JP6550217B2 - 測定すべき光学面を制御するシステム - Google Patents
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Description
− 制御システムは、第1の光ビームと第2の光ビームとの間で干渉を生じる装置を備え、第1のビームは、参照光学面と理想平坦面との間のずれに比例した位相を有し、第2のビームは、測定すべき光学面と理想平坦面との間のずれに比例した位相と、第1の位相関数と、第2の位相関数との合計に等しい位相を有する。
− 干渉装置は、マッハ−ツェンダ型のレイアウトにある。
− 制御システムは、光ビームを参照光学面に投影することが可能であり、かつ位相変更ユニットからの光ビームを測定すべき光学面に投影することが可能な光学投影系を備える。
− 制御システムは、位相変更ユニットと投影系との間に配置された格納可能なミラーを備える。
− 光学収差には、いかなる回転対称性もない。
− 光学収差は、ゼルニケフロー(Zernike flaw)である。
− 第1の光学素子と、第2の光学素子とは、同一である。
− 第1の光学素子、および第2の光学素子はそれぞれ、プレート、平凹レンズ、平凸レンズ、円柱レンズ、ホログラム、およびミラーからなる群から選択される。
− 位相変更ユニットは、少なくとも1つの角度エンコーダを含み、各角度エンコーダは、光学素子を回転させる。
12 測定すべき光学面
14 参照光学面
15 光学テーブル
16 測定すべき光学系
18 参照光学系
20 光キャビティ
22 干渉装置
24 位相変更ユニット
26 光学投影系
27 レーザビーム発生ユニット
28 第1のビームスプリッタ
30 第2のビームスプリッタ
32 第1のミラー
34 第2のミラー
35 バレル
36 第1の光学素子
38 第2の光学素子
40 角度変更手段
42 角度エンコーダ
Claims (9)
- 測定すべき光学面を参照光学面と比較して制御する制御システム(10)であって、2つのビームスプリッタ(28、30)を有するマッハ−ツェンダレイアウトにあり、かつ入射光ビームの位相を変更する位相変更ユニット(24)を備える干渉装置(22)を含み、前記位相変更ユニット(24)が、両ビームスプリッタ(28、30)間に配置され、
第1の光軸(O1)を備え、入射ビームの位相に第1の位相関数を導入することが可能な第1の光学素子(36)と、
第2の光軸(O2)を備え、前記第1の光学素子(36)を透過または反射したビームの位相に第2の位相関数を導入することが可能な第2の光学素子(38)と
を備え、
前記第1の位相関数と、前記第2の位相関数とがそれぞれ、同じ光学収差に対応し、前記第1の光学素子(36)、および前記第2の光学素子(38)のうちの少なくとも一方が、関連する前記光学素子(36、38)に特有の前記光軸(O1、O2)周りで回転し、
前記干渉装置(22)は、レーザビームの発生、及び干渉縞の測定の両方のために使用されるユニットを備え、前記干渉縞は、ビームの干渉装置22全体を通過する反射の後及び前記ユニットへの戻りの後に分析されることを特徴とする、制御システム。 - 前記干渉装置(22)が、第1の光ビームと第2の光ビームとの間の干渉装置(22)であり、前記第1の光ビームが、前記参照光学面と理想平坦面と間のずれに比例した位相を有し、前記第2の光ビームが、前記測定すべき光学面と理想平坦面との間のずれに比例した位相と、前記第1の位相関数と、前記第2の位相関数との合計に等しい位相を有する、請求項1に記載の制御システム。
- 光ビームを前記参照光学面に投射することが可能であり、かつ前記位相変更ユニット(24)からの光ビームを前記測定すべき光学面に投影することが可能な光学投影系(26)をさらに含む、請求項1または2に記載の制御システム。
- 前記位相変更ユニット(24)と前記光学投影系(26)との間に配置された格納可能なミラーをさらに含む、請求項3に記載の制御システム。
- 前記光学収差には、いかなる回転対称性もない、請求項1から4のいずれか一項に記載の制御システム。
- 前記光学収差が、ゼルニケフローである、請求項1から5のいずれか一項に記載の制御システム。
- 前記第1の光学素子(36)と、前記第2の光学素子(38)とが同一である、請求項1から6のいずれか一項に記載の制御システム。
- 前記第1の光学素子(36)、および前記第2の光学素子(38)がそれぞれ、プレート、平凹レンズ、平凸レンズ、円柱レンズ、ホログラム、およびミラーからなる群から選択される、請求項1から7のいずれか一項に記載の制御システム。
- 前記位相変更ユニット(24)が、少なくとも1つの角度エンコーダを含み、各角度エンコーダが、前記光学素子(36、38)を回転させる、請求項1から8のいずれか一項に記載の制御システム。
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