JP6549903B2 - Si含有DLC膜の成膜装置 - Google Patents
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Description
原料ガス:4MS(テトラメチルシラン)、CH4、Ar、H2の混合ガス
ガス流量:「4MS‐11ccm」、「CH4‐680ccm」、「Ar‐200ccm」、「H2‐200ccm」
Duty比:75%
周波数:25kHz
電流値:4A
処理室内圧力:220Pa
処理室内温度:480℃
処理時間:60分
2 処理室
3 支持部材
3a 載置台
4 排気管
10 ガス供給機構
11 集合管
12 水平管
20 ガス導入管
21 内管
21a 第1のガス噴出口
22 外管
22a 第2のガス噴出口
23 ユニオンエルボー
24 レデューサー
25 ストレートユニオン
P1 第1のガス噴出口の管長手方向における位置
P2 第2のガス噴出口の管長手方向における位置
C 周方向
L ガス導入管の長手方向(管長手方向)
W ワーク
Claims (6)
- ワークにSi含有DLC膜を成膜する成膜装置であって、
ワークの成膜処理を行う処理室と、
前記処理室内に配置され、ワークを支持する支持部材と、
前記処理室内に原料ガスを導入するガス導入管とを備え、
前記ガス導入管は、原料ガスが供給される内管と、前記処理室内に原料ガスを噴出する外管とを備えた二重管構造であり、
前記内管に、前記ガス導入管の長手方向に沿って複数の第1のガス噴出口が形成され、
前記外管に、前記長手方向に沿って複数の第2のガス噴出口が形成され、
前記第1のガス噴出口の周方向における向きと、前記第2のガス噴出口の周方向における向きが異なり、かつ、前記第2のガス噴出口が前記処理室の内方に向くように前記ガス導入管が構成され、
前記ガス導入管は、
前記第1のガス噴出口の前記長手方向における位置と、前記第2のガス噴出口の前記長手方向における位置が異なり、
前記第1のガス噴出口の前記長手方向における位置と、前記第2のガス噴出口の前記長手方向における位置が前記長手方向に沿って交互に位置し、
前記内管先端に最も近い第1のガス噴出口の前記長手方向おける位置が、前記外管先端に最も近い第2のガス噴出口の前記長手方向おける位置よりも先端側に位置し、
前記内管先端から最も遠い第1のガス噴出口の前記長手方向おける位置が、前記外管先端から最も遠い第2のガス噴出口の前記長手方向における位置よりも先端側に位置するように構成されている、成膜装置。 - 前記第2のガス噴出口の径が前記第1のガス噴出口の径よりも大きい、請求項1に記載の成膜装置。
- 前記外管が着脱可能に構成されている、請求項1または2に記載の成膜装置。
- 前記内管が着脱可能に構成されている、請求項3に記載の成膜装置。
- 前記外管が周方向に回転可能に構成されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記内管が周方向に回転可能に構成されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載の成膜装置。
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