JP6530659B2 - セラミック複合材およびその製造方法 - Google Patents
セラミック複合材およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6530659B2 JP6530659B2 JP2015141976A JP2015141976A JP6530659B2 JP 6530659 B2 JP6530659 B2 JP 6530659B2 JP 2015141976 A JP2015141976 A JP 2015141976A JP 2015141976 A JP2015141976 A JP 2015141976A JP 6530659 B2 JP6530659 B2 JP 6530659B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon
- ceramic composite
- sic
- carbon nanotube
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 145
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 133
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 278
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 221
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 219
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 121
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 89
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 20
- 239000011184 SiC–SiC matrix composite Substances 0.000 claims description 18
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000007833 carbon precursor Substances 0.000 claims description 4
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 163
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 112
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 81
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 43
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 10
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 9
- 231100000701 toxic element Toxicity 0.000 description 9
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 7
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 6
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 6
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 239000002109 single walled nanotube Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052773 Promethium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003841 Raman measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N promethium atom Chemical compound [Pm] VQMWBBYLQSCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
しかしながら、特許文献1は、SiCなどの珪素含有セラミックスが高温水蒸気に対する耐食性がなく、セラミックの消耗が激しく寿命が短いことを指摘している。このような課題を解決するために、特許文献1では、窒化珪素、炭化珪素及びサイアロンから選択された少なくとも1種の珪素含有セラミックスからなる基体と、該基体の表面に設けられた表面層とを具備した耐食性セラミックスにおいて、前記表面層が、周期律表第IIIa族元素で安定化された酸化ジルコニウムからなり、且つ該表面層中のAl及びSiの含有量が合計で1質量%以下に抑制されていることを特徴とする耐食性セラミックスが提案されている。
このような耐食性セラミックスによれば、周期律表第IIIa族元素で安定化された酸化ジルコニウム(以下、単に安定化ジルコニアと呼ぶことがある)からなる表面層中には、高温水蒸気との反応によって消耗の激しいAl及びSiの含有量が一定量以下の少量に抑制されており、この結果、かかる表面層は、高温水蒸気腐食に強く、珪素を含むセラミックスの表面を保護することができることが記載されている。
しかしながら、上記の耐食性セラミックスは耐熱性を有し、化学的に安定であるため、希少金属を容易に回収することができない。
(A1)SiCからなる基材と、前記基材の表面を覆うカーボンナノチューブからなるカーボンナノチューブ層と、からなる。
(B1)SiCからなる基材を、真空中またはCO雰囲気中で加熱することにより、前記基材を覆うカーボンナノチューブからなるカーボンナノチューブ層を形成する表面分解工程からなる。
次に本発明の実施の形態について、図面を用いながら説明する。
図1は、本発明の実施の形態1のセラミック複合材10の模式図である。
カーボンナノチューブ層2は、カーボンナノチューブ1が多数本集まって形成されている。
カーボンナノチューブ層2は、基材3の上に形成されている。基材3は、SiCからなる。基材3と、カーボンナノチューブ層2とが集まってセラミック複合材10を構成する。図1は、セラミック複合材10の表面の一部領域を示しており、基材3は全面がカーボンナノチューブ層2で覆われていることが好ましい。
CVD法で得られたCVD−SiC材からなる基材の表面に表面分解法でカーボンナノチューブ層を形成した。処理温度は1350℃、処理時間は6時間、雰囲気は0.01Torrの真空下であった。なお、基材のサイズは3×4×40mmであった。
この表面分解法の処理により、基材の表面に25nmのカーボンナノチューブ層が形成され、表面にカーボンナノチューブ層を有するセラミック複合材が得られた。
CVD法で得られたCVD−SiC材からなる基材の表面に表面分解法でカーボンナノチューブ層を形成した。処理温度は1500℃、処理時間は6時間、雰囲気は0.01Torrの真空下であった。なお、基材のサイズは3×4×40mmであった。
この表面分解法の処理により、基材の表面に100nmのカーボンナノチューブ層が形成され、表面にカーボンナノチューブ層を有するセラミック複合材が得られた。
CVD法で得られたCVD−SiC材からなる基材の表面に表面分解法でカーボンナノチューブ層を形成した。処理温度は1650℃、処理時間は6時間、雰囲気は0.01Torrの真空下であった。なお、基材のサイズは3×4×40mmであった。
この表面分解法の処理により、基材の表面に350nmのカーボンナノチューブ層が形成され、表面にカーボンナノチューブ層を有するセラミック複合材が得られた。
上記実施例1のセラミック複合材をさらにCVD炉に入れ、1400℃で熱分解炭素を被覆させた。熱分解炭素層の厚さは1μmであった。
上記実施例2のセラミック複合材をさらにCVD炉に入れ、1400℃で熱分解炭素を被覆させた。熱分解炭素層の厚さは1μmであった。
上記実施例3のセラミック複合材をさらにCVD炉に入れ、1400℃で熱分解炭素を被覆させた。熱分解炭素層の厚さは1μmであった。
ラマン分光法で実施例1〜3のセラミック複合材及び基材の表面のラマンスペクトルを得た。
装置 :顕微ラマン測定装置(RENISHAW社製inVia型)
レーザー波長:532nm
レーザー出力:10%
露光時間 :1秒
レンズ倍率 :×100
積算回数 :20
上記で得られた実施例1〜3のセラミック複合材及び比較例の試料を、圧力8.5MPa、温度300℃の熱水に40時間浸漬し、重量減少を確認した。比較例として、表面分解法を行う前のSiCの基材を用い、本発明のセラミック複合材とSiCの基材との熱水に対する耐食性を比較した。なお、この試験は、加圧下で行われるので、同一温度の大気圧で行われる熱水蒸気よりも過酷な条件となり、大気圧で確認する場合よりもその差が顕著に現れる加速試験となる。
また、実施例4、5でも同様に、SiCの基材の上にカーボンナノチューブ層、さらにその上に熱分解炭素層が形成されていた。
2 カーボンナノチューブ層
3 基材
6 ガラス状炭素層
7 熱分解炭素層
10 11 12 セラミック複合材
Claims (13)
- SiCからなる基材と、前記基材の表面を覆うカーボンナノチューブからなるカーボンナノチューブ層と、からなるセラミック複合材であって、
前記基材は、SiC繊維の骨材とSiCのマトリックスとからなるSiC/SiC複合材であることを特徴とするセラミック複合材。 - 前記カーボンナノチューブは、一端が前記基材に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のセラミック複合材。
- 前記マトリックスは、CVD−SiC材であることを特徴とする請求項1又は2に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、パイプ形状、平板形状、または棒形状であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、さらに前記カーボンナノチューブ層を覆う炭素層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、さらに前記カーボンナノチューブ層を覆うガラス状炭素層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
- 前記セラミック複合材は、さらに前記カーボンナノチューブ層を覆う熱分解炭素層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミック複合材。
- SiCからなる基材を、真空中またはCO雰囲気中で加熱することにより、前記基材を覆うカーボンナノチューブからなるカーボンナノチューブ層を形成する表面分解工程からなるセラミック複合材の製造方法であって、
前記基材は、SiC繊維の骨材とSiCのマトリックスとからなるSiC/SiC複合材であることを特徴とするセラミック複合材の製造方法。 - 前記マトリックスは、CVD−SiC材であることを特徴とする請求項8に記載のセラミック複合材の製造方法。
- 前記セラミック複合材は、パイプ形状、平板形状、または棒形状であることを特徴とする請求項8又は9に記載のセラミック複合材の製造方法。
- 前記セラミック複合材の製造方法は、さらに、
前記カーボンナノチューブ層上に炭素層を形成する工程を有することを特徴とする請求項8〜10のいずれか1項に記載のセラミック複合材の製造方法。 - 前記セラミック複合材の製造方法は、さらに、
前記カーボンナノチューブ層で覆われた前記基材に炭素前駆体を塗布した後、炭化焼成することにより、前記カーボンナノチューブ層上にガラス状炭素層を形成するガラス状炭素形成工程を有する請求項8〜10のいずれか1項に記載のセラミック複合材の製造方法。 - 前記セラミック複合材の製造方法は、さらに、
CVD炉に前記カーボンナノチューブ層で覆われた前記基材を入れ、原料ガスを導入し、原料ガスを熱分解させることにより、前記カーボンナノチューブ層上に熱分解炭素を沈積させる熱分解炭素形成工程を有する請求項8〜10のいずれか1項に記載のセラミック複合材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015141976A JP6530659B2 (ja) | 2015-07-16 | 2015-07-16 | セラミック複合材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015141976A JP6530659B2 (ja) | 2015-07-16 | 2015-07-16 | セラミック複合材およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017024922A JP2017024922A (ja) | 2017-02-02 |
JP6530659B2 true JP6530659B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=57945300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015141976A Active JP6530659B2 (ja) | 2015-07-16 | 2015-07-16 | セラミック複合材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6530659B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019082275A (ja) * | 2017-10-30 | 2019-05-30 | イビデン株式会社 | 地熱発電用パイプ |
JP7240132B2 (ja) * | 2018-10-23 | 2023-03-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 複合繊維 |
JP2020165046A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日本特殊陶業株式会社 | 複合繊維、および繊維製品 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3183845B2 (ja) * | 1997-03-21 | 2001-07-09 | 財団法人ファインセラミックスセンター | カーボンナノチューブ及びカーボンナノチューブ膜の製造方法 |
JP4907008B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2012-03-28 | 財団法人ファインセラミックスセンター | カーボンナノチューブ、並びにカーボンナノチューブ付ウィスカー及びカーボンナノチューブ付ウィスカーの製造方法 |
JP2006213569A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Tokyo Institute Of Technology | 表面処理カーボンナノファイバーおよびその製造方法 |
JP2007007814A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Univ Meijo | SiC/カーボンナノチューブ複合材料およびその利用 |
EP2469657A1 (en) * | 2007-08-07 | 2012-06-27 | Nanocomp Technologies, Inc. | Electrically and thermally non-metallic conductive nanostructure-based adapters |
JPWO2012140927A1 (ja) * | 2011-04-12 | 2014-07-28 | 日本碍子株式会社 | ヒートフロースイッチ |
FR2985739B1 (fr) * | 2012-01-12 | 2014-02-28 | Centre Nat Rech Scient | Renforcement de l'adhesion ou de la fixation de nanotubes de carbone a la surface d'un materiau par une couche de carbone |
-
2015
- 2015-07-16 JP JP2015141976A patent/JP6530659B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017024922A (ja) | 2017-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Xue et al. | Microstructure and ablation behavior of C/C–HfC composites prepared by precursor infiltration and pyrolysis | |
JP5674527B2 (ja) | 高温ガスとの接触に適した装置 | |
Li et al. | Fabrication of 2D C/ZrC–SiC composite and its structural evolution under high-temperature treatment up to 1800° C | |
DiCarlo et al. | Non-oxide (silicon carbide) fibers | |
JP5539386B2 (ja) | セラミック繊維の処理方法 | |
JPWO2016093360A1 (ja) | 炭化ケイ素繊維強化炭化ケイ素複合材料 | |
JP6530659B2 (ja) | セラミック複合材およびその製造方法 | |
JP2007332020A (ja) | 物品の製造方法、組成物及び物品 | |
Wang et al. | Morphological evolution of porous silicon nitride ceramics at initial stage when exposed to water vapor | |
Tao et al. | Improved thermal conductivity of silicon carbide fibers-reinforced silicon carbide matrix composites by chemical vapor infiltration method | |
Ishikawa et al. | Defect control of SiC polycrystalline fiber synthesized from poly-aluminocarbosilane | |
US20140363663A1 (en) | Cmc material part | |
Bhatt et al. | Microstructural, strength, and creep characterization of Sylramic™, Sylramic™-iBN and super Sylramic™-iBN SiC fibers | |
Yoon et al. | Low-temperature cyclic oxidation behavior of MoSi2/Si3N4 nanocomposite coating formed on Mo substrate at 773 K | |
Berbon et al. | Transverse thermal conductivity of thin C/SiC composites fabricated by slurry infiltration and pyrolysis | |
US11220465B2 (en) | Method for producing SiC/SiC composite material | |
Zhu et al. | Effect of carbon fiber crystallite size on the formation of hafnium carbide coating and the mechanism of the reaction of hafnium with carbon fibers | |
Liu et al. | Carbon nanotube reinforced pyrocarbon matrix composites with high coefficient of thermal expansion for self-adapting ultra-high-temperature ceramic coatings | |
JP2017024923A (ja) | セラミック複合材 | |
Li et al. | Approaching Carbon Nanotube Reinforcing Limit in B4 C Matrix Composites Produced by Chemical Vapor Infiltration | |
JP6960448B2 (ja) | 炭化ケイ素系複合体の製造方法 | |
Drieux et al. | Synthesis and characterization of monolithic CVD-SiC tubes | |
JP2018002493A (ja) | SiC/SiC複合材およびその製造方法 | |
WO2010143608A1 (ja) | 複合化無機繊維及びその製造方法、並びに複合化無機繊維加工品及びその製造方法 | |
Jeong et al. | Microstructural control of pyrolytic carbon layer deposited from methane by isotropic chemical vapor infiltration |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180625 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190423 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6530659 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |