JP6581915B2 - 洗浄部材の初期化方法 - Google Patents
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例えば、特許文献1には、洗浄部材の初期化方法として、初期化用基板に純水を供給しながら、初期化用基板を回転させ、洗浄部材でスクラブすることにより、当該洗浄部材を初期化することが記載されている。
このため、洗浄部材の初期化に長時間を要するばかりか、使用している薬液、膜種によっては円形状のスクラッチ(Circle Scratch)の発生など問題が発生している。すなわち、ロールスポンジ状の洗浄部材に、基板の研磨時に使用したスラリー(砥液)が付着し、基板に形成されている銅膜等の柔らかい表面を擦って研磨屑が発生し、その結果、洗浄部材にスラリーや研磨屑等のパーティクルが付着してしまうという問題がある。
純水を初期化用基板に供給しながら、前記洗浄部材を前記初期化用基板に接触させて相対運動をさせることにより洗浄する純水洗浄工程と、
この純水洗浄工程の後、薬液を前記初期化用基板に供給しながら、前記洗浄部材を前記初期化用基板に接触させて相対運動をさせることにより洗浄する薬液洗浄工程と、を順次少なくとも1回以上繰り返して行うことを特徴とする。
また、薬液洗浄工程によって、洗浄部材にスラリーや研磨屑等のパーティクルが付着し難い環境を作ることができるので、純水洗浄工程に要する所要時間を短縮できる。したがって、洗浄部材の初期化のための所要時間を従来に比して短縮できる。
前記薬液洗浄工程の後、前記洗浄部材を前記初期化用基板から離間させたうえで、当該初期化用基板に純水を供給する純水供給工程とを含むことが好ましい。
また、薬液洗浄工程の後、純水供給工程によって、洗浄部材を初期化用基板から離間させたうえで、当該初期化用基板に純水を供給するので、この初期化用基板に残存しているスラリーや研磨屑等のパーティクルを洗い流すことができる。
例えば、薬液洗浄工程の所要時間と、純水洗浄工程の所要時間との比を、1:2〜4に設定するのが好ましい。
まず、本実施の形態に係る洗浄部材の初期化方法を説明する前に、図1を参照して基板の表面を洗浄する基板洗浄装置の概略構成について説明する。
そして、ローラ24が中心軸周りに回転することにより、凸部24aにより基板2はその外周縁を回されるので、ローラ24の回転につれて、回転する。なお、基板2の回転速度は、100min−1程度の低回転速度であることが多いが、それ以外の回転速度であってもよい。
また、基板洗浄装置20は、基板2の表面2aに向けて上方より洗浄液(薬液)を散布する表面側の洗浄液ノズル27および純水を供給する表面側の純水ノズル28、並びに、基板2の裏面2bに向けて下方より洗浄液(薬液)を散布する裏面側の洗浄液ノズル25および純水を供給する裏面側の純水ノズル26等を備えている。
すなわちまず、不織布を用いた裏面洗浄部材21あるいはPVAスポンジ等で形成された表面洗浄部材22を初期化するために、初期化用基板1を基板洗浄装置20のローラ24(図1参照)の上に据える。初期化用基板1は、履歴が明白で、洗浄に害を及ぼすおそれある大きなパーティクルや有害な薬品などが付着していない基板であればよい。例えば、清浄な研磨前の基板でもよいし、被研磨基板の表面に形成された膜やデバイスと同じあるいは同じ性状(例えば、親水面や撥水面あるいは両者が混在した状態)の表面を備える清浄な基板(いわゆるサンプルウェーハ等)でもよい。
また、初期化用基板1は、表面1aを下方に向け、裏面1bを上方に向けて基板洗浄装置20に設置する。
まず、上述したように基板洗浄装置20に初期化用基板1をセットした後、当該初期化用基板1を回転させる(スタート)。
純水は、例えば0.3L/min以上の供給速度で供給する。
また、純水洗浄工程S1の所要時間、つまり初期化用基板1に純水を供給しながら洗浄部材(裏面洗浄部材21および表面洗浄部材22)でスクラブする所要時間は、数十秒程度とする。
薬液は、例えば0.3L/min以上の供給速度で供給する。
また、薬液洗浄工程S3の所要時間、つまり初期化用基板1に薬液を供給しながら洗浄部材(裏面洗浄部材21および表面洗浄部材22)でスクラブする所要時間は、数秒程度とする。
例えば、薬液洗浄工程S3の所要時間と、純水洗浄工程S1の所要時間との比を、1:2〜4に設定するのが好ましい。
本実施の形態では、純水洗浄工程S1の所要時間を数十秒程度に設定したので、薬液洗浄工程S3の所要時間は、純水洗浄工程S1の所要時間の1/4〜1/2に設定する。
そして、最終純水洗浄工程S6が終了することで、本実施の形態の洗浄部材の初期化方法が終了する。
また、薬液洗浄工程によって、洗浄部材21,22にスラリーや研磨屑等のパーティクルが付着し難い環境を作ることができるので、純水洗浄工程に要する所要時間を短縮できる。したがって、洗浄部材の初期化のための所要時間を従来に比して短縮できる。
また、薬液洗浄工程S3の後、純水供給工程S4によって、洗浄部材21,22を初期化用基板1から離間させたうえで、当該初期化用基板1に純水を供給するので、この初期化用基板1に残存しているスラリーや研磨屑等のパーティクルを洗い流すことができる。
上述したような基板洗浄装置で、初期化用基板を用いてロールスポンジ状の洗浄部材に、純水洗浄工程S1〜純水供給工程S4を所定回数だけ繰り返し行った後、この洗浄部材によって化学機械的研磨後のウェーハを洗浄した。そして、洗浄後にウェーハに残存しているパーティクルの数を調べた。
一方、比較例として、基板洗浄装置で、初期化用基板を用いてロールスポンジ状の洗浄部材を純水によって洗浄した後、この洗浄部材によって化学機械的研磨後のウェーハを洗浄した。そして、洗浄後にウェーハに残存しているパーティクルの数を調べた。
また、ウェーハ上に残存するパーティクルと処理時間との関係を示す図4は、横軸に処理時間(任意時間)、縦軸にパーティクルカウントの数がそれぞれ示されたグラフである。図4に示すように、従来の初期化方法によって初期化された洗浄部材で洗浄する場合、ウェーハに残存しているパーティクルを所定の数まで減少させるには処理時間が長くかかる(図4の比較例)のに対し、本実施例の初期化方法によって初期化された洗浄部材で洗浄する場合、従来に比して処理時間が短くても、パーティクルを所定の数まで減少させることができることが分かる(図4の実施例)。
21 不織布で形成された洗浄部材(洗浄部材)
22 スポンジで形成された洗浄部材(洗浄部材)
S1 純水洗浄工程
S2 薬液供給工程
S3 薬液洗浄工程
S4 純水供給工程
S6 最終純水洗浄工程
Claims (5)
- 基板の表面を洗浄するための洗浄部材を初期化する洗浄部材の初期化方法であって、
純水を初期化用基板に供給しながら、前記洗浄部材を前記初期化用基板に接触させて相対運動をさせることにより洗浄する純水洗浄工程と、
この純水洗浄工程の後、薬液を前記初期化用基板に供給しながら、前記洗浄部材を前記初期化用基板に接触させて相対運動をさせることにより洗浄する薬液洗浄工程と、を順次少なくとも1回以上繰り返して行うことを特徴とする洗浄部材の初期化方法。 - 前記純水洗浄工程と前記薬液洗浄工程との間に、前記洗浄部材を前記初期化用基板から離間させたうえで、当該初期化用基板に薬液を供給する薬液供給工程と、
前記薬液洗浄工程の後、前記洗浄部材を前記初期化用基板から離間させたうえで、当該初期化用基板に純水を供給する純水供給工程とを含むことを特徴とする請求項1に記載の洗浄部材の初期化方法。 - 前記純水洗浄工程の所要時間の方が、前記薬液洗浄工程の所要時間より長いことを特徴とする請求項1または2に記載の洗浄部材の初期化方法。
- 最後の前記薬液洗浄工程の後、前記洗浄部材を純水によって洗浄することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の洗浄部材の初期化方法。
- 前記洗浄部材は、スポンジで形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の洗浄部材の初期化方法。
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