JP6575191B2 - Finger sliding layer forming resin composition, finger sliding film and image display device using the same - Google Patents

Finger sliding layer forming resin composition, finger sliding film and image display device using the same Download PDF

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Description

本発明は、指滑りフィルムであって、ディスプレイをフリックした時の指のすべり易さが良好な指滑りフィルムに関する。また、その指滑りフィルムに用いられる指滑り層形成用樹脂組成物及びその指滑りフィルムを用いた画像表示装置に関する。   The present invention relates to a finger-slip film, which is a finger-slip film having good finger slipperiness when a display is flicked. The present invention also relates to a resin composition for forming a finger sliding layer used for the finger sliding film and an image display device using the finger sliding film.

カーナビやスマートフォンなどのタッチパネルディスプレイは、タップ(指で叩く動作)に加えて、フリック(指で弾く動作)、スワイプ(指で掃く動作)、ドラッグ(指を置いたまま移動する動作)、ピンチイン(二本の指の間隔を縮める動作)、ピンチアウト(二本の指の間隔を拡げる動作)などの様々なジェスチャーに対応しており、直感的な操作により情報を入力できる点で便利であるが、快適な操作のためにはディスプレイ上で指を滑らかにスライドできる必要があり、優れた触感が要求される。その操作性を高めるためにフリック時の指の滑り性が高いことが求められる。   Touch panel displays such as car navigation systems and smartphones, in addition to tapping (flicking with a finger), flicking (flicking with a finger), swiping (flicking with a finger), drag (moving with a finger placed), pinch-in ( Although it supports various gestures such as pinching out (operation to reduce the interval between two fingers) and pinch out (operation to increase the interval between two fingers), it is convenient in that information can be input by intuitive operation. For comfortable operation, it is necessary to slide a finger smoothly on the display, and excellent tactile sensation is required. In order to enhance the operability, it is required that the finger slippery during flicking is high.

そこで、特許文献1では、ディスプレイの視認性を損なわずに表面の触感を改善することを目的とした表面フィルムが開示されている。特許文献1では、表面に複数のポリマーの相分離構造による凹凸が形成されたマルチタッチディスプレイ用表面フィルムであって、ヘイズが15〜50%であり、0.5mm幅の光学櫛を用いた写像性測定器で測定した写像鮮明度が5〜50%であり、表面の三次元算術平均粗さSaが0.15〜1μmである表面フィルムが開示されている。特許文献1によれば、この表面フィルムは、複数のポリマーの相分離構造により凹凸を形成することで、ヘイズの増大を抑制しながら触感を改善することができるとされる。   Therefore, Patent Document 1 discloses a surface film for the purpose of improving the touch of the surface without impairing the visibility of the display. In patent document 1, it is the surface film for multi-touch displays in which the unevenness | corrugation by the phase-separation structure of the some polymer was formed in the surface, Comprising: Haze is 15 to 50% and mapping using 0.5 mm width optical comb A surface film having a map definition of 5 to 50% measured by a property measuring instrument and a surface three-dimensional arithmetic average roughness Sa of 0.15 to 1 μm is disclosed. According to Patent Document 1, it is said that this surface film can improve tactile sensation while suppressing an increase in haze by forming irregularities by a phase separation structure of a plurality of polymers.

特開2014−92657号公報JP 2014-92657 A

しかし、特許文献1に開示されているフィルムは、平均表面粗さSaが0.15μm以上と大きいため、クリア感が損なわれてしまう。また、タッチパネルディスプレイでは、指で表面に触れて操作するため指紋の付着により視認性が低下する問題もがあるが、特許文献1では、表面に付着する指紋の拭取り性については、何ら記載が無い。   However, since the film disclosed in Patent Document 1 has a large average surface roughness Sa of 0.15 μm or more, the clear feeling is impaired. In addition, the touch panel display is operated by touching the surface with a finger, so there is a problem that the visibility is lowered due to the adhesion of the fingerprint. However, Patent Document 1 describes nothing about the wiping property of the fingerprint adhering to the surface. No.

そこで、本発明の目的とするところは、クリア感が高く、フリック時の指の滑り易さが良好で、かつ、指紋の拭取り性が良好な指滑りフィルムを提供することにある。また、その指滑りフィルムに用いられる指滑り層形成用樹脂組成物及びその指滑りフィルムを用いた画像表示装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a finger sliding film having a high clear feeling, good finger slipperiness during flicking, and good fingerprint wiping properties. Moreover, it is providing the image display apparatus using the resin composition for finger slip layer formation used for the finger slip film, and the finger slip film.

本発明の指滑り層形成用樹脂組成物は、(a)平均粒子径が0.01〜0.10μmであるシリカ微粒子8.0〜74.0質量%、(b)平均粒子径(Pdia)が0.5〜1.3μmである透光性有機微粒子1.0〜9.0質量%、(c)紫外線硬化型樹脂8.0〜74.0質量%、(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂1.5〜15.0質量%、(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン0.8〜11.0質量%、(f)光重合開始剤0.1〜12.0質量%(但し、(a)(b)(c)(d)(e)(f)の合計は、100質量%である。)を含み、(e)の質量%が、(d)の質量%より少ない指滑り層形成用樹脂組成物である。   The resin composition for forming a finger slip layer of the present invention comprises (a) 8.0 to 74.0% by mass of silica fine particles having an average particle size of 0.01 to 0.10 μm, and (b) an average particle size (Pdia). 1.0 to 9.0% by mass of translucent organic fine particles having an A of 0.5 to 1.3 μm, (c) 8.0 to 74.0% by mass of an ultraviolet curable resin, and (d) a fluorine-containing ultraviolet curable type 1.5 to 15.0 mass% of resin, (e) 0.8 to 11.0 mass% of polydimethylsiloxane having an acrylic group, (f) 0.1 to 12.0 mass% of photopolymerization initiator (provided that (A) (b) (c) (d) (e) (f) total is 100% by mass), and the finger slip is less than (%) by mass% in (e) It is a resin composition for layer formation.

本発明の指滑りフィルムは、透明基材フィルムにハードコート層、指滑り層がこの順で積層されており、前記指滑り層は、前記指滑り層形成用樹脂組成物を硬化させてなり、前記指滑り層の膜厚tと前記透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaの比t/Pdiaが0.1≦t/Pdia≦0.9である。   The finger slip film of the present invention has a hard base layer and a finger slip layer laminated in this order on a transparent substrate film, and the finger slip layer is formed by curing the resin composition for finger slip layer formation, The ratio t / Pdia of the film thickness t of the finger sliding layer and the average particle diameter Pdia of the translucent organic fine particles is 0.1 ≦ t / Pdia ≦ 0.9.

本発明の指滑りフィルムは、好ましくは、その表面形状において、JIS B0601−1994に定義される算術平均粗さRa及び凹凸の平均間隔Smが下式(I)及び(II)を満足する。
0.06≦Ra≦0.13・・・式(I)
0.02≦Sm≦0.05・・・式(II)
The finger-slip film of the present invention preferably has an arithmetic average roughness Ra and an average interval Sm of irregularities defined by JIS B0601-1994 in the surface shape satisfying the following formulas (I) and (II).
0.06 ≦ Ra ≦ 0.13 Formula (I)
0.02 ≦ Sm ≦ 0.05 Formula (II)

本発明の指すべりフィルムは、画像表示装置の表面に備えられる。   The slip film referred to in the present invention is provided on the surface of an image display device.

なお、本明細書において数値範囲を示す「○○〜××」とは、特に明示しない限り「○○以上××以下」を意味する。   In this specification, “XX to XX” indicating a numerical range means “XX or more and XX or less” unless otherwise specified.

本発明によれば、クリア感が高く、フリック時の指の滑り易さが良好で、かつ、指紋拭取り性が良好な指滑りフィルムを提供することができる。また、その指滑りフィルムに用いられる指滑り層形成用樹脂組成物及びその指滑りフィルムを用いた画像表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a finger sliding film having high clearness, good finger slipperiness during flicking, and good fingerprint wiping property. Moreover, the resin composition for finger slip layer formation used for the finger slip film and the image display apparatus using the finger slip film can be provided.

≪指滑り層形成用樹脂組成物≫
指滑り層形成用樹脂組成物は、タッチパネル等の画像表示装置の表面に設けられる指滑りフィルムの表面に形成される指滑り層を形成するための樹脂組成物であり、(a)シリカ微粒子、(b)透光性有機微粒子、(c)紫外線硬化型樹脂、(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂、(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン及び(f)光重合開始剤を含む。
≪Resin composition for finger sliding layer formation≫
The resin composition for forming a finger slip layer is a resin composition for forming a finger slip layer formed on the surface of a finger slip film provided on the surface of an image display device such as a touch panel, (a) silica fine particles, (B) translucent organic fine particles, (c) an ultraviolet curable resin, (d) a fluorine-containing ultraviolet curable resin, (e) an acrylic group-containing polydimethylsiloxane, and (f) a photopolymerization initiator.

<(a)シリカ微粒子>
(a)シリカ微粒子は、平均粒子径が0.01μm以上0.10μm以下である。シリカ微粒子は、典型的には球形である。シリカ微粒子の平均粒子径が0.01μm未満の場合、粒子が凝集しやすく、均一な指滑り性を発現しにくいことがある。一方、平均粒子径が0.10μmを越えると可視光が散乱しやすいため、ヘイズが上昇することがある。
<(A) Silica fine particles>
(A) The silica fine particles have an average particle diameter of 0.01 μm or more and 0.10 μm or less. Silica fine particles are typically spherical. When the average particle size of the silica fine particles is less than 0.01 μm, the particles are likely to aggregate and it may be difficult to achieve uniform finger slipping. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 0.10 μm, visible light is likely to be scattered, and thus haze may increase.

シリカ微粒子の粒子径は、粒子の平均粒径を測定する方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは、透過型電子顕微鏡(倍率2万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値をもって(平均)粒子径とする。   As long as the particle diameter of the silica fine particles is a method for measuring the average particle diameter of the particles, any measuring method can be applied. Preferably, the particles are observed with a transmission electron microscope (magnification of 20,000 to 2,000,000 times). And 100 particles are observed, and the average value is defined as the (average) particle diameter.

指滑り層形成用樹脂組成物において、(a)〜(f)の合計100質量%中(a)シリカ微粒子の割合は、8.0〜74.0質量%である。平均粒子径が0.01μm以上0.10μm以下であるシリカ微粒子の質量の割合が8.0質量%未満であると、表面の凹凸間隔(≒Sm)が大きくなり、指の滑り易さが悪化する(摩擦係数が高くなる)。一方、平均粒子径が0.01μm以上0.10μm以下であるシリカ微粒子の質量の割合が74.0質量%を越えると、相対的にバインダーとしての(c)紫外線硬化型樹脂の含有量が少なくなり、指滑りフィルムの表面硬度が低下する傾向がある。   In the resin composition for forming a finger slip layer, the ratio of (a) silica fine particles in the total 100 mass% of (a) to (f) is 8.0 to 74.0 mass%. When the ratio of the mass of the silica fine particles having an average particle diameter of 0.01 μm or more and 0.10 μm or less is less than 8.0% by mass, the surface irregularity interval (≈Sm) becomes large, and the finger slipperiness is deteriorated. (Friction coefficient increases). On the other hand, when the ratio of the mass of silica fine particles having an average particle diameter of 0.01 μm or more and 0.10 μm or less exceeds 74.0% by mass, the content of (c) ultraviolet curable resin as a binder is relatively small. Therefore, the surface hardness of the finger sliding film tends to decrease.

<(b)透光性有機微粒子>
(b)透光性有機微粒子は、平均粒子径が0.5μm以上1.3μm以下である。透光性有機微粒子は、球形であり、平均粒子径が0.01μm以上0.10μm以下である(a)シリカ微粒子に比べて粒子径が大きい。平均粒子径が0.5μm以上1.3μm以下である透光性有機微粒子により指滑りフィルムの表面に凹凸形状が形成される。平均粒子径Pdiaが0.5μm未満の場合、表面凹凸(≒Ra)が小さくなりすぎるため、指滑り性が悪化する。一方、平均粒子径Pdiaが1.3μmを超えると、表面の凹凸間隔(≒Sm)が大きくなるため、指との接触面積が大きくなるので指滑り性が低下する。0.5μm≦Pdia≦1.3μmに制御すると、表面凹凸(≒Ra)の大きさと表面の凹凸間隔(≒Sm)を適度に調整することができる。
<(B) Translucent organic fine particles>
(B) The translucent organic fine particles have an average particle size of 0.5 μm or more and 1.3 μm or less. The light-transmitting organic fine particles are spherical and have an average particle size of 0.01 μm or more and 0.10 μm or less. An uneven shape is formed on the surface of the finger-slip film by the translucent organic fine particles having an average particle diameter of 0.5 μm or more and 1.3 μm or less. When the average particle diameter Pdia is less than 0.5 μm, the surface unevenness (≈Ra) becomes too small, and the finger slipping property is deteriorated. On the other hand, when the average particle size Pdia exceeds 1.3 μm, the surface unevenness interval (≈Sm) increases, and the contact area with the finger increases, so the finger slipping property decreases. By controlling to 0.5 μm ≦ Pdia ≦ 1.3 μm, the size of the surface unevenness (≈Ra) and the surface unevenness interval (≈Sm) can be adjusted appropriately.

透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaは、粒子の平均粒径を測定する方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは、透過型電子顕微鏡(倍率2万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値をもって(平均)粒子径とする。   The average particle diameter Pdia of the light-transmitting organic fine particles may be any measuring method as long as it is a method for measuring the average particle diameter of the particles, but is preferably a transmission electron microscope (magnification of 20,000 to 2,000,000 times). The particles are observed, and 100 particles are observed, and the average value is defined as the (average) particle diameter.

透光性有機微粒子は、シリカ微粒子よりも比重が小さいものであると、指滑り層の上層部へ透光性有機微粒子が偏析して凹凸を形成しやすく、目安として、比重Pdenが、Pden≦1.6であるものを選択することができる。そのような材料として、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリメタクリルスチレン、架橋アクリル−スチレン共重合樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド縮合物、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化エチレン系樹脂等が挙げられる。なかでも、アクリル、ポリスチレン、架橋アクリルースチレン共重合樹脂は、比重が軽く指滑り性を発現しやすいため好ましい。透光性有機微粒子は、一種のみを用いても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、より小径な微粒子(シリカ微粒子)の比重に対して透光性有機微粒子の比重が小さく、シリカ微粒子の比重が透光性有機微粒子の比重に比べて3倍を超えると、指滑りフィルムにおいて、互いにトレードオフ関係にある防眩性とクリア感のバランスが崩れて防眩性が発現してクリア感が損なわれる傾向があり好ましくない。指滑りフィルムに防眩性が発現すると、指滑りフィルムを画像表示装置の表面に設けた際に、ぎらつきが生じやすいため好ましくない。   If the specific gravity of the light-transmitting organic fine particles is smaller than that of the silica fine particles, the light-transmitting organic fine particles are easily segregated on the upper layer portion of the finger sliding layer to form irregularities. As a guideline, the specific gravity Pden is Pden ≦ Those that are 1.6 can be selected. Examples of such materials include acrylic resins, polystyrene, polymethacrylstyrene, cross-linked acrylic-styrene copolymer resins, benzoguanamine formaldehyde condensates, benzoguanamine / melamine / formaldehyde condensates, melamine / formaldehyde condensates, polyethylene resins, epoxy resins, and silicone resins. , Polyvinylidene fluoride, and polyfluorinated ethylene resin. Of these, acrylic, polystyrene, and a cross-linked acrylic-styrene copolymer resin are preferable because they have a low specific gravity and easily develop finger slipping properties. The light-transmitting organic fine particles may be used alone or in combination of two or more. If the specific gravity of the translucent organic fine particles is smaller than the specific gravity of the finer particles (silica fine particles) and the specific gravity of the silica fine particles exceeds 3 times the specific gravity of the translucent organic fine particles, The balance between the antiglare property and the clear feeling, which are in a trade-off relationship with each other, is lost, and the antiglare property tends to be exhibited and the clear feeling tends to be impaired. When the anti-glare property is exhibited in the finger sliding film, it is not preferable because glare is easily generated when the finger sliding film is provided on the surface of the image display device.

指滑り層形成用樹脂組成物において、(a)〜(f)の合計100質量%中(b)透光性有機微粒子の割合は、1.0〜9.0質量%である。透光性有機微粒子の質量の割合が1.0質量%未満であると、凹凸の間隔(≒Sm)が大きくなり、指滑り性が悪くなる。一方、透光性有機微粒子の質量の割合が9.0質量%を超えると、表面の凹凸(≒Ra)が大きくなりすぎるためクリア感が損なわれる。   In the resin composition for forming a finger slip layer, the ratio of (b) the light-transmitting organic fine particles in the total of 100% by mass of (a) to (f) is 1.0 to 9.0% by mass. When the ratio of the mass of the light-transmitting organic fine particles is less than 1.0% by mass, the interval between the concaves and convexes (≈Sm) is increased, and the finger slipping property is degraded. On the other hand, when the ratio of the mass of the light-transmitting organic fine particles exceeds 9.0% by mass, the unevenness (≈Ra) on the surface becomes too large, and the clear feeling is impaired.

<(c)紫外線硬化型樹脂>
(c)紫外線硬化型樹脂としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基や、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基等のカチオン重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを単独で、または適宜混合した組成物が用いられる。モノマーの例としては、アクリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を挙げることができる。オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、多官能ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリレート、シリコーンアクリレート等のアクリレート化合物、不飽和ポリエステル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルや各種脂環式エポキシ等のエポキシ系化合物、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、1,4-ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル等のオキセタン化合物を挙げることができる。これらは単独、もしくは複数混合して使用することができる。
<(C) UV curable resin>
(C) As an ultraviolet curable resin, a monomer having a radical polymerizable functional group such as an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, or a cationic polymerizable functional group such as an epoxy group, a vinyl ether group or an oxetane group , Oligomers, and prepolymers are used alone or mixed appropriately. Examples of monomers include methyl acrylate, methyl methacrylate, methoxy polyethylene methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like. it can. As oligomers and prepolymers, polyester acrylate, polyurethane acrylate, polyfunctional urethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, acrylate compounds such as alkit acrylate, melamine acrylate, silicone acrylate, unsaturated polyester, tetramethylene glycol diglycidyl ether, Epoxy compounds such as propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether and various alicyclic epoxies, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis {[(3- Examples include oxetane compounds such as ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene and di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether. Door can be. These can be used alone or in combination.

指滑り層形成用樹脂組成物において、(a)〜(f)の合計100質量%中(c)紫外線硬化型樹脂の質量の割合は、8.0〜74.0質量%である。74.0質量%を超えると、平均粒子径が0.5μm以上1.3μm以下である(b)透光性有機微粒子及び平均粒子径が0.01μm以上0.10μm以下である(a)シリカ微粒子の含有量が少なくなるため、凹凸の間隔(≒Sm)が大きくなり、指滑り性が悪くなる。また、(c)紫外線硬化型樹脂の割合が8.0質量%未満であると、膜中に空隙が発生し、強度が低下する。   In the resin composition for forming a finger slip layer, the proportion of the mass of the (c) ultraviolet curable resin in the total 100 mass% of (a) to (f) is 8.0 to 74.0 mass%. When it exceeds 74.0% by mass, the average particle size is 0.5 μm or more and 1.3 μm or less. (B) Translucent organic fine particles and the average particle size is 0.01 μm or more and 0.10 μm or less (a) Silica Since the content of the fine particles is reduced, the unevenness interval (≈Sm) is increased, and the finger slipping property is deteriorated. On the other hand, when the ratio of (c) the ultraviolet curable resin is less than 8.0% by mass, voids are generated in the film and the strength is lowered.

<(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂>
(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂は、防汚性機能を発現するためのものであり、指滑り層表面を触った際に付着する指紋の付着性を弱めることができる。(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂の例としては、具体的には、下記化学式(1)で示されるものや下記化学式(2)に示されるものが挙げられる。
<(D) Fluorine-containing UV curable resin>
(D) The fluorine-containing ultraviolet curable resin is for exhibiting an antifouling function, and can weaken the adhesion of fingerprints that adhere when the finger sliding layer surface is touched. Specific examples of (d) fluorine-containing ultraviolet curable resins include those represented by the following chemical formula (1) and those represented by the following chemical formula (2).

Figure 0006575191

( 式中、n は0 〜 1 0 0 の整数である。また、X はHまたはCH3である。)
Figure 0006575191

(In the formula, n is an integer of 0 to 1 0 0. X is H or CH 3. )

Figure 0006575191

( 式中、X はパーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテルを表す。)
Figure 0006575191

(Wherein X represents a perfluoroalkyl group or a perfluoropolyether)

指滑り層形成用樹脂組成物において、(a)〜(f)の合計100質量%中(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂の割合は、1.5〜15.0質量%である。含有量が1.5質量%未満では、指滑り層表面を触った際の指紋の付着性を効果的に弱めることが出来ない。一方、15.0質量%を超えると、指紋の拭取り性が悪化する。   In the resin composition for forming a finger slip layer, the ratio of (d) the fluorine-containing ultraviolet curable resin in the total 100 mass% of (a) to (f) is 1.5 to 15.0 mass%. If the content is less than 1.5% by mass, the adhesion of the fingerprint when the surface of the finger sliding layer is touched cannot be effectively reduced. On the other hand, when it exceeds 15.0 mass%, the wiping property of fingerprints deteriorates.

<(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン>
(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサンは、指滑り層表面に付着した指紋の拭取り性を向上するためのものである。
<(E) Polydimethylsiloxane having an acrylic group>
(E) The polydimethylsiloxane having an acrylic group is for improving the wiping property of fingerprints attached to the surface of the finger sliding layer.

(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサンの基本骨格(ポリジオルガノシロキサン)は、下記に示す一般式(3)で表され、重合性反応基を1分子中に少なくとも2つ、好ましくは2〜8つ有する化合物である。

Figure 0006575191
(E) The basic skeleton (polydiorganosiloxane) of polydimethylsiloxane having an acrylic group is represented by the following general formula (3), and has at least two polymerizable reactive groups in one molecule, preferably 2 to 8 Compound.
Figure 0006575191

一般式(3)中のA及びBは、直鎖状又は分岐状の有機基であり、アルキル鎖(炭素数1〜30)、パーフルオロアルキル鎖(炭素数1〜10)、アリールアルキル鎖、脂肪族乃至芳香族(ポリ)エステル鎖(該有機鎖の部分的な分子量100〜3000)、脂肪族乃至芳香族(ポリ)エーテル鎖(該有機鎖の部分的な分子量100〜3000)及び脂肪族乃至芳香族(ポリ)ウレタン鎖(該有機鎖の部分的な分子量100〜3000)からなる群より選ばれる少なくとも1種の骨格を有しており、該有機基中には重合性反応基が導入されており、分子内においてAとBは同一でも異なっていてもよく、A同士又はB同士においても同一でも異なっていてもよい。但し、A及びBに導入されている重合性反応基の数は、1分子当り2つ、好ましくは2〜8つ有する化合物である。さらに、重合性反応基は、合成の簡便さからBに導入されている方がより好ましい。一般式(3)中のcは、ポリシロキサン骨格の長さをc+1の形で表すものであり、好ましくは3〜250、より好ましくは6〜100の整数である。   A and B in the general formula (3) are linear or branched organic groups, an alkyl chain (C1-30), a perfluoroalkyl chain (C1-10), an arylalkyl chain, Aliphatic to aromatic (poly) ester chains (partial molecular weight of the organic chain 100 to 3000), aliphatic to aromatic (poly) ether chains (partial molecular weight of the organic chain 100 to 3000) and aliphatic Or at least one skeleton selected from the group consisting of aromatic (poly) urethane chains (partial molecular weight of the organic chain 100 to 3000), and a polymerizable reactive group is introduced into the organic group In the molecule, A and B may be the same or different, and A or B may be the same or different. However, the number of polymerizable reactive groups introduced into A and B is a compound having two, preferably 2 to 8, per molecule. Furthermore, it is more preferable that the polymerizable reactive group is introduced into B for the convenience of synthesis. C in the general formula (3) represents the length of the polysiloxane skeleton in the form of c + 1, and is preferably an integer of 3 to 250, more preferably 6 to 100.

重合性反応基としては、少なくともアクリル基が導入される。導入されるアクリル基としては、反応性に優れる点でアクリロイルオキシ基が好ましい。また、アクリロイルオキシ基と共に、(メタ)アクリロイルオキシ基やα−フルオロアクリロイルオキシ基等を導入することもできる。重合性反応基とポリシロキサン骨格との間の結合方式としては、従来公知の結合方式、例えば(ポリ)エーテル型、(ポリ)エステル型、(ポリ)エステル型と(ポリ)ウレタン型とを組み合わせた結合方式、(ポリ)エーテル型と(ポリ)ウレタン型とを組み合わせた結合方式、(ポリ)エステル型と(ポリ)エーテル型とを組み合わせた結合方式等の全てを採用することができる。   As the polymerizable reactive group, at least an acrylic group is introduced. The acryl group to be introduced is preferably an acryloyloxy group in terms of excellent reactivity. In addition to the acryloyloxy group, a (meth) acryloyloxy group, an α-fluoroacryloyloxy group, and the like can also be introduced. As a bonding method between the polymerizable reactive group and the polysiloxane skeleton, a conventionally known bonding method, for example, (poly) ether type, (poly) ester type, (poly) ester type and (poly) urethane type are combined. All of the bonding methods such as a bonding method combining a (poly) ether type and a (poly) urethane type, a bonding method combining a (poly) ester type and a (poly) ether type, and the like can be employed.

例えば、ポリエステル型とポリウレタン型とを組み合わせた結合方式の場合、ポリジオルガノシロキサン分子の構造は、下記の一般式(4)に示されているような基本骨格を有し、ポリシロキサン部位から延びる側鎖のうち、3つ以上の側鎖の末端には、重合性反応基が結合している。   For example, in the case of a bonding method combining a polyester type and a polyurethane type, the structure of the polydiorganosiloxane molecule has a basic skeleton as shown in the following general formula (4) and extends from the polysiloxane site. A polymerizable reactive group is bonded to the ends of three or more side chains of the chain.

Figure 0006575191
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一般式(4)中のXは3〜250の整数、好ましくは6〜100の整数であり、Y及びZはY+Zが3以上、好ましくは4〜20であることを満たすような整数であり、m及びnはいずれも1〜10の整数である。mとnは同じでも異なっていてもよいが、同じである方がアクリル基を有するポリジメチルシロキサンを簡便に調製できる点で好ましい。   X in the general formula (4) is an integer of 3 to 250, preferably an integer of 6 to 100, and Y and Z are integers satisfying that Y + Z is 3 or more, preferably 4 to 20, m and n are both integers of 1-10. m and n may be the same or different, but the same is preferable in that a polydimethylsiloxane having an acrylic group can be easily prepared.

一般式(4)中のR1は、直鎖状アルキル基(炭素数1〜30)、パーフルオロアルキル基(炭素数1〜10)、アリールアルキル基、ポリエステル基(該側鎖の部分的な分子量200〜2000であり、Si原子にはアルキル鎖を介して結合している)、ポリエーテル基(該側鎖の部分的な分子量200〜2000であり、Si原子にアルキル鎖を介して結合している)のいずれかである。分子内においてR1は同一でも異なっていてもよいが、アクリル基を有するポリジメチルシロキサンの調製が簡便であることから同一である方がより好ましい。また、使用時における樹脂との相溶性等の観点から、R1はメチル基である場合が最も汎用的で好ましい。   R1 in the general formula (4) is a linear alkyl group (1 to 30 carbon atoms), a perfluoroalkyl group (1 to 10 carbon atoms), an arylalkyl group, a polyester group (partial molecular weight of the side chain) 200 to 2000, and bonded to the Si atom via an alkyl chain), a polyether group (partial molecular weight of the side chain is 200 to 2000, and bonded to the Si atom via an alkyl chain) One of them). R1 may be the same or different in the molecule, but it is more preferable that they are the same because the preparation of polydimethylsiloxane having an acrylic group is simple. Further, from the viewpoint of compatibility with the resin at the time of use, it is most general and preferable that R1 is a methyl group.

一般式(4)中のR2は炭素数3〜30、好ましくは3〜15の直鎖又は分岐鎖であり、該鎖上にはウレタン結合を少なくとも2つ有し、該ウレタン結合を介してポリシロキサン骨格及びR3と結合されている(但し、R3はポリジオルガノシロキサン1分子中に3つ以上含まれるように結合している)。分子内においてR2は同一でも異なっていてもよいが、アクリル基を有するポリジメチルシロキサンの調製が簡便であることから同一である方がより好ましい。   R2 in the general formula (4) is a linear or branched chain having 3 to 30 carbon atoms, preferably 3 to 15 carbon atoms, and has at least two urethane bonds on the chain. It is bonded to the siloxane skeleton and R3 (provided that R3 is bonded so that three or more are contained in one molecule of polydiorganosiloxane). R2 may be the same or different in the molecule, but it is more preferable that they are the same because preparation of polydimethylsiloxane having an acrylic group is simple.

一般式(4)中のR3は、ポリエステル骨格、好ましくは3つ以上のエステル結合を含むポリエステル骨格を有する部位であり、末端には前述のような重合性反応基、好ましくは(メタ)アクリロイル基が結合されている。分子内においてR3は同一でも異なっていてもよいがアクリル基を有するポリジメチルシロキサンの調製が簡便であることから同一である方がより好ましい。また、使用時における樹脂との相溶性等の観点から、R3は3以上のカプロラクトンからなるポリカプロラクトン骨格を有する場合が最も汎用的で好ましい。   R3 in the general formula (4) is a portion having a polyester skeleton, preferably a polyester skeleton containing three or more ester bonds, and has a polymerizable reactive group as described above, preferably a (meth) acryloyl group at the terminal. Are combined. In the molecule, R3 may be the same or different, but the same is more preferable because preparation of polydimethylsiloxane having an acrylic group is simple. Further, from the viewpoint of compatibility with the resin at the time of use, it is most general and preferable that R3 has a polycaprolactone skeleton composed of 3 or more caprolactones.

一般式(4)中のR4は、水素、フッ素及びメチル基のいずれかであり、分子内においてR4は同一でも異なっていてもよいが、アクリル基を有するポリジメチルシロキサンの調製が簡便であることから同一である方がより好ましい。   R4 in the general formula (4) is any one of hydrogen, fluorine and methyl groups, and R4 may be the same or different in the molecule, but the preparation of polydimethylsiloxane having an acrylic group is simple. Are more preferable.

次に、上記のようなポリエステル型とポリウレタン型とを組み合わせた結合方式を用いた場合のより具体的な例を、その製造方法の一例と共にいくつか記載する。但し、下記の製造方法についての例は、アクリル基を有するポリジメチルシロキサンが下記の例に限定されることを意味するものではない。   Next, some more specific examples in the case of using the bonding method combining the polyester type and the polyurethane type as described above will be described together with an example of the manufacturing method. However, the example about the following manufacturing method does not mean that polydimethylsiloxane which has an acrylic group is limited to the following example.

例えば、従来公知の方法により得られる平均式(5)で表されるポリジメチルシロキサン、一般式(6)で表されるトリイソシアネート、及びエチレングリコールモノメタクリレートを用いたε−カプロラクトンの開環重合により調製される、一般式(7)で表される重合性反応基含有ポリエステルを1:2:4のモル比で用い、従来公知のウレタン結合形成反応により、平均式(8)で表されるポリジメチルシロキサン化合物が得られる。このとき、トリイソシアネート(6)中へポリジメチルシロキサン(5)を加えていきポリジメチルシロキサン(5)の両末端にウレタン結合を形成させた後に、重合性反応基含有ポリエステル(7)とのウレタン結合形成を行なうことで、副生成物〔例えばポリジメチルシロキサン(5)とトリイソシアネート(6)のみからなる副生成物や、重合性反応基含有ポリエステル(7)とトリイソシアネート(6)のみからなる副生成物等〕の生成を抑え、高収率で目的とするポリジメチルシロキサン(8)を得ることができる。   For example, by ring-opening polymerization of ε-caprolactone using polydimethylsiloxane represented by average formula (5) obtained by a conventionally known method, triisocyanate represented by general formula (6), and ethylene glycol monomethacrylate. Using the prepared polymerizable reactive group-containing polyester represented by the general formula (7) in a molar ratio of 1: 2: 4, a polycrystal represented by the average formula (8) is obtained by a conventionally known urethane bond forming reaction. A dimethylsiloxane compound is obtained. At this time, after adding polydimethylsiloxane (5) to triisocyanate (6) and forming urethane bonds at both ends of polydimethylsiloxane (5), urethane with polymerizable reactive group-containing polyester (7) By forming a bond, a by-product [for example, a by-product composed only of polydimethylsiloxane (5) and triisocyanate (6), or a polymerizable reactive group-containing polyester (7) and triisocyanate (6) only. The desired polydimethylsiloxane (8) can be obtained in a high yield by suppressing the production of by-products and the like].

ここで、平均式(5)・(8)中のdは15〜20の整数、eは1〜5の整数、一般式(6)中のfは4〜8の整数、一般式(7)及び平均式(8)中のgは3〜5の整数である。また、平均式(5)・(8)において、Meはメチル基を表す。   Here, d in the average formulas (5) and (8) is an integer of 15 to 20, e is an integer of 1 to 5, f in the general formula (6) is an integer of 4 to 8, and the general formula (7) And g in average formula (8) is an integer of 3-5. In the average formulas (5) and (8), Me represents a methyl group.

Figure 0006575191
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この他にも、例えば従来公知の方法により得られた平均式(9)で表されるポリジメチルシロキサン、一般式(10)で表されるジイソシアネート、及びペンタエリスリトールトリアクリレートを用いたε−カプロラクトンの開環重合により調製される、一般式(11)で表される重合性反応基含有ポリエステルを1:2:2のモル比で用いて、従来公知のウレタン結合形成反応により、平均式(12)で表されるポリジメチルシロキサン化合物が得られる。このとき、ジイソシアネート(10)中へポリジメチルシロキサン(9)を加えていきポリジメチルシロキサン(9)の両末端にウレタン結合を形成させた後に、重合性反応基含有ポリエステル(11)とのウレタン結合形成を行なうことで、副生成物〔例えばポリジメチルシロキサン(9)とジイソシアネート(10)のみからなる副生成物や、重合性反応基含有ポリエステル(11)とジイソシアネート(10)のみからなる副生成物等〕の生成を抑え、高収率で目的とするポリジメチルシロキサン(12)を得ることができる。   In addition, for example, polydimethylsiloxane represented by the average formula (9) obtained by a conventionally known method, diisocyanate represented by the general formula (10), and ε-caprolactone using pentaerythritol triacrylate By using a polymerizable reactive group-containing polyester represented by the general formula (11) prepared by ring-opening polymerization in a molar ratio of 1: 2: 2, an average formula (12) is obtained by a conventionally known urethane bond forming reaction. The polydimethylsiloxane compound represented by these is obtained. At this time, after adding polydimethylsiloxane (9) to diisocyanate (10) and forming urethane bonds at both ends of polydimethylsiloxane (9), urethane bonds with polymerizable reactive group-containing polyester (11) By forming a by-product [for example, a by-product consisting of only polydimethylsiloxane (9) and diisocyanate (10), or a by-product consisting only of polymerizable reactive group-containing polyester (11) and diisocyanate (10) Etc.] and the desired polydimethylsiloxane (12) can be obtained in high yield.

ここで、平均式(9)中のhは25〜35の整数、iは1〜5の整数、一般式(10)中のjは5〜10の整数、及び一般式(11)中のkは3〜5の整数である。なお、平均式(12)において、hは29、iは5、jは6、及びkは5である。   Here, h in the average formula (9) is an integer of 25 to 35, i is an integer of 1 to 5, j in the general formula (10) is an integer of 5 to 10, and k in the general formula (11). Is an integer of 3-5. In the average formula (12), h is 29, i is 5, j is 6, and k is 5.

Figure 0006575191
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さらに、例えば上記の2例を組み合わせて平均式(9)で表されるポリジメチルシロキサン、トリイソシアネート(6)、及び重合性反応基含有ポリエステル(11)を1:2:4のモル比で反応させ、(12)のアクリロイロキシ基を有するポリジメチルシロキサンを得ることもできる。   Further, for example, the above two examples are combined to react polydimethylsiloxane represented by the average formula (9), triisocyanate (6), and polymerizable reactive group-containing polyester (11) at a molar ratio of 1: 2: 4. (12) polydimethylsiloxane having an acryloyloxy group can also be obtained.

なお、この他にも、重合性反応基を有するポリエステル部分とポリウレタン部分を結合させた後にシロキサン骨格へ導入する方法や、重合性反応基の導入を最後に行なう方法等によりポリジメチルシロキサンを合成することも可能である。通常、一般式(3)で表される化合物は、単独乃至2種以上組み合わせで使用することができる。   In addition to this, polydimethylsiloxane is synthesized by a method in which a polyester portion having a polymerizable reactive group and a polyurethane portion are bonded and then introduced into a siloxane skeleton, or a method in which a polymerizable reactive group is finally introduced. It is also possible. Usually, the compound represented by General formula (3) can be used individually or in combination of 2 or more types.

また、重合性反応基を1分子中に1つ有するオルガノポリシロキサン、例えば、片末端(メタ)アクリロイロキシ変性ポリジメチルシロキサン、前記の特定構造を有するポリジオルガノシロキサン(アクリル基を有するポリジメチルシロキサン)とを組み合わせて使用することもできる。   In addition, organopolysiloxane having one polymerizable reactive group in one molecule, for example, one-terminal (meth) acryloyloxy-modified polydimethylsiloxane, polydiorganosiloxane having the above specific structure (polydimethylsiloxane having an acrylic group), and Can also be used in combination.

指滑り層形成用樹脂組成物において、(a)〜(f)の合計100質量%中(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサンは、0.8〜11.0質量%含まれる。含有量が0.8質量%未満では、指滑り層表面に付着した指紋の拭取り性が向上しない。一方、11.0質量%を越えると、指滑り層表面を触った際の指紋の付着性を弱めることが出来ない。   In the resin composition for forming a finger sliding layer, (e) polydimethylsiloxane having an acrylic group is contained in an amount of 0.8 to 11.0% by mass in a total of 100% by mass of (a) to (f). When the content is less than 0.8% by mass, the wiping property of the fingerprint attached to the surface of the finger sliding layer is not improved. On the other hand, if it exceeds 11.0% by mass, the adhesion of the fingerprint when the surface of the finger sliding layer is touched cannot be weakened.

<(f)光重合開始剤>
(f)光重合開始剤は、紫外線(UV)等の活性エネルギー線により指滑り層形成用樹脂組成物を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。(f)光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフェリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
<(F) Photopolymerization initiator>
(F) The photopolymerization initiator is used as a polymerization initiator when the finger slip layer forming resin composition is cured by an active energy ray such as ultraviolet (UV) to form a coating film. (F) As a photoinitiator, if a polymerization is started by irradiation with active energy ray, it will not specifically limit, A well-known compound can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -One, acetophenone polymerization initiators such as 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, benzoin, 2,2-dimethoxy 1,2 -Benzoin polymerization initiators such as diphenylethane-1-one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4' -Benzophenone polymerization initiators such as tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2-chlorothio Sandton, such thioxanthone type polymerization initiators such as 2,4-diethyl thioxanthone, and the like.

指滑り層形成用樹脂組成物において、(a)〜(f)の合計100質量%中(f)光重合開始剤の割合は、0.1〜12.0質量%である。光重合開始剤が前記範囲より少ないと、重合が不充分となり、密着性を発揮できなくなる。一方、前記範囲より多いと、膜の架橋密度が低くなるため、強度が弱くなる。   In the resin composition for forming a finger sliding layer, the ratio of the photopolymerization initiator (f) in the total 100% by mass of (a) to (f) is 0.1 to 12.0% by mass. When the photopolymerization initiator is less than the above range, the polymerization becomes insufficient and the adhesion cannot be exhibited. On the other hand, when the amount is larger than the above range, the cross-linking density of the film is lowered, and the strength is weakened.

指滑り層形成用樹脂組成物は、必要に応じて、表面調製剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。   If necessary, the resin composition for forming a finger sliding layer may be prepared by adding conventionally known additives such as a surface preparation agent, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, and an antifoaming agent. You may contain in the range which does not impair an effect.

≪指滑りフィルム≫
指滑りフィルムは、透明基材フィルムをベースとし、その少なくとも一方の面にハードコート層及び指滑り層がこの順で積層されている。
≪Finger slip film≫
The finger sliding film is based on a transparent substrate film, and a hard coat layer and a finger sliding layer are laminated in this order on at least one surface thereof.

<透明基材フィルム>
透明基材フィルムは、無色透明であれば特に制限されない。そのような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート樹脂、又はポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォンなどがある。これらのうち、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレートが、汎用性が高い点で好ましい。これらの透明基材フィルムの589nmの光に対する屈折率は、概ね1.47〜1.70である。
<Transparent substrate film>
The transparent substrate film is not particularly limited as long as it is colorless and transparent. Examples of the material for forming such a transparent substrate film include polyesters such as triacetyl cellulose and polyethylene terephthalate, cycloolefin polymers, polycarbonate resins, or polymethyl methacrylate resins, polyarylate, and polyether sulfone. Of these, triacetyl cellulose and polyethylene terephthalate are preferable in terms of high versatility. These transparent base films have a refractive index of about 1.47 to 1.70 for light of 589 nm.

透明基材フィルムの厚みは、好ましくは25〜400μm程度、より好ましくは50〜200μm程度である。透明基材フィルムの厚みが25μmより薄い場合や400μmより厚い場合には、指滑りフィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下する。   The thickness of the transparent substrate film is preferably about 25 to 400 μm, more preferably about 50 to 200 μm. When the thickness of the transparent substrate film is thinner than 25 μm or thicker than 400 μm, the handleability during the production and use of the finger sliding film is lowered.

<ハードコート層>
透明基材フィルムと指滑り層の間には、指すべりフィルムの表面硬度を高めるために、ハードコート層が設けられる。
<Hard coat layer>
A hard coat layer is provided between the transparent substrate film and the finger slip layer in order to increase the surface hardness of the sliding film.

ハードコート層の膜厚は、1μm以上が好ましい。膜厚が1μm未満の場合は、表面硬度を効果的に高めることができないため好ましくない。また、ハードコート層の膜厚は、3μm以上が好ましい。20μmを超える場合は、耐屈曲性の低下等の問題が生じるから好ましくない。   The film thickness of the hard coat layer is preferably 1 μm or more. A film thickness of less than 1 μm is not preferable because the surface hardness cannot be increased effectively. Further, the film thickness of the hard coat layer is preferably 3 μm or more. When the thickness exceeds 20 μm, problems such as a decrease in flex resistance occur, which is not preferable.

ハードコート層の材料としては、従来よりディスプレイの表面に設けられるフィルムに用いられている公知のものであれば、特に制限されない。例えば、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物や、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることができ、これらを混合してもよい。そして、これらに光重合開始剤を加えて調製したハードコート層用塗液に紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射して硬化させてハードコート層を形成することができる。   The material for the hard coat layer is not particularly limited as long as it is a known material conventionally used for a film provided on the surface of a display. For example, a reactive silicon compound such as tetraethoxysilane or an active energy ray curable resin can be used, and these may be mixed. And the hard-coat layer can be formed by irradiating and hardening | curing active energy rays, such as an ultraviolet-ray and an electron beam, to the coating liquid for hard-coat layers prepared by adding a photoinitiator to these.

活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとして具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸(ポリ)エチレングリコール基含有(メタ)アクリル酸エステル等が好ましい。多官能(メタ)アクリレートとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。   Examples of the active energy ray-curable resin include monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate. Specifically as monofunctional (meth) acrylate, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid (poly) ethylene glycol group-containing (meth) acrylic acid ester and the like are preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, polyfunctional polymerizable compounds containing two or more (meth) acryloyl groups such as urethane-modified acrylate, and the like.

これらのうち生産性及び硬度を両立させる観点より、鉛筆硬度(評価法:JIS−K5600−5−4)がH以上となる活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物の硬化物であることが好ましい。そのような活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物としては特に限定されるものではないが、例えば、公知の活性エネルギー線硬化型樹脂、又は公知の活性エネルギー線硬化型樹脂を2種類以上混合して調製したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているものを用いることができる。   Among these, from the viewpoint of achieving both productivity and hardness, a cured product of a composition containing an active energy ray-curable resin having a pencil hardness (evaluation method: JIS-K5600-5-4) of H or higher is preferable. . The composition containing such an active energy ray curable resin is not particularly limited. For example, a known active energy ray curable resin or a mixture of two or more known active energy ray curable resins may be mixed. And those commercially available as ultraviolet curable hard coat materials.

光重合開始剤は、紫外線(UV)等の活性エネルギー線によりハードコート層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフェリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。   The photopolymerization initiator is used as a polymerization initiator when a coating film is formed by curing the hard coat layer coating liquid with an active energy ray such as ultraviolet (UV). The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it initiates polymerization upon irradiation with active energy rays, and known compounds can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -One, acetophenone polymerization initiators such as 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, benzoin, 2,2-dimethoxy 1,2 -Benzoin polymerization initiators such as diphenylethane-1-one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4' -Benzophenone polymerization initiators such as tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2-chlorothio Xanthone, such thioxanthone type polymerization initiators such as 2,4-diethyl thioxanthone, and the like.

塗液の溶媒は、この種の反射防止フィルム等において各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択できる。   The solvent of the coating solution is not particularly limited as long as it is a known one that has been conventionally used for the coating solution for forming each layer in this type of antireflection film, and examples thereof include alcohol-based, ketone-based, and ester-based solvents. Can be selected in a timely manner.

更に、ハードコート層は、その他添加剤を含有していても良い。その他の添加剤としては、屈折率調整用の無機粒子、帯電防止剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、表面調整剤等が挙げられる。帯電防止剤としては、ATO微粒子、ITO微粒子などのような導電性金属酸化物微粒子や、PEDOTのような導電性ポリマーや、4級アンモニウム塩などの界面活性剤を使用することができる。表面調整剤としては、ポリジメチルシロキサンなどのシリコン系レベリング剤や、アクリル系レベリング剤を使用することができる。   Furthermore, the hard coat layer may contain other additives. Examples of other additives include inorganic particles for adjusting the refractive index, antistatic agents, ultraviolet absorbers, ultraviolet stabilizers, antioxidants, and surface modifiers. As the antistatic agent, conductive metal oxide fine particles such as ATO fine particles and ITO fine particles, conductive polymers such as PEDOT, and surfactants such as quaternary ammonium salts can be used. As the surface conditioner, a silicon leveling agent such as polydimethylsiloxane or an acrylic leveling agent can be used.

≪指滑り層≫
指滑り層は、指滑り層形成用樹脂組成物を紫外線によって硬化させて形成されたものである。指すべり層は、表面に微細な凹凸を有し、その凹凸により指の接触面積を低下させて摩擦力を低減するとともに、指滑り性を高める。また、指滑り層は、表面自由エネルギーが低く設計されているため、付着した指紋が拭取りやすいという機能も有している。
≪Finger sliding layer≫
The finger sliding layer is formed by curing the finger sliding layer forming resin composition with ultraviolet rays. The sliding layer has fine unevenness on the surface, and the unevenness reduces the contact area of the finger to reduce the frictional force and enhance the finger slipping property. In addition, the finger slipping layer is designed to have a low surface free energy, and thus has a function that the attached fingerprint can be easily wiped off.

指滑り層の膜厚tは、平均粒子径が0.5μm以上1.3μm以下である(b)透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaとの比t/Pdiaが、0.1≦t/Pdia≦0.9を満たすように形成される。ここで、指滑り層の膜厚tとは、指滑り層において、粒子よる突出(凸)のない部分の厚さのことである。指滑り層の膜厚tは、膜厚を測定する方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは、分光膜厚計によって粒子よる突出(凸)のない部分の反射スペクトルを測定し、得られた反射スペクトルからピークバレイ法によって算出される。t/Pdia>0.9であると、膜厚tに対して(b)透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaが小さく表面凹凸(≒Ra)の大きさが小さくなるので、指のすべり性が低下する。0.1≦t/Pdia≦0.9であると、指滑り性が良好となる。0.1μm>tであると、指滑り層の強度が低下する傾向がある。t>1.3μmであると、表面凹凸の間隔(≒Sm)が大きくなる傾向があり、指滑り性が悪化する傾向がある。   The film thickness t of the finger sliding layer has an average particle diameter of 0.5 μm or more and 1.3 μm or less. (B) The ratio t / Pdia of the light-transmitting organic fine particles to the average particle diameter Pdia is 0.1 ≦ t / It is formed so as to satisfy Pdia ≦ 0.9. Here, the film thickness t of the finger sliding layer is the thickness of the portion without protrusion (convex) due to particles in the finger sliding layer. As long as the film thickness t of the finger sliding layer is a method for measuring the film thickness, any measurement method can be applied, but preferably, a reflection spectrum of a portion without protrusion (convex) due to particles is measured by a spectral film thickness meter. Then, it is calculated from the obtained reflection spectrum by the peak valley method. When t / Pdia> 0.9, the average particle diameter Pdia of the light-transmitting organic fine particles is small with respect to the film thickness t, and the surface unevenness (≈Ra) is small. Decreases. When 0.1 ≦ t / Pdia ≦ 0.9, the finger slipping property is good. If the thickness is 0.1 μm> t, the strength of the finger sliding layer tends to be reduced. When t> 1.3 μm, the surface unevenness interval (≈Sm) tends to increase, and the finger slipping property tends to deteriorate.

指滑り層は、表面形状において、JIS B 0601−1994に定義される算術平均粗さRa(平均線から絶対値偏差の平均値)及び凹凸の平均間隔Sm(粗さ曲線が平均線と交差する交点から求めた山谷-周期の間隔の平均値)が下式(I)及び(II)を満足することで、良好な指滑り性とクリア感とを両立しやすい。
0.06≦Ra≦0.13・・・式(I)
0.02≦Sm≦0.05・・・式(II)
Ra<0.06の場合、指の接触面積が高くなるため、指滑り性が悪くなる。Ra>0.13の場合、クリア感が無くなる傾向が見られる。Sm<0.02の場合、ヘイズが高くなるため、クリア感がなくなる傾向が見られる。Sm>0.05の場合、指の接触面積が高くなるため、指滑り性が悪くなる。
The finger sliding layer has an arithmetic average roughness Ra (average value of absolute value deviation from the average line) defined by JIS B 0601-1994 and an average interval Sm of unevenness (roughness curve intersects the average line) in the surface shape. By satisfying the following formulas (I) and (II), the average value of the valleys and the intervals obtained from the intersection points is easy to achieve both good finger slipping and clearness.
0.06 ≦ Ra ≦ 0.13 Formula (I)
0.02 ≦ Sm ≦ 0.05 Formula (II)
In the case of Ra <0.06, the finger contact area is increased, and thus the finger slipping property is deteriorated. When Ra> 0.13, there is a tendency for clearness to disappear. In the case of Sm <0.02, the haze increases, and thus there is a tendency that the clear feeling is lost. In the case of Sm> 0.05, the finger contact area is increased, and thus the finger slipping property is deteriorated.

指滑り層は、必要に応じて、表面調製剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。   The finger slipping layer is, as necessary, a conventionally known additive such as a surface preparation agent, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, an antistatic agent, and an antifoaming agent, in a range that does not impair the effects of the present invention. It may contain.

≪各層の形成≫
指滑り層及びハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ウェットコーティング法の塗布方法により、各層形成用樹脂組成物を適宜溶剤で希釈して調整した各塗液を透明基材フィルムに、塗布し、硬化させる方法を採用することができる。塗布方法としては、生産性や生産コストの面より、特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法は公知の方法でよく、例えばロールコート法、ダイコート法、スピンコート法、そしてディップコート法等が代表的なものとして挙げられる。これらの中では、ロールコート法等、連続的に塗膜を形成できる方法が生産性の点より好ましい。形成された塗膜は、加熱や紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射によって硬化反応を行うことにより硬化被膜を形成することができる。
≪Formation of each layer≫
The method for forming the finger slip layer and the hard coat layer is not particularly limited. For example, each coating liquid prepared by appropriately diluting each layer forming resin composition with a solvent by a coating method of a wet coating method is applied to the transparent base film. The method of apply | coating and hardening can be employ | adopted. As the coating method, the wet coating method is particularly preferable in terms of productivity and production cost. The wet coating method may be a known method, and typical examples include a roll coating method, a die coating method, a spin coating method, and a dip coating method. In these, the method which can form a coating film continuously, such as a roll coat method, is preferable from the point of productivity. The formed coating film can form a cured film by performing a curing reaction by heating, irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.

<指滑りフィルムを表面に備えた画像表示装置>
上記指滑りフィルムを画面の表面に備える画像表示装置は、画面にてクリア感を保ちつつフリック時の指の滑り易さを良好にすることができ、また、付着した指紋を拭取りやすくすることができる。画像表示装置としては、例えば、カーナビ、スマートフォン、モバイルPC、電子黒板のディスプレイなどが挙げられる。指滑りフィルムは、OCA(optical clear adhesive)を介して画像表示装置の観察側の表面に貼り合わせたり、偏光フィルムとして観察側の表面に装着される。指滑りフィルムを偏光フィルムとして使用する場合の形態について説明すると、偏光フィルムは一般に、ヨウ素又は二色性染料が吸着配向されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムからなる偏光子の少なくとも片面に、保護フィルムが積層された形のものが多いが、このような偏光フィルムの一方の面に、上記指滑りフィルムを貼合すれば、指滑り効果のある偏光フィルムとなる。また、上記指滑りフィルムを保護フィルムと兼用し、その指滑り層が積層された一方の面が外側となるよう偏光子の片面に貼合することによっても、指滑り効果のある偏光フィルムとすることができる。
<Image display device with finger slip film on surface>
The image display device provided with the above-mentioned finger slip film on the surface of the screen can improve the slipperiness of the finger when flicking while maintaining a clear feeling on the screen, and can easily wipe off the attached fingerprint. Can do. Examples of the image display device include a car navigation system, a smartphone, a mobile PC, and an electronic blackboard display. The finger sliding film is attached to the observation side surface of the image display device via an OCA (optical clear adhesive), or attached to the observation side surface as a polarizing film. In the case of using a finger sliding film as a polarizing film, the polarizing film is generally a protective film laminated on at least one surface of a polarizer composed of a polyvinyl alcohol-based resin film adsorbed and oriented with iodine or a dichroic dye. Although many of the shapes are made, if the finger slip film is bonded to one surface of such a polarizing film, a polarizing film having a finger slip effect is obtained. Further, the above-mentioned finger sliding film is also used as a protective film, and a polarizing film having a finger sliding effect can also be obtained by pasting on one side of a polarizer so that one surface on which the finger sliding layer is laminated is outside. be able to.

(実施例1−1〜実施例1−13、比較例1−1〜1−11)
〔指滑り層形成用樹脂組成物〕
指滑り層形成用樹脂組成物として次の原料を使用し、各原料を下記表1及び表2に記載した組成にて、(a)シリカ微粒子、(b)透光性有機微粒子、(c)紫外線硬化型樹脂、(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂、(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン、(f)光重合開始剤、とを混合し、実施例と、比較例の指滑り層形成用樹脂組成物を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量%を記載している。
(Example 1-1 to Example 1-13, Comparative Example 1-1 to 1-11)
[Finger sliding layer forming resin composition]
The following raw materials are used as the resin composition for forming the finger slip layer, and each raw material has the composition described in Table 1 and Table 2 below, (a) silica fine particles, (b) translucent organic fine particles, (c) Ultraviolet curable resin, (d) fluorine-containing ultraviolet curable resin, (e) polydimethylsiloxane having an acrylic group, and (f) photopolymerization initiator are mixed to form finger slipping layers of Examples and Comparative Examples A resin composition was prepared. In addition, the compounding quantity of each material has described the mass% of solid content.

Figure 0006575191
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指滑り層形成用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。
(a)シリカ微粒子
シリカ超微粒子(粒子径100nm)CIKナノテック(株)製「SIMIBK15WT%-H58」
シリカ超微粒子(粒子径15nm)日産化学工業(株)製「MIBK-ST」
比較例1−1では、シリカ微粒子に替えてジルコニア微粒子(粒子径15nm)CIKナノテック(株)製「ZRMEK25wt%−F47」
(b)透光性有機微粒子
架橋アクリル重合樹脂の微粒子〔綜研化学(株)製、MX80H3wT、粒子径の揃った単分散な微粒子、平均粒子径は0.8μm〕
アクリル重合樹脂の微粒子〔日本ペイント(株)製、FS-501、平均粒子径は0.5μm〕
架橋アクリル重合樹脂の微粒子〔積水化学工業(株)製、SSX-101、粒子径の揃った単分散な微粒子、平均粒子径は1.0μm〕
ポリスチレンの微粒子〔綜研化学(株)製、SX-130H、粒子径の揃った単分散な微粒子、平均粒子径は1.3μm〕
架橋アクリル重合樹脂の微粒子〔綜研化学(株)製、MX-150、粒子径の揃った単分散な微粒子、平均粒子径は1.5μm〕
(c)紫外線硬化型樹脂
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬(株)製「KAYARAD DPHA」
多官能ウレタンアクリレート 日本合成化学工業(株)製「紫光UV−7600B」
(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂
ダイキン工業(株)製「オプツールDAC−HP」
DIC(株)製「メガファックRS−75」
(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン
ビックケミー・ジャパン(株)製「BYK−UV 3570」アクリル基を有するポリエステル変性ポリジメチルシロキサン
ビックケミー・ジャパン(株)製「BYK−UV 3500」アクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン
(f)光重合開始剤
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE907(I−907)」
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE2959(I−2959)」
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE184(I−184)」
The raw materials for the finger slip layer forming resin composition are as follows.
(A) Silica fine particles Silica ultra fine particles (particle size: 100 nm) “SIMIBK15WT% -H58” manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.
Silica ultrafine particles (particle size 15nm) "MIBK-ST" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
In Comparative Example 1-1, instead of silica fine particles, zirconia fine particles (particle diameter: 15 nm) “ZRMEK 25 wt% -F47” manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.
(B) Translucent organic fine particles Cross-linked acrylic polymer resin fine particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MX80H3wT, monodisperse fine particles with uniform particle diameter, average particle size is 0.8 μm)
Fine particles of acrylic polymer resin (manufactured by Nippon Paint Co., Ltd., FS-501, average particle size is 0.5 μm)
Fine particles of crosslinked acrylic polymer resin (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., SSX-101, monodisperse fine particles with uniform particle size, average particle size is 1.0 μm)
Polystyrene fine particles [manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., SX-130H, monodispersed fine particles with uniform particle size, average particle size is 1.3 μm]
Fine particles of cross-linked acrylic polymer resin (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MX-150, monodisperse fine particles with uniform particle size, average particle size is 1.5 μm)
(C) UV curable resin dipentaerythritol hexaacrylate, “KAYARAD DPHA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
Multifunctional urethane acrylate "Shikou UV-7600B" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
(D) Fluorine-containing UV curable resin “OPTOOL DAC-HP” manufactured by Daikin Industries, Ltd.
"Megafuck RS-75" manufactured by DIC Corporation
(E) Polydimethylsiloxane having an acrylic group "BYK-UV 3570" manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. Polyester-modified polydimethylsiloxane having an acrylic group "BYK-UV 3500" poly having an acrylic group manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. Ether-modified polydimethylsiloxane (f) photopolymerization initiator
“IRGACURE907 (I-907)” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
“IRGACURE2959 (I-2959)” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
“IRGACURE 184 (I-184)” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.

[指滑りフィルムの作製]
〔透明基材フィルム〕
各実施例及び比較例において、透明基材フィルムとしては、以下のものを使用した。
ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET):
東レ(株)製「U403」 厚み100μm
[Production of finger sliding film]
[Transparent substrate film]
In each Example and Comparative Example, the following were used as the transparent substrate film.
Polyethylene terephthalate film (PET):
“U403” manufactured by Toray Industries, Inc. Thickness 100 μm

〔ハードコート層形成用樹脂組成物〕
HC−1:アクリル基を有する紫外線硬化型ハードコート剤「アイカアイトロンZ735HSL」(アイカ工業(株)製)
HC−2:アクリル基を有する紫外線硬化型ハードコート剤ハードコート剤「オプスターZ7503」(JSR(株)製)
HC−3:4級アンモニウム塩及びアクリル基を有する紫外線硬化型ハードコート剤「リオデュラスLAS1303NL」(東洋インキ(株)製)
[Hardcoat layer forming resin composition]
HC-1: UV curing type hard coating agent having an acrylic group “Aika Itron Z735HSL” (manufactured by Aika Industry Co., Ltd.)
HC-2: UV curable hard coat agent having an acrylic group "OPSTAR Z7503" (manufactured by JSR Corporation)
HC-3: UV curable hard coating agent having a quaternary ammonium salt and an acrylic group “Rioduras LAS1303NL” (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.)

(実施例2−1)
東レ(株)製ポリエチレンテレフタレートフィルム「U403、100μm」の一面に、アクリル基を有するアイカ工業(株)製ハードコート剤「アイカアイトロンZ735HSL」(HC−1)をバーコーターにて塗布、乾燥、硬化し、硬化後の膜厚(粒子を避けて測定した膜厚)が4μmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させ、表面抵抗率が1E+9Ωとなるハードコート層をポリエチレンテレフタレートフィルム上に形成した。
(Example 2-1)
On one side of a polyethylene terephthalate film “U403, 100 μm” manufactured by Toray Industries, Inc., a hard coat agent “Aika Itron Z735HSL” (HC-1) having an acrylic group is applied with a bar coater and dried. Cured and coated so that the film thickness after curing (film thickness measured avoiding particles) is 4 μm, cured by irradiating with 400 mJ ultraviolet light with a 120 W high-pressure mercury lamp, and having a surface resistivity of 1E + 9Ω. A hard coat layer was formed on a polyethylene terephthalate film.

さらに、ハードコート層上に実施例1−1の指滑り層形成用樹脂組成物及び溶媒(メチルイソブチルケトン)を1:1の割合で混合した塗液をバーコーターにて塗布、乾燥、硬化し、硬化後の膜厚(粒子を避けて測定した膜厚)が0.4μmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより指滑り層を形成し指滑りフィルムを作製した。   Further, a coating solution prepared by mixing the resin composition for forming the finger slip layer of Example 1-1 and the solvent (methyl isobutyl ketone) at a ratio of 1: 1 on the hard coat layer was applied with a bar coater, dried and cured. The film was coated so that the film thickness after curing (the film thickness measured avoiding particles) was 0.4 μm, and a finger sliding layer was formed by irradiating with a 120 W high-pressure mercury lamp by irradiating with 400 mJ ultraviolet rays. A sliding film was prepared.

(実施例2−2〜実施例2−17、比較例2−1〜比較例2−13)
指滑り層形成用樹脂組成物として表3及び表4に記載した組成、及び構成にて実施例2−1と同様に、ハードコート層及び指滑り層を形成し指滑りフィルムを作製した。
(Example 2-2 to Example 2-17, Comparative Example 2-1 to Comparative Example 2-13)
As a resin composition for forming a finger slip layer, a hard coat layer and a finger slip layer were formed in the same manner as in Example 2-1 with the compositions and configurations described in Table 3 and Table 4 to prepare a finger slip film.

Figure 0006575191
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Figure 0006575191
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得られた各実施例及び比較例の指滑りフィルムについて、各種特性を下記方法にて測定し評価した。   Various characteristics of the obtained finger sliding films of Examples and Comparative Examples were measured and evaluated by the following methods.

<指滑り層の膜厚(t)>
(1)反射分光膜厚計〔FE3000,大塚電子(株)製〕によって、粒子による突出(凸)のない部分の反射スペクトルを測定し、下記<硬化後の各層組成物屈折率>に記載の手順にて求めたハードコート層の硬化後の膜の屈折率を基に、得られた反射スペクトルからピークバレイ法によってハードコート層及び指滑り層の合計膜厚(ii)を算出し、下式(A)にて指滑り層の膜厚を算出した。
指滑り層の膜厚(iii)=(ハードコート層及び指滑り層の合計膜厚(ii)−ハードコート層の膜厚(i))× ハードコート層の屈折率/指滑り層の屈折率 (式A)
<Film thickness of finger sliding layer (t)>
(1) A reflection spectral film thickness meter [FE3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.] was used to measure a reflection spectrum of a portion without protrusion (convex) due to particles, and described in the following <refractive index of each layer composition after curing>. Based on the refractive index of the film after curing of the hard coat layer obtained in the procedure, the total film thickness (ii) of the hard coat layer and the finger slip layer is calculated from the obtained reflection spectrum by the peak valley method. The film thickness of the finger sliding layer was calculated in (A).
Film thickness of finger sliding layer (iii) = (total film thickness of hard coat layer and finger sliding layer (ii) −film thickness of hard coat layer (i)) × refractive index of hard coat layer / refractive index of finger sliding layer (Formula A)

<硬化後の各層組成物屈折率>
(1)PETフィルム〔商品名「A4100」、東洋紡(株)製〕の易接着層が無い面上に、バーコーターにより、各層用塗液をそれぞれ乾燥硬化後の膜厚で100〜1000nmになるように層の厚さを調整して塗布した。乾燥後、紫外線照射装置〔岩崎電気(株)製〕により窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯を用いて、400mJの紫外線を照射して硬化し、屈折率測定用フィルムを作製した。
(2)作製したフィルムの裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計〔FE3000、大塚電子(株)製〕により、反射スペクトルを測定した。
(3)反射スペクトルより読み取った反射率から、下記に示すn-Cauchyの波長分散式(式1)の定数を求め、光の波長589nmにおける屈折率を求めた。
N(λ)=a/λ4+b/λ2+c (式1)
なお、指滑り層の屈折率は、指滑り層を構成する組成物のうち、大径粒子を除く組成物を硬化して硬化膜を形成し、その硬化膜の反射スペクトルを測定することで算出した。
<The refractive index of each layer composition after curing>
(1) The coating liquid for each layer is 100 to 1000 nm in thickness after drying and curing with a bar coater on the surface of the PET film [trade name “A4100”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.] without the easy adhesion layer. Thus, the thickness of the layer was adjusted and applied. After drying, the film was cured by irradiating with 400 mJ of ultraviolet light using a 120 W high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere with an ultraviolet irradiation device (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) to prepare a film for refractive index measurement.
(2) The reflection spectrum was measured with a reflection spectral film thickness meter (FE3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) after the back surface of the produced film was roughened with sandpaper and painted with black paint.
(3) From the reflectance read from the reflection spectrum, the constant of the wavelength dispersion formula (Formula 1) of n-Cauchy shown below was obtained, and the refractive index at the wavelength of 589 nm was obtained.
N (λ) = a / λ4 + b / λ2 + c (Formula 1)
The refractive index of the finger sliding layer is calculated by curing a composition excluding large-diameter particles among the compositions constituting the finger sliding layer to form a cured film, and measuring the reflection spectrum of the cured film. did.

<ハードコート層の膜厚(i)>
反射分光膜厚計(FE3000、大塚電子製)によって、粒子による突出(凸)のない部分の反射スペクトルを測定し、<硬化後の各層組成物屈折率>に記載の手順にて求めたハードコート層の硬化後の膜の屈折率を基に、得られた反射スペクトルからピークバレイ法によって算出した。
<Film thickness of hard coat layer (i)>
The reflection spectrum film thickness meter (FE3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) measured the reflection spectrum of the part without protrusion (convex) due to the particles, and determined by the procedure described in <Refraction index of each layer composition after curing> Based on the refractive index of the film after curing of the layer, it was calculated from the obtained reflection spectrum by the peak valley method.

<表面粗さ>
(株)小坂研究所製、表面粗さ測定機、サーフコーダSE500を使用し、走査範囲4mm、走査速度0.2mm/sの条件で、JIS B 0601−1994の規定に準拠して算術平均粗さRa(μm)、凹凸の平均間隔Sm(mm)を測定した。
<Surface roughness>
Arithmetic average roughness in accordance with the provisions of JIS B 0601-1994, using a surface roughness measuring machine manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd., Surfcorder SE500, under conditions of a scanning range of 4 mm and a scanning speed of 0.2 mm / s. Ra (μm) and the average interval Sm (mm) of the irregularities were measured.

<指滑り性>
JISK7125−1999に準拠した測定方法にてウレタンエラストマー素材の人工皮膚モデル(商品名:バイオスキンプレート プレート#BSカラー1、ビューラックス株式会社製)に対する動摩擦係数を測定した。
<Finger slipperiness>
The coefficient of dynamic friction with respect to an artificial skin model of urethane elastomer material (trade name: Bio Skin Plate Plate #BS Color 1, manufactured by Beaulux Co., Ltd.) was measured by a measurement method based on JIS K 7125-1999.

本評価方法にて評価した摩擦係数は、人の指でフリックする際の滑り性と相関しており、摩擦係数が小さいほど指が滑り易く、摩擦係数が大きいほど、指が滑りにくいと官能的に評価された。また、摩擦係数が摩擦係数≦0.5となる場合、評価者(N=30)の90%以上がフリック時に指が滑りやすいと判定した。   The friction coefficient evaluated by this evaluation method correlates with the slipperiness when flicking with a human finger. The smaller the friction coefficient, the easier the finger slips, and the higher the friction coefficient, the more sensitive the finger is, It was evaluated. In addition, when the friction coefficient is such that the friction coefficient ≦ 0.5, 90% or more of the evaluators (N = 30) determined that the finger is easy to slip when flicking.

<クリア感>
(1)<透過像鮮明度、45°反射像鮮明度>
JIS K 7105−1981に基づく像鮮明度測定装置〔スガ試験機(株)製の写像性測定器、ICM−1T〕を用いて1mmの幅を有する光学くしを通して像鮮明度の値(透過像鮮明度)(%)及び45°反射で測定される像鮮明度の値(45°反射像鮮明度)(%)を測定した。透過像鮮明度及び45°反射像鮮明度は、数値が大きいほどクリア感に優れる。
<Clear>
(1) <Transparent image definition, 45 ° reflection image definition>
An image definition value (transmission image definition) through an optical comb having a width of 1 mm using an image definition measuring device (image clarity measuring device manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., ICM-1T) based on JIS K 7105-1981. (Degree) (%) and image sharpness value (45 ° reflected image sharpness) (%) measured at 45 ° reflection. As the transmitted image definition and the 45 ° reflected image definition are larger, the clearer the better.

(2)<ヘイズ>
ヘイズメーター〔日本電色工業(株)製、NDH2000〕を使用し、光学特性としてのヘイズ値(%)を測定した。
(2) <Haze>
A haze meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., NDH2000) was used, and the haze value (%) as an optical characteristic was measured.

<指紋拭取り性>
付着した指紋に対して、東レ製トレシーにより200gf/cmの荷重にて空拭きを実施し、指紋が目視にて見えなくなるのに必要な空拭き回数をカウントした。
○:20往復以下、×:21往復以上 として判定した。
<Fingerprint wiping>
The attached fingerprint was wiped with Toray-made Toraysee under a load of 200 gf / cm 2 , and the number of times of wiping necessary to make the fingerprint invisible was counted.
○: 20 round trips or less, x: 21 round trips or more

<表面硬度>
荷重は750gとし、JIS K 5600に準拠し評価した。
<Surface hardness>
The load was set to 750 g and evaluated according to JIS K 5600.

各実施例の結果より、(a)平均粒子径が0.01〜0.10μmであるシリカ微粒子8.0〜74.0質量%、(b)平均粒子径(Pdia)が0.5〜1.3μmである透光性有機微粒子1.0〜9.0質量%、(c)紫外線硬化型樹脂8.0〜74.0質量%、(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂1.5〜15.0質量%、(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン0.8〜15.0質量%、(f)光重合開始剤0.1〜12.0質量%(但し、(a)(b)(c)(d)(e)(f)の合計は、100質量%である。)を含み、(e)の質量%が(d)の質量%より少ない指滑り層形成用樹脂組成物を用い、指滑り層の膜厚tと透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaの比t/Pdiaが0.10≦t/Pdia≦0.90である指滑りフィルムによれば、クリア感が高く、フリック時の指の滑り易さが良好で、かつ、指紋の拭取り性が良好であることがわかる。   From the results of each Example, (a) 8.0 to 74.0% by mass of silica fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 0.10 μm, and (b) an average particle diameter (Pdia) of 0.5 to 1 1.0 μm to 9.0% by mass of translucent organic fine particles of 3 μm, (c) 8.0 to 74.0% by mass of ultraviolet curable resin, and (d) 1.5 to 15 fluorine-containing ultraviolet curable resin. 0.0% by mass, (e) 0.8-15.0% by mass of polydimethylsiloxane having an acrylic group, (f) 0.1-12.0% by mass of photopolymerization initiator (provided that (a) (b) (The sum of (c), (d), (e), and (f) is 100% by mass), and the resin composition for forming a finger sliding layer is less than (%) by mass% of (e). A finger slip film in which the ratio t / Pdia between the thickness t of the finger slip layer and the average particle diameter Pdia of the light-transmitting organic fine particles is 0.10 ≦ t / Pdia ≦ 0.90 According to a high clearness, a good slipperiness of the finger at the time of the flick, and wiping of the fingerprint is found to be good.

一方、比較例2−1より、(a)シリカ微粒子に替えてジルコニア微粒子を用いると、透過像線明度及び45°反射像鮮明度が小さくなり、クリア感が低くなることがわかる。比較例2−2では、(a)シリカ微粒子が少なすぎ(c)紫外線硬化型樹脂が多すぎるため、表面の凹凸間隔(≒Sm)が大きくなり指滑り性が劣る。比較例2−3では、(a)シリカ微粒子が多すぎ(c)紫外線硬化型樹脂が少なすぎるため指紋拭取り性が悪い。比較例2−4では、(b)透光性有機微粒子が少なすぎるため、表面の凹凸間隔(≒Sm)が大きくなり指滑り性が劣る。比較例2−5では、(b)透光性有機微粒子が多すぎるため、透過像線明度及び45°反射像鮮明度が小さく、またヘイズが高いためクリア感が低い。比較例2−6では、(b)透光性有機微粒子の平均粒子径が大きすぎるため、透過像線明度及び45°反射像鮮明度が小さくクリア感が低く、表面の凹凸間隔(≒Sm)が大きくなり指滑り性がやや劣る。比較例2−7では、指滑り層の膜厚tと(b)透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaの比t/Pdiaが小さすぎるため表面硬度が低い。比較例2−8では、t/Pdiaが大きすぎ、表面凹凸(≒Ra)が小さく且つ表面の凹凸間隔(≒Sm)が大きくなるため、指滑り性が劣る。比較例2−9と比較例2−10では、(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂が少なすぎる又は多すぎるため、指紋拭取り性が悪い。比較例2−11では、(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサンが少なすぎるため指紋拭取り性が悪い。比較例2−12と比較例2−13では、(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサンの質量%が(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂の質量%より多いため指紋拭取り性が悪い。   On the other hand, from Comparative Example 2-1, it can be seen that when (a) zirconia fine particles are used instead of silica fine particles, the transmitted image line brightness and the 45 ° reflected image sharpness are reduced, and the clearness is lowered. In Comparative Example 2-2, (a) too few silica fine particles and (c) too much ultraviolet curable resin, the surface irregularity interval (≈Sm) becomes large and the finger slipping property is inferior. In Comparative Example 2-3, (a) Too much silica fine particles (c) Too little ultraviolet curable resin, fingerprint wiping properties are poor. In Comparative Example 2-4, since (b) the light-transmitting organic fine particles are too small, the surface unevenness interval (≈Sm) is increased and the finger slipping property is inferior. In Comparative Example 2-5, (b) since there are too many translucent organic fine particles, the transmitted image line brightness and the 45 ° reflected image sharpness are small, and the haze is high, so the clearness is low. In Comparative Example 2-6, (b) the average particle diameter of the light-transmitting organic fine particles was too large, so that the transmitted image line brightness and the 45 ° reflected image sharpness were small and the clearness was low, and the unevenness of the surface (≈Sm) The finger slipperiness becomes slightly inferior. In Comparative Example 2-7, since the ratio t / Pdia between the film thickness t of the finger sliding layer and the average particle diameter Pdia of (b) the translucent organic fine particles is too small, the surface hardness is low. In Comparative Example 2-8, t / Pdia is too large, the surface unevenness (≈Ra) is small, and the surface unevenness interval (≈Sm) is large. In Comparative Example 2-9 and Comparative Example 2-10, since (d) the fluorine-containing ultraviolet curable resin is too little or too much, the fingerprint wiping property is poor. In Comparative Example 2-11, since there is too little (e) polydimethylsiloxane having an acrylic group, the fingerprint wiping property is poor. In Comparative Example 2-12 and Comparative Example 2-13, the fingerprint wiping property is poor because (e) the mass% of the polydimethylsiloxane having an acrylic group is larger than (d) the mass% of the fluorine-containing ultraviolet curable resin.

Claims (4)

(a)平均粒子径が0.01〜0.10μmであるシリカ微粒子8.0〜74.0質量%、
(b)平均粒子径(Pdia)が0.5〜1.3μmである透光性有機微粒子1.0〜9.0質量%、
(c)紫外線硬化型樹脂8.0〜74.0質量%、
(d)フッ素含有紫外線硬化型樹脂1.5〜15.0質量%、
(e)アクリル基を有するポリジメチルシロキサン0.8〜11.0質量%、
(f)光重合開始剤0.1〜12.0質量%
(但し、(a)(b)(c)(d)(e)(f)の合計は、100質量%である。)
を含み、
(e)の質量%が、(d)の質量%より少ないことを特徴とする指滑り層形成用樹脂組成物。
(A) 8.0 to 74.0% by mass of silica fine particles having an average particle size of 0.01 to 0.10 μm,
(B) 1.0 to 9.0% by mass of translucent organic fine particles having an average particle diameter (Pdia) of 0.5 to 1.3 μm,
(C) UV curable resin 8.0 to 74.0% by mass,
(D) 1.5 to 15.0% by mass of a fluorine-containing ultraviolet curable resin,
(E) 0.8-11.0% by mass of polydimethylsiloxane having an acrylic group,
(F) Photoinitiator 0.1-12.0 mass%
(However, the total of (a) (b) (c) (d) (e) (f) is 100% by mass.)
Including
A resin composition for forming a finger sliding layer, wherein the mass% of (e) is less than the mass% of (d).
透明基材フィルムにハードコート層、指滑り層がこの順で積層されており、前記指滑り層は、請求項1に記載の指滑り層形成用樹脂組成物を硬化させてなり、前記指滑り層の膜厚tと前記透光性有機微粒子の平均粒子径Pdiaの比t/Pdiaが0.1≦t/Pdia≦0.9であることを特徴とする指滑りフィルム。   A hard coat layer and a finger slip layer are laminated in this order on a transparent base film, and the finger slip layer is formed by curing the resin composition for forming a finger slip layer according to claim 1. A finger sliding film, wherein a ratio t / Pdia of a layer thickness t and an average particle diameter Pdia of the translucent organic fine particles is 0.1 ≦ t / Pdia ≦ 0.9. 表面形状において、JIS B0601−1994に定義される算術平均粗さRa及び凹凸の平均間隔Smが下式(I)及び(II)を満足することを特徴とする請求項2に記載の指滑りフィルム。
0.06≦Ra≦0.13・・・式(I)
0.02≦Sm≦0.05・・・式(II)
The finger sliding film according to claim 2, wherein in the surface shape, the arithmetic average roughness Ra and the average interval Sm of irregularities defined in JIS B0601-1994 satisfy the following formulas (I) and (II): .
0.06 ≦ Ra ≦ 0.13 Formula (I)
0.02 ≦ Sm ≦ 0.05 Formula (II)
請求項2または請求項3に記載の指滑りフィルムを表面に備える画像表示装置。   The image display apparatus provided with the finger-slip film of Claim 2 or Claim 3 on the surface.
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