JP6566217B2 - Suspension composition containing a crystalline polymorph of an isoxazoline-substituted benzamide compound - Google Patents

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Description

本発明は、(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミド(以下、化合物Aと称する。)の結晶性多形体を含有する懸濁状組成物に関する。   The present invention relates to (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2. -It relates to a suspension composition containing a crystalline polymorph of methylbenzoic acid amide (hereinafter referred to as Compound A).

化学化合物の固体状態は、非晶性(すなわち、原子の位置に長距離秩序はない)又は結晶性(すなわち、原子は秩序のある反復パターンで配列されている)であることが可能である。多くの化合物の固体状態については単一の結晶形のみが知られているが、いくつかの化合物については多形体が発見されている。「多形体」という用語は、固体状態で2種以上の結晶形で存在することが可能である化学化合物の特定の結晶形(すなわち、結晶格子の構造)を指す。   The solid state of a chemical compound can be amorphous (ie, there is no long range order at the position of the atoms) or crystalline (ie, the atoms are arranged in an ordered repeating pattern). Only a single crystal form is known for the solid state of many compounds, but polymorphs have been found for some compounds. The term “polymorph” refers to a specific crystal form of a chemical compound (ie, the structure of a crystal lattice) that can exist in two or more crystal forms in the solid state.

一方、本発明に含まれる化合物Aは有害生物防除剤として有用であることが既に知られている(例えば、特許文献1参照。)。本発明における有害生物防除剤とは、農園芸用分野又は畜産・衛生分野(家畜や愛玩動物としての哺乳動物又は鳥類の内部もしくは外部寄生虫防除剤や家庭用及び業務用の衛生害虫、不快害虫防除剤)等における有害な節足動物を対象とした害虫防除剤を意味する。   On the other hand, it is already known that Compound A included in the present invention is useful as a pest control agent (for example, see Patent Document 1). The pest control agent in the present invention refers to the field of agriculture and horticulture or the field of animal husbandry / hygiene (controlling agent for mammals or birds as domestic animals or pets, or external parasite control agents, hygiene pests and unpleasant pests for household and commercial use. It means a pest control agent for harmful arthropods such as (control agent).

国際公開第2007/026965号International Publication No. 2007/026965

化学化合物の結晶の融点・水溶解度などの物理的特性を予測することは未だに不可能である。さらに、化合物の固体状態が2種以上の結晶形、つまり結晶性多形体で存在し得るかどうかを予測することも不可能である。
本発明の目的は、化合物Aの新規な結晶性多形体を含有する保存安定性の向上した懸濁状組成物を提供することである。
It is still impossible to predict physical properties such as the melting point and water solubility of crystals of chemical compounds. Furthermore, it is not possible to predict whether the solid state of a compound can exist in more than one crystalline form, ie crystalline polymorph.
It is an object of the present invention to provide a suspension composition with improved storage stability containing a novel crystalline polymorph of Compound A.

本発明者らは鋭意検討した結果、化合物Aの新規な結晶性多形体を見出した。また、それら結晶性多形体を特定の重量比率で含有する化合物Aを用いて懸濁状組成物を調製した場合に、該懸濁状組成物の保存安定性が著しく向上することを見出した。
詳細には、(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドは、結晶化操作により、固有の結晶形を有する結晶を生成する。そして、その結晶形の違いにより、下記に述べるI形結晶とII形結晶とが存在することが、今、確認された。なお(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドには、このZ体に対するE体の幾何異性体を含む場合があり、本発明では純粋の上記化合物(Z体)並びにこの共存状態(Z体+E体)の物質を合わせて化合物Aと総称する。そして、化合物Aの結晶のうち、I形結晶の存在割合(含有率)が50乃至100重量%であるとき、化合物Aの結晶及び分散媒を含有する懸
濁状組成物の保存安定性が顕著に向上することが本発明者により見出された。
As a result of intensive studies, the present inventors have found a novel crystalline polymorph of Compound A. It was also found that when a suspension composition was prepared using Compound A containing these crystalline polymorphs in a specific weight ratio, the storage stability of the suspension composition was significantly improved.
Specifically, (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2 -Methylbenzoic acid amide produces crystals with a unique crystal form by a crystallization operation. Due to the difference in crystal form, it has now been confirmed that there are an I-type crystal and an II-type crystal described below. In addition, (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoate Acid amides may contain geometrical isomers of E form relative to Z form. In the present invention, pure A compound (Z form) and the substance in the coexistence state (Z form + E form) are combined with compound A. Collectively. In addition, the storage stability of the suspension composition containing the crystal of the compound A and the dispersion medium is remarkable when the proportion (content) of the I-form crystal in the crystal of the compound A is 50 to 100% by weight. It has been found by the present inventor.

即ち本発明は、特に下記[1]から[3]に関するものである。
[1]
(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドの結晶及び分散媒を含有する懸濁状組成物であって、該結晶のうち、Cu−Kα線による粉末X線回折において、回折角2θ=(7.45±0.2、11.05±0.2、12.79±0.2、15.30±0.2、20.90±0.2、21.89±0.2及び24.32±0.2)にピークを有する結晶形であるI形結晶の含有率が、50乃至100重量%である、懸濁状組成物。
[2]
前記分散媒が、水、又はアルコール、エーテル、ケトン、エステル、酸アミド、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素との混合物、もしくは油脂から選択される有機液体である、[1]記載の懸濁状組成物。
[3]
更に界面活性剤を含有し、且つ、分散媒が水である、[1]又は[2]記載の懸濁状組成物。
なお本願明細書には、下記〔1〕から〔17〕に関する発明も開示する。
〔1〕
Cu−Kα線による粉末X線回折において、回折角2θ=(7.45±0.2、11.05±0.2、12.79±0.2、15.30±0.2、20.90±0.2、21.89±0.2及び24.32±0.2)にピークを有する、(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドのI形結晶と命名された結晶性多形体。
〔2〕
Cu−Kα線による粉末X線回折において、本願図面の図1と実質的に同一の回折曲線を示す〔1〕記載のI形結晶と命名された結晶性多形体。
〔3〕
Cu−Kα線による粉末X線回折において、回折角2θ=(5.00±0.2、9.24±0.2、13.39±0.2、16.45±0.2、19.35±0.2、23.17±0.2及び26.21±0.2)にピークを有する(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドのII形結晶と命名された結晶性多形体。
〔4〕
Cu−Kα線による粉末X線回折において、本願図面の図2と実質的に同一の回折曲線を示す〔3〕記載のII形結晶と命名された結晶性多形体。
〔5〕
上記〔1〕記載のI形結晶の含有率が50乃至100重量%である(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドの結晶性多形体。
〔6〕
上記〔3〕記載のII形結晶の含有率が99.5乃至100重量%である(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドの結晶性多形体。
〔7〕
(a)(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドを溶媒に溶解させた溶液を調製し、
(b)前記溶液を冷却して晶析させる、上記〔1〕記載のI形結晶と命名された結晶性多形体の製造方法。
〔8〕
(a)(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドを溶媒に溶解させた溶液を調製し、
(b)前記溶液を、冷却した溶媒中に滴下することにより晶析させる、上記〔3〕記載のII形結晶と命名された結晶性多形体の製造方法。
〔9〕
上記〔3〕記載のII形結晶を分散媒に懸濁させ、得られた懸濁溶液を静置又は攪拌することを特徴とする、上記〔1〕記載のI形結晶と命名された結晶性多形体の製造方法。
〔10〕
上記〔1〕記載のI形結晶及び分散媒を含有する懸濁状組成物。
〔11〕
上記〔1〕記載のI形結晶、界面活性剤及び分散媒として水を含有する水性懸濁状組成物。
〔12〕
上記〔3〕記載のII形結晶及び分散媒を含有する懸濁状組成物。
〔13〕
上記〔3〕記載のII形結晶、界面活性剤及び分散媒として水を含有する水性懸濁状組成物。
〔14〕
上記〔1〕記載のI形結晶の含有率が50乃至100重量%である(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミド及び分散媒を含有する懸濁状組成物。
〔15〕
更に界面活性剤を含有し、分散媒が水である上記〔14〕記載の懸濁状組成物。
〔16〕
上記〔3〕記載のII形結晶の含有率が99.5乃至100重量%である(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミド及び分散媒を含有する懸濁状組成物。
〔17〕
更に界面活性剤を含有し、分散媒が水である上記〔16〕記載の懸濁状組成物。
That is, the present invention particularly relates to the following [1] to [3].
[1]
(Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid A suspension composition containing an amide crystal and a dispersion medium, wherein a diffraction angle 2θ = (7.45 ± 0.2, 11.05) in powder X-ray diffraction by Cu-Kα ray of the crystal. ± 0.2, 12.79 ± 0.2, 15.30 ± 0.2, 20.90 ± 0.2, 21.89 ± 0.2 and 24.32 ± 0.2) A suspension composition in which the content of Form I crystals is 50 to 100% by weight.
[2]
The dispersion medium is water or an organic liquid selected from alcohols, ethers, ketones, esters, acid amides, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, mixtures of aromatic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons, or oils and fats. The suspension composition according to [1].
[3]
The suspension composition according to [1] or [2], further comprising a surfactant and the dispersion medium is water.
The present specification also discloses inventions related to the following [1] to [17].
[1]
In powder X-ray diffraction by Cu—Kα ray, diffraction angles 2θ = (7.45 ± 0.2, 11.05 ± 0.2, 12.79 ± 0.2, 15.30 ± 0.2, 20. (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl- having peaks at 90 ± 0.2, 21.89 ± 0.2 and 24.32 ± 0.2) A crystalline polymorph designated as Form I crystal of 4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid amide.
[2]
A crystalline polymorph designated as Form I crystal according to [1], which shows a diffraction curve substantially the same as FIG. 1 of the present application in powder X-ray diffraction by Cu-Kα rays.
[3]
In powder X-ray diffraction by Cu—Kα ray, diffraction angles 2θ = (5.00 ± 0.2, 9.24 ± 0.2, 13.39 ± 0.2, 16.45 ± 0.2, 19. (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4 having peaks at 35 ± 0.2, 23.17 ± 0.2 and 26.21 ± 0.2) , 5-Dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid amide, a crystalline polymorph designated as Form II crystals.
[4]
A crystalline polymorph designated as type II crystal according to [3], which shows substantially the same diffraction curve as FIG. 2 of the drawings of the present application in powder X-ray diffraction by Cu—Kα ray.
[5]
(Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxa, wherein the content of the I-form crystal described in [1] is 50 to 100% by weight Zol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid amide crystalline polymorph.
[6]
(Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydro, which contains 99.5 to 100% by weight of the type II crystal described in [3] above Crystalline polymorph of isoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid amide.
[7]
(A) (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2- Prepare a solution of methylbenzoic acid amide in a solvent,
(B) A method for producing a crystalline polymorph designated as type I crystal according to the above [1], wherein the solution is cooled and crystallized.
[8]
(A) (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2- Prepare a solution of methylbenzoic acid amide in a solvent,
(B) A method for producing a crystalline polymorph designated as type II crystal according to the above [3], wherein the solution is crystallized by dropping into a cooled solvent.
[9]
Crystallinity named as Form I crystal according to [1] above, wherein Form II crystal according to [3] is suspended in a dispersion medium, and the obtained suspension solution is allowed to stand or stir. Polymorph manufacturing method.
[10]
A suspension composition containing the I-form crystal of [1] and a dispersion medium.
[11]
An aqueous suspension composition containing water as a I-form crystal, a surfactant and a dispersion medium as described in [1] above.
[12]
A suspension composition containing the type II crystal and the dispersion medium as described in [3] above.
[13]
An aqueous suspension composition containing water as a type II crystal, a surfactant and a dispersion medium as described in [3] above.
[14]
(Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxa, wherein the content of the I-form crystal described in [1] is 50 to 100% by weight Zol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid amide and a suspension composition containing a dispersion medium.
[15]
The suspended composition according to [14], further containing a surfactant and the dispersion medium being water.
[16]
(Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydro, which contains 99.5 to 100% by weight of the type II crystal described in [3] above A suspension composition comprising isoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid amide and a dispersion medium.
[17]
The suspended composition according to the above [16], further comprising a surfactant and the dispersion medium being water.

本発明によれば、化合物Aの結晶性多形体を制御することが可能となる。また、本発明の化合物Aを含有する懸濁状組成物は保存安定性が良好であり、経時的に化合物Aの懸濁粒子が成長することが抑制され、その結果、化合物Aの懸濁粒子の成長に起因する有害生物防除活性の低下の問題も生じない。   According to the present invention, the crystalline polymorph of compound A can be controlled. In addition, the suspension composition containing the compound A of the present invention has good storage stability, and the suspension particles of the compound A are prevented from growing over time. The problem of a decrease in pest control activity due to the growth of the plant does not occur.

I形結晶の粉末X線回折チャートを示す。2 shows a powder X-ray diffraction chart of type I crystal. II形結晶の粉末X線回折チャートを示す。2 shows a powder X-ray diffraction chart of type II crystal. 例4において、製造直後の水性懸濁状農薬組成物から取り出した化合物Aの乾燥物の粉末X線回折チャートを示す。In Example 4, the powder X-ray-diffraction chart of the dried compound A taken out from the aqueous suspension agricultural chemical composition immediately after manufacture is shown. 例17において、製造直後の水性懸濁状農薬組成物から取り出した化合物Aの乾燥物の粉末X線回折チャートを示す。In Example 17, the powder X-ray-diffraction chart of the dried compound A taken out from the aqueous suspension agricultural chemical composition immediately after manufacture is shown.

化合物Aは、(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドである。
化合物Aの分子構造は、2種の異なる立体異性体(すなわち、エナンチオマー)として存在することが可能である。しかしながら、本発明は、これらの2種の可能なエナンチオマーを等しい量で含む化合物Aのラセミ混合物に関する。
Compound A is (Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2 -Methylbenzoic acid amide.
The molecular structure of Compound A can exist as two different stereoisomers (ie enantiomers). However, the present invention relates to a racemic mixture of Compound A comprising equal amounts of these two possible enantiomers.

また化合物Aには、イミノメチル構造に由来するE体の幾何異性体を含む場合がある。幾何異性体の比率としては(Z体:E体)=80:20乃至100:0、好ましくは(Z体:E体)=90:10乃至100:0、さらに好ましくは(Z体:E体)=95:5乃至99.5:0.5、より好ましくは(Z体:E体)=96:4乃至99.5:0.5、最も好ましくは(Z体:E体)=97:3乃至99.5:0.5が挙げられる。   In addition, Compound A may contain an E geometric isomer derived from an iminomethyl structure. The ratio of geometric isomers (Z-form: E-form) = 80: 20 to 100: 0, preferably (Z-form: E-form) = 90: 10 to 100: 0, more preferably (Z-form: E-form) ) = 95: 5 to 99.5: 0.5, more preferably (Z form: E form) = 96: 4 to 99.5: 0.5, most preferably (Z form: E form) = 97: 3 to 99.5: 0.5.

化合物AのI形結晶とII形結晶の特徴として、粉末X線回折ピークを第1表に示す。

Figure 0006566217
なお、第1表に記載したI形結晶のピーク値は、以下の実施例に記載の方法に準じて得られた7つのロットのI形結晶のピーク値の平均値である。
また、第1表に記載したII形結晶のピーク値は、I形結晶と同様に、6つのロットのII形結晶のピーク値の平均値である。 Table 1 shows the powder X-ray diffraction peaks as the characteristics of Compound I Form I and Form II crystals.
Figure 0006566217
In addition, the peak value of the I-form crystal described in Table 1 is an average value of the peak values of the 7 lot I-form crystals obtained according to the method described in the following examples.
Moreover, the peak value of the II type crystal described in Table 1 is the average value of the peak values of the six lots of the II type crystal as in the case of the I type crystal.

また、粉末X線回折ピークの誤差としては、通常±0.2、場合により±0.1を取りえるので、誤差を考慮したI形結晶のピーク値は通常2θ=7.45±0.2、11.05±0.2、12.79±0.2、15.30±0.2、20.90±0.2、21.89±0.2、24.32±0.2であり、場合により2θ=7.45±0.1、11.05±0.1、12.79±0.1、15.30±0.1、20.90±0.1、21.89±0.1、24.32±0.1である。   Further, the error of the powder X-ray diffraction peak can be usually ± 0.2, and in some cases ± 0.1, so that the peak value of the I-type crystal considering the error is usually 2θ = 7.45 ± 0.2. 11.05 ± 0.2, 12.79 ± 0.2, 15.30 ± 0.2, 20.90 ± 0.2, 21.89 ± 0.2, 24.32 ± 0.2 2θ = 7.45 ± 0.1, 11.05 ± 0.1, 12.79 ± 0.1, 15.30 ± 0.1, 20.90 ± 0.1, 21.89 ± 0 .1, 24.32 ± 0.1.

また誤差を考慮したII形結晶のピーク値は通常2θ=5.00±0.2、9.24±0.2、13.39±0.2、16.45±0.2、19.35±0.2、23.17±0.2、26.21±0.2であり、場合により2θ=5.00±0.1、9.24±0.1、13.39±0.1、16.45±0.1、19.35±0.1、23.17±0.1、26.21±0.1である。   In addition, the peak values of type II crystals in consideration of errors are usually 2θ = 5.00 ± 0.2, 9.24 ± 0.2, 13.39 ± 0.2, 16.45 ± 0.2, 19.35. ± 0.2, 23.17 ± 0.2, 26.21 ± 0.2, and in some cases 2θ = 5.00 ± 0.1, 9.24 ± 0.1, 13.39 ± 0.1 16.45 ± 0.1, 19.35 ± 0.1, 23.17 ± 0.1, 26.21 ± 0.1.

〔粉末X線回折〕
機種名:X‘PERT−PRO MPD(スペクトリス株式会社)
測定法:透過法
X線:Cu−Kα 電圧:45kV
電流:40mA
サンプリング間隔:0.026deg
データ範囲:2θ=2乃至40deg
[Powder X-ray diffraction]
Model name: X'PERT-PRO MPD (Spectris Co., Ltd.)
Measurement method: Transmission method X-ray: Cu-Kα Voltage: 45 kV
Current: 40 mA
Sampling interval: 0.026 deg
Data range: 2θ = 2 to 40 deg

化合物AのI形結晶は、以下の方法で製造することができる。化合物Aを溶媒に加温して溶解し、得られた溶液を除々に冷却して結晶化させる方法、又は、得られた溶液から溶媒を留去して結晶化させる方法により化合物AのI形結晶が得られる。用いる溶媒としては、化合物Aに対して不活性な溶媒であればよく、例えば、ジエチルエ−テル、メチル−t−ブチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、エチレングリコ−ルジエチルエ−テル、エチレングリコ−ルジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、1,4−ジオキサン等のエ−テル系溶媒、メタノ−ル、エタノ−ル、1−プロパノ−ル、2−プロパノ−ル、1−ブタノ−ル、2−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、2−メチル−2−プロパノ−ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、i−プロピルセロソルブ、ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノブチルエ−テル、シクロヘキサノ−ル、ベンジルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタリン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素等の尿素系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含イオウ系極性溶媒、ピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリン、5−エチル−2−ピコリン等のピリジン系溶媒などを用いることができ、これらの溶媒は単独又は2種類以上を混合して用いることができる。これらの溶媒の中では、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒又はニトリル系溶媒が好ましく、さらにヘプタン、キシレン、トルエン又はアセトニトリルがより好ましい。   The Form I crystal of Compound A can be produced by the following method. Compound A is dissolved in a solvent by heating and the resulting solution is gradually cooled and crystallized, or by distilling off the solvent from the resulting solution and crystallizing. Crystals are obtained. The solvent to be used may be any solvent inert to the compound A. For example, diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxymethane, diethoxymethane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene Ether systems such as glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, 1,4-dioxane, etc. Solvent, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, isobutanol, 2-methyl-2-propanol, methyl cellosolve , Ethyl cellosolve, i-propyl cellosol , Alcohol solvents such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, cyclohexanol, benzyl alcohol, pentane, hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, heptane, octane, decane Aliphatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, nitrobenzene, tetrahydronaphthalene, etc., acetonitrile, propionitrile Nitrile solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and ethyl propionate, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1 Halogenated hydrocarbon solvents such as 2-trichloroethane, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethylimidazolidinone, N, N, N Urea solvents such as', N'-tetramethylurea, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, pyridine such as pyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline and 5-ethyl-2-picoline A system solvent etc. can be used and these solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types. Among these solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents or nitrile solvents are preferable, and heptane, xylene, toluene or acetonitrile is more preferable.

用いる溶媒の使用量は、化合物Aの1重量部に対して、通常0.5乃至50重量部であり、好ましくは1乃至30重量部である。   The amount of the solvent to be used is usually 0.5 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight with respect to 1 part by weight of Compound A.

化合物Aを溶媒に溶解させる温度は、通常30乃至150℃であり、好ましくは30乃至100℃である。   The temperature at which compound A is dissolved in the solvent is usually 30 to 150 ° C., preferably 30 to 100 ° C.

冷却する速度は、通常0.1乃至40℃/時であり、好ましくは1乃至30℃/時であり、随時、上記範囲内で任意の冷却速度に変更することができる。   The cooling rate is usually 0.1 to 40 ° C./hour, preferably 1 to 30 ° C./hour, and can be changed to any cooling rate within the above range as needed.

析出した結晶を取り出す時の溶液の温度は、通常−30乃至50℃であり、好ましくは、−20乃至30℃である。   The temperature of the solution when taking out the precipitated crystals is usually −30 to 50 ° C., preferably −20 to 30 ° C.

晶析に要する時間は、通常0.1乃至100時間であり、好ましくは、1乃至50時間である。   The time required for crystallization is usually 0.1 to 100 hours, preferably 1 to 50 hours.

また、溶媒を留去する場合、大気圧下で溶媒の沸点以上まで加熱することにより留去することができる。また容器内の減圧度を調節することにより、減圧下での溶媒沸点までの任意の温度で溶媒を留去することができる。   Moreover, when distilling a solvent off, it can distill off by heating to the boiling point or more of a solvent under atmospheric pressure. Moreover, the solvent can be distilled off at an arbitrary temperature up to the boiling point of the solvent under reduced pressure by adjusting the degree of vacuum in the container.

化合物AのII形結晶は、以下の方法で製造することができる。化合物Aを溶媒に加温して溶解し、得られた溶液を急速に冷却して結晶化させる方法、化合物Aを溶媒に加温して溶解し、得られた化合物Aの溶液を低温の溶媒中に滴下して結晶化させる方法、又は、化合物Aを溶媒に加温して溶解し、そこに低温の溶媒を滴下する方法により、化合物AのII形結晶が得られる。化合物Aの溶液を調製する際に用いることができる溶媒としては、化合物Aに対して不活性な溶媒であればよく、例えば、ジエチルエ−テル、メチル−t−ブチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、エチレングリコ−ルジエチルエ−テル、エチレングリコ−ルジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、1,4−ジオキサン等のエ−テル系溶媒、メタノ−ル、エタノ−ル、1−プロパノ−ル、2−プロパノ−ル、1−ブタノ−ル、2−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、2−メチル−2−プロパノ−ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、i−プロピルセロソルブ、ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノブチルエ−テル、シクロヘキサノ−ル、ベンジルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタリン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素等の尿素系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含イオウ系極性溶媒、ピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリン、5−エチル−2−ピコリン等のピリジン系溶媒などを用いることができ、これらの溶媒は単独又は2種類以上を混合して用いることができる。これらの溶媒の中では、芳香族炭化水素系溶媒、ニトリル系溶媒又はエステル系溶媒が好ましく、さらにキシレン、トルエン、アセトニトリル、酢酸エチル又は酢酸ブチルがより好ましい。   Form II crystals of Compound A can be produced by the following method. A method in which compound A is heated and dissolved in a solvent, and the resulting solution is rapidly cooled to crystallize. A compound A is heated and dissolved in a solvent, and the resulting solution of compound A is dissolved in a low-temperature solvent. Form II of crystals of compound A is obtained by a method in which the solution is dropped and crystallized, or a method in which compound A is heated and dissolved in a solvent and a low-temperature solvent is dropped therein. The solvent that can be used in preparing the solution of Compound A may be any solvent that is inert with respect to Compound A. For example, diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxymethane, Diethoxymethane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether Ether solvents such as 1,4-dioxane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, isobutanol, 2-methyl-2-propanol, methyl cellosolve Alcohol solvents such as ethyl cellosolve, i-propyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, cyclohexanol, benzyl alcohol, pentane, hexane, cyclohexane, methyl Aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, heptane, octane and decane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, nitrobenzene, tetrahydronaphthalene Solvents, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl propionate, methylene chloride, chloroform, Halogenated hydrocarbon solvents such as carbonized carbon, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, 1 , 3-dimethylimidazolidinone, urea solvents such as N, N, N ′, N′-tetramethylurea, sulfur-containing polar solvents such as dimethylsulfoxide and sulfolane, pyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4 Pyridine solvents such as -picoline and 5-ethyl-2-picoline can be used, and these solvents can be used alone or in admixture of two or more. Among these solvents, aromatic hydrocarbon solvents, nitrile solvents or ester solvents are preferable, and xylene, toluene, acetonitrile, ethyl acetate or butyl acetate is more preferable.

化合物Aを溶解させる溶媒の使用量は、化合物Aの1重量部に対して、通常0.5乃至50重量部であり、好ましくは、1乃至30重量部である。   The amount of the solvent used for dissolving Compound A is usually 0.5 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight with respect to 1 part by weight of Compound A.

また、低温の溶媒としては、化合物Aに対して不活性な溶媒であれば良く、例えば、ジエチルエ−テル、メチル−t−ブチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、エチレングリコ−ルジエチルエ−テル、エチレングリコ−ルジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、1,4−ジオキサン等のエ−テル系溶媒、メタノ−ル、エタノ−ル、1−プロパノ−ル、2−プロパノ−ル、1−ブタノ−ル、2−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、2−メチル−2−プロパノ−ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、i−プロピルセロソルブ、ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノブチルエ−テル、シクロヘキサノ−ル、ベンジルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素
系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、テトラヒドロナフタリン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N,N,N’,N’−テトラメチル尿素等の尿素系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含イオウ系極性溶媒、ピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリン、5−エチル−2−ピコリン等のピリジン系溶媒などを用いることができ、これらの溶媒は単独又は2種類以上を混合して用いることができる。これらの溶媒の中では、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒又はニトリル系溶媒が好ましく、さらにヘプタン、キシレン、トルエン又はアセトニトリルがより好ましい。また該低温の溶媒は、化合物を溶解する溶媒と同一であっても、相異なっていても良い。
The low-temperature solvent may be any solvent that is inert with respect to Compound A. For example, diethyl ether, methyl t-butyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxymethane, diethoxymethane, ethylene glycol dimethyl ether Ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, 1,4-dioxane, etc. -Tel solvents, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, isobutanol, 2-methyl-2-propanol , Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, i-propyl cell Alcohol solvents such as sorb, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, cyclohexanol, benzyl alcohol, pentane, hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, heptane, octane, Aliphatic hydrocarbon solvents such as decane, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, p-dichlorobenzene, nitrobenzene, tetrahydronaphthalene, acetonitrile, propio Nitrile solvents such as nitrile, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, , 1,2-trichloroethane and other halogenated hydrocarbon solvents, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and other amide solvents, 1,3-dimethylimidazolidinone, N, Urea solvents such as N, N ′, N′-tetramethylurea, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide, sulfolane, pyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline, 5-ethyl-2-picoline A pyridine-based solvent such as these can be used, and these solvents can be used alone or in admixture of two or more. Among these solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents or nitrile solvents are preferable, and heptane, xylene, toluene or acetonitrile is more preferable. The low-temperature solvent may be the same as or different from the solvent that dissolves the compound.

低温の溶媒を用いる場合の使用量は、化合物Aの1重量部に対して、通常1乃至100重量部であり、好ましくは、5乃至50重量部である。   The amount used in the case of using a low-temperature solvent is usually 1 to 100 parts by weight, preferably 5 to 50 parts by weight with respect to 1 part by weight of Compound A.

化合物Aを含有する溶液を急速に冷却する時の速度は、通常40℃/時以上である。   The rate at which the solution containing Compound A is rapidly cooled is usually 40 ° C./hour or more.

低温の溶媒の温度は、通常−30乃至50℃であり、好ましくは−20乃至30℃である。   The temperature of the low temperature solvent is usually −30 to 50 ° C., preferably −20 to 30 ° C.

析出した結晶を取り出す際の溶液の温度は、通常−30乃至50℃であり、好ましくは−20乃至30℃である。   The temperature of the solution when taking out the precipitated crystals is usually −30 to 50 ° C., preferably −20 to 30 ° C.

また、化合物AのI形結晶は、以下に記載した方法に準じて、化合物AのII形結晶を転化させることにより得ることができる。   Further, the Form I crystal of Compound A can be obtained by converting the Form II crystal of Compound A according to the method described below.

(1)懸濁液法:
II形結晶を含有する固体状態の化合物Aを分散媒に仕込み、得られた懸濁液を一定時間静置又は撹拌することにより、化合物AのI形結晶が得られる。分散媒としては、上記したI形結晶の製造で用いる溶媒を用いることができる。これらの分散媒の中では、芳香族炭化水素類又はニトリル類が好ましく、キシレン、トルエン又はアセトニトリルが特に好ましい。静置又は攪拌時の懸濁液の温度は通常−20乃至100℃である。純度の高いI形結晶を得るためには静置又は攪拌時間は長い程よく、通常1時間以上静置又は攪拌する。
(2)晶析法+懸濁液法:
上記晶析法において、化合物AのI形結晶とII形結晶の混合物が得られた場合には、得られた懸濁液を一定時間静置又は撹拌することにより、I形結晶に転化させることができる。
(3)加熱法:
II形結晶を含有する固体状態の化合物Aを加温することにより、I形結晶に転化させることができる。加温方法としては、高温不活性気体と接触による方法、加熱装置が装着された混合機で混合する方法が挙げられる。また、化合物AのII形結晶又はII形結晶とI形結晶の混合物の懸濁液を加熱することによっても、I形結晶に転化させることができる。
(4)湿式粉砕法:
化合物AのII形結晶を含有する固体の懸濁液を湿式粉砕することにより、I形結晶に転化させることができる。湿式粉砕機としては、インラインミル又はビーズミル等を用いることができる。
(5)乾式粉砕法:
化合物AのII形結晶を含有する固体を乾式粉砕することにより、I形結晶に転化させることができる。乾式粉砕機としては、ハンマーミル、ピンミル、ジェットミル、ボールミル又はロールミル等を用いることができる。
化合物AのI形結晶又はII形結晶は、それぞれ、製剤安定性の向上だけでなく、活性の向上や取り扱いのしやすさの向上等の技術的な特徴を有する。
(1) Suspension method:
A solid form of compound A containing Form II crystals is charged into a dispersion medium, and the resulting suspension is allowed to stand or stir for a certain period of time to obtain Form I crystals of Compound A. As the dispersion medium, the solvent used in the production of the above-mentioned type I crystal can be used. Among these dispersion media, aromatic hydrocarbons or nitriles are preferable, and xylene, toluene, or acetonitrile is particularly preferable. The temperature of the suspension during standing or stirring is usually -20 to 100 ° C. In order to obtain high-purity type I crystals, the standing or stirring time is preferably as long as possible. Usually, the standing or stirring is performed for 1 hour or longer.
(2) Crystallization method + suspension method:
In the above crystallization method, when a mixture of Form I and Form II crystals of Compound A is obtained, the resulting suspension is converted to Form I crystals by standing or stirring for a certain period of time. Can do.
(3) Heating method:
By heating Compound A in solid state containing Form II crystals, it can be converted to Form I crystals. Examples of the heating method include a method by contact with a high-temperature inert gas, and a method of mixing with a mixer equipped with a heating device. It can also be converted to Form I crystals by heating a suspension of Compound A Form II crystals or a mixture of Form II crystals and Form I crystals.
(4) Wet grinding method:
A solid suspension containing Compound A Form II crystals can be converted to Form I crystals by wet milling. As the wet pulverizer, an in-line mill or a bead mill can be used.
(5) Dry grinding method:
A solid containing Compound II Form II crystals can be converted to Form I crystals by dry milling. As the dry pulverizer, a hammer mill, a pin mill, a jet mill, a ball mill, a roll mill, or the like can be used.
Each of the Form I crystals and Form II crystals of Compound A has technical characteristics such as not only improvement in formulation stability but also improvement in activity and ease of handling.

次に、本発明の化合物AのI形結晶又はII形結晶を含有する懸濁状組成物(以下、本発明組成物と称する。)について詳しく説明する。   Next, a suspension composition containing Form I or Form II crystals of Compound A of the present invention (hereinafter referred to as the present composition) will be described in detail.

本発明組成物は、その分散媒として水又は化合物Aが溶解し難い有機液体を用いることができる。該有機液体としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール及びイソプロパノール等のアルコール類、ブチルセロソルブ等のエーテル、シクロヘキサノン等のケトン、γ−ブチロラクトン等のエステル、N−メチルピロリドン及びN−オクチルピロリドン等の酸アミド、キシレン、アルキルベンゼン、フェニルキシリルエタン及びアルキルナフタレン等の芳香族炭化水素、マシン油、ノルマルパラフィン、イソパラフィン及びナフテン等の脂肪族炭化水素、ケロシン等の芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素の混合物、大豆油、アマニ油、ナタネ油、ヤシ油、綿実油及びヒマシ油等の油脂が挙げられる。   In the composition of the present invention, an organic liquid in which water or compound A is hardly dissolved can be used as the dispersion medium. Examples of the organic liquid include alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and isopropanol, ethers such as butyl cellosolve, ketones such as cyclohexanone, esters such as γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone and N-octyl. Acid amides such as pyrrolidone, aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene, phenylxylylethane and alkylnaphthalene, aliphatic hydrocarbons such as machine oil, normal paraffin, isoparaffin and naphthene, aromatic hydrocarbons such as kerosene and aliphatic Fats and oils such as a mixture of hydrocarbons, soybean oil, linseed oil, rapeseed oil, coconut oil, cottonseed oil and castor oil can be mentioned.

化合物AのI形結晶及び/又はII形結晶の含有量は、本発明組成物100重量部に対して、通常0.1乃至50重量部、より好ましくは1乃至30重量部である。   The content of Form I crystals and / or Form II crystals of Compound A is usually 0.1 to 50 parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight, per 100 parts by weight of the composition of the present invention.

化合物AのI形結晶を含有する懸濁状組成物は、化合物Aの懸濁粒子の経時的な成長が抑制される。また、I形結晶の含有率が50乃至100重量%である化合物Aを含有する懸濁状組成物も、化合物Aの懸濁粒子の経時的な成長が抑制される。   The suspension composition containing Compound I form I crystals suppresses the growth of Compound A suspension particles over time. In addition, the suspension composition containing Compound A having a content of Form I crystals of 50 to 100% by weight also suppresses the growth of Compound A suspension particles over time.

化合物AのII形結晶を含有する懸濁状組成物は、化合物Aの懸濁粒子の経時的な成長が抑制される。また、II形結晶の含有率が99.9乃至100重量%である化合物Aを含有する懸濁状組成物も、化合物Aの懸濁粒子の経時的な成長が抑制される。   In the suspension composition containing Compound A type II crystals, the growth of the suspended particles of Compound A over time is suppressed. In addition, the suspension composition containing Compound A having a content of Form II crystals of 99.9 to 100% by weight also suppresses the growth of suspended particles of Compound A over time.

本発明組成物はまた、化合物A以外に、更にもう1種以上の公知の農薬、例えば除草剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、抗ウイルス剤、植物成長調節剤、殺菌剤、共力剤、誘引剤及び忌避剤などを含有することもでき、この場合には一層優れた防除効果を示すことがある。公知の農薬として、特に好ましいものは、殺菌剤、殺バクテリア剤、殺線虫剤、殺ダニ剤及び殺虫剤である。具体的にその一般名を例示すれば以下の通りであるが、必ずしもこれらのみに限定されるものではない。   In addition to Compound A, the composition of the present invention may also contain one or more other known agricultural chemicals such as herbicides, insecticides, acaricides, nematicides, antiviral agents, plant growth regulators, fungicides, A synergist, an attractant, a repellent, and the like may be contained, and in this case, a more excellent control effect may be exhibited. Particularly preferred as known agrochemicals are fungicides, bactericides, nematicides, acaricides and insecticides. Specific examples of common names are as follows, but the general names are not necessarily limited thereto.

殺菌剤:アシベンゾラルーS−メチル(acibenzolar-S-methyl)、アシルアミノベンザミド(acylaminobenzamide)、アシペタックス(acypetacs)、アルジモルフ(aldimorph) 、アメトクトラジン(ametoctradin)、アミスルブロム(amisulbrom)、アンバム(amobam)、アムプロピルホス(ampropyfos)、アニラジン(anilazine)、アザコナゾール(azaconazole)、アジチラム(azithiram)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、バリウムポリサルファイド(bariumpolysulfide)、ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル−M(benalaxyl-M)、ベノダニル(benodanil)、ベノミル(benomyl)、ベンキノックス(benquinox)、ベンタルロン(bentaluron)、ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、ベンチアゾール(benthiazole)、ベンザマクリル(benzamacril)、ベンズアモルフ(benzamorf)、ベトキサジン(bethoxazine)、ビナパクリル(binapacryl)、ビフェニル(biphenyl)、ビテルタノール(bitertanol)、ブラストサイジン−S(blasticidin-S)、ビキサフェン(bixafen)、ボルドー液(bordeaux mixture)、ボスカリド(boscalid)、ブロモコナゾ
ール(bromoconazole)、ブピリメート(bupirimate)、ブチオベート(buthiobate)、石灰硫黄合剤(calcium polysulfide)、カルシウムポリスルフィド(calciumpolysulfide)、キャプタフォール(captafol)、キャプタン(captan)、カルプロパミド(carpropamid)、カルバモルフ(carbamorph)、カルベンダジン(carbendazim)、カルボキシン(carboxin)、カルボン(carvone)、チェシュントミクスチャ(cheshunt mixture)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロベンチアゾン(chlobenthiazone)、クロラニフォルメタン(chloraniformethane)、クロラニル(chloranil)、クロルフェナゾール(chlorfenazol)、クロロネブ(chloroneb)、クロロピクリン(chloropicrin)、クロロタロニル(chlorothalonil)、クロロキノックス(chlorquinox)、クロゾリネート(chlozolinate)、クリムバゾール(climbazole)、クロトリマゾール(clotrimazole)、カッパーアセテイト(copper acetate)、塩基性炭酸銅(copper carbonate, basic)、水酸化第二銅(copperhydroxide)、カッパーナフタレン(copper naphthenate)、カッパーオルアイト(copperoleate)、カッパーオキシクロリド(copperoxychloride)、硫酸銅(copper sulfate)、塩基性硫酸銅(copper sulfate, basic)、カッパージンククロメイト(copperzincchromate)、クフラネブ(cufraneb)、クプロバム(cuprobam)、シアゾファミド(cyazofamid)、シクラフルアミド(cyclafuramid)、シクロヘキシミド(cycloheximide)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、シモキサニル(cymoxanil)、サイペンダゾール(cypendazole)、シプロコナゾール(cyproconazol)、シプロジニル(cyprodinil)、シプロフラム(cyprofuram)、ダゾメット(dazomet)、デバカルブ(debacarb)、デカフェンチン(decafentin)、デハイドロアセテイト(dehydroacetic acid)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、ジクロン(dichlone)、ジクロロフェン(dichlorophen)、ジクロゾリン(dichlozoline)、ジクロブトラゾール(diclobutrazol)、ジクロシメット(diclocymet)、ジクロメジン(diclomedine)、ジクロラン(dicloran)など。
Bactericides: acibenzolar-S-methyl, acylaminobenzamide, acypetacs, aldimorph, ametoctradin, amisulbrom, amobam, ampropyl Phos (ampropyfos), anilazine, azaconazole, azithiram, azoxystrobin, barium polysulfide, benalaxyl, benalaxyl-M (benalaxyl-M), benodanil, benomyl, benquinox, bentaluron, benthiavalicarb, benthiazole, benzamacril, benzamorf, bethoxazine, benaxal, (Binapacryl), Biphenyl, bitertanol, blasticidin-S, bixafen, bordeaux mixture, boscalid, bromoconazole, bupirimate, buthiobate (Buthiobate), calcium polysulfide, calcium polysulfide, captafol, captan, carpropamid, carbamorph, carbendazim, carboxin ( carboxin, carvone, cheshunt mixture, chinomethionat, clobenthiazone, chloraniformethane, chloranil, chlorfenazol, chloronebu (Chl oroneb), chloropicrin, chlorothalonil, chlorquinox, chlozolinate, climbazole, clotrimazole, copper acetate, basic copper carbonate (copper carbonate, basic), cupric hydroxide, copper naphthenate, copper oleite, copper oxychloride, copper sulfate, basic copper sulfate sulfate, basic), copperzincchromate, cufraneb, cuprobam, cyazofamid, cyclafuramid, cycloheximide, cyflufenamid, cymoxanil, cymoxanil Cypendazole, cyproconaz ol), cyprodinil, cyprofuram, dazomet, debacarb, decaentin, dehydroacetic acid, dichlofluanid, dichlone, Dichlorophen, dichlozoline, diclobutrazol, diclocymet, diclomedine, dicloran, etc.

殺菌剤(続き):ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジフルメトリン(diflumetorim)、ジメチリモール(dimethirimol)、ジメトモルフ(dimethomorph)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾール−M(diniconazole-M)、ジノブトン(dinobuton)、ジノカップ(dinocap)、ジノカップ−4(dinocap-4)、ジノカップ−6(dinocap-6)、ジノクトン(dinocton)、ジノスルフォン(dinosulfon)、ジノテルボン(dinoterbon)、ジフェニルアミン(diphenylamine)、ジピリチオン(dipyrithione)、ジタリムホス(ditalimfos)、ジチアノン(dithianon)、ドデモルフ(dodemorph)、ドジン(dodine)、ドラゾクソロン(drazoxolon)、エデフェノホス(edifenphos)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾール(etaconazole)、エタボキサム(ethaboxam)、エテム(etem)、エチリモル(ethirimol)、エトキシキン(ethoxyquin)、エトリジアノール(etridiazole)、ファモキサゾン(famoxadone)、フェナリモル(fenarimol)、フェブコナゾール(febuconazole)、フェナミドン(fenamidone)、フェナミノスルフ(fenaminosulf)、フェナパニル(fenapanil)、フェンダゾスラム(fendazosulam)、フェンフラム(fenfuram)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、フェニトロパン(fenitropan)、フェノキサニル(fenoxanil)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フェンプロピジン(fenpropidin)、フェンピラザミン(fenpyrazamine)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、フェンチン(fentin)、フェルバン(ferbam)、フェリムゾン(ferimzone)、フルアジナム(fluazinam)、フルジオキソニル(fludioxonil)、フルメトベル(flumetover)、フルモルフ(flumorph)、フルオピコリド(fluopicolide)、フルオピラム(fluopyram)、フルオロイミド(fluoroimide)、フルオトリマゾール(fluotrimazole)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルスルファミド(flusulfamide)、フルチアニル(flutianil)、フルトラニル(flutolanil)、フルトリアフォール(flutriafol)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フォルペット(folpet)、フォセチル−アルミニウム(fosetyl-aluminium)、フベリダゾール(fuberidazole)、フララキシル(furalaxyl)、フラメトピル(furametpyr)、フル
カルバニル(furcarbanil)、フルコナゾール(furconazole)、フルコナゾール−シス(furconazole-cis)、フルメシクロックス(furmecyclox)、フルファネート(furphanate)、グリオジン(glyodin)、グリセオフルビン(griseofulvin)、グアザチン(guazatine)、ハラクリネイト(halacrinate)、ヘキサクロロベンゼン(hexachlorobenzene)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、ヘキシルチオフォス(hexylthiofos)、ハイドロキシキノリン サルフェイト(8-hydroxyquinoline sulfate)、ヒメキサゾール(hymexazol)、イマザリル(imazalil)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イミノクタジン(iminoctadine)、イプコナゾール(ipconazole)、イプロベンホス(iprobenfos)、イプロジオン(iprodione)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、イソバレジオン(isovaledione)など。
Bactericides (continued): diethofencarb, difenoconazole, diflumetorim, dimethirimol, dimethomorph, dimoxystrobin, diniconazole-M, diniconazole-M, diniconazole-M M), dinobuton, dinocap, dinocap-4, dinocap-6, dinoton, dinosulfon, dinoterbon, diphenylamine ), Dipyrithione, ditalimfos, dithianon, dodemorph, dodine, drazoxolon, edifenphos, epoxiconazole, etaconazole, etaconazole Xham (ethaboxam), etem, etirimol, ethoxyquin, etridianol, famoxadone, fenarimol, febuconazole, fenamidone, phenaminosulf ), Fenapanil, fendazosulam, fenfuram, fenhexamid, fenitropan, fenoxanil, fenpiclonil, fenpropidin, fenpyrazamine (fenpyrazamine), fenpropimorph, fentin, ferbam, ferimzone, fluazinam, fludioxonil, flumetover, flumorph, full Fluopicolide, fluopyram, fluoroimide, fluotrimazole, fluoxastrobin, fluquinconazole, flusilazole, flusulfamide, fluthianyl (fluoxanil) flutianil), flutolanil, flutriafol, fluxapyroxad, folpet, fosetyl-aluminium, fuberidazole, fluralaxyl, flametopyr ( furametpyr), furcarbanil, furconazole, fluconazole-cis, furmecyclox, furphanate, furyonate, glyodin, griseofulvin, guazachi (Guazatine), halacrinate, hexachlorobenzene, hexaconazole, hexylthiofos, hydroxyquinoline sulfate, hymexazol, imazalil, Imibenconazole, iminoctadine, ipconazole, iprobenfos, iprodione, iprovalicarb, isoprothiolane, isovaledione, etc.

殺菌剤(続き):カスガマイシン(kasugamycin)、クレソキシム−メチル(kresoxim-methyl)、マンカッパー(mancopper)、マンコゼブ(mancozeb)、マンジプロパミド(mandipropamid)、マンネブ(maneb)、メベニル(mebenil)、メカルビンジド(mecarbinzid)、メパニピリム(mepanipyrim)、メプロニル(mepronil)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル−M(metalaxyl-M)、メタム(metam)、メタゾキソロン(metazoxolon)、メトコナゾール(metconazole)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、メトフロキサム(methfuroxam)、メチルイソチオシアネイト(methyl isothiocyanate)、メチラム(metiram)、メトミノストロビン(metominostrobin)、メトラフェノン(metrafenone)、メトスルフォバックス(metsulfovax)、ミルネブ(milneb)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ミクロゾリン(myclozolin)、ナバム(nabam)、ナタマイシン(natamycin)、ニッケルビス(ジメチルジチオカーバメート)(nickel bis(dimethyldithiocarbamate))、ニトロスチレン(nitrostyrene)、ニトロタール−イソプロピル(nitrothal-isopropyl)、ヌアリモル(nuarimol)、オーシーエイチ(OCH)、オクチリノン(octhilinone)、オフレース(ofurace)、オリサストロビン(orysastrobin)、オキサジキシル(oxadixyl)、有機銅(oxine copper)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、オキスポコナゾールフマール酸塩(oxpoconazole fumarate)、ペフラゾエート(pefurzoate)、ペンコナゾール(penconazole)、ペンフルフェン(penflufen)、ペンシクロン(pencycuron)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、オルソフェニルフェノール(o-phenylphenol)、フォスジフェン(phosdiphen)、フタライド(phthalide)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピペラリン(piperalin)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ポリオキシン(polyoxins)、ポリオクソリム(polyoxorim)、ポタシウムアザイド(potassium azide)、炭酸水素カリウム(potassiumhydrogencarbonate)、プロキナジド(proquinazid)、プロベナゾール(probenazole)、プロクロラズ(prochloraz)、プロシミドン(procymidone)、プロパモカルブ塩酸塩(propamocarbhydrochloride)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロピネブ(propineb)、プロチオカルブ(prothiocarb)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ピラカルボリド(pyracarbolid)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラゾホス(pyrazophos)、ピリジニトリル(pyridinitril)、ピリフェノックス(pyrifenox)、ピリメタニル(pyrimethanil)、ピリオフェノン(pyriofenone)、ピロキュロン(pyroquilon)、ピロキシクロル(pyroxychlor)、ピロキシフル(pyroxyfur)、キノメチオネート(quinomethionate)、キノキシフェン(quinoxyfen)、キントゼン(quintozene)、キナセトール・スルフェート(quinacetol-sulfate)、キナザミド(quinazamid)、キンコナゾール(quinconazole)、ラベンザゾール(rabenzazole)など。   Fungicide (continued): kasugamycin, kresoxim-methyl, mancopper, mancozeb, mandipropamid, maneb, mebenil, mecarbinzid , Mepanipyrim, mepronil, metalaxyl, metalaxyl-M, metam, metazoxolon, metconazole, metasulfocarb, metoxasulfocarb, metoxafloxam ), Methyl isothiocyanate, metiram, metinominostrobin, metrafenone, metsulfovax, milneb, microbutanil, microzoline (myclozo) lin), nabam, natamycin, nickel bis (dimethyldithiocarbamate), nitrostyrene, nitrothal-isopropyl, nuarimol, OH (OCH), octhilinone, offurace, orysastrobin, oxadixyl, oxine copper, oxycarboxin, oxpoconazole fumarate , Pefurzoate, penconazole, penflufen, penencycuron, penthiopyrad, o-phenylphenol, phosdiphen, phthalide, picoxis Robin (picoxystrobin), piperalin (piperalin), polycarbamate (polycarbamate), polyoxins (polyoxins), polyoxorim (polyoxorim), potassium azide (potassium hydrogen carbonate) (potassium hydrogencarbonate), proquinazid (proquinazid) (proquinazid) , Prochloraz, procymidone, propamocarbhydrochloride, propiconazole, propineb, prothiocarb, prothioconazole, pyracarbolid, pyraclostrobin (Pyraclostrobin), pyrazophos, pyridiinitril, pyrifenox, pyrimethanil, pyriofenone, pyroquilon (pyroquil) on), pyroxychlor, pyroxyfur, quinomethionate, quinoxyfen, quintozene, quinacetol-sulfate, quinazamid, quinazamid, quinconazole, quinconazole rabenzazole).

殺菌剤(続き):アジ化ナトリウム(sodium azide)、炭酸水素ナトリウム(sodium hydrogen carbonate)、次亜塩素酸ナトリウム(sodiumhypochlorite)、硫黄(sulfur)、スピロキサミン(spiroxamine)、サリチルアニリド(salycylanilide)、シルチオファム(silthiofam)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テクナゼン(tecnazene)、テコラム(tecoram)、テトラコナゾール(tetraconazole)
、チアベンダゾール(thiabendazole)、チアジフルオール(thiadifluor)、チシオフェン(thicyofen)、チフルザミド(thifluzamide)、チオクロルフェンフィム(thiochlorfenphim)、チオファネート(thiophanate)、チオファネート−メチル(thiophanate-methyl)、チオキノックス(thioquinox)、チラム(thiram)、チアジニル(tiadinil)、チオキシミド(tioxymid)、トルクロホス−メチル(tolclofos-methyl)、トリルフラニド(tolylfluanid)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(toriadimenol)、トリアミフォス(triamiphos)、トリアリモル(triarimol)、トリアゾキシド(triazoxide)、トリアズブチル(triazbutil)、トリブチルチンオキサイド(tributyltin oxide)、トリクラミド(trichlamide)、トリシクラゾール(tricyclazole)、トリデモルフ(tridemorph)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリホリン(triforine)、トリチコナゾール(triticonazole)、バリダマイシン(validamycin)、バリフェナレート(valifenalate)、ビンクロゾリン(vinclozolin)、ザリルアミド(zarilamide)、硫酸亜鉛(zinc sulfate)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、ゾキサミド(zoxamide)及びシイタケ菌糸体抽出物など。
Bactericides (continued): sodium azide, sodium hydrogen carbonate, sodium hypopochlorite, sulfur, spiroxamine, salicylanilide, silthiofam ( silthiofam), simeconazole, tebuconazole, tecnazene, tecoram, tetraconazole
, Thiabendazole, thiadifluor, thicyofen, thifluzamide, thiochlorfenphim, thiophanate, thiophanate-methyl, thioquinox, Thiram, thiadinil, tioxymid, tolclofos-methyl, tolylfluanid, triadimefon, triadimenol, triamiphos, triarimol , Triazoxide, triazbutil, tributyltin oxide, trichlamide, tricyclazole, triridemorph, trifloxys Trifloxystrobin, triflumizole, triforine, triticonazole, validamycin, valifenalate, vinclozolin, zarilamide, zinc sulfate (zinc) sulfate, zineb, ziram, zoxamide and shiitake mycelium extract.

殺バクテリア剤:ベンザルコニウムクロライド(benzalkonium chloride)、ビチオノール(bithionol)、ブロノポール(bronopol)、クレゾール(cresol)、ホルムアルデヒド(formaldehyde)、ニトラピリン(nitrapyrin)、オキソリニックアシド(oxolinic acid)、オキシテトラサイクリン(oxyterracycline)、ストレプトマイシン(streptomycin)及びテクロフタラム(tecloftalam)など。   Bactericides: benzalkonium chloride, bithionol, bronopol, cresol, formaldehyde, nitrapyrin, oxolinic acid, oxyterracycline , Streptomycin and tecloftalam.

殺線虫剤:アルドキシカルブ(aldoxycarb)、カズサホス(cadusafos)、デービーシーピー(DBCP)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、デーエスピー(DSP)、エトプロホス(ethoprophos)、フェナミホス(fenamiphos)、フェンスルホチオン(fensulfothion)、フルエンスルホン(fluensulfone)、フォスチアゼート(fosthiazate)、フォスチエタン(fosthietan)、イミシアホス(imicyafos)、イサミドホス(isamidofos)、イサゾホス(isazofos)、オキサミル(oxamyl)及びチオナジン(thionazin)など。   Nematicides: aldoxycarb, cadusafos, DCP, DBCH, dichlofenthion, DSP (DSP), etoprophos, fenamiphos, fensulfothion, fluene Sulfone (fluensulfone), fosthiazate (fosthiazate), fosthietan (fosthietan), imisiafos (imicyafos), isamidofos (isamidofos), isazofos (isazofos), oxamyl (oxamyl) and thionazin (thionazin) and the like.

殺ダニ剤:アセキノシル(acequinocyl)、アクリナトリン(acrinathrin)、アミトラズ(amitraz)、BCI−033(試験名)、ビフェナゼート(bifenazate)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、チノメチオネート(chinomethionat)、クロロベンジラート(chlorobezilate)、クロフェンテジン(clofentezine)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、サイヘキサチン(cyhexatine)、ジコフォール(dicofol)、ジエノクロール(dienochlor)、デーエヌオーシー(DNOC)、エトキサゾール(etoxazole)、フェナザキン(fenazaquin)、フェンブタチンオキシド(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ヘキシチアゾックス(hexythiazox)、ミルベメクチン(milbemectin)、プロパルギット(propargite)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、S−1870(試験名)、スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spyromesifen)、NNI−0711(試験名)、CL900167(試験名)及びテブフェンピラド(tebufenpyrad)など。   Acaricide: acequinocyl, acrinathrin, amitraz, BCI-033 (test name), bifenazate, bromopropylate, chinomethionat, chlorobezilate , Clofentezine, cyenopyrafen, cyflumetofen, cyhexatine, dicofol, dienochlor, denochlor (DNOC), etoxazole, quinazaquin (fenaza) Fenbutatin oxide, fenothiocarb, fenpropathrin, fenpyroximate, fluacrypyrim, halfenprox (halfenpro) x), hexythiazox, milbemectin, propargite, pyridaben, pyrimidifen, S-1870 (test name), spirodiclofen, spiromesifen ( spyromesifen), NNI-0711 (test name), CL900187 (test name) and tebufenpyrad.

殺虫剤:アバメクチン(abamectin)、アセフェート(acephate)、アセタミピリド(acetamipirid)、アラニカルブ(alanycarb)、アルディカルブ(aldicarb)、アレスリン(allethrin)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス−メチル(azinphos-methyl)、バチルスチューリンゲシス(bacillus thuringiensis)、ベンジオカルブ(bendiocarb)、ベンフルトリン(benfluthrin)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ベンスルタップ(bensultap)、ビフェントリン(bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ブプロフェジン(bupro
fezin)、ブトカルボキシン(butocarboxim)、カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、カルタップ(cartap)、クロルアントラニリプロール(chlorantraniliprole)、クロルエトキシホス(chlorethxyfos)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、クロルメホス(chlormephos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロピリホス−メチル(chlorpyrifos-methyl)、クロマフェノジド(chromafenozide)、クロチアニジン(clothianidin)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta-cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、ラムダ−シハロトリン(lambda-cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、アルファ−シペルメトリン(alpha-cypermethrin)、ベータ−シペルメトリン(beta-cypermethrin)、ゼタ−シペルメトリン(zeta-cypermethrin)、シロマジン(cyromazine)、デルタメトリン(deltamethrin)、ジアクロデン(diacloden)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ダイアジノン(diazinon)、ジクロルボス(dichlorvos)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジノテフラン(dinotefuran)、ジオフェノラン(diofenolan)、ジスルフォトン(disulfoton)、ジメトエート(dimethoate)、エマメクチンベンゾエート(emamectin-benzoate)、エンペントリン(empenthrin)、エンドスルファン(endosulfan)、アルファ−エンドスルファン(alpha-endosulfan)、イーピーエヌ(EPN)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、エチプロール(ethiprole)、エトフェンプロックス(etofenprox)、エトリムホス(etrimfos)、フェニトロチオン(fenitrothion)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノキシカーブ(fenoxycarb)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンチオン(fenthion)、フェンバレレート(fenvalerate)、フィプロニル(fipronil)、フロニカミド(flonicamid)、フルベンジアミド(flubendiamide)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェネリム(flufenerim)、フルフェノクスウロン(flufenoxuron)、フルフェンプロックス(flufenprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、タウ−フルバリネート(tau-fluvalinate)、ホノホス(fonophos)、フォルメタネート(formetanate)、フォルモチオン(formothion)、フラチオカルブ(furathiocarb)、フルフィプロール(flufiprole)、フルピラジフロン(flupyradifurone)、フロメトキン(flometoquin)など。
Insecticides: abamectin, acephate, acetamipirid, alanamicarb, aldicarb, allethrin, azamethiphos, azinphos-methyl, bacillus tubulin Bacillus thuringiensis, bendiocarb, benfluthrin, benfuracarb, bensultap, bifenthrin, bioallethrin, bioresmethrin, bistrifluron, tris Buprofezin (bupro
fezin, butocarboxim, carbaryl, carbofuran, carbofuran, carbosulfan, cartap, chlorantraniliprole, chlorethoxyfos, chlorfenapyr ( chlorfenapyr), chlorfenvinphos, chlorfluazuron, chlormephos, chlorpyrifos, chlorpyrifos-methyl, chromafenozide, clothianidin, cyanantani Cyantraniliprole, cycloprothrin, cyflumetofen, cyfluthrin, beta-cyfluthrin, cyhalothrin, lambda-cyhthrin alothrin), cypermethrin, alpha-cypermethrin, beta-cypermethrin, zeta-cypermethrin, cyromazine, deltamethrin, diacloden (Diacloden), diafenthiuron, diazinon, dichlorvos, diflubenzuron, dimethylvinphos, dinotefuran, diofenolan, disulfoton, dimethoate (Dimethoate), emamectin-benzoate, empenthrin, endosulfan, endo-sulfan, alpha-endosulfan, EPN, esfenvalera te), etiofencarb, ethiprole, etofenprox, etrimfos, fenitrothion, fenobucarb, phenoxycarb, fenpropathrin, fenpropathrin fenthion, fenvalerate, fipronil, flonicamid, flubendiamide, flucythrinate, flufenerim, flufenoxuron, flufenprox , Flumethrin, fluvalinate, tau-fluvalinate, fonophos, formetanate, formothion, furthiocarol (Furathiocarb), full-Fi Prowl (flufiprole), Furupirajifuron (flupyradifurone), such as Furometokin (flometoquin).

殺虫剤(続き):ハロフェノジド(halofenozide)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、イミダクロプリド(imidacloprid)、イソフェンホス(isofenphos)、インドキサカルブ(indoxacarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、イソキサチオン(isoxathion)、レピメクチン(lepimectin)、ルフェヌウロン(lufenuron)、マラチオン(malathion)、メペルフルスリン(meperfluthrin)、メタフルミゾン(metaflumizone)、メタルデヒド(metaldehyde)、メタミドホス(methamidophos)、メチダチオン(methidathion)、メタクリホス(methacrifos)、メタフルミゾン(metaflumizone)、メタルカルブ(metalcarb)、メソミル(methomyl)、メソプレン(methoprene)、メトキシクロール(methoxychlor)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メチルブロマイド(methyl bromide)、モノクロトホス(monocrotophos)、ムスカルーレ(muscalure)、ニテンピラム(nitenpyram)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、オメトエート(omethoate)、オキサミル(oxamyl)、オキシデメトン−メチル(oxydemeton-methyl)、オキシデプロホス(oxydeprofos)、パラチオン(parathion)、パラチオン−メチル(parathion-methyl)、ペンタクロロフェノール(pentachlorophenol(PCP))、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)、フェントエート(phenthoate)、フォキシム(phoxim)、ホレート(phorate)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet)、ホスファミドン(phosphamidon)、ピリミカルブ(pirimicarb)、ピリミホス−メチル(pirimiphos-methyl)、プロフェノホス(profenofos)、プロチオホス(prothiofos)、プロパホス(propaphos)、プロト
リフェンブト(protrifenbute)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピレトリン(pyrethrins)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、レスメトリン(resmethrin)、ロテノン(rotenone)、SI−0405(試験名)、スルプロホス(sulprofos)、シラフルオフェン(silafluofen)、スピネトラム(spinetoram)、スピノサド(spinosad)、スピロテトラマート(spirotetramat)、スルホキサフロール(sulfoxaflor)、スルホテップ(sulfotep)、SYJ−159(試験名)、テブフェノジド(tebfenozide)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、テフルトリン(tefluthorin)、テルブホス(terbufos)、テトラクロロビンホス(tetrachlorvinphos)、テトラメトリン(tetramethrin)、d−T−80−フタルスリン(d-tetramethrin)、テトラメチルフルスリン(tetramethylfluthrin)、チアクロプリド(thiacloprid)、チオシクラム(thiocyclam)、チオジカルブ(thiodicarb)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チオファノックス(thiofanox)、チオメトン(thiometon)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トラロメスリン(tralomethrin)、トリクロルホン(trichlorfon)、トリアズロン(triazuron)、トリフルムロン(triflumuron)、バミドチオン(vamidothion)及びME−5343(試験名)など。
Insecticides (continued): halofenozide, hexaflumuron, hydramethylnon, imidacloprid, isofenphos, indoxacarb, isoprocarb, isoxathion ), Lepimectin, lufenuron, malathion, meperfluthrin, metaflumizone, metalaldehyde, methamidophos, methidathion, methidathion, methacrifos (methacrifos) ), Metalcarb, methomyl, metoprene, methoxychlor, methoxyfenozide, methyl bromide , Monocrotophos, muscalure, nitenpyram, novaluron, noviflumuron, omethoate, oxamyl, oxydemeton-methyl, oxydemeton-methyl (oxydemeton-methyl) oxydeprofos, parathion, parathion-methyl, pentachlorophenol (PCP), permethrin, phenothrin, phenthoate, phoxim, phorate ), Phosalone, phosmet, phosphamidon, pirimicarb, pirimiphos-methyl, profenofos, prothiofos, propaphos, prototri Protrifenbute, pyrometrozine, pyraclofos, pyrethrins, pyridalalyl, pyrifluquinazon, pyriprole, pyrafluprole, proxy, pyrifiprofen, py Resmethrin, rotenone, SI-0405 (study name), sulprofos, silafluofen, spinetram, spinosad, spirotetramat, sulfoxaflor ), Sulfotep, SYJ-159 (test name), tebfenozide, teflubenzuron, tefluthorin, terbufos, tetrachlorvinphos, tetrame Trimethrin, dT-80-phthalthrin, d-tetramethrin, tetramethylfluthrin, thiacloprid, thiocyclam, thiodicarb, thiamethoxam, thiophanox ( thiofanox, thiometon, tolfenpyrad, tralomethrin, trichlorfon, triazuron, triflumuron, vamidomion and ME-5343 (test name).

本発明組成物では、必要に応じて界面活性剤を加えることも可能である。それらの界面活性剤としては、以下の(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)が挙げられる。   In the composition of the present invention, a surfactant can be added as necessary. Examples of these surfactants include the following (A), (B), (C), (D), and (E).

(A)ノニオン性界面活性剤:
(A−1)ポリエチレングリコール型界面活性剤:例えば、ポリオキシエチレンアルキル(例えばC8〜18)エーテル、アルキルナフトールのエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレン(モノ又はジ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテル、ポリオキシエチレン(モノ又はジ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテルのホルマリン縮合物、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)フェニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)ベンジルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレン(モノ、ジ又はトリ)ベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテル、ポリオキシプロピレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテルのポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキル(例えばC8〜18)ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーエーテル、アルキル(例えばC8〜12)フェニルポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンビスフェニルエーテル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸(例えばC8〜18)モノエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸(例えばC8〜18)ジエステル、ポリオキシエチレンソルビタン(モノ、ジ又はトリ)脂肪酸(例えばC8〜18)エステル、グリセロール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、ヒマシ油エチレンオキサイド付加物、硬化ヒマシ油エチレンオキサイド付加物、アルキル(例えばC8〜18)アミンエチレンオキサイド付加物及び脂肪酸(例えばC8〜18)アミドエチレンオキサイド付加物等。
(A) Nonionic surfactant:
(A-1) Polyethylene glycol type surfactant: For example, polyoxyethylene alkyl (for example, C 8-18 ) ether, ethylene oxide adduct of alkyl naphthol, polyoxyethylene (mono or di) alkyl (for example, C 8-12 ) ) Phenyl ether, polyoxyethylene (mono or di) alkyl (eg C 8-12 ) phenyl ether formalin condensate, polyoxyethylene (mono, di or tri) phenyl phenyl ether, polyoxyethylene (mono, di or tri) ) Benzyl phenyl ether, polyoxypropylene (mono, di or tri) benzyl phenyl ether, polyoxyethylene (mono, di or tri) styryl phenyl ether, polyoxypropylene (mono, di or tri) styryl phenyl ether, polyoxy Ethylene (mono-, di- or tri-) styryl phenyl ether polymer, polyoxyethylene polyoxypropylene (mono-, di- or tri-) styryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymers, alkyl (e.g., C 8 to 18) polyoxy Ethylene polyoxypropylene block polymer ether, alkyl (e.g. C8-12 ) phenyl polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer ether, polyoxyethylene bisphenyl ether, polyoxyethylene resin acid ester, polyoxyethylene fatty acid (e.g. C8- 18) monoesters, polyoxyethylene fatty acid (e.g. C 8 to 18) diesters, polyoxyethylene sorbitan (mono-, di- or tri) fatty acid (e.g. C 8 to 18) Ester, glycerol fatty acid ester ethylene oxide adduct, castor oil ethylene oxide adduct, hydrogenated castor oil ethylene oxide adduct, alkyl (e.g., C 8 to 18) amine ethylene oxide adduct and a fatty acid (e.g. C 8 to 18) amide ethylene oxide Additives etc.

(A−2)多価アルコール型界面活性剤:例えば、グリセロール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ソルビトール脂肪酸(例えばC8〜18)エステル、ソルビタン(モノ、ジ又はトリ)脂肪酸(例えばC8〜18)エステル、ショ糖脂肪酸エステル、多価アルコールアルキルエーテル、アルキルグリコシド、アルキルポリグリコシド及び脂肪酸アルカノールアミド等。 (A-2) Polyhydric alcohol type surfactant: For example, glycerol fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, pentaerythritol fatty acid ester, sorbitol fatty acid (eg C 8-18 ) ester, sorbitan (mono, di or tri) fatty acid ( For example, C8-18 ) ester, sucrose fatty acid ester, polyhydric alcohol alkyl ether, alkyl glycoside, alkyl polyglycoside, fatty acid alkanolamide and the like.

(A−3)アセチレン系界面活性剤:例えば、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物及びアセチレンアルコールの
エチレンオキサイド付加物等。
(A-3) Acetylene-based surfactant: for example, acetylene glycol, acetylene alcohol, ethylene oxide adduct of acetylene glycol, ethylene oxide adduct of acetylene alcohol, and the like.

(B)アニオン性界面活性剤:
(B−1)カルボン酸型界面活性剤:例えば、ポリアクリル酸、ポリメタアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリ無水マレイン酸、マレイン酸又は無水マレイン酸とオレフィン(例えばイソブチレン及びジイソブチレン等)との共重合物、アクリル酸とイタコン酸の共重合物、メタアクリル酸とイタコン酸の共重合物、マレイン酸又は無水マレイン酸とスチレンの共重合物、アクリル酸とメタアクリル酸の共重合物、アクリル酸とアクリル酸メチルエステルとの共重合物、アクリル酸と酢酸ビニルとの共重合物、アクリル酸とマレイン酸又は無水マレイン酸の共重合物、ポリオキシエチレンアルキル(例えばC8〜18)エーテル酢酸、N−メチル−脂肪酸(例えばC8〜18)サルコシネート、樹脂酸及び脂肪酸(例えばC8〜18)等のカルボン酸、並びにそれらカルボン酸の塩。
(B) Anionic surfactant:
(B-1) Carboxylic acid type surfactant: For example, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polymaleic acid, polymaleic anhydride, maleic acid or maleic anhydride and an olefin (for example, isobutylene and diisobutylene) Polymer, Copolymer of acrylic acid and itaconic acid, Copolymer of methacrylic acid and itaconic acid, Copolymer of maleic acid or maleic anhydride and styrene, Copolymer of acrylic acid and methacrylic acid, Acrylic acid Copolymer of acrylic acid and methyl acrylate, copolymer of acrylic acid and vinyl acetate, copolymer of acrylic acid and maleic acid or maleic anhydride, polyoxyethylene alkyl (e.g. C8-18 ) ether acetic acid, methyl N-- fatty acids (e.g., C 8 to 18) sarcosinates, resin acids and fatty acids (e.g., C 8 to 18), such as Carboxylic acid, and salts thereof carboxylic acid.

(B−2)硫酸エステル型界面活性剤:例えば、アルキル(例えばC8〜18)硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキル(例えばC8〜18)エーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ又はジ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ又はジ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテルのポリマーの硫酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)フェニルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)ベンジルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテル硫酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテルのポリマーの硫酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーの硫酸エステル、硫酸化油、硫酸化脂肪酸エステル、硫酸化脂肪酸及び硫酸化オレフィン等の硫酸エステル、並びにそれら硫酸エステルの塩。 (B-2) Sulfate ester type surfactant: For example, alkyl (for example, C 8-18 ) sulfate ester, polyoxyethylene alkyl (for example, C 8-18 ) ether sulfate ester, polyoxyethylene (mono or di) alkyl ( For example, C 8-12 ) phenyl ether sulfate, polyoxyethylene (mono or di) alkyl (eg C 8-12 ) phenyl ether polymer sulfate, polyoxyethylene (mono, di or tri) phenyl phenyl ether sulfate , Polyoxyethylene (mono, di or tri) benzyl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene (mono, di or tri) styryl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene (mono, di or tri) styryl phenyl ether polymer sulfuric acid ester Sulfate esters of polyoxyethylene polyoxypropylene block polymers, sulfated oils, fatty acid ester sulfuric, sulfate ester such as sulfated fatty acids and sulfated olefins, and salts thereof sulfate.

(B−3)スルホン酸型界面活性剤:例えば、パラフィン(例えばC8〜22)スルホン酸、アルキル(例えばC8〜12)ベンゼンスルホン酸、アルキル(例えばC8〜12)ベンゼンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレゾールスルホン酸のホルマリン縮合物、α−オレフィン(例えばC8〜16)スルホン酸、ジアルキル(例えばC8〜12)スルホコハク酸、リグニンスルホン酸、ポリオキシエチレン(モノ又はジ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテルスルホン酸、ポリオキシエチレンアルキル(例えばC8〜18)エーテルスルホコハク酸ハーフエステル、ナフタレンスルホン酸、(モノ又はジ)アルキル(例えばC1〜6)ナフタレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、(モノ又はジ)アルキル(例えばC1〜6)ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物、クレオソート油スルホン酸のホルマリン縮合物、アルキル(例えばC8〜12)ジフェニルエーテルジスルホン酸、イゲポンT(商品名)、ポリスチレンスルホン酸及びスチレンスルホン酸とメタアクリル酸の共重合物等のスルホン酸、並びにそれらスルホン酸の塩。 (B-3) Sulfonic acid type surfactant: For example, paraffin (for example, C8-22 ) sulfonic acid, alkyl (for example, C8-12 ) benzenesulfonic acid, alkyl (for example, C8-12 ) benzenesulfonic acid formalin Condensate, formalin condensate of cresol sulfonic acid, α-olefin (eg C 8-16 ) sulfonic acid, dialkyl (eg C 8-12 ) sulfosuccinic acid, lignin sulfonic acid, polyoxyethylene (mono or di) alkyl (eg C8-12 ) phenyl ether sulfonic acid, polyoxyethylene alkyl (e.g. C8-18 ) ether sulfosuccinic acid half ester, naphthalene sulfonic acid, (mono or di) alkyl (e.g. C1-6 ) naphthalene sulfonic acid, naphthalene sulfone Acid formalin condensate (mono or ) Alkyl (e.g. C 1 to 6) formalin condensates of naphthalenesulfonic acid formalin condensate of creosote oil sulfonic acid, alkyl (e.g., C 8 to 12) ether disulfonic acid, Igepon T (trade name), and polystyrene sulfonic acid Sulfonic acids such as copolymers of styrene sulfonic acid and methacrylic acid, and salts of these sulfonic acids.

(B−4)燐酸エステル型界面活性剤:例えば、アルキル(例えばC8〜12)燐酸エステル、ポリオキシエチレンアルキル(例えばC8〜18)エーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ又はジ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)アルキル(例えばC8〜12)フェニルエーテルのポリマーの燐酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)フェニルフェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)ベンジルフェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテル燐酸エステル、ポリオキシエチレン(モノ、ジ又はトリ)スチリルフェニルエーテルのポリマーの燐酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーの燐酸エステル、ホスファチジルコリン、ホスファチジルエタノールイミン及び縮合燐酸(例えばトリポリリン酸等)等の燐酸エステル、並びにそれら燐酸エステルの塩。 (B-4) Phosphate ester type surfactants: For example, alkyl (eg, C 8-12 ) phosphate ester, polyoxyethylene alkyl (eg, C 8-18 ) ether phosphate ester, polyoxyethylene (mono or di) alkyl ( For example, C 8-12 ) phenyl ether phosphate ester, polyoxyethylene (mono, di or tri) alkyl (eg C 8-12 ) phenyl ether polymer phosphate ester, polyoxyethylene (mono, di or tri) phenyl phenyl ether Phosphate ester, polyoxyethylene (mono, di or tri) benzyl phenyl ether phosphate ester, polyoxyethylene (mono, di or tri) styryl phenyl ether phosphate ester, polyoxyethylene (mono, di or tri) styryl phenyl ether polymer The phosphoric acid beauty treatment salon , Phosphoric acid esters of polyoxyethylene polyoxypropylene block polymers, phosphoric acid esters such as phosphatidylcholine, phosphatidylethanolimine and condensed phosphoric acid (such as tripolyphosphoric acid), and salts of these phosphoric acid esters.

上記の(B−1)〜(B−4)における塩の対イオンとしては、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム及びカリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム及びマグネシウム等)、アンモニウム及び各種アミン(例えばアルキルアミン、シクロアルキルアミン及びアルカノールアミン等)等が挙げられる。   As counter ions of the salts in the above (B-1) to (B-4), alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.), ammonium, and various amines (eg, alkyl) Amine, cycloalkylamine, alkanolamine, etc.).

(C)カチオン性界面活性剤:
例えば、アルキルアミン、アルキル4級アンモニウム塩、アルキルアミンのエチレンオキサイド付加物及びアルキル4級アンモニウム塩のエチレンオキサイド付加物等。
(C) Cationic surfactant:
For example, alkyl amines, alkyl quaternary ammonium salts, ethylene oxide adducts of alkyl amines and ethylene oxide adducts of alkyl quaternary ammonium salts.

(D)両性界面活性剤:
(D−1)ベタイン型界面活性剤:例えば、アルキル(例えばC8〜18)ジメチルアミノ酢酸ベタイン、アシル(例えばC8〜18)アミノプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、アルキル(例えばC8〜18)ヒドロキシスルホベタイン及び2−アルキル(例えばC8〜18)−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインが挙げられる
(D) Amphoteric surfactant:
(D-1) Betaine type surfactant: For example, alkyl (eg C 8-18 ) dimethylaminoacetic acid betaine, acyl (eg C 8-18 ) aminopropyldimethylaminoacetic acid betaine, alkyl (eg C 8-18 ) hydroxy And sulfobetaines and 2-alkyl (e.g., C8-18 ) -N-carboxymethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaines.

(D−2)アミノ酸型界面活性剤:例えば、アルキル(例えばC8〜18)アミノプロピオン酸、アルキル(例えばC8〜18)アミノジプロピオン酸及びN−アシル(例えばC8〜18)−N‘−カルボキシエチル−N‘−ヒドロキシエチルエチレンジアミンが挙げられる。 (D-2) Amino acid type surfactants: For example, alkyl (eg C 8-18 ) aminopropionic acid, alkyl (eg C 8-18 ) aminodipropionic acid and N-acyl (eg C 8-18 ) -N And '-carboxyethyl-N'-hydroxyethylethylenediamine.

(D−3)アミンオキシド型界面活性剤:例えば、アルキル(例えばC8〜18)ジメチルアミンオキシド及びアシル(例えばC8〜18)アミノプロピルジメチルアミンオキシド等が挙げられる。 (D-3) Amine oxide type surfactants: Examples include alkyl (eg C 8-18 ) dimethylamine oxide and acyl (eg C 8-18 ) aminopropyldimethylamine oxide.

(E)その他の界面活性剤:
(E−1)シリコン系界面活性剤:例えば、ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体、ポリオキシプロピレン・メチルポリシロキサン共重合体及びポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン)・メチルポリシロキサン共重合体等が挙げられる。
(E) Other surfactants:
(E-1) Silicone surfactant: for example, polyoxyethylene / methylpolysiloxane copolymer, polyoxypropylene / methylpolysiloxane copolymer and poly (oxyethylene / oxypropylene) / methylpolysiloxane copolymer Etc.

(E−2)フッ素系界面活性剤:例えば、パーフルオロアルケニルベンゼンスルホン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルケニルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル及びパーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等が挙げられる。   (E-2) Fluorosurfactant: For example, perfluoroalkenyl benzene sulfonate, perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkenyl polyoxyethylene ether, perfluoroalkyl polyoxyethylene ether And perfluoroalkyltrimethylammonium salt.

これらの界面活性剤は単独で又は2種以上混合して使用することができ、混合する場合の比も自由に選択できる。本発明組成物中の該界面活性剤の含有量は適宜選択できるが、本発明組成物100重量部に対して0.1乃至20重量部の範囲が好ましい。   These surfactants can be used alone or in admixture of two or more, and the ratio in the case of mixing can be freely selected. Although content of this surfactant in this invention composition can be selected suitably, the range of 0.1-20 weight part is preferable with respect to 100 weight part of this invention composition.

本発明組成物には、更に各種補助剤を含有させることができる。使用できる補助剤としては、増粘剤、有機溶剤、凍結防止剤、消泡剤、防菌防黴剤及び着色剤等があり、下記のものが挙げられる。   Various adjuvants can be further contained in the composition of the present invention. Examples of auxiliary agents that can be used include thickeners, organic solvents, antifreezing agents, antifoaming agents, antibacterial and antifungal agents, coloring agents, and the like.

増粘剤としては、特に制限はなく、有機、無機の天然物、合成品及び半合成品を用いることができ、例えば、ザンサンガム(キサンタンガム)、ウェランガム及びラムザンガム等のヘテロ多糖類、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム及びポリアクリルアミド等の水溶性高分子化合物、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース誘導体、モンモリロナイト、
サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト、ラポナイト及び合成スメクタイト等のスメクタイト系粘土鉱物等を例示することができる。これらの増粘剤は一種又は二種以上混合してもよく、混合する場合の比も自由に選択できる。これらの増粘剤はそのまま添加してもよく、またあらかじめ水に分散させたものを添加しても良い。また、本発明組成物中の含有量も自由に選択することができる。
The thickener is not particularly limited, and organic, inorganic natural products, synthetic products, and semi-synthetic products can be used. For example, heteropolysaccharides such as xanthan gum (xanthan gum), welan gum and rhamzan gum, polyvinyl alcohol, polyvinyl Water-soluble polymer compounds such as pyrrolidone, polyacrylic acid, sodium polyacrylate and polyacrylamide, cellulose derivatives such as methylcellulose, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, hydroxyethylcellulose and hydroxypropylcellulose, montmorillonite,
Examples thereof include smectite clay minerals such as saponite, hectorite, bentonite, laponite, and synthetic smectite. These thickeners may be used alone or in combination of two or more, and the ratio in the case of mixing can be freely selected. These thickeners may be added as they are, or those previously dispersed in water may be added. Moreover, content in this invention composition can also be selected freely.

有機溶剤としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール及びイソプロパノール等のアルコール類、ブチルセロソルブ等のエーテル、シクロヘキサノン等のケトン、γ−ブチロラクトン等のエステル、N−メチルピロリドン及びN−オクチルピロリドン等の酸アミド、キシレン、アルキルベンゼン、フェニルキシリルエタン及びアルキルナフタレン等の芳香族炭化水素、マシン油、ノルマルパラフィン、イソパラフィン及びナフテン等の脂肪族炭化水素、ケロシン等の芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素の混合物、大豆油、アマニ油、ナタネ油、ヤシ油、綿実油及びヒマシ油等の油脂が挙げられる。   Examples of the organic solvent include alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and isopropanol, ethers such as butyl cellosolve, ketones such as cyclohexanone, esters such as γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone and N-octylpyrrolidone. Aromatic hydrocarbons such as acid amides such as xylene, alkylbenzene, phenylxylylethane and alkylnaphthalene, aliphatic hydrocarbons such as machine oil, normal paraffin, isoparaffin and naphthene, aromatic hydrocarbons such as kerosene and aliphatic carbonization Examples include fats and oils such as a mixture of hydrogen, soybean oil, linseed oil, rapeseed oil, coconut oil, cottonseed oil and castor oil.

凍結防止剤としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール及びプロピレングリコール、グリセリン等を用いることができる。好ましくはプロピレングリコール、グリセリンである。また、本発明組成物中の含有量も自由に選択することができる。   As the antifreezing agent, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, glycerin and the like can be used. Preferred are propylene glycol and glycerin. Moreover, content in this invention composition can also be selected freely.

更にシリコーン系エマルジョン等の消泡剤、防菌防黴剤及び着色剤等を配合してもよい。   Furthermore, you may mix | blend antifoaming agents, such as a silicone type emulsion, antibacterial antifungal agent, and a coloring agent.

本発明組成物の製造方法は、特に限定されるものではないが、分散媒に前述の各成分を加え、攪拌機により混合して得られる。また、必要に応じて、農薬活性成分、界面活性剤及びその他補助剤は、それぞれ単独もしくは混合して乾式及び湿式粉砕機により微粉砕してもよい。   The method for producing the composition of the present invention is not particularly limited, and can be obtained by adding the above-described components to a dispersion medium and mixing them with a stirrer. If necessary, the pesticidal active ingredient, surfactant and other auxiliary agents may be singly or mixed and finely pulverized by a dry type and a wet type pulverizer.

乾式粉砕は、ハンマーミル、ピンミル、ジェットミル、ボールミル又はロールミル等で行うことができる。湿式粉砕による微粉砕は、インラインミル又はビーズミル等の湿式粉砕機により行うことができる。   Dry pulverization can be performed with a hammer mill, a pin mill, a jet mill, a ball mill, a roll mill, or the like. The fine pulverization by wet pulverization can be performed by a wet pulverizer such as an in-line mill or a bead mill.

本発明組成物は、例えば原液又は水で50乃至5000倍程度に希釈して、噴霧機などを用いて作物や樹木又はそれが生育する土壌に散布する方法、空中からヘリコプターなどを使用して、原液又は水で2乃至100倍程度に希釈して散布する方法で施用することができる。   The composition of the present invention is diluted by about 50 to 5000 times with, for example, a stock solution or water, and sprayed onto a crop or tree or soil where it grows using a sprayer or the like, using a helicopter from the air, etc. It can be applied by diluting with a stock solution or water about 2 to 100 times and spraying.

次に実施例をあげ本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中の高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、粉末X線回折及びDSC測定(示差走査熱量測定)は、以下に示す測定条件で行った。
〔HPLC〕
カラム:Inertsil ODS−SP、φ4.6mm、長さ150mm、
粒子径3μm(ジーエルサイエンス社製)
流速:1.0ml/min
溶離液:アセトニトリル/水/酢酸=600/400/1(体積比)
検出:UV254nm
〔粉末X線回折〕
機種名:X‘PERT−PRO MPD(スペクトリス株式会社)
測定法:透過法
X線:Cu−Kα
電圧:45kV 電流:40mA
サンプリング間隔:0.026deg
データ範囲:2θ=2乃至40deg
〔DSC測定〕(空気中で測定)
機種名:島津製作所製 示唆走査熱量計 DSC−60
比較物質:アルミナ
サンプルパン:アルミニウム
サンプリング速度:1秒
昇温速度:5℃/分
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. High performance liquid chromatography (HPLC), powder X-ray diffraction and DSC measurement (differential scanning calorimetry) in the examples were performed under the measurement conditions shown below.
[HPLC]
Column: Inertsil ODS-SP, φ4.6 mm, length 150 mm,
Particle size 3μm (manufactured by GL Sciences Inc.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Eluent: acetonitrile / water / acetic acid = 600/400/1 (volume ratio)
Detection: UV254nm
[Powder X-ray diffraction]
Model name: X'PERT-PRO MPD (Spectris Co., Ltd.)
Measurement method: Transmission method
X-ray: Cu-Kα
Voltage: 45kV Current: 40mA
Sampling interval: 0.026 deg
Data range: 2θ = 2 to 40 deg
[DSC measurement] (measured in air)
Model name: Shimadzu Corporation suggested scanning calorimeter DSC-60
Comparative substance: Alumina Sample pan: Aluminum Sampling rate: 1 second Heating rate: 5 ° C / min

〔実施例1〕 I形結晶と命名された化合物Aの結晶性多形体の製造
4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−2−メチル安息香酸アミド2.00g、オルトギ酸トリエチル4.26g及びメトキシアミン塩酸塩0.60gのトルエン10ml溶液を、35℃にて24時間攪拌した。攪拌終了後、該反応溶液にトルエン10mlを添加した。添加終了後、該反応溶液を60乃至65℃に加熱し、水洗(4ml×3回)した。水洗後に得られた該トルエン溶液を、HPLCにより分析した結果、トルエンに相当する面積を削除した後の、主生成物に由来するピークの相対面積百分率は90.4%であり、副生成物に由来するピークの相対面積百分率は3.4%であった。
Example 1 Preparation of a crystalline polymorph of Compound A, designated as Form I 4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazole-3 -Il] -2-methylbenzoic acid amide (2.00 g), orthoethyl triethyl (4.26 g) and methoxyamine hydrochloride (0.60 g) in toluene (10 ml) were stirred at 35 ° C. for 24 hours. After stirring, 10 ml of toluene was added to the reaction solution. After completion of the addition, the reaction solution was heated to 60 to 65 ° C. and washed with water (4 ml × 3 times). The toluene solution obtained after washing with water was analyzed by HPLC. As a result, after removing the area corresponding to toluene, the relative area percentage of the peak derived from the main product was 90.4%. The relative area percentage of the derived peak was 3.4%.

該トルエン溶液から、トルエン10mlを減圧下にて留去した。留去後、該トルエン溶液を約70℃から、約20℃/時の速度で冷却し、該トルエン溶液中に結晶が生じた後、0乃至5℃で3時間攪拌した。攪拌終了後、析出した結晶を減圧濾過にて取り出し、得られた結晶を減圧下にて乾燥することにより、1.92gの白色結晶を得た。   From the toluene solution, 10 ml of toluene was distilled off under reduced pressure. After the distillation, the toluene solution was cooled from about 70 ° C. at a rate of about 20 ° C./hour. After crystals were formed in the toluene solution, the solution was stirred at 0 to 5 ° C. for 3 hours. After the stirring, the precipitated crystals were taken out by filtration under reduced pressure, and the obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 1.92 g of white crystals.

得られた白色結晶を、HPLCにより分析した結果、主生成物に由来するピークの相対面積百分率は93.0%であり、副生成物に由来するピークの相対面積百分率は3.3%であった。   As a result of analyzing the obtained white crystals by HPLC, the relative area percentage of the peak derived from the main product was 93.0%, and the relative area percentage of the peak derived from the by-product was 3.3%. It was.

また得られた結晶を、液体クロマトグラフ質量分析(LC−MS)により分析した結果、主生成物と副生生物は共に[M++H]=473.9と同じ値であった。なお、以下に記載した条件にてLC−MS分析を行った。
LC−MS 装置:Waters Alliance HPLC system
2695 Separation Module
2998 Photodiode Array Detector
分析条件
カラム:SunFire C18, 2.5μm,2.1×50mm (Waters)
カラム温度:40℃
検出:UV254nm
溶離液:A=アセトニトリル、B=0.1体積%ギ酸水溶液
0乃至5分;A:B=50:50→95:5(体積比)
5乃至8分;A:B=95:5(体積比)
流速:0.3ml/min
質量分析計:3100 Mass Detector
イオン化法:electrospray (positive)
The addition obtained crystals, liquid chromatography mass spectrometry (LC-MS) was analyzed by the main product and by-product organisms were both the same value as [M + + H] = 473.9 . The LC-MS analysis was performed under the conditions described below.
LC-MS system: Waters Alliance HPLC system
2695 Separation Module
2998 Photodiode Array Detector
Analysis conditions
Column: SunFire C18, 2.5μm, 2.1 x 50mm (Waters)
Column temperature: 40 ° C
Detection: UV254nm
Eluent: A = acetonitrile, B = 0.1% by volume formic acid aqueous solution
0 to 5 minutes; A: B = 50: 50 → 95: 5 (volume ratio)
5 to 8 minutes; A: B = 95: 5 (volume ratio)
Flow rate: 0.3 ml / min
Mass spectrometer: 3100 Mass Detector
Ionization method: electrospray (positive)

さらに、得られた結晶に対して、以下に記載した条件にて核磁気共鳴(NMR)測定を行った。
装置:AVANCE III 600(ブルカー・バイオスピン株式会社)
共鳴周波数:600MHz測定溶媒:重クロロホルム(CDCl
基準物質:テトラメチルシラン[S(CH]
プロトン核磁気共鳴(H−NMR)測定の結果、以下に記載したケミカルシフト値が得られた。
1H-NMRδ(ppm)8.49(d,J=9.6Hz, 1H), 7.77 (d, J=9.6Hz, 1H), 7.58 (d, J=8.6Hz,1H),
7.57(s,1H),7.54 (d,J=8.6Hz, 1H), 7.51 (d, J=1.9Hz, 2H), 7.44 (dd,J=1.9Hz, 1H),4.09(d,J=17.2Hz,1H), 3.90 (s, 3H), 3.71 (d, J=17.2Hz, 1H), 2.53(s, 3H)。
なお、H−NMRケミカルシフト値における記号は、下記の意味を表す。
s:シングレット、d:ダブレット、J:結合定数、aH:積分値より算出したa個の水素原子。
Furthermore, nuclear magnetic resonance (NMR) measurement was performed on the obtained crystal under the conditions described below.
Equipment: AVANCE III 600 (Bruker BioSpin Corporation)
Resonance frequency: 600 MHz Measurement solvent: Deuterated chloroform (CDCl 3 )
Reference substance: Tetramethylsilane [S i (CH 3 ) 4 ]
As a result of proton nuclear magnetic resonance ( 1 H-NMR) measurement, the chemical shift values described below were obtained.
1 H-NMR δ (ppm) 8.49 (d, J = 9.6Hz, 1H), 7.77 (d, J = 9.6Hz, 1H), 7.58 (d, J = 8.6Hz, 1H),
7.57 (s, 1H), 7.54 (d, J = 8.6Hz, 1H), 7.51 (d, J = 1.9Hz, 2H), 7.44 (dd, J = 1.9Hz, 1H), 4.09 (d, J = 17.2 Hz, 1H), 3.90 (s, 3H), 3.71 (d, J = 17.2Hz, 1H), 2.53 (s, 3H).
In addition, the symbol in < 1 > H-NMR chemical shift value represents the following meaning.
s: singlet, d: doublet, J: coupling constant, aH: a hydrogen atoms calculated from the integral value.

さらに、H−NMR測定に使用したサンプルを使用して、2次元NMRの1種であるHSQC(Hetero-nuclearSingleQuantumCoherence)測定を行った結果、7.77ppmの水素原子に由来するピークは炭素原子に由来するピークと相関が見られたが、8.49ppmの水素原子に由来するピークは炭素原子に由来するピークと相関が見られなかった。この結果より、8.49ppmの水素原子に由来するピークはアミド構造の窒素原子上の水素原子であると帰属した。オーガニック・レターズ[Organic Letters]2011年、13巻、5160頁及びSupportingInfomationには、化合物Aの構造と類似する化合物におけるアミド構造の窒素原子上の水素原子に由来するピークのケミカルシフト値(以下、アミドのケミカルシフト値と称する)と、イミノメチル構造の炭素原子上の水素原子に由来するピークのケミカルシフト値(以下、イミノメチルのケミカルシフト値と称する)の比較について記載されている。該記載によると、幾何異性がZである化合物の場合、アミドのケミカルシフト値は、イミノメチルのケミカルシフト値と比較して低磁場側にシフトする。一方、幾何異性がEである化合物の場合、アミドのケミカルシフト値は、イミノメチルのケミカルシフト値と比較して高磁場側にシフトする。 Furthermore, as a result of HSQC (Hetero-nuclear Single Quantum Coherence) measurement, which is a kind of two-dimensional NMR, using the sample used for 1 H-NMR measurement, the peak derived from 7.77 ppm hydrogen atom is located at the carbon atom. Although a correlation was observed with the peak derived from, a peak derived from 8.49 ppm of hydrogen atoms was not correlated with a peak derived from carbon atoms. From this result, the peak derived from 8.49 ppm of hydrogen atoms was assigned to be a hydrogen atom on the nitrogen atom of the amide structure. Organic Letters 2011, Vol. 13, p. 5160 and Supporting Information include a chemical shift value of a peak derived from a hydrogen atom on a nitrogen atom of an amide structure in a compound similar to the structure of Compound A (hereinafter referred to as amide). And a chemical shift value of a peak derived from a hydrogen atom on a carbon atom of an iminomethyl structure (hereinafter, referred to as a chemical shift value of iminomethyl). According to the description, in the case of a compound whose geometric isomerism is Z, the chemical shift value of amide is shifted to a lower magnetic field side as compared with the chemical shift value of iminomethyl. On the other hand, in the case of a compound whose geometric isomerism is E, the chemical shift value of amide shifts to the high magnetic field side as compared with the chemical shift value of iminomethyl.

本実施例で得られた化合物Aの場合、アミドのケミカルシフト値は8.49ppmであり、イミノメチルのケミカルシフト値は7.77ppmである。
よって、主生成物が化合物A(幾何異性がZ)であり、副生成物が化合物Aの幾何異性がEである(以下、化合物AのE体と称する。)と同定した。
In the case of Compound A obtained in this example, the chemical shift value of amide is 8.49 ppm, and the chemical shift value of iminomethyl is 7.77 ppm.
Therefore, the main product was identified as Compound A (geometric isomerism Z), and the byproduct was identified as Compound A geometric isomerism E (hereinafter referred to as E-form of Compound A).

得られた白色結晶の粉末X線回折を測定した結果、図1の回折パターンを示し、I形結晶と命名した。
また、得られた結晶のDSC測定を実施した結果、ピークトップが171.2℃の吸熱ピークを示し、それ以外の温度では吸熱ピークを示さなかった。
As a result of measuring the powder X-ray diffraction of the obtained white crystal, the diffraction pattern of FIG. 1 was shown, which was designated as type I crystal.
Moreover, as a result of performing DSC measurement of the obtained crystal, the peak top showed an endothermic peak of 171.2 ° C., and no endothermic peak was observed at other temperatures.

〔実施例2〕 II形結晶と命名された結晶性多形体の製造
実施例1の方法に準じて得られた化合物AのI形結晶0.5g(HPLC相対面積百分率 化合物A:化合物AのE体=97.0:2.6)に、トルエン15mlを添加し、化合物Aのトルエン懸濁液を調製した。該懸濁溶液を、85℃にて加熱攪拌することにより、化合物Aの結晶を完全に溶解させ、化合物Aのトルエン溶液を調製した。
氷冷したn−ヘキサン15mlに、上記の化合物Aのトルエン溶液を、n−ヘキサンの温度が5℃を超えないように10分かけて滴下した。滴下終了後、該溶液を氷冷下にて5分間攪拌した。攪拌終了後、該溶液中に析出した結晶を、減圧濾過にて取り出し、得られた結晶を減圧下にて乾燥することにより、0.45gの白色結晶を得た。
[Example 2] Production of crystalline polymorphs designated as Form II crystals 0.5 g of Compound A crystals obtained according to the method of Example 1 (percent HPLC relative area Compound A: E of Compound A) Body = 97.0: 2.6), 15 ml of toluene was added to prepare a toluene suspension of compound A. The suspension solution was heated and stirred at 85 ° C. to completely dissolve the crystals of Compound A to prepare a toluene solution of Compound A.
To 15 ml of ice-cooled n-hexane, the toluene solution of Compound A was added dropwise over 10 minutes so that the temperature of n-hexane did not exceed 5 ° C. After completion of the dropwise addition, the solution was stirred for 5 minutes under ice cooling. After completion of the stirring, the crystals precipitated in the solution were taken out by filtration under reduced pressure, and the obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 0.45 g of white crystals.

得られた結晶をHPLCにより分析した結果、化合物Aの相対面積百分率は97.3%であり、化合物AのE体の相対面積百分率は2.4%であった。   As a result of analyzing the obtained crystals by HPLC, the relative area percentage of compound A was 97.3%, and the relative area percentage of E-form of compound A was 2.4%.

また、得られた結晶の粉末X線回折を測定した結果、図2の回折パターンを示し、上記実施例1で得られた結晶とは全く異なる結晶が得られたことが判明し、II形結晶と命名し
た。
また、得られた結晶のDSC測定を実施したところ、ピークトップが164.3℃の吸熱ピークを示し、それ以外の温度では吸熱ピークを示さなかった。
Further, as a result of measuring powder X-ray diffraction of the obtained crystal, it was found that a crystal completely different from the crystal obtained in Example 1 was obtained, showing the diffraction pattern of FIG. Named.
Further, when DSC measurement was performed on the obtained crystal, the peak top showed an endothermic peak of 164.3 ° C., and no endothermic peak was shown at other temperatures.

〔実施例3〕 II形結晶の懸濁液を撹拌することによるI形結晶の製造
実施例2の方法に準じて得られた化合物AのII形結晶0.19g(HPLC相対面積百分率 化合物A:化合物AのE体=96.8:2.8)及びトルエン0.77gの懸濁液を、60℃にて4時間撹拌した。攪拌終了後、該懸濁液を減圧濾過し、得られた結晶を減圧下にて乾燥することにより、白色結晶0.12gを得た。
Example 3 Production of Form I Crystals by Stirring a Suspension of Form II Crystals 0.19 g of Form A crystals of Compound A obtained according to the method of Example 2 (HPLC relative area percentage Compound A: A suspension of Compound A in E form = 96.8: 2.8) and 0.77 g of toluene was stirred at 60 ° C. for 4 hours. After completion of the stirring, the suspension was filtered under reduced pressure, and the resulting crystals were dried under reduced pressure to obtain 0.12 g of white crystals.

得られた結晶をHPLC分析したところ、化合物Aの相対面積百分率は97.3%であり、化合物AのE体の相対面積百分率は2.5%であった。
また、得られた結晶の粉末X線回折を測定した結果、図1と実質的に同一のパターンを示すI形結晶であることが判明した。
When the obtained crystal was analyzed by HPLC, the relative area percentage of compound A was 97.3%, and the relative area percentage of E-form of compound A was 2.5%.
Further, as a result of measuring the powder X-ray diffraction of the obtained crystal, it was found that it was an I-type crystal showing substantially the same pattern as FIG.

〔例4〜17〕
以下で「部」とあるのは、全て重量部を意味する。
1.粉砕スラリーの調製
水56.86部に、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テルとポリオキシアルキレングリコ−ルの混合物(商品名:ソルポール3353、東邦化学工業(株)製)3部、シリコーン系消泡剤(商品名:KM−73、信越化学工業(株)製)0.1部、プロピレングリコール10部及び、化合物AのI形結晶とII形結晶を合計で10.04部を分散させ0.8−1.2mmφガラスビーズ200gを用いてサンドグラインダー(アイメックス(株)製)で湿式粉砕し、粉砕スラリー80部を得た。
第2表に示したとおり、化合物Aに含有されるI形結晶とII形結晶の重量比率を任意に変化させた。
[Examples 4 to 17]
In the following, “parts” means all parts by weight.
1. Preparation of pulverized slurry In 56.86 parts of water, 3 parts of a mixture of polyoxyethylene styrylphenyl ether and polyoxyalkylene glycol (trade name: Solpol 3353, manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.), silicone antifoam 0.1 part of an agent (trade name: KM-73, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 10 parts of propylene glycol, and a total of 10.04 parts of Compound I and Form I crystals were dispersed in an amount of 0.04 parts. Using 200 g of 8-1.2 mmφ glass beads, wet grinding was performed with a sand grinder (manufactured by IMEX Co., Ltd.) to obtain 80 parts of a pulverized slurry.
As shown in Table 2, the weight ratio of Form I crystals to Form II crystals contained in Compound A was arbitrarily changed.

2.分散媒の調製
水19.55部に1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン(商品名:PROXEL GXL、アビシア(株)製)0.05部、キサンタンガム(商品名:KELZAN ASX、CP Kelco社製)0.1部、スメクタイトクレー(商品名:VEEGUM R、R.T.Vanderbilt社製)0.3部の順に分散させ分散媒20部を得た。
2. Preparation of dispersion medium In 19.55 parts of water, 0.05 part of 1,2-benzisothiazolin-3-one (trade name: PROXEL GXL, manufactured by Avisia), xanthan gum (trade name: KELZAN ASX, manufactured by CP Kelco) ) 0.1 part and 0.3 part of smectite clay (trade name: VEEGUM R, manufactured by RT Vanderbilt) were dispersed in this order to obtain 20 parts of a dispersion medium.

3.水性懸濁農薬組成物の調製
上記粉砕スラリー80部と分散媒20部を混合して、均一な水性懸濁状農薬組成物100部を得た。
3. Preparation of aqueous suspension pesticide composition 80 parts of the pulverized slurry and 20 parts of dispersion medium were mixed to obtain 100 parts of a uniform aqueous suspension pesticide composition.

例4(含有率 I形結晶:II形結晶=100:0)で得られた、製造直後の水性懸濁状農薬組成物を約5g採取し、遠心分離器にかけ上澄みを除去した。得られた沈降物を濾紙上に広げデシケータ内で乾燥させた。得られた乾燥物の粉末X線回折を測定した結果、図3の回折パターンを示し、図1と実質同一の回折パターンを示した。つまり、水性懸濁農薬組成物の調製の段階で、I形結晶の転移は認められなかった。   About 5 g of the aqueous suspension pesticide composition obtained immediately after production obtained in Example 4 (content ratio Form I crystal: Form II crystal = 100: 0) was collected and centrifuged to remove the supernatant. The obtained sediment was spread on a filter paper and dried in a desiccator. As a result of measuring the powder X-ray diffraction of the obtained dried product, the diffraction pattern of FIG. 3 was shown, which was substantially the same as that of FIG. That is, no transition of Form I crystals was observed during the preparation of the aqueous suspension pesticide composition.

また、例17(含有率 I形結晶:II形結晶=0:100)で得られた、製造直後の水性懸濁状農薬組成物を約5g採取し、遠心分離器にかけ上澄みを除去した。得られた沈降物を濾紙上に広げデシケータ内で乾燥させた。得られた乾燥物の粉末X線回折を測定した結果、図4の回折パターンを示し、図2と実質同一の回折パターンを示した。つまり、水性懸濁農薬組成物の調製の段階で、II形結晶の転移は認められなかった。   Further, about 5 g of the aqueous suspension pesticide composition obtained immediately after production obtained in Example 17 (content rate form I crystal: form II crystal = 0: 100) was collected and centrifuged to remove the supernatant. The obtained sediment was spread on a filter paper and dried in a desiccator. As a result of measuring the powder X-ray diffraction of the obtained dried product, the diffraction pattern of FIG. 4 was shown and the diffraction pattern substantially the same as FIG. 2 was shown. That is, no transition of Form II crystals was observed at the stage of preparation of the aqueous suspension pesticide composition.

得られた水性懸濁状農薬組成物の製造直後と、更にこれらを8ml容のバイアル瓶にいれ
、54℃の恒温槽で14日間保存した後の粒子径を測定した。また、平均粒径測定は以下に示す測定条件で行った。
〔平均粒径測定〕
機種名:ベックマンコールター社製 粒度分布測定機LS−13320
測定法:レーザ回折散乱法
結果を第2表に示す。但し、「%」は重量%を意味する。
Immediately after the production of the obtained aqueous suspension pesticide composition, and after placing them in an 8 ml vial, the particle diameter was measured after storage in a thermostatic bath at 54 ° C. for 14 days. The average particle size was measured under the following measurement conditions.
(Average particle size measurement)
Model name: Particle size distribution measuring machine LS-13320 manufactured by Beckman Coulter
Measurement method: Laser diffraction scattering method The results are shown in Table 2. However, “%” means% by weight.

Figure 0006566217
Figure 0006566217

本発明によれば、化合物Aの2種類の結晶形を製造することが可能となる。また、該結晶形を含有する懸濁状組成物は、保存安定性が良好であり、有害生物防除剤として有用である。   According to the present invention, it is possible to produce two types of crystal forms of Compound A. In addition, the suspension composition containing the crystal form has good storage stability and is useful as a pest control agent.

Claims (2)

(Z)−4−[5−(3,5−ジクロロフェニル)−5−トリフルオロメチル−4,5−ジヒドロイソキサゾール−3−イル]−N−(メトキシイミノメチル)−2−メチル安息香酸アミドの結晶及び分散媒を含有する懸濁状組成物であって、該結晶のうち、Cu−Kα線による粉末X線回折において、回折角2θ=(7.45±0.2、11.05±0.2、12.79±0.2、15.30±0.2、20.90±0.2、21.89±0.2及び24.32±0.2)にピークを有する結晶形であるI形結晶の含有率が、50乃至100重量%であり、
前記分散媒が水である、懸濁状組成物。
(Z) -4- [5- (3,5-dichlorophenyl) -5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl] -N- (methoxyiminomethyl) -2-methylbenzoic acid A suspension composition containing an amide crystal and a dispersion medium, wherein a diffraction angle 2θ = (7.45 ± 0.2, 11.05) in powder X-ray diffraction by Cu-Kα ray of the crystal. ± 0.2, 12.79 ± 0.2, 15.30 ± 0.2, 20.90 ± 0.2, 21.89 ± 0.2 and 24.32 ± 0.2) the content of form I crystal of the form is, Ri 50 to 100 wt% der,
The dispersion medium is Ru Ah with water, suspension composition.
更に界面活性剤を含有する、請求項1載の懸濁状組成物。 Further comprises a surfactant, suspension composition of claim 1 Symbol placement.
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