JP6401279B2 - 球面−非点収差光学面を測定する方法 - Google Patents
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Description
a)波面生成デバイスによって球面−非点収差波面を試験波面として生成するステップと、
b)試験波面が球面−非点収差面の各点で実質的に垂直に入射するように、波面生成デバイスと波面生成デバイスに適合した球面−非点収差面との間の波面差を干渉測定するステップであり、複数の測定を実行し、その際に球面−非点収差面を複数の位置で測定し、非点収差の2つの半径中心に関して球面化し、且つ/又は球面−非点収差面の表面法線に関して180°回転させ、対応するインターフェログラム位相を求めるステップと、
c)球面−非点収差面の表面を適当な加工法によって補正する数学的再構成法によって、波面生成デバイスの波面及び球面−非点収差面の表面形態を確定するステップとを含み、波面差が規定の閾値未満になるまでステップa)〜c)を繰り返す方法によって達成される。
a)較正素子を用いて請求項2に記載の方法によって較正された波面生成デバイスによって球面−非点収差波面を試験波面として生成するステップと、
b)試験波面によって球面−非点収差光学自由曲面の複数領域を干渉測定するステップであり、試験波面を自由曲面の各領域で実質的に垂直に入射させ、自由曲面の複数領域及び試験波面を相互に対して変位させ且つ/又は球面化し、対応するインターフェログラム位相を求めるステップと、
c)個々の領域から自由曲面をスティッチングするステップであり、数学的再構成法によって試験波面と球面−非点収差自由曲面との所期値からの偏差を分離するステップと
を含む方法によって達成される。
自由曲面に適合した球面−非点収差波面を試験波面として生成する波面生成デバイスであり、自由曲面の少なくとも一部が、いずれの場合も試験波面によって干渉法により試験可能であり、適合波面の所期形態からの偏差が、本発明の第2態様として特定された較正法によって確定可能である波面生成デバイス
を備える試験装置によって達成される。
(i)球面基本形態からの自由曲面の偏差のPV又はrms(=PV(FFF)又はrms(FFF))
(ii)数学的面記述へのゼルニケ多項式のフィッティングによって例えば求めることが可能な、自由曲面の非点収差成分のPV又はrms(=PV(Ast)又はrms(Ast))
(iii)非点収差成分(ii)の減算後の偏差(i)のPV又はrms(=PV(Rest)又はrms(Rest))
rms(FFF)=SQRT(rms(Ast)^2+rms(Rest^2)
そこから以下が得られる。
rms(AST)=SQRT(rms(FFF)^2−rms(Rest^2)
ここでは、以下の省略形を用いる。
SQRT…平方根
PV …ピーク対バレー比
rms …二乗平均平方根値
FFF …自由曲面
Rest…残差
rms(Rest)/rms(FFF)<0.2(=100%−80%)
Claims (26)
- 球面−非点収差光学面(40)を測定する方法であって、
a)波面生成デバイス(10)によって球面−非点収差波面を試験波面として生成するステップと、
b)前記試験波面が前記球面−非点収差面(40)の各点で実質的に垂直に入射するように、前記波面生成デバイス(10)と該波面生成デバイス(10)に適合した前記球面−非点収差面(40)との間の波面差を干渉測定するステップであり、複数の測定を実行し、その際に前記球面−非点収差面(40)を複数の位置で測定し、非点収差の2つの半径中心に関して球面化し、且つ/又は前記球面−非点収差面(40)の表面法線に関して180°回転させ、対応するインターフェログラム位相を求めるステップと、
c)前記インターフェログラム位相に基づく数学的再構成法によって、前記球面−非点収差波面の誤差寄与を分離するように前記波面生成デバイス(10)の波面を補正し、且つ、前記球面−非点収差面(40)の表面形態を確定し、該表面形態に基づいて前記球面−非点収差面(40)の表面を適当な加工法によって補正するステップとを含み、前記波面差が規定の閾値未満になるまで前記ステップa)〜c)を繰り返す方法。 - 請求項1に記載の方法において、前記球面−非点収差面(40)を前記波面生成デバイス(10)のための較正素子(30)として具現する方法。
- 球面−非点収差光学自由曲面(40)を測定する方法であって、
a)較正素子(30)を用いて請求項2に記載の方法によって較正された波面生成デバイス(10)によって球面−非点収差波面を試験波面として生成するステップと、
b)前記試験波面によって前記球面−非点収差光学自由曲面(40)の複数領域(SAp)を干渉測定するステップであり、前記試験波面を前記自由曲面(40)の各領域(SAp)で実質的に垂直に入射させ、前記自由曲面(40)の前記複数領域(SAp)及び前記試験波面を相互に対して変位させ且つ/又は球面化し、対応するインターフェログラム位相を求めるステップと、
c)個々の領域(SAp)から前記自由曲面(40)をスティッチングするステップであり、数学的再構成法によって前記試験波面と前記球面−非点収差自由曲面(40)との所期値からの偏差を分離するステップと
を含む方法。 - 請求項3に記載の方法において、複数領域(SAp)を前記自由曲面(40)のサブアパーチャとして具現し、球面非点収差試験波面を用いて前記サブアパーチャの走査を実行する方法。
- 請求項4に記載の方法において、前記自由曲面(40)の実質的に総合的な測定が実行されるように、既定の軌道に従って前記自由曲面と前記波面生成デバイス(10)との間で相対運動を実行する方法。
- 請求項4又は5に記載の方法において、前記サブアパーチャの非点収差面の軸の方向に部分球面化を実行し、各部分球面化を、対応する軸で有効な半径の中心に関して実行する方法。
- 請求項4〜6のいずれか1項に記載の方法において、前記干渉測定をいずれの場合も180°回転させて繰り返し実行する方法。
- 請求項4〜7のいずれか1項に記載の方法において、前記試験波面は、法線から10mrad未満の範囲の最大偏差で前記自由曲面(40)に入射する方法。
- 請求項3〜8のいずれか1項に記載の方法において、前記波面生成デバイス(10)及び前記自由曲面(40)を反復製造プロセスで製造する方法。
- 試験光学ユニットを備えた光学自由曲面(40)の形態の試験装置(100)であって、前記試験光学ユニットは、
前記自由曲面に適合した球面−非点収差波面を試験波面として生成する波面生成デバイス(10)であり、前記自由曲面(40)の少なくとも一部(SAp)が、いずれの場合も前記試験波面によって干渉法により試験可能であり、適合波面の所期形態からの偏差が、請求項3〜9のいずれか1項に記載の方法によって確定可能である波面生成デバイス(10)
を備える試験装置。 - 請求項10に記載の試験装置(100)において、前記波面生成デバイス(10)は、波面を前記試験波面に変える適合素子(20)を備える試験装置。
- 請求項10又は11に記載の試験装置(100)において、計算機ホログラムを試験対象の自由曲面(40)毎に形成し、前記ホログラムは、前記自由曲面(40)の曲率及び平均非点収差に適合した波面を生成する試験装置。
- 請求項11又は12に記載の試験装置(100)において、前記波面生成デバイス(10)は、適合球面−非点収差波面を生成する付加的な光学ユニットを有する平面又は球面参照面を備える試験装置。
- 請求項3〜9のいずれか1項に記載の方法及び請求項9から13のいずれか1項に記載の試験装置(100)を用いて光学自由曲面(40)を作製する方法であって、
前記自由曲面(40)の形成を実行し、前記自由曲面(40)を整形加工し、前記自由曲面(40)の実際の形態が前記自由曲面(40)の所期形態に実質的に対応するまでステップa)〜c)を実行する方法。 - 光学自由面(40)であって、最良適合球面からの該自由曲面(40)の偏差の非点収差成分が少なくとも80%である光学自由曲面。
- 請求項15に記載の光学自由曲面(40)であって、前記偏差は該偏差のrms値を表す光学自由曲面。
- 請求項15に記載の光学自由曲面(40)であって、前記偏差は該偏差のPV値を表す光学自由曲面。
- 請求項17に記載の光学自由曲面(40)であって、最良適合球面からの該自由曲面(40)の全体偏差の非点収差成分が、約0.5mm〜約20mmのPV値にあり、前記最良適合球面の基本半径は、約300mm〜ほぼ無限(∞)である光学自由曲面。
- 少なくとも1つのEUVL投影レンズを備えた結像光学系であって、前記少なくとも1つのEUVL投影レンズは、請求項15〜18のいずれか1項に記載の光学自由曲面(40)を少なくとも1つ有する結像光学系。
- 少なくとも1つのEUVL投影レンズを備えた結像光学系であって、前記少なくとも1つのEUVL投影レンズの2つの最終ミラーの少なくとも一方が、ビーム方向に見て請求項15〜18のいずれか1項に記載の光学自由曲面(40)を有する結像光学系。
- 光学自由曲面(40)であって、最良適合球面からの該自由曲面(40)の偏差の非点収差成分が少なくとも90%である光学自由曲面。
- 請求項21に記載の光学自由曲面(40)であって、前記偏差は該偏差のrms値を表す光学自由曲面。
- 請求項21に記載の光学自由曲面(40)であって、前記偏差は該偏差のPV値を表す光学自由曲面。
- 請求項23に記載の光学自由曲面(40)であって、最良適合球面からの該自由曲面(40)の全体偏差の非点収差成分が、約0.5mm〜約20mmのPV値にあり、前記最良適合球面の基本半径は、約300mm〜ほぼ無限(∞)である光学自由曲面。
- 少なくとも1つのEUVL投影レンズを備えた結像光学系であって、前記少なくとも1つのEUVL投影レンズは、請求項21〜24のいずれか1項に記載の光学自由曲面(40)を少なくとも1つ有する結像光学系。
- 少なくとも1つのEUVL投影レンズを備えた結像光学系であって、前記少なくとも1つのEUVL投影レンズの2つの最終ミラーの少なくとも一方が、ビーム方向に見て請求項21〜24のいずれか1項に記載の光学自由曲面(40)を有する結像光学系。
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