JP6589362B2 - Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method - Google Patents

Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method Download PDF

Info

Publication number
JP6589362B2
JP6589362B2 JP2015095656A JP2015095656A JP6589362B2 JP 6589362 B2 JP6589362 B2 JP 6589362B2 JP 2015095656 A JP2015095656 A JP 2015095656A JP 2015095656 A JP2015095656 A JP 2015095656A JP 6589362 B2 JP6589362 B2 JP 6589362B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scribe line
thin film
blade
processing
solar cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2015095656A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016213317A (en
Inventor
充 山田
充 山田
木下 知子
知子 木下
郁祥 中谷
郁祥 中谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority to JP2015095656A priority Critical patent/JP6589362B2/en
Publication of JP2016213317A publication Critical patent/JP2016213317A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6589362B2 publication Critical patent/JP6589362B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

本発明は薄膜太陽電池の加工装置、および、薄膜太陽電池の加工方法に関する。   The present invention relates to a thin film solar cell processing apparatus and a thin film solar cell processing method.

従来の薄膜太陽電池の製造工程は、基板上に形成された半導体または金属の薄膜を複数の領域に分割するためのスクライブラインを形成するスクライブ加工を含む。スクライブ加工方法の1つとしてメカニカルスクライブ法が知られている。メカニカルスクライブ法では、半導体または金属の薄膜に刃物を押し付けながら刃物を走査することにより、薄膜にスクライブラインを形成する。   A conventional manufacturing process of a thin film solar cell includes a scribe process for forming a scribe line for dividing a semiconductor or metal thin film formed on a substrate into a plurality of regions. A mechanical scribing method is known as one of scribing methods. In the mechanical scribe method, a scribe line is formed on a thin film by scanning the blade while pressing the blade against a semiconductor or metal thin film.

メカニカルスクライブ法の一例である特許文献1の加工方法では、スクライブラインの加工前に薄膜の下層が露出した部分である開口部を形成し、開口部においてスクライブラインの加工開始点に対応する箇所に刃物を降下させ、その刃物を走査することにより薄膜にスクライブラインを形成する。   In the processing method of Patent Document 1, which is an example of a mechanical scribing method, an opening is formed in which the lower layer of the thin film is exposed before processing of the scribe line, and the opening corresponds to the processing start point of the scribe line. A scribe line is formed in the thin film by lowering the blade and scanning the blade.

メカニカルスクライブ法の別の一例である特許文献2の加工方法では、最初に刃先のエッジ部を薄膜に押し付けて切り込みを形成し、次に刃先を薄膜から離間させ、次に刃先の姿勢を変えて刃先の面取り部を薄膜に押し付け、その状態で刃物を走査することにより薄膜にスクライブラインを形成する。   In the processing method of Patent Document 2, which is another example of the mechanical scribing method, the edge portion of the blade edge is first pressed against the thin film to form a cut, then the blade edge is separated from the thin film, and then the posture of the blade edge is changed. A scribe line is formed in the thin film by pressing the chamfered portion of the blade edge against the thin film and scanning the blade in that state.

特許第5486057号公報Japanese Patent No. 5486057 特開2013−141702号公報JP2013-141702A

薄膜太陽電池の製造に関して、生産性を高めるためにスクライブ加工に要する工程を簡素化し、加工時間を短縮することが望まれる。一方、特許文献1の加工方法によれば、スクライブラインを形成する前に開口部を形成する工程が必要となるため、加工工程が複雑化するおそれ、および、スクライブラインの形成に要する時間が長くなるおそれがある。また、特許文献2の加工方法によれば、薄膜に切り込みを形成する工程とスクライブラインを形成する工程との間に、刃物の昇降および刃物の姿勢の変更が必要となるため、装置の構成が複雑化するおそれ、および、スクライブラインの加工に要する時間が長くなるおそれがある。   Regarding the manufacture of thin-film solar cells, it is desired to simplify the steps required for scribe processing and increase the processing time in order to increase productivity. On the other hand, according to the processing method of Patent Document 1, since a step of forming an opening is required before forming a scribe line, the processing step may be complicated, and the time required for forming the scribe line is long. There is a risk. Moreover, according to the processing method of patent document 2, since the raising / lowering of a cutter and the change of the attitude | position of a cutter are needed between the process of forming a notch in a thin film, and the process of forming a scribe line, the structure of an apparatus is required. There is a possibility that it may become complicated and a time required for processing the scribe line may be increased.

なお、薄膜太陽電池の薄膜をスクライブ加工するために用いられる刃物の刃先は、一般に先端の幅が数十μm程度であることから、刃物を加工対象物に向けて降下させる速度が速い場合、刃物が加工対象物に接触したときに刃先が損傷するおそれがある。このため、スクライブ加工に要する時間を短縮するために、刃物を降下させる速度を速めるという手法を取りにくい。   Note that the blade edge of a blade used for scribing a thin film of a thin film solar cell generally has a tip width of about several tens of μm. Therefore, if the blade is lowered toward the workpiece, the blade is fast. There is a possibility that the cutting edge is damaged when the touches the workpiece. For this reason, in order to shorten the time required for scribe processing, it is difficult to take a method of increasing the speed of lowering the blade.

本発明の目的は、スクライブラインの形成に要する時間を短縮することに寄与する薄膜太陽電池の加工装置、および、薄膜太陽電池の加工方法を提供することである。   The objective of this invention is providing the processing apparatus of a thin film solar cell and the processing method of a thin film solar cell which contribute to shortening the time required for formation of a scribe line.

〔1〕本発明に従う薄膜太陽電池の加工装置の一形態は、薄膜が形成された基板が載せられるステージと、前記薄膜にスクライブラインを形成する刃物と、前記刃物を前記薄膜に押し付けるヘッドと、前記ヘッドを前記ステージに対して相対的に移動させることにより、互いに平行な少なくとも2本の第1のスクライブラインが前記薄膜に形成されるように前記刃物を走査する走査手段と、前記ヘッドおよび前記走査手段の動作を制御する制御装置とを備え、前記制御装置は、前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの一方の加工終了点から前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの他方の加工開始点まで前記刃物を前記薄膜に押し付けながら走査することにより前記加工終了点と前記加工開始点とを繋げる第2のスクライブラインを前記薄膜に形成する。   [1] One embodiment of a processing apparatus for a thin film solar cell according to the present invention includes a stage on which a substrate on which a thin film is formed, a blade that forms a scribe line on the thin film, a head that presses the blade against the thin film, Scanning means for scanning the blade so that at least two first scribe lines parallel to each other are formed on the thin film by moving the head relative to the stage, the head, and the head And a control device for controlling the operation of the scanning means, wherein the control device starts processing the other of the at least two first scribe lines from one processing end point of the at least two first scribe lines. A second scriber that connects the processing end point and the processing start point by scanning the blade to the point while pressing it against the thin film. Forming an in to the thin film.

この加工装置によれば、一方の第1のスクライブラインの形成が終了した後にそれに続けて第2のスクライブラインが形成され、さらにその形成が終了した後に続けて他方の第1のスクライブラインが形成される。このように、刃物が押し付けられた状態が維持されながら各スクライブラインが形成されるため、スクライブラインの加工工程の前に開口部が形成される場合、および、スクライブラインを形成する過程において刃物の昇降が実施される場合と比較して、工程の内容および刃物の動作が簡素化される。このため、スクライブラインの形成に要する時間が短縮される。なお、薄膜太陽電池が積層構造を備える薄膜を備える場合、基板に形成される薄膜は、積層が完了した薄膜または積層途中の薄膜を意味する。   According to this processing apparatus, after the formation of one first scribe line is completed, a second scribe line is formed subsequently, and after the formation is completed, the other first scribe line is formed. Is done. In this way, each scribe line is formed while the pressed state of the cutter is maintained. Therefore, when the opening is formed before the scribe line processing step, and in the process of forming the scribe line, Compared with the case where raising and lowering is performed, the contents of the process and the operation of the blade are simplified. For this reason, the time required for forming the scribe line is shortened. In addition, when a thin film solar cell is provided with the thin film provided with a laminated structure, the thin film formed in a board | substrate means the thin film in which lamination | stacking was completed, or the thin film in the middle of lamination | stacking.

〔2〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記制御装置は、前記第2のスクライブラインの形成時における前記刃物の走査速度を前記第1のスクライブラインの形成時における前記刃物の走査速度よりも遅くする。   [2] According to an example of the processing device for the thin film solar cell, the control device determines the scanning speed of the blade at the time of forming the second scribe line and the speed of the blade at the time of forming the first scribe line. Slower than scanning speed.

一方の第1のスクライブラインと他方の第1のスクライブラインとを繋げる第2のスクライブラインの役割から、第2のスクライブラインの形成時において刃物にかかる力の方向の変化の度合が第1のスクライブラインの形成時よりも大きくなりやすい。上記〔2〕に記載の加工装置によれば、そのような第2のスクライブラインの形成時における刃物の走査速度が遅い速度に設定されるため、刃物にかかる負荷が軽減される。   Because of the role of the second scribe line that connects one first scribe line and the other first scribe line, the degree of change in the direction of the force applied to the blade during the formation of the second scribe line is the first. It tends to be larger than when a scribe line is formed. According to the processing apparatus described in [2] above, since the scanning speed of the blade when the second scribe line is formed is set to a low speed, the load on the blade is reduced.

〔3〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記制御装置は、前記第2のスクライブラインの形成時において前記刃物を前記薄膜に押し付ける力である押付力を前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも弱くする。   [3] According to an example of the processing device for the thin film solar cell, the control device applies a pressing force, which is a force for pressing the blade against the thin film, when the second scribe line is formed. It is weaker than the pressing force at the time of forming.

一方の第1のスクライブラインと他方の第1のスクライブラインとを繋げる第2のスクライブラインの役割から、第2のスクライブラインの形成時において刃物にかかる力の方向の変化の度合が第1のスクライブラインの形成時よりも大きくなりやすい。上記〔3〕に記載の加工装置によれば、そのような第2のスクライブラインの形成時における刃物の押付力が弱い力に設定されるため、刃物にかかる負荷が軽減される。   Because of the role of the second scribe line that connects one first scribe line and the other first scribe line, the degree of change in the direction of the force applied to the blade during the formation of the second scribe line is the first. It tends to be larger than when a scribe line is formed. According to the processing apparatus described in [3] above, since the pressing force of the blade at the time of forming such a second scribe line is set to a weak force, the load on the blade is reduced.

〔4〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記制御装置は、前記第1のスクライブラインの形成時において前記刃物を前記薄膜に押し付ける力である押付力を前記第2のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも弱くする。   [4] According to an example of the processing apparatus for the thin film solar cell, the control device applies a pressing force, which is a force for pressing the blade against the thin film, when the first scribe line is formed. It is weaker than the pressing force at the time of forming.

第1のスクライブラインの長さは基本的には、一方の第1のスクライブラインと他方の第1のスクライブラインとを繋げるという補助的な役割を持つ第2のスクライブラインの長さよりも長く設定される。上記〔4〕に記載の加工装置によれば、そのような第1のスクライブラインの形成時における刃物の押付力が弱い力に設定されるため、スクライブラインの形成にともなう刃物の摩耗が低減される。   The length of the first scribe line is basically set longer than the length of the second scribe line having an auxiliary role of connecting one first scribe line and the other first scribe line. Is done. According to the processing apparatus described in [4] above, since the pressing force of the cutting tool at the time of forming the first scribe line is set to a weak force, the wear of the cutting tool accompanying the formation of the scribe line is reduced. The

〔5〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記制御装置は、前記第2のスクライブラインの加工開始点から所定の位置までの部分の形成時において前記刃物を前記薄膜に押し付ける力である押付力を前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも弱くし、前記所定の位置から前記第2のスクライブラインの加工終了点までの部分の形成時における前記押付力を前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも強くする。   [5] According to an example of the processing device of the thin film solar cell, the control device is configured to press the blade against the thin film when forming a portion from the processing start point of the second scribe line to a predetermined position. The pressing force is weaker than the pressing force at the time of forming the first scribe line, and the pressing force at the time of forming a portion from the predetermined position to the processing end point of the second scribe line is It is stronger than the pressing force at the time of forming the first scribe line.

この加工装置によれば、薄膜または積層途中の薄膜がより確実に除去された第2のスクライブラインが形成されやすく、それにともない他方の第1のスクライブラインの加工開始点においても薄膜または積層途中の薄膜が確実に除去され、第1のスクライブラインが安定して形成される。また、所定の位置までの形成時における刃物の押付力が弱い力に設定されるため、第2のスクライブラインの形成時に刃物にかかる負荷が軽減される。   According to this processing apparatus, it is easy to form the second scribe line from which the thin film or the thin film in the middle of lamination is more reliably removed, and accordingly, the thin film or in the middle of the lamination also at the processing start point of the other first scribe line. The thin film is reliably removed, and the first scribe line is stably formed. In addition, since the pressing force of the blade during formation up to a predetermined position is set to a weak force, the load applied to the blade during formation of the second scribe line is reduced.

〔6〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記所定の位置は前記第2のスクライブラインの加工終了点の直前の位置である。
この加工装置によれば、押付力が強められる部分が第2のスクライブラインの加工終了点を含む狭い範囲に限定されるため、第2のスクライブラインの形成時に刃物にかかる負荷が一層軽減される。
[6] According to an example of the thin film solar cell processing apparatus, the predetermined position is a position immediately before the processing end point of the second scribe line.
According to this processing apparatus, since the portion where the pressing force is increased is limited to a narrow range including the processing end point of the second scribe line, the load applied to the blade during the formation of the second scribe line is further reduced. .

〔7〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記制御装置は円弧状の形状を有する前記第2のスクライブラインが前記薄膜に形成されるように前記走査手段の動作を制御する。   [7] According to an example of the processing device for the thin film solar cell, the control device controls the operation of the scanning means so that the second scribe line having an arc shape is formed on the thin film.

〔8〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記制御装置は前記第2のスクライブライン上の同一の部分を前記刃物が往復するように前記走査手段の動作を制御する。
この加工装置によれば、第2のスクライブラインの形成時において刃物が往復する部分の薄膜または積層途中の薄膜が確実に除去され、引き続き加工される第1のスクライブラインの加工開始点においても薄膜または積層途中の薄膜が確実に除去され、第1のスクライブラインが安定して形成される。
[8] According to an example of the processing apparatus for the thin-film solar cell, the control device controls the operation of the scanning unit so that the blade reciprocates on the same portion on the second scribe line.
According to this processing apparatus, when the second scribe line is formed, the thin film at the portion where the blade reciprocates or the thin film in the middle of the lamination is surely removed, and the thin film is also processed at the processing start point of the first scribe line to be subsequently processed. Or the thin film in the middle of lamination | stacking is removed reliably, and a 1st scribe line is formed stably.

〔9〕前記薄膜太陽電池の加工装置の一例によれば、前記刃物の長手方向に交差する断面における前記刃物の刃先の形状が円形である。
この加工装置によれば、刃先の断面が角を含む場合と比較して、刃先が摩耗した場合における刃先の初期の形状からの変化の度合が小さいため、同一の刃物が長期間にわたって使用される場合においてスクライブラインの仕上がり品質がばらつきにくい。
[9] According to an example of the processing apparatus for the thin film solar cell, the shape of the blade edge of the blade in a cross section intersecting with the longitudinal direction of the blade is circular.
According to this processing apparatus, since the degree of change from the initial shape of the cutting edge when the cutting edge is worn is small compared to the case where the cross section of the cutting edge includes a corner, the same blade is used over a long period of time. In some cases, the finished quality of the scribe line is unlikely to vary.

〔10〕本発明に従う薄膜太陽電池の製造方法の一形態は、基板に形成された薄膜に刃物を押し付けた状態において前記刃物を走査することにより互いに平行な少なくとも2本の第1のスクライブラインを前記薄膜に形成する薄膜太陽電池の加工方法であって、前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの一方が前記薄膜に形成されるように前記刃物を走査する第1の工程と、前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの一方の加工終了点から前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの他方の加工開始点まで前記刃物を前記薄膜に押し付けながら走査することにより前記加工終了点と前記加工開始点とを繋げる第2のスクライブラインを前記薄膜に形成する第2の工程と、前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの他方が前記薄膜に形成されるように前記刃物を走査する第3の工程とを備える。   [10] In one embodiment of the method for manufacturing a thin-film solar cell according to the present invention, at least two first scribe lines parallel to each other are obtained by scanning the blade in a state where the blade is pressed against the thin film formed on the substrate. A method of processing a thin film solar cell to be formed on the thin film, the first step of scanning the blade so that one of the at least two first scribe lines is formed on the thin film, and the at least 2 The processing end point and the processing by scanning while pressing the blade against the thin film from one processing end point of one first scribe line to the other processing start point of the at least two first scribe lines A second step of forming a second scribe line connecting the start point on the thin film, and the other of the at least two first scribe lines. And a third step of scanning the blade so as to form the thin film.

この加工方法によれば、一方の第1のスクライブラインの形成が終了した後にそれに続けて第2のスクライブラインが形成され、さらにその形成が終了した後に続けて他方の第1のスクライブラインが形成される。このように、刃物が押し付けられた状態が維持されながら各スクライブラインが形成されるため、スクライブラインの加工工程の前に開口部が形成される場合、および、スクライブラインを形成する過程において刃物の昇降が実施される場合と比較して、工程の内容および刃物の動作が簡素化される。このため、スクライブラインの形成に要する時間が短縮される。   According to this processing method, after the formation of one first scribe line is completed, a second scribe line is formed subsequently, and after the formation is completed, the other first scribe line is formed. Is done. In this way, each scribe line is formed while the pressed state of the cutter is maintained. Therefore, when the opening is formed before the scribe line processing step, and in the process of forming the scribe line, Compared with the case where raising and lowering is performed, the contents of the process and the operation of the blade are simplified. For this reason, the time required for forming the scribe line is shortened.

上記薄膜太陽電池の加工装置、および、薄膜太陽電池の加工方法はスクライブラインの形成に要する時間を短縮することに寄与する。   The thin film solar cell processing apparatus and the thin film solar cell processing method contribute to shortening the time required for forming the scribe line.

は実施の形態の薄膜太陽電池の加工装置の斜視図である。These are the perspective views of the processing apparatus of the thin film solar cell of embodiment. は図1の刃物の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the blade of FIG. 1. は図1の加工装置のブロック図である。FIG. 2 is a block diagram of the processing apparatus of FIG. 1. は加工装置による加工完了後の薄膜太陽電池の平面図である。FIG. 3 is a plan view of a thin film solar cell after completion of processing by the processing apparatus. は図4のX−X断面図である。These are XX sectional drawing of FIG. は第1の電極形成工程が完了した製造途中の薄膜太陽電池の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a thin film solar cell in the middle of manufacture after the first electrode formation step is completed. は中間層形成工程が完了した製造途中の薄膜太陽電池の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a thin film solar cell in the middle of production after the intermediate layer forming step is completed. は第1の工程の第1の段階における薄膜太陽電池の平面図である。FIG. 3 is a plan view of a thin film solar cell in a first stage of a first process. は第1の工程の第2の段階における薄膜太陽電池の平面図である。These are top views of the thin film solar cell in the 2nd step of a 1st process. は第2の工程における薄膜太陽電池の平面図である。These are the top views of the thin film solar cell in a 2nd process. は第3の工程における薄膜太陽電池の平面図である。These are the top views of the thin film solar cell in a 3rd process. は第4の工程における薄膜太陽電池の平面図である。These are the top views of the thin film solar cell in a 4th process. は第1の変形例の薄膜太陽電池の平面図である。These are the top views of the thin film solar cell of a 1st modification. は第2の変形例の薄膜太陽電池の平面図である。These are the top views of the thin film solar cell of a 2nd modification. は第3の変形例の薄膜太陽電池の平面図である。These are the top views of the thin film solar cell of a 3rd modification.

(実施の形態)
図1は薄膜太陽電池1を製造する機能を備えた加工装置100の斜視図である。加工装置100は各種の構成要素を収容する本体110、製造途中の薄膜太陽電池1が載せられるステージ130、その薄膜太陽電池1を加工するヘッド150、ヘッド150をステージ130に対して相対的に移動させるヘッドガイド170、ステージ130の様子を撮影するカメラ140、および、ヘッド150等の動作を制御する制御装置120を備える。
(Embodiment)
FIG. 1 is a perspective view of a processing apparatus 100 having a function of manufacturing a thin film solar cell 1. The processing apparatus 100 includes a main body 110 that houses various components, a stage 130 on which the thin-film solar cell 1 being manufactured, a head 150 that processes the thin-film solar cell 1, and a head 150 that moves relative to the stage 130. And a control device 120 that controls the operation of the head 150 and the like.

ステージ130は本体110により支持される。ステージ130の上面である載置面131は薄膜太陽電池1を支持可能な平面である。ヘッドガイド170は、本体110の奥行き方向であるY方向において本体110に対して移動可能な第1のガイド171、および、第1のガイド171により支持され本体110の幅方向であるX方向に延びる第2のガイド172を備える。第1のガイド171および第2のガイド172は本体110に対して一体的に移動する。   The stage 130 is supported by the main body 110. The mounting surface 131 that is the upper surface of the stage 130 is a plane that can support the thin-film solar cell 1. The head guide 170 is supported by the first guide 171 that can move with respect to the main body 110 in the Y direction that is the depth direction of the main body 110, and extends in the X direction that is the width direction of the main body 110. A second guide 172 is provided. The first guide 171 and the second guide 172 move integrally with the main body 110.

ヘッド150は、X方向に並べられ、ステージ130に対して昇降可能な複数の刃物160を備え、第2のガイド172に沿って移動可能な状態で第2のガイド172により支持される。ヘッド150は、ステージ130に載置された製造途中の薄膜太陽電池1に刃物160を押し付ける力である押付力を調節可能であり、薄膜太陽電池1の加工工程等に応じて設定される所定の押付力で刃物160を薄膜太陽電池1に押し付ける。ヘッド150が備える刃物160の本数の一例は2本である。図2に示されるとおり、刃物160の刃先161は円錐台状を有する。刃物160の長手方向に直交する断面における刃先161の形状は円形である。   The head 150 includes a plurality of blades 160 arranged in the X direction and movable up and down with respect to the stage 130, and is supported by the second guide 172 while being movable along the second guide 172. The head 150 can adjust a pressing force, which is a force for pressing the blade 160 against the thin film solar cell 1 being manufactured and placed on the stage 130, and is set according to a processing step of the thin film solar cell 1. The blade 160 is pressed against the thin film solar cell 1 with a pressing force. An example of the number of blades 160 provided in the head 150 is two. As shown in FIG. 2, the blade edge 161 of the blade 160 has a truncated cone shape. The shape of the blade edge 161 in the cross section orthogonal to the longitudinal direction of the blade 160 is circular.

図3は加工装置100の機能ブロックを示すブロック図である。加工装置100は、第1のガイド171をステージ130に対してY方向に移動させる第1のアクチュエータ201、ヘッド150を第2のガイド172に対してX方向に移動させる第2のアクチュエータ202、ならびに、刃物160をステージ130に接近する方向およびステージ130から離間する方向に移動させる第3のアクチュエータ203をさらに備える。第1のアクチュエータ201は本体110内に搭載される。第2のアクチュエータ202はヘッドガイド170内に搭載される。第3のアクチュエータ203はヘッド150内に搭載される。なお、第1のアクチュエータ201、第2のアクチュエータ202、および、ヘッドガイド170は刃物160を走査する走査手段を構成している。   FIG. 3 is a block diagram showing functional blocks of the processing apparatus 100. The processing apparatus 100 includes a first actuator 201 that moves the first guide 171 in the Y direction with respect to the stage 130, a second actuator 202 that moves the head 150 in the X direction with respect to the second guide 172, and The third actuator 203 is further provided to move the blade 160 in a direction approaching the stage 130 and a direction away from the stage 130. The first actuator 201 is mounted in the main body 110. The second actuator 202 is mounted in the head guide 170. The third actuator 203 is mounted in the head 150. The first actuator 201, the second actuator 202, and the head guide 170 constitute a scanning unit that scans the blade 160.

制御装置120は、スクライブライン30を形成するための制御を含む各種の制御を実行する制御部121、および、制御のために必要な情報を記憶するメモリ122を備え、第1のアクチュエータ201、第2のアクチュエータ202、第3のアクチュエータ203、および、カメラ140と電気的に接続される。制御部121の一例はマイクロコンピューターまたはFPGA(Field of Programmable Gate Array)である。   The control device 120 includes a control unit 121 that executes various types of control including control for forming the scribe line 30, and a memory 122 that stores information necessary for the control. The second actuator 202, the third actuator 203, and the camera 140 are electrically connected. An example of the control unit 121 is a microcomputer or an FPGA (Field of Programmable Gate Array).

制御部121はヘッド150、ヘッドガイド170、および、カメラ140の動作を制御する。制御部121の制御により第1のアクチュエータ201および第2のアクチュエータ202が駆動することにより、ヘッド150がステージ130に対して移動し、これによりヘッド150の刃物160がY方向およびX方向に走査される。   The control unit 121 controls operations of the head 150, the head guide 170, and the camera 140. When the first actuator 201 and the second actuator 202 are driven by the control of the control unit 121, the head 150 moves with respect to the stage 130, whereby the blade 160 of the head 150 is scanned in the Y direction and the X direction. The

図4は加工装置100による加工完了後の薄膜太陽電池1の平面図である。図5は図4のX−X断面図である。図5に示されるとおり、薄膜太陽電池1は基板10およびその上に形成された薄膜20を備える。薄膜20は積層構造を備える。薄膜20を構成する複数の層は、基板10上に形成された第1の電極21、第1の電極21と電気的に接続された第2の電極22、および、第1の電極21と第2の電極22との間に形成された中間層23である。第1の電極21、ならびに、第1の電極21および中間層23により構成される層は、それぞれ積層途中の薄膜である。第2の電極22の上面の角にはステージ130上における薄膜太陽電池1の位置を検出するために用いられるアライメントマーク40が形成されている。   FIG. 4 is a plan view of the thin-film solar cell 1 after processing by the processing apparatus 100 is completed. FIG. 5 is a sectional view taken along line XX in FIG. As shown in FIG. 5, the thin film solar cell 1 includes a substrate 10 and a thin film 20 formed thereon. The thin film 20 has a laminated structure. The plurality of layers constituting the thin film 20 includes a first electrode 21 formed on the substrate 10, a second electrode 22 electrically connected to the first electrode 21, and the first electrode 21 and the first electrode 21. This is an intermediate layer 23 formed between the two electrodes 22. The first electrode 21 and the layer constituted by the first electrode 21 and the intermediate layer 23 are thin films in the middle of lamination. An alignment mark 40 used for detecting the position of the thin-film solar cell 1 on the stage 130 is formed at the corner of the upper surface of the second electrode 22.

中間層23は積層構造を備える。中間層23を構成する複数の層は、第1の電極21上に形成された光吸収層23A、光吸収層23A上に形成されたバッファ層23B、および、バッファ層23B上に形成された絶縁層23Cである。   The intermediate layer 23 has a laminated structure. The plurality of layers constituting the intermediate layer 23 include a light absorption layer 23A formed on the first electrode 21, a buffer layer 23B formed on the light absorption layer 23A, and an insulation formed on the buffer layer 23B. Layer 23C.

薄膜20には3種類のスクライブライン30が形成されている。1種類目のスクライブライン30は、第1の電極21を分割するスクライブライン30Aである。2種類目のスクライブライン30は、中間層23を分割するスクライブライン30Bである。3種類目のスクライブライン30は、第2の電極22および中間層23を分割するスクライブライン30Cである。スクライブライン30Aはメカニカルスクライブ法とは別の加工方法、例えばレーザースクライブ法により形成される。スクライブライン30Bおよびスクライブライン30Cは加工装置100を用いたメカニカルスクライブ法により形成される。   Three types of scribe lines 30 are formed on the thin film 20. The first type of scribe line 30 is a scribe line 30 </ b> A that divides the first electrode 21. The second type of scribe line 30 is a scribe line 30 </ b> B that divides the intermediate layer 23. The third type of scribe line 30 is a scribe line 30 </ b> C that divides the second electrode 22 and the intermediate layer 23. The scribe line 30A is formed by a processing method different from the mechanical scribe method, for example, a laser scribe method. The scribe line 30B and the scribe line 30C are formed by a mechanical scribe method using the processing apparatus 100.

スクライブライン30Aは光吸収層23Aの一部により埋められている。スクライブライン30Bは第2の電極22の一部により埋められている。スクライブライン30Cは他の物体により埋められていない。スクライブライン30Bを埋める第2の電極22の一部が第1の電極21と接触していることにより、第1の電極21と第2の電極22とが電気的に接続される。   The scribe line 30A is filled with a part of the light absorption layer 23A. The scribe line 30 </ b> B is filled with a part of the second electrode 22. The scribe line 30C is not filled with other objects. A part of the second electrode 22 filling the scribe line 30 </ b> B is in contact with the first electrode 21, whereby the first electrode 21 and the second electrode 22 are electrically connected.

スクライブライン30Bおよびスクライブライン30Cは、加工開始点30Xから加工終了点30Yまでにわたり延びる溝であり、その加工工程の点から複数の第1のスクライブライン31および複数の第2のスクライブライン32の2種類の領域に区分される。スクライブライン30Bおよびスクライブライン30Cは実質的に連続して形成された複数の第1のスクライブライン31および複数の第2のスクライブライン32により構成される1本の溝である。   The scribe line 30B and the scribe line 30C are grooves extending from the machining start point 30X to the machining end point 30Y. From the point of the machining process, the scribe line 30B and the scribe line 30C are a plurality of first scribe lines 31 and a plurality of second scribe lines 32. Divided into types of areas. The scribe line 30B and the scribe line 30C are one groove constituted by a plurality of first scribe lines 31 and a plurality of second scribe lines 32 formed substantially continuously.

第1のスクライブライン31は基板10の辺に平行な長いスクライブライン30であり、加工開始点31Xから加工終了点31Yまでにわたり延びる直線である。第2のスクライブライン32は刃物160による第1のスクライブライン31の加工を補助するために形成され、X方向において隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yと他方の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xとを繋げる。一例では、第2のスクライブライン32の形状は円弧状である。第2のスクライブライン32の長さは第1のスクライブライン31の長さよりも短い。   The first scribe line 31 is a long scribe line 30 parallel to the side of the substrate 10, and is a straight line extending from the processing start point 31X to the processing end point 31Y. The second scribe line 32 is formed to assist the processing of the first scribe line 31 by the cutting tool 160, and the processing end point 31Y of one first scribe line 31 adjacent in the X direction and the other first scribe line 31. The processing start point 31X of the scribe line 31 is connected. In one example, the shape of the second scribe line 32 is an arc shape. The length of the second scribe line 32 is shorter than the length of the first scribe line 31.

なお、図4および図8〜図12では、加工開始点30Xが模式的に点として表示されているが、実際の加工開始点30Xはスクライブライン30B、30Cの他の部分と実質的に同じ幅を有し、目視により加工開始点30Xとスクライブライン30B、30Cの他の部分との相違を識別することは困難である。   4 and 8 to 12, the machining start point 30X is schematically displayed as a point, but the actual machining start point 30X is substantially the same width as the other parts of the scribe lines 30B and 30C. It is difficult to identify the difference between the processing start point 30X and other parts of the scribe lines 30B and 30C by visual inspection.

薄膜20に関する製造工程は大きくは3つの工程、すなわち、第1の電極形成工程、中間層形成工程、および、第2の電極形成工程に区分される。図6は第1の電極形成工程が完了した製造途中の薄膜太陽電池1の断面である。図7は中間層形成工程が完了した製造途中の薄膜太陽電池1の断面である。図5は加工装置100による加工完了後の薄膜太陽電池1の断面である。   The manufacturing process related to the thin film 20 is roughly divided into three processes, that is, a first electrode forming process, an intermediate layer forming process, and a second electrode forming process. FIG. 6 is a cross-sectional view of the thin-film solar cell 1 in the middle of manufacture after the first electrode formation step is completed. FIG. 7 is a cross section of the thin-film solar cell 1 in the middle of manufacture after the intermediate layer forming step is completed. FIG. 5 is a cross section of the thin-film solar cell 1 after completion of processing by the processing apparatus 100.

第1の電極形成工程では、最初に基板10上に第1の電極21が形成される。基板10の材質の一例はソーダライムガラスである。第1の電極21の材質の一例はモリブデンである。次に、第1の電極21を分割するスクライブライン30である複数のスクライブライン30Aが第1の電極21に形成される。   In the first electrode formation step, first, the first electrode 21 is formed on the substrate 10. An example of the material of the substrate 10 is soda lime glass. An example of the material of the first electrode 21 is molybdenum. Next, a plurality of scribe lines 30 </ b> A that are scribe lines 30 that divide the first electrode 21 are formed on the first electrode 21.

中間層形成工程では、最初に第1の電極21上に光吸収層23Aが形成される。次に、光吸収層23A上にバッファ層23Bが形成される。次に、バッファ層23B上に絶縁層23Cが形成される。光吸収層23Aの一例は化合物半導体薄膜である。バッファ層23Bの一例はZnS薄膜である。絶縁層23Cの一例はZnO薄膜である。   In the intermediate layer forming step, first, the light absorption layer 23 </ b> A is formed on the first electrode 21. Next, the buffer layer 23B is formed on the light absorption layer 23A. Next, an insulating layer 23C is formed on the buffer layer 23B. An example of the light absorption layer 23A is a compound semiconductor thin film. An example of the buffer layer 23B is a ZnS thin film. An example of the insulating layer 23C is a ZnO thin film.

次に、加工装置100により中間層23に複数のスクライブライン30Bが形成される。スクライブライン30Bはスクライブライン30Aに対してX方向の一方に所定の距離だけオフセットした位置に形成される。   Next, a plurality of scribe lines 30 </ b> B are formed in the intermediate layer 23 by the processing apparatus 100. The scribe line 30B is formed at a position offset from the scribe line 30A by a predetermined distance in one of the X directions.

第2の電極形成工程では、最初に中間層23上に第2の電極22が形成される。第2の電極22の材質の一例はZnO:Al薄膜である。次に、薄膜20を構成する第2の電極22および中間層23を分割するスクライブライン30である複数のスクライブライン30Cが第2の電極22および中間層23に形成される。   In the second electrode formation step, first, the second electrode 22 is formed on the intermediate layer 23. An example of the material of the second electrode 22 is a ZnO: Al thin film. Next, a plurality of scribe lines 30 </ b> C, which are scribe lines 30 that divide the second electrode 22 and the intermediate layer 23 constituting the thin film 20, are formed on the second electrode 22 and the intermediate layer 23.

図8〜図10はメカニカルスクライブ法によるスクライブライン30の具体的な加工工程に関する図である。ここでは、スクライブライン30を代表してスクライブライン30Bの加工工程を取り上げている。スクライブライン30Cはスクライブライン30Bの加工工程に準じた加工工程を経て形成される。   8-10 is a figure regarding the specific manufacturing process of the scribe line 30 by the mechanical scribe method. Here, the processing process of the scribe line 30 </ b> B is taken up as a representative of the scribe line 30. The scribe line 30C is formed through a processing step according to the processing step of the scribe line 30B.

図8に示される第1の工程の第1の段階では、ステージ130の載置面131に平行な仮想面である走査面上における基板10に対する刃物160の位置が調節される。一例では、第1の工程における第1の段階は次の具体的な工程を含む。制御装置120はカメラ140により検出されたアライメントマーク40の位置に基づいて、走査面上における加工開始点30Xの座標を算出し、刃先161の座標が加工開始点30Xの座標と一致するように各アクチュエータ201、202に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて各アクチュエータ201、202が駆動することにより、刃先161の座標が加工開始点30Xの座標と実質的に一致する。なお、中間層23に最初に形成される第1のスクライブライン31の加工開始点31Xとスクライブライン30Bの加工開始点30Xとは同一の点である。また、中間層23に最後に形成される第1のスクライブライン31の加工終了点31Yとスクライブライン30Bの加工終了点30Yとは同一の点である。   In the first stage of the first step shown in FIG. 8, the position of the blade 160 relative to the substrate 10 on the scanning plane which is a virtual plane parallel to the mounting surface 131 of the stage 130 is adjusted. In one example, the first step in the first step includes the following specific steps. The control device 120 calculates the coordinates of the machining start point 30X on the scanning plane based on the position of the alignment mark 40 detected by the camera 140, and each of the coordinates of the cutting edge 161 matches the coordinates of the machining start point 30X. Command signals are output to the actuators 201 and 202. When the actuators 201 and 202 are driven based on the command signal, the coordinates of the blade edge 161 substantially coincide with the coordinates of the machining start point 30X. Note that the processing start point 31X of the first scribe line 31 formed first in the intermediate layer 23 and the processing start point 30X of the scribe line 30B are the same point. The processing end point 31Y of the first scribe line 31 formed last in the intermediate layer 23 and the processing end point 30Y of the scribe line 30B are the same point.

図9に示される第1の工程の第2の段階では、刃先161が中間層23に押し付けられ、中間層23に第1のスクライブライン31が形成される。一例では、第1の工程の第2の段階は次の具体的な工程を含む。制御装置120は最初に、刃先161が第1の押付力で中間層23に押し付けられるように第3のアクチュエータ203に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて第3のアクチュエータ203が駆動することにより、刃先161が下降して第1の押付力で中間層23に押し付けられ、刃先161の先端が中間層23に食い込む。なお、第1の押付力の一例は1.3Nである。   In the second stage of the first step shown in FIG. 9, the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23, and the first scribe line 31 is formed in the intermediate layer 23. In one example, the second stage of the first process includes the following specific processes. First, the control device 120 outputs a command signal to the third actuator 203 so that the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23 by the first pressing force. When the third actuator 203 is driven based on the command signal, the blade edge 161 descends and is pressed against the intermediate layer 23 by the first pressing force, and the tip of the blade edge 161 bites into the intermediate layer 23. An example of the first pressing force is 1.3N.

制御装置120は次に、刃物160が第1の走査速度で第1のスクライブライン31の加工開始点31Xから加工終了点31Yに向かう方向である第1の方向D1へ移動するように第1のアクチュエータ201に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて第1のアクチュエータ201が駆動することにより、刃先161が中間層23に押し付けられた状態において刃物160が第1の方向D1へ移動し、中間層23が刃先161により剥離され、中間層23に第1のスクライブライン31が形成される。なお、第1の走査速度の一例は1000mm/秒である。   Next, the control device 120 moves the first tool 160 in the first direction D1 that is the direction from the processing start point 31X of the first scribe line 31 toward the processing end point 31Y at the first scanning speed. A command signal is output to the actuator 201. When the first actuator 201 is driven based on the command signal, the cutting tool 160 moves in the first direction D1 in a state where the cutting edge 161 is pressed against the intermediate layer 23, and the intermediate layer 23 is peeled off by the cutting edge 161. The first scribe line 31 is formed in the intermediate layer 23. An example of the first scanning speed is 1000 mm / second.

制御装置120は次に、刃物160の位置が第1のスクライブライン31の加工終了点31Yに到達したことに基づいて、刃物160の走査が一旦停止するように第1のアクチュエータ201に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて第1のアクチュエータ201が駆動することにより、刃物160が加工終了点31Yで停止し、加工開始点31Xから加工終了点31Yまでの長さを持つ第1のスクライブライン31が形成される。なお、第1のスクライブライン31の長さは基板10のサイズに応じて設定され、通常は0.2m程度から1m程度の範囲に含まれる。   Next, based on the fact that the position of the blade 160 has reached the processing end point 31Y of the first scribe line 31, the control device 120 sends a command signal to the first actuator 201 so that the scanning of the blade 160 is temporarily stopped. Output. When the first actuator 201 is driven based on the command signal, the blade 160 stops at the machining end point 31Y, and the first scribe line 31 having a length from the machining start point 31X to the machining end point 31Y is formed. It is formed. The length of the first scribe line 31 is set according to the size of the substrate 10 and is usually included in the range of about 0.2 m to 1 m.

図10に示される第2の工程では、中間層23に第2のスクライブライン32が形成される。一例では、第2の工程は次の具体的な工程を含む。制御装置120は最初に、刃物160が第2の押付力で中間層23に押し付けられ、その刃物160がX方向において隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yから他方の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xに第2の走査速度で移動するように各アクチュエータ201、202に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて各アクチュエータ201、202が駆動することにより、刃先161が中間層23に押し付けられた状態において刃物160がX方向において隣り合う加工終了点31Yから加工開始点31Xに移動する。   In the second step shown in FIG. 10, the second scribe line 32 is formed in the intermediate layer 23. In one example, the second step includes the following specific steps. First, the control device 120 presses the cutting tool 160 against the intermediate layer 23 with the second pressing force, and the cutting tool 160 starts from the processing end point 31Y of one of the first scribe lines 31 adjacent in the X direction. A command signal is output to each of the actuators 201 and 202 so as to move to the machining start point 31X of the scribe line 31 at the second scanning speed. The actuators 201 and 202 are driven based on the command signal, whereby the cutting tool 160 moves from the processing end point 31Y adjacent in the X direction to the processing start point 31X in a state where the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23.

刃物160が移動することにより中間層23が除去され、第2のスクライブライン32が形成される。なお、第2の押付力の一例は第1の押付力よりも弱い0.9Nである。第2の走査速度の一例は第1の走査速度よりも遅い50mm/秒である。第2の走査速度が第1の走査速度よりも遅いことにより第2のスクライブライン32の加工が安定するため、上述のとおり第2の押付力が第1の押付力よりも弱い力に設定されても中間層23が確実に除去される。   When the blade 160 moves, the intermediate layer 23 is removed, and the second scribe line 32 is formed. An example of the second pressing force is 0.9 N which is weaker than the first pressing force. An example of the second scanning speed is 50 mm / second, which is slower than the first scanning speed. Since the processing of the second scribe line 32 is stabilized by the second scanning speed being slower than the first scanning speed, the second pressing force is set to be weaker than the first pressing force as described above. However, the intermediate layer 23 is reliably removed.

制御装置120は次に、刃物160の位置が2番目の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xに到達したことに基づいて、刃物160の走査が一旦停止するように各アクチュエータ201、202に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて各アクチュエータ201、202が駆動することにより、刃物160が2番目の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xで停止し、円弧状の第2のスクライブライン32が形成される。   Next, based on the fact that the position of the blade 160 has reached the processing start point 31X of the second first scribe line 31, the control device 120 causes each actuator 201, 202 to temporarily stop scanning the blade 160. A command signal is output. By driving the actuators 201 and 202 based on the command signal, the blade 160 stops at the machining start point 31X of the second first scribe line 31, and the arc-shaped second scribe line 32 is formed. The

図11に示される第3の工程では、刃先161が中間層23に押し付けられた状態が維持され、中間層23に次の第1のスクライブライン31が形成される。一例では、第3の工程は次の具体的な工程を含む。制御装置120は最初に、刃先161が第1の押付力で中間層23に押し付けられるように第3のアクチュエータ203に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて第3のアクチュエータ203が駆動することにより、刃先161が下降して第1の押付力で中間層23に押し付けられる。   In the third step shown in FIG. 11, the state in which the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23 is maintained, and the next first scribe line 31 is formed in the intermediate layer 23. In one example, the third step includes the following specific steps. First, the control device 120 outputs a command signal to the third actuator 203 so that the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23 by the first pressing force. When the third actuator 203 is driven based on the command signal, the blade edge 161 is lowered and pressed against the intermediate layer 23 by the first pressing force.

制御装置120は次に、刃物160が第1の走査速度で第1の方向D1とは反対の方向である第2の方向D2へ移動するように第1のアクチュエータ201に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて第1のアクチュエータ201が駆動することにより、刃先161が中間層23に押し付けられた状態において刃物160が第2の方向D2へ移動し、中間層23が刃先161により剥離され、中間層23に次の第1のスクライブライン31が形成される。   Next, the control device 120 outputs a command signal to the first actuator 201 so that the blade 160 moves at the first scanning speed in the second direction D2, which is the direction opposite to the first direction D1. When the first actuator 201 is driven based on the command signal, the cutting tool 160 moves in the second direction D2 while the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23, and the intermediate layer 23 is peeled off by the blade edge 161. The next first scribe line 31 is formed in the intermediate layer 23.

制御装置120は次に、刃物160の位置が加工終了点31Yに到達したことに基づいて、刃物160の走査が一旦停止するように第1のアクチュエータ201に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて第1のアクチュエータ201が駆動することにより、刃物160が加工終了点31Yで停止し、加工開始点31Xから加工終了点31Yまでの長さを持つ第1のスクライブライン31が形成される。   Next, the control device 120 outputs a command signal to the first actuator 201 so that the scanning of the blade 160 is temporarily stopped based on the fact that the position of the blade 160 has reached the machining end point 31Y. When the first actuator 201 is driven based on the command signal, the blade 160 stops at the machining end point 31Y, and the first scribe line 31 having a length from the machining start point 31X to the machining end point 31Y is formed. It is formed.

図12に示される第4の工程では、中間層23に次の第2のスクライブライン32が形成される。一例では、第4の工程は次の具体的な工程を含む。制御装置120は最初に、刃物160が第2の押付力で中間層23に押し付けられ、その刃物160がX方向において隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yから他方の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xに第2の走査速度で移動するように各アクチュエータ201、202に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて各アクチュエータ201、202が駆動することにより、刃先161が中間層23に押し付けられた状態において刃物160がX方向において隣り合う加工終了点31Yから加工開始点31Xに移動する。刃物160が移動することにより中間層23が除去され、第2のスクライブライン32が形成される。   In the fourth step shown in FIG. 12, the next second scribe line 32 is formed in the intermediate layer 23. In one example, the fourth step includes the following specific steps. First, the control device 120 presses the cutting tool 160 against the intermediate layer 23 with the second pressing force, and the cutting tool 160 starts from the processing end point 31Y of one of the first scribe lines 31 adjacent in the X direction. A command signal is output to each of the actuators 201 and 202 so as to move to the machining start point 31X of the scribe line 31 at the second scanning speed. The actuators 201 and 202 are driven based on the command signal, whereby the cutting tool 160 moves from the processing end point 31Y adjacent in the X direction to the processing start point 31X in a state where the blade edge 161 is pressed against the intermediate layer 23. When the blade 160 moves, the intermediate layer 23 is removed, and the second scribe line 32 is formed.

制御装置120は次に、刃物160の位置が3番目の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xに到達したことに基づいて、刃物160の走査が一旦停止するように各アクチュエータ201、202に指令信号を出力する。その指令信号に基づいて各アクチュエータ201、202が駆動することにより、刃物160が加工開始点31Xで停止し、円弧状の第2のスクライブライン32が形成される。   Next, based on the fact that the position of the blade 160 has reached the processing start point 31X of the third first scribe line 31, the control device 120 causes each actuator 201, 202 to temporarily stop scanning of the blade 160. A command signal is output. When the actuators 201 and 202 are driven based on the command signal, the cutter 160 stops at the machining start point 31X, and the arc-shaped second scribe line 32 is formed.

加工装置100によれば、ヘッド150に複数本の刃物160が取り付けられているため、第1の方向D1または第2の方向D2に刃物160が1回走査されることにより複数の第1のスクライブライン31が中間層23に同時に形成される。また、X方向において隣り合う加工終了点31Yから加工開始点31Xに刃物160が1回走査されることにより、複数の第2のスクライブライン32が中間層23に同時に形成される。   According to the processing apparatus 100, since the plurality of blades 160 are attached to the head 150, the blades 160 are scanned once in the first direction D1 or the second direction D2, thereby causing a plurality of first scribes. A line 31 is simultaneously formed in the intermediate layer 23. In addition, the plurality of second scribe lines 32 are simultaneously formed in the intermediate layer 23 by the blade 160 being scanned once from the processing end point 31Y adjacent in the X direction to the processing start point 31X.

第1の工程から第4の工程を1回実施したことにより、互いに平行な一対の第1のスクライブライン31、一対の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yと加工開始点31Xとを繋げる第2のスクライブライン32、および、他方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yに繋がる第2のスクライブライン32が中間層23に形成される。その後、制御装置120は第1の工程から第4の工程を繰り返すことにより、中間層23への形成が予定されている残りの複数の第1のスクライブライン31および複数の第2のスクライブライン32を形成する。   By performing the first to fourth steps once, the pair of first scribe lines 31 parallel to each other, the processing end point 31Y of the pair of first scribe lines 31 and the processing start point 31X are connected. The second scribe line 32 and the second scribe line 32 connected to the processing end point 31 </ b> Y of the other first scribe line 31 are formed in the intermediate layer 23. Thereafter, the control device 120 repeats the first step to the fourth step, whereby the plurality of remaining first scribe lines 31 and the plurality of second scribe lines 32 that are scheduled to be formed on the intermediate layer 23. Form.

加工装置100によれば、例えば以下に示される効果が得られる。
(1)加工装置100は、互いに平行でありX方向に隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点30Yから他方の第1のスクライブライン31の加工開始点30Xまで刃物160を薄膜20または積層途中の薄膜に押し付けながら走査する。この構成によれば、刃物160が押し付けられた状態が維持されながら各スクライブライン31、32が形成されるため、スクライブライン30の加工工程の前に開口部が形成される場合、および、スクライブライン30を形成する過程において刃物160の昇降が実施される場合と比較して、工程の内容および刃物160の動作が簡素化される。このため、スクライブライン30の形成に要する時間が短縮される。
According to the processing apparatus 100, for example, the following effects can be obtained.
(1) The processing apparatus 100 moves the blade 160 from the processing end point 30 </ b> Y of one first scribe line 31 parallel to each other in the X direction to the processing start point 30 </ b> X of the other first scribe line 31. Or it scans, pressing on the thin film in the middle of lamination | stacking. According to this configuration, the scribe lines 31 and 32 are formed while the state in which the blade 160 is pressed is maintained. Therefore, when the opening is formed before the processing step of the scribe line 30, and the scribe line Compared with the case where the blade 160 is moved up and down in the process of forming 30, the contents of the process and the operation of the blade 160 are simplified. For this reason, the time required for forming the scribe line 30 is shortened.

(2)加工装置100は、第2のスクライブライン32の形成時の刃物160の走査速度である第2の走査速度を第1のスクライブライン31の形成時の刃物160の走査速度である第1の走査速度よりも遅くする。この構成によれば、刃物160にかかる力の方向の変化の度合が第1のスクライブライン31の形成時よりも大きくなりやすい第2のスクライブライン32の形成時において、刃物160の走査速度が遅い速度に設定されるため、刃物160にかかる負荷が軽減される。また、第2のスクライブライン32よりも長い第1のスクライブライン31の形成時において刃物160の走査速度が速い速度に設定されるため、スクライブライン30の形成にかかる時間が短縮される。   (2) The processing apparatus 100 uses the second scanning speed, which is the scanning speed of the blade 160 when forming the second scribe line 32, as the first scanning speed, which is the scanning speed of the blade 160 when forming the first scribe line 31. Slower than the scanning speed. According to this configuration, when the second scribe line 32 is formed, the degree of change in the direction of the force applied to the blade 160 is likely to be greater than when the first scribe line 31 is formed. Since the speed is set, the load on the blade 160 is reduced. In addition, when the first scribe line 31 longer than the second scribe line 32 is formed, the scanning speed of the blade 160 is set to a high speed, so that the time required for forming the scribe line 30 is shortened.

(3)加工装置100は、第2のスクライブライン32の形成時の刃物160の押付力である第2の押付力を第1のスクライブライン31の形成時の刃物160の押付力である第1の押付力よりも弱くする。この構成によれば、上述のとおり刃物160にかかる力の方向の変化の度合が大きくなりやすい第2のスクライブライン32の形成時において、刃物160の押付力が弱い力に設定されるため、刃物160にかかる負荷が軽減される。   (3) The machining apparatus 100 uses the second pressing force, which is the pressing force of the blade 160 when the second scribe line 32 is formed, as the first pressing force of the blade 160 when the first scribe line 31 is formed. It is weaker than the pressing force. According to this configuration, since the pressing force of the blade 160 is set to a weak force when forming the second scribe line 32 that tends to increase the degree of change in the direction of the force applied to the blade 160 as described above, the blade The load on 160 is reduced.

(4)刃先161の断面の形状が円形である。この構成によれば、刃先161の断面が角を含む場合と比較して、刃先161が摩耗した場合における初期の形状からの変化の度合が小さいため、同一の刃物160が長期間にわたって使用される場合においてスクライブライン30の品質がばらつきにくい。   (4) The shape of the cross section of the blade edge 161 is circular. According to this configuration, since the degree of change from the initial shape when the cutting edge 161 is worn is small compared to the case where the cross section of the cutting edge 161 includes a corner, the same blade 160 is used over a long period of time. In some cases, the quality of the scribe line 30 is unlikely to vary.

(変形例)
上記実施の形態に関する説明は本発明に従う薄膜太陽電池の加工装置、および、薄膜太陽電池の加工方法が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本発明に従う薄膜太陽電池の加工装置、および、薄膜太陽電池の加工方法は実施の形態以外に例えば以下に示される上記実施の形態の変形例、および、相互に矛盾しない少なくとも2つの変形例が組み合わせられた形態を取り得る。
(Modification)
The description about the above embodiment is an example of the form that the thin film solar cell processing apparatus and the thin film solar cell processing method according to the present invention can take, and is not intended to limit the form. The thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method according to the present invention is a combination of, in addition to the embodiments, for example, the following variations of the above-described embodiment and at least two variations that are not contradictory to each other Can take the form

・第1の電極21を分割するスクライブライン30Aの加工方法はレーザースクライブ法に限られず、加工装置100を用いたメカニカルスクライブ法に変更可能である。
・第1の押付力と第2の押付力との大小関係は任意に変更可能である。一例では、第1の押付力が第2の押付力よりも弱い。この変形例によれば、第2のスクライブライン32よりも長い第1のスクライブライン31の形成時における刃物160の押付力が弱い力に設定されるため、スクライブライン30の形成にともなう刃物160の摩耗が低減される。別の一例では、第1の押付力と第2の押付力とが互いに等しい。
The processing method of the scribe line 30 </ b> A that divides the first electrode 21 is not limited to the laser scribe method, and can be changed to a mechanical scribe method using the processing apparatus 100.
The magnitude relationship between the first pressing force and the second pressing force can be arbitrarily changed. In one example, the first pressing force is weaker than the second pressing force. According to this modification, since the pressing force of the blade 160 when the first scribe line 31 longer than the second scribe line 32 is formed is set to a weak force, the blade 160 associated with the scribe line 30 is formed. Wear is reduced. In another example, the first pressing force and the second pressing force are equal to each other.

・第1の走査速度と第2の走査速度との大小関係は任意に変更可能である。一例では、第1の走査速度が第2の走査速度よりも速い。別の一例では、第1の走査速度と第2の走査速度とが互いに等しい。   The magnitude relationship between the first scanning speed and the second scanning speed can be arbitrarily changed. In one example, the first scanning speed is faster than the second scanning speed. In another example, the first scanning speed and the second scanning speed are equal to each other.

・上記実施の形態では第2のスクライブライン32の形成時の押付力である第2の押付力が一定の大きさに設定されるが、第2の押付力は第2のスクライブライン32の形成中に変更可能である。一例では、加工装置100は第2のスクライブライン32の加工開始点である第1のスクライブライン31の加工終了点31Yから所定の位置までの部分の形成時において第2の押付力を第1の押付力よりも弱くし、所定の位置から第2のスクライブライン32の加工終了点である第1のスクライブライン31の加工開始点31Xまでの部分の形成時における第2の押付力を第1の押付力よりも強くする。   In the above embodiment, the second pressing force, which is the pressing force at the time of forming the second scribe line 32, is set to a constant magnitude, but the second pressing force is the formation of the second scribe line 32. It can be changed inside. In one example, the processing apparatus 100 applies the second pressing force when forming a portion from the processing end point 31Y of the first scribe line 31 that is the processing start point of the second scribe line 32 to a predetermined position. The second pressing force at the time of forming the portion from the predetermined position to the processing start point 31X of the first scribe line 31 that is the processing end point of the second scribe line 32 is made lower than the pressing force. Make it stronger than the pressing force.

この構成によれば、薄膜20または積層途中の薄膜がより確実に除去された第2のスクライブライン32が形成されやすく、それにともない次に形成される第1のスクライブライン31の加工終了点31Yにおいても薄膜20または積層途中の薄膜が確実に除去され、第1のスクライブライン31が安定して形成される。また、所定の位置までの形成時における刃物160の押付力が弱い力に設定されるため、第2のスクライブライン32の形成時に刃物160にかかる負荷が軽減される。   According to this configuration, the second scribe line 32 from which the thin film 20 or the thin film in the middle of lamination is more reliably removed is easily formed, and accordingly, at the processing end point 31Y of the first scribe line 31 to be formed next. Also, the thin film 20 or the thin film in the middle of the lamination is surely removed, and the first scribe line 31 is stably formed. In addition, since the pressing force of the blade 160 when forming up to a predetermined position is set to a weak force, the load applied to the blade 160 when forming the second scribe line 32 is reduced.

・上記変形例の加工装置100の一例は、所定の位置を第2のスクライブライン32の加工終了点である第1のスクライブライン31の加工開始点31Xの直前の位置に設定する。この構成によれば、第2の押付力が強められる部分が第2のスクライブライン32の加工終了点を含む狭い範囲に限定されるため、第2のスクライブライン32の形成時に刃物160にかかる負荷が一層軽減される。   The example of the processing apparatus 100 according to the above modification sets the predetermined position to a position immediately before the processing start point 31X of the first scribe line 31 that is the processing end point of the second scribe line 32. According to this configuration, since the portion where the second pressing force is strengthened is limited to a narrow range including the processing end point of the second scribe line 32, the load applied to the blade 160 when the second scribe line 32 is formed. Is further reduced.

・第2のスクライブライン32の形状は任意に変更可能である。図13は第2のスクライブライン32の形状に関する第1の変形例である。図14は第2のスクライブライン32の形状に関する第2の変形例である。図15は第2のスクライブライン32の形状に関する第3の変形例である。   The shape of the second scribe line 32 can be arbitrarily changed. FIG. 13 shows a first modification regarding the shape of the second scribe line 32. FIG. 14 shows a second modification regarding the shape of the second scribe line 32. FIG. 15 shows a third modification regarding the shape of the second scribe line 32.

図13に示される第2のスクライブライン32は、X方向において隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yから他方の第1のスクライブライン31の加工開始点31Xまでにわたり伸び、第2の方向D2に突出する円弧状の曲線である。加工装置100は上記実施の形態における第2のスクライブライン32の加工方法に準じた加工方法により第1の変形例の第2のスクライブライン32を薄膜20または積層途中の薄膜に形成する。   The second scribe line 32 shown in FIG. 13 extends from the processing end point 31Y of one of the first scribe lines 31 adjacent in the X direction to the processing start point 31X of the other first scribe line 31, 2 is an arcuate curve protruding in the direction D2. The processing apparatus 100 forms the second scribe line 32 of the first modified example on the thin film 20 or a thin film in the middle of lamination by a processing method according to the processing method of the second scribe line 32 in the above embodiment.

図14に示される第2のスクライブライン32は、加工終了点31Yから交点32Yまでにわたり伸びる第1の曲線32A、および、方向切替点32Xから加工開始点31Xまでにわたり伸びる第1の直線32Bにより構成される。交点32Yは第1の直線32B上における方向切替点32Xと加工開始点31Xとの間の点である。第1の直線32Bおよび第1のスクライブライン31は実質的に連続した1本の溝である。方向切替点32Xは加工開始点31Xよりも中間層23の辺の近くに形成される点であり、刃物160の走査方向が第1の方向D1から第2の方向D2に切り替えられる点である。   The second scribe line 32 shown in FIG. 14 is configured by a first curve 32A extending from the processing end point 31Y to the intersection point 32Y, and a first straight line 32B extending from the direction switching point 32X to the processing start point 31X. Is done. The intersection point 32Y is a point between the direction switching point 32X and the machining start point 31X on the first straight line 32B. The first straight line 32B and the first scribe line 31 are substantially continuous grooves. The direction switching point 32X is a point formed closer to the side of the intermediate layer 23 than the processing start point 31X, and the scanning direction of the blade 160 is switched from the first direction D1 to the second direction D2.

第2のスクライブライン32は次の工程を経て形成される。刃物160がX方向において隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yに到達したとき、加工装置100は第1の曲線32Aが形成されるように加工終了点31Yから交点32Yまで刃物160を走査する。加工装置100は次に、交点32Yから方向切替点32Xまで第1の方向D1に刃物160を走査し、刃物160が方向切替点32Xに到達したことに基づいて刃物160の走査を一旦停止し、方向切替点32Xから加工開始点31Xまで第2の方向D2に刃物160を走査する。   The second scribe line 32 is formed through the following steps. When the cutting tool 160 reaches the processing end point 31Y of one of the first scribe lines 31 adjacent in the X direction, the processing apparatus 100 cuts the cutting tool from the processing end point 31Y to the intersection point 32Y so that the first curve 32A is formed. 160 is scanned. Next, the processing apparatus 100 scans the blade 160 in the first direction D1 from the intersection point 32Y to the direction switching point 32X, and temporarily stops the scanning of the blade 160 based on the fact that the blade 160 has reached the direction switching point 32X. The cutter 160 is scanned in the second direction D2 from the direction switching point 32X to the machining start point 31X.

この構成によれば、第1の直線32Bにおける交点32Yと方向切替点32Xとの間を刃物160が往復するため、その部分の薄膜20または積層途中の薄膜がより確実に除去される。また、引き続き加工される第1のスクライブライン31の加工開始点31Xにおいても薄膜20または積層途中の薄膜が確実に除去され、第1のスクライブライン31が安定して形成される。   According to this configuration, the blade 160 reciprocates between the intersection point 32Y and the direction switching point 32X on the first straight line 32B, so that the thin film 20 or the thin film in the middle of the portion is more reliably removed. Moreover, the thin film 20 or the thin film in the middle of lamination is reliably removed at the processing start point 31X of the first scribe line 31 to be processed continuously, and the first scribe line 31 is stably formed.

図15に示される第2のスクライブライン32は、加工終了点31Yから方向切替点32Xまでにわたり伸びる第2の曲線32C、および、方向切替点32Xから加工開始点31Xまでにわたり伸びる第2の直線32Dにより構成される。第2の曲線32Cの形状は円弧状である。第2の直線32Dおよび第1のスクライブライン31は実質的に連続した1本の溝である。方向切替点32Xは加工開始点31Xよりも中間層23の辺の近くに形成される点であり、刃物160の走査方向が第1の方向D1から第2の方向D2に切り替えられる点である。   The second scribe line 32 shown in FIG. 15 includes a second curve 32C extending from the processing end point 31Y to the direction switching point 32X, and a second straight line 32D extending from the direction switching point 32X to the processing start point 31X. Consists of. The shape of the second curve 32C is an arc shape. The second straight line 32D and the first scribe line 31 are substantially continuous grooves. The direction switching point 32X is a point formed closer to the side of the intermediate layer 23 than the processing start point 31X, and the scanning direction of the blade 160 is switched from the first direction D1 to the second direction D2.

第2のスクライブライン32は次の工程を経て形成される。刃物160がX方向において隣り合う一方の第1のスクライブライン31の加工終了点31Yに到達したとき、加工装置100は、第2の曲線32Cが形成されるように加工終了点31Yから方向切替点32Xまで刃物160を走査する。加工装置100は次に、刃物160が方向切替点32Xに到達したことに基づいて刃物160の走査を一旦停止し、方向切替点32Xから加工開始点31Xまで第2の方向D2に刃物160を走査する。   The second scribe line 32 is formed through the following steps. When the cutter 160 reaches the processing end point 31Y of one of the first scribe lines 31 adjacent in the X direction, the processing apparatus 100 changes the direction switching point from the processing end point 31Y so that the second curve 32C is formed. The blade 160 is scanned up to 32X. Next, the processing apparatus 100 temporarily stops scanning of the blade 160 based on the fact that the blade 160 has reached the direction switching point 32X, and scans the blade 160 in the second direction D2 from the direction switching point 32X to the processing start point 31X. To do.

・第2のスクライブライン32が取り得る形状は、上記実施の形態および第1の変形例〜第3の変形例に例示された形状に限られず、さらに別の種々の形状を取り得る。その第1の例は2本の直線により形成され、1つの頂点を有する山形である。第2の例は3本の直線により形成され、2つの頂点を有する山形である。第3の例は複数の変曲点を有する曲線である。   -The shape which the 2nd scribe line 32 can take is not restricted to the shape illustrated by the said embodiment and the 1st modification-the 3rd modification, It can take another various shape. The first example is a mountain shape formed by two straight lines and having one vertex. The second example is a chevron formed by three straight lines and having two vertices. The third example is a curve having a plurality of inflection points.

・上記実施の形態の走査手段は、第1のアクチュエータ201、第2のアクチュエータ202、および、ヘッドガイド170により構成され、本体110に固定されたステージ130に対してヘッド150を移動させることにより刃物160を走査しているが、走査手段の構成はこれに限られず任意に変更可能である。変形例の走査手段は、例えば本体110に対して移動可能なステージ130、および、ステージ130を本体110に対して移動させるアクチュエータを備える。ヘッド150は本体110に固定される。この走査手段は、ヘッド150に対してステージ130を移動させることにより刃物160を走査する。走査手段に関するさらに別の変形例は、第1のアクチュエータ201、第2のアクチュエータ202、ヘッドガイド170、本体110に対して移動可能なステージ130、および、ステージ130を本体110に対して移動させるアクチュエータを備える。この走査手段は、ヘッドガイド170をステージ130に対して移動させること、および、ステージ130をヘッドガイド170に対して移動させることができる。   The scanning unit of the above embodiment includes the first actuator 201, the second actuator 202, and the head guide 170, and moves the head 150 with respect to the stage 130 fixed to the main body 110, thereby cutting the blade. Although 160 is scanned, the configuration of the scanning means is not limited to this, and can be arbitrarily changed. The scanning unit according to the modification includes, for example, a stage 130 that can move with respect to the main body 110 and an actuator that moves the stage 130 with respect to the main body 110. The head 150 is fixed to the main body 110. The scanning unit scans the blade 160 by moving the stage 130 with respect to the head 150. Still another modification regarding the scanning means includes a first actuator 201, a second actuator 202, a head guide 170, a stage 130 that can move relative to the main body 110, and an actuator that moves the stage 130 relative to the main body 110. Is provided. This scanning unit can move the head guide 170 with respect to the stage 130 and can move the stage 130 with respect to the head guide 170.

1 :薄膜太陽電池
10 :基板
20 :薄膜
30 :スクライブライン
31 :第1のスクライブライン
31X:加工開始点
31Y:加工終了点
32 :第2のスクライブライン
100:加工装置
120:制御装置
130:ステージ
160:刃物
161:刃先
1: thin film solar cell 10: substrate 20: thin film 30: scribe line 31: first scribe line 31X: processing start point 31Y: processing end point 32: second scribe line 100: processing device 120: control device 130: stage 160: Cutting tool 161: Cutting edge

Claims (7)

薄膜が形成された基板が載せられるステージと、
前記薄膜にスクライブラインを形成する刃物と、
前記刃物を前記薄膜に押し付けるヘッドと、
前記ヘッドを前記ステージに対して相対的に移動させることにより、互いに平行な少なくとも2本の第1のスクライブラインが前記薄膜に形成されるように前記刃物を走査する走査手段と、
前記ヘッドおよび前記走査手段の動作を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの一方の加工終了点から前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの他方の加工開始点まで前記刃物を前記薄膜に押し付けながら走査することにより前記加工終了点と前記加工開始点とを繋げる第2のスクライブラインを前記薄膜に形成し、前記第2のスクライブラインの加工開始点から所定の位置までの部分の形成時において前記刃物を前記薄膜に押し付ける力である押付力を前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも弱くし、前記所定の位置から前記第2のスクライブラインの加工終了点までの部分の形成時における前記押付力を前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも強くする
薄膜太陽電池の加工装置。
A stage on which a substrate on which a thin film is formed is placed;
A blade for forming a scribe line in the thin film;
A head for pressing the blade against the thin film;
Scanning means for scanning the blade so that at least two first scribe lines parallel to each other are formed on the thin film by moving the head relative to the stage;
A control device for controlling the operation of the head and the scanning means,
The control device performs scanning while pressing the blade against the thin film from one processing end point of the at least two first scribe lines to the other processing start point of the at least two first scribe lines. To form a second scribe line connecting the processing end point and the processing start point on the thin film, and when the portion from the processing start point of the second scribe line to a predetermined position is formed, The pressing force, which is a pressing force against the thin film, is made weaker than the pressing force at the time of forming the first scribe line, and the portion at the time of forming the portion from the predetermined position to the processing end point of the second scribe line is reduced. An apparatus for processing a thin-film solar cell, wherein a pressing force is made stronger than the pressing force at the time of forming the first scribe line .
前記制御装置は、前記第2のスクライブラインの形成時における前記刃物の走査速度を前記第1のスクライブラインの形成時における前記刃物の走査速度よりも遅くする
請求項1に記載の薄膜太陽電池の加工装置。
2. The thin film solar cell according to claim 1, wherein the control device makes a scanning speed of the blade at the time of forming the second scribe line slower than a scanning speed of the blade at the time of forming the first scribe line. Processing equipment.
前記所定の位置は前記第2のスクライブラインの加工終了点の直前の位置である
請求項1または2に記載の薄膜太陽電池の加工装置。
It said predetermined position processing device of the thin-film solar cell according to claim 1 or 2 which is the position immediately before the machining end point of the second scribe line.
前記制御装置は円弧状の形状を有する前記第2のスクライブラインが前記薄膜に形成されるように前記走査手段の動作を制御する
請求項1〜のいずれか一項に記載の薄膜太陽電池の加工装置。
The thin film solar cell according to any one of claims 1 to 3 , wherein the control device controls the operation of the scanning unit so that the second scribe line having an arc shape is formed in the thin film. Processing equipment.
前記制御装置は前記第2のスクライブライン上の同一の部分を前記刃物が往復するように前記走査手段の動作を制御する
請求項1〜のいずれか一項に記載の薄膜太陽電池の加工装置。
The thin film solar cell processing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the control device controls the operation of the scanning unit so that the blade reciprocates on the same portion on the second scribe line. .
前記刃物の長手方向に交差する断面における前記刃物の刃先の形状が円形である
請求項1〜のいずれか一項に記載の薄膜太陽電池の加工装置。
The thin-film solar cell processing device according to any one of claims 1 to 5 , wherein a shape of a blade edge of the blade in a cross section intersecting with a longitudinal direction of the blade is circular.
基板に形成された薄膜に刃物を押し付けた状態において前記刃物を走査することにより互いに平行な少なくとも2本の第1のスクライブラインを前記薄膜に形成する薄膜太陽電池の加工方法であって、
前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの一方が前記薄膜に形成されるように前記刃物を走査する第1の工程と、
前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの一方の加工終了点から前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの他方の加工開始点まで前記刃物を前記薄膜に押し付けながら走査することにより前記加工終了点と前記加工開始点とを繋げる第2のスクライブラインを前記薄膜に形成する第2の工程と、
前記少なくとも2本の第1のスクライブラインの他方が前記薄膜に形成されるように前記刃物を走査する第3の工程とを備え
前記第2の工程では、前記第2のスクライブラインの加工開始点から所定の位置までの部分の形成時において前記刃物を前記薄膜に押し付ける力である押付力を、前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも弱くし、前記所定の位置から前記第2のスクライブラインの加工終了点までの部分の形成時における前記押付力を前記第1のスクライブラインの形成時における前記押付力よりも強くする
薄膜太陽電池の加工方法。
A thin film solar cell processing method for forming at least two first scribe lines parallel to each other by scanning the blade in a state in which the blade is pressed against the thin film formed on the substrate,
A first step of scanning the blade so that one of the at least two first scribe lines is formed in the thin film;
The processing end point is scanned by pressing the blade against the thin film from one processing end point of the at least two first scribe lines to the other processing start point of the at least two first scribe lines. And a second step of forming, on the thin film, a second scribe line connecting the processing start point and
And a third step of scanning the blade so that the other of the at least two first scribe lines is formed on the thin film ,
In the second step, when the portion from the processing start point of the second scribe line to a predetermined position is formed, a pressing force, which is a force for pressing the blade against the thin film, is formed on the first scribe line. The pressing force at the time of forming the portion from the predetermined position to the processing end point of the second scribe line is less than the pressing force at the time of forming the first scribe line. Thin film solar cell processing method to make it stronger .
JP2015095656A 2015-05-08 2015-05-08 Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method Expired - Fee Related JP6589362B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015095656A JP6589362B2 (en) 2015-05-08 2015-05-08 Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015095656A JP6589362B2 (en) 2015-05-08 2015-05-08 Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016213317A JP2016213317A (en) 2016-12-15
JP6589362B2 true JP6589362B2 (en) 2019-10-16

Family

ID=57552019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015095656A Expired - Fee Related JP6589362B2 (en) 2015-05-08 2015-05-08 Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6589362B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112151630A (en) * 2019-06-27 2020-12-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 Scribing device, scribing method and production line for solar cell

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001135836A (en) * 1999-11-02 2001-05-18 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Thin film scribing method, device thereof and solar cell module
JP2001119048A (en) * 1999-10-22 2001-04-27 Sharp Corp Method for manufacturing integrated thin-film solar cell
EP1579971B1 (en) * 2002-11-22 2011-10-05 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Method for dividing a substrate and a panel production method
EP1747867A1 (en) * 2004-05-20 2007-01-31 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Motherboard cutting method, motherboard scribing apparatus, program and recording medium
KR101193929B1 (en) * 2008-05-26 2012-10-23 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 Scribe apparatus for thin film solar cell
JP5514617B2 (en) * 2010-04-23 2014-06-04 株式会社カネカ Thin film photoelectric conversion module manufacturing method and scribing apparatus
JP5486057B2 (en) * 2012-09-10 2014-05-07 昭和シェル石油株式会社 Method for manufacturing thin film solar cell
JP2014192357A (en) * 2013-03-27 2014-10-06 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Patterning device and patterning processing system
JP5988043B2 (en) * 2013-06-27 2016-09-07 日本電気硝子株式会社 Scribing method of tempered glass sheet
EP2942330A1 (en) * 2014-05-07 2015-11-11 Mecánicas Teruel S.L. Cutting table for cutting and separating glass panels

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016213317A (en) 2016-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI632014B (en) Method and apparatus of laser processing stock of brittle material
US20160129526A1 (en) Ablation Cutting of a Workpiece by a Pulsed Laser Beam
JP2009208237A (en) Scribing device and its method
JP2007142000A (en) Laser beam machine and laser beam machining method
WO2012164649A1 (en) Laser machining method
KR20120005432A (en) Laser machining device and laser machining method
JP2008056507A (en) Scribing method for stuck mother substrate and splitting method of stuck mother substrate
JP5702765B2 (en) Scribing apparatus and scribing method
WO2016065790A1 (en) Method and device for cutting lcd screen glass
JP6609981B2 (en) Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method
EP3107679B1 (en) Cutting method
JP6589362B2 (en) Thin-film solar cell processing apparatus and thin-film solar cell processing method
JP2011200926A (en) Laser beam machining method and brittle material substrate
CN105645752B (en) Method for cutting brittle material substrate
JP2010199242A (en) Method for manufacturing integrated thin-film solar cell
JP6547397B2 (en) Thin film solar cell processing apparatus and thin film solar cell processing method
JP2011206838A (en) Laser beam machining method
CN112518141A (en) Laser induced cutting method and device
JP5894754B2 (en) Laser processing method
US10526235B2 (en) Process for manufacturing glass sheets of complex shape
JP6288260B2 (en) Method for dividing brittle substrate
JP2016213257A (en) Processing device for thin-film solar battery, and processing method for thin-film solar battery
TWI774883B (en) Scribing method and scribing device for bonding substrates
KR20200036721A (en) Scribing method
KR102498548B1 (en) Chip manufacturing method, and silicon chip

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180423

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190411

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190604

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190802

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190820

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190902

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6589362

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees