JP6567313B2 - クロマトグラフィー用充填剤 - Google Patents
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Description
Xは水素原子またはアルカリ金属原子を示す。
Raは、第2のアミノ酸残基を示す。
*1は、不斉炭素を示す。]
項2、R1及びR2は下記のいずれかの組み合わせである、項1に記載のクロマトグラフィー用充填剤。
*2は、不斉炭素を示す。]
項3、下記一般式(1)で表される繰り返し単位からなるポリマー。
Xは水素原子またはアルカリ金属原子を示す。
Raは、第2のアミノ酸残基を示す。
*1は、不斉炭素を示す。]
項4、R1及びR2は下記のいずれかの組み合わせである、項1に記載のポリマー。
*2は、不斉炭素を示す。]
項5、下記一般式(2)で表される化合物。
*1及び*2は、不斉炭素を示す。]
項6、(i)チオール基含有化合物とジビニルスルホンとを反応させて、モノマー(a)を得る工程、及び、
(ii)表面に重合性不飽和基またはチオール基を有するシリカ担体の表面上で、前記モノマー(a)を重合する工程
を含む、クロマトグラフィー用充填剤の製造方法。
項9、分離される化合物が光学活性化合物である、項8に記載の方法。
本発明のクロマトグラフィー用充填剤は、シリカ担体を基材とし、下記一般式(1)で表される繰り返し単位からなるポリマーで表面が修飾されたシリカ担体からなる。
のいずれまたはその混合物(ラセミ体を含む。)でもあってよいが、L配置またはD配置であることが好ましい。入手が容易との観点から、L配置であることが特に好ましい。
のいずれまたはその混合物(ラセミ体を含む。)でもあってよいが、L配置またはD配置であることが好ましい。入手が容易との観点から、L配置であることが特に好ましい。
シリカ担体は、クロマトグラフィー用充填剤の単体として使用できるものであれば特に限定されない。例えば、球状多孔質シリカゲル(例えば、粒子径1〜200μm程度、好ましくは1〜10μm程度のもの。)、モノリス型多孔質シリカなどが例示される。
この場合、アンカー(リンカー)は、−Si−O−を介してシリカ担体のシラノール基と結合している(上記式の右側)。また、上記式の左側で、ポリマーと直接結合している。
本発明はまた、以下の工程を含むクロマトグラフィー用充填剤の製造方法をも提供する:
(i)チオール基含有化合物とジビニルスルホンとを反応させて、モノマー(a)を得る工程、及び、
(ii)表面に重合性不飽和基を有するシリカ担体の表面上で、前記モノマー(a)を重合する工程
を含む、クロマトグラフィー用充填剤の製造方法。
[式中、Aは有機基を示す。]
工程(i)において、チオール基含有化合物(A−SH)とジビニルスルホンとを反応させてモノマー(a)を得る。
本発明の好ましい態様において、R1及びR2は下記のいずれかの組み合わせである。
製造されるクロマトグラフィー用充填剤の光学分割能が高いとの観点から、チオール基含有化合物として不斉炭素を有する光学活性化合物を使用することができる。特に、チオール基含有化合物として、チオール基含有アミノ酸、チオール基含有アミノ酸残基を含むペプチド化合物は、光学活性を有するチオール基含有化合物である。各不斉炭素の立体配置(L配置/D配置)は、一の立体配置(L体またはD体)又はその混合物(D/L体(ラセミ体)を含む。)のいずれであってもよい。光学分割能が高いとの観点から、L体またはD体であることが好ましい。
本発明の好ましい態様において、R1及びR2は下記のいずれかの組み合わせである。
工程(ii)
工程(ii)において、表面に重合性不飽和基またはチオール基を有するシリカ担体の表面上で、前記モノマー(a)を重合する。重合は、公知の手法(例えば、特許文献1)に準じて行うことができる。
特にシリカ担体がモノリス型多孔質シリカである場合、反応の副生成物であるシリカ担体と結合しなかったポリマーが目詰まりを起こす場合があり、十分な洗浄を行わうことが望ましい。
本発明のクロマトグラフィー用充填剤は、親水性相互作用クロマトグラフィーの固定相として、好適に使用することができる。
アルゴン雰囲気下、divinyl sulfone(5.908 g, 50 mmol)にhydroquinone(1 mg, 9.1×10−3 mmol)を加え、50 ℃で撹拌した。そこに、glutathione(3.077 g, 10 mmol)を溶解した水10 mL、メタノール6 mLの混合溶液を1時間10分かけて滴下した。その後、72時間50 ℃で撹拌し続けた。反応溶液を減圧乾燥し、アセトンを加え再結晶、濾過することで純粋なVS-GSHを得た。収量1.91 g、収率は45 %だった。
アルゴン雰囲気下、divinyl sulfone(7.384 g, 62.5 mmol)にhydroquinone(1 mg, 9.1×10-3 mmol)を加え、50 ℃で撹拌した。そこに、L-cysteine hydrochloride(2.190 g, 12.5 mmol)を溶解したメタノール6.4 mLを30分かけて滴下した。その後、49時間50 ℃で撹拌し続けた。反応溶液を減圧乾燥し、酢酸エチルを加え再結晶、濾過することで純粋なVS-GSHを得た。収量1.94 g、収率65 %だった。
(3.1)MAS (3-(methacrylamido)propyltriethoxysilane)の合成
3-Aminopropyltriethoxysilane(11.07 g,50 mmol)、triethylamine(6.07 g,60 mmol) 重合禁止剤としてhydroquinone(1 mg, 9.1×10-3 mmol)をTHF 30 mL中に溶解し、methacryloyl chloride(5.75 g,55 mmol)を0−5 ℃で滴下し、3時間室温で撹拌した。塩を濾過によって取り除き、濾液を濃縮した。酢酸エチルを加えることで、さらに塩を析出させ、濾過後、濾液を減圧乾燥することで、3-(methacryl-amido)propyltriethoxysilane (MAS)を得た(収量:13.52 g)。収率は94 %であった。NMRスペクトルを図3に示す。
シリカゲルを6 M塩酸 300 mLとともに一晩加熱還流し洗浄、水でも同様に還流を行い、120 ℃で加熱乾燥した。そしてそのシリカゲル12.02 gに合成したMAS(13.52 g, 47 mmol)を pyridine(7.13 g, 90 mmol)とともに加え、トルエン溶媒150 mL中で24時間加熱還流した。修飾したシリカゲルはトルエン150 mL、アセトン100 mLの順で洗浄した。
水5 mLを溶媒として、モノマー(VS-GSH又は、VS-Cys)1000 mgとMAS修飾済シリカゲル 700 mgを、開始剤として2,2'-azobis(2-methylpropionamidine)dihydrochloride(V-50、10時間半減期温度56 ℃) 110 mgを用いて、3時間重合し、粒子充填剤を作製した。反応終了後に濾過し、水100 mL、メタノール30 mL、アセトン30 mLの順で洗浄を行った。
調製した充填剤700 mgをメタノール16 mL、水4 mLと混合し、10秒間超音波により分散させ、スラリーとした。これを加圧溶媒にメタノールを用いて最大圧力40 MPaでステンレススチールカラム(ID 3.0 mm×10 cm)に充填した。スラリー充填機(124A、ケムコ社製)のプログラムレートは5に設定した。
(6.1)カラムテスト法による分離特性の評価
<方法>
作製したカラムは、文献:Y. Kawachi et al., J. Chromatogr. A, 1218 (2011) 903.に記載のカラムテスト法に準じて、分離特性の評価を行った。カラムテストに用いたサンプルの構造を下記に示す。また,カラムテストの評価項目を表1に示す。
α(CX),α(AX):ACN(アセトニトリル)/ AcONH4(酢酸アンモニウム)緩衝液(100 mM, pH 4.7) (90:10, v/v)
上記以外の測定:ACN/AcONH4 緩衝液(20 mM, pH 4.7)(90:10, v/v)。
流速:線速度u = 1.0 (mm/sec)になるように設定
温度:30 ℃
検出波長:254 nm。
カラムテストの結果
VS-GSH-Dev、VS-Cys-Devのカラムテストの結果を表2に示す。両方のカラムでHILICカラムとしての十分な性能が確認できたが、VS-GSH-DevカラムはVS-Cys-Devカラムに比べ、uridineの保持と選択性共に上回る結果となった。これより、VS-GSH-DevカラムはVS-Cys-Devカラムより固定相表面に厚い水の層を形成したと考えられる。
VS-GSH-Dev、VS-Cys-Devと、市販のカラムとのカラムテストの結果を比較した。
Nucleodur HILIC(Macherey-Nagel)
TSKgelAmide-80(東ソー)
XBridge Amide(Waters)
PolySULFOETHYL(PolyLC)
PolyHYDROXYETHYL (PolyLC)
CYCLOBOND I(Astec)
LiChrospher Diol(Merck Millipore)
Chromolith Si(Merck Millipore)
HALO HILIC(Advanced Materials Technology)
COSMOSIL HILIC(ナカライテスク)
Sugar-D(ナカライテスク)
NH2-MS(ナカライテスク)
VS-GSH-Dev、VS-Cys-Devと、双性イオン性HILICカラムであるZIC-HILIC、Nucleodur HILICのカラムテストの結果を比較した結果を、図4のレーダープロットに示す。
uridineの保持係数(k(uridine))を指標として、VS-GSH-Dev、VS-Cys-Devと、市販カラムとについて、カラムの親水性を比較した。結果を図5に示す。
α(OH)−α(Tb/Tp) プロットを図6に示す。得られた図からは、VS-GSH-Devは双性イオン型カラムと類似の分離特性を示し、VS-Cys-Devはさらに固定相に修飾するVS-GSHの量を増やし、固定相表面の親水性を増やせば、双性イオン型カラムの領域に入ると考えられる。
<方法>
実際にHILICモードでの分離対象となるヌクレオシドの下記のサンプルを用いた測定を行い、市販カラムと比較した。
結果を図7に示す。
<方法>
VS-GSH-Devで光学異性体を含めたアミノ酸の分析を行った。サンプルには、L-serine、D-serine、L-glutamic acid、D-glutamic acidを用いた。
各アミノ酸に対する保持係数を表3に示す。
<方法>
調製したVS-GSH重合修飾型シリカ粒子充填剤及びVS-Cys重合修飾型シリカ粒子充填剤をそれぞれ10 mg程度精秤し、元素分析装置CHN CORDER MT-5(Yanaco社製)を用いてC,N,Hの含有率を測定した。測定後に灰分として残ったシリカゲルを精秤し、燃焼前後の差分を有機部分の結合量とし、C,H,Nの結合量の算出を行った。
元素分析によって炭素・窒素含有率(重量%)、被覆率(重量%)を得た。結果を表4に示す。
VS-GSH重合修飾後のシリカゲルの濾液に含まれるシリカゲルに結合しなかったポリマーについて、温度を氷冷下、4 ℃、10 ℃、15 ℃としたときのそのポリマーの水溶液の状態を観察した。結果を図8に示す。
Claims (5)
- 下記一般式(1)で表される繰り返し単位からなるポリマーで表面が修飾されたシリカ担体からなる、クロマトグラフィー用充填剤。
[式中、R 1 及びR 2 は下記のいずれかの組み合わせである。
R 1 :OX, R 2 :NH 2 ;
[式中、Xは水素原子を示す。*2は、不斉炭素を示す。]
*1は、不斉炭素を示す。] - (i)L−システイン塩酸塩及びグルタチオンからなる群から選択されるチオール基含有化合物とジビニルスルホンとを反応させて、モノマー(a)を得る工程、及び、
(ii)重合性不飽和基を有する若しくは生じるシランカップリング剤と反応させてシリル化したシリカ担体の表面上で、前記モノマー(a)を重合する工程
を含む、クロマトグラフィー用充填剤の製造方法。 - 前記工程(ii)において、水溶性のアゾ型重合開始剤の存在下で反応を行う、請求項2に記載の製造方法。
- 請求項1に記載のクロマトグラフィー用充填剤を充填したカラムを使用して、化合物を分離する工程を含む、化合物の分離方法。
- 分離される化合物が光学活性化合物である、請求項4に記載の方法。
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