JP6559136B2 - Insulating sheet - Google Patents

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Description

関連出願の相互参照Cross-reference of related applications

本願は、日本国特願2014−153477号の優先権を主張し、引用によって本願明細書の記載に組み込まれる。   This application claims the priority of Japanese Patent Application No. 2014-153477, and is incorporated into the description of this specification by reference.

本発明は、絶縁シートに関する。   The present invention relates to an insulating sheet.

従来、絶縁シートは、被着体に接着されて用いられる接着シート(例えば、電子部品と、該電子部品が発した熱を外部に放出させる放熱部材との間に介装されて用いられる絶縁シート等)は、エポキシ樹脂及び無機フィラーを含有している。   Conventionally, an insulating sheet is an adhesive sheet that is used by being bonded to an adherend (for example, an insulating sheet that is interposed between an electronic component and a heat radiating member that releases heat generated by the electronic component to the outside) Etc.) contains an epoxy resin and an inorganic filler.

例えば、特許文献1には、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含む樹脂組成物により形成された樹脂シートと、金属箔により形成された金属層とが積層された絶縁シートが記載されている。   For example, Patent Document 1 describes an insulating sheet in which a resin sheet formed of a resin composition containing an epoxy resin and an inorganic filler and a metal layer formed of a metal foil are laminated.

日本国特開2006−191150号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-191150

ところで、昨今では、絶縁性、接着性、及び、熱伝導性がより一層優れた絶縁シートが求められることがあるが、従来の絶縁シートでは、斯かる要求を十分満足できない場合がある。   By the way, in recent years, there are cases where an insulating sheet having even better insulating properties, adhesiveness, and thermal conductivity is required. However, conventional insulating sheets may not sufficiently satisfy such requirements.

本発明は、上記要望点に鑑み、絶縁性、接着性、及び、熱伝導性に優れる絶縁シートを提供することを課題とする。   This invention makes it a subject to provide the insulating sheet excellent in insulation, adhesiveness, and heat conductivity in view of the said request point.

本発明は、3層以上の層構造となっている絶縁シートであって、
被着体に接着されて用いられ、
前記被着体に接着される第1表面層と、
前記第1表面層とは反対側の面となる第2表面層と、
前記第1表面層に内側から接する中間層とを備えており、
前記第1表面層が、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有し、
前記中間層は、前記第1表面層よりも無機成分の体積含有率が高く、前記第1表面層よりも熱伝導率が高く、
前記第1表面層は、前記中間層よりも厚みが小さく、厚み方向での前記中間層との熱抵抗の差が±5℃/W以内である、絶縁シートにある。
The present invention is an insulating sheet having a layer structure of three or more layers,
Used by adhering to the adherend,
A first surface layer adhered to the adherend;
A second surface layer that is a surface opposite to the first surface layer;
An intermediate layer in contact with the first surface layer from the inside,
The first surface layer contains an epoxy resin and an inorganic filler,
The intermediate layer has a higher volume content of inorganic components than the first surface layer, and a higher thermal conductivity than the first surface layer,
The first surface layer is an insulating sheet having a thickness smaller than that of the intermediate layer and having a difference in thermal resistance with the intermediate layer in the thickness direction within ± 5 ° C./W.

ここで、本発明に係る絶縁シートの一態様として、前記中間層は、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有する。   Here, as an aspect of the insulating sheet according to the present invention, the intermediate layer contains an epoxy resin and an inorganic filler.

また、本発明に係る絶縁シートの他態様として、前記中間層は、セラミックプレートで構成されている。   Moreover, the said intermediate | middle layer is comprised with the ceramic plate as another aspect of the insulating sheet which concerns on this invention.

さらに、前記中間層がセラミックプレートで構成されている絶縁シートの一態様として、前記セラミックプレートは、前記セラミックプレートが、アルミナプレート、窒化アルミニウムプレート、又は、窒化ケイ素プレートである。   Furthermore, as an aspect of the insulating sheet in which the intermediate layer is formed of a ceramic plate, the ceramic plate is an alumina plate, an aluminum nitride plate, or a silicon nitride plate.

一実施形態に係る絶縁シートの概略断面図。The schematic sectional drawing of the insulating sheet which concerns on one Embodiment. 塗工装置を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows a coating apparatus.

以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一実施形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

本実施形態に係る絶縁シートは、3層以上の層構造となっている絶縁シートである。また、本実施形態に係る絶縁シートは、被着体に接着されて用いられる。さらに、本実施形態に係る絶縁シートは、前記被着体に接着される第1表面層と、前記第1表面層とは反対側の面となる第2表面層と、前記第1表面層に内側から接する中間層とを備えている。前記第1表面層は、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有する。前記中間層は、前記第1表面層よりも無機成分の体積含有率が高く、前記第1表面層よりも熱伝導率が高い。前記第1表面層は、前記中間層よりも厚みが小さく、厚み方向での前記中間層との熱抵抗の差が±5℃/W以内である。   The insulating sheet according to the present embodiment is an insulating sheet having a layer structure of three or more layers. Further, the insulating sheet according to the present embodiment is used by being adhered to an adherend. Furthermore, the insulating sheet according to the present embodiment includes a first surface layer that is bonded to the adherend, a second surface layer that is a surface opposite to the first surface layer, and the first surface layer. And an intermediate layer in contact with the inside. The first surface layer contains an epoxy resin and an inorganic filler. The intermediate layer has a higher volume content of inorganic components than the first surface layer, and a higher thermal conductivity than the first surface layer. The first surface layer has a smaller thickness than the intermediate layer, and a difference in thermal resistance with the intermediate layer in the thickness direction is within ± 5 ° C./W.

以下、3層構造となっている絶縁シートを例にして、本実施形態に係る絶縁シートについて説明する。   Hereinafter, the insulating sheet according to the present embodiment will be described using an insulating sheet having a three-layer structure as an example.

本実施形態に係る絶縁シートは、電子部品と、該電子部品が発した熱を外部に放出させる放熱部材との間に介装されて用いられる絶縁シートである。   The insulating sheet according to the present embodiment is an insulating sheet that is used by being interposed between an electronic component and a heat radiating member that releases heat generated by the electronic component to the outside.

図1に示すように、本実施形態に係る絶縁シート1は、一面側の第1表面層2と、他面側の第2表面層3と、前記第1表面層2および前記第2表面層3の間に設けられ、且つ、前記第1表面層2および前記第2表面層3に接する中間層4とを備えている。   As shown in FIG. 1, the insulating sheet 1 according to the present embodiment includes a first surface layer 2 on one side, a second surface layer 3 on the other side, the first surface layer 2 and the second surface layer. 3 and an intermediate layer 4 in contact with the first surface layer 2 and the second surface layer 3.

前記第1表面層2、前記第2表面層3、および、前記中間層4は、それぞれエポキシ樹脂と無機フィラーとを含有する。   The first surface layer 2, the second surface layer 3, and the intermediate layer 4 each contain an epoxy resin and an inorganic filler.

前記第1表面層2および前記第2表面層3は、それぞれ前記中間層4よりも無機成分たる無機フィラーの体積含有率が小さい層である。
前記第1表面層2および前記第2表面層3は、それぞれ前記中間層4よりも無機フィラーの体積含有率が小さいので、前記第1表面層2および前記第2表面層3におけるエポキシ樹脂の体積含有率を前記中間層4におけるエポキシ樹脂の体積含有率よりも大きくすることができる。また、エポキシ樹脂は、無機成分たる無機フィラーと異なり優れた接着性を有する。よって、前記第1表面層2および前記第2表面層3は、接着性に優れたものとなり、その結果、本実施形態に係る絶縁シート1は、接着性に優れたものとなる。
また、前記第1表面層および前記第2表面層は、それぞれ前記中間層よりも無機成分たる無機フィラーの体積含有率が小さいことにより、クラックが生じ難い。よって、前記第1表面層2および前記第2表面層3は、絶縁性に優れたものとなり、その結果、本実施形態に係る絶縁シート1は、絶縁性に優れたものとなる。
前記中間層4は、無機フィラーの体積含有率が、好ましくは50体積%以上であり、より好ましくは50〜70体積%である。
前記第1表面層2および前記第2表面層3の各層は、無機フィラーの体積含有率が、好ましくは60体積%以下であり、より好ましくは30〜60体積%である。
なお、体積は20℃における体積を意味する。
The first surface layer 2 and the second surface layer 3 are layers each having a smaller volume content of an inorganic filler that is an inorganic component than the intermediate layer 4.
Since the first surface layer 2 and the second surface layer 3 each have a smaller volume content of the inorganic filler than the intermediate layer 4, the volume of the epoxy resin in the first surface layer 2 and the second surface layer 3. The content can be made larger than the volume content of the epoxy resin in the intermediate layer 4. Moreover, the epoxy resin has excellent adhesiveness unlike the inorganic filler which is an inorganic component. Therefore, the said 1st surface layer 2 and the said 2nd surface layer 3 become the thing excellent in adhesiveness, As a result, the insulating sheet 1 which concerns on this embodiment becomes the thing excellent in adhesiveness.
In addition, the first surface layer and the second surface layer are less likely to cause cracks because the volume content of the inorganic filler, which is an inorganic component, is smaller than that of the intermediate layer. Therefore, the first surface layer 2 and the second surface layer 3 are excellent in insulation, and as a result, the insulating sheet 1 according to the present embodiment is excellent in insulation.
In the intermediate layer 4, the volume content of the inorganic filler is preferably 50% by volume or more, and more preferably 50 to 70% by volume.
Each layer of the first surface layer 2 and the second surface layer 3 has an inorganic filler volume content of preferably 60% by volume or less, more preferably 30 to 60% by volume.
The volume means the volume at 20 ° C.

前記中間層4は、前記第1表面層及び前記第2表面層よりも熱伝導率が高い。
前記中間層4は、熱伝導率が、好ましくは10〜50W/(m・K)であり、より好ましくは10〜30W/(m・K)である。
前記第1表面層は、熱伝導率が、好ましくは10〜50W/(m・K)であり、より好ましくは10〜30W/(m・K)である。また、前記第2表面層は、熱伝導率が、好ましくは10〜50W/(m・K)であり、より好ましくは10〜30W/(m・K)である。
なお、熱伝導率は、JIS A1412−1:1999に規定されている方法により測定することができる。
The intermediate layer 4 has higher thermal conductivity than the first surface layer and the second surface layer.
The intermediate layer 4 has a thermal conductivity of preferably 10 to 50 W / (m · K), more preferably 10 to 30 W / (m · K).
The first surface layer has a thermal conductivity of preferably 10 to 50 W / (m · K), more preferably 10 to 30 W / (m · K). The second surface layer has a thermal conductivity of preferably 10 to 50 W / (m · K), more preferably 10 to 30 W / (m · K).
In addition, thermal conductivity can be measured by the method prescribed | regulated to JISA1412-1: 1999.

前記第1表面層2および前記第2表面層3は、それぞれ前記中間層4よりも厚みが小さい。本実施形態に係る絶縁シート1は、斯かる構成により、熱伝導性に優れたものとなる。
前記中間層4は、厚みが、好ましくは100〜300μmであり、より好ましくは100〜200μmである。
前記第1表面層2は、厚みが、好ましくは30〜100μmであり、より好ましくは30〜80μmである。また、前記第2表面層3は、厚みが、好ましくは30〜100μmであり、より好ましくは30〜80μmである。
なお、厚みは、マイクロメーターにより測定することができる。
The first surface layer 2 and the second surface layer 3 each have a smaller thickness than the intermediate layer 4. The insulation sheet 1 which concerns on this embodiment becomes the thing excellent in heat conductivity by such structure.
The intermediate layer 4 has a thickness of preferably 100 to 300 μm, more preferably 100 to 200 μm.
The first surface layer 2 has a thickness of preferably 30 to 100 μm, more preferably 30 to 80 μm. The second surface layer 3 has a thickness of preferably 30 to 100 μm, more preferably 30 to 80 μm.
The thickness can be measured with a micrometer.

前記第1表面層2は、厚み方向での前記中間層4との熱抵抗の差が±5℃/W以内である。本実施形態に係る絶縁シート1では、斯かる構成により、熱溜まりが生じ難くなる。その結果、本実施形態に係る絶縁シート1は、熱伝導性に優れたものとなる。
前記第2表面層3は、厚み方向での前記中間層4との熱抵抗の差が±5℃/W以内であることが好ましい。
前記第1表面層2は、熱抵抗が、好ましくは75℃/W以下であり、より好ましくは6〜20℃/Wである。前記第2表面層3は、それぞれ熱抵抗が、好ましくは75℃/W以下であり、より好ましくは6〜20℃/Wである。前記中間層4は、熱抵抗が、好ましくは75℃/W以下であり、より好ましくは6〜20℃/Wである。
前記第1表面層2は、厚み方向での前記中間層4との熱抵抗の差が±3℃/W以内であることが好ましい。前記第2表面層3は、厚み方向での前記中間層4との熱抵抗の差が±3℃/W以内であることが好ましい。
前記第1表面層2の厚み方向での熱抵抗に対する、前記中間層4の厚み方向での抵抗の比が、好ましくは8/10〜10/8であり、より好ましくは9/10〜10/9である。前記第2表面層3の厚み方向での熱抵抗に対する、前記中間層4の厚み方向での抵抗の比が、好ましくは8/10〜10/8であり、より好ましくは9/10〜10/9である。
なお、熱抵抗は、JIS A1412−1:1999に規定されている方法により測定することができる。
各層の性質(熱抵抗、厚み、熱伝導率等)は、絶縁シートを研磨して測定対象の層を露出させることで測定することができる。
The difference in thermal resistance between the first surface layer 2 and the intermediate layer 4 in the thickness direction is within ± 5 ° C./W. In the insulating sheet 1 according to the present embodiment, such a configuration makes it difficult for heat accumulation to occur. As a result, the insulating sheet 1 according to the present embodiment is excellent in thermal conductivity.
The second surface layer 3 preferably has a difference in thermal resistance within ± 5 ° C./W with respect to the intermediate layer 4 in the thickness direction.
The first surface layer 2 has a thermal resistance of preferably 75 ° C./W or less, more preferably 6 to 20 ° C./W. Each of the second surface layers 3 has a thermal resistance of preferably 75 ° C./W or less, more preferably 6 to 20 ° C./W. The intermediate layer 4 has a thermal resistance of preferably 75 ° C./W or less, more preferably 6 to 20 ° C./W.
The first surface layer 2 preferably has a difference in thermal resistance with the intermediate layer 4 in the thickness direction within ± 3 ° C./W. The second surface layer 3 preferably has a difference in thermal resistance with the intermediate layer 4 in the thickness direction within ± 3 ° C./W.
The ratio of the resistance in the thickness direction of the intermediate layer 4 to the thermal resistance in the thickness direction of the first surface layer 2 is preferably 8/10 to 10/8, more preferably 9/10 to 10 /. Nine. The ratio of the resistance in the thickness direction of the intermediate layer 4 to the thermal resistance in the thickness direction of the second surface layer 3 is preferably 8/10 to 10/8, more preferably 9/10 to 10 /. Nine.
The thermal resistance can be measured by the method defined in JIS A1412-1: 1999.
The properties (thermal resistance, thickness, thermal conductivity, etc.) of each layer can be measured by polishing the insulating sheet and exposing the layer to be measured.

本実施形態に係る絶縁シートの絶縁破壊電圧(BDV)は、2kV以上であることが好ましく、3kV以上であることがより好ましい。
BDVは、JIS K6911:1995に基づいて測定することができる。
The dielectric breakdown voltage (BDV) of the insulating sheet according to the present embodiment is preferably 2 kV or more, and more preferably 3 kV or more.
BDV can be measured based on JIS K6911: 1995.

本実施形態に係る絶縁シートは、パワートランジスタ等の電子部品と、放熱フィン等の放熱部材の間に介装されて用いられる。   The insulating sheet according to the present embodiment is used by being interposed between an electronic component such as a power transistor and a heat radiating member such as a heat radiating fin.

本実施形態に係る絶縁シートは、上記の如く構成されているが、次に、本実施形態に係る絶縁シートを製造するための製造方法について説明する。   The insulating sheet according to the present embodiment is configured as described above. Next, a manufacturing method for manufacturing the insulating sheet according to the present embodiment will be described.

前記製造方法では、第1表面層2となる第1樹脂シートと、中間層4となる第3樹脂シートと、第2表面層3となる第2樹脂シートとを熱プレスする熱プレス工程を実施することで、本実施形態に係る絶縁シートを得ることができる。   In the manufacturing method, a hot pressing step is performed in which the first resin sheet to be the first surface layer 2, the third resin sheet to be the intermediate layer 4, and the second resin sheet to be the second surface layer 3 are hot pressed. Thus, the insulating sheet according to the present embodiment can be obtained.

まず、樹脂シート(第1樹脂シート、第2樹脂シート、及び、第3樹脂シート)の製造方法について説明する。
樹脂シートの製造方法は、無機フィラーと、エポキシ樹脂と、必要に応じて揮発性溶媒とその他の成分とを一般的な方法で混合して、樹脂組成物を調製する樹脂組成物調製工程と、該樹脂組成物をシート状に成形して樹脂シートを形成する樹脂シート形成工程とを備えている。
First, the manufacturing method of the resin sheet (1st resin sheet, 2nd resin sheet, and 3rd resin sheet) is demonstrated.
The resin sheet manufacturing method is a resin composition preparation step of preparing a resin composition by mixing an inorganic filler, an epoxy resin, and if necessary, a volatile solvent and other components by a general method, A resin sheet forming step of forming the resin composition by forming the resin composition into a sheet shape.

前記樹脂組成物調製工程における樹脂組成物の作製方法としては、例えば、エポキシ樹脂を揮発性溶媒で溶解し、更に無機フィラーやその他の成分を加え混合する方法を採用することができる。また、例えば、エポキシ樹脂を加熱溶融しながら、前記無機フィラーとこの加熱溶融したエポキシ樹脂とその他の成分とをミキサー等によって混合する方法を採用することができる。   As a method for preparing the resin composition in the resin composition preparation step, for example, a method in which an epoxy resin is dissolved in a volatile solvent and an inorganic filler or other component is added and mixed can be employed. Further, for example, a method of mixing the inorganic filler, the heated and melted epoxy resin and other components with a mixer or the like while heating and melting the epoxy resin can be employed.

前記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂等の各種のエポキシ樹脂を単独または2種以上併用して採用することができる。   Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, modified bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, modified bisphenol F type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, Various epoxy resins such as dicyclopentadiene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and phenoxy resin can be used alone or in combination of two or more.

前記無機フィラーは、前記エポキシ樹脂よりも熱伝導率が高ければ特に限定されないが、例えば、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ガリウム、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、二酸化珪素、酸化マグネシウム、ダイヤモンドなどの粒子が挙げられる。
前記無機フィラーは、平均粒子径が10〜50μmであることが好ましい。
The inorganic filler is not particularly limited as long as it has a thermal conductivity higher than that of the epoxy resin. For example, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, gallium nitride, aluminum oxide, silicon carbide, silicon dioxide, magnesium oxide, diamond, etc. Particles.
The inorganic filler preferably has an average particle size of 10 to 50 μm.

前記樹脂組成物には、硬化剤、硬化促進剤を含有させて熱硬化性を付与することができる。
前記硬化剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ジアミノジフェニルスルホン、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、トリエチレンテトラミンなどのアミン系硬化剤、フェノールノボラック樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂、ビスフェノール系フェノール樹脂などのフェノール系硬化剤、酸無水物などを用いることができる。
中でも、電気特性における信頼性を確保し易い点において、フェノールノボラック樹脂、ジアミノジフェニルスルホンが好適である。
前記硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、イミダゾール類や、トリフェニルフォスフェイト(TPP)、三フッ化ホウ素モノエチルアミンなどのアミン系硬化促進剤が保存性などにおいて好適である。
The resin composition can be provided with a thermosetting property by containing a curing agent and a curing accelerator.
The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include amine curing agents such as diaminodiphenyl sulfone, dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, and triethylenetetramine, phenol novolac resins, aralkyl-type phenol resins, and dicyclopentadiene-modified phenols. Resin, phenolic curing agents such as naphthalene type phenolic resin and bisphenolic phenolic resin, acid anhydrides and the like can be used.
Among these, phenol novolac resin and diaminodiphenyl sulfone are preferable in that it is easy to ensure reliability in electrical characteristics.
The curing accelerator is not particularly limited, but amine-based curing accelerators such as imidazoles, triphenyl phosphate (TPP), and boron trifluoride monoethylamine are preferable in terms of storage stability.

前記その他の成分としては、分散剤、粘着性付与剤、老化防止剤、酸化防止剤、加工助剤、安定剤、消泡剤、難燃剤、増粘剤、顔料などといったプラスチック配合薬品として一般に用いられるその他の成分を本発明の効果を損なわない範囲において適宜加えることができる。   The other components are generally used as plastic compounding chemicals such as dispersants, tackifiers, anti-aging agents, antioxidants, processing aids, stabilizers, antifoaming agents, flame retardants, thickeners, pigments, etc. Other components that can be added can be appropriately added as long as the effects of the present invention are not impaired.

前記揮発性溶媒は、前記樹脂組成物に含まれる成分を均一分散させるべく用いられる。
前記揮発性溶媒としては、特に限定されないが、樹脂シート形成工程時において揮発除去が容易であるという点で、沸点が120℃以下のものが好ましい。また、樹脂組成物との反応性がないという点で、メチルエチルケトン、アセトン、トルエン等を用いることが好ましい。
The volatile solvent is used to uniformly disperse components contained in the resin composition.
Although it does not specifically limit as said volatile solvent, A boiling point of 120 degrees C or less is preferable at the point that volatilization removal is easy at the time of a resin sheet formation process. Moreover, it is preferable to use methyl ethyl ketone, acetone, toluene, etc. at the point that there is no reactivity with a resin composition.

前記樹脂シート形成工程では、例えば、揮発性溶媒が用いられるなどして樹脂組成物として常温で液状のものを用いる場合には、図2に示すような一般的な塗工装置により、樹脂シートを形成させるための樹脂組成物5を支持層6の一面側に塗工し、続いて、樹脂組成物5を乾燥させることにより支持層6上に樹脂シートを形成させることができる。   In the resin sheet forming step, for example, when a volatile solvent is used and a resin composition that is liquid at room temperature is used, the resin sheet is formed by a general coating apparatus as shown in FIG. A resin sheet can be formed on the support layer 6 by coating the resin composition 5 to be formed on one side of the support layer 6 and then drying the resin composition 5.

前記樹脂組成物5を塗工する方法としては、特に限定されず、ドクターブレード法、コーター法、押し出し成形法、スクリーン印刷法、メタルマスク印刷法などを採用できる。   The method for applying the resin composition 5 is not particularly limited, and a doctor blade method, a coater method, an extrusion molding method, a screen printing method, a metal mask printing method, and the like can be employed.

前記樹脂組成物5を乾燥する方法としては、常圧での加温による乾燥方法の他、真空条件下で前記樹脂組成物5中の揮発性溶媒を揮発除去させる方法も採用できる。前記樹脂組成物5中に揮発性溶媒が含まれている場合、通常、この乾燥により樹脂組成物5が乾燥し固化する。前記樹脂組成物5を乾燥する温度としては、特に限定されないが、樹脂組成物5に配合された揮発性溶媒の沸点以上であってエポキシ樹脂の完全硬化温度以下の温度が好ましく、通常は70〜130℃が適当である。   As a method of drying the resin composition 5, a method of removing the volatile solvent in the resin composition 5 by volatilization and removal under vacuum conditions can be employed in addition to a drying method by heating at normal pressure. When a volatile solvent is contained in the resin composition 5, the resin composition 5 is usually dried and solidified by this drying. The temperature for drying the resin composition 5 is not particularly limited, but is preferably a temperature not lower than the boiling point of the volatile solvent blended in the resin composition 5 and not higher than the complete curing temperature of the epoxy resin, usually 70 to 130 ° C is suitable.

前記樹脂シート形成工程では、図2に示したように支持層6を用いる場合、該支持層6としては、例えば、表面未処理の他、表面粗化処理、表面離型処理されたシート状のものを用いることができる。前記支持層6の材質としては、特に限定されるものではなく、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリイミドなどのプラスチック、銅、アルミニウム、ニッケルなどの金属等が挙げられる。なかでも、剥離性が良好で、外形加工性もよく、安価であるという点において、ポリエチレンテレフタレート(PET)が好ましい。前記支持層6の厚みとしては、通常、25〜188μmを例示できる。   In the resin sheet forming step, when the support layer 6 is used as shown in FIG. 2, the support layer 6 may be, for example, a sheet-like sheet that has been subjected to surface roughening treatment and surface release treatment in addition to surface untreatment. Things can be used. The material of the support layer 6 is not particularly limited, and examples thereof include plastics such as polyester, polyolefin, and polyimide, metals such as copper, aluminum, and nickel. Among these, polyethylene terephthalate (PET) is preferable in terms of good peelability, good external formability, and low cost. The thickness of the support layer 6 is typically 25 to 188 μm.

また、前記樹脂シート形成工程では、例えば、支持層6を一方で送り出すとともに他方で巻き取り、この送り出しと巻き取りとの間において液状の樹脂組成物5の塗工と乾燥とを連続的に実施させる、いわゆる「ロール トゥ ロール」などと呼ばれる生産性に優れた方法などを採用することもできる。   In the resin sheet forming step, for example, the support layer 6 is fed out on one side and wound up on the other side, and the liquid resin composition 5 is continuously applied and dried between the feeding and winding. A so-called “roll-to-roll” method with excellent productivity can be employed.

前記樹脂シートは、ボイドを有している。樹脂シートを熱プレスすることにより、樹脂シートのボイドを減少させることができるため、熱プレス後に形成される樹脂層の方が、樹脂シートよりも厚さが小さくなる。したがって、斯かる厚さの変化を考慮して、例えば、支持層に樹脂組成物を塗工する際の厚みを適切に設定することにより、所望の樹脂層の厚みとすることができる。   The resin sheet has a void. Since the voids of the resin sheet can be reduced by hot pressing the resin sheet, the thickness of the resin layer formed after the hot pressing is smaller than that of the resin sheet. Therefore, in consideration of such a change in thickness, for example, by appropriately setting the thickness when the resin composition is applied to the support layer, the thickness of the desired resin layer can be obtained.

尚、樹脂層が積層されている面の単位面積当たりの樹脂層の質量をw、樹脂層の厚さをm、樹脂層の密度をρとすると、下記式(1)で表される。
w=m×ρ (1)
また、樹脂層の密度ρは、樹脂シートにおいて、樹脂層の各成分の密度に、樹脂層における各成分の体積割合を乗じたものの和から算出することができる。若しくは、別途樹脂層を1層形成し、斯かる質量と体積を測定して、樹脂層の密度ρを算出しても良い。
更に、樹脂層の質量は、該樹脂層の形成に使用された樹脂組成物の質量から、熱プレス時に揮発する成分の質量分を引いて算出することができる。
従って、乾燥後の単位面積当たりの質量がwとなるように樹脂シートを形成させることにより、後段における熱プレス工程後の樹脂層の厚さを目的とする厚さmとすることができる。
In addition, when the mass of the resin layer per unit area of the surface where the resin layer is laminated is w, the thickness of the resin layer is m, and the density of the resin layer is ρ, it is expressed by the following formula (1).
w = m × ρ (1)
Further, the density ρ of the resin layer can be calculated from the sum of the density of each component of the resin layer multiplied by the volume ratio of each component in the resin layer in the resin sheet. Alternatively, a resin layer may be separately formed and the mass and volume may be measured to calculate the density ρ of the resin layer.
Furthermore, the mass of the resin layer can be calculated by subtracting the mass of the component that volatilizes during hot pressing from the mass of the resin composition used to form the resin layer.
Therefore, by forming the resin sheet so that the mass per unit area after drying is w, the thickness of the resin layer after the hot pressing step in the subsequent stage can be set to the target thickness m.

前記熱プレス工程では、まず、第1表面層となる第1樹脂シートと、中間層となる第3樹脂シートとが接するように、支持層付きの第1樹脂シートと、支持層付きの第3樹脂シートとを積層し熱プレスして、第1樹脂シートと第3樹脂シートとを接合することにより、両面に支持層を有する接合体を作製する。
そして、この接合体から第3樹脂シート側の支持層を剥離させる。
次に、第2表面層となる第2樹脂シートと、中間層となる第3樹脂シートとが接するように、支持層付きの第2樹脂シートと、支持層付きの接合体とを積層し熱プレスして、第2樹脂シートと第3樹脂シートとを接合することにより、両面に支持層を有する絶縁シートを作製する。
そして、絶縁シートの両面から支持層を剥離することにより、絶縁シートを得ることができる。
In the hot pressing step, first, the first resin sheet with the support layer and the third resin with the support layer are first brought into contact with the first resin sheet that becomes the first surface layer and the third resin sheet that becomes the intermediate layer. A resin sheet is laminated and hot-pressed to join the first resin sheet and the third resin sheet, thereby producing a joined body having support layers on both sides.
And the support layer by the side of the 3rd resin sheet is peeled from this joined body.
Next, the second resin sheet with the support layer and the joined body with the support layer are laminated so that the second resin sheet to be the second surface layer and the third resin sheet to be the intermediate layer are in contact with each other. The insulating sheet which has a support layer on both surfaces is produced by pressing and joining a 2nd resin sheet and a 3rd resin sheet.
And an insulating sheet can be obtained by peeling a support layer from both surfaces of an insulating sheet.

前記熱プレスでの圧力は、好ましくは1〜20MPa、より好ましくは2〜15MPaとする。   The pressure in the hot press is preferably 1 to 20 MPa, more preferably 2 to 15 MPa.

圧力以外の前記熱プレスの条件としては、特に限定されないが、温度40〜160℃、2秒〜10時間が例示できる。熱硬化をさらに促進するという点で40℃以上であることが好ましく、エポキシ樹脂の硬化反応が進みすぎて、電気が絶縁されるべき媒体間に接着できなくなることを防止するという点で160℃以下であることが好ましい。
また、ボイドを効率良く取り除き得るという点で、減圧下にて熱プレスを行うことがより好ましい。
Although it does not specifically limit as conditions of the said hot press other than a pressure, The temperature of 40-160 degreeC and 2 second-10 hours can be illustrated. It is preferably 40 ° C. or higher in terms of further promoting thermal curing, and 160 ° C. or lower in terms of preventing the epoxy resin curing reaction from proceeding excessively so that the electricity cannot be bonded between the media to be insulated. It is preferable that
Further, it is more preferable to perform hot pressing under reduced pressure in that voids can be efficiently removed.

前記熱プレス工程を実施した後、エポキシ樹脂は、未硬化の状態、より詳しくは、完全に硬化していない半硬化の状態であるのが好ましい。半硬化の状態としては、DSC測定において、全く硬化させていないエポキシ樹脂の発熱量を100%として、前記熱プレス工程を実施した後のエポキシ樹脂の発熱量が20〜85%の範囲であることが好ましい。   After the hot pressing step, the epoxy resin is preferably in an uncured state, more specifically in a semi-cured state that is not completely cured. As the semi-cured state, the calorific value of the epoxy resin that is not cured at all in DSC measurement is 100%, and the calorific value of the epoxy resin after the hot pressing step is in the range of 20 to 85%. Is preferred.

前記熱プレス工程は、加熱装置を備えているほかに、例えば、減圧装置を備えているプレス機、冷却装置を備えているプレス機、その他、多段プレス機などによって実施することができる。
また、前記熱プレスを実施する具体的方法としては、加熱プレスして自然冷却する方法、熱交換による加熱冷却一貫プレス方法、加熱プレスと冷却プレスとを分け加熱プレス後冷却プレスを行う方法等が例示される。
In addition to the heating device, the hot pressing step can be performed by, for example, a press machine equipped with a decompression device, a press machine equipped with a cooling device, and other multistage press machines.
In addition, as a specific method for carrying out the heat press, there are a method of heating and natural cooling, a method of consistently heating and cooling by heat exchange, a method of separating the heating press and the cooling press and performing a cooling press after the heating press, etc. Illustrated.

ところで、第3樹脂シートは、無機フィラーの体積含有率が高いので、ひび割れが生じやすい。しかし、前記製造方法では、第3樹脂シートを第1樹脂シート及び第2樹脂シートで覆い、熱プレスするので、熱プレスした際に第1樹脂シート及び第2樹脂シートのエポキシ樹脂でそのひび割れ箇所を埋めることができる。その結果、ひび割れが少ない絶縁シートを得ることができる。   By the way, since the 3rd resin sheet has high volume content of an inorganic filler, it is easy to produce a crack. However, in the manufacturing method, since the third resin sheet is covered with the first resin sheet and the second resin sheet and hot-pressed, the cracked portion of the epoxy resin of the first resin sheet and the second resin sheet is hot-pressed. Can be filled. As a result, an insulating sheet with few cracks can be obtained.

本実施形態の絶縁シートは、上記のように構成されているので、以下の利点を有するものである。   Since the insulating sheet of the present embodiment is configured as described above, it has the following advantages.

即ち、本実施形態の絶縁シート1は、3層以上の層構造となっている絶縁シートである。また、本実施形態に係る絶縁シートは、被着体に接着されて用いられる。さらに、本実施形態に係る絶縁シートは、前記被着体に接着される第1表面層2と、前記第1表面層2とは反対側の面となる第2表面層3と、前記第1表面層2に内側から接する中間層4とを備えている。前記第1表面層2は、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有する。前記中間層4は、前記第1表面層2よりも無機成分の体積含有率が高く、前記第1表面層2よりも熱伝導率が高い。前記第1表面層2は、前記中間層4よりも厚みが小さく、厚み方向での前記中間層4との熱抵抗の差が±5℃/W以内である。
斯かる絶縁シート1において、前記第1表面層2は、前記中間層4よりも無機成分の体積含有率が小さいので、前記第1表面層2におけるエポキシ樹脂の体積含有率を前記中間層4におけるエポキシ樹脂の体積含有率よりも大きくすることができる。また、エポキシ樹脂は、無機成分と異なり優れた接着性を有する。よって、前記第1表面層2は、接着性に優れたものとなり、その結果、斯かる絶縁シート1は、接着性に優れたものとなる。
また、前記第1表面層2は、前記中間層4よりも無機成分の体積含有率が小さいことにより、クラックが生じ難い。よって、前記第1表面層2は絶縁性に優れたものとなり、その結果、斯かる絶縁シート1は、絶縁性に優れたものとなる。
また、斯かる絶縁シート1において、前記中間層4は、前記第1表面層2よりも無機フィラーの体積含有率が大きい。また、無機成分はエポキシ樹脂よりも熱伝導性に優れる。よって、前記中間層4は、熱伝導性に優れたものとなる。その結果、斯かる絶縁シート1は、熱伝導性に優れたものとなる。
さらに、斯かる絶縁シート1において、前記第1表面層2は、前記中間層4よりも厚みが小さいので、斯かる絶縁シート1は、熱伝導性に優れたものとなる。
さらに、斯かる絶縁シート1において、前記第1表面層2は、厚み方向での前記中間層4との熱抵抗の差が±5℃/W以内である。そのため、斯かる絶縁シート1では、熱溜まりが生じ難くなる。その結果、斯かる絶縁シート1は、熱伝導性に優れたものとなる。
以上のように、本実施形態によれば、絶縁性、接着性、及び、熱伝導性がより一層優れた絶縁シートを提供し得る。
That is, the insulating sheet 1 of this embodiment is an insulating sheet having a layer structure of three or more layers. Further, the insulating sheet according to the present embodiment is used by being adhered to an adherend. Furthermore, the insulating sheet according to the present embodiment includes a first surface layer 2 that is bonded to the adherend, a second surface layer 3 that is a surface opposite to the first surface layer 2, and the first surface layer 2. And an intermediate layer 4 in contact with the surface layer 2 from the inside. The first surface layer 2 contains an epoxy resin and an inorganic filler. The intermediate layer 4 has a higher volume content of inorganic components than the first surface layer 2 and a higher thermal conductivity than the first surface layer 2. The first surface layer 2 has a thickness smaller than that of the intermediate layer 4, and a difference in thermal resistance with the intermediate layer 4 in the thickness direction is within ± 5 ° C./W.
In the insulating sheet 1, since the first surface layer 2 has a smaller volume content of the inorganic component than the intermediate layer 4, the volume content of the epoxy resin in the first surface layer 2 is set in the intermediate layer 4. It can be made larger than the volume content of the epoxy resin. Moreover, an epoxy resin has the outstanding adhesiveness unlike an inorganic component. Therefore, the first surface layer 2 is excellent in adhesiveness, and as a result, the insulating sheet 1 is excellent in adhesiveness.
The first surface layer 2 is less prone to cracks due to the smaller volume content of the inorganic component than the intermediate layer 4. Therefore, the first surface layer 2 has excellent insulating properties, and as a result, the insulating sheet 1 has excellent insulating properties.
In the insulating sheet 1, the intermediate layer 4 has a volume content of the inorganic filler larger than that of the first surface layer 2. Moreover, an inorganic component is more excellent in heat conductivity than an epoxy resin. Therefore, the intermediate layer 4 is excellent in thermal conductivity. As a result, the insulating sheet 1 is excellent in thermal conductivity.
Further, in the insulating sheet 1, the first surface layer 2 is smaller in thickness than the intermediate layer 4, so that the insulating sheet 1 is excellent in thermal conductivity.
Furthermore, in the insulating sheet 1, the first surface layer 2 has a difference in thermal resistance with the intermediate layer 4 in the thickness direction within ± 5 ° C./W. Therefore, in such an insulating sheet 1, it is difficult for heat accumulation to occur. As a result, the insulating sheet 1 is excellent in thermal conductivity.
As described above, according to this embodiment, it is possible to provide an insulating sheet that is further excellent in insulation, adhesiveness, and thermal conductivity.

また、本実施形態の絶縁シート1では、前記中間層4が、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有する。   Moreover, in the insulating sheet 1 of this embodiment, the said intermediate | middle layer 4 contains an epoxy resin and an inorganic filler.

本発明に係る絶縁シートは、上記実施形態に限定されるものではない。また、本発明に係る絶縁シートは、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明に係る絶縁シートは、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。   The insulating sheet according to the present invention is not limited to the above embodiment. In addition, the insulating sheet according to the present invention is not limited to the above-described effects. The insulating sheet according to the present invention can be variously modified without departing from the gist of the present invention.

例えば、本実施形態に係る絶縁シートでは、前記中間層4がエポキシ樹脂と無機フィラーとを含有するが、本発明に係る絶縁シートでは、前記中間層がセラミックプレートで構成されてもよい。セラミックプレート自体は機械的強度が弱いが、本発明に係る絶縁シートでは、セラミックプレートが2つの表面層で覆われているので、機械的強度が高まるという利点がある。
この場合、前記中間層4は、厚みが、好ましくは100〜300μmであり、より好ましくは100〜200μmである。前記第1表面層2は、厚みが、好ましくは30〜200μmであり、より好ましくは50〜150μmである。また、前記第2表面層3は、厚みが、好ましくは30〜200μmであり、より好ましくは50〜150μmである。
For example, in the insulating sheet according to the present embodiment, the intermediate layer 4 contains an epoxy resin and an inorganic filler, but in the insulating sheet according to the present invention, the intermediate layer may be formed of a ceramic plate. Although the ceramic plate itself has a low mechanical strength, the insulating sheet according to the present invention has an advantage that the mechanical strength is increased because the ceramic plate is covered with two surface layers.
In this case, the intermediate layer 4 has a thickness of preferably 100 to 300 μm, more preferably 100 to 200 μm. The first surface layer 2 has a thickness of preferably 30 to 200 μm, more preferably 50 to 150 μm. The second surface layer 3 has a thickness of preferably 30 to 200 μm, more preferably 50 to 150 μm.

前記セラミックプレートとしては、アルミナプレート、窒化アルミニウムプレート、又は、窒化ケイ素プレートであることが好ましく、放熱性に優れ、更に、低価格であるという観点から、窒化アルミニウムプレートが特に好ましい。   The ceramic plate is preferably an alumina plate, an aluminum nitride plate, or a silicon nitride plate, and an aluminum nitride plate is particularly preferable from the viewpoint of excellent heat dissipation and low cost.

1:絶縁シート、2:第1表面層、3:第2表面層、4:中間層、5:樹脂組成物、6:支持層   1: insulating sheet, 2: first surface layer, 3: second surface layer, 4: intermediate layer, 5: resin composition, 6: support layer

Claims (4)

3層以上の層構造となっている絶縁シートであって、
被着体に接着されて用いられ、
前記被着体に接着される第1表面層と、
前記第1表面層とは反対側の面となる第2表面層と、
前記第1表面層に内側から接する中間層とを備えており、
前記第1表面層が、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有し、
前記中間層は、前記第1表面層よりも無機成分の体積含有率が高く、前記第1表面層よりも熱伝導率が高く、
前記第1表面層は、前記中間層よりも厚みが小さく、厚み方向での前記中間層との熱抵抗の差が±5℃/W以内である、絶縁シート。
An insulating sheet having a layer structure of three or more layers,
Used by adhering to the adherend,
A first surface layer adhered to the adherend;
A second surface layer that is a surface opposite to the first surface layer;
An intermediate layer in contact with the first surface layer from the inside,
The first surface layer contains an epoxy resin and an inorganic filler,
The intermediate layer has a higher volume content of inorganic components than the first surface layer, and a higher thermal conductivity than the first surface layer,
The first surface layer is an insulating sheet having a thickness smaller than that of the intermediate layer, and a difference in thermal resistance with the intermediate layer in the thickness direction is within ± 5 ° C / W.
前記中間層が、エポキシ樹脂と無機フィラーとを含有する、請求項1に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1, wherein the intermediate layer contains an epoxy resin and an inorganic filler. 前記中間層が、セラミックプレートで構成されている、請求項1に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1, wherein the intermediate layer is made of a ceramic plate. 前記セラミックプレートが、アルミナプレート、窒化アルミニウムプレート、又は、窒化ケイ素プレートである、請求項3に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 3, wherein the ceramic plate is an alumina plate, an aluminum nitride plate, or a silicon nitride plate.
JP2016538382A 2014-07-29 2015-07-29 Insulating sheet Active JP6559136B2 (en)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6549883B2 (en) * 2015-04-16 2019-07-24 プレス工業株式会社 Laminated resin molded plate and method of manufacturing the same
JP6501075B2 (en) * 2016-02-24 2019-04-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 Resin structure and electronic component and electronic device using the structure
JP6814384B2 (en) * 2016-08-03 2021-01-20 三菱瓦斯化学株式会社 Method of manufacturing heat conductive sheet
JP2018148125A (en) * 2017-03-08 2018-09-20 Tdk株式会社 Electronic equipment and manufacturing method of electronic equipment
JP6384979B1 (en) * 2018-05-31 2018-09-05 株式会社半導体熱研究所 High thermal conductive insulating resin composite member and semiconductor module
JP6444014B1 (en) * 2018-08-03 2018-12-26 株式会社半導体熱研究所 High thermal conductive insulating resin composite member and semiconductor module
WO2020194931A1 (en) * 2019-03-27 2020-10-01 住友理工株式会社 Capacitive coupling sensor
JPWO2021256093A1 (en) * 2020-06-18 2021-12-23

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0290417A (en) * 1988-09-27 1990-03-29 Shinko Kagaku Kogyo Kk Electric insulation sheet or tape
JPH0817060B2 (en) * 1989-08-18 1996-02-21 株式会社日立製作所 Electrically insulated coil, rotating electric machine, and manufacturing method thereof
JP2004153199A (en) * 2002-11-01 2004-05-27 Toyota Industries Corp Small expansion member, manufacturing method thereof, and semiconductor device using small expansion member
WO2007029657A1 (en) * 2005-09-05 2007-03-15 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Resin composition and hybrid integrated circuit board making use of the same
JP4479659B2 (en) * 2006-01-06 2010-06-09 新神戸電機株式会社 Insulating layer manufacturing method
US7547847B2 (en) * 2006-09-19 2009-06-16 Siemens Energy, Inc. High thermal conductivity dielectric tape
JP2009130251A (en) * 2007-11-27 2009-06-11 Nitto Shinko Kk Method of manufacturing heat sink with insulation layer
CN101767481B (en) * 2009-01-06 2013-07-17 金安国纪科技股份有限公司 Method for preparing highly heat-conductive copper-clad plate
JP5740103B2 (en) * 2009-10-19 2015-06-24 日東電工株式会社 Thermally conductive member and assembled battery device using the same
JP5695937B2 (en) * 2011-03-01 2015-04-08 日東シンコー株式会社 Insulation sheet for motor
JP2013107353A (en) * 2011-11-24 2013-06-06 Sekisui Chem Co Ltd Laminated structure
JP2013159097A (en) * 2012-02-08 2013-08-19 Sekisui Chem Co Ltd Laminated structure

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