JP6587844B2 - Display glass plate manufacturing method and display glass plate manufacturing apparatus - Google Patents

Display glass plate manufacturing method and display glass plate manufacturing apparatus Download PDF

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Description

本発明は、ディスプレイ用ガラス板の製造方法、および、ディスプレイ用ガラス板製造装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass plate for display, and an apparatus for manufacturing a glass plate for display.

近年、ディスプレイの分野では、画質の向上のために画素の高精細化が進展している。この高精細化の進展に伴って、ディスプレイに用いられるガラス基板にも寸法精度が高いことが望まれている。例えば、ディスプレイの製造工程中に、ガラス基板が高温で熱処理されても寸法が変化しにくいように、熱収縮率の小さいガラス基板が好ましい。   In recent years, in the field of displays, higher definition of pixels has been advanced in order to improve image quality. With the progress of this high definition, it is desired that the glass substrate used for the display has high dimensional accuracy. For example, a glass substrate having a low thermal shrinkage rate is preferable so that the dimensions of the glass substrate are not easily changed even when the glass substrate is heat-treated at a high temperature during the manufacturing process of the display.

一般に、ガラス基板の熱収縮率は、ガラスの歪点が高いほど小さくなる。また、ガラス基板の熱収縮率は、ガラス基板が切り出されるガラス板の製造工程中の徐冷速度を小さくするほど小さくなることが知られている。しかし、徐冷速度を小さくするとガラス板の徐冷工程を行う徐冷炉を長くする必要があるが、製造ライン上の徐冷装置を長くすることは困難である。   In general, the thermal shrinkage rate of a glass substrate decreases as the strain point of the glass increases. Moreover, it is known that the thermal shrinkage rate of a glass substrate will become so small that the slow cooling rate in the manufacturing process of the glass plate from which a glass substrate is cut out becomes small. However, if the slow cooling rate is reduced, it is necessary to lengthen the slow cooling furnace for performing the slow cooling step of the glass plate, but it is difficult to lengthen the slow cooling device on the production line.

そこで、製造ラインで作製された複数のガラス板に対し、オフラインにおいて時間をかけて熱処理を施すことで、熱収縮率をより低くすることが行われる。オフラインでの熱処理に関する技術として、例えば、主表面が進行方向を向くよう複数のガラス板を立てて、互いに間隔をあけて熱処理炉内を搬送させながら熱処理を行うことが知られている(特許文献1)。また、熱処理炉内で熱処理を行う際に、立てられたガラス板の上端側からガラス板間の隙間に熱風を送風することで、熱処理を行うことが知られている。   Therefore, the heat shrinkage rate is further lowered by performing heat treatment on a plurality of glass plates produced on the production line over time. As a technique related to off-line heat treatment, for example, it is known that a plurality of glass plates are erected so that the main surface faces the traveling direction, and heat treatment is performed while being transported in a heat treatment furnace with a space between each other (patent document) 1). It is also known that when heat treatment is performed in a heat treatment furnace, heat treatment is performed by blowing hot air from the upper end side of the standing glass plate to the gap between the glass plates.

国際公開第2014/022632号パンフレットInternational Publication No. 2014/022632 Pamphlet

しかし、ガラス板間の隙間に熱風を送風する方法では、熱風がガラス板と接触してガラス板に熱を奪われることで、熱風の風下側では風上側と比べ温度が低下する。そのため、ガラス板の上端部と下端部との間に温度差が生じる。このような温度差が熱処理を行う間継続されると、ガラス板の面内で熱履歴の差が生じ、引っ張り応力と圧縮応力が生じることによって歪が発生する。この結果、ガラス板の面内で熱収縮率がバラついてしまう。熱収縮率にバラつきのあるガラス板から切り出された複数のガラス基板は、互いに熱収縮率が異なる、あるいは、それぞれの面内でなお熱収縮率がバラついているおそれがある。特に、液晶ディスプレイに用いられるガラス基板は、近年の液晶ディスプレイの大型化に伴ってサイズが大きくなっており、熱処理工程において広い面内に温度差が生じやすく、熱収縮率のバラつきが生じやすい。   However, in the method in which hot air is blown into the gap between the glass plates, the hot air comes into contact with the glass plates and heat is taken away by the glass plates, so that the temperature on the leeward side of the hot air is lower than that on the upwind side. Therefore, a temperature difference arises between the upper end part and lower end part of a glass plate. When such a temperature difference is continued during the heat treatment, a difference in thermal history occurs in the plane of the glass plate, and strain is generated due to tensile stress and compressive stress. As a result, the thermal shrinkage rate varies within the plane of the glass plate. A plurality of glass substrates cut out from a glass plate having a variation in thermal shrinkage rate may have different thermal shrinkage rates from each other, or may still vary in thermal shrinkage within each plane. In particular, a glass substrate used for a liquid crystal display is increased in size with the recent increase in size of the liquid crystal display, and a temperature difference is likely to occur in a wide plane in a heat treatment process, and a thermal contraction rate is likely to vary.

そこで、本発明は、熱収縮率のバラつきが低減されたディスプレイ用ガラス板を製造できるディスプレイ用ガラス板の製造方法およびディスプレイ用ガラス板製造装置を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the glass plate for a display which can manufacture the glass plate for a display in which the variation in the thermal contraction rate was reduced, and the glass plate manufacturing apparatus for a display.

本発明は、下記(1)〜()を提供する。
(1)成形されたガラス板に対し熱処理を行う熱処理工程と、
前記熱処理工程が行われる間、複数の吊り下げられた前記ガラス板を互いに間隔をあけて搬送路上を搬送する搬送工程と、を備え、
前記熱処理工程では、複数の前記ガラス板の間の隙間に加熱された気体を送風し、かつ、前記ガラス板に対して前記気体が送風される方向の下流側に配置された熱源によって前記ガラス板を加熱し、
送風により流れ込んだ前記搬送路内の前記気体の温度T 1 と、前記搬送路から流れ出た前記気体の温度T 2 とを測定し、前記温度T 1 と前記温度T 2 との差が小さくなるよう前記熱源の温度を制御することを特徴とするディスプレイ用ガラス板の製造方法。
The present invention provides the following (1) to ( 5 ).
(1) a heat treatment step for heat-treating the molded glass plate;
A conveyance step of conveying a plurality of suspended glass plates on a conveyance path at intervals from each other while the heat treatment step is performed ,
In the heat treatment step, a heated gas is blown into a gap between the plurality of glass plates, and the glass plate is heated by a heat source disposed on the downstream side in the direction in which the gas is blown with respect to the glass plate. And
The temperature T 1 of the gas in the transport path that has flowed in by blowing and the temperature T 2 of the gas that has flowed out of the transport path are measured so that the difference between the temperature T 1 and the temperature T 2 is reduced. A method for producing a glass plate for a display, wherein the temperature of the heat source is controlled .

(2)前記熱処理工程では、前記熱源を用いて、前記ガラス板の主表面内の温度差が低減されるよう前記ガラス板を加熱する、前記(1)に記載のディスプレイ用ガラス板の製造方法。 (2) In the heat treatment step, using the heat source, the glass plate is heated so that a temperature difference in the main surface of the glass plate is reduced. .

)前記熱処理工程において、前記気体は、前記ガラス板よりも上方から送風され、
前記熱源は、前記ガラス板よりも下方に配置されている、前記(1)又は前記(2)に記載のディスプレイ用ガラス板の製造方法。
( 3 ) In the heat treatment step, the gas is blown from above the glass plate,
The said heat source is a manufacturing method of the glass plate for a display as described in said (1) or the said ( 2) arrange | positioned below the said glass plate.

)前記熱処理工程では、前記熱源を用いて、前記ガラス板の主表面内の温度差が20℃以内になるよう前記ガラス板を加熱する、前記(1)から)のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス板の製造方法。 ( 4 ) In the heat treatment step, any one of (1) to ( 3 ), wherein the glass plate is heated using the heat source so that a temperature difference within a main surface of the glass plate is within 20 ° C. The manufacturing method of the glass plate for displays as described in a term.

)成形されたガラス板に対し熱処理を行う熱処理装置と、
前記熱処理が行われる間、複数の吊り下げられた前記ガラス板を互いに間隔をあけて搬送路上を搬送する搬送ユニットと、を備え、
前記熱処理装置は、複数の前記ガラス板の間の隙間に加熱された気体を送風し、かつ、前記ガラス板に対して前記気体が送風される方向の下流側に配置された熱源によって前記ガラス板を加熱し、
送風により流れ込んだ前記搬送路内の前記気体の温度T 1 と、前記搬送路から流れ出た前記気体の温度T 2 とを測定し、前記温度T 1 と前記温度T 2 との差が小さくなるよう前記熱源の温度を制御することを特徴とするディスプレイ用ガラス板製造装置。
( 5 ) a heat treatment apparatus for performing heat treatment on the molded glass plate;
A transport unit that transports a plurality of suspended glass plates on a transport path at intervals from each other while the heat treatment is performed ;
The heat treatment device blows a heated gas in a gap between the plurality of glass plates, and heats the glass plate by a heat source disposed on the downstream side in the direction in which the gas is blown with respect to the glass plate. And
The temperature T 1 of the gas in the transport path that has flowed in by blowing and the temperature T 2 of the gas that has flowed out of the transport path are measured so that the difference between the temperature T 1 and the temperature T 2 is reduced. A glass plate manufacturing apparatus for a display, wherein the temperature of the heat source is controlled .

上述のディスプレイ用ガラス板の製造方法等によれば、熱収縮率のバラつきが低減されたディスプレイ用ガラス板を製造できる。   According to the above-described method for manufacturing a glass plate for display, etc., a glass plate for display with reduced variation in thermal shrinkage can be manufactured.

本実施形態のガラス板の製造方法の工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of the manufacturing method of the glass plate of this embodiment. 本実施形態の熱処理工程で用いられる熱処理炉の内部構造を説明する図である。It is a figure explaining the internal structure of the heat treatment furnace used at the heat treatment process of this embodiment. 本実施形態の熱処理工程を説明する図である。It is a figure explaining the heat treatment process of this embodiment. 本実施形態の熱処理工程でクランプに把持されたガラス板を側方から見て示す図である。It is a figure which shows the glass plate hold | gripped by the clamp at the heat processing process of this embodiment seeing from a side. 本実施形態の熱源の一例を示す外観図である。It is an external view which shows an example of the heat source of this embodiment.

以下、本実施形態のディスプレイ用ガラス板の製造方法およびディスプレイ用ガラス板製造装置について説明する。
本実施形態のディスプレイ用ガラス板の製造方法は、成形されたガラス板に対し熱処理を行う熱処理工程を備えている。熱処理工程では、互いに間隔をあけて配置された複数のガラス板の間の隙間に加熱された気体(熱風)を送風し、かつ、ガラス板に対して気体が送風される方向の下流側(風下側)に配置された熱源によってガラス板を加熱する。この方法では、熱風を用いてガラス板を加熱しつつ、風下側から熱源によってガラス板を加熱するため、ガラス板の面内での温度差が低減され、ガラス板の面内に熱履歴の差が生じることが抑えられている。このため、ガラス板の面内での熱収縮率のバラつきが低減されている。このようなガラス板は、ディスプレイ用ガラス板として適している。
Hereinafter, the manufacturing method of the glass plate for a display of this embodiment and the glass plate manufacturing apparatus for a display are demonstrated.
The manufacturing method of the glass plate for a display of this embodiment is equipped with the heat processing process which heat-processes with respect to the shape | molded glass plate. In the heat treatment step, the heated gas (hot air) is blown into the gaps between the plurality of glass plates arranged at intervals, and the downstream side (leeward side) in the direction in which the gas is blown to the glass plate. The glass plate is heated by a heat source arranged in In this method, since the glass plate is heated by a heat source from the leeward side while heating the glass plate using hot air, the temperature difference in the plane of the glass plate is reduced, and the difference in thermal history in the plane of the glass plate is reduced. Is suppressed from occurring. For this reason, the variation in the thermal contraction rate in the surface of the glass plate is reduced. Such a glass plate is suitable as a glass plate for a display.

(ガラス板の製造方法の概略説明)
図1は、本実施形態のガラス板の製造方法の工程の一例を示す図である。
ガラス板の製造方法は、成形工程(S1)と、徐冷工程(S2)と、採板工程(S3)と、熱処理工程(S4)と、切断工程(S5)と、端面加工工程(S6)と、洗浄工程(S7)と、検査工程(S8)と、梱包工程(S9)と、を備える。
(Outline explanation of the method of manufacturing the glass plate)
Drawing 1 is a figure showing an example of a process of a manufacturing method of a glass plate of this embodiment.
The glass plate manufacturing method includes a forming step (S1), a slow cooling step (S2), a plate-drawing step (S3), a heat treatment step (S4), a cutting step (S5), and an end face processing step (S6). And a cleaning process (S7), an inspection process (S8), and a packing process (S9).

成形工程(S1)では、熔融ガラスをシートガラスに成形する。成形方法には、フュージョン法(オーバーフローダウンドロー法)、フロート法等の公知の方法が用いられる。このうち、フュージョン法は、製造ラインに含まれる徐冷装置を長くすることが困難であることから、オフラインアニールを行う本実施形態の方法に適している。
徐冷工程(S2)では、成形されて搬送されるシートガラスの内部歪および反りが生じないよう、徐冷装置において冷却する。
採板工程(S3)では、徐冷されたシートガラスを所定の長さごとに切断して複数のガラス板を得る。ガラス板は、矩形形状に採板されることが好ましく、サイズは、特に制限されないが、例えば、縦長さおよび横長さがそれぞれ500mm〜3500mmである。ガラス板の板厚は、例えば、0.1〜1.1mmである。
熱処理工程(S4)では、後述する熱処理炉内で、ガラス板に対し熱処理を行う。なお、熱処理炉内では、熱処理工程(S4)が行われる間、ガラス板を搬送する搬送工程が合わせて行われる。
切断工程(S5)では、熱処理を行ったガラス板を所定のサイズに切断して複数のガラス基板を得る。ガラス基板は、矩形形状に切断されることが好ましく、サイズは、特に制限されないが、例えば、縦長さおよび横長さがそれぞれ500mm〜3500mmである。
端面加工工程(S6)では、ガラス基板に対し、端面の研削、研磨およびコーナーカットを含む端面加工を行う。
洗浄工程(S7)では、ガラス基板を洗浄する。
検査工程(S8)では、洗浄されたガラス基板に対し、表面に傷、塵、汚れがないか、あるいは、気泡、異物等の内部欠陥がないか、光学的検査を行う。
梱包工程(S9)では、検査の結果、所望の品質に適合するガラス基板を梱包する。梱包されたガラス基板は納入先業者に出荷される。
In the forming step (S1), the molten glass is formed into a sheet glass. As the molding method, a known method such as a fusion method (overflow down draw method) or a float method is used. Of these, the fusion method is suitable for the method of this embodiment in which offline annealing is performed because it is difficult to lengthen the slow cooling device included in the production line.
In the slow cooling step (S2), cooling is performed in a slow cooling device so as not to cause internal distortion and warpage of the sheet glass that is formed and conveyed.
In the plate-drawing step (S3), the slowly cooled sheet glass is cut into predetermined lengths to obtain a plurality of glass plates. The glass plate is preferably sampled in a rectangular shape, and the size is not particularly limited. For example, the vertical length and the horizontal length are 500 mm to 3500 mm, respectively. The plate | board thickness of a glass plate is 0.1-1.1 mm, for example.
In the heat treatment step (S4), the glass plate is heat treated in a heat treatment furnace described later. In the heat treatment furnace, while the heat treatment step (S4) is performed, a conveyance step for conveying the glass plate is also performed.
In the cutting step (S5), the heat-treated glass plate is cut into a predetermined size to obtain a plurality of glass substrates. The glass substrate is preferably cut into a rectangular shape, and the size is not particularly limited. For example, the vertical length and the horizontal length are 500 mm to 3500 mm, respectively.
In the end face processing step (S6), end face processing including end face grinding, polishing and corner cutting is performed on the glass substrate.
In the cleaning step (S7), the glass substrate is cleaned.
In the inspection step (S8), the cleaned glass substrate is optically inspected for scratches, dust and dirt on the surface, or internal defects such as bubbles and foreign matters.
In the packing step (S9), the glass substrate that conforms to the desired quality is packed as a result of the inspection. The packed glass substrate is shipped to a supplier.

(ガラス板製造装置)
本実施形態のディスプレイ用ガラス板製造装置は、上記説明した成形工程(S1)〜採板工程(S3)の各工程を行う装置として、成形装置、徐冷装置、切断装置を備えている。このうち、成形装置は、オーバーフローダウンドロー法による成形が行われる場合、熔融ガラスを成形するための成形体を有している。ガラス板製造装置は、さらに、後述する、熱処理工程を行う熱処理ユニット(熱処理装置)、搬送工程を行う搬送ユニット(搬送装置)、を備えている。
(Glass plate manufacturing equipment)
The display glass plate manufacturing apparatus of the present embodiment includes a forming device, a slow cooling device, and a cutting device as devices for performing the steps of the forming step (S1) to the plate-drawing step (S3) described above. Among these, a shaping | molding apparatus has a molded object for shape | molding molten glass, when shaping | molding by the overflow downdraw method is performed. The glass plate manufacturing apparatus further includes a heat treatment unit (heat treatment apparatus) for performing a heat treatment process and a conveyance unit (conveyance apparatus) for performing a conveyance process, which will be described later.

(ガラス板)
本実施形態で製造されるガラス板は、ディスプレイに用いられるディスプレイ用ガラス板であり、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)用ガラス板、曲面ディスプレイ用ガラス板である。また、本実施形態で製造されるガラス板は、例えば、IGZO(インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素)等の酸化物半導体を使用した酸化物半導体ディスプレイ用ガラス板、LTPS(低温ポリシリコン)半導体を使用したLTPSディスプレイ用ガラス板である。また、本実施形態で製造されるガラス板は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス板、有機ELディスプレイ用ガラス板である。
(Glass plate)
The glass plate manufactured by this embodiment is a glass plate for a display used for a display, for example, a glass plate for flat panel displays (FPD) and a glass plate for curved displays. Moreover, the glass plate manufactured by this embodiment uses the glass plate for oxide semiconductor displays which used oxide semiconductors, such as IGZO (indium, gallium, zinc, oxygen), and LTPS (low-temperature polysilicon) semiconductor, for example. LTPS display glass plate. Moreover, the glass plate manufactured by this embodiment is a glass plate for liquid crystal displays, a glass plate for organic EL displays, for example.

本実施形態で製造されるガラス板は、熱収縮率は10ppm以下であることが、ディスプレイに用いられる点から好ましく、熱収縮率は6ppm以下であることがより好ましく、3ppm以下であることがより好ましく、2ppm以下であることがより好ましい。ガラス板の熱収縮率を2ppm以下にすることにより、ガラス板の面内の熱収縮のばらつきを2ppm以下にすることができる。なお、本明細書において、熱収縮率のバラつきが低減されているという場合、ガラス板の面内の複数の位置で測定した熱収縮率がいずれも2ppm以下であることを意味する。
ガラス板の歪点は、高精細なディスプレイ用ガラス板とするために、600℃〜760℃であることが好ましい。例えば、歪点は、661℃である。
本実施形態の熱処理により熱収縮率を低減する前のガラス基板の熱収縮率は、500℃、10分の条件で熱処理した場合に、80ppm以下であり、より好ましくは40ppm〜60ppmである。
The glass plate produced in the present embodiment preferably has a heat shrinkage rate of 10 ppm or less from the viewpoint of being used for a display, the heat shrinkage rate is more preferably 6 ppm or less, and more preferably 3 ppm or less. Preferably, it is 2 ppm or less. By setting the thermal contraction rate of the glass plate to 2 ppm or less, the variation of the thermal contraction in the surface of the glass plate can be set to 2 ppm or less. In the present specification, when the variation in the thermal shrinkage rate is reduced, it means that the thermal shrinkage rates measured at a plurality of positions in the plane of the glass plate are all 2 ppm or less.
The strain point of the glass plate is preferably 600 ° C. to 760 ° C. in order to obtain a high-definition glass plate for display. For example, the strain point is 661 ° C.
The thermal shrinkage rate of the glass substrate before reducing the thermal shrinkage rate by the heat treatment of the present embodiment is 80 ppm or less, more preferably 40 ppm to 60 ppm, when heat treatment is performed at 500 ° C. for 10 minutes.

このようなガラス板として、以下のガラス組成のガラス板が例示される。つまり、本実施形態の方法では、以下のガラス組成のガラス板が製造されるように、熔融ガラスの原料が調合される。
SiO2 55〜80モル%、
Al23 8〜20モル%、
23 0〜12モル%、
RO 0〜17モル%(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)。
As such a glass plate, the glass plate of the following glass compositions is illustrated. That is, in the method of this embodiment, the raw material of molten glass is prepared so that the glass plate of the following glass compositions is manufactured.
SiO 2 55~80 mol%,
Al 2 O 3 8-20 mol%,
B 2 O 3 0 to 12 mol%,
RO 0 to 17 mol% (RO is the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO).

SiO2は60〜75モル%、さらには、63〜72モル%であることが、熱収縮率を小さくするという観点から好ましい。
ROのうち、MgOが0〜10モル%、CaOが0〜15モル%、SrOが0〜10%、BaOが0〜10%であることが好ましい。
SiO 2 is preferably 60 to 75 mol%, and more preferably 63 to 72 mol%, from the viewpoint of reducing the heat shrinkage rate.
Among RO, it is preferable that MgO is 0-10 mol%, CaO is 0-15 mol%, SrO is 0-10%, and BaO is 0-10%.

また、SiO2、Al23、B23、及びROを少なくとも含み、モル比((2×SiO2)+Al23)/((2×B23)+RO)は4.5以上であるガラスであってもよい。また、MgO、CaO、SrO、及びBaOの少なくともいずれか含み、モル比(BaO+SrO)/ROは0.1以上であることが好ましい。 Further, at least SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , and RO are included, and the molar ratio ((2 × SiO 2 ) + Al 2 O 3 ) / ((2 × B 2 O 3 ) + RO) is 4. The glass which is 5 or more may be sufficient. In addition, it is preferable that at least one of MgO, CaO, SrO, and BaO is included, and the molar ratio (BaO + SrO) / RO is 0.1 or more.

また、モル%表示のB23の含有率の2倍とモル%表示のROの含有率の合計は、30モル%以下、好ましくは10〜30モル%であることが好ましい。
また、上記ガラス組成のガラス基板におけるアルカリ金属酸化物の含有率は、0モル%以上0.4モル%以下であってもよい。
また、ガラス中で価数変動する金属の酸化物(酸化スズ、酸化鉄)を合計で0.05〜1.5モル%含み、As、Sb及びPbOを実質的に含まないということは必須ではなく任意である。
The total content of 2-fold and mol% of RO for the content of mol% of B 2 O 3 is 30 mol% or less, it is preferred that preferably 10 to 30 mol%.
Moreover, 0 mol% or more and 0.4 mol% or less may be sufficient as the content rate of the alkali metal oxide in the glass substrate of the said glass composition.
Further, it contains 0.05 to 1.5 mol% of metal oxides (tin oxide and iron oxide) whose valence fluctuates in the glass, and substantially contains As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and PbO. It is not essential but optional.

(熱処理炉の構成)
本実施形態の熱処理工程(S4)は、図2に示す熱処理炉を用いて行われる。図2は、熱処理炉1の内部構造を説明する図である。搬送工程も、熱処理炉1を用いて行われる。
熱処理炉1は、ガラス板Gが搬入されるよう開口された入口3と、炉1内を通過したガラス板Gが搬出されるよう開口された出口5と、入口3と出口5とを炉1内で接続するように延びる搬送路7と、を有している。ガラス板Gの搬送方向は、図2において左方から右方に向かう方向であり、矢印Aで示す方向である。なお、図2では、便宜のため、入口3と出口5の間の熱処理炉1の部分を省略している。
(Configuration of heat treatment furnace)
The heat treatment step (S4) of this embodiment is performed using the heat treatment furnace shown in FIG. FIG. 2 is a diagram for explaining the internal structure of the heat treatment furnace 1. The transfer process is also performed using the heat treatment furnace 1.
The heat treatment furnace 1 includes an inlet 3 that is opened so that the glass plate G is carried in, an outlet 5 that is opened so that the glass plate G that has passed through the furnace 1 is carried out, and the inlet 3 and the outlet 5 that are in the furnace 1. And a conveyance path 7 extending so as to be connected inside. The conveyance direction of the glass plate G is a direction from left to right in FIG. In FIG. 2, the portion of the heat treatment furnace 1 between the inlet 3 and the outlet 5 is omitted for convenience.

ガラス板Gは、熱処理炉1の上流側を、主表面が上下方向を向いた状態で搬送され、入口3において、図示されない吸着機構によって、主表面が吸着され支持されながら、主表面が搬送方向を向くよう立てられる。
ガラス板Gは、出口5において、図示されない他の吸着機構によって、主表面が吸着され支持されながら、主表面が上下方向を向くよう寝かせられる(倒される)。寝かせられたガラス板Gは、熱処理炉1の下流側において、主表面が上下方向を向いた状態で搬送される。
The glass plate G is transported upstream of the heat treatment furnace 1 with the main surface facing up and down, and the main surface is adsorbed and supported by the suction mechanism (not shown) at the inlet 3 while the main surface is transported in the transport direction. Standing to face.
The glass plate G is laid down (turned down) at the outlet 5 so that the main surface faces in the vertical direction while the main surface is adsorbed and supported by another suction mechanism (not shown). The laid glass plate G is transported on the downstream side of the heat treatment furnace 1 with the main surface facing up and down.

搬送路7は、搬送方向に3つに分けてなる3つの区間を有しており、ガラス板Gが3つの区間を搬送されることで、ガラス板Gに対し、昇温、キープ、降温の各熱処理が順に行われる。図2には、昇温区間7a、降温区間7cの各一部が示され、後で参照する図3には、キープ区間7bの一部が示される。3つの区間7a〜7cは、温度、ガラス板Gが搬送される時間等の熱処理条件は異なるが、装置構成は同様である。搬送路7には、ガラス板Gの温度を測定する測定手段が、搬送方向の所定間隔ごとに設けられている。測定手段は、具体的に、ガラス板Gの風上側の端部(上端部)および風下側の端部(下端部)の温度をそれぞれ測定する。測定手段には、例えば熱電対温度計が用いられる。   The transport path 7 has three sections divided into three in the transport direction, and the glass plate G is transported through the three sections, so that the glass plate G is heated, kept, and cooled. Each heat treatment is performed in order. FIG. 2 shows a part of each of the temperature raising section 7a and the temperature lowering section 7c, and FIG. 3 to be referred to later shows a part of the keep section 7b. The three sections 7a to 7c are different in heat treatment conditions such as temperature and time during which the glass sheet G is conveyed, but the apparatus configuration is the same. Measuring means for measuring the temperature of the glass plate G is provided in the conveying path 7 at predetermined intervals in the conveying direction. Specifically, the measuring means measures the temperatures of the windward end (upper end) and the leeward end (lower end) of the glass sheet G, respectively. For example, a thermocouple thermometer is used as the measuring means.

熱処理炉1は、搬送路7上で複数のガラス板Gを搬送する搬送ユニットと、搬送されるガラス板Gに対し熱処理を行う熱処理ユニットと、を備える。   The heat treatment furnace 1 includes a transport unit that transports a plurality of glass plates G on the transport path 7 and a heat treatment unit that performs heat treatment on the transported glass plates G.

(a)搬送ユニット
搬送ユニットは、搬送工程を行うためのものであり、搬送されるガラス板Gの上方に搬送方向の両端に掛け渡された2本のチェーンベルト(搬送ベルト)21(図3参照)と、チェーンベルト21とともに搬送方向に移動する複数のバー23と、バー23に取り付けられた複数のクランプ25と、を有している。
(A) Conveying unit The conveying unit is for carrying out a conveying process, and is provided with two chain belts (conveying belts) 21 (Fig. 3) that are stretched over both ends of the conveying direction above the glass plate G to be conveyed. Reference), a plurality of bars 23 that move in the transport direction together with the chain belt 21, and a plurality of clamps 25 attached to the bars 23.

チェーンベルト21は、例えば、搬送方向の両端のそれぞれにおいて複数のローラに架け渡され、図2に示されるように駆動される。なお、図2には、便宜のため、搬送方向の上流側の複数のローラのうちの一部のローラのみを示す。チェーンベルト21は、図3に示すように、搬送されるガラス板Gの幅方向の両端のそれぞれと対応するよう1本ずつ設けられ、熱処理工程(S4)の間、図示されない駆動機構によって駆動される。図3は、本実施形態の熱処理工程を説明する図である。なお、図3では、チェーンベルト21のうちの搬送方向に移動する部分を示し、搬送方向と反対方向に移動する部分を省略している。また、図3では、説明の便宜のため、クランプ25の図示を省略し、バー23およびガラス板Gを、互いに間隔をあけた状態で示している。
搬送されるガラス板Gを挟んでチェーンベルト21と対向する位置には、熱処理炉1の底部を構成するベルト27が、搬送方向の両端に掛け渡されている。ベルト27は、熱処理工程(S4)の間は駆動されないが、必要に応じて不図示の操作装置を操作して駆動させることができる。ベルト27には、例えば、厚み方向に貫通する開孔が面方向に並ぶよう形成されたメッシュベルトが用いられる。メッシュベルトを用いることによって、熱処理工程において送風されるダウンフローの熱風をメッシュベルトを通過させて下方に流すことができ、熱風の下方向への流れを安定させることができる。さらに、厚み方向に貫通する開孔を有しないベルトを用いた場合は、熱風がベルトに衝突することでベルト上の粉塵が舞い上がって、搬送中のガラス板Gに付着するおそれがあるが、メッシュベルトを用いた場合は、ベルト表面に粉塵が溜まるおそれがないため、そのような粉塵による不都合の発生を抑えることができる。なお、ベルト27の代わりに、駆動されない板状部材で、熱処理炉1の底部は構成されてもよい。
For example, the chain belt 21 is spanned by a plurality of rollers at both ends in the transport direction, and is driven as shown in FIG. For convenience, FIG. 2 shows only some of the plurality of rollers on the upstream side in the transport direction. As shown in FIG. 3, one chain belt 21 is provided so as to correspond to both ends in the width direction of the glass plate G to be conveyed, and is driven by a drive mechanism (not shown) during the heat treatment step (S4). The FIG. 3 is a diagram for explaining the heat treatment process of the present embodiment. In FIG. 3, a portion of the chain belt 21 that moves in the conveyance direction is shown, and a portion that moves in the direction opposite to the conveyance direction is omitted. Further, in FIG. 3, for convenience of explanation, the illustration of the clamp 25 is omitted, and the bar 23 and the glass plate G are shown in a state of being spaced apart from each other.
Belts 27 constituting the bottom of the heat treatment furnace 1 are suspended at both ends in the transport direction at positions facing the chain belt 21 with the glass plate G being transported in between. The belt 27 is not driven during the heat treatment step (S4), but can be driven by operating an operating device (not shown) if necessary. As the belt 27, for example, a mesh belt is used in which openings that penetrate in the thickness direction are arranged in the surface direction. By using the mesh belt, the hot air of the downflow blown in the heat treatment process can pass through the mesh belt and flow downward, and the downward flow of the hot air can be stabilized. Furthermore, when a belt that does not have an opening that penetrates in the thickness direction is used, there is a risk that dust on the belt will rise by hot air colliding with the belt and adhere to the glass plate G being transported. When a belt is used, there is no possibility of dust collecting on the belt surface, so that it is possible to suppress the occurrence of inconvenience due to such dust. Note that the bottom portion of the heat treatment furnace 1 may be configured with a plate-like member that is not driven instead of the belt 27.

バー23は、例えば金属を材質とする板状部材である。バー23は、搬送工程(S4)において、長手方向の両端が、搬送方向に移動するチェーンベルト21の部分に載置され、チェーンベルト21に追従するように搬送方向に移動する。バー23には、クランプ25が取り付けられており、熱処理炉1の入口3において、把持機構4によってガラス板Gがクランプ25に把持されることでガラス板Gはバー23に吊り下げられる。図4に、バー23およびクランプ25をより詳細に示す。図4は、クランプ25に把持されたガラス板Gを側方から見て示す図である。ガラス板Gを吊り下げたバー23は、搬送路7においてガラス板Gを所定の間隔(ピッチ)で搬送するために、搬送路7の上流側の端に配置されたロード機構8によって、1本ずつ、互いに間隔をあけてチェーンベルト21に載置される。これによって、ガラス板Gは、バー23を介してチェーンベルト21に吊り下げられた状態で搬送(縦吊り搬送)される。ガラス板Gの間隔は、狭いほど、生産性は高くなるが、熱風の熱がガラス板Gによって奪われやすくなる。本実施形態の製造方法では、後述するようにガラス板Gの面内での熱収縮率のバラつきを低減できることから、ガラス板Gの間隔が狭い場合にも好適である。ガラス板Gの間隔は、生産性およびガラス板同士の接触防止の観点から、20〜200mmであることが好ましく、より好ましくは50〜150mmである。なお、図2および図4では、説明の便宜のため、複数のガラス板Gの間隔を詰めて示す。
ガラス板Gを吊り下げたバー23は、搬送路7の下流側の端に配置されたアンロード機構9によって、チェーンベルト21から取り外され、熱処理炉1の出口5において、抜き取り機構6によってガラス板Gはクランプ25から抜き取られる。
The bar 23 is a plate-like member made of, for example, metal. In the transport step (S4), both ends of the bar 23 are placed on the portion of the chain belt 21 that moves in the transport direction, and the bar 23 moves in the transport direction so as to follow the chain belt 21. A clamp 25 is attached to the bar 23, and the glass plate G is suspended from the bar 23 when the glass plate G is held by the clamp 25 by the holding mechanism 4 at the inlet 3 of the heat treatment furnace 1. FIG. 4 shows the bar 23 and the clamp 25 in more detail. FIG. 4 is a view showing the glass plate G held by the clamp 25 as viewed from the side. In order to convey the glass plate G at a predetermined interval (pitch) in the conveyance path 7, one bar 23 suspending the glass sheet G is provided by the load mechanism 8 disposed at the upstream end of the conveyance path 7. One by one, they are placed on the chain belt 21 at intervals. As a result, the glass plate G is conveyed (vertically suspended) while being hung from the chain belt 21 via the bar 23. The narrower the interval between the glass plates G, the higher the productivity, but the heat of the hot air is easily taken away by the glass plates G. In the manufacturing method of this embodiment, since the dispersion | variation in the thermal contraction rate in the surface of the glass plate G can be reduced as mentioned later, it is suitable also when the space | interval of the glass plates G is narrow. The distance between the glass plates G is preferably 20 to 200 mm, more preferably 50 to 150 mm, from the viewpoint of productivity and prevention of contact between the glass plates. In FIG. 2 and FIG. 4, for the convenience of explanation, the intervals between the plurality of glass plates G are shown close together.
The bar 23 from which the glass plate G is suspended is removed from the chain belt 21 by the unload mechanism 9 disposed at the downstream end of the conveyance path 7, and the glass plate is removed by the extraction mechanism 6 at the outlet 5 of the heat treatment furnace 1. G is extracted from the clamp 25.

クランプ25は、ガラス板Gの上端部を把持する部材である。クランプ25は、特に制限されないが、例えば、バネ力によってガラス板Gの両主表面を挟むバネクランプを採用することができる。1つのバー23に取り付けられるクランプ25の数は、1つであってもよいが、搬送中のガラス板Gの姿勢をより安定させるために、2つ以上であることが好ましい。2つ以上のクランプ25がバー23に取り付けられている場合、クランプ25は、バー23に対し幅方向にスライドできるよう構成されていることが好ましい。金属材料で構成されたバー23は、ガラス板Gよりも熱膨張率が高く幅方向に延びやすい。このため、クランプ25がバー23に対して幅方向に移動することで、バー23が熱膨張してもガラス板Gの上端部に撓みや変形が生じるのを防止することができる。   The clamp 25 is a member that holds the upper end of the glass plate G. The clamp 25 is not particularly limited. For example, a spring clamp that sandwiches both main surfaces of the glass plate G by a spring force can be employed. Although the number of the clamps 25 attached to one bar 23 may be one, in order to make the attitude | position of the glass plate G in conveyance more stable, it is preferable that it is two or more. When two or more clamps 25 are attached to the bar 23, the clamp 25 is preferably configured to be slidable in the width direction with respect to the bar 23. The bar 23 made of a metal material has a higher coefficient of thermal expansion than the glass plate G and easily extends in the width direction. For this reason, when the clamp 25 moves in the width direction with respect to the bar 23, it is possible to prevent the upper end portion of the glass plate G from being bent or deformed even if the bar 23 is thermally expanded.

(b)熱処理ユニット
熱処理ユニットは、熱処理工程(S4)を行うためのものであり、搬送されるガラス板Gの上方および下方のそれぞれに搬送方向に並ぶよう配置された複数のファン付きヒータ31と、複数のヒータ33と、を有している。ファン付きヒータ31およびヒータ33は、搬送されるガラス板Gに、予め設計された温度プロファイルが形成されるよう、図示しない制御装置によって制御される。
(B) Heat treatment unit The heat treatment unit is for performing the heat treatment step (S4), and includes a plurality of fan-equipped heaters 31 arranged in the conveyance direction above and below the glass plate G to be conveyed. And a plurality of heaters 33. The heater 31 with the fan and the heater 33 are controlled by a control device (not shown) so that a temperature profile designed in advance is formed on the glass plate G to be conveyed.

ファン付きヒータ31は、ヒータで加熱された気体をファンで送風するよう、ヒータとファンが互いに隣接して配置された一体の装置であり、熱処理炉1内では、ヒータに対してファンを下方にして配置される。ファン付きヒータ31のヒータには、例えば、バーナーヒータ、電気ヒータが用いられる。ファンは、熱処理工程(S4)の間、ヒータで加熱された空気を、図3に示されるように下方に向けて送風するよう駆動される。図3において、熱風が流れる向きを太い矢印で示す。熱処理炉1内の雰囲気中に粉塵が浮遊している場合であっても、このようなダウンフローの熱風によって大きな粉塵(例えば、最大長さ数μm以上の粉塵)は炉1の底部に運ばれて堆積する。また、小さな粉塵(例えば、最大長さ0.5μm未満)はフィルタによって除去される。このため、粉塵が雰囲気中を浮遊し続けてガラス板Gの表面に付着するのを抑えることができる。なお、フィルタは、熱風に曝されるため、耐熱性を有するフィルタが好ましい。フィルタは、例えば、後述するベルト27の下方でかつファン付きヒータ31の上方に配置される。また、ダウンフローの熱風は、熱処理炉1内を循環する空気流を形成できる点で好ましい。熱風は、ガラス板G間を下方に流れた後、熱処理炉1の底部に沿って熱処理炉1の図示されない側壁まで流れて、側壁に沿って上昇し、さらに熱処理炉1の天井に沿って流れることで、搬送路7の周りを循環する。   The fan-equipped heater 31 is an integrated device in which the heater and the fan are arranged adjacent to each other so that the gas heated by the heater is blown by the fan. Arranged. As the heater of the heater 31 with a fan, for example, a burner heater or an electric heater is used. During the heat treatment step (S4), the fan is driven to blow the air heated by the heater downward as shown in FIG. In FIG. 3, the direction in which the hot air flows is indicated by a thick arrow. Even when dust is floating in the atmosphere in the heat treatment furnace 1, large dust (for example, dust having a maximum length of several μm or more) is carried to the bottom of the furnace 1 by the hot air of such downflow. And accumulate. In addition, small dust (for example, a maximum length of less than 0.5 μm) is removed by a filter. For this reason, it can suppress that dust continues floating in the atmosphere and adheres to the surface of the glass plate G. Since the filter is exposed to hot air, a filter having heat resistance is preferable. For example, the filter is disposed below a belt 27 described later and above the heater 31 with a fan. Further, the downflow hot air is preferable in that an air flow circulating in the heat treatment furnace 1 can be formed. The hot air flows downward between the glass plates G, then flows along the bottom of the heat treatment furnace 1 to a side wall (not shown) of the heat treatment furnace 1, rises along the side wall, and further flows along the ceiling of the heat treatment furnace 1. Thus, it circulates around the conveyance path 7.

熱風の送風は、上記説明した態様に制限されず、下記説明する態様で行ってもよい。
例えば、熱処理炉1の炉壁の外側に配置された下記熱風発生装置(図示せず)を用いて熱風の送風を行ってもよい。この熱風発生装置は、炉壁に設けられた送風口(図示せず)から炉1内に熱風を供給する装置である。熱風発生装置は、具体的に、ヒータと、ヒータで加熱された気体を送風するためのファンと、を備える装置であり、ヒータがファンの下流側に配置されていてもよく、ファンがヒータの下流側に配置されていてもよい。熱風発生装置を用いる場合、熱処理炉1の炉壁のうち、送風口が設けられた位置(例えば炉1の天井)と異なる位置(例えば炉1底部)に、炉1内に供給された熱風を炉1外に排出するための排気口(図示せず)が設けられる。送風口および排気口が設けられる位置は、炉1内を搬送されるガラス板Gが熱風の流れの途中に配置されるよう調整される。このようにして熱風を送風する態様において、排気口から炉1外に排出された熱風は、熱風発生装置に戻され、炉1内および炉1外にわたって循環するようになっていてもよく、循環せずにそのまま大気中に放出されるようになっていてもよい。
また、例えば、熱処理炉1内または炉壁の外側に配置された下記熱風発生装置(図示せず)を用いて熱風の送風を行ってもよい。この熱風発生装置は、一方向に延びる形状の発熱体と、この発熱体を外側から、発熱体との間に隙間をあけて取り囲む筒状の部材と、を有する熱風発生装置を用いて、熱風の送風を行ってもよい。発熱体は、例えば、筒状の部材との間の隙間を、気体が軸方向に螺旋状に流れるような形状を有していてもよい。この熱風発生装置は、筒状の部材の一端から筒状の部材の内側に吸引された気体が、筒状の部材内を通る間に、発熱体と接触することで加熱され、熱風となって他端から排出される。
これらの態様において、熱風は、ガラス板G間の隙間を、上下方向に流れる代わりに、側方向に流れてもよい。
The blowing of hot air is not limited to the mode described above, and may be performed in the mode described below.
For example, you may blow hot air using the following hot air generator (not shown) arrange | positioned on the outer side of the furnace wall of the heat processing furnace 1. FIG. This hot air generator is an apparatus for supplying hot air into the furnace 1 from a blower opening (not shown) provided in the furnace wall. Specifically, the hot air generator is a device including a heater and a fan for blowing the gas heated by the heater, and the heater may be disposed on the downstream side of the fan. It may be arranged on the downstream side. When using a hot air generator, the hot air supplied into the furnace 1 is placed at a position (for example, the bottom of the furnace 1) different from the position (for example, the ceiling of the furnace 1) of the furnace wall of the heat treatment furnace 1. An exhaust port (not shown) for discharging outside the furnace 1 is provided. The position at which the air outlet and the exhaust port are provided is adjusted so that the glass plate G conveyed in the furnace 1 is arranged in the middle of the flow of hot air. Thus, in the aspect which blows hot air, the hot air discharged | emitted out of the furnace 1 from the exhaust port may be returned to a hot air generator, and it may circulate in the furnace 1 and the outside of the furnace 1, and is circulating. It may be released into the atmosphere as it is.
For example, you may blow hot air using the following hot air generator (not shown) arrange | positioned in the heat processing furnace 1 or the outer side of the furnace wall. This hot air generating device uses a hot air generating device having a heating element having a shape extending in one direction and a cylindrical member surrounding the heating element with a gap between the heating element and the heating element. You may blow. For example, the heating element may have a shape such that the gas flows spirally in the axial direction in the gap between the heating element and the cylindrical member. In this hot air generator, the gas sucked from one end of the cylindrical member to the inside of the cylindrical member is heated by contact with the heating element while passing through the cylindrical member, and becomes hot air. It is discharged from the other end.
In these embodiments, the hot air may flow through the gaps between the glass plates G in the lateral direction instead of flowing in the vertical direction.

ヒータ33(熱源)は、ガラス板Gを加熱できるものであればよく、例えば、バーナーヒータ、電磁波ヒータ、熱伝導ヒータ、熱風ヒータが用いられる。ヒータ33は、熱風だけを用いて熱処理工程(S4)を行った場合にガラス板Gの温度が最も低くなる部分に隣接する位置に配置されることが好ましい。このような位置にヒータ33が配置されることで、ガラス板Gの面内に温度差が生じることに起因して熱収縮率のバラつきが生じるのを効果的に抑えることができる。具体的に、ヒータ33は、ガラス板Gを介してファン付きヒータ31と対向する位置、すなわち熱風の風下側に配置されることが好ましい。ヒータ33は、例えば、搬送方向に移動するベルト27の部分の下方に、搬送方向に間隔をあけて複数個が配置されている。ヒータ33は、熱風の流れが妨げられないよう構成されていることが好ましい。そのようなヒータ33は、例えば、図5に示されるヒータ33のように、平面方向に発熱体の間に隙間を有する形状のものである。図5に示されるヒータ33は、平面視略M字形状を有するよう形成された発熱体であり、平面方向に発熱体の間に隙間を有している。図5は、ヒータ33の一例を示す外観図である。図5において、熱風は上下方向に通過する。図5に示すヒータ33は、発熱体の両端は図示されない電源に接続され、発熱体を電流が流れることで発熱する。例えば、ファン付きヒータ31から送風されるダウンフローの熱風は、発熱体の間の隙間を流れることで、ヒータ33に妨げられることなくさらに下流側に流れ、熱風は、上述のように循環することができる。   The heater 33 (heat source) is not particularly limited as long as it can heat the glass plate G. For example, a burner heater, an electromagnetic wave heater, a heat conduction heater, or a hot air heater is used. The heater 33 is preferably disposed at a position adjacent to a portion where the temperature of the glass plate G is lowest when the heat treatment step (S4) is performed using only hot air. By arranging the heater 33 at such a position, it is possible to effectively suppress the variation in the thermal contraction rate due to the occurrence of a temperature difference in the surface of the glass plate G. Specifically, the heater 33 is preferably arranged at a position facing the heater 31 with the fan through the glass plate G, that is, on the leeward side of the hot air. For example, a plurality of heaters 33 are arranged below the portion of the belt 27 that moves in the transport direction with an interval in the transport direction. The heater 33 is preferably configured so that the flow of hot air is not hindered. Such a heater 33 has, for example, a shape having a gap between the heating elements in the planar direction, like the heater 33 shown in FIG. The heater 33 shown in FIG. 5 is a heating element formed so as to have a substantially M shape in a plan view, and has a gap between the heating elements in the planar direction. FIG. 5 is an external view showing an example of the heater 33. In FIG. 5, the hot air passes in the vertical direction. The heater 33 shown in FIG. 5 is connected to a power source (not shown) at both ends of the heating element, and generates heat when a current flows through the heating element. For example, the downflow hot air blown from the fan-equipped heater 31 flows through the gap between the heating elements to flow further downstream without being interrupted by the heater 33, and the hot air circulates as described above. Can do.

ファン付きヒータ31およびヒータ33は、発熱する領域の横方向(図2の紙面奥行き方向)長さが、搬送されるガラス板Gの幅方向長さより長いことが好ましい。また、搬送方向に隣り合うファン付きヒータ31の間隔は、搬送方向にわたって熱風の温度にムラが生じないよう調整される。また、搬送方向に隣り合うヒータ33の間隔は、ガラス板Gに伝達されるヒータ33の放射熱が搬送方向にわたってムラが生じないよう調整される。
なお、ヒータ33は、図2に示されるものに代えて、図3に示されるように搬送方向に沿って延びる形状のものが用いられてもよい。図3に、そのようなヒータ33の一部の搬送領域の部分を示す。そのようなヒータ33として、例えば、搬送方向に延びる形状の金属の板状部材に、搬送方向に沿って延びる電熱線が設けられたもの、あるいは、そのような板状部材を搬送方向に通電して発熱させるもの等が挙げられる。図3に示す形態のヒータは、ファン付きヒータ31のヒータに適用してもよい。
In the fan-equipped heater 31 and the heater 33, it is preferable that the length of the heat generating region in the horizontal direction (the depth direction in FIG. 2) is longer than the width direction length of the glass plate G to be conveyed. Further, the interval between the fan-equipped heaters 31 adjacent to each other in the transport direction is adjusted so that the temperature of the hot air does not vary across the transport direction. Further, the interval between the heaters 33 adjacent to each other in the transport direction is adjusted so that the radiant heat of the heater 33 transmitted to the glass plate G is not uneven in the transport direction.
The heater 33 may have a shape extending along the transport direction as shown in FIG. 3, instead of the one shown in FIG. FIG. 3 shows a part of such a conveyance region of the heater 33. As such a heater 33, for example, a metal plate-shaped member extending in the transport direction is provided with a heating wire extending in the transport direction, or such a plate member is energized in the transport direction. And those that generate heat. The heater shown in FIG. 3 may be applied to the heater 31 with the fan.

(熱処理工程)
熱処理工程(S4)は、上記説明した熱処理炉1を用いて行われる。熱処理工程では、成形されたガラス板Gに対し、ガラス板Gの温度が好ましくは400〜600℃、より好ましくは450〜550℃となる範囲で熱処理を行う。具体的には、熱処理炉1内において、互いに間隔をあけて配置された複数のガラス板Gの間の隙間に熱風を送風し、かつ、ガラス板Gに対して熱風が送風される方向の下流側(風下側)に配置されたヒータ33から放射される放射熱によってガラス板Gを加熱する。熱処理工程(S4)が行われる間、熱処理炉1において、ガラス板Gを互いに間隔をあけて搬送する搬送工程が並行して行われてもよい。搬送工程では、ガラス板Gは、ガラス板Gの主表面が搬送方向を向くようチェーンベルト21に吊り下げられ、縦吊り搬送される。
(Heat treatment process)
The heat treatment step (S4) is performed using the heat treatment furnace 1 described above. In the heat treatment step, heat treatment is performed on the formed glass plate G in a range where the temperature of the glass plate G is preferably 400 to 600 ° C, more preferably 450 to 550 ° C. Specifically, in the heat treatment furnace 1, hot air is blown into gaps between a plurality of glass plates G that are spaced apart from each other, and downstream in the direction in which hot air is blown to the glass plate G. The glass plate G is heated by the radiant heat radiated from the heater 33 arranged on the side (leeward side). While the heat treatment step (S4) is performed, in the heat treatment furnace 1, a conveyance step of conveying the glass sheets G at intervals may be performed in parallel. In the transport process, the glass plate G is suspended from the chain belt 21 so that the main surface of the glass plate G faces the transport direction, and is transported vertically.

上記温度範囲の熱処理はキープ区間で行われる。400〜600℃の温度範囲は、LTPS(低温度ポリシリコン)、IGZO(インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素)から構成される半導体層をガラス基板上に形成するときの温度を含む範囲であり、この温度範囲においてガラス板の面内での熱収縮率のバラつきを低減できればよい。
キープ区間での熱処理は、具体的には、ガラス板Gの温度を好ましくは400〜600℃の範囲内の所定の温度(キープ温度)に保持すること、より具体的には、ガラス板Gの面内の温度差がキープ温度の範囲内に収まるようガラス板Gの温度を保持することにより行われる。キープ温度は、ガラス板Gの面内での熱収縮率のバラつきを低減できるよう定められる。キープ温度の範囲の上限値と下限値との差は20℃以内であることが好ましく、差がないことがより好ましい。例えば、キープ温度は、上限値と下限値との差が20℃以下となる450〜550℃の範囲であり、より好ましくは、上限値と下限値との差が20℃以下となる480〜530℃の範囲である。また、キープ区間の熱処理を行う時間(キープ時間)は、熱収縮率の低減を考慮して調整され、例えば60分以上である。
The heat treatment in the above temperature range is performed in the keep section. The temperature range of 400 to 600 ° C. is a range including the temperature when a semiconductor layer composed of LTPS (low temperature polysilicon) and IGZO (indium, gallium, zinc, oxygen) is formed on a glass substrate. It is only necessary to reduce the variation in the thermal shrinkage rate in the surface of the glass plate in the temperature range.
In the heat treatment in the keep section, specifically, the temperature of the glass plate G is preferably maintained at a predetermined temperature (keep temperature) within a range of 400 to 600 ° C., more specifically, This is performed by maintaining the temperature of the glass plate G so that the in-plane temperature difference is within the range of the keep temperature. The keep temperature is determined so as to reduce the variation in the thermal shrinkage rate in the plane of the glass plate G. The difference between the upper limit value and the lower limit value of the keep temperature range is preferably within 20 ° C., more preferably no difference. For example, the keep temperature is in the range of 450 to 550 ° C. where the difference between the upper limit value and the lower limit value is 20 ° C. or less, more preferably 480 to 530 where the difference between the upper limit value and the lower limit value is 20 ° C. or less. It is in the range of ° C. Moreover, the time (keep time) for performing the heat treatment in the keep section is adjusted in consideration of the reduction of the heat shrinkage rate, and is, for example, 60 minutes or more.

キープ温度の範囲の上限値と下限値との差を20℃以内にする方法の例として、熱風が熱処理炉1の搬送路7内に流れ込んだ時の熱風温度Tと、搬送路7から熱処理炉1内の底部に流れる時の熱風温度Tとを測定し、熱風温度Tと熱風温度Tの間に温度差が生じるのを抑制するように、ヒータ33を加熱することが挙げられる。例えば、測定の結果、熱風温度Tが520℃、熱風温度Tが490℃であった場合、熱風温度Tより高い温度にヒータ33の設定温度(例えば、520℃〜530℃)を設定し、熱風温度Tが520℃に近づくように、ヒータ33の温度を制御することで上限値と下限値との差を20℃以内にすることができる。 As an example of a method of setting the difference between the upper limit value and the lower limit value of the range of the keep temperature within 20 ° C., the hot air temperature T 1 when hot air flows into the transfer path 7 of the heat treatment furnace 1 and the heat treatment from the transfer path 7. It is possible to measure the hot air temperature T 2 when flowing to the bottom of the furnace 1 and to heat the heater 33 so as to suppress a temperature difference between the hot air temperature T 1 and the hot air temperature T 2. . For example, when the hot air temperature T 1 is 520 ° C. and the hot air temperature T 2 is 490 ° C. as a result of the measurement, the set temperature (for example, 520 ° C. to 530 ° C.) of the heater 33 is set to a temperature higher than the hot air temperature T 2. Then, the difference between the upper limit value and the lower limit value can be set within 20 ° C. by controlling the temperature of the heater 33 so that the hot air temperature T 2 approaches 520 ° C.

熱処理工程(S4)では、上記したキープ区間での熱処理のほか、キープ温度未満の熱処理が行われてもよい。キープ温度未満の熱処理は、昇温区間および降温区間で行われる。
昇温区間では、具体的に、ガラス板Gをキープ温度に昇温する。昇温開始時点のガラス板Gの温度は特に制限されず、例えば常温である。昇温速度は、区間を通じて略等速であることが好ましく、例えば6.7〜60℃/分である。昇温時間は、熱収縮率の低減を考慮して調整され、例えば10分以上である。
降温区間では、具体的に、ガラス板Gの温度をキープ温度から、歪点−100℃〜歪点−300℃の範囲内の温度(例えば400℃)に降温する。降温速度は、区間を通じて略等速であることが好ましく、例えば0.8〜2.5℃/分である。降温時間は、熱収縮率の低減を考慮して調整され、例えば60分以上である。
In the heat treatment step (S4), in addition to the heat treatment in the keep section described above, a heat treatment having a temperature lower than the keep temperature may be performed. The heat treatment below the keep temperature is performed in the temperature increase interval and the temperature decrease interval.
In the temperature raising section, specifically, the glass plate G is heated to the keep temperature. The temperature of the glass plate G at the start of temperature rise is not particularly limited, and is, for example, room temperature. The heating rate is preferably substantially constant throughout the section, and is, for example, 6.7 to 60 ° C./min. The temperature raising time is adjusted in consideration of reduction of the heat shrinkage rate, and is, for example, 10 minutes or more.
In the temperature lowering section, specifically, the temperature of the glass plate G is decreased from the keep temperature to a temperature (for example, 400 ° C.) within the range of strain point −100 ° C. to strain point −300 ° C. The temperature decreasing rate is preferably substantially constant throughout the section, and is, for example, 0.8 to 2.5 ° C./min. The temperature lowering time is adjusted in consideration of reduction of the heat shrinkage rate, and is, for example, 60 minutes or more.

熱処理工程(S4)が行われることによって、予め設計された温度プロファイルが、各ガラス板において再現される。温度プロファイルは、熱処理工程の経過時間に伴うガラス板Gの温度変化を示すものであり、ガラス板Gの面内の熱収縮率のバラつきを低減する観点から予め設計される。温度プロファイルは、特に制限されないが、例えば、キープ区間と対応する時間ではガラス板Gの温度が最も高くかつ一定であるキープ温度に保持され、昇温区間と対応する時間では常温からキープ温度にかけて昇温され、降温区間と対応する時間ではキープ温度から徐々に降温される態様のものが挙げられ、温度を縦軸、熱処理工程の経過時間を横軸としたときに、略台形形状をなしている。降温時間は、昇温時間より長いことが好ましい。   By performing the heat treatment step (S4), a temperature profile designed in advance is reproduced in each glass plate. The temperature profile indicates the temperature change of the glass plate G with the elapsed time of the heat treatment step, and is designed in advance from the viewpoint of reducing the variation in the thermal shrinkage rate in the surface of the glass plate G. The temperature profile is not particularly limited. For example, the temperature of the glass sheet G is maintained at the highest and constant temperature during the time corresponding to the keep interval, and increases from room temperature to the keep temperature during the time corresponding to the temperature increase interval. In the time corresponding to the temperature drop period, the temperature is gradually lowered from the keep temperature, and has a substantially trapezoidal shape when the temperature is the vertical axis and the elapsed time of the heat treatment process is the horizontal axis. . The temperature lowering time is preferably longer than the temperature rising time.

ファン付きヒータ31およびヒータ33の温度は、上記温度プロファルが再現されるよう設定される。
熱処理工程(S4)は、例えば、昇温、キープ、降温の各区間の間で、熱風の風量を代えずに、熱風の温度を変えることにより行うことができる。熱風の温度は、ファン付きヒータ31のヒータ温度の調整によって変えることができる。
The temperature of the fan-equipped heater 31 and the heater 33 is set so that the temperature profile is reproduced.
The heat treatment step (S4) can be performed, for example, by changing the temperature of the hot air without changing the air volume of the hot air between the temperature raising, keeping, and temperature lowering sections. The temperature of the hot air can be changed by adjusting the heater temperature of the heater 31 with a fan.

熱風は、ガラス板Gの端部から面内の中心に向かって送風されることが好ましい。これにより、ガラス板Gの主表面のより広い領域の部分に熱を伝達させ、ガラス板Gの面内の温度差を効果的に低減することができる。この理由から、ガラス板Gは、熱風が流れる方向に対して、横(熱風が流れる方向と直交する方向)の寸法が縦(熱風が流れる方向)の寸法よりも短くなるよう、横長にして搬送されることが好ましい。このように搬送することで、同じ寸法のガラス板Gを縦長にして搬送する場合と比べ、熱風の熱がガラス板Gに奪われる縦長さを短くし、ガラス板Gの風上側の部分と風下側の部分との間で生じる温度差を低減できる。   The hot air is preferably blown from the end of the glass plate G toward the center in the plane. Thereby, heat can be transmitted to a wider region of the main surface of the glass plate G, and the in-plane temperature difference of the glass plate G can be effectively reduced. For this reason, the glass plate G is transported in a horizontally long direction so that the horizontal dimension (direction perpendicular to the direction in which the hot air flows) is shorter than the vertical dimension (the direction in which the hot air flows) with respect to the direction in which the hot air flows. It is preferred that By carrying in this way, compared with the case where the glass plate G of the same dimension is carried vertically, the length by which the heat of the hot air is taken away by the glass plate G is shortened, and the windward side portion and the leeward side of the glass plate G are reduced. It is possible to reduce the temperature difference that occurs between the side portions.

熱処理工程において、搬送方向に隣り合うガラス板Gの間隔は、生産性およびガラス板Gの搬送速度を考慮して調整される。図3において、ガラス板Gの間隔を両方向矢印で示す。また、ガラス板Gの搬送速度は、ガラス板Gを安定した姿勢で搬送する観点から調整される。搬送速度は、区間の間で同じであってもよく、異なっていてもよい。   In the heat treatment step, the interval between the glass plates G adjacent to each other in the conveyance direction is adjusted in consideration of productivity and the conveyance speed of the glass plate G. In FIG. 3, the space | interval of the glass plate G is shown with a bidirectional arrow. Moreover, the conveyance speed of the glass plate G is adjusted from a viewpoint which conveys the glass plate G with the stable attitude | position. The conveyance speed may be the same between the sections or may be different.

本実施形態のガラス板の製造方法では、複数のガラス板Gを互いに間隔をあけ、隣り合うガラス板G間の隙間に熱風を送風することで、各ガラス板に対して均等な熱処理を行うことができ、ガラス板Gの間での熱収縮率のバラつきが抑制されている。そして、ガラス板Gのそれぞれには、熱処理工程において、熱風の風下側には配置されたヒータ33の放射熱が伝達されるため、熱風の風下側の温度が風上側よりも低下しても、ガラス板Gの面内での温度差の発生が抑制されている。このため、ガラス板Gの面内で熱履歴の差が生じて内部歪が発生することが抑えられ、各ガラス板Gの面内における熱収縮率のバラつきが抑制されている。また、本実施形態のガラス板の製造方法によって製造されたガラス板は、ガラス板Gの温度が400〜600℃となる範囲で熱処理が行われた場合は、LTPS、IGZOから構成される半導体層が主表面に形成されるときの熱収縮率が小さく、また、比較的大きいサイズのものであっても面内で熱収縮率がバラつくことが抑えられていることから、ディスプレイ用ガラス板として適している。   In the manufacturing method of the glass plate of this embodiment, a plurality of glass plates G are spaced apart from each other, and hot air is blown into the gaps between the adjacent glass plates G to perform uniform heat treatment on each glass plate. Thus, variation in the thermal shrinkage rate between the glass plates G is suppressed. And, in each of the glass plates G, in the heat treatment step, the radiant heat of the heater 33 disposed on the leeward side of the hot air is transmitted, so even if the temperature on the leeward side of the hot air is lower than the windward side, Generation | occurrence | production of the temperature difference in the surface of the glass plate G is suppressed. For this reason, it is suppressed that the difference of a thermal history arises in the surface of the glass plate G, and internal distortion generate | occur | produces, and the variation in the thermal contraction rate in the surface of each glass plate G is suppressed. Moreover, the glass plate manufactured by the manufacturing method of the glass plate of this embodiment is a semiconductor layer comprised from LTPS and IGZO, when heat processing is performed in the range from which the temperature of the glass plate G will be 400-600 degreeC. As the glass plate for display, the heat shrinkage rate when the material is formed on the main surface is small, and even if the size is relatively large, the heat shrinkage rate is suppressed in the surface. Is suitable.

なお、熱処理工程では、熱風を、ガラス板の上下方向に送風する代わりに、ガラス板の側方向(図2の紙面奥行き方向)の一方の側から送風し、かつ、側方向の他方の側に配置された熱源を用いてガラス板を加熱することで熱処理を行ってもよい。また、熱処理工程において、ガラス板は搬送されなくてもよく、定位置で、例えばファン付きヒータ31およびヒータ33の温度を変化させることによって、昇温、キープ、降温の各区間で行われる熱処理を行ってもよく、また、3つの異なる位置のそれぞれにおいて、いずれかの区間で行われる熱処理を行い、3つの異なる位置の間でガラス板を移動させて他の熱処理を行うようにして昇温、キープ、降温の各熱処理を行ってもよい。また、ガラス板は、熱処理工程において、熱風の風上側の端部のみでなく、風下側の端部も把持されてもよい。この場合、熱風が風上側からガラス板の面内の中心を通って風下側に通り抜けられるよう、風下側で熱風の通路が確保されていることが好ましい。   In the heat treatment step, hot air is blown from one side of the glass plate in the side direction (the depth direction in FIG. 2) instead of being blown in the vertical direction of the glass plate, and to the other side of the side direction. You may heat-process by heating a glass plate using the arrange | positioned heat source. Further, in the heat treatment step, the glass plate may not be transported, and the heat treatment performed in each of the temperature rise, keep, and temperature drop intervals by changing the temperature of the heater 31 with the fan and the heater 33 at a fixed position, for example. In each of the three different positions, heat treatment is performed in any section, the glass plate is moved between the three different positions, and another heat treatment is performed to raise the temperature, You may perform each heat processing of a keep and temperature fall. Further, the glass plate may be gripped not only on the windward end of the hot air but also on the leeward side in the heat treatment step. In this case, it is preferable that a passage of hot air is secured on the leeward side so that the hot air can pass from the windward side through the center in the plane of the glass plate to the leeward side.

(実験例)
オーバーフローダウンドロー法を用いて作製した、SiO2 67.0モル%、Al23 10.6モル%、B23 11.0モル%、RO 11.4モル%(ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量)のガラス組成を有する厚さ0.5mmのシートガラスを、2270mm×2000mmのサイズの複数の矩形形状のガラス板に採板し、上記説明した熱処理炉1内で、複数のガラス板に対し下記条件で熱処理工程を行った(実施例1)。
昇温区間:常温から、500℃〜520℃の範囲まで30分かけて昇温
キープ区間:500℃〜520℃の範囲で120分保持
降温区間:500℃〜520℃の範囲から120℃まで60分かけて降温
ガラス板間ピッチ:100mm
(Experimental example)
SiO 2 67.0 mol%, Al 2 O 3 10.6 mol%, B 2 O 3 11.0 mol%, RO 11.4 mol% (RO is MgO, CaO) prepared by using the overflow downdraw method. A sheet glass having a thickness of 0.5 mm having a glass composition of (total amount of SrO and BaO) is sampled on a plurality of rectangular glass plates having a size of 2270 mm × 2000 mm, and in the heat treatment furnace 1 described above, The heat treatment process was performed on the plurality of glass plates under the following conditions (Example 1).
Temperature rise interval: from room temperature to 500 ° C to 520 ° C over 30 minutes Keep interval: hold for 120 minutes at 500 ° C to 520 ° C Temperature drop interval: 60 from 500 ° C to 520 ° C to 120 ° C Temperature drop over minutes Pitch between glass plates: 100mm

また、実施例1のガラス板を採板した同じシートガラスから採板したガラス板を用いて、ヒータ33による加熱を行わなかった点を除いて実施例と同様に熱処理工程を行った(比較例)。比較例では、キープ区間でのガラス板の面内の温度差は30℃を超えていた。   Moreover, the heat processing process was performed similarly to the Example except the point which did not heat with the heater 33 using the glass plate sampled from the same sheet glass which sampled the glass plate of Example 1 (comparative example). ). In the comparative example, the in-plane temperature difference of the glass plate in the keep section exceeded 30 ° C.

(熱収縮率の測定)
熱処理工程を行った実施例および比較例のガラス板からそれぞれ9枚のガラス基板を切り出し、各ガラス基板について下記の要領で熱収縮率を測定した。
ガラス基板の長辺両端部にケガキ線を入れ、短辺中央部で半分に切断し、2つのガラスサンプルを得る。このうちの一方のガラスサンプルを、熱処理(昇温速度が100℃/分、500℃で30分放置)する。熱処理をしない他方のガラスサンプルの長さを計測する。さらに、熱処理したガラスサンプルと未処理のガラスサンプルとをつき合わせてケガキ線のずれ量を、レーザ顕微鏡等で測定して、ガラスサンプルの長さの差分を求めることでサンプルの熱収縮量を求める。この熱収縮量である差分と、熱処理前のガラスサンプルの長さを用いて、以下の式により熱収縮率が求める。このガラスサンプルの熱収縮率をガラス基板の熱収縮率とする。
熱収縮率(ppm)=(差分)/(熱処理前のガラスサンプルの長さ)×10
測定の結果、実施例のガラス基板の熱収縮率はいずれも3ppm以内であったのに対し、比較例のガラス基板の熱収縮率は4〜10ppmの範囲に及んでいて、実施例のガラス板は面内でのバラつきが低減されていることが確認された。
(Measurement of heat shrinkage)
Nine glass substrates were cut out from each of the glass plates of the examples and comparative examples subjected to the heat treatment step, and the thermal shrinkage rate of each glass substrate was measured in the following manner.
A scribing line is put on both ends of the long side of the glass substrate and cut in half at the center of the short side to obtain two glass samples. One of the glass samples is heat-treated (temperature rising rate is 100 ° C./min, left at 500 ° C. for 30 minutes). Measure the length of the other glass sample without heat treatment. Further, the heat-treated glass sample and the untreated glass sample are put together to measure the deviation amount of the marking line with a laser microscope or the like, and the difference in the length of the glass sample is obtained to obtain the thermal contraction amount of the sample. . Using the difference, which is the amount of heat shrinkage, and the length of the glass sample before the heat treatment, the heat shrinkage rate is obtained by the following equation. Let the thermal shrinkage rate of this glass sample be the thermal shrinkage rate of a glass substrate.
Thermal contraction rate (ppm) = (difference) / (length of glass sample before heat treatment) × 10 6
As a result of the measurement, the thermal shrinkage rate of the glass substrate of the example was all within 3 ppm, whereas the thermal shrinkage rate of the glass substrate of the comparative example was in the range of 4 to 10 ppm. It was confirmed that the in-plane variation was reduced.

(実施例2)
実施例1と同様の組成、厚さを有するガラス板から、300mm×300mmのサイズのガラス基板を切り出し、上記説明した熱処理炉1内で、下記条件1、条件2で熱処理工程を行った(実施例2)。ガラス基板のサイズを300mm×300mmと小さくすることにより、ダウンフローによる熱処理によって生じるガラス基板の上部と下部との温度差を抑制し、ガラス基板の面内温度が均一になるよう熱処理した。この熱処理によって、ガラス基板の面内の熱収縮率のばらつきが0になるようにした。条件1、条件2のそれぞれの熱処理によって得られたガラス基板の熱収縮率を求め、条件1と条件2との熱処理温度差20℃によって生じる熱収縮率のばらつきを求めた。
条件1
昇温区間:常温から、500℃の温度まで30分かけて昇温
キープ区間:500℃の温度で90分保持
降温区間:500℃から、400℃まで90分かけて降温
ガラス基板間ピッチ:100mm
条件2
昇温区間:常温から、520℃の温度まで30分かけて昇温
キープ区間:520℃の温度で90分保持
降温区間:520℃から、400℃まで90分かけて降温
ガラス基板間ピッチ:100mm
(Example 2)
A glass substrate having a size of 300 mm × 300 mm was cut out from a glass plate having the same composition and thickness as in Example 1, and the heat treatment step was performed in the heat treatment furnace 1 described above under the following conditions 1 and 2 (implementation) Example 2). By reducing the size of the glass substrate to 300 mm × 300 mm, the temperature difference between the upper part and the lower part of the glass substrate caused by the heat treatment by downflow was suppressed, and the glass substrate was heat-treated so that the in-plane temperature of the glass substrate became uniform. By this heat treatment, the variation of the thermal shrinkage rate in the surface of the glass substrate was made zero. The thermal contraction rate of the glass substrate obtained by the heat treatment of each of the conditions 1 and 2 was determined, and the variation in the thermal contraction rate caused by the heat treatment temperature difference of 20 ° C. between the condition 1 and the condition 2 was determined.
Condition 1
Temperature rise interval: Temperature rise from room temperature to 500 ° C over 30 minutes Keep interval: Hold at temperature of 500 ° C for 90 minutes Temperature drop interval: Temperature fall from 500 ° C to 400 ° C over 90 minutes Pitch between glass substrates: 100mm
Condition 2
Temperature rise interval: Temperature rise from room temperature to 520 ° C over 30 minutes Keep interval: Hold at 520 ° C for 90 minutes Temperature drop interval: Temperature fall from 520 ° C to 400 ° C over 90 minutes Pitch between glass substrates: 100 mm

条件1によるガラス基板の熱収縮率は−0.1ppm、条件2によるガラス基板の熱収縮率は1.9ppmであった。条件1と条件2とのキープ温度の温度差は20℃であるため、熱処理の温度差が20℃であるガラス基板の熱収縮率のばらつきは2ppm(=1.9ppm−(−0.1ppm))であることが確認された。このため、ガラス板の面内の熱収縮率のばらつきを2ppm以下にするためには、熱処理温度の差を20℃以下にすればよいことが確認された。   The thermal shrinkage rate of the glass substrate under condition 1 was -0.1 ppm, and the thermal shrinkage rate of the glass substrate under condition 2 was 1.9 ppm. Since the temperature difference of the keep temperature between the condition 1 and the condition 2 is 20 ° C., the variation in the thermal shrinkage rate of the glass substrate with the temperature difference of the heat treatment being 20 ° C. is 2 ppm (= 1.9 ppm − (− 0.1 ppm)) ). For this reason, it was confirmed that the difference in heat treatment temperature should be 20 ° C. or less in order to make the variation of the thermal shrinkage rate in the plane of the glass plate 2 ppm or less.

以上、本発明のディスプレイ用ガラス板の製造方法およびディスプレイ用ガラス板製造装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。   As mentioned above, although the manufacturing method of the glass plate for displays and the glass plate manufacturing apparatus for displays of this invention were demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment, In the range which does not deviate from the main point of this invention, various improvement is carried out. Of course, you may make changes.

1 熱処理炉
3 入口
5 出口
7 搬送路
21 チェーンベルト(搬送ベルト)
23 バー
25 クランプ
27 ベルト
31 ファン付きヒータ
33 ヒータ
G ガラス板
1 Heat treatment furnace 3 Inlet 5 Outlet 7 Conveying path 21 Chain belt (conveying belt)
23 Bar 25 Clamp 27 Belt 31 Fan heater 33 Heater G Glass plate

Claims (5)

成形されたガラス板に対し熱処理を行う熱処理工程と、
前記熱処理工程が行われる間、複数の吊り下げられた前記ガラス板を互いに間隔をあけて搬送路上を搬送する搬送工程と、を備え、
前記熱処理工程では、複数の前記ガラス板の間の隙間に加熱された気体を送風し、かつ、前記ガラス板に対して前記気体が送風される方向の下流側に配置された熱源によって前記ガラス板を加熱し、
送風により流れ込んだ前記搬送路内の前記気体の温度T 1 と、前記搬送路から流れ出た前記気体の温度T 2 とを測定し、前記温度T 1 と前記温度T 2 との差が小さくなるよう前記熱源の温度を制御することを特徴とするディスプレイ用ガラス板の製造方法。
A heat treatment step for heat-treating the molded glass plate ;
A conveyance step of conveying a plurality of suspended glass plates on a conveyance path at intervals from each other while the heat treatment step is performed ,
In the heat treatment step, a heated gas is blown into a gap between the plurality of glass plates, and the glass plate is heated by a heat source disposed on the downstream side in the direction in which the gas is blown with respect to the glass plate. And
The temperature T 1 of the gas in the transport path that has flowed in by blowing and the temperature T 2 of the gas that has flowed out of the transport path are measured so that the difference between the temperature T 1 and the temperature T 2 is reduced. A method for producing a glass plate for a display, wherein the temperature of the heat source is controlled .
前記熱処理工程では、前記熱源を用いて、前記ガラス板の主表面内の温度差が低減されるよう前記ガラス板を加熱する、請求項1に記載のディスプレイ用ガラス板の製造方法。   The method for manufacturing a glass plate for a display according to claim 1, wherein in the heat treatment step, the glass plate is heated using the heat source so that a temperature difference in a main surface of the glass plate is reduced. 前記熱処理工程において、前記気体は、前記ガラス板よりも上方から送風され、
前記熱源は、前記ガラス板よりも下方に配置されている、請求項1又は2に記載のディスプレイ用ガラス板の製造方法。
In the heat treatment step, the gas is blown from above the glass plate,
The said heat source is a manufacturing method of the glass plate for a display of Claim 1 or 2 arrange | positioned below the said glass plate.
前記熱処理工程では、前記熱源を用いて、前記ガラス板の主表面内の温度差が20℃以内になるよう前記ガラス板を加熱する、請求項1からのいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス板の製造方法。 In the heat treatment step, by using the heat source, the temperature difference in the main surface of the glass plate is heated to the glass plate so as to be within 20 ° C., for a display according to any one of claims 1 3 Manufacturing method of glass plate. 成形されたガラス板に対し熱処理を行う熱処理装置と、
前記熱処理が行われる間、複数の吊り下げられた前記ガラス板を互いに間隔をあけて搬送路上を搬送する搬送ユニットと、を備え、
前記熱処理装置は、複数の前記ガラス板の間の隙間に加熱された気体を送風し、かつ、前記ガラス板に対して前記気体が送風される方向の下流側に配置された熱源によって前記ガラス板を加熱し、
送風により流れ込んだ前記搬送路内の前記気体の温度T 1 と、前記搬送路から流れ出た前記気体の温度T 2 とを測定し、前記温度T 1 と前記温度T 2 との差が小さくなるよう前記熱源の温度を制御することを特徴とするディスプレイ用ガラス板製造装置。
A heat treatment apparatus for heat-treating the molded glass plate ;
A transport unit that transports a plurality of suspended glass plates on a transport path at intervals from each other while the heat treatment is performed ;
The heat treatment device blows a heated gas in a gap between the plurality of glass plates, and heats the glass plate by a heat source disposed on the downstream side in the direction in which the gas is blown with respect to the glass plate. And
The temperature T 1 of the gas in the transport path that has flowed in by blowing and the temperature T 2 of the gas that has flowed out of the transport path are measured so that the difference between the temperature T 1 and the temperature T 2 is reduced. A glass plate manufacturing apparatus for a display, wherein the temperature of the heat source is controlled .
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