなる群から選ばれた1種以上のものであることが好ましい。
The resin composition for a printed wiring board according to the present invention is:
(A) a preliminary reaction product obtained by reacting a polyphenylene ether and an epoxy compound having an epoxy group, and (b) a resin component containing a cyanate ester compound;
(C) Hydrophobic silica particles obtained by subjecting crushed silica having a specific surface area of 0.1 m 2 / g to 15 m 2 / g and surface treatment, and (d) the molybdenum on the surface of a support made of a material other than a molybdenum compound. Obtained by blending an inorganic filler containing molybdenum compound particles on which a compound is supported or coated,
Content of the said molybdenum compound particle (d) is 0.1 to 3.1 mass parts with respect to 100 mass parts of said resin components.
In the printed wiring board resin composition, the molybdenum compound is preferably one or more selected from the group consisting of zinc molybdate, calcium molybdate, and magnesium molybdate.

また、前記プリント配線板用樹脂組成物において、前記モリブデン化合物以外の材料がタルクであることが好ましい。
In the printed wiring board resin composition, the material other than the molybdenum compound is preferably talc .

また、前記プリント配線板用樹脂組成物において、前記疎水性シリカ粒子の含有量が、前記樹脂成分100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下であることが好ましい。   In the printed wiring board resin composition, the content of the hydrophobic silica particles is preferably 10 parts by mass or more and 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component.

また、前記プリント配線板用樹脂組成物において、前記破砕シリカの含有量が、前記樹脂成分100質量部に対して10質量部以上150質量部以下であることが好ましい。 Further, in the printed wiring board resin composition, the content of the previous SL crushing silica is preferably 150 parts by weight or less than 10 parts by mass relative to the resin component 100 parts by mass.

本発明に係るプリプレグは、前記プリント配線板用樹脂組成物を基材に含浸し半硬化させることで得られる。   The prepreg according to the present invention can be obtained by impregnating a base material with the resin composition for printed wiring board and semi-curing it.

本発明に係る金属張積層板は、前記プリプレグに金属箔を重ね、加熱加圧成形して一体化することで得られる。   The metal-clad laminate according to the present invention can be obtained by superimposing a metal foil on the prepreg and then integrating them by heating and pressing.

本発明に係るプリント配線板は、前記金属張積層板の前記金属箔の一部を除去して導体パターンを形成することで得られる。   The printed wiring board according to the present invention is obtained by removing a part of the metal foil of the metal-clad laminate and forming a conductor pattern.

本発明によれば、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れ、かつ良好なドリル加工性および成形性を実現することができる。   According to the present invention, the glass transition temperature and the dielectric properties are stable and excellent, and good drillability and formability can be realized.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本実施形態に係るプリント配線板用樹脂組成物(以下、樹脂組成物)は、下記(a)および(b)を含む樹脂成分、下記(c)および(d)を含む無機充填材を配合して得られたものである。
(a)ポリフェニレンエーテルとエポキシ基を持つエポキシ化合物とを反応させることにより得られた予備反応物
(b)シアネートエステル化合物
(c)シリカ粒子に表面処理が施された疎水性シリカ粒子
(d)モリブデン化合物を少なくとも表層部分に有するモリブデン化合物粒子
すなわち、樹脂組成物は、はじめにエポキシ化合物を配合して、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物とを反応させることにより予備反応物(a)を形成した後、さらにシアネートエステル化合物(b)、疎水性シリカ粒子(c)およびモリブデン化合物粒子(d)を配合して得られる。このように、予め、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物を反応させて予備反応物(a)を形成しておくことにより、予備反応物を形成しないで得られた樹脂組成物よりも樹脂組成物の硬化物(以下、硬化物)のガラス転移温度を高くすることができる。さらに、硬化物は上記樹脂成分をベース樹脂とするので、誘電率や誘電正接等の誘電特性に優れる。
The resin composition for a printed wiring board according to the present embodiment (hereinafter referred to as a resin composition) comprises a resin component including the following (a) and (b), and an inorganic filler including the following (c) and (d). It was obtained.
(A) Prereacted product obtained by reacting polyphenylene ether with an epoxy compound having an epoxy group (b) Cyanate ester compound (c) Hydrophobic silica particles obtained by subjecting silica particles to surface treatment (d) Molybdenum Molybdenum compound particles having at least a surface layer of the compound, that is, the resin composition is prepared by first compounding an epoxy compound and reacting a polyphenylene ether and an epoxy compound to form a pre-reacted material (a), and further cyanate ester It is obtained by blending compound (b), hydrophobic silica particles (c) and molybdenum compound particles (d). Thus, the cured product of the resin composition rather than the resin composition obtained without forming the preliminary reaction product by previously reacting the polyphenylene ether and the epoxy compound to form the preliminary reaction product (a). The glass transition temperature of (hereinafter, cured product) can be increased. Furthermore, since the cured product uses the resin component as a base resin, it is excellent in dielectric characteristics such as dielectric constant and dielectric loss tangent.

樹脂組成物中に持込まれる水分量は、樹脂組成物の総質量に対して、好ましくは0.1%未満、より好ましくは0.07質量%以下である。樹脂組成物中に持込まれる水分量が上記範囲内であると、樹脂組成物のワニスゲルタイムが短くなりにくくなる。ワニスゲルタイムが短いと、樹脂組成物を硬化させる際、樹脂組成物に熱を十分にかけられず、硬化物中に揮発成分が多く残存する。そのため、硬化物のガラス転移温度が大きく低下するおそれがある。なお、シリカ粒子に表面処理が施されていない場合、樹脂組成物中に持込まれる水分量は、主に、表面処理が施されていないシリカ粒子が吸湿した水分に起因する。ここで、樹脂組成物中に持込まれる水分量とは、実施例に記載の方法と同様にして得られる値である。   The amount of moisture carried into the resin composition is preferably less than 0.1%, more preferably 0.07% by mass or less, based on the total mass of the resin composition. When the amount of moisture brought into the resin composition is within the above range, the varnish gel time of the resin composition is hardly shortened. If the varnish gel time is short, when the resin composition is cured, heat cannot be sufficiently applied to the resin composition, and many volatile components remain in the cured product. Therefore, there exists a possibility that the glass transition temperature of hardened | cured material may fall large. In addition, when the surface treatment is not performed on the silica particles, the amount of moisture brought into the resin composition is mainly caused by the moisture absorbed by the silica particles not subjected to the surface treatment. Here, the amount of moisture brought into the resin composition is a value obtained in the same manner as in the methods described in Examples.

樹脂組成物中に持込まれる水分量によって樹脂組成分のワニスゲルタイムが大幅に短くなるのは、予備反応物(a)、シアネートエステル化合物(b)、疎水性シリカ粒子(c)およびモリブデン化合物粒子(d)を含む樹脂組成物に特有である。これは、例えば、予備反応物(a)を用いずに、ポリフェニレンエーテル、エポキシ化合物、シアネートエステル化合物(b)、疎水性シリカ粒子(c)およびモリブデン化合物粒子(d)を重合させて得られる樹脂組成物には見られない。   The varnish gel time of the resin composition is greatly shortened by the amount of water brought into the resin composition because the pre-reacted product (a), the cyanate ester compound (b), the hydrophobic silica particles (c) and the molybdenum compound particles ( It is peculiar to the resin composition containing d). This is, for example, a resin obtained by polymerizing polyphenylene ether, epoxy compound, cyanate ester compound (b), hydrophobic silica particles (c) and molybdenum compound particles (d) without using the pre-reacted product (a). Not found in the composition.

樹脂組成物中に持込まれる水分量が多いとワニスゲルタイムが短くなるのは、シアネートエステル化合物(b)に起因するシアネートエステルの三量化反応が促進されるためと推測される。すなわち、樹脂組成物中に持込まれる水分量が多いと、シアネートエステル化合物(b)と水とが反応しやすくなり、カルバメートが生成しやすくなる。このカルバメート中の活性水素がモリブデン化合物とともに、シアネートエステル化合物(b)に起因するシアネートエステルの三量化反応を大きく促進させ、トリアジン環を生成する。このトリアジン環が硬化剤として機能し、樹脂組成物はゲル化しやすくなると推測される。   The reason why the varnish gel time is shortened when the amount of water brought into the resin composition is large is presumed to be because the trimerization reaction of the cyanate ester resulting from the cyanate ester compound (b) is promoted. That is, when the amount of moisture brought into the resin composition is large, the cyanate ester compound (b) and water are likely to react with each other, and carbamate is likely to be generated. The active hydrogen in the carbamate, together with the molybdenum compound, greatly promotes the trimerization reaction of the cyanate ester resulting from the cyanate ester compound (b), thereby generating a triazine ring. It is presumed that this triazine ring functions as a curing agent and the resin composition is easily gelled.

樹脂組成物のワニスゲルタイムは、120秒以上であり、好ましくは120〜240秒、より好ましくは150〜210秒である。ここで、ワニスゲルタイムとは、実施例に記載の方法と同様にして測定した値である。   The varnish gel time of the resin composition is 120 seconds or more, preferably 120 to 240 seconds, and more preferably 150 to 210 seconds. Here, the varnish gel time is a value measured in the same manner as described in the examples.

〔樹脂成分〕
樹脂成分は、予備反応物(a)、シアネートエステル化合物(b)が含まれる。
(Resin component)
The resin component includes a pre-reacted product (a) and a cyanate ester compound (b).

(予備反応物(a))
予備反応物(a)は、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ基を持つエポキシ化合物(a−2)とを反応させることにより得られたものである。
(Preliminary reaction product (a))
The preliminary reaction product (a) is obtained by reacting the polyphenylene ether (a-1) with the epoxy compound (a-2) having an epoxy group.

ポリフェニレンエーテル(a−1)は、1分子中に平均1.5〜2個の水酸基を有するのが好ましい。1分子中に平均1.5〜2個の水酸基を有するとは、1分子当たりの水酸基の平均個数(平均水酸基数)が1.5〜2個であることを意味する。平均水酸基数が1.5個以上であれば、エポキシ化合物(a−2)のエポキシ基と反応することによって3次元架橋されるため、硬化時の密着性を向上させることができる。また、平均水酸基数が2個以下であることによって、予備反応時にゲル化する恐れもなくなると考えられる。   The polyphenylene ether (a-1) preferably has an average of 1.5 to 2 hydroxyl groups in one molecule. Having an average of 1.5 to 2 hydroxyl groups in one molecule means that the average number of hydroxyl groups per molecule (average number of hydroxyl groups) is 1.5 to 2. If the average number of hydroxyl groups is 1.5 or more, the three-dimensional crosslinking is caused by reacting with the epoxy group of the epoxy compound (a-2), so that the adhesion at the time of curing can be improved. Further, when the average number of hydroxyl groups is 2 or less, it is considered that there is no possibility of gelation during the preliminary reaction.

ポリフェニレンエーテル(a−1)の平均水酸基数は、使用するポリフェニレンエーテルの製品の規格値からわかる。ポリフェニレンエーテル(a−1)の平均水酸基数は、例えば、ポリフェニレンエーテル1モル中に存在する全てのポリフェニレンエーテルの1分子あたりの水酸基の平均値等が挙げられる。   The average number of hydroxyl groups of polyphenylene ether (a-1) can be seen from the standard value of the polyphenylene ether product used. Examples of the average number of hydroxyl groups of polyphenylene ether (a-1) include the average value of hydroxyl groups per molecule of all the polyphenylene ethers present in 1 mol of polyphenylene ether.

ポリフェニレンエーテル(a−1)の数平均分子量(Mn)は、800以上2000以下であるのが好ましい。数平均分子量が800以上であれば、誘電特性、耐熱性、高ガラス転移温度を確保することができる。数平均分子量が2000以下であれば、低エポキシ基数エポキシ樹脂と反応させた予備反応物を含有させた場合でも、樹脂流れや相分離を起こしたり、成型性が悪くなったりすることを抑制することができる。   The number average molecular weight (Mn) of the polyphenylene ether (a-1) is preferably 800 or more and 2000 or less. When the number average molecular weight is 800 or more, dielectric properties, heat resistance, and a high glass transition temperature can be ensured. If the number average molecular weight is 2000 or less, even when a pre-reacted product reacted with a low epoxy group number epoxy resin is contained, it is possible to suppress resin flow and phase separation or deterioration of moldability. Can do.

数平均分子量が800以上2000以下のポリフェニレンエーテルは、例えば、重合反応により直接得られたものであってもよいし、数平均分子量が2000以上のポリフェニレンエーテルを、溶媒中でフェノール系化合物とラジカル開始剤との存在下で再分配反応させて得られたものであってもよい。   The polyphenylene ether having a number average molecular weight of 800 or more and 2000 or less, for example, may be obtained directly by a polymerization reaction, or a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 2000 or more is mixed with a phenolic compound and radical initiation in a solvent. It may be obtained by redistribution reaction in the presence of an agent.

ポリフェニレンエーテル(a−1)の数平均分子量(Mn)は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー等を用いて測定することができる。   The number average molecular weight (Mn) of the polyphenylene ether (a-1) can be measured using, for example, gel permeation chromatography.

ポリフェニレンエーテル(a−1)としては、例えば、2,6−ジメチルフェノールと2官能フェノール及び3官能フェノールの少なくともいずれか一方とからなるポリフェニレンエーテルやポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)等のポリフェニレンエーテルを主成分とするもの等が挙げられる。この中でも、2,6−ジメチルフェノールと2官能フェノール及び3官能フェノールの少なくともいずれか一方とからなるポリフェニレンエーテルが好ましい。また、2官能フェノールとしては、例えば、テトラメチルビスフェノールA等が挙げられる。   Examples of the polyphenylene ether (a-1) include polyphenylene ether and poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) composed of 2,6-dimethylphenol and at least one of bifunctional phenol and trifunctional phenol. Oxides) and the like containing polyphenylene ether as a main component. Among these, polyphenylene ether composed of 2,6-dimethylphenol and at least one of bifunctional phenol and trifunctional phenol is preferable. Examples of the bifunctional phenol include tetramethylbisphenol A.

エポキシ化合物(a−2)は、1分子中に平均2〜2.3個のエポキシ基を有するのが好ましい。平均エポキシ基数がこの範囲であれば、硬化物の耐熱性を維持したまま、ポリフェニレンエーテル(a−1)との予備反応物を良好に生成することができる。   The epoxy compound (a-2) preferably has an average of 2 to 2.3 epoxy groups in one molecule. When the average number of epoxy groups is within this range, a pre-reacted product with polyphenylene ether (a-1) can be favorably produced while maintaining the heat resistance of the cured product.

エポキシ化合物(a−2)としては、例えば、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、誘電特性を向上させる観点から、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が特に好ましく用いられる。また、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、及びビスフェノールF型エポキシ樹脂が、ポリフェニレンエーテルとの相溶性が良い点から好ましく用いられる。なお、樹脂組成物には、耐熱性の観点からハロゲン化エポキシ樹脂を含有しないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲であれば、必要に応じて配合してもよい。   Examples of the epoxy compound (a-2) include dicyclopentadiene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin. . These may be used alone or in combination of two or more. Among these, dicyclopentadiene type epoxy resins are particularly preferably used from the viewpoint of improving dielectric properties. Further, bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin are preferably used from the viewpoint of good compatibility with polyphenylene ether. In addition, although it is preferable not to contain a halogenated epoxy resin from a heat resistant viewpoint, you may mix | blend as needed if it is a range which does not impair the effect of this invention.

エポキシ化合物(a−2)の平均エポキシ基数は、使用するエポキシ樹脂の製品の規格値からわかる。エポキシ樹脂のエポキシ基数としては、具体的には、例えば、エポキシ樹脂1モル中に存在する全てのエポキシ樹脂の1分子あたりのエポキシ基の平均値等が挙げられる。   The average number of epoxy groups of the epoxy compound (a-2) can be seen from the standard value of the epoxy resin product used. Specific examples of the number of epoxy groups in the epoxy resin include an average value of epoxy groups per molecule of all epoxy resins present in 1 mol of the epoxy resin.

エポキシ化合物(a−2)は、トルエンに対する溶解度が25℃において10質量%以上であるのが好ましい。これにより、ポリフェニレンエーテル(a−1)の有する優れた誘電特性を阻害することなく、硬化物の耐熱性が充分に高められる。これは、ポリフェニレンエーテル(a−1)との相溶性が比較的高く、よって、ポリフェニレンエーテル(a−1)と均一に反応しやすいためであると考えられる。   The epoxy compound (a-2) preferably has a solubility in toluene of 10% by mass or more at 25 ° C. Thereby, the heat resistance of hardened | cured material is fully improved, without inhibiting the outstanding dielectric property which polyphenylene ether (a-1) has. This is considered to be because the compatibility with the polyphenylene ether (a-1) is relatively high and, therefore, it easily reacts uniformly with the polyphenylene ether (a-1).

予備反応物(a)は、例えば、以下のように反応させることによって得られる。まず、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)とが所定の比率となるように、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)とを、10〜60分間程度、固形分濃度50〜70%程度の有機溶媒中で攪拌して混合させる。そして、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)とを混合した後、80〜110℃で2〜12時間加熱させることによって、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)とを反応させる。これにより、予備反応物(a)が得られる。有機溶媒としては、ポリフェニレンエーテル(a−1)及びエポキシ化合物(a−2)等を溶解させ、これらの反応を阻害しないものであれば、特に限定されず、例えば、トルエン等が挙げられる。   The preliminary reaction product (a) can be obtained, for example, by reacting as follows. First, the polyphenylene ether (a-1) and the epoxy compound (a-2) are mixed for about 10 to 60 minutes so that the polyphenylene ether (a-1) and the epoxy compound (a-2) have a predetermined ratio. The mixture is stirred and mixed in an organic solvent having a solid content concentration of about 50 to 70%. And after mixing polyphenylene ether (a-1) and an epoxy compound (a-2), it is made to heat at 80-110 degreeC for 2 to 12 hours, and polyphenylene ether (a-1) and an epoxy compound (a- 2) is reacted. Thereby, a preliminary reaction product (a) is obtained. The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves polyphenylene ether (a-1), epoxy compound (a-2) and the like and does not inhibit these reactions, and examples thereof include toluene.

ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)との比率は、ポリフェニレンエーテル(a−1)の水酸基とエポキシ化合物(a−2)のエポキシ基とのモル比として、エポキシ基/水酸基が好ましくは3〜6であり、より好ましくは3.5〜5.5程度である。モル比が上記範囲にあれば、ポリフェニレンエーテル(a−1)の両端を効率よくキャッピングできる。さらに、予備反応物(a)の粘度が下がることによって、後述する樹脂ワニスやプリプレグの粘度を低下させることができ、製造性が向上すると考えられる。   The ratio of the polyphenylene ether (a-1) to the epoxy compound (a-2) is the molar ratio of the hydroxyl group of the polyphenylene ether (a-1) to the epoxy group of the epoxy compound (a-2). Is preferably 3 to 6, more preferably about 3.5 to 5.5. If the molar ratio is in the above range, both ends of the polyphenylene ether (a-1) can be efficiently capped. Furthermore, it is thought that the viscosity of the resin varnish and prepreg described later can be lowered and the manufacturability is improved by lowering the viscosity of the preliminary reaction product (a).

ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)とを反応させる際、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)との混合物に、触媒を混合してもよい。触媒としては、ポリフェニレンエーテル(a−1)の水酸基とエポキシ化合物(a−2)のエポキシ基との反応を促進することができるものであれば、特に制限されず、例えば、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、及びサリチル酸等の有機酸のZn、Cu、及びFe等の有機金属塩;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、トリエチルアミン、及びトリエタノールアミン等の3級アミン;2−エチル−4−イミダゾール(2E4MZ)、及び4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類;トリフェニルホスフィン(TPP)、トリブチルホスフィン、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等の有機ホスフィン類等が挙げられる。これらは、単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、イミダゾール類、特に2−エチル−4−イミダゾールが、反応時間を短くすることができ、さらに、エポキシ樹脂同士の重合(エポキシ樹脂の自重合)を抑制できる点から、特に好ましく用いられる。また、触媒の含有量は、ポリフェニレンエーテル(a−1)とエポキシ化合物(a−2)との合計100質量部に対して、好ましくは0.05〜1質量部である。触媒の含有量が上記範囲内であれば、ポリフェニレンエーテル(a−1)の水酸基とエポキシ化合物(a−2)のエポキシ基との反応に時間がかからず、また、反応の制御がしやすく、ゲル化しにくい。   When the polyphenylene ether (a-1) and the epoxy compound (a-2) are reacted, a catalyst may be mixed with the mixture of the polyphenylene ether (a-1) and the epoxy compound (a-2). The catalyst is not particularly limited as long as it can accelerate the reaction between the hydroxyl group of polyphenylene ether (a-1) and the epoxy group of epoxy compound (a-2). For example, octanoic acid, stearic acid , Organic metal salts such as Zn, Cu, and Fe of organic acids such as acetylacetonate, naphthenic acid, and salicylic acid; 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), triethylamine, and triethylamine Tertiary amines such as ethanolamine; imidazoles such as 2-ethyl-4-imidazole (2E4MZ) and 4-methylimidazole; organic phosphines such as triphenylphosphine (TPP), tributylphosphine, tetraphenylphosphonium and tetraphenylborate And the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, imidazoles, particularly 2-ethyl-4-imidazole, is particularly preferably used because it can shorten the reaction time and further suppress polymerization between epoxy resins (self-polymerization of epoxy resins). It is done. Moreover, the content of the catalyst is preferably 0.05 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass in total of the polyphenylene ether (a-1) and the epoxy compound (a-2). If the content of the catalyst is within the above range, the reaction between the hydroxyl group of the polyphenylene ether (a-1) and the epoxy group of the epoxy compound (a-2) does not take time, and the reaction is easily controlled. , Difficult to gel.

反応時の固形分濃度は、反応効率や粘度(製造性)を考慮すると、50〜70%程度であることが好ましい。   In consideration of reaction efficiency and viscosity (manufacturability), the solid content concentration during the reaction is preferably about 50 to 70%.

(シアネートエステル化合物(b))
シアネートエステル化合物(b)は、1分子当たりのシアネート基の平均個数(平均シアネート基数)が2個以上である化合物であるのが好ましい。これにより、硬化物の耐熱性を向上させることができる。ここで、平均シアネート基数とは、シアネート樹脂1モル中に存在する全てのシアネート樹脂の1分子あたりのシアネート基の平均値である。平均シアネート基数は、使用するシアネート樹脂の製品の規格値からわかる。
(Cyanate ester compound (b))
The cyanate ester compound (b) is preferably a compound having an average number of cyanate groups per molecule (average cyanate group number) of 2 or more. Thereby, the heat resistance of hardened | cured material can be improved. Here, the average number of cyanate groups is an average value of cyanate groups per molecule of all cyanate resins present in 1 mol of cyanate resin. The average number of cyanate groups can be determined from the standard value of the product of the cyanate resin used.

シアネートエステル化合物(b)としては、例えば、2,2−ビス(4−シアネートフェニル)プロパン(ビスフェノールA型シアネート樹脂)、ビス(3,5−ジメチル−4−シアネートフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアネートフェニル)エタン等またはこれらの誘導体等の芳香族系シアネートエステル化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the cyanate ester compound (b) include 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane (bisphenol A type cyanate resin), bis (3,5-dimethyl-4-cyanatephenyl) methane, 2,2- Examples thereof include aromatic cyanate ester compounds such as bis (4-cyanatephenyl) ethane and derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more.

樹脂組成物は、エポキシ化合物(e)をさらに含有するのが好ましい。エポキシ化合物(e)は、エポキシ化合物(a−2)と同様に、1分子中に平均2〜2.3個のエポキシ基を有するのが好ましい。エポキシ化合物(e)としては、例えば、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。この場合、エポキシ化合物(e)は、エポキシ化合物(a−2)と同じであっても、異なっていてもかまわない。誘電特性を向上させる観点から、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。そのほか、エポキシ化合物(e)としては、1分子中に平均2〜2.3個のエポキシ基を有するエポキシ化合物以外に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の多官能型(1分子中に平均2.3個より多くエポキシ基を有するもの)エポキシ化合物を用いることもできる。   The resin composition preferably further contains an epoxy compound (e). As with the epoxy compound (a-2), the epoxy compound (e) preferably has an average of 2 to 2.3 epoxy groups in one molecule. Examples of the epoxy compound (e) include dicyclopentadiene type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more. In this case, the epoxy compound (e) may be the same as or different from the epoxy compound (a-2). From the viewpoint of improving the dielectric properties, a dicyclopentadiene type epoxy resin is preferably used. In addition, as the epoxy compound (e), in addition to an epoxy compound having an average of 2 to 2.3 epoxy groups in one molecule, a polyfunctional type such as a cresol novolac type epoxy resin (an average of 2.3 in one molecule). Those having more than one epoxy group) Epoxy compounds can also be used.

エポキシ化合物(a−2)および/又はエポキシ化合物(e)としてジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を含む場合、エポキシ化合物(a−2)およびエポキシ化合物(e)の総質量に対して、ジシクロペンタジエン型のエポキシ化合物が50質量%以上となるように含有することが好ましい。これにより、誘電特性により優れた絶縁材料を得ることができる。   When a dicyclopentadiene type epoxy resin is included as the epoxy compound (a-2) and / or the epoxy compound (e), the dicyclopentadiene type is used with respect to the total mass of the epoxy compound (a-2) and the epoxy compound (e). It is preferable to contain so that the epoxy compound may be 50 mass% or more. Thereby, an insulating material having better dielectric properties can be obtained.

樹脂成分の配合割合は、例えば、ポリフェニレンエーテル(a−1)、エポキシ化合物(a−2)、シアネートエステル化合物(b)およびエポキシ化合物(e)を合わせて100質量部とした場合(前記エポキシ化合物(e)の配合が0の場合を含む)に、ポリフェニレンエーテル(a−1)を10〜40質量部、エポキシ化合物(a−2)とエポキシ化合物(e)を合わせて20〜60質量部(エポキシ化合物(e)の配合が0の場合、エポキシ化合物(a−2)を20〜60質量部)、シアネートエステル化合物(b)を20〜40質量部であるのが好ましい。これにより、優れた誘電特性、耐熱性および密着性(接着性)を両立させることができると考えられる。   The blending ratio of the resin component is, for example, 100 parts by mass of the polyphenylene ether (a-1), the epoxy compound (a-2), the cyanate ester compound (b) and the epoxy compound (e) (the epoxy compound) 10 to 40 parts by mass of the polyphenylene ether (a-1) and 20 to 60 parts by mass (including the epoxy compound (a-2) and the epoxy compound (e)). When the compounding of the epoxy compound (e) is 0, it is preferable that the epoxy compound (a-2) is 20 to 60 parts by mass) and the cyanate ester compound (b) is 20 to 40 parts by mass. Thereby, it is thought that the outstanding dielectric property, heat resistance, and adhesiveness (adhesiveness) can be made compatible.

樹脂組成物は、ハロゲン系難燃剤や非ハロゲン系難燃剤をさらに含有してもよい。これにより、難燃性を高めることができる。ハロゲン系難燃剤を使用する場合、難燃性を付与でき、かつ硬化物のガラス転移温度が低下しにくく、耐熱性の大幅な低下が起こりにくい。ハロゲン系難燃剤を使用すると、難燃性を付与しにくいジシクロペンタジエン型のエポキシ樹脂を使用した場合でも、容易に難燃性を付与することができる。   The resin composition may further contain a halogen flame retardant or a non-halogen flame retardant. Thereby, a flame retardance can be improved. When a halogen-based flame retardant is used, flame retardancy can be imparted, the glass transition temperature of the cured product is unlikely to decrease, and a significant decrease in heat resistance is unlikely to occur. When a halogen-based flame retardant is used, flame retardancy can be easily imparted even when a dicyclopentadiene type epoxy resin that is difficult to impart flame retardancy is used.

ハロゲン系難燃剤は、後述の樹脂ワニス中では溶解せず分散するものが好ましい。ハロゲン系難燃剤としては、例えば、融点が300℃以上のエチレンジペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモイミド、デカブロモジフェニルオキサイド、テトラデカブロモジフェノキシベンゼンなどが挙げられる。このようなハロゲン系難燃剤を使用することにより、高温時におけるハロゲンの脱離が抑制でき、耐熱性の低下を抑制できると考えられる。   The halogen-based flame retardant is preferably one that does not dissolve and disperses in the resin varnish described below. Examples of the halogen flame retardant include ethylene dipentabromobenzene, ethylene bistetrabromoimide, decabromodiphenyl oxide, tetradecabromodiphenoxybenzene having a melting point of 300 ° C. or higher. By using such a halogen-based flame retardant, it is considered that elimination of halogen at high temperatures can be suppressed, and a decrease in heat resistance can be suppressed.

ハロゲン系難燃剤の配合割合は、全量の樹脂成分中にハロゲン濃度が5〜30質量%程度になるような割合で含有させることが、難燃性や耐熱性の観点から好ましい。   The blending ratio of the halogen-based flame retardant is preferably from the viewpoint of flame retardancy and heat resistance so that the halogen concentration is contained in the resin component of the total amount at a ratio of about 5 to 30% by mass.

<無機充填材>
(疎水性シリカ粒子(c))
疎水性シリカ粒子(c)は、シリカ粒子に表面処理が施されたものである。これにより、シリカ粒子は高温または多湿環境下においても吸湿しにくくなる。そのため、長期間室温で放置(保管)された疎水性シリカ粒子を樹脂組成物の材料に用いても、樹脂組成物中に水分が持込まれにくくなり、乾燥状態のシリカ粒子と同等のワニスゲルタイムを維持することができる。その結果、シリカ粒子の保管状態によって、硬化物のガラス転移温度および誘電特性が経時的に低下しにくく、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れる。ここで、乾燥状態のシリカ粒子とは、カールフィッシャー法で測定した水分量が0.1%未満であるシリカ粒子をいう。
<Inorganic filler>
(Hydrophobic silica particles (c))
Hydrophobic silica particles (c) are obtained by subjecting silica particles to surface treatment. Thereby, silica particles become difficult to absorb moisture even in a high temperature or high humidity environment. Therefore, even if hydrophobic silica particles that are left (stored) at room temperature for a long time are used as the material of the resin composition, it is difficult for moisture to be brought into the resin composition, and the varnish gel time equivalent to that of the dried silica particles is obtained. Can be maintained. As a result, depending on the storage state of the silica particles, the glass transition temperature and dielectric properties of the cured product are unlikely to deteriorate with time, and the glass transition temperature and dielectric properties are stable and excellent. Here, the dry silica particles refer to silica particles having a water content measured by the Karl Fischer method of less than 0.1%.

疎水性シリカ粒子(c)に施す表面処理の処理剤としては、例えば、β−エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤や、シリコーンオイルなどの公知の処理剤を用いることができる。表面処理が施された疎水性シリカ粒子は市販品として入手可能であり、シベルコ・ジャパン(株)製の「Megasil 525RCS」等が挙げられる。   Examples of the surface treatment agent applied to the hydrophobic silica particles (c) include β-ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and hexamethyldisilane. Silane coupling agents such as silazane and dimethyldichlorosilane, and known processing agents such as silicone oil can be used. The surface-treated hydrophobic silica particles are available as a commercial product, and examples thereof include “Megasil 525RCS” manufactured by Sibelco Japan Co., Ltd.

疎水性シリカ粒子(c)を構成するシリカ粒子としては、例えば、球状シリカ、破砕シリカなどが挙げられる。なかでも、硬化物のドリル加工性をより向上させる点で、球状シリカ、または比表面積が0.1m/g以上15m/g以下の破砕シリカが好ましく、経済的な点で比表面積が0.1m/g以上15m/g以下の破砕シリカがより好ましい。なお、比表面積はBET法により測定することができる。 Examples of the silica particles constituting the hydrophobic silica particles (c) include spherical silica and crushed silica. Among these, spherical silica or crushed silica having a specific surface area of 0.1 m 2 / g or more and 15 m 2 / g or less is preferable from the viewpoint of further improving the drillability of the cured product, and the specific surface area is 0 from an economical point of view. .1m 2 / g or more 15 m 2 / g or less of the crushed silica is more preferable. The specific surface area can be measured by the BET method.

破砕シリカは、例えば溶融シリカの粉砕や鉱石として採掘された結晶質シリカを粉砕して得られたものである。破砕シリカの比表面積が0.1m/g以上であることで、樹脂組成物を用いて金属張積層板等の積層板を製造したとき、積層板のドリル加工性を良好なものとすることができる。すなわち、一般に破砕シリカを使用すると球状シリカを用いた場合に比べて積層板等にドリルにより穴あけをする際にドリル刃が摩耗しやすくなるなどドリル加工性が著しく低下すると従来から考えられているが、比表面積が0.1m/g以上の破砕シリカをモリブデン化合物粒子(d)と共に使用することで、ドリル刃の摩耗は大きく改善される。一方、破砕シリカは比表面積が15m/g以下であることで、樹脂組成物のワニスの増粘が抑制され、また加熱成形時の溶融粘度の増大も抑制され好適な範囲の樹脂流動性となって積層板を製造する際の成形性が良好なものとなる。これにより、プリプレグの製造が困難となったり、積層板の絶縁層にボイド(空洞)が残存したりすることが防止される。 The crushed silica is obtained, for example, by pulverizing fused silica or pulverizing crystalline silica mined as ore. When the specific surface area of the crushed silica is 0.1 m 2 / g or more, when a laminated board such as a metal-clad laminated board is manufactured using the resin composition, the drillability of the laminated board should be good. Can do. That is, it is conventionally considered that drilling workability is significantly reduced when crushed silica is used, compared to the case where spherical silica is used, such as drill blades are easily worn when drilling a laminated plate or the like. By using crushed silica having a specific surface area of 0.1 m 2 / g or more together with the molybdenum compound particles (d), the wear of the drill blade is greatly improved. On the other hand, the crushed silica has a specific surface area of 15 m 2 / g or less, so that the thickening of the varnish of the resin composition is suppressed, and the increase in the melt viscosity at the time of thermoforming is also suppressed. Thus, the moldability at the time of producing the laminate is improved. As a result, it is possible to prevent the prepreg from being difficult to manufacture and to prevent voids (cavities) from remaining in the insulating layer of the laminate.

疎水性シリカ粒子(c)の含有量は、樹脂成分100質量部に対して、好ましくは10質量部以上200質量部以下、より好ましくは10質量部以上150質量部以下、さらに好ましくは30質量部以上100質量部以下である。疎水性シリカ粒子(c)の含有量が上記範囲内であれば、硬化物の熱線膨張率を低減することができる。   The content of the hydrophobic silica particles (c) is preferably 10 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or more and 150 parts by mass or less, further preferably 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. The amount is 100 parts by mass or less. When the content of the hydrophobic silica particles (c) is within the above range, the thermal linear expansion coefficient of the cured product can be reduced.

疎水性シリカ粒子(c)を構成するシリカ粒子が破砕シリカである場合には、疎水性シリカ粒子(c)の含有量は、樹脂成分100質量部に対して、好ましくは10質量部以上150質量部以下、より好ましくは20質量部以上100質量部以下である。破砕シリカの含有量が上記範囲内であれば、破砕シリカが低熱線膨張率化に寄与する度合いが小さくなりすぎ、十分な低熱線膨張率化を図るためには球状シリカ等の他の無機充填材を多量に添加する必要性が生じ、破砕シリカを含有させる意義が実質的に失われない。ドリル加工性を十分改善するためにモリブデン化合物粒子(d)を多量に使用する必要性がなく、耐熱性を低下させる懸念がなく、ドリル加工性を十分に改善できる。   When the silica particles constituting the hydrophobic silica particles (c) are crushed silica, the content of the hydrophobic silica particles (c) is preferably 10 parts by mass or more and 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. Part or less, more preferably 20 parts by mass or more and 100 parts by mass or less. If the content of crushed silica is within the above range, the degree to which crushed silica contributes to lowering the thermal expansion coefficient becomes too small, and other inorganic fillings such as spherical silica are required to achieve a sufficiently low thermal linear expansion coefficient. There is a need to add a large amount of material, and the significance of including crushed silica is not substantially lost. There is no need to use a large amount of the molybdenum compound particles (d) in order to sufficiently improve the drill workability, and there is no fear of reducing the heat resistance, and the drill workability can be sufficiently improved.

破砕シリカの比表面積及び含有量は前記範囲内であればその組み合わせは限定されないが、特に破砕シリカの比表面積が9〜15m/gである場合は、破砕シリカの含有量は、樹脂成分100質量部に対して10〜100質量部であることが好ましい。すなわち、破砕シリカの比表面積が大きくなると成形時における樹脂組成物の溶融粘土を増大させる傾向があるため、破砕シリカの含有量を抑制することで樹脂組成物の流動性を確保し、良好な成形性が得られるからである。 The combination is not limited as long as the specific surface area and content of the crushed silica are within the above-mentioned range, but when the specific surface area of crushed silica is 9 to 15 m 2 / g, the content of the crushed silica is the resin component 100. It is preferable that it is 10-100 mass parts with respect to a mass part. That is, if the specific surface area of the crushed silica increases, the molten clay of the resin composition at the time of molding tends to increase. Therefore, by suppressing the content of crushed silica, the fluidity of the resin composition is ensured and good molding is achieved. It is because sex is obtained.

(モリブデン化合物粒子(d))
モリブデン化合物粒子(d)は、その表層部分にモリブデン化合物を少なくとも有する無機粒子である。モリブデン化合物粒子(d)を破砕シリカと共に用いると、モリブデン化合物が潤滑剤として機能することによって、破砕シリカによるドリルの摩耗が抑制され、ドリル加工性を向上させることができる。モリブデン化合物粒子(d)は、モリブデン化合物によって粒子全体が構成されたものであっても、他の材料からなる無機充填材を担体としてその表面にモリブデン化合物を担持又は被覆させた形態の粒子であってもよい。なお、モリブデン化合物粒子(d)の表層部分に存在するモリブデン化合物が、ドリルの摩耗の抑制に主として作用するものと考えられる。よって、少ないモリブデン化合物の量でドリル加工性の改善効果を得るために、後者のように、他の材料からなる無機充填材の表面にモリブデン化合物を有する粒子の形態で用いることが好ましい。また、一般にモリブデン化合物は比重がシリカ等の無機充填材と比べて大きく、樹脂成分との比重差が大きいものとなる。したがって、樹脂組成物中における分散性の観点からも、後者のように、他の材料からなる無機充填材の表面にモリブデン化合物を有する粒子の形態で用いることが好ましい。担体として用いる無機充填材としては、積層板の無機充填材として通常用いられる、タルク、水酸化アルミニウム、ベーマイト、水酸化マグネシウム、シリカ等を好適に用いることができる。担体の平均粒径は0.05μm以上であることが好ましい。このようなモリブデン化合物粒子は市販品として入手可能であり、シャーウィン・ウィリアムズ社製のケムカード等が挙げられる。
(Molybdenum compound particles (d))
The molybdenum compound particles (d) are inorganic particles having at least a molybdenum compound in the surface layer portion. When the molybdenum compound particles (d) are used together with crushed silica, the molybdenum compound functions as a lubricant, so that wear of the drill due to the crushed silica is suppressed and drill workability can be improved. The molybdenum compound particle (d) is a particle having a form in which a molybdenum compound is supported or coated on the surface of an inorganic filler made of another material as a carrier, even if the entire particle is composed of the molybdenum compound. May be. In addition, it is thought that the molybdenum compound which exists in the surface layer part of molybdenum compound particle | grains (d) acts mainly on suppression of wear of a drill. Therefore, in order to obtain the effect of improving the drilling workability with a small amount of the molybdenum compound, it is preferable to use in the form of particles having a molybdenum compound on the surface of an inorganic filler made of another material, as in the latter. In general, a molybdenum compound has a specific gravity larger than that of an inorganic filler such as silica and has a large specific gravity difference from a resin component. Therefore, also from the viewpoint of dispersibility in the resin composition, like the latter, it is preferable to use in the form of particles having a molybdenum compound on the surface of an inorganic filler made of another material. As the inorganic filler used as the carrier, talc, aluminum hydroxide, boehmite, magnesium hydroxide, silica, etc., which are usually used as inorganic fillers for laminates, can be suitably used. The average particle size of the carrier is preferably 0.05 μm or more. Such molybdenum compound particles are available as commercial products, such as Chem Card manufactured by Sherwin Williams.

モリブデン化合物粒子(d)を構成するモリブデン化合物としては、例えば、三酸化モリブデンなどのモリブデン酸化物;モリブデン酸亜鉛、モリブデン酸カルシウム、モリブデン酸マグネシウム、モリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸バリウム、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸アンモニウムなどのモリブデン酸化合物;ホウ化モリブデン、二ケイ化モリブデン、窒化モリブデン、炭化モリブデンなどのモリブデンの化合物が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。これらの中でも、化学安定性や耐湿性、絶縁性の観点から、モリブデン酸亜鉛(ZnMoO)、モリブデン酸カルシウム(CaMoO)及びモリブデン酸マグネシウム(MgMoO)からなる群より選ばれた1種以上のものが好ましい。これらのうちの1種のみを用いてもよいし、2種を組み合わせて用いてもよいし、3種すべてを用いてもよい。 Examples of the molybdenum compound constituting the molybdenum compound particles (d) include molybdenum oxides such as molybdenum trioxide; zinc molybdate, calcium molybdate, magnesium molybdate, ammonium molybdate, barium molybdate, sodium molybdate, molybdenum. Molybdate compounds such as potassium acid, phosphomolybdic acid, and ammonium phosphomolybdate; and molybdenum compounds such as molybdenum boride, molybdenum disilicide, molybdenum nitride, and molybdenum carbide. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, one or more selected from the group consisting of zinc molybdate (ZnMoO 4 ), calcium molybdate (CaMoO 4 ), and magnesium molybdate (MgMoO 4 ) from the viewpoints of chemical stability, moisture resistance, and insulation. Are preferred. Only one of these may be used, two may be used in combination, or all three may be used.

モリブデン化合物粒子(d)の含有量は、樹脂成分100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上10質量部以下、より好ましくは0.1質量部以上7質量部以下、さらに好ましくは0.1質量部以上5質量部以下である。モリブデン化合物粒子(d)の含有量が上記範囲内であれば、潤滑剤として十分に機能し、積層板のドリル加工性を向上させることができる。さらに、積層板の耐熱性や銅箔ピール強度への影響を抑制することができる。また、モリブデン化合物は吸油性が低いため、成形時等における樹脂流動性に実用上の悪影響を及ぼさない。   The content of the molybdenum compound particles (d) is preferably 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, more preferably 0.1 parts by mass or more and 7 parts by mass or less, further preferably 100 parts by mass of the resin component. It is 0.1 mass part or more and 5 mass parts or less. If the content of the molybdenum compound particles (d) is within the above range, it can sufficiently function as a lubricant and improve the drillability of the laminate. Furthermore, the influence on the heat resistance of a laminated board and copper foil peel strength can be suppressed. Further, since the molybdenum compound has low oil absorption, it does not have a practical adverse effect on the resin fluidity during molding or the like.

モリブデン化合物粒子(d)中にはモリブデン化合物は含まれる。モリブデン化合物の物質としての樹脂組成物中における総含有量は、樹脂成分100質量部に対して0.05〜5質量部の範囲内であることが好ましい。樹脂組成物中におけるモリブデン化合物の含有量が上記範囲内であれば、十分なドリル加工性の改善効果が得られる。さらに、積層板の耐熱性を維持できる。   The molybdenum compound particles (d) contain a molybdenum compound. The total content of the molybdenum compound in the resin composition is preferably in the range of 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. If the content of the molybdenum compound in the resin composition is within the above range, a sufficient effect of improving drillability can be obtained. Furthermore, the heat resistance of the laminate can be maintained.

樹脂組成物は、触媒をさらに含有してもよい。これにより、予備反応物(a)とシアネートエステル化合物(b)との硬化反応(架橋反応)を促進させることができる。すなわち、触媒は硬化促進剤として作用する。そのため、硬化物の高いガラス転移温度や耐熱性、密着性を確保することができる。   The resin composition may further contain a catalyst. Thereby, the curing reaction (crosslinking reaction) between the preliminary reaction product (a) and the cyanate ester compound (b) can be promoted. That is, the catalyst acts as a curing accelerator. Therefore, the high glass transition temperature, heat resistance, and adhesion of the cured product can be ensured.

触媒としては、例えば、一般的に金属石鹸と呼ばれるものを用いることができ、例えば、オクチル酸、ナフテン酸、ステアリン酸、ラウリン酸及びリシノール酸、アセチルアセテート等の有機酸と、亜鉛、銅、コバルト、リチウム、マグネシウム、カルシウム及びバリウム等の金属とからなる有機金属塩等が挙げられる。中でも、ナフテン酸銅は、シアネートエステルの三量化反応の活性が低いため、ワニスやプリプレグのポットライフが比較的良い(しかも、耐熱性は維持しつつ)ため好ましく使用できる。触媒は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the catalyst, for example, what is generally called a metal soap can be used, for example, an organic acid such as octylic acid, naphthenic acid, stearic acid, lauric acid and ricinoleic acid, acetyl acetate, zinc, copper, cobalt, etc. And organic metal salts composed of metals such as lithium, magnesium, calcium and barium. Among these, copper naphthenate is preferably used because it has a low cyanate ester trimerization activity and has a relatively good pot life of varnish and prepreg (while maintaining heat resistance). A catalyst may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.

触媒の配合量は、予備反応物(a)とシアネートエステル化合物(b)との合計量100質量部に対して、好ましくは0.001〜1質量部である。触媒の配合量が前記範囲内であれば、硬化促進効果を高めて、硬化物の高い耐熱性やガラス転移温度を確保することができ、さらに成型性に問題のないプリプレグが作製しやすくなる。   The blending amount of the catalyst is preferably 0.001 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the preliminary reaction product (a) and the cyanate ester compound (b). If the blending amount of the catalyst is within the above range, the curing accelerating effect can be enhanced, the high heat resistance and glass transition temperature of the cured product can be secured, and a prepreg having no problem in moldability can be easily produced.

無機充填材は、疎水性シリカ粒子(c)及びモリブデン化合物粒子(d)以外に、これらとは異なる他の充填材を含んでいてもよい。すなわち、他の充填材の添加により、疎水性シリカ粒子(c)による低熱線膨張率化効果に加えて、更なる低熱線膨張率化を図ることが可能であり、また疎水性シリカ粒子(c)のみでは十分に得られない難燃性や熱伝導性等の特性を付与することが可能である。他の充填材としては、目的に応じて適宜公知の充填材から選択可能であって制限されるものではないが、ドリル加工性を低下させにくい比較的硬度の低いものが好ましく、具体的には、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、タルク、クレー、マイカ等が挙げられる。   The inorganic filler may contain other fillers different from these in addition to the hydrophobic silica particles (c) and the molybdenum compound particles (d). That is, by adding other fillers, in addition to the effect of reducing the thermal expansion coefficient by the hydrophobic silica particles (c), it is possible to further reduce the thermal expansion coefficient, and the hydrophobic silica particles (c ) Alone, it is possible to impart properties such as flame retardancy and thermal conductivity that cannot be sufficiently obtained. Other fillers can be appropriately selected from known fillers according to the purpose and are not limited, but those having relatively low hardness that are difficult to reduce drill workability are preferred, specifically , Aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum silicate, magnesium silicate, talc, clay, mica and the like.

樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、例えば熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、染料や顔料、滑剤等の添加剤をさらに配合してもよい。   The resin composition may further contain, for example, additives such as a heat stabilizer, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, and a lubricant as long as the effects of the present invention are not impaired. .

樹脂組成物は、前述した各種成分の所定量を溶媒中で混合することでワニス状(樹脂ワニス)に調製して用いることができる。溶媒としては、予備反応物(a)、及びシアネートエステル化合物(b)、エポキシ化合物(e)等の樹脂成分を溶解可能であり、硬化反応を阻害しないものであれば、特に限定されず、例えば、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の有機溶媒が挙げられる。   The resin composition can be prepared and used in a varnish (resin varnish) by mixing predetermined amounts of the various components described above in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the resin components such as the preliminary reaction product (a), the cyanate ester compound (b), and the epoxy compound (e) and does not inhibit the curing reaction. Organic solvents such as toluene, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and propylene glycol monomethyl ether acetate.

この樹脂ワニスを調製するにあたっては、固形成分の溶解/分散を促進させる等の目的で、必要に応じて、樹脂成分が硬化反応を起こさない温度範囲で加熱してもよい。さらに、必要に応じて無機充填材やハロゲン系難燃剤を添加した場合、ボールミル、ビーズミル、プラネタリーミキサー、ロールミル等を用いて、良好な分散状態になるまでワニスを攪拌してもよい。   In preparing this resin varnish, for the purpose of promoting dissolution / dispersion of the solid component, the resin component may be heated in a temperature range where the resin component does not cause a curing reaction, if necessary. Furthermore, when an inorganic filler or a halogen-based flame retardant is added as necessary, the varnish may be agitated using a ball mill, a bead mill, a planetary mixer, a roll mill, or the like until a good dispersion state is obtained.

本発明の実施の形態に係るプリプレグについて説明する。プリプレグは、上記のようにして得られた樹脂ワニスをガラスクロス等の基材に含浸し、これを110〜140℃で加熱乾燥し、樹脂ワニス中の溶媒を除去して、樹脂組成物を半硬化させることによって製造することができる。このとき、プリプレグのレジンコンテント(樹脂組成物の含有量)は、プリプレグ全量に対して30〜80質量%の範囲で調製するとよい。   A prepreg according to an embodiment of the present invention will be described. The prepreg impregnates the resin varnish obtained as described above into a base material such as glass cloth, and heat-drys it at 110 to 140 ° C., removes the solvent in the resin varnish, and removes the resin composition by half. It can be manufactured by curing. At this time, the resin content (content of the resin composition) of the prepreg is preferably adjusted in a range of 30 to 80% by mass with respect to the total amount of the prepreg.

本発明の実施の形態に係る金属張積層板について説明する。金属張積層板は、上記のようにして得られたプリプレグに銅箔等の金属箔を重ねて加熱加圧成形することによって製造することができる。例えば、1枚のプリプレグ又は複数枚重ねたプリプレグの片面又は両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、銅張積層板等の金属張積層板を製造することができる。金属張積層板においてプリプレグの硬化物は絶縁層を形成する。加熱加圧の条件は、例えば、140〜200℃、0.5〜5.0MPa、40〜240分間である。   A metal-clad laminate according to an embodiment of the present invention will be described. The metal-clad laminate can be produced by stacking a metal foil such as a copper foil on the prepreg obtained as described above and then heating and pressing. For example, a metal-clad laminate such as a copper-clad laminate is manufactured by laminating a metal foil such as copper foil on one or both sides of one prepreg or a plurality of prepregs, and laminating them by heating and pressing. can do. In the metal-clad laminate, the cured prepreg forms an insulating layer. The conditions of heating and pressing are, for example, 140 to 200 ° C., 0.5 to 5.0 MPa, and 40 to 240 minutes.

本発明の実施の形態に係るプリント配線板について説明する。プリント配線板は、サブトラクティブ法等を使用して、上記のようにして得られた金属張積層板の金属箔の一部をエッチングにより除去して導体パターンを形成することによって製造することができる。この場合、導体パターンが形成される異なる層間を接続するためのスルーホール又はブラインドバイアホールを形成するためにドリル加工により穴あけを行う。このとき穴があけられる絶縁層は、プリプレグ(樹脂組成物)の硬化物であるため、ドリル加工性が良好であり、ドリルの摩耗を抑制することができる。しかも金属張積層板及びこれを加工して得られるプリント配線板は、プリプレグの硬化物で絶縁層が形成されているので、成形性が良好でカスレが生じにくく、耐熱性も高い上に、低い熱線膨張率も有している。   A printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described. The printed wiring board can be manufactured by using a subtractive method or the like to remove a part of the metal foil of the metal-clad laminate obtained as described above by etching to form a conductor pattern. . In this case, drilling is performed to form a through hole or a blind via hole for connecting different layers on which the conductor pattern is formed. At this time, since the insulating layer in which the hole is made is a cured product of the prepreg (resin composition), the drilling workability is good and the wear of the drill can be suppressed. In addition, the metal-clad laminate and the printed wiring board obtained by processing the metal-clad laminate have an insulating layer formed of a cured product of prepreg, so that the moldability is good, the rust is not easily generated, and the heat resistance is high and low. It also has a coefficient of thermal expansion.

コア材(内層材)としてプリント配線板を準備し、その上にプリプレグを用いて積層成形することで、多層プリント配線板を製造することができる。すなわち、コア材の導体パターン(内層パターン)を黒色酸化処理等で粗面化処理した後、このコア材の表面にプリプレグを介して金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形する。このときの加熱加圧の条件も、例えば、140〜200℃、0.5〜5.0MPa、40〜240分間である。コア材がプリプレグを用いて製造されたものであってもよい。次に、ドリル加工による穴あけ及びデスミア処理を行う。その後、サブトラクティブ法を使用して導体パターン(外層パターン)を形成すると共に穴の内壁にめっき処理を行ってスルーホール又はブラインドバイアホールを形成することによって、多層プリント配線板を製造することができる。なお、プリント配線板の層数は特に限定されない。   A multilayer printed wiring board can be manufactured by preparing a printed wiring board as a core material (inner layer material) and laminating the printed wiring board using a prepreg thereon. That is, the conductor pattern (inner layer pattern) of the core material is roughened by black oxidation or the like, and then a metal foil is stacked on the surface of the core material via a prepreg, and this is heated and pressed to be laminated. The heating and pressing conditions at this time are, for example, 140 to 200 ° C., 0.5 to 5.0 MPa, and 40 to 240 minutes. The core material may be manufactured using a prepreg. Next, drilling and desmearing are performed. Then, a multilayer printed wiring board can be manufactured by forming a conductor pattern (outer layer pattern) using a subtractive method and plating the inner wall of the hole to form a through hole or a blind via hole. . The number of layers of the printed wiring board is not particularly limited.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

[予備反応物(a)の調製]
予備反応物(a)を調製するための各材料として、次のものを用いた。
(ポリフェニレンエーテル)
PPE:SABICイノベーティブプラスチックス社製の「SA90」(数平均分子量:1500、水酸基:1.9個)
(エポキシ化合物)
DCPD型エポキシ樹脂:DIC(株)製の「HP7200」(ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、1分子中の平均官能基2.3個)
(プリアクト時の触媒)
イミダゾール:四国化成工業(株)製の「2E4MZ」(2−エチル−4−イミダゾール)
表1に記載の配合割合となるように、各成分をトルエンに添加した後、100℃で6時間攪拌させた。すなわち、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂とを予め反応(プレリアクト)させて、予備反応物(a)を調製した。得られた予備反応物(a)の固形分濃度が60%となるように調製した。
[Preparation of preliminary reaction product (a)]
The following materials were used as materials for preparing the preliminary reaction product (a).
(Polyphenylene ether)
PPE: “SA90” manufactured by SABIC Innovative Plastics (number average molecular weight: 1500, hydroxyl group: 1.9)
(Epoxy compound)
DCPD type epoxy resin: “HP7200” manufactured by DIC Corporation (dicyclopentadiene type epoxy compound, 2.3 average functional groups in one molecule)
(Catalyst during pre-act)
Imidazole: “2E4MZ” (2-ethyl-4-imidazole) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
After adding each component to toluene so that it may become the mixture ratio of Table 1, it was made to stir at 100 degreeC for 6 hours. That is, the pre-reaction product (a) was prepared by reacting (prereacting) polyphenylene ether and an epoxy resin in advance. The preliminary reaction product (a) thus obtained was prepared so that the solid concentration was 60%.

Figure 0006604565
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<実施例1〜6,8,比較例1〜9,16,17>
樹脂組成物を調製するための各材料として、次のものを用いた。
<Examples 1 to 6, 8, Comparative Examples 1 to 9, 16, 17>
The following were used as each material for preparing the resin composition.

(樹脂成分)
・予備反応PPE(a):上記で調製した予備反応物(a)
・シアネートエステル化合物(b):2,2−ビス(4−シアネートフェニル)プロパン(ロンザジャパン社製の「BADCy」)
(触媒)
・金属石鹸:DIC(株)製のオクタン酸亜鉛(Zn−OCTOATE)
(シリカ粒子)
・破砕シリカ1(c):シベルコ・ジャパン(株)製の「Megasil 525RCS」(溶融破砕シリカ粒子、平均粒径1.6μm、エポキシシラン表面処理)
・破砕シリカ2(c):破砕シリカ1を35℃90%の環境下で7日(168時間)放置する処理(吸湿処理)を施した破砕シリカ粒子
・破砕シリカ3:シベルコ・ジャパン(株)製の「Megasil 525」(溶融破砕シリカ粒子、平均粒径:1.6μm)
・破砕シリカ4:破砕シリカ3に上記吸湿処理を施した破砕シリカ粒子
・球状シリカ1(c):(株)アドマテックス製の「SC2500−SEJ」(球状シリカ粒子、平均粒径:0.8μm、比重:2.2g/cm、エポキシシラン表面処理)
・球状シリカ2(c):球状シリカ1に上記吸湿処理を施した破砕シリカ粒子
・球状シリカ3:(株)アドマテックス製の「SO−25R」(球状シリカ粒子、平均粒径:0.6μm)
・球状シリカ4:球状シリカ3に上記吸湿処理を施した破砕シリカ粒子
(モリブデン化合物粒子)
・モリブデン酸カルシウム(d):シャーウィン・ウィリアムズ(株)製の「KEMGARD 911A」(モリブデン酸カルシウム亜鉛、モリブデン酸量:10質量%、比重:3.0g/cm、平均粒径:2.7μm)
・モリブデン酸亜鉛(d)(タルク担体):シャーウィン・ウィリアムズ(株)製の「KEMGARD 911C」(モリブデン酸亜鉛処理タルク、モリブデン酸亜鉛量:17質量%、比重:2.8g/cm、平均粒径:3.0μm)
表4に記載の配合割合となるように、予備反応PPE(a)の溶液を30〜35℃になるまで加熱し、そこに、シアネートエステル化合物(b)及び触媒を添加した。その後、30分間攪拌することによって、完全に溶解させた。そして、さらに、シリカ粒子およびモリブデン化合物粒子を添加して、ビーズミルで分散させることによって、ワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を得た。
(Resin component)
Pre-reaction PPE (a): Pre-reaction product prepared above (a)
Cyanate ester compound (b): 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane (“BADCy” manufactured by Lonza Japan)
(catalyst)
Metal soap: Zinc octoate (Zn-OCTOATE) manufactured by DIC Corporation
(Silica particles)
Crushing silica 1 (c): “Megasil 525RCS” manufactured by Siberco Japan Co., Ltd. (melted crushing silica particles, average particle size 1.6 μm, epoxysilane surface treatment)
・ Fractured silica 2 (c): Fractured silica particles subjected to a treatment (moisture absorption treatment) for leaving crushed silica 1 in a 35 ° C. and 90% environment for 7 days (168 hours) ・ Fractured silica 3: Sibelco Japan Co., Ltd. “Megasil 525” (melt-crushed silica particles, average particle size: 1.6 μm)
Crushed silica 4: Crushed silica particles obtained by subjecting the crushed silica 3 to the above moisture absorption treatment. Spherical silica 1 (c): “SC2500-SEJ” (spherical silica particles, average particle diameter: 0.8 μm) manufactured by Admatechs Co., Ltd. , Specific gravity: 2.2 g / cm 3 , epoxysilane surface treatment)
Spherical silica 2 (c): crushed silica particles obtained by subjecting spherical silica 1 to the above moisture absorption treatment. Spherical silica 3: “SO-25R” (spherical silica particles, average particle size: 0.6 μm) manufactured by Admatechs Co., Ltd. )
Spherical silica 4: Crushed silica particles (molybdenum compound particles) obtained by subjecting spherical silica 3 to the above moisture absorption treatment
Calcium molybdate (d): “KEMGARD 911A” manufactured by Sherwin Williams (calcium zinc molybdate, molybdate content: 10% by mass, specific gravity: 3.0 g / cm 3 , average particle size: 2. 7μm)
Zinc molybdate (d) (talc carrier): “KEMGARD 911C” manufactured by Sherwin Williams Co., Ltd. (zinc molybdate-treated talc, zinc molybdate content: 17% by mass, specific gravity: 2.8 g / cm 3 , (Average particle size: 3.0 μm)
The pre-reacted PPE (a) solution was heated to 30 to 35 ° C. so that the blending ratio shown in Table 4 was obtained, and the cyanate ester compound (b) and the catalyst were added thereto. Then, it was completely dissolved by stirring for 30 minutes. Further, silica particles and molybdenum compound particles were added and dispersed with a bead mill to obtain a varnish-like resin composition (resin varnish).

<実施例7、比較例10,11>
樹脂組成物を調製するための樹脂成分として、下記材料を用いた他は実施例1と同様の材料を用いた。
<Example 7, Comparative Examples 10 and 11>
As the resin component for preparing the resin composition, the same materials as in Example 1 were used except that the following materials were used.

(樹脂成分)
・予備反応PPE:上記で調製した予備反応物
・シアネートエステル化合物:2,2−ビス(4−シアネートフェニル)プロパン(ロンザジャパン社製の「BADCy」)
・DCPD型エポキシ樹脂:DIC(株)製の「EPICRON HP7200」(ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、1分子中の平均官能基2.3個)
表4に記載の配合割合となるように、予備反応PPE(a)の溶液を30〜35℃になるまで加熱し、そこに、DCPD型エポキシ樹脂、シアネートエステル化合物(b)及び触媒を添加した他は実施例1と同様にしてワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を得た。
(Resin component)
-Pre-reaction PPE: Pre-reaction product prepared above-Cyanate ester compound: 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane ("BADCy" manufactured by Lonza Japan)
DCPD type epoxy resin: “EPICRON HP7200” manufactured by DIC Corporation (dicyclopentadiene type epoxy compound, 2.3 average functional groups in one molecule)
The pre-reacted PPE (a) solution was heated to 30 to 35 ° C. so that the blending ratios shown in Table 4 were obtained, and the DCPD type epoxy resin, cyanate ester compound (b) and catalyst were added thereto. Otherwise, a varnish-like resin composition (resin varnish) was obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例12〜15>
樹脂組成物を調製するための樹脂成分、触媒として、下記材料を用いた他は実施例1と同様の材料を用いた。
<Comparative Examples 12-15>
The same materials as in Example 1 were used as the resin component and catalyst for preparing the resin composition, except that the following materials were used.

(樹脂成分)
・PPE:SABICイノベーティブプラスチックス社製の「SA90」(数平均分子量1500、水酸基:1.9個)
・シアネートエステル化合物(b):2,2−ビス(4−シアネートフェニル)プロパン(ロンザジャパン社製の「BADCy」)
・ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂:DIC(株)製の「EPICRON HP7200」(ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、1分子中の平均官能基2.3個)
・フェノールノボラック型エポキシ樹脂:DIC(株)製の「EPICRON N−770」
・フェノールノボラック:DIC(株)製の「TD−2090」(ノボラック型フェノール樹脂)
(触媒)
・イミダゾール:四国化成工業(株)製の「2E4MZ」(2−エチル−4−イミダゾール)
・金属石鹸:DIC(株)製のオクタン酸亜鉛(Zn−OCTOATE)
表4に記載の配合割合となるように、各成分をトルエンに添加した後、30〜35℃で60分間攪拌させた。そして、さらに、シリカ粒子およびモリブデン化合物粒子を添加して、ビーズミルで分散させることによって、ワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を得た。
(Resin component)
PPE: “SA90” (number average molecular weight 1500, hydroxyl group: 1.9) manufactured by SABIC Innovative Plastics
Cyanate ester compound (b): 2,2-bis (4-cyanatephenyl) propane (“BADCy” manufactured by Lonza Japan)
Dicyclopentadiene type epoxy resin: “EPICRON HP7200” manufactured by DIC Corporation (dicyclopentadiene type epoxy compound, 2.3 average functional groups in one molecule)
・ Phenol novolac type epoxy resin: “EPICRON N-770” manufactured by DIC Corporation
-Phenol novolak: "TD-2090" (novolak type phenolic resin) manufactured by DIC Corporation
(catalyst)
Imidazole: “2E4MZ” (2-ethyl-4-imidazole) manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
Metal soap: Zinc octoate (Zn-OCTOATE) manufactured by DIC Corporation
After adding each component to toluene so that it may become a mixture ratio of Table 4, it was made to stir at 30-35 degreeC for 60 minutes. Further, silica particles and molybdenum compound particles were added and dispersed with a bead mill to obtain a varnish-like resin composition (resin varnish).

<実施例9,10、比較例18,19>
ワニス状の樹脂組成物を調製するための各材料として、実施例7と同じものを用いた。表2および表6に記載の配合割合となるように、予備反応PPE(a)の溶液を30〜35℃になるまで加熱し、そこに、シアネートエステル化合物(b)、DCPD型エポキシ樹脂、PPEおよび金属石鹸を添加した。その後、30分間攪拌することによって、完全に溶解させた。そして、さらに、シリカ粒子およびモリブデン化合物粒子を添加して、ビーズミルで分散させることによって、ワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を得た。
<Examples 9 and 10, Comparative Examples 18 and 19>
The same materials as in Example 7 were used as materials for preparing the varnish-like resin composition. The pre-reacted PPE (a) solution is heated to 30 to 35 ° C. so that the blending ratios shown in Table 2 and Table 6 are obtained, and the cyanate ester compound (b), DCPD type epoxy resin, PPE And metal soap was added. Then, it was completely dissolved by stirring for 30 minutes. Further, silica particles and molybdenum compound particles were added and dispersed with a bead mill to obtain a varnish-like resin composition (resin varnish).

Figure 0006604565
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<比較例20>
表3および表6に記載の配合割合となるように、表3に示す各成分をトルエンに添加した後、30〜35℃で60分間攪拌させた。そして、さらに、シリカ粒子およびモリブデン化合物粒子を添加して、ビーズミルで分散させることによって、ワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を得た。
<Comparative Example 20>
After adding each component shown in Table 3 to toluene so that it may become the mixture ratio of Table 3 and Table 6, it was made to stir at 30-35 degreeC for 60 minutes. Further, silica particles and molybdenum compound particles were added and dispersed with a bead mill to obtain a varnish-like resin composition (resin varnish).

Figure 0006604565
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(プリプレグ)
基材として日東紡績(株)製のもの(番手:WEA116ES136、厚み:0.1μm)を用いた。この基材に得られた樹脂ワニスを室温で含浸させた後、150〜160℃で加熱乾燥した。これにより、樹脂ワニス中の溶媒を除去し、樹脂組成物を半硬化させることによって、プリプレグを製造した。プリプレグのレジンコンテント(樹脂量)は57質量%であった。
(Prepreg)
A substrate manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd. (counter: WEA116ES136, thickness: 0.1 μm) was used. After impregnating the obtained resin varnish on the substrate at room temperature, it was dried by heating at 150 to 160 ° C. Thereby, the solvent in the resin varnish was removed, and the prepreg was produced by semi-curing the resin composition. The resin content (resin amount) of the prepreg was 57% by mass.

(積層板)
前記プリプレグ(300mm×450mm)を6枚重ね、さらにこの両側に金属箔として銅箔(三井金属鉱業(株)製、厚み:35μm)を重ねて、200℃、3MPaの条件で90分間、加熱加圧成形することによって、評価用の積層板(厚み:0.8mm)を製造した。
(Laminated board)
Six prepregs (300 mm × 450 mm) are stacked, and copper foil (made by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness: 35 μm) is stacked as metal foil on both sides, and heated for 90 minutes at 200 ° C. and 3 MPa. The laminated board for evaluation (thickness: 0.8 mm) was manufactured by pressure forming.

(ガラス転移温度)
評価用の積層板のガラス転移温度を、DSC測定方法により、IPC−TM−650−2.4.25に基づいて、昇温スピード20℃/分の条件で測定した。
(Glass-transition temperature)
The glass transition temperature of the laminate for evaluation was measured by a DSC measurement method based on IPC-TM-650-2.4.25 under a temperature increase rate of 20 ° C./min.

(誘電正接)
1GHzにおける評価用の積層板の誘電正接を、IPC−TM−650−2.5.5.9に準拠の方法で測定した。具体的には、インピーダンスアナライザ(アジレント・テクノロジー(株)製のRFインピーダンスアナライザHP4291B)を用い、1GHzにおける評価用の積層板の誘電正接を測定した。
(Dielectric loss tangent)
The dielectric loss tangent of the laminate for evaluation at 1 GHz was measured by a method based on IPC-TM-650-2.5.5.9. Specifically, the dielectric loss tangent of the evaluation laminated board at 1 GHz was measured using an impedance analyzer (RF impedance analyzer HP4291B manufactured by Agilent Technologies).

(ドリル摩耗率)
厚さ0.8mmの積層板を4枚重ね合わせ、エントリーボードに0.15mmのアルミニウム板、バックアップボードに0.15mmのベーク板を用い、φ0.3mmのドリルにて5000hit穴あけ加工して、貫通孔を形成した。穴あけ加工後のドリル摩耗率を測定した。ドリルとしては、ユニオンツール(株)製「NHU L020W」を用いた。穴あけ時のドリルの回転数は160000rpm/min、ドリルの送り速度は3.2m/minとした。
(Drill wear rate)
4 layers of 0.8mm thick laminates are stacked, 0.15mm aluminum plate is used as the entry board, 0.15mm bake plate is used as the backup board, and 5000h drilling is performed with a φ0.3mm drill. A hole was formed. The drill wear rate after drilling was measured. As a drill, “NHU L020W” manufactured by Union Tool Co., Ltd. was used. The rotation speed of the drill at the time of drilling was 160000 rpm / min, and the feed rate of the drill was 3.2 m / min.

(ワニスゲルタイム)
ワニスゲルタイムは、得られた樹脂組成物(樹脂ワニス)2.5mlが200℃のキュアープレート上でゲル化するまでの時間を測定した値である。
(Varnish gel time)
The varnish gel time is a value obtained by measuring the time until 2.5 ml of the obtained resin composition (resin varnish) gels on a cure plate at 200 ° C.

(シリカ粒子の吸着水分量)
シリカ粒子の吸着水分量は、カールフィッシャー法(JIS K0113:2005、電量滴定方法)により測定した。
(Adsorption moisture content of silica particles)
The amount of water adsorbed on the silica particles was measured by the Karl Fischer method (JIS K0113: 2005, coulometric titration method).

(樹脂組成物中に持込まれる水分量)
樹脂組成物中に持込まれる水分量は、以下の計算式よって算出した。
樹脂組成物中に持込まれる水分量=(シリカ中に含まれる水分量(カールフィッシャー測定値%)×シリカ添加量/樹脂組成物の総量)×100
(Moisture amount brought into the resin composition)
Amount of water brought in the resin composition was thus calculated by the following equation.
Moisture amount brought into resin composition = (water amount contained in silica (Karl Fischer measurement value%) × silica addition amount / total amount of resin composition) × 100

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実施例1〜10では、シリカ粒子に表面処理が施された疎水性シリカ粒子を用いたので、ガラス転移温度は高く、誘電正接は低かった。さらに、実施例1(吸湿処理無)と実施例2(吸湿処理済)、実施例5(吸湿処理無)と実施例6(吸湿処理済)をそれぞれ比較すると、ガラス転移温度および誘電正接はそれぞれ同等であった。すなわち、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れることが確認された。さらに、樹脂組成物は、疎水性シリカ粒子およびモリブデン化合物粒子を含有するので、ドリル摩耗率は低かった。すなわちドリル加工性および成形性が良好であることが確認された。   In Examples 1 to 10, since hydrophobic silica particles obtained by subjecting silica particles to surface treatment were used, the glass transition temperature was high and the dielectric loss tangent was low. Further, comparing Example 1 (without moisture absorption), Example 2 (with moisture absorption), Example 5 (without moisture absorption) and Example 6 (with moisture absorption), the glass transition temperature and dielectric loss tangent are respectively It was equivalent. That is, it was confirmed that the glass transition temperature and the dielectric properties were stable and excellent. Furthermore, since the resin composition contains hydrophobic silica particles and molybdenum compound particles, the drill wear rate was low. That is, it was confirmed that drilling workability and formability were good.

これに対して、比較例1〜17では、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物との予備反応物(a)、シアネートエステル化合物(b)、疎水性シリカ粒子(c)およびモリブデン化合物粒子(d)を配合して得られた樹脂組成物ではないため、新品のシリカ粒子(乾燥状態のシリカ粒子)を用いた比較例1,4,16を除き、ガラス転移温度および誘電特性が優れ、かつ良好なドリル加工性および成形性を実現できなかった。   On the other hand, in Comparative Examples 1 to 17, a prereacted product (a) of polyphenylene ether and an epoxy compound, a cyanate ester compound (b), a hydrophobic silica particle (c) and a molybdenum compound particle (d) are blended. Since it is not a resin composition obtained in this way, except for Comparative Examples 1, 4 and 16 using new silica particles (silica particles in a dry state), it has excellent glass transition temperature and dielectric properties, and good drillability. And moldability could not be realized.

比較例1(吸湿処理無)と比較例2(吸湿処理済)、比較例4(吸湿処理無)と比較例5(吸湿処理済)、比較例16(吸湿処理無)と比較例17(吸湿処理済)をそれぞれ比較すると、吸湿処理を施していないシリカ粒子を用いた場合に対して、吸湿処理を施したシリカ粒子を用いた場合は、ガラス転移温度が低下し、誘電正接が上昇し、ワニスゲルタイムが大幅に短くなった。すなわち、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れないことが確認された。樹脂組成物中のシリカ粒子の含有量を少なくしても同様であった(比較例3)。   Comparative Example 1 (no moisture absorption treatment), Comparative Example 2 (moisture absorption treatment completed), Comparative Example 4 (no moisture absorption treatment) and Comparative Example 5 (moisture absorption treatment completed), Comparative Example 16 (no moisture absorption treatment) and Comparative Example 17 (moisture absorption treatment) When the silica particles that have not been subjected to moisture absorption treatment are used, when the silica particles that have been subjected to moisture absorption treatment are used, the glass transition temperature decreases and the dielectric loss tangent increases. Varnish gel time was significantly shortened. That is, it was confirmed that the glass transition temperature and the dielectric properties were not stable and excellent. It was the same even if the content of silica particles in the resin composition was reduced (Comparative Example 3).

比較例6〜10では、モリブデン化合物粒子を配合していないため、ドリル摩耗率が高かった。すなわち、ドリル加工性および成形性が良好でないことが確認された。さらに、比較例6(吸湿処理無)と比較例7(吸湿処理済)、比較例8(吸湿処理無)と比較例9(吸湿処理済)をそれぞれ比較すると、ワニスゲルタイムは実施例と同等であった。この結果と、比較例4,5の結果から、モリブデン化合物粒子が、ワニスゲルタイムが短くなることを促進させると推測される。   In Comparative Examples 6 to 10, since the molybdenum compound particles were not blended, the drill wear rate was high. That is, it was confirmed that drill workability and formability were not good. Further, when Comparative Example 6 (no moisture absorption treatment), Comparative Example 7 (moisture absorption treatment completed), Comparative Example 8 (no moisture absorption treatment) and Comparative Example 9 (moisture absorption treatment completed) are compared, the varnish gel time is the same as that of the example. there were. From this result and the results of Comparative Examples 4 and 5, it is presumed that the molybdenum compound particles promote the reduction of the varnish gel time.

比較例12,13では、予備反応PPE(a)を用いなかったので、ガラス転移温度が低かった。比較例12(吸湿処理無)と比較例13(吸湿処理済)とを比較すると、ワニスゲルタイムは同等であり、実施例よりも長かった。   In Comparative Examples 12 and 13, since the pre-reaction PPE (a) was not used, the glass transition temperature was low. When Comparative Example 12 (no moisture absorption treatment) and Comparative Example 13 (moisture treatment completed) were compared, the varnish gel times were the same and were longer than the Examples.

比較例14,15では、ベース樹脂にポリフェニレンエーテルを含有していないので、ガラス転移温度が低く、誘電正接が高かった。一方で、比較例14(吸湿処理無)と比較例15(吸湿処理済)とを比較すると、ワニスゲルタイムは同等であり、実施例より長かった。この結果と、比較例12,13の結果から、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物との予備反応物(a)、シアネートエステル化合物(b)およびモリブデン化合物粒子(d)を含む樹脂組成物に吸湿したシリカ粒子を用いた場合には、ワニスゲルタイムが異常に短くなることが確認された。   In Comparative Examples 14 and 15, since the base resin did not contain polyphenylene ether, the glass transition temperature was low and the dielectric loss tangent was high. On the other hand, when Comparative Example 14 (no moisture absorption treatment) and Comparative Example 15 (moisture absorption treatment completed) were compared, the varnish gel times were equivalent and longer than the Examples. From this result and the results of Comparative Examples 12 and 13, silica particles absorbed in a resin composition containing a pre-reaction product (a) of polyphenylene ether and an epoxy compound, a cyanate ester compound (b) and molybdenum compound particles (d) It was confirmed that the varnish gel time was abnormally shortened when using.

実施例9,10では、シリカ粒子に表面処理が施された疎水性シリカ粒子を用いたので、ガラス転移温度が高く、誘電正接は低かった。さらに、実施例9(吸湿処理無)と実施例10(吸湿処理済)を比較すると、ガラス転移温度および誘電正接は同等であった。すなわち、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れることが確認された。   In Examples 9 and 10, since hydrophobic silica particles obtained by subjecting silica particles to surface treatment were used, the glass transition temperature was high and the dielectric loss tangent was low. Furthermore, when Example 9 (without moisture absorption treatment) and Example 10 (with moisture absorption treatment) were compared, the glass transition temperature and dielectric loss tangent were the same. That is, it was confirmed that the glass transition temperature and the dielectric properties were stable and excellent.

これに対して比較例18〜20では、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物との予備反応物(a)、シアネートエステル化合物(b)、疎水性シリカ粒子(c)およびデン化合物粒子(d)を配合して得られた樹脂組成物ではないため、優れたガラス転移温度および誘電特性を実現できなかった。   On the other hand, in Comparative Examples 18 to 20, a prereacted product (a) of polyphenylene ether and an epoxy compound, a cyanate ester compound (b), a hydrophobic silica particle (c) and a den compound particle (d) are blended. Since the resin composition was not obtained, excellent glass transition temperature and dielectric properties could not be realized.

比較例18(吸湿処理無)では、比較例1,4,16と異なり、新品のシリカ粒子を用いていないため、すなわちシリカ粒子の吸着水分量が高いシリカ粒子を用いているため、ワニスゲルタイムが短かった。   In Comparative Example 18 (no moisture absorption treatment), unlike Comparative Examples 1, 4 and 16, since new silica particles are not used, that is, silica particles having a high adsorbed moisture amount of silica particles are used, varnish gel time is It was short.

比較例18(吸湿処理無)と比較例19(吸湿処理済)を比較すると、吸湿処理を施していないシリカ粒子を用いた場合に対して、吸湿処理を施したシリカ粒子を用いた場合は、ガラス転移温度が低下し、誘電正接が上昇し、ワニスゲルタイムが大幅に短くなった。すなわち、ガラス転移温度および誘電特性が安定して優れないことが確認された。   Comparing Comparative Example 18 (without moisture absorption treatment) and Comparative Example 19 (with moisture absorption treatment), when using silica particles that have been subjected to moisture absorption treatment, compared to the case where silica particles that have not been subjected to moisture absorption treatment are used, The glass transition temperature decreased, the dielectric loss tangent increased, and the varnish gel time was significantly shortened. That is, it was confirmed that the glass transition temperature and the dielectric properties were not stable and excellent.

比較例20(吸湿処理無)では、予備反応PPEを用いなかったので、ガラス転移温度が低かった。   In Comparative Example 20 (no moisture absorption treatment), the prereaction PPE was not used, so the glass transition temperature was low.

Claims (8)

(a)ポリフェニレンエーテルとエポキシ基を持つエポキシ化合物とを反応させることにより得られた予備反応物、及び
(b)シアネートエステル化合物を含む樹脂成分と、
(c)比表面積が0.1m/g以上15m/g以下の破砕シリカに表面処理が施された疎水性シリカ粒子、及び
(d)モリブデン化合物以外の材料からなる担体の表面に前記モリブデン化合物が担持又は被覆されたモリブデン化合物粒子を含む無機充填材と、を配合して得られ、
前記モリブデン化合物粒子(d)の含有量が、前記樹脂成分100質量部に対して、0.1質量部以上3.1質量部以下である
プリント配線板用樹脂組成物。
(A) a preliminary reaction product obtained by reacting a polyphenylene ether and an epoxy compound having an epoxy group, and (b) a resin component containing a cyanate ester compound;
(C) Hydrophobic silica particles obtained by subjecting crushed silica having a specific surface area of 0.1 m 2 / g to 15 m 2 / g and surface treatment, and (d) the molybdenum on the surface of a support made of a material other than a molybdenum compound. Obtained by blending an inorganic filler containing molybdenum compound particles on which a compound is supported or coated,
Content of the said molybdenum compound particle (d) is 0.1 to 3.1 mass parts with respect to 100 mass parts of said resin components The resin composition for printed wiring boards.
前記モリブデン化合物が、モリブデン酸亜鉛、モリブデン酸カルシウム及びモリブデン酸マグネシウムからなる群から選ばれた1種以上のものである
請求項1に記載のプリント配線板用樹脂組成物。
The resin composition for printed wiring boards according to claim 1, wherein the molybdenum compound is one or more selected from the group consisting of zinc molybdate, calcium molybdate, and magnesium molybdate.
前記モリブデン化合物以外の材料がタルクである
請求項1または2に記載のプリント配線板用樹脂組成物。
The resin composition for printed wiring boards according to claim 1 or 2, wherein the material other than the molybdenum compound is talc.
前記疎水性シリカ粒子の含有量が、前記樹脂成分100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下である
請求項1乃至3のいずれか1項に記載のプリント配線板用樹脂組成物。
The resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein a content of the hydrophobic silica particles is 10 parts by mass or more and 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component. .
前記疎水性シリカ粒子の含有量が、前記樹脂成分100質量部に対して10質量部以上150質量部以下である
請求項1乃至4のいずれか一項に記載のプリント配線板用樹脂組成物。
The resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein a content of the hydrophobic silica particles is 10 parts by mass or more and 150 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component.
請求項1乃至5のいずれか一項に記載のプリント配線板用樹脂組成物を基材に含浸し半硬化させたプリプレグ。   A prepreg obtained by impregnating a substrate with the resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 5. 請求項6に記載のプリプレグに金属箔を重ね、加熱加圧成形して一体化した金属張積層板。   A metal-clad laminate in which a metal foil is laminated on the prepreg according to claim 6 and integrated by heating and pressing. 請求項7に記載の金属張積層板の前記金属箔の一部を除去して導体パターンが形成されたプリント配線板。   A printed wiring board in which a conductor pattern is formed by removing a part of the metal foil of the metal-clad laminate according to claim 7.
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