JP6565780B2 - ウェーハ端面研磨パッド、ウェーハ端面研磨装置、及びウェーハ端面研磨方法 - Google Patents
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Description
(1)おもて面及び裏面からなる主面の形状が略矩形であり、ウェーハの端面を研磨するためのパッドであって、
前記パッドの短手方向両端に開口した複数本の溝が、前記パッドの長手方向に間隔をあけて、前記パッドの短手方向に沿って配置されていることを特徴とする、ウェーハ端面研磨パッド。
前記ウェーハの端面と接触可能な位置に配置されたパッドと、
前記ウェーハの端面にスラリーを供給するスラリー供給機構と、
を有し、前記ステージによって回転された前記ウェーハの端面を前記パッドで研磨するウェーハの端面研磨装置であって、
前記パッドが、上記(1)〜(7)のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッドであり、前記ウェーハの回転方向と前記ウェーハ端面研磨パッドの長手方向とが一致することを特徴とするウェーハ端面研磨装置。
少なくとも前記第一のパッドが、上記(1)〜(7)のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッドである、上記(8)に記載のウェーハ端面研磨装置。
前記パッドが、上記(1)〜(7)のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッドであり、前記ウェーハの回転方向と前記ウェーハ端面研磨パッドの長手方向とが一致することを特徴とするウェーハ端面研磨方法。
まず、図6及び図7を参照して、本発明の実施形態によるウェーハ端面研磨装置及びウェーハ端面研磨方法を説明する。
図1(A),(B)を参照して、本発明の一実施形態による、ウェーハの端面を研磨するための端面研磨パッド10は、おもて面11A及び裏面11Bからなる主面の形状が矩形であって、パッドの短手方向X両端12A,12Bに開口した複数本の溝14が、パッドの長手方向Yに間隔をあけて、パッドの短手方向Xに沿って配置されていることを特徴とする。この端面研磨パッドは、上記端面研磨装置100,200において、第一の研磨パッド66A、第二の研磨パッド66B、及び第三の研磨パッド66Cの少なくとも一つとして用いられる。特に、下べベル部領域用の第一の研磨パッド66Aとして用いることが好ましい。このとき、端面研磨パッド10は、ウェーハWの回転方向とパッドの長手方向Yとが一致するように配置される。また、端面研磨パッド10の両主面のうち、溝を設けた面をおもて面11Aとし、その反対面を裏面11Bとしたとき、おもて面11Aがウェーハ端面と対向して、接触する。この状態でウェーハWの端面研磨を行うことによって、スラリーの大半が溝14にガイドされて、当該端面研磨パッド10の下方に落下しやすくなり、その結果スラリーがステージの外周端の方向へと飛散しにくくなる。そのため、端面研磨後のウェーハWの裏面におけるLPDが低減される。さらに、ウェーハ保持パッド62の使用寿命が長くなることによって、資材コストが低減でき、パッド交換に伴う生産性の低下を防ぐことができる。第二の研磨パッド66B及び第三の研磨パッド66Cに関しては、従来の端面研磨パッドを用いてもよいが、本実施形態の端面研磨パッド10を用いれば、スラリーの飛散をさらに抑制できるため好ましい。
図1に示す主面が矩形の端面研磨パッド10を、その短手方向片端12Aが鉛直方向上側、他端12Bが鉛直方向下側に位置するように、図6に示す端面研磨装置のパッド保持体64Aに貼り付けて、直径300mmのシリコンウェーハの端面を研磨する試験を行った。端面研磨パッドは、ポリエステル繊維にポリウレタン樹脂を含浸させてなるものとし、厚さは3.0mm、短手方向長さDは25mm、長手方向長さLは64mmとした。溝幅は1mm、隣接する溝間の間隔は7mm、溝の本数は7本とした。このような条件でコロイダルシリカ(SiO2)5%を水酸化カリウム(KOH)1500ppmで調整した水溶液(pH:10〜11.2)をスラリーとしてウェーハ端面に供給して、ウェーハ回転数10rpm、端面研磨パッドの回転数350rpmとして、端面研磨を順次行い、合計300枚のシリコンウェーハの端面研磨を行った。
図4に示す矩形の端面研磨パッド40を用いたこと以外は、発明例1と同様にして試験を行った。溝の傾斜角θ4は30度とした。溝幅、隣接する溝間の間隔、及び溝の本数は発明例1と同じである。
溝のない矩形の端面研磨パッドを用いたこと以外は、発明例1と同様にして試験を行った。
研磨後のシリコンウェーハの裏面のLPD個数を以下の方法で評価した。表面欠陥検査装置(KLA-Tencor社製:Surfscan SP-2)を用いてDWOモード(Dark Field Wide Obliqueモード:暗視野・ワイド・斜め入射モード)でシリコンウェーハの裏面を観察評価し、サイズ(直径)が120nm以上のLPDの発生状況を調べた。結果を表1に示す。
11A おもて面
11B 裏面
12A,12B 短手方向両端
14,16,18 溝
X パッドの短手方向
Y パッドの長手方向
θ4 溝の延在方向とパッドの短手方向とのなす角
L パッドの長手方向長さ
D パッドの短手方向長さ
S 端面研磨領域(端面との接触領域)
100,200 ウェーハ端面研磨装置
60 ステージ
62 ウェーハ保持パッド
64A 第一パッド保持体(下ベベル領域用)
64B 第二パッド保持体(上ベベル領域用)
64C 第三パッド保持体(最外周領域用)
66A 第一の研磨パッド(下ベベル領域用)
66B 第二の研磨パッド(上ベベル領域用)
66C 第三の研磨パッド(最外周領域用)
68 ノズル(スラリー供給機構)
W ウェーハ
Claims (12)
- おもて面及び裏面からなる主面の形状が略矩形であり、ウェーハの端面を研磨するためのパッドであって、
前記パッドの短手方向両端に開口した複数本の溝が、前記パッドの長手方向に間隔をあけて、前記パッドの短手方向に沿って配置されており、前記パッドの短手方向長さが23〜27mmであり、前記パッドの長手方向長さが62〜66mmであることを特徴とする、ウェーハ端面研磨パッド。 - 前記溝がストレートに延在する請求項1に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- 前記溝の延在方向と前記パッドの短手方向とのなす角が0〜60度である請求項2に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- 前記主面の形状が矩形である請求項1〜3のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- 前記主面の形状が、一組の長辺が互いに平行であり、2つの短辺と前記長辺のうち長い辺とのなす角がそれぞれ85〜95度である形状である請求項1〜3のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- 前記主面の形状が、外側長辺及び内側長辺が、2つの短辺の延長線の交点を中心とする円の一部となる形状である請求項1〜3のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- おもて面及び裏面からなる主面の形状が略矩形であり、ウェーハの端面を研磨するためのパッドであって、
前記パッドの短手方向両端に開口した複数本の溝が、前記パッドの長手方向に間隔をあけて、前記パッドの短手方向に沿って配置されており、前記主面の形状が、外側長辺及び内側長辺が、2つの短辺の延長線の交点を中心とする円の一部となる形状であることを特徴とする、ウェーハ端面研磨パッド。 - 前記溝がストレートに延在する請求項7に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- 前記溝の延在方向と前記パッドの短手方向とのなす角が0〜60度である請求項8に記載のウェーハ端面研磨パッド。
- ウェーハを真空吸着して保持しつつ回転可能なステージと、
前記ウェーハの端面と接触可能な位置に配置されたパッドと、
前記ウェーハの端面にスラリーを供給するスラリー供給機構と、
を有し、前記ステージによって回転された前記ウェーハの端面を前記パッドで研磨するウェーハの端面研磨装置であって、
前記パッドが、請求項1〜9のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッドであり、前記ウェーハの回転方向と前記ウェーハ端面研磨パッドの長手方向とが一致することを特徴とするウェーハ端面研磨装置。 - 前記パッドは、前記ウェーハの端面のうち、前記ウェーハの吸着面と隣接する下ベベル領域を研磨する第一のパッドと、前記ウェーハの端面のうち、前記ウェーハの吸着面と反対側の面と隣接する上ベベル領域を研磨する第二のパッドと、前記ウェーハの端面のうち、前記下ベベル領域と前記上ベベル領域とに挟まれた最外周領域を研磨する第三のパッドと、を有し、
少なくとも前記第一のパッドが、請求項1〜9のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッドである、請求項10に記載のウェーハ端面研磨装置。 - ウェーハを真空吸着して保持しつつ回転可能なステージと、前記ウェーハの端面と接触可能な位置に配置されたパッドと、前記ウェーハの端面にスラリーを供給するスラリー供給機構と、を有するウェーハ端面研磨装置を用いて、前記ステージによって回転された前記ウェーハの端面を前記パッドで研磨するウェーハの端面研磨方法であって、
前記パッドが、請求項1〜9のいずれか一項に記載のウェーハ端面研磨パッドであり、前記ウェーハの回転方向と前記ウェーハ端面研磨パッドの長手方向とが一致することを特徴とするウェーハ端面研磨方法。
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