JP6530225B2 - Method of producing hypochlorite aqueous solution - Google Patents
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Description
本発明は、低pHの次亜塩素酸塩水溶液の新規な製造方法に関する。詳しくは、水、アルカリ源及び塩素源を含む原料を使用して上記次亜塩素酸塩水溶液を製造する方法において、塩素ガスが系外に漏洩することが無く、また、塩素ガスの発生の無い、安全な次亜塩素酸塩水溶液を安定して、且つ、低コストで製造する方法を提供するものである。 The present invention relates to a novel process for the preparation of low pH aqueous hypochlorite solutions. Specifically, in the method of producing the above-mentioned hypochlorite aqueous solution using a raw material containing water, an alkali source and a chlorine source, chlorine gas does not leak outside the system, and there is no generation of chlorine gas. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for producing a safe hypochlorite aqueous solution stably and at low cost.
近年、pHが4〜7に調整された次亜塩素酸塩水溶液はウイルス等に対する殺菌効果に優れていることから、広く注目されるようになり、市場拡大が見込まれる。 In recent years, since the hypochlorite aqueous solution adjusted to pH 4 to 7 is excellent in the bactericidal effect to viruses etc., it is widely watched and the market is expected to expand.
従来、上記pH調整された次亜塩素酸塩水溶液の製造方法として、水道水等の原水に次亜塩素酸ナトリウムと塩酸などの酸性液を前記pHとなるように添加・混合することにより、優れた殺菌能力を有する次亜塩素酸塩水溶液を製造することは公知である。例えば、次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液の流量を設定し、十分な混合を行うために混合部に多数の邪魔板を設置した複雑な混合器を用いる方法(特許文献1参照)、次亜塩素酸ナトリウムを希釈調整後に、酸性水溶液を段階的に希釈する製造方法(特許文献2参照)等が提案されている。 Conventionally, as a method for producing the above-described pH-adjusted hypochlorite aqueous solution, it is excellent by adding and mixing an acid solution such as sodium hypochlorite and hydrochloric acid to raw water such as tap water so as to have the above-mentioned pH It is known to produce an aqueous solution of hypochlorite which has a sterilizing capacity. For example, a method of using a complicated mixer in which a plurality of baffles are installed in the mixing section to set the flow rates of the sodium hypochlorite aqueous solution and the acidic aqueous solution and perform sufficient mixing (see Patent Document 1) There has been proposed a production method (see Patent Document 2) or the like in which an acidic aqueous solution is diluted stepwise after dilution adjustment of sodium chlorate.
しかしながら、特許文献1の方法では次亜塩素酸ナトリウム水溶液と酸性水溶液の流量が決められているため、装置の故障等により原料バランスが一時的に崩れ、生成する次亜塩素酸塩水溶液のpHが前記範囲の下限値未満、特に、2以下となった場合、多量の塩素ガスが発生した状態でかかる次亜塩素酸ナトリウム水溶液が散布されることとなり、使用における危険性が懸念される。また、多数の邪魔板を設置した複雑な混合器を用いることで、高コストとなることに加えて、複雑な装置の補修等の費用がかかることも課題の一つであった。 However, in the method of Patent Document 1, since the flow rates of the sodium hypochlorite aqueous solution and the acidic aqueous solution are determined, the raw material balance is temporarily broken due to a failure of the apparatus or the like, and the pH of the generated hypochlorite aqueous solution is If the amount is less than the lower limit value of the above range, in particular, 2 or less, the sodium hypochlorite aqueous solution is sprayed in a state where a large amount of chlorine gas is generated, which may cause a danger in use. Moreover, in addition to becoming expensive by using the complicated mixer which installed many baffles, it also was one of the problems that the expense, such as repair of a complicated apparatus, costs.
また、特許文献2の方法では、段階的に希釈する必要があり、そのための制御システムが煩雑化するとともに、それぞれの段階で貯槽を必要とするため、設備が大型化するのみでなく、pH制御のハンチングや制御システムの故障等により貯槽内のpHが一時的に低下した場合に発生する塩素ガスが、貯槽の気相部より漏洩したり、気相部から次亜塩素酸塩水溶液中に溶け込み、散布される次亜塩素酸塩水溶液から揮散したりすることが懸念される。
In addition, in the method of
そこで、本発明は、このような課題を解決するために改良された製造方法であって、塩素ガスが系外に漏洩することが無く、また、塩素ガスの発生の無い、安全な次亜塩素酸塩水溶液を安定して、且つ、低コストで製造する方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention is a manufacturing method improved to solve such problems, wherein chlorine gas does not leak out of the system, and there is no generation of chlorine gas, which is safe hypochlorous acid. An object of the present invention is to provide a method for producing an aqueous acid salt solution stably and at low cost.
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、次亜塩素酸塩水溶液を貯蔵する貯槽に、その外部で次亜塩素酸塩水溶液を循環する循環ラインを設け、該循環ラインにおいて、原料の供給、混合を行い、次亜塩素酸塩水溶液生成とpH調整を行うと共に、前記貯槽の気相部を抽気し、前記循環ラインを流れる次亜塩素酸塩水溶液に抽気したガスを接触させて、上記気相部に存在する塩素ガスを常時無害化処理できるようにすることにより、貯槽に存在する次亜塩素酸塩水溶液中における塩素ガスの溶存を防止し、且つ、装置からの塩素ガスの漏洩をも防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have provided a circulation line for circulating the hypochlorite aqueous solution outside the storage tank storing the hypochlorite aqueous solution, and the circulation. The raw materials are supplied and mixed in the line, and the aqueous solution of hypochlorite is formed and the pH is adjusted, and the gas phase of the storage tank is extracted and the gas extracted into the aqueous solution of hypochlorite flowing in the circulation line To prevent the dissolution of chlorine gas in the aqueous solution of hypochlorite present in the storage tank by always making the chlorine gas present in the above-mentioned gas phase part harmless. It has been found that the present invention can prevent the leakage of chlorine gas, and the present invention has been completed.
即ち、本発明は、(A)次亜塩素酸塩水溶液を貯槽に収容する製品貯蔵工程、及び、(B)前記貯槽に収容された次亜塩素酸塩水溶液を該貯槽の外部で循環する循環ラインを有し、該循環ラインに原料を供給、混合して次亜塩素酸塩水溶液を調製する次亜塩素酸塩水溶液調製工程、(C)前記循環ラインを流れる次亜塩素酸塩水溶液に、前記貯槽の気相部に存在するガスを抽気して接触せしめる気相部除害工程、(D)前記貯槽又は循環ラインに取出ラインを有し、次亜塩素酸塩水溶液の一部を系外に取り出す製品取出工程、及び、(E)前記取出ラインに至る次亜塩素酸塩水溶液のpHが4〜7となるように、原料の供給割合を制御するpH調整工程、を含むことを特徴とする次亜塩素酸塩水溶液の製造方法である。 That is, according to the present invention, (A) a product storage step of storing a hypochlorite aqueous solution in a storage tank, and (B) a cycle of circulating the hypochlorite aqueous solution stored in the storage tank outside the storage tank. A hypochlorite aqueous solution preparation step of preparing an aqueous solution of hypochlorite by supplying a raw material to the circulation line and mixing it to prepare an aqueous solution of hypochlorite, (C) an aqueous solution of hypochlorite flowing in the circulation line, A gas phase abatement process in which the gas present in the gas phase of the storage tank is extracted and brought into contact with the gas, (D) the storage tank or circulation line has an extraction line, and part of the hypochlorite aqueous solution is removed from the system And (E) adjusting the feed ratio of the raw materials so that the pH of the aqueous solution of hypochlorite reaching the extraction line is 4 to 7, and (E) Method for producing an aqueous solution of hypochlorite.
前記次亜塩素酸塩水溶液調製工程において、次亜塩素酸塩水溶液の循環ラインにエジェクターを設けて原料の混合を行うと共に、前記貯槽の気相部に存在するガスの抽気を行うことは好ましい態様である。 In the hypochlorite aqueous solution preparation step, an ejector is provided in the circulation line of the hypochlorite aqueous solution to mix the raw materials and, at the same time, it is preferable to extract the gas present in the gas phase of the storage tank. It is.
また、pH調整工程において、pHが4〜7の範囲を外れた場合、取出ラインを閉とする緊急遮断工程を設けること、前記循環における液循環量が、貯槽の容積(Vm3)に対して、0.2V/時間〜30V/時間になるように行うことも、好ましい対応である。
Further, in the pH adjustment step, if the pH is out of the range of 4-7, the provision of the emergency shutdown step of the take-out line is closed, the liquid circulation rate of definitive to the circulation, relative to the volume of the storage tank (Vm 3) It is also a preferable response to perform so as to be 0.2 V / hour to 30 V / hour.
本発明によれば、原料のバランスが一時的に崩れるなどにより、生成する次亜塩素酸塩水溶液のpHが低下し、次亜塩素酸塩水溶液から塩素ガスが発生した場合においても、貯槽の気相部のガスを常時抽気し、循環ラインを流れる次亜塩素酸塩水溶液と接触させて無害化しているため、周囲への塩素ガスの漏洩のおそれがない。また、塩素ガスの発生の無い、安全な次亜塩素酸塩水溶液を安定して、且つ、低コストで製造することが可能となる。 According to the present invention, even if the pH of the generated aqueous solution of hypochlorite is lowered due to a momentary imbalance of raw materials, etc. and the chlorine gas is generated from the aqueous solution of hypochlorite, Since the gas in the phase portion is constantly extracted and brought into contact with the aqueous solution of hypochlorite flowing in the circulation line to render it harmless, there is no risk of leakage of chlorine gas to the surroundings. In addition, it is possible to stably produce a safe hypochlorite aqueous solution free from the generation of chlorine gas at low cost.
以下、本発明の次亜塩素酸塩水溶液の製造方法の代表的な態様を示す図1に従って、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail according to FIG. 1 showing a typical embodiment of the method for producing the hypochlorite aqueous solution of the present invention.
(A)製品貯蔵工程
本発明の製品貯蔵工程において、次亜塩素酸塩水溶液を収容する貯槽14は、後述する気相部のガスを抽気するために、密閉系の容器が一般に使用される。また、かかる貯槽は、内壁が次亜塩素酸塩水溶液の分解が生じないような材質で構成されているものであれば特に制限されず、一般には、ステンレス、銅などの金属製の容器の内壁に樹脂ライニング等を施したものが好適である。更に、貯槽の容量は必要とする次亜塩素酸の量に合わせて適宜決定すればよいが、0.01〜10m3が一般的である。
(A) Product Storage Step In the product storage step of the present invention, a container of a closed system is generally used as the
(B)次亜塩素酸塩水溶液調製工程
本発明の特徴の一つは、前記貯槽14に収容された次亜塩素酸塩水溶液を該貯槽の外部で循環する循環ライン15を設け、これに原料を供給、混合し、次亜塩素酸塩水溶液を調製する次亜塩素酸塩水溶液調製工程を設け、生成した次亜塩素酸塩水溶液を含む次亜塩素酸塩水溶液を貯槽に戻す点にある。即ち、かかる循環ライン14を循環する次亜塩素酸塩水溶液に、次亜塩素酸塩水溶液調製工程により調製された次亜塩素酸塩水溶液を追加するようにしたことにより、ワンパスで次亜塩素酸塩水溶液を調製するより、安定して次亜塩素酸塩水溶液を得ることが可能となる。
(B) Hypochlorite Aqueous Solution Preparation Step One of the features of the present invention is to provide a circulation line 15 for circulating the hypochlorite aqueous solution contained in the
上記液循環ライン15の液の循環は、ポンプを使用して行うことができるが、その循環量は、貯槽の容積(Vm3)に対して、0.2V/時間〜30V/時間、特に、0.5V/時間〜20V/時間となるように設定することが好ましい。即ち、液循環量を少な過ぎると、抽気するガスの処理が不十分となり、また、貯槽中の次亜塩素酸塩水溶液を均一に維持することが困難となる。反対に、液循環量が多過ぎると、循環に必要な動力が大きくなるため経済的に不利となる。 The circulation of the liquid in the liquid circulation line 15 can be carried out using a pump, but the circulation amount thereof is 0.2 V / hour to 30 V / hour, in particular, with respect to the volume (Vm 3 ) of the storage tank. It is preferable to set so as to be 0.5 V / hour to 20 V / hour. That is, when the liquid circulation amount is too small, the treatment of the gas to be extracted becomes insufficient, and it becomes difficult to uniformly maintain the hypochlorite aqueous solution in the storage tank. On the other hand, if the fluid circulation amount is too large, the power required for circulation becomes large, which is economically disadvantageous.
また、上記循環ラインは、貯槽内の次亜塩素酸塩水溶液ができるだけ均一になるようにその取出口と戻し口とを設置することが好ましい。具体的には、該貯槽の底部に循環ラインの液取出口を、該貯槽の上部に戻し口を設けて液が貯槽外部で循環するようにする態様があげられる。特に、上記貯槽の上部に設ける戻し口は、貯槽の気相部に対して開口した位置に設けることが好ましい。ここで、23は貯槽液面計であり、液面制御装置24によって原料の供給量を制御する。
Further, it is preferable that the circulation line be provided with the outlet and the return port so that the hypochlorite aqueous solution in the storage tank is as uniform as possible. Specifically, there is a mode in which the liquid outlet of the circulation line is provided at the bottom of the storage tank, and the return port is provided at the top of the storage tank so that the liquid circulates outside the storage tank. In particular, the return port provided in the upper portion of the storage tank is preferably provided at a position open to the gas phase portion of the storage tank. Here,
本発明において、前記次亜塩素酸塩水溶液調製工程における原料は、次亜塩素酸塩水溶液を生成し、後述するpH調製工程でのpH調整が可能な組合せにおいて、公知の原料が特に制限されず使用される。例えば、アルカリ源、及び、塩素ガスの組合せ、次亜塩素酸ナトリウムなどの次亜塩素酸塩と塩酸などの酸との組合せ、などが挙げられる。尚、原料として必要な水は、単独で、及び/又は、上記原料を溶解した状態で供給すればよい。 In the present invention, the raw material in the hypochlorite aqueous solution preparation step produces a hypochlorite aqueous solution, and the known raw materials are not particularly limited in the combination in which pH adjustment in the pH adjustment step described later is possible. used. For example, an alkali source, a combination of chlorine gas, a combination of hypochlorite such as sodium hypochlorite and an acid such as hydrochloric acid, and the like can be mentioned. Water necessary as a raw material may be supplied alone and / or in a state in which the raw material is dissolved.
上記原料として次亜塩素酸塩を使用する場合、該次亜塩素酸塩はアルカリと塩素ガスを混合することで生成する次亜塩素酸塩でもよいが、純度の高い次亜塩素酸塩水溶液を得たい場合には、アルカリ塩、具体的には塩化ナトリウム、塩化カルシウム等を低減したものは有用である。また、次亜塩素酸五水和物に代表される次亜塩素酸水和物を用いることも可能である。一般的に次亜塩素酸水和物は塩素酸、臭素酸等の不純物を低減する事が可能であり、より純度の高い次亜塩素酸塩水溶液を得たい場合には有効である。 When hypochlorite is used as the raw material, the hypochlorite may be a hypochlorite formed by mixing an alkali and a chlorine gas, but an aqueous hypochlorite solution having high purity is used. When it is desired to obtain it, it is useful to use an alkali salt, specifically one having reduced sodium chloride, calcium chloride and the like. It is also possible to use hypochlorous acid hydrate represented by hypochlorous acid pentahydrate. In general, hypochlorous acid hydrate can reduce impurities such as chloric acid and bromic acid, and is effective when it is desired to obtain an aqueous solution of hypochlorite having higher purity.
図1は、原料としてアルカリ源、及び、塩素ガスを使用した次亜塩素酸塩水溶液調製工程を示すものであり、水を所定流量になるように供給し、水流量に対して製造する次亜塩素酸塩水溶液が所定濃度になるように塩素ガス流量を調整する。使用する塩素ガスは特に制約はないが、一般的に液化塩素ガスボンベに圧力調整器を設置して、0.1〜0.3MPaG程度の圧力に調整したものを使用するのが一般的である。 FIG. 1 shows a step of preparing an aqueous solution of hypochlorite using an alkali source as a raw material and chlorine gas, and water is supplied so as to have a predetermined flow rate, and the hypochlorous acid is produced with respect to the water flow rate. The chlorine gas flow rate is adjusted so that the chlorate aqueous solution has a predetermined concentration. The chlorine gas to be used is not particularly limited, but in general, it is general to use a pressure adjusted at about 0.1 to 0.3 MPaG by installing a pressure regulator on a liquefied chlorine gas cylinder.
製造する次亜塩素酸塩水溶液濃度は殺菌用途等で使用する場合、一般的な次亜塩素酸塩水溶液濃度は1〜1000ppmw程度であり、目的とする次亜塩素酸塩水溶液濃度を設定して、水流量に対して塩素ガス流量を調整すればよい。 When the hypochlorite aqueous solution concentration to be manufactured is used for sterilization applications etc., the general hypochlorite aqueous solution concentration is about 1 to 1000 ppmw, and the target hypochlorite aqueous solution concentration is set The flow rate of chlorine gas may be adjusted with respect to the flow rate of water.
上記塩素ガス供給後、次亜塩素酸塩水溶液を製造するために、アルカリ源が供給される。アルカリ供給後は生成する次亜塩素酸塩水溶液が均一になるように、混合器で混合を行う。上記混合に使用する混合器に特に制約はなく、一般的に使用されているエジェクター、板状またはカップ状の衝突板型の静止型混合器、Kenics型、Sulzer型等が使用できる。 After the chlorine gas supply, an alkali source is supplied to produce the hypochlorite aqueous solution. After alkali supply, mixing is performed in a mixer so that the generated hypochlorite aqueous solution becomes uniform. There are no particular restrictions on the mixer used for the above mixing, and commonly used ejectors, plate-like or cup-like collision plate stationary mixers, Kenics type, Sulzer type, etc. can be used.
また、前記アルカリ源は特に制限されないが、一般的には、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物が使用できる。アルカリ金属水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物としては水酸化カルシウム等が使用できる。また、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩はpH調整機能があるので、アルカリの一部として使用することができる。 The alkali source is not particularly limited, but in general, alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides can be used. Sodium hydroxide and potassium hydroxide can be used as the alkali metal hydroxide, and calcium hydroxide and the like can be used as the alkaline earth metal hydroxide. Moreover, since carbonates, such as calcium carbonate and magnesium carbonate, have a pH adjustment function, they can be used as a part of alkali.
図1に示す次亜塩素酸塩水溶液調製工程において、循環ライン15の液の循環は、循環ポンプ16を用いて行われ、所定の循環流量になるように循環流量計17、循環制御装置18で制御される。また、原料の供給、混合は、上記循環ライン15に、水ライン1から供給される原水の流量を、水流量計3を用いて測定し、水制御装置4で水調整バルブ2を調節して所定流量になるように供給する。使用する塩素ガスは塩素ガス供給ライン5から塩素ガス調整バルブ6、塩素ガス流量計7を用いて塩素ガス流量装置8で、水流量に対して製造する次亜塩素酸塩水溶液が所定濃度になるように塩素ガス流量を調整する。塩素ガス供給後、次亜塩素酸塩を生成せしめるために、アルカリをアルカリ供給ライン9よりアルカリ調整バルブ10を用いて供給し、混合器11で混合して、次亜塩素酸塩水溶液を調製する。
In the hypochlorite aqueous solution preparation step shown in FIG. 1, the circulation of the liquid in the circulation line 15 is performed using the
(C)気相部除害工程
本発明の製造方法の最大の特徴は、前記貯槽14の気相部に存在するガスを抽気して接触せしめる気相部除害工程を設けた点にある。かかる工程を設けることにより、原料バランスが一時的に崩れ、生成する次亜塩素酸塩水溶液のpHが低くなり、次亜塩素酸塩水溶液から発生した塩素ガスは、貯槽の気相部より抽気され、前記循環ラインを流れる次亜塩素酸塩水溶液と接触させて除去されるため、装置からの塩素ガスの漏洩を効果的に防止できる。また、貯槽に存在する次亜塩素酸塩水溶液への塩素の溶解をも効果的に防止することができる。
(C) Gas Phase Removal Step The greatest feature of the manufacturing method of the present invention is that a gas phase removal step is performed in which the gas present in the gas phase of the
気相部除害工程において、貯槽14の気相部のガスは、抽気ライン25より抽気され、循環ライン15に供給される。上記ガスの抽気には、前記貯槽の気相部から前記循環ラインにガスを抽気して送れる公知の装置、例えば、コンプレッサー等のガスの吸引、排気装置が使用されるが、本発明において、特に好適な装置は、次亜塩素酸塩水溶液調製工程において、原料の混合器として使用されるエジェクターである。即ち、一般的な混合器を用いる場合は次亜塩素酸塩水溶液貯槽の気相部に存在するガスの抽気を行うために、コンプレッサー等のガスを供給する機器が別途必要であるが、エジェクターを用いれば、循環ラインにおける原料の混合を行うと同時に、同時に、ガスの抽気を行うことができ、より簡単な装置構成で次亜塩素酸塩水溶液の製造が可能となる。
In the gas phase portion abatement process, the gas in the gas phase portion of the
図1において、気相部除害工程は、貯槽14のガス相を抽気ライン25より抽気して混合器であるエジェクター11に供給される。
In FIG. 1, in the gas phase part removal process, the gas phase of the
(D)製品取出工程
本発明において、製品取出工程は、前記貯槽又は循環ラインに取出ライン21を設け、pH調整された次亜塩素酸塩水溶液の一部を系外に取り出す工程である。次亜塩素酸水溶液を殺菌剤として使用する場合、取出ラインより直接散布しても良いし、別の容器に取り出して散布してもよい。
(D) Product Removal Step In the present invention, the product removal step is a step of providing a removal line 21 in the storage tank or the circulation line, and removing a part of the pH-adjusted hypochlorite aqueous solution out of the system. When the hypochlorous acid aqueous solution is used as a germicide, it may be sprayed directly from the removal line or may be removed and sprayed to another container.
図1において、前記循環ラインには次亜塩素酸塩水溶液貯槽に底部に設置した貯槽内pH計19、貯槽内pH制御装置20により、製造した次亜塩素酸塩水溶液が所定のpHになっていることを確認して、次亜塩素酸塩水溶液排出ライン21を通して次亜塩素酸塩水溶液排出バルブ22を開いて製造した次亜塩素酸塩水溶液を取り出す。
In FIG. 1, the produced hypochlorite aqueous solution becomes a predetermined pH by the in-reservoir pH meter 19 and the in-
(E)pH調整工程
本発明において、製造する次亜塩素酸塩水溶液のpHは殺菌効果を発揮するために、pHとして4〜7に制御することが重要であり、pH調整工程は、前記取出ライン21に至る次亜塩素酸塩水溶液のpHがかかる範囲となるように、原料の供給割合を制御する工程である。
(E) pH adjustment step In the present invention, it is important to control the pH of the aqueous solution of hypochlorite to be produced to 4 to 7 as the pH in order to exert the bactericidal effect, and the pH adjustment step This is a step of controlling the feed ratio of the raw materials so that the pH of the hypochlorite aqueous solution reaching the line 21 falls within the above range.
図1においては、循環する次亜塩素酸塩水溶液が所定のpHになるように貯槽供給pH計12で測定し、貯槽供給pH計制御装置13で前記アルカリの供給量を制御して、次亜塩素酸塩水溶液貯槽14に供給する。
In FIG. 1, measurement is made with the storage tank
(緊急遮断工程)
本発明において、前記pH調整工程において、測定される次亜塩素酸塩水溶液のpHが4〜7の範囲を外れた場合、取出ラインを閉とする緊急遮断工程を設けることが、使用する次亜塩素酸塩水溶液から塩素ガスが発生する事故をより効果的に防止するために好ましい。図1において、貯槽14の底部に設置された貯槽内pH計19により異常を検出した場合、次亜塩素酸塩水溶液の抜出ライン21の弁22を閉とする緊急遮断システムが作動する。これにより、次亜塩素酸塩水溶液の貯槽を含むラインが完全に密封系となり、周囲への塩素ガスの漏洩を防ぐこともできる。
(Emergency shut down process)
In the present invention, it is preferable to provide an emergency shut-off step of closing the takeout line when the pH of the hypochlorite aqueous solution to be measured is out of the range of 4 to 7 in the pH adjustment step. It is preferable in order to prevent the accident which chlorine gas generate | occur | produces from chlorate aqueous solution more effectively. In FIG. 1, when an abnormality is detected by the storage tank pH meter 19 installed at the bottom of the
以下、本発明を具体的に説明するため、実施例を示すが、本発明はこれらの実施例のみに制限されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in detail by way of examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention.
実施例1
図1の装置を用いて次亜塩素酸塩水溶液を製造した。
Example 1
The hypochlorite aqueous solution was manufactured using the apparatus of FIG.
水供給ライン(1)から水流量調整バルブ(2)を用いて水流量計(3)で測定しながら、水制御装置(4)で制御して20L/h供給した。この水に相当する塩素ガスは塩素ガス供給ライン(5)から塩素ガス流量調整バルブ(6)で塩素ガス流量計(7)を用いて、塩素ガス制御装置(8)で水流量に相当する1.2NL/hで供給した。この後、20wt%の水酸化ナトリウム溶液をアルカリ供給ライン(9)からアルカリ調整バルブ(10)を用いて10.7g/h供給した。水酸化ナトリウムは混合器(11)としてエジェクターで次亜塩素酸塩水溶液貯槽(14)、容積20Lの上部のガス相を吸引しながら混合され貯槽供給pH計(12)でpH測定して、貯槽供給pH制御装置(13)で目的のpH5になるようにアルカリ調整バルブ(10)で調整した。pH調整された次亜塩素酸塩水溶液は次亜塩素酸塩水溶液貯槽(14)に貯槽されるとともに、循環ライン(15)により、循環ポンプ(16)を用いて循環流量計(17)で150L/hになるように循環制御装置(18)で流量調整しながら循環した。循環液には、水、塩素ガスの順で供給した。生成した次亜塩素酸塩水溶液は貯槽内pH計(19)でpH5に調整されていることを貯槽内pH制御装置(20)で確認し、次亜塩素酸塩水溶液排出ライン(21)より次亜塩素酸塩水溶液排出バルブ(22)で排出し、次亜塩素酸ナトリウムとして200ppmw、pH5の次亜塩素酸塩水溶液を20L/h得ることができた。生成した次亜塩素酸塩水溶液の気相部を最大1ppmが測定可能な塩素検知管で測定した結果、塩素は検出されなかった。 The water control device (4) was controlled to supply 20 L / h while measuring with a water flow meter (3) from a water supply line (1) using a water flow rate adjustment valve (2). The chlorine gas corresponding to this water is equivalent to the water flow rate by the chlorine gas control device (8) using the chlorine gas flow meter (7) from the chlorine gas supply line (5) with the chlorine gas flow rate adjustment valve (6) .2 NL / h was supplied. Thereafter, a 20 wt% sodium hydroxide solution was supplied at 10.7 g / h from an alkali supply line (9) using an alkali adjusting valve (10). Sodium hydroxide is mixed with a hypochlorite aqueous solution storage tank (14) and a volume of 20 L while suctioning by a ejector as a mixer (11), and the pH is measured with a storage tank supply pH meter (12), and a storage tank It adjusted by the alkali adjustment valve (10) so that it might become target pH 5 with a supply pH control apparatus (13). The pH-adjusted hypochlorite aqueous solution is stored in the hypochlorite aqueous solution storage tank (14), and the circulation line (15) causes the circulating flow meter (17) to use 150 L by using the circulation pump (16). It circulated, adjusting the flow rate with the circulation control device (18) so as to be / h. Water and chlorine gas were supplied to the circulating fluid in this order. Confirm that the generated hypochlorite aqueous solution is adjusted to pH 5 with the storage tank pH meter (19) with the storage tank pH controller (20), and the following from the hypochlorite aqueous solution discharge line (21) It discharged | emitted by the chlorite aqueous solution discharge valve (22), and it was able to obtain 20 L / h of hypochlorite aqueous solution of 200 ppmw and pH 5 as sodium hypochlorite. No chlorine was detected as a result of measuring the vapor phase portion of the generated aqueous solution of hypochlorite with a chlorine detector capable of measuring up to 1 ppm.
1・・・水供給ライン
2・・・水調整バルブ
3・・・水流量計
4・・・水制御装置
5・・・塩素ガス供給ライン
6・・・塩素ガス調整バルブ
7・・・塩素ガス流量計
8・・・塩素ガス制御装置
9・・・アルカリ供給ライン
10・・・アルカリ調整バルブ
11・・・混合器
12・・・貯槽供給pH計
13・・・貯槽供給pH制御装置
14・・・貯槽
15・・・循環ライン
16・・・循環ポンプ
17・・・循環流量計
18・・・循環制御装置
19・・・貯槽内pH計
20・・・貯槽内pH制御装置
21・・・取出ライン
22・・・次亜塩素酸塩水溶液排出バルブ
23・・・貯槽液面計
24・・・貯槽液面制御装置
25・・・ガス抽気ライン
1 ...
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