JP6536197B2 - レーザー加工機、レーザー加工方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
図14に示すマスク投影方式のレーザー加工では、レーザー光の光路にフォトマスクを設置して、該フォトマスクのマスクパターン形状を被加工物に縮小転写させて加工を行う。ここで、フォトマスクは、主に石英からなる基材上に、例えばクロムからなるパターン膜を生成し、マスクパターン形状を形成している。これにより、例えばインクジェットヘッド用のノズルプレートにノズルを形成するレーザー加工に利用することができる。
フォトマスクに照射される光量を調整し、フォトマスクの温度上昇を抑えることが考えられる。しかし、光量を調整するために光学系を調整することは、被加工物の加工精度等と密接に関連し、必ずしも簡単に行うことができない。
レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側に、前記レンズアレイのレンズ毎にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備えたことを特徴とするレーザー加工機。
2.
前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側に、前記レンズアレイに対応するスリット、又は透孔を有する板体よりなる遮光部材を備えたことを特徴とする前記1記載のレーザー加工機。
3.
レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側に、前記レンズアレイに対応するスリット、又は透孔を有する板体よりなる遮光部材を備えたことを特徴とするレーザー加工機。
4.
前記遮光部材は、遮光性を有する板体に設けたスリットの幅、又は透孔の大きさを変更可能としたことを特徴とする前記2又は3記載のレーザー加工機。
5.
前記遮光部材は、前記レンズアレイの各光軸の中心部を開口することを特徴とする前記1〜4の何れかに記載のレーザー加工機。
6.
前記遮光部材は、前記レンズアレイの各光軸を中心に、同一位置をそれぞれ開口することを特徴とする前記1〜4の何れかに記載のレーザー加工機。
7.
レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記遮光部材は、遮光性を有する板体に設けたスリットの幅、又は透孔の大きさを変更可能としたことを特徴とするレーザー加工機。
8.
レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記遮光部材は、前記レンズアレイの各光軸の中心部を開口することを特徴とするレーザー加工機。
9.
レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、レーザー光の一部を遮光する遮光部材を、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記各レンズアレイの入射側に一体的に備えたことを特徴とするレーザー加工機。
10.
前記遮光部材として、誘電体多層膜ミラーを使用し、レーザー光を反射させることで遮光させ、レーザー光の一部を遮光することを特徴とする前記1〜9の何れかに記載のレーザー加工機。
11.
レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記遮光部材として、誘電体多層膜ミラーを使用し、レーザー光を反射させることで遮光させ、レーザー光の一部を遮光することを特徴とするレーザー加工機。
12.
レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を、複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系により均一化し、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をフォトマスクによりマスクし、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を対物レンズにより被加工物に転写するレーザー加工方法において、
前記1〜11の何れかに記載のレーザー加工機を用いて、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイに入射するレーザー光の一部を遮光することで前記フォトマスクに照射するレーザー光の照射範囲を調整することを特徴とするレーザー加工方法。
13.
インク滴を射出するための少なくとも1つのノズルを有するノズルプレートを備えたインクジェットヘッドの製造方法において、
前記1〜11の何れかに記載のレーザー加工機を用いて前記被加工物であるノズルプレートにレーザー光を転写して少なくとも1つのノズルを貫通形成する工程を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
14.
インク滴を射出するための少なくとも1つのノズルを有するノズルプレートを備えたインクジェットヘッドの製造方法において、
前記12記載のレーザー加工方法を用いて前記被加工物であるノズルプレートにレーザー光を転写して少なくとも1つのノズルを貫通形成する工程を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
まず、図1〜図6を参照して、第1の実施形態について詳しく説明する。第1の実施形態において、レーザー加工機は、前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備える。
以上の説明では、ホモジナイザー光学系4に用いるレンズアレイとしてシリンドリカルレンズを用いる場合について示したが、これに限定されるものではない。種々のレンズアレイに対して、該レンズアレイを構成する各レンズを透過するレーザー光の幅を狭くするように遮光部材を組み合わせることができる。レンズアレイとして例えばフライアイレンズを用いることも好ましいことである。フライアイレンズを構成する各レンズは、レーザー光を縦横両方向に分割可能である。そのため、上述したシリンドリカルレンズアレイの場合のように縦方向調整用、横方向調整用のものを個別に用意する必要がない。以下に、図7を参照して、ホモジナイザー光学系4のレンズアレイとしてフライアイレンズを用いる実施形態について詳しく説明する。
次に、図8〜図10を参照して、第2の実施形態について詳しく説明する。第2の実施形態において、レーザー加工機は、前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、レーザー光の一部を遮光する遮光部材を、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記各レンズアレイの入射側に一体的に備える。
フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲の調整は、遮光部材3を設けていないレーザー加工機に対して遮光部材3を設けることによって行うことができる。更に、フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲の調整は、レーザー加工機に設けられた遮光部材3のスリット又は透孔の形成位置や幅を変更することによって行うことができる。また更に、フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲の調整は、スリット又は透孔の形成位置や幅が異なる複数の遮光部材3を複数種用意しておき、これらを交換することによって行うことができる。
以上に説明した本発明は、インクジェットヘッド用のノズルプレートを加工する際に特に好適に用いることができる。本発明のインクジェットヘッドの製造方法は、被加工物であるノズルプレート91にレーザー光を転写して、少なくとも1つのノズル、好ましくは図5に示したように複数のノズル92を貫通形成する工程を有する。
KrFのエキシマレーザーを使用し、ポリイミド樹脂からなるノズルプレート91に複数のノズル92を形成するレーザー加工において、遮光部材3の有無によるフォトマスクの温度上昇を測定した結果を図12に示す。
20:レーザー発振器
21:アッテネーター
22:テレスコープ
3、3’:遮光部材
30、30’:遮光板
31、31’:スリット
32:透孔
33、34:誘電体多層膜ミラー
35:遮光部材(遮光接続体)
4:ホモジナイザー光学系
41、42:横方向調整用のシリンドリカルレンズアレイ
43、44:縦方向調整用のシリンドリカルレンズアレイ
45、46:フライアイレンズ
47:コンデンサレンズ
48:レンズ部
5:フィールドレンズ
6:フォトマスク
61:基材
62:パターン膜
63:透光部
7:アパーチャー
8:対物レンズ
9:ステージ
91:ノズルプレート
92:ノズル
101:アクチュエータ基板
102:インク室
103:インクジェットヘッド
Claims (14)
- レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側に、前記レンズアレイのレンズ毎にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備えたことを特徴とするレーザー加工機。 - 前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側に、前記レンズアレイに対応するスリット、又は透孔を有する板体よりなる遮光部材を備えたことを特徴とする請求項1記載のレーザー加工機。
- レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側に、前記レンズアレイに対応するスリット、又は透孔を有する板体よりなる遮光部材を備えたことを特徴とするレーザー加工機。 - 前記遮光部材は、遮光性を有する板体に設けたスリットの幅、又は透孔の大きさを変更可能としたことを特徴とする請求項2又は3記載のレーザー加工機。
- 前記遮光部材は、前記レンズアレイの各光軸の中心部を開口することを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のレーザー加工機。
- 前記遮光部材は、前記レンズアレイの各光軸を中心に、同一位置をそれぞれ開口することを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のレーザー加工機。
- レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記遮光部材は、遮光性を有する板体に設けたスリットの幅、又は透孔の大きさを変更可能としたことを特徴とするレーザー加工機。 - レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記遮光部材は、前記レンズアレイの各光軸の中心部を開口することを特徴とするレーザー加工機。 - レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、レーザー光の一部を遮光する遮光部材を、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記各レンズアレイの入射側に一体的に備えたことを特徴とするレーザー加工機。 - 前記遮光部材として、誘電体多層膜ミラーを使用し、レーザー光を反射させることで遮光させ、レーザー光の一部を遮光することを特徴とする請求項1〜9の何れかに記載のレーザー加工機。
- レーザー光を出射するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を均一化するための複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系と、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をマスクするフォトマスクと、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を被加工物に転写するための対物レンズと、を備えたレーザー加工機において、
前記フォトマスクに対するレーザー光の照射範囲を該フォトマスクのパターン形状に対応して調整するように、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイの入射側にレーザー光の一部を遮光する遮光部材を備え、
前記遮光部材として、誘電体多層膜ミラーを使用し、レーザー光を反射させることで遮光させ、レーザー光の一部を遮光することを特徴とするレーザー加工機。 - レーザー発振器から出射されたレーザー光の光量を、複数のレンズからなるレンズアレイを備えたホモジナイザー光学系により均一化し、
前記ホモジナイザー光学系を透過したレーザー光をフォトマスクによりマスクし、
前記フォトマスクを透過したレーザー光を対物レンズにより被加工物に転写するレーザー加工方法において、
請求項1〜11の何れかに記載のレーザー加工機を用いて、前記ホモジナイザー光学系を構成する前記レンズアレイに入射するレーザー光の一部を遮光することで前記フォトマスクに照射するレーザー光の照射範囲を調整することを特徴とするレーザー加工方法。 - インク滴を射出するための少なくとも1つのノズルを有するノズルプレートを備えたインクジェットヘッドの製造方法において、
請求項1〜11の何れかに記載のレーザー加工機を用いて前記被加工物であるノズルプレートにレーザー光を転写して少なくとも1つのノズルを貫通形成する工程を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - インク滴を射出するための少なくとも1つのノズルを有するノズルプレートを備えたインクジェットヘッドの製造方法において、
請求項12記載のレーザー加工方法を用いて前記被加工物であるノズルプレートにレーザー光を転写して少なくとも1つのノズルを貫通形成する工程を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
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