JP6597114B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Description
図1を用いて、本発明の一実施形態(第1の実施形態)について説明する。図1は、本実施形態(第1の実施形態)に係る塗布装置100の構成を示す断面図である。
図2乃至図4を用いて、本発明の他の実施形態(第2の実施形態)について説明する。図2は、本実施形態(第2の実施形態)に係る塗布装置200の構成を示す断面図である。図3及び図4は、本実施形態(第2の実施形態)に係る塗布装置200の塗布ダイ250の構成を示す斜視図及び断面図である。
106 バックアップロール
107 箔
154 吐出口
160 調整部
180 計測部
190 制御部
Claims (9)
- バックアップロールにより搬送される箔に塗料を吐出する吐出口と、
前記吐出口の開口の高さ幅を調整する調整手段と、
前記バックアップロールの面から計測手段までの距離を計測する前記計測手段と、
前記計測手段により計測された距離に基づいて、前記調整手段による前記吐出口の開口の高さ幅の調整を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする塗布装置。 - 前記調整手段は、前記吐出口の幅方向に沿って複数設けられ、
これら複数の調整手段は、互いに独立して前記吐出口の幅方向における所定の位置の高さ幅を調整する、
ことを特徴とする請求項1記載の塗布装置。 - 前記計測手段は、前記バックアップロールの軸方向に沿って複数設けられ、
これら複数の計測手段と複数の調整手段とは、各計測手段及び調整手段が対応した位置に設けられている、
ことを特徴とする請求項2記載の塗布装置。 - 前記計測手段は、前記バックアップロールにおける前記箔が巻きつかない箇所を計測点とする、
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の塗布装置。 - 前記計測手段は、前記バックアップロールの面から前記計測手段までの初期状態の距離と所定時間経過後の距離とを計測し、
前記制御手段は、前記初期状態の距離と前記所定時間経過後の距離との差分に基づいて、前記吐出口の開口の高さ幅を調整するよう前記調整手段を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の塗布装置。 - バックアップロールにより搬送される箔に塗料を吐出口から吐出し、
前記吐出口の開口の高さ幅を調整し、
前記バックアップロールの面から計測手段までの距離を計測し、
計測した距離に基づいて、前記吐出口の開口の高さ幅を調整する制御を行う、
ことを特徴とする塗布方法。 - 吐出口の幅方向における所定の位置の高さ幅を調整する、
ことを特徴とする請求項6記載の塗布方法。 - 前記バックアップロールの面から前記計測手段までの距離の計測に際し、このバックアップロールの軸方向に沿って複数の箇所を計測し、
計測した複数の箇所に対応する吐出口の開口の高さ幅を調整する、
ことを特徴とする請求項6又は7記載の塗布方法。 - 前記バックアップロールにおける前記箔が巻きつかない箇所を計測する、
ことを特徴とする請求項6乃至8の何れか一項に記載の塗布方法。
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JP6869305B2 (ja) * | 2019-09-19 | 2021-05-12 | 株式会社Screenホールディングス | スリットノズルおよび基板処理装置 |
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