JP6530027B2 - Polyorganosilsesquioxane, hard coat film, adhesive sheet and laminate - Google Patents

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本発明は、ポリオルガノシルセスキオキサン、並びに該ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物及びその硬化物に関する。また、本発明は、上記ポリオルガノシルセスキオキサンを含むハードコート液(ハードコート剤)より形成されたハードコート層を有するハードコートフィルムに関する。また、本発明は、上記ポリオルガノシルセスキオキサンを含む組成物(接着剤用組成物)、並びに当該組成物を用いた接着シート及び積層物に関する。   The present invention relates to polyorganosilsesquioxane, and a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane and a cured product thereof. The present invention also relates to a hard coat film having a hard coat layer formed of the above-mentioned hard coat solution (hard coat agent) containing polyorganosilsesquioxane. The present invention also relates to a composition containing the above polyorganosilsesquioxane (composition for adhesive), and an adhesive sheet and a laminate using the composition.

従来、基材の片面又は両面にハードコート層を有する、該ハードコート層表面の鉛筆硬度が3H程度のハードコートフィルムが流通している。このようなハードコートフィルムにおけるハードコート層を形成するための材料としては、主に、UVアクリルモノマーが使用されている(例えば、特許文献1参照)。上記ハードコート層表面の鉛筆硬度をさらに向上させるために、ハードコート層にナノ粒子が添加される例もある。   Conventionally, a hard coat film having a hard coat layer on one side or both sides of a substrate and having a pencil hardness of about 3 H on the surface of the hard coat layer is distributed. As a material for forming a hard coat layer in such a hard coat film, a UV acrylic monomer is mainly used (see, for example, Patent Document 1). In some cases, nanoparticles are added to the hard coat layer in order to further improve the pencil hardness of the hard coat layer surface.

一方、ガラスは、非常に高い表面硬度を有する材料として知られており、特にアルカリイオン交換処理によって表面の鉛筆硬度を9Hにまで上げているものが知られているが、可とう性及び加工性に乏しいためにロールトゥロール方式での製造や加工をすることができず、枚葉で製造や加工をする必要があり、高い生産コストがかかっている。   On the other hand, glass is known as a material having a very high surface hardness, and in particular, it is known that the pencil hardness of the surface is increased to 9H by alkali ion exchange treatment, but flexibility and processability Because it is poor, it can not be manufactured or processed by the roll-to-roll method, but it is necessary to manufacture or process one by one, resulting in high production cost.

特開2009−279840号公報JP, 2009-279840, A

しかしながら、上述のUVアクリルモノマーを使用したハードコートフィルムは未だ十分な表面硬度を有するものとは言えなかった。一般に、より硬度を高くするにはUVアクリルモノマーを多官能としたり、ハードコート層を厚膜化する方法が考えられるが、このような方法を採った場合には、ハードコート層の硬化収縮が大きくなり、その結果、ハードコートフィルムにカールやクラックが発生してしまうという問題があった。また、ハードコート層にナノ粒子を添加する場合には、該ナノ粒子とUVアクリルモノマーとの相溶性が悪いとナノ粒子が凝集し、ハードコート層が白化するという問題があった。   However, the hard coat film using the above-mentioned UV acrylic monomer can not yet be said to have sufficient surface hardness. In general, it is conceivable to make the UV acrylic monomer polyfunctional or to make the hard coat layer thicker in order to further increase the hardness, but when such a method is adopted, the cure shrinkage of the hard coat layer is As a result, there is a problem that the hard coat film is curled or cracked. In addition, when nanoparticles are added to the hard coat layer, if the compatibility between the nanoparticles and the UV acrylic monomer is poor, there is a problem that the nanoparticles aggregate and the hard coat layer becomes white.

一方、ガラスのアルカリイオン交換処理においては、大量のアルカリ廃液が発生するため、環境負荷が大きいという問題があった。また、ガラスには、重く割れやすいといった欠点や、高コストという欠点があった。このため、可とう性及び加工性に優れる有機材料であって、かつ表面硬度が高い材料が求められている。   On the other hand, in the alkali ion exchange treatment of glass, a large amount of alkaline waste liquid is generated, which causes a problem of large environmental load. In addition, glass has the disadvantage of being heavy and fragile, and the disadvantage of high cost. Therefore, there is a demand for an organic material which is excellent in flexibility and processability and which has a high surface hardness.

さらに、ハードコートフィルムが使用される用途は近年ますます拡大しており、ハードコートフィルムが有するハードコート層には、上述のように高い表面硬度を有することに加えて、特に、優れた耐熱性を有することも要求されている。上述のUVアクリルモノマーを使用したハードコートフィルムにおけるハードコート層は、このような耐熱性の観点でも十分なものとは言えなかった。   Furthermore, the applications in which hard coat films are used are expanding in recent years, and in addition to having high surface hardness as described above, hard coat layers possessed by hard coat films have particularly excellent heat resistance. It is also required to have The hard coat layer in the hard coat film using the above-mentioned UV acrylic monomer can not be said as a sufficient thing also from such a heat resistant viewpoint.

従って、本発明の目的は、硬化させることによって、高い表面硬度かつ耐熱性を有し、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できるポリオルガノシルセスキオキサンを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、高い表面硬度及び耐熱性を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロール方式での製造や加工が可能なハードコートフィルムを提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、さらに打ち抜き加工が可能な上記ハードコートフィルムを提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、高い耐熱性及び可とう性に優れた硬化物(接着材)を形成できる接着剤用組成物(接着剤)、並びに、これを用いた接着シート及び積層物を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a polyorganosilsesquioxane having high surface hardness and heat resistance and capable of forming a cured product having excellent flexibility and processability by curing.
Another object of the present invention is to provide a hard coat film having flexibility and being able to be manufactured and processed by a roll-to-roll method while maintaining high surface hardness and heat resistance.
Furthermore, another object of the present invention is to provide the above-mentioned hard coat film which can be further punched.
Furthermore, the other object of the present invention is an adhesive composition (adhesive) capable of forming a cured product (adhesive) having high heat resistance and flexibility, and an adhesive sheet and laminate using the same To provide.

本発明者らは、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位(単位構造)を有し、特定の構造の割合(T3体とT2体の割合、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位の割合)が特定範囲に制御され、かつ数平均分子量及び分子量分散度が特定範囲に制御されたポリオルガノシルセスキオキサンによると、該ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物を硬化させることによって、高い表面硬度かつ耐熱性を有し、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できることを見出した。また、本発明者らは、上記ポリオルガノシルセスキオキサンを含むハードコート液より形成されたハードコート層を有するハードコートフィルムが、高い表面硬度及び耐熱性を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロール方式での製造や加工が可能なハードコートフィルムであることを見出した。また、本発明者らは、上記ポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物が、高い耐熱性及び可とう性に優れた硬化物(接着材)を形成できる接着剤用組成物(接着剤)として好ましく使用できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。   The present inventors have a silsesquioxane structural unit (unit structure) containing an epoxy group, a ratio of a specific structure (a ratio of T3 body to a T2 body, a ratio of silsesquioxane structural units containing an epoxy group) According to the polyorganosilsesquioxane in which the number average molecular weight and the degree of molecular weight dispersion are controlled in a particular range, by curing the curable composition containing the polyorganosilsesquioxane. It has been found that a cured product having high surface hardness and heat resistance and excellent in flexibility and processability can be formed. Furthermore, the present inventors have found that a hard coat film having a hard coat layer formed from the above hard coat solution containing polyorganosilsesquioxane has flexibility while maintaining high surface hardness and heat resistance. It has been found that it is a hard coat film that can be manufactured and processed by a roll-to-roll method. Furthermore, the present inventors have found that a curable composition containing the above polyorganosilsesquioxane can form a cured product (adhesive) excellent in high heat resistance and flexibility (adhesive agent) It has been found that it can be preferably used as The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、下記式(1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
で表される構成単位を有し、下記式(I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
で表される構成単位と、下記式(II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。]
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であることを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。
That is, the present invention provides the following formula (1)
[In Formula (1), R 1 represents a group containing an epoxy group. ]
And a structural unit represented by formula (I) below
[In formula (I), R a represents a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group And a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
And a structural unit represented by the following formula (II)
[In formula (II), R b is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group And a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
The molar ratio of the structural units represented by [structural unit represented by formula (I) / structural unit represented by formula (II)] is 5 or more, and the above with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural units The structural unit represented by Formula (1) and the following Formula (4)
[In Formula (4), R 1 is the same as in Formula (1). R c is the same as in formula (II). ]
The ratio of the structural unit represented by is 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. Provide a polyorgano silsesquioxane.

さらに、下記式(2)
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。]
で表される構成単位を有する前記のポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。
Furthermore, the following formula (2)
[In Formula (2), R 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group Is an alkenyl group of ]
The above polyorganosilsesquioxane having a constitutional unit represented by

さらに、上記R1が、下記式(1a)
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、又は、下記式(1d)
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基である前記のポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。
Furthermore, the above R 1 is represented by the following formula (1a)
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by the following formula (1b)
[In Formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by the following formula (1c)
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
Or a group represented by the following formula (1d)
[In Formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
The aforementioned polyorganosilsesquioxane which is a group represented by

さらに、上記R2が、置換若しくは無置換のアリール基である前記のポリオルガノシルセスキオキサンを提供する。 Furthermore, the above polyorganosilsesquioxane is provided, wherein R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group.

また、本発明は、前記のポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物を提供する。   The present invention also provides a curable composition comprising the above polyorganosilsesquioxane.

さらに、硬化触媒を含む前記の硬化性組成物を提供する。   Furthermore, the above-mentioned curable composition containing a curing catalyst is provided.

さらに、前記硬化触媒が光カチオン重合開始剤である前記の硬化性組成物を提供する。   Further, the present invention provides the curable composition, wherein the curing catalyst is a cationic photopolymerization initiator.

さらに、前記硬化触媒が熱カチオン重合開始剤である前記の硬化性組成物を提供する。   Furthermore, the above curable composition is provided, wherein the curing catalyst is a thermal cationic polymerization initiator.

さらに、ビニルエーテル化合物を含む前記の硬化性組成物を提供する。   Furthermore, the above-mentioned curable composition containing a vinyl ether compound is provided.

さらに、分子内に水酸基を有するビニルエーテル化合物を含む前記の硬化性組成物を提供する。   Furthermore, the above-mentioned curable composition containing a vinyl ether compound having a hydroxyl group in the molecule is provided.

さらに、ハードコート層形成用硬化性組成物である前記の硬化性組成物を提供する。   Furthermore, the above-mentioned curable composition which is a curable composition for hard-coat layer formation is provided.

さらに、接着剤用組成物である前記の硬化性組成物を提供する。   Furthermore, the above-mentioned curable composition which is a composition for adhesives is provided.

また、本発明は、前記の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物を提供する。   The present invention also provides a cured product obtained by curing the above-mentioned curable composition.

また、本発明は、基材と、該基材の少なくとも一方の表面に形成されたハードコート層とを有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層が、前記の硬化性組成物の硬化物層であることを特徴とするハードコートフィルムを提供する。   Moreover, the present invention is a hard coat film having a substrate and a hard coat layer formed on at least one surface of the substrate, wherein the hard coat layer is a cured product of the curable composition. Provided is a hard coat film characterized by being a layer.

さらに、前記ハードコート層の厚さが1〜200μmである前記のハードコートフィルムを提供する。   Furthermore, the hard coat film as described above, wherein the thickness of the hard coat layer is 1 to 200 μm, is provided.

さらに、ロールトゥロール方式での製造が可能な前記のハードコートフィルムを提供する。   Furthermore, the above-mentioned hard coat film which can be manufactured by a roll to roll method is provided.

さらに、前記ハードコート層表面に表面保護フィルムを有する前記のハードコートフィルムを提供する。   Furthermore, the above hard coat film having a surface protective film on the surface of the hard coat layer is provided.

また、本発明は、ロール状に巻いた基材を繰り出す工程Aと、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に前記の硬化性組成物を塗布し、次いで、該硬化性組成物を硬化させることによりハードコート層を形成する工程Bと、その後、得られたハードコートフィルムを再びロールに巻き取る工程Cとを含み、工程A〜Cを連続的に実施することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法を提供する。   In the present invention, the curable composition is applied to at least one surface of a step A of unwinding a roll-wound base material and the fed-out base material, and then the curable composition is cured. A step B of forming a hard coat layer by the following step, and a step C of winding the obtained hard coat film again on a roll, wherein the steps A to C are carried out continuously. Provide a manufacturing method.

また、本発明は、基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、
前記接着剤層が、前記の硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シートを提供する。
The present invention is also an adhesive sheet comprising a substrate and an adhesive layer on the substrate,
The present invention provides an adhesive sheet characterized in that the adhesive layer is a layer of the curable composition described above.

また、本発明は、3層以上で構成される積層物であって、
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、前記の硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物を提供する。
The present invention is also a laminate comprising three or more layers,
Having two adhesive layers and an adhesive layer between the adhesive layers,
The invention provides a laminate characterized in that the adhesive layer is a layer of a cured product of the curable composition.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは上記構成を有するため、該ポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い表面硬度かつ耐熱性を有し、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できる。また、本発明のハードコートフィルムは上記構成を有するため、高い表面硬度及び耐熱性を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロールでの製造や加工が可能である。このため、本発明のハードコートフィルムは、品質面とコスト面の両方において優れる。さらに、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物は、高い耐熱性及び可とう性に優れた硬化物(接着材)を形成できる接着剤用組成物(接着剤)としても好ましく使用できる。当該接着剤組成物を用いることにより、接着シート及び積層物を得ることができる。   Since the polyorganosilsesquioxane of the present invention has the above constitution, it has high surface hardness and heat resistance by curing a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane as an essential component. It is possible to form a cured product having excellent properties and processability. Moreover, since the hard coat film of this invention has the said structure, it has flexibility, maintaining high surface hardness and heat resistance, and manufacture and a process by roll to roll are possible. For this reason, the hard coat film of the present invention is excellent in both quality and cost. Furthermore, the curable composition containing the polyorganosilsesquioxane of the present invention as an essential component is an adhesive composition (adhesive) capable of forming a cured product (adhesive) excellent in high heat resistance and flexibility. It can also be preferably used. An adhesive sheet and a laminate can be obtained by using the adhesive composition.

実施例20で得られた打ち抜き加工後のハードコートフィルムにおける端部の顕微鏡写真(倍率:100倍)である。It is a microscope picture (magnification: 100 times) of the end in the hard coat film after punching processing obtained in Example 20.

[ポリオルガノシルセスキオキサン]
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(シルセスキオキサン)は、下記式(1)で表される構成単位を有し;下記式(I)で表される構成単位(「T3体」と称する場合がある)と、下記式(II)で表される構成単位(「T2体」と称する場合がある)のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位;「T3体/T2体」と記載する場合がある]が5以上であり;シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する下記式(1)で表される構成単位及び後述の式(4)で表される構成単位の割合(総量)が55〜100モル%であり;数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度[重量平均分子量/数平均分子量]が1.0〜3.0であることを特徴とする。
[Polyorganosilsesquioxane]
The polyorganosilsesquioxane (silsesquioxane) of the present invention has a constitutional unit represented by the following formula (1); a constitutional unit represented by the following formula (I) (referred to as “T3 body” Molar ratio of a structural unit represented by the following formula (II) (which may be referred to as “T2 form”) [a structural unit represented by the formula (I) / a formula (II) Structural unit; may be described as “T3 body / T2 body” is 5 or more; the structural unit represented by the following formula (1) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit and the formula described later The ratio (total amount) of the constituent units represented by (4) is 55 to 100 mol%; the number average molecular weight is 1000 to 3000, the molecular weight dispersion degree [weight average molecular weight / number average molecular weight] is 1.0 to 3. It is characterized by being 0.

上記式(1)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(いわゆるT単位)である。なお、上記式中のRは、水素原子又は一価の有機基を示し、以下においても同じである。上記式(1)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(a)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the said Formula (1) is a silsesquioxane structural unit (what is called T unit) generally represented by [RSiO3 / 2 ]. In addition, R in the said Formula shows a hydrogen atom or monovalent organic group, and is the same also in the following. The structural unit represented by the above formula (1) is formed by hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolysable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the formula (a) described later) Be done.

式(1)中のR1は、エポキシ基を含有する基(一価の基)を示す。即ち、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、分子内にエポキシ基を少なくとも有するカチオン硬化性化合物(カチオン重合性化合物)である。上記エポキシ基を含有する基としては、オキシラン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化性、硬化物の表面硬度や耐熱性の観点で、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、下記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは下記式(1a)で表される基、下記式(1c)で表される基、さらに好ましくは下記式(1a)で表される基である。
R 1 in the formula (1) represents a group containing an epoxy group (a monovalent group). That is, the polyorganosilsesquioxane of the present invention is a cationically curable compound (cationically polymerizable compound) having at least an epoxy group in the molecule. Examples of the group containing an epoxy group include known or commonly used groups having an oxirane ring, which are not particularly limited, but in view of the curability of the curable composition and the surface hardness and heat resistance of the cured product, the following formula The group represented by (1a), the group represented by the following formula (1b), the group represented by the following formula (1c), the group represented by the following formula (1d) are preferable, and more preferably the following formula It is a group represented by 1a), a group represented by the following formula (1c), more preferably a group represented by the following formula (1a).

上記式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。中でも、R1aとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. As a linear or branched alkylene group, for example, methylene group, methyl methylene group, dimethyl methylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, decamethylene group, etc. A C1-C10 linear or branched alkylene group is mentioned. Among them, as R 1a , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable from the viewpoint of surface hardness and curability of a cured product, and more preferably Ethylene, trimethylene and propylene are preferable, and ethylene and trimethylene are more preferable.

上記式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1bとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group, the same groups as R 1a is exemplified. Among them, as R 1b , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable from the viewpoint of surface hardness and curability of a cured product, and more preferably Ethylene, trimethylene and propylene are preferable, and ethylene and trimethylene are more preferable.

上記式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1cとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group, the same groups as R 1a is exemplified. Among them, as R 1c , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable in view of surface hardness and curability of a cured product, and more preferably Ethylene, trimethylene and propylene are preferable, and ethylene and trimethylene are more preferable.

上記式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1dとしては、硬化物の表面硬度や硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group, the same groups as R 1a is exemplified. Among them, as R 1d , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable from the viewpoint of surface hardness and curability of a cured product, and more preferably Ethylene, trimethylene and propylene are preferable, and ethylene and trimethylene are more preferable.

式(1)中のR1としては、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。 In particular, R 1 in the formula (1) is a group represented by the above formula (1a), and a group in which R 1a is an ethylene group [in particular, 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) Ethyl group] is preferable.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位を1種のみ有するものであってもよいし、上記式(1)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。   The polyorgano silsesquioxane of the present invention may have only one structural unit represented by the above formula (1), or two or more structural units represented by the above formula (1). You may have.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、シルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]として、上記式(1)で表される構成単位以外にも、下記式(2)で表される構成単位を有していてもよい。
The polyorgano silsesquioxane of the present invention has a structure represented by the following formula (2) as the silsesquioxane constituent unit [RSiO 3/2 ], in addition to the constituent unit represented by the above formula (1) It may have a unit.

上記式(2)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(T単位)である。即ち、上記式(2)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(b)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the said Formula (2) is a silsesquioxane structural unit (T unit) generally represented by [RSiO3 / 2 ]. That is, the structural unit represented by the above formula (2) is a hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the formula (b) described later) It is formed by

上記式(2)中のR2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。上記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。 R 2 in the above formula (2) is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group Is an alkenyl group of As said aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group etc. are mentioned, for example. As said aralkyl group, a benzyl group, a phenethyl group etc. are mentioned, for example. As said cycloalkyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the alkyl group include linear or branched alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group and isopentyl group. Groups are mentioned. As said alkenyl group, linear or branched alkenyl groups, such as a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, are mentioned, for example.

上述の置換アリール基、置換アラルキル基、置換シクロアルキル基、置換アルキル基、置換アルケニル基としては、上述のアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基のそれぞれにおける水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基が挙げられる。   As the above-mentioned substituted aryl group, substituted aralkyl group, substituted cycloalkyl group, substituted alkyl group and substituted alkenyl group, a hydrogen atom or a main chain bone in each of the above-mentioned aryl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkyl group and alkenyl group From the group consisting of an ether group, an ester group, a carbonyl group, a siloxane group, a halogen atom (such as fluorine atom), an acryl group, a methacryl group, a mercapto group, an amino group, and a hydroxy group (hydroxy group) The group substituted by the selected at least 1 sort (s) is mentioned.

中でも、R2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 Among them, R 2 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, still more preferably a phenyl group is there.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上述の各シルセスキオキサン構成単位(式(1)で表される構成単位、式(2)で表される構成単位)の割合は、これらの構成単位を形成するための原料(加水分解性三官能シラン)の組成により適宜調整することが可能である。   The proportions of the above-mentioned silsesquioxane constitutional units (the constitutional unit represented by the formula (1), the constitutional unit represented by the formula (2)) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention are these constitutional units It is possible to appropriately adjust the composition of the raw material (hydrolyzable trifunctional silane) for forming the

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外にも、さらに、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]、[R3SiO1/2]で表される構成単位(いわゆるM単位)、[R2SiO]で表される構成単位(いわゆるD単位)、及び[SiO2]で表される構成単位(いわゆるQ単位)からなる群より選択される少なくとも1種のシロキサン構成単位を有していてもよい。なお、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位としては、例えば、下記式(3)で表される構成単位等が挙げられる。
The polyorgano silsesquioxane of the present invention is a structural unit represented by the above formula (1) in addition to the constitutional unit represented by the above formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) And silsesquioxane structural units other than the structural unit represented by the formula (2) [RSiO 3/2 ], structural units represented by [R 3 SiO 1/2 ] (so-called M units), [R 2 SiO] And at least one siloxane structural unit selected from the group consisting of structural units (so-called Q units) expressed by [SiO 2 ] and structural units (so-called D units) . In addition, as a silsesquioxane structural unit other than the structural unit represented by said Formula (1), and the structural unit represented by Formula (2), the structural unit etc. which are represented by following formula (3) are It can be mentioned.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記式(I)で表される構成単位(T3体)と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)の割合[T3体/T2体]は、上述のように5以上であり、好ましくは5〜18、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは7〜14である。上記割合[T3体/T2体]を5以上とすることにより、硬化物やハードコート層の表面硬度や接着性が著しく向上する。   Ratio of structural unit (T3 form) represented by the above formula (I) to structural unit (T2 form) represented by the above formula (II) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [T3 body / T2 body ] Is five or more as mentioned above, Preferably it is 5-18, More preferably, it is 6-16, More preferably, it is 7-14. By setting the ratio [T3 body / T2 body] to 5 or more, the surface hardness and adhesiveness of the cured product and the hard coat layer are remarkably improved.

なお、上記式(I)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(I')で表される。また、上記式(II)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(II')で表される。下記式(I')で表される構造中に示されるケイ素原子に結合した3つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(I')に示されていないケイ素原子)と結合している。一方、下記式(II')で表される構造中に示されるケイ素原子の上と下に位置する2つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(II')に示されていないケイ素原子)に結合している。即ち、上記T3体及びT2体は、いずれも対応する加水分解性三官能シラン化合物の加水分解及び縮合反応により形成される構成単位(T単位)である。
In addition, when the structural unit represented by said Formula (I) is described in more detail, it will be represented by a following formula (I '). Moreover, when the structural unit represented by the said Formula (II) is described in more detail, it is represented by following formula (II '). Each of the three oxygen atoms bonded to the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (I ′) is bonded to another silicon atom (a silicon atom not shown in the formula (I ′)) . On the other hand, the two oxygen atoms located above and below the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (II ′) are respectively the other silicon atoms (silicon atoms not shown in the formula (II ′)) It is connected. That is, the above T3 body and T2 body are both structural units (T units) formed by hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolysable trifunctional silane compound.

上記式(I)中のRa(式(I')中のRaも同じ)及び式(II)中のRb(式(II')中のRbも同じ)は、それぞれ、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Ra及びRbの具体例としては、上記式(1)におけるR1、上記式(2)におけるR2と同様のものが例示される。なお、式(I)中のRa及び式(II)中のRbは、それぞれ、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性三官能シラン化合物におけるケイ素原子に結合した基(アルコキシ基及びハロゲン原子以外の基;例えば、後述の式(a)〜(c)におけるR1、R2、水素原子等)に由来する。 R a in the above formula (I) (formula (I ') in the R a same) and formula (II) in the R b (wherein (II') in the R b versa), respectively, an epoxy group A substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, or a hydrogen atom. Show. Specific examples of R a and R b include the same as R 1 in the above formula (1) and R 2 in the above formula (2). In addition, R a in formula (I) and R b in formula (II) are each bonded to a silicon atom in the hydrolyzable trifunctional silane compound used as a raw material of the polyorganosilsesquioxane of the present invention It originates in groups (groups other than an alkoxy group and a halogen atom; For example, R < 1 >, R < 2 >, hydrogen atom etc. in below-mentioned Formula (a)-(c)).

上記式(II)中のRc(式(II')中のRcも同じ)は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等の炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。式(II)中のRcにおけるアルキル基は、一般的には、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性シラン化合物におけるアルコキシ基(例えば、後述のX1〜X3としてのアルコキシ基等)を形成するアルキル基に由来する。 R c in the above formula (II) (same as R c in formula (II ′)) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. As a C1-C4 alkyl group, C1-C4 linear or branched alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, are mentioned, for example . The alkyl group for R c in the formula (II) is generally an alkoxy group in the hydrolyzable silane compound used as a raw material of the polyorganosilsesquioxane of the present invention (for example, X 1 to X 3 described below) Derived from an alkyl group forming an alkoxy group etc.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]は、例えば、29Si−NMRスペクトル測定により求めることができる。29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位(T3体)におけるケイ素原子と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)におけるケイ素原子とは、異なる位置(化学シフト)にシグナル(ピーク)を示すため、これらそれぞれのピークの積分比を算出することにより、上記割合[T3体/T2体]が求められる。具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、上記式(1)で表され、R1が2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基である構成単位を有する場合には、上記式(I)で表される構造(T3体)におけるケイ素原子のシグナルは−64〜−70ppmに現れ、上記式(II)で表される構造(T2体)におけるケイ素原子のシグナルは−54〜−60ppmに現れる。従って、この場合、−64〜−70ppmのシグナル(T3体)と−54〜−60ppmのシグナル(T2体)の積分比を算出することによって、上記割合[T3体/T2体]を求めることができる。 The ratio [T3 body / T2 body] in the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be determined, for example, by 29 Si-NMR spectrum measurement. In the 29 Si-NMR spectrum, the silicon atom in the constituent unit (T3 form) represented by the above formula (I) and the silicon atom in the constituent unit (T2 form) represented by the above formula (II) are at different positions Since the signal (peak) is shown in (chemical shift), the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integral ratio of each of these peaks. Specifically, for example, the polyorganosilsesquioxane of the present invention has a constitutional unit represented by the above formula (1) and R 1 is a 2- (3 ', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl group. In this case, the signal of the silicon atom in the structure (T3 form) represented by the above formula (I) appears at -64 to -70 ppm, and the silicon atom in the structure (T2 form) represented by the above formula (II) The signal appears at -54 to -60 ppm. Therefore, in this case, the ratio [T3 body / T2 body] can be determined by calculating the integral ratio of the −64 to −70 ppm signal (T3 body) and the −54 to −60 ppm signal (T2 body). it can.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「JNM−ECA500NMR」(日本電子(株)製)
溶媒:重クロロホルム
積算回数:1800回
測定温度:25℃
The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be measured, for example, by the following apparatus and conditions.
Measuring device: Brand name "JNM-ECA 500 NMR" (manufactured by Nippon Denshi Co., Ltd.)
Solvent: Heavy chloroform Accumulated number of times: 1800 times Measurement temperature: 25 ° C

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの上記割合[T3体/T2体]が5以上であることは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおいてT3体に対し一定以上のT2体が存在していることを意味する。このようなT2体としては、例えば、下記式(4)で表される構成単位、下記式(5)で表される構成単位、下記式(6)で表される構成単位等が挙げられる。下記式(4)におけるR1及び下記式(5)におけるR2は、それぞれ上記式(1)におけるR1及び上記式(2)におけるR2と同じである。下記式(4)〜(6)におけるRcは、式(II)におけるRcと同じく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。
The fact that the above ratio [T3 body / T2 body] of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is 5 or more means that, in the polyorganosilsesquioxane of the present invention, a T2 body of a certain amount or more exists relative to the T3 body. Means to As such a T2 body, for example, a structural unit represented by the following formula (4), a structural unit represented by the following formula (5), a structural unit represented by the following formula (6), and the like can be mentioned. R 2 in R 1 and the following formula (5) in the following equation (4) is the same as R 2 in R 1 and the formula in the formula (1) (2). R c in the following formulas (4) to (6) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, as R c in the formula (II).

一般に、完全カゴ型シルセスキオキサンは、T3体のみにより構成されたポリオルガノシルセスキオキサンであり、分子中にT2体が存在しない。即ち、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.0であり、さらに後述のようにFT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有する場合の本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、不完全カゴ型シルセスキオキサン構造を有することが示唆される。 In general, completely cage silsesquioxane is a polyorganosilsesquioxane constituted only by T3 form, and T2 form does not exist in the molecule. That is, the ratio [T3 body / T2 body] is 5 or more, the number average molecular weight is 1000 to 3000, the molecular weight dispersion degree is 1.0 to 3.0, and further in the FT-IR spectrum as described later. It is suggested that the polyorganosilsesquioxane of the present invention having one intrinsic absorption peak at around 1100 cm -1 has an incomplete cage silsesquioxane structure.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンがカゴ型(不完全カゴ型)シルセスキオキサン構造を有することは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有せず、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することから確認される[参考文献:R.H.Raney, M.Itoh, A.Sakakibara and T.Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409(1995)]。これに対して、一般に、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有する場合には、ラダー型シルセスキオキサン構造を有すると同定される。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)
測定方法:透過法
分解能:4cm-1
測定波数域:400〜4000cm-1
積算回数:16回
The fact that the polyorganosilsesquioxane of the present invention has a cage-type (incomplete cage type) silsesquioxane structure is that the polyorganosilsesquioxane of the present invention has an FT-IR spectrum around 1050 cm -1 and 1150 cm respectively in the vicinity of -1 it does not have a specific absorption peak is confirmed by the fact that with a single specific absorption peak in the vicinity of 1100 cm -1 [ref: R. H. Raney, M. Itoh, A. Sakakibara and T. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409 (1995)]. On the other hand, when it has an intrinsic absorption peak near 1050 cm -1 and 1150 cm -1 respectively in the FT-IR spectrum, it is generally identified as having a ladder type silsesquioxane structure. The FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be measured, for example, by the following apparatus and conditions.
Measuring device: Brand name "FT-720" (manufactured by Horiba, Ltd.)
Measurement method: Transmission method Resolution: 4 cm -1
Measurement wave number range: 400 to 4000 cm -1
Accumulated number of times: 16 times

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(4)で表される構成単位の割合(総量)は、上述のように、55〜100モル%であり、好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。上記割合を55モル%以上とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の表面硬度や接着性が著しく高くなる。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける各シロキサン構成単位の割合は、例えば、原料の組成やNMRスペクトル測定等により算出できる。   The total amount of siloxane constitutional units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [all siloxane constitutional units; M units, D units, T units, and total amount of Q units] (100 mol%) is shown in the above-mentioned formula (1) The proportion (total amount) of the constituent units represented by the formula (4) and the constituent unit represented by the above formula (4) is 55 to 100 mol%, preferably 65 to 100 mol%, more preferably 80 to 99, as described above. It is mol%. By setting the ratio to 55 mol% or more, the curability of the curable composition is improved, and the surface hardness and adhesiveness of the cured product become extremely high. In addition, the ratio of each siloxane structural unit in the polyorgano silsesquioxane of this invention can be calculated, for example by the composition of a raw material, NMR spectrum measurement, etc.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。上記割合を70モル%以下とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性が向上し、硬化物の表面硬度や接着性がより高くなる傾向がある。一方、上記割合を1モル%以上とすることにより、硬化物のガスバリア性が向上する傾向がある。   The total amount of siloxane constitutional units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [all siloxane constitutional units; M units, D units, T units, and total amount of Q units] (100 mol%) is shown in the above-mentioned formula (2) No particular limitation is imposed on the proportion (total amount) of the constituent unit represented by the formula (5) and the constituent unit represented by the above formula (5), but 0 to 70 mol% is preferable, more preferably 0 to 60 mol%, still more preferably 0 It is 40 mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%. Since the ratio of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (4) can be increased relatively by setting the ratio to 70 mol% or less, the curable composition There is a tendency that the curability of the resin improves and the surface hardness and adhesiveness of the cured product become higher. On the other hand, when the ratio is 1 mol% or more, the gas barrier properties of the cured product tend to be improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2)で表される構成単位、上記式(4)で表される構成単位、及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。上記割合を60モル%以上とすることにより、硬化物の表面硬度や接着性がより高くなる傾向がある。   The total amount of siloxane constitutional units in the polyorganosilsesquioxane of the present invention [all siloxane constitutional units; M units, D units, T units, and total amount of Q units] (100 mol%) is shown in the above-mentioned formula (1) The ratio (total amount) of the constitutional unit to be used, the constitutional unit represented by the above formula (2), the constitutional unit represented by the above formula (4), and the constitutional unit represented by the above formula (5) is particularly limited Although not preferred, it is preferably 60 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, still more preferably 80 to 100 mol%. By setting the ratio to 60 mol% or more, the surface hardness and adhesion of the cured product tend to be higher.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、上述のように、1000〜3000であり、好ましくは1000〜2800、より好ましくは1100〜2600である。数平均分子量を1000以上とすることにより、硬化物の耐熱性、耐擦傷性、接着性がより向上する。一方、数平均分子量を3000以下とすることにより、硬化性組成物における他の成分との相溶性が向上し、硬化物の耐熱性がより向上する。   The number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene equivalent by gel permeation chromatography of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is 1000 to 3000, preferably 1000 to 2800, and more preferably 1100 to 3000, as described above. 2600. By making the number average molecular weight 1000 or more, the heat resistance, the abrasion resistance and the adhesion of the cured product are further improved. On the other hand, by setting the number average molecular weight to 3000 or less, the compatibility with other components in the curable composition is improved, and the heat resistance of the cured product is further improved.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度(Mw/Mn)は、上述のように、1.0〜3.0であり、好ましくは1.1〜2.0、より好ましくは1.2〜1.9である。分子量分散度を3.0以下とすることにより、硬化物の表面硬度や接着性がより高くなる。一方、分子量分散度を1.1以上とすることにより、液状となりやすく、取り扱い性が向上する傾向がある。   The standard polystyrene equivalent molecular weight dispersion degree (Mw / Mn) by gel permeation chromatography of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is, as described above, 1.0 to 3.0, preferably 1.1. It is -2.0, more preferably 1.2-1.9. By setting the molecular weight dispersion degree to 3.0 or less, the surface hardness and adhesion of the cured product become higher. On the other hand, when the degree of dispersion of molecular weight is 1.1 or more, it tends to be liquid, and the handleability tends to be improved.

なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量、分子量分散度は、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「LC−20AD」((株)島津製作所製)
カラム:Shodex KF−801×2本、KF−802、及びKF−803(昭和電工(株)製)
測定温度:40℃
溶離液:THF、試料濃度0.1〜0.2重量%
流量:1mL/分
検出器:UV−VIS検出器(商品名「SPD−20A」、(株)島津製作所製)
分子量:標準ポリスチレン換算
In addition, the number average molecular weight of the polyorgano silsesquioxane of this invention and molecular weight dispersion degree can be measured by the following apparatus and conditions.
Measuring device: Brand name "LC-20AD" (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: Shodex KF-801 × 2, KF-802, and KF-803 (manufactured by Showa Denko KK)
Measurement temperature: 40 ° C
Eluent: THF, sample concentration 0.1 to 0.2% by weight
Flow rate: 1 mL / min Detector: UV-VIS detector (trade name "SPD-20A", manufactured by Shimadzu Corporation)
Molecular weight: Standard polystyrene equivalent

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの空気雰囲気下における5%重量減少温度(Td5)は、特に限定されないが、330℃以上(例えば、330〜450℃)が好ましく、より好ましくは340℃以上、さらに好ましくは350℃以上である。5%重量減少温度が330℃以上であることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.0であり、FT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有ピークを有するものであることにより、その5%重量減少温度は330℃以上に制御される。なお、5%重量減少温度は、一定の昇温速度で加熱した時に加熱前の重量の5%が減少した時点での温度であり、耐熱性の指標となる。上記5%重量減少温度は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定することができる。 The 5% weight loss temperature (T d5 ) of the polyorganosilsesquioxane of the present invention under an air atmosphere is not particularly limited, but is preferably 330 ° C. or more (eg, 330 to 450 ° C.), more preferably 340 ° C. or more More preferably, it is 350 ° C. or higher. When the 5% weight loss temperature is 330 ° C. or more, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. In particular, the polyorganosilsesquioxane of the present invention has a ratio [T3 body / T2 body] of 5 or more, a number average molecular weight of 1000 to 3000, and a molecular weight dispersion degree of 1.0 to 3.0. The 5% weight loss temperature is controlled to 330 ° C. or higher by having one unique peak around 1100 cm −1 in the FT-IR spectrum. The 5% weight loss temperature is the temperature at which 5% of the weight before heating decreases when heated at a constant temperature rising rate, and serves as an indicator of heat resistance. The 5% weight loss temperature can be measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere at a temperature rising rate of 5 ° C./minute.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、公知乃至慣用のポリシロキサンの製造方法により製造することができ、特に限定されないが、例えば、1種又は2種以上の加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。但し、上記加水分解性シラン化合物としては、上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(a)で表される化合物)を必須の加水分解性シラン化合物として使用する必要がある。   The polyorganosilsesquioxane of the present invention can be produced by a known or commonly used method for producing polysiloxane, and is not particularly limited. For example, one or two or more hydrolysable silane compounds can be hydrolyzed and It can be produced by a method of condensation. However, as the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable trifunctional silane compound (compound represented by the following formula (a)) for forming a constitutional unit represented by the above-mentioned formula (1) is essential. It should be used as a hydrolyzable silane compound.

より具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシルセスキオキサン構成単位(T単位)を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(a)で表される化合物、必要に応じてさらに、下記式(b)で表される化合物、下記式(c)で表される化合物を、加水分解及び縮合させる方法により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを製造できる。
More specifically, for example, a compound represented by the following formula (a) which is a hydrolyzable silane compound for forming a silsesquioxane structural unit (T unit) in the polyorganosilsesquioxane of the present invention If necessary, the polyorganosilsesquioxane of the present invention can be produced by a method of hydrolyzing and condensing a compound represented by the following formula (b) and a compound represented by the following formula (c) .

上記式(a)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(1)で表される構成単位を形成する化合物である。式(a)中のR1は、上記式(1)におけるR1と同じく、エポキシ基を含有する基を示す。即ち、式(a)中のR1としては、上記式(1a)で表される基、上記式(1b)で表される基、上記式(1c)で表される基、上記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは上記式(1a)で表される基、上記式(1c)で表される基、さらに好ましくは上記式(1a)で表される基、特に好ましくは上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]である。 The compound represented by the said Formula (a) is a compound which forms the structural unit represented by Formula (1) in polyorgano silsesquioxane of this invention. R 1 in the formula (a), like that of R 1 in the formula (1), a group containing an epoxy group. That is, as R 1 in the formula (a), a group represented by the above formula (1a), a group represented by the above formula (1b), a group represented by the above formula (1c), the above formula (1d) Is more preferably a group represented by the above formula (1a), a group represented by the above formula (1c), still more preferably a group represented by the above formula (1a), particularly preferably Is a group represented by the above formula (1a), and is a group in which R 1a is an ethylene group (in particular, 2- (3 ', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl group).

上記式(a)中のX1は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X1におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基等が挙げられる。また、X1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。中でもX1としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 1 in the above formula (a) represents an alkoxy group or a halogen atom. The alkoxy group in X 1, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, isopropyloxy group, a butoxy group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as isobutyl group and the like. As the halogen atom in X 1, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among them, X 1 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 1 s may be identical to or different from each other.

上記式(b)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2)で表される構成単位を形成する化合物である。式(b)中のR2は、上記式(2)におけるR2と同じく、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。即ち、式(b)中のR2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 The compound represented by the said Formula (b) is a compound which forms the structural unit represented by Formula (2) in polyorgano silsesquioxane of this invention. R 2 in formula (b), like the R 2 in the formula (2), a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted Or an alkyl or substituted or unsubstituted alkenyl group. That is, R 2 in the formula (b) is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, More preferably, it is a phenyl group.

上記式(b)中のX2は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X2の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X2としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 2 in the above formula (b) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 2 include those exemplified as X 1 . Among them, X 2 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. In addition, three X 2 may be identical to or different from each other.

上記式(c)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(3)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(c)中のX3は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X3の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X3としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX3は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The compound represented by the said Formula (c) is a compound which forms the structural unit represented by Formula (3) in polyorgano silsesquioxane of this invention. X 3 in the above formula (c) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 3 include those exemplified as X 1 . Among them, X 3 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. In addition, three X 3 may be identical to or different from each other.

上記加水分解性シラン化合物としては、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性シラン化合物を併用してもよい。例えば、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性三官能シラン化合物、M単位を形成する加水分解性単官能シラン化合物、D単位を形成する加水分解性二官能シラン化合物、Q単位を形成する加水分解性四官能シラン化合物等が挙げられる。   As said hydrolysable silane compound, you may use together hydrolysable silane compounds other than the compound represented by said Formula (a)-(c). For example, hydrolyzable trifunctional silane compounds other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c), hydrolyzable monofunctional silane compounds forming M units, hydrolyzable bifunctional silanes forming D units The compound, the hydrolysable tetrafunctional silane compound which forms Q unit, etc. are mentioned.

上記加水分解性シラン化合物の使用量や組成は、所望する本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの構造に応じて適宜調整できる。例えば、上記式(a)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、55〜100モル%が好ましく、より好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。   The amount and composition of the hydrolyzable silane compound can be appropriately adjusted according to the desired structure of the polyorganosilsesquioxane of the present invention. For example, the amount of the compound represented by the above formula (a) is not particularly limited, but is preferably 55 to 100 mol%, more preferably the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used. Is 65 to 100 mol%, more preferably 80 to 99 mol%.

また、上記式(b)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。   The amount of the compound represented by the above formula (b) is not particularly limited, but is preferably 0 to 70 mol%, more preferably the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used. Is preferably 0 to 60 mol%, more preferably 0 to 40 mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%.

さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物と式(b)で表される化合物の割合(総量の割合)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。   Furthermore, the ratio (ratio of the total amount) of the compound represented by the formula (a) to the compound represented by the formula (b) with respect to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used is not particularly limited. 60-100 mol% is preferable, More preferably, it is 70-100 mol%, More preferably, it is 80-100 mol%.

また、上記加水分解性シラン化合物として2種以上を併用する場合、これらの加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うこともできるし、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。   Moreover, when using 2 or more types together as said hydrolysable silane compound, a hydrolysis and condensation reaction of these hydrolysable silane compounds can also be performed simultaneously, and can also be performed sequentially. When the above reactions are carried out sequentially, the order in which the reactions are carried out is not particularly limited.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うこともできるし、非存在下で行うこともできる。中でも溶媒の存在下で行うことが好ましい。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。上記溶媒としては、中でも、ケトン、エーテルが好ましい。なお、溶媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be carried out in the presence or absence of a solvent. Above all, it is preferable to carry out in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl acetate, ethyl acetate Esters such as isopropyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol Etc. Among the above solvents, ketones and ethers are preferable. In addition, a solvent can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

溶媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量100重量部に対して、0〜2000重量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。   The amount of the solvent used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the desired reaction time and the like within the range of 0 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the hydrolysable silane compound. .

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。上記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。上記アルカリ触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩;酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン等のアミン類(第3級アミン等);ピリジン、2,2'−ビピリジル、1,10−フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。なお、触媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水や溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。   The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound is preferably allowed to proceed in the presence of a catalyst and water. The catalyst may be an acid catalyst or an alkali catalyst. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid, formic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p -Sulfonic acids such as toluene sulfonic acid; Solid acids such as activated clay; Lewis acids such as iron chloride and the like. Examples of the alkali catalyst include hydroxides of alkali metals such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide and cesium hydroxide; alkaline earth metals such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide and barium hydroxide Hydroxides; carbonates of alkali metals such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate; carbonates of alkaline earth metals such as magnesium carbonate; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate And hydrogen carbonates of alkali metals such as cesium hydrogen carbonate; organic acid salts of alkali metals such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate and cesium acetate (for example, acetates); organic acids of alkaline earth metals such as magnesium acetate Salts (eg, acetate); lithium methoxide, sodium methoxy Alkoxides of alkali metals such as sodium ethoxide, sodium isopropoxide, potassium ethoxide and potassium t-butoxide; phenoxides of alkali metals such as sodium phenoxide; triethylamine, N-methylpiperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4] .0] Undec-7-ene, amines such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (tertiary amines etc.); pyridine, 2,2'-bipyridyl, 1,10 -Nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds such as phenanthroline and the like can be mentioned. In addition, a catalyst can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. The catalyst can also be used in the state of being dissolved or dispersed in water, a solvent or the like.

上記触媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.002〜0.200モルの範囲内で、適宜調整することができる。   The amount of the catalyst used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within the range of 0.002 to 0.200 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.5〜20モルの範囲内で、適宜調整することができる。   The amount of water used in the above hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within the range of 0.5 to 20 moles relative to 1 mole of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量(全使用量)を一括で添加してもよいし、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加してもよいし、間欠的に添加してもよい。   The method of adding water is not particularly limited, and the entire amount (total use amount) of water to be used may be added at once or may be added sequentially. When adding sequentially, you may add continuously and may add intermittently.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応を行う際の反応条件としては、特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]が5以上となるような反応条件を選択することが重要である。上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、特に限定されないが、40〜100℃が好ましく、より好ましくは45〜80℃である。反応温度を上記範囲に制御することにより、上記割合[T3体/T2体]をより効率的に5以上に制御できる傾向がある。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、特に限定されないが、0.1〜10時間が好ましく、より好ましくは1.5〜8時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。なお、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、特に限定されず、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。   Especially as reaction conditions at the time of performing the hydrolysis and condensation reaction of the above-mentioned hydrolysable silane compound, the reaction that the above-mentioned ratio [T3 body / T2 body] in the polyorgano silsesquioxane of the present invention becomes 5 or more It is important to select the conditions. Although the reaction temperature of the said hydrolysis and condensation reaction is not specifically limited, 40-100 degreeC is preferable, More preferably, it is 45-80 degreeC. By controlling the reaction temperature within the above range, the ratio [T3 body / T2 body] tends to be able to be controlled more efficiently to 5 or more. Moreover, the reaction time of the said hydrolysis and condensation reaction is although it does not specifically limit, 0.1 to 10 hours are preferable, More preferably, it is 1.5 to 8 hours. Further, the above-mentioned hydrolysis and condensation reaction can be carried out under normal pressure or can be carried out under pressure or under reduced pressure. In addition, the atmosphere at the time of performing the said hydrolysis and condensation reaction is not specifically limited, For example, under inert gas atmospheres, such as nitrogen atmosphere and argon atmosphere, oxygen presence, such as under air, etc. may be any, etc. However, under inert gas atmosphere is preferable.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンが得られる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、エポキシ基の開環を抑制するために触媒を中和することが好ましい。また、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製してもよい。   The polyorgano silsesquioxane of this invention is obtained by the hydrolysis and condensation reaction of the said hydrolysable silane compound. After the completion of the above-mentioned hydrolysis and condensation reaction, it is preferable to neutralize the catalyst in order to suppress the ring opening of the epoxy group. In addition, for example, separation means such as water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, and the like, and the polyorgano silsesquioxanes of the present invention are combined. You may separate and refine by separation means etc.

本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは上述の構成を有するため、該ポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い表面硬度かつ耐熱性を有し、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できる。また、接着性に優れた硬化物を形成できる。   Since the polyorganosilsesquioxane of the present invention has the above-mentioned constitution, it has high surface hardness and heat resistance by curing a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane as an essential component. It is possible to form a cured product excellent in flexibility and processability. In addition, a cured product with excellent adhesion can be formed.

[硬化性組成物]
本発明の硬化性組成物は、上述の本発明のポリオルガノシルセスキオキサンを必須成分として含む硬化性組成物(硬化性樹脂組成物)である。後述のように、本発明の硬化性組成物は、さらに、硬化触媒(特に光カチオン重合開始剤)や表面調整剤あるいは表面改質剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
[Curable composition]
The curable composition of the present invention is a curable composition (curable resin composition) containing the above-described polyorganosilsesquioxane of the present invention as an essential component. As described later, the curable composition of the present invention may further contain other components such as a curing catalyst (in particular, a cationic photopolymerization initiator), a surface conditioner, or a surface modifier.

本発明の硬化性組成物において本発明のポリオルガノシルセスキオキサンは、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In the curable composition of the present invention, the polyorganosilsesquioxanes of the present invention can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物における本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量(配合量)は、特に限定されないが、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、70重量%以上、100重量%未満が好ましく、より好ましくは80〜99.8重量%、さらに好ましくは90〜99.5重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の表面硬度や接着性がより向上する傾向がある。一方、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を100重量%未満とすることにより、硬化触媒を含有させることができ、これにより硬化性組成物の硬化をより効率的に進行させることができる傾向がある。   The content (blending amount) of the polyorganosilsesquioxane of the present invention in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but it is 70 with respect to the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. % By weight or more and less than 100% by weight is preferable, more preferably 80 to 99.8% by weight, still more preferably 90 to 99.5% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane of the present invention to 70% by weight or more, the surface hardness and adhesion of the cured product tend to be further improved. On the other hand, when the content of the polyorganosilsesquioxane of the present invention is less than 100% by weight, a curing catalyst can be contained, whereby the curing of the curable composition can proceed more efficiently. It tends to be possible.

本発明の硬化性組成物に含まれるカチオン硬化性化合物の全量(100重量%)に対する本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの割合は、特に限定されないが、70〜100重量%が好ましく、より好ましくは75〜98重量%、さらに好ましくは80〜95重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサンの含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の表面硬度や接着性がより向上する傾向がある。   The proportion of the polyorganosilsesquioxane of the present invention to the total amount (100% by weight) of the cationically curable compound contained in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but 70 to 100% by weight is preferable, more preferably Is 75 to 98% by weight, more preferably 80 to 95% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane of the present invention to 70% by weight or more, the surface hardness and adhesion of the cured product tend to be further improved.

本発明の硬化性組成物は、さらに、硬化触媒を含むことが好ましい。中でも、よりタックフリーとなるまでの硬化時間が短縮できる点で、硬化触媒として光カチオン重合開始剤を含むことが特に好ましい。   The curable composition of the present invention preferably further comprises a curing catalyst. Among them, it is particularly preferable to include a photo cationic polymerization initiator as a curing catalyst in that the curing time until tack-free can be shortened.

上記硬化触媒は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン等のカチオン硬化性化合物のカチオン重合反応を開始乃至促進することができる化合物である。上記硬化触媒としては、特に限定されないが、例えば、光カチオン重合開始剤(光酸発生剤)、熱カチオン重合開始剤(熱酸発生剤)等の重合開始剤が挙げられる。   The curing catalyst is a compound capable of initiating or accelerating the cationic polymerization reaction of the cationically curable compound such as polyorganosilsesquioxane of the present invention. Although it does not specifically limit as said curing catalyst, For example, polymerization initiators, such as a photo cationic polymerization initiator (photo-acid generator), a thermal cationic polymerization initiator (thermal acid generator), are mentioned.

上記光カチオン重合開始剤としては、公知乃至慣用の光カチオン重合開始剤を使用することができ、例えば、スルホニウム塩(スルホニウムイオンとアニオンとの塩)、ヨードニウム塩(ヨードニウムイオンとアニオンとの塩)、セレニウム塩(セレニウムイオンとアニオンとの塩)、アンモニウム塩(アンモニウムイオンとアニオンとの塩)、ホスホニウム塩(ホスホニウムイオンとアニオンとの塩)、遷移金属錯体イオンとアニオンとの塩等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   As the photocationic polymerization initiator, known or commonly used photocationic polymerization initiators can be used. For example, sulfonium salt (salt of sulfonium ion and anion), iodonium salt (salt of iodonium ion and anion) Selenium salts (salts of selenium ions and anions), ammonium salts (salts of ammonium ions and anions), phosphonium salts (salts of phosphonium ions and anions), salts of transition metal complex ions and anions, etc. . These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

上記スルホニウム塩としては、例えば、商品名「HS−1PC」(サンアプロ(株)製)、商品名「LW−S1」(サンアプロ(株)製)、トリフェニルスルホニウム塩、トリ−p−トリルスルホニウム塩、トリ−o−トリルスルホニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム塩、1−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、2−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、トリス(4−フルオロフェニル)スルホニウム塩、トリ−1−ナフチルスルホニウム塩、トリ−2−ナフチルスルホニウム塩、トリス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム塩、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩、4−(p−トリルチオ)フェニルジ−(p−フェニル)スルホニウム塩等のトリアリールスルホニウム塩;ジフェニルフェナシルスルホニウム塩、ジフェニル4−ニトロフェナシルスルホニウム塩、ジフェニルベンジルスルホニウム塩、ジフェニルメチルスルホニウム塩等のジアリールスルホニウム塩;フェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩等のモノアリールスルホニウム塩;ジメチルフェナシルスルホニウム塩、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム塩、ジメチルベンジルスルホニウム塩等のトリアルキルスルホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the sulfonium salt include, for example, trade name “HS-1PC” (manufactured by San-Apro Co., Ltd.), trade name “LW-S1” (manufactured by San-Apro Co., Ltd.), triphenylsulfonium salt, tri-p-tolylsulfonium salt Tri-o-tolyl sulfonium salt, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium salt, 1-naphthyl diphenyl sulfonium salt, 2-naphthyl diphenyl sulfonium salt, tris (4-fluorophenyl) sulfonium salt, tri-1-naphthyl sulfonium salt , Tri-2-naphthylsulfonium salts, tris (4-hydroxyphenyl) sulfonium salts, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salts, 4- (p-tolylthio) phenyldi- (p-phenyl) sulfonium salts, etc. Reel sulfonium salt; diphenyl Diarylsulfonium salts such as phenacyl sulfonium salt, diphenyl 4-nitrophenacyl sulfonium salt, diphenyl benzyl sulfonium salt, diphenyl methyl sulfonium salt, etc .; phenyl methyl benzyl sulfonium salt, 4-hydroxyphenyl methyl benzyl sulfonium salt, 4-methoxyphenyl methyl benzyl Examples include monoarylsulfonium salts such as sulfonium salts; and trialkylsulfonium salts such as dimethylphenacylsulfonium salts, phenacyltetrahydrothiophenium salts, and dimethylbenzylsulfonium salts.

上記ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩としては、例えば、商品名「CPI−101A」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート50%炭酸プロピレン溶液)、商品名「CPI−100P」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファート50%炭酸プロピレン溶液)等の市販品を使用できる。また、上記トリアリールスルホニウム塩としては、例えば、商品名「K1−S」(サンアプロ(株)製、非アンチモン系トリアリールスルホニウム塩)等の市販品を使用してもよい。   As said diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt, the brand name "CPI-101A" (The Sanapro Co., Ltd. product, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate 50% propylene carbonate solution is made, for example) Commercial products such as trade name "CPI-100P" (manufactured by San-Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate 50% propylene carbonate solution) can be used. Moreover, as said triaryl sulfonium salt, you may use commercial products, such as brand name "K1-S" (San-Apro Co., Ltd. product, non-antimony type triaryl sulfonium salt) etc., for example.

上記ヨードニウム塩としては、例えば、商品名「UV9380C」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロアンチモネート45%アルキルグリシジルエーテル溶液)、商品名「RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074」(ローディア・ジャパン(株)製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート=[(1−メチルエチル)フェニル](メチルフェニル)ヨードニウム)、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製)、ジフェニルヨードニウム塩、ジ−p−トリルヨードニウム塩、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム塩等が挙げられる。   Examples of the above-mentioned iodonium salts include “UV9380C” (manufactured by Momentive Performance Materials Japan LLC, bis (4-dodecylphenyl) iodonium = 45% solution of hexafluoroantimonate alkyl glycidyl ether), trade name “ RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074 (manufactured by Rhodia Japan Ltd., tetrakis (pentafluorophenyl) borate = [(1-methylethyl) phenyl] (methylphenyl) iodonium), trade name “WPI-124” (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Co., Ltd., diphenyliodonium salt, di-p-tolylliodonium salt, bis (4-dodecylphenyl) iodonium salt, bis (4-methoxyphenyl) iodonium salt and the like.

上記セレニウム塩としては、例えば、トリフェニルセレニウム塩、トリ−p−トリルセレニウム塩、トリ−o−トリルセレニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)セレニウム塩、1−ナフチルジフェニルセレニウム塩等のトリアリールセレニウム塩;ジフェニルフェナシルセレニウム塩、ジフェニルベンジルセレニウム塩、ジフェニルメチルセレニウム塩等のジアリールセレニウム塩;フェニルメチルベンジルセレニウム塩等のモノアリールセレニウム塩;ジメチルフェナシルセレニウム塩等のトリアルキルセレニウム塩等が挙げられる。   Examples of the selenium salts include triarylseleniums such as triphenylselenium salts, tri-p-tolylselenium salts, tri-o-tolylselenium salts, tris (4-methoxyphenyl) selenium salts, and 1-naphthyldiphenylselenium salts. Salts; diarylselenium salts such as diphenylphenacylselenium salts, diphenylbenzylselenium salts, diphenylmethylselenium salts; monoarylselenium salts such as phenylmethylbenzylselenium salts; trialkylselenium salts such as dimethylphenacylselenium salts .

上記アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウム塩、エチルトリメチルアンモニウム塩、ジエチルジメチルアンモニウム塩、トリエチルメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、トリメチル−n−プロピルアンモニウム塩、トリメチル−n−ブチルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム塩;N,N−ジメチルピロリジウム塩、N−エチル−N−メチルピロリジウム塩等のピロリジウム塩;N,N'−ジメチルイミダゾリニウム塩、N,N'−ジエチルイミダゾリニウム塩等のイミダゾリニウム塩;N,N'−ジメチルテトラヒドロピリミジウム塩、N,N'−ジエチルテトラヒドロピリミジウム塩等のテトラヒドロピリミジウム塩;N,N−ジメチルモルホリニウム塩、N,N−ジエチルモルホリニウム塩等のモルホリニウム塩;N,N−ジメチルピペリジニウム塩、N,N−ジエチルピペリジニウム塩等のピペリジニウム塩;N−メチルピリジニウム塩、N−エチルピリジニウム塩等のピリジニウム塩;N,N'−ジメチルイミダゾリウム塩等のイミダゾリウム塩;N−メチルキノリウム塩等のキノリウム塩;N−メチルイソキノリウム塩等のイソキノリウム塩;ベンジルベンゾチアゾニウム塩等のチアゾニウム塩;ベンジルアクリジウム塩等のアクリジウム塩等が挙げられる。   Examples of the ammonium salt include tetramethyl ammonium salt, ethyl trimethyl ammonium salt, diethyl dimethyl ammonium salt, triethyl methyl ammonium salt, tetraethyl ammonium salt, trimethyl n-propyl ammonium salt, and tetra methyl n-butyl ammonium salt. Alkyl ammonium salts; pyrrolidinium salts such as N, N-dimethyl pyrrolidinium salts, N-ethyl-N-methyl pyrrolidinium salts, etc .; N, N'-dimethyl imidazolinium salts, N, N'-diethyl imidazolinium salts, etc. Imidazolinium salts of N, N'-dimethyltetrahydropyrimidium salts, tetrahydropyrimidium salts such as N, N'-diethyltetrahydropyrimidium salts; N, N-dimethylmorpholinium salts, N, N -Diethylmorpholinium salt Morpholinium salts such as N, N-dimethylpiperidinium salts, piperidinium salts such as N, N-diethylpiperidinium salts, etc .; N-methyl pyridinium salts, pyridinium salts such as N-ethyl pyridinium salts; N, N'- Imidazolium salts such as dimethyl imidazolium salts; quinolium salts such as N-methyl quinolium salts; isoquinolium salts such as N-methyl isoquinolium salts; thiazonium salts such as benzyl benzothiazonium salts; benzyl acridium salts Acridium salts and the like.

上記ホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム塩、テトラ−p−トリルホスホニウム塩、テトラキス(2−メトキシフェニル)ホスホニウム塩等のテトラアリールホスホニウム塩;トリフェニルベンジルホスホニウム塩等のトリアリールホスホニウム塩;トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリブチルベンジルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウム塩、トリエチルフェナシルホスホニウム塩等のテトラアルキルホスホニウム塩等が挙げられる。   Examples of the phosphonium salts include tetraarylphosphonium salts such as tetraphenylphosphonium salts, tetra-p-tolylphosphonium salts, tetrakis (2-methoxyphenyl) phosphonium salts and the like; triarylphosphonium salts such as triphenylbenzylphosphonium salts and the like; triethyl Examples thereof include benzyl phosphonium salts, tributyl benzyl phosphonium salts, tetraethyl phosphonium salts, tetrabutyl phosphonium salts, and tetraalkyl phosphonium salts such as triethyl phenacyl phosphonium salts.

上記遷移金属錯体イオンの塩としては、例えば、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Cr+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Cr+等のクロム錯体カチオンの塩;(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Fe+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Fe+等の鉄錯体カチオンの塩等が挙げられる。 Examples of salts of the above transition metal complex ions include salts of chromium complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Cr + , (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Cr + and the like. And salts of iron complex cations such as (5−5-cyclopentadienyl) (6−6-toluene) Fe + , (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Fe +, and the like.

上述の塩を構成するアニオンとしては、例えば、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、(CF3CF23PF3 -、(CF3CF2CF23PF3 -、(C654-、(C654Ga-、スルホン酸アニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン等)、(CF3SO23-、(CF3SO22-、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。 Examples of the anion constituting the above-mentioned salt include SbF 6 , PF 6 , BF 4 , (CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 , (CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 , (C 6 F 5 ) 4 B , (C 6 F 5 ) 4 Ga , sulfonate anion (trifluoromethane sulfonate anion, pentafluoroethane sulfonate anion, nonafluorobutane sulfonate anion, methane sulfonate anion, benzene sulfonic acid anion, p- toluenesulfonate anion, etc.), (CF 3 SO 2) 3 C -, (CF 3 SO 2) 2 N -, perhalogenated acid ion, a halogenated sulfonic acid ion, carbonate ion, aluminate Ions, hexafluorobisamic acid ion, carboxylic acid ion, aryl borate ion, thiocyanate ion, nitrate ion and the like can be mentioned.

上記熱カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩、アレン−イオン錯体、第4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。   Examples of the thermal cationic polymerization initiator include arylsulfonium salts, aryliodonium salts, allene-ion complexes, quaternary ammonium salts, aluminum chelates, and boron trifluoride amine complexes.

上記アリールスルホニウム塩としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩等が挙げられる。本発明の硬化性組成物においては、例えば、商品名「SP−66」、「SP−77」(以上、(株)ADEKA製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製)等の市販品を使用することができる。上記アルミニウムキレートとしては、例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。また、上記三フッ化ホウ素アミン錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素イミダゾール錯体、三フッ化ホウ素ピペリジン錯体等が挙げられる。   Examples of the arylsulfonium salt include hexafluoroantimonate salts and the like. In the curable composition of the present invention, for example, trade names "SP-66", "SP-77" (all, manufactured by ADEKA Co., Ltd.); trade names "Sun-Aid SI-60L", "San-Aid SI-80L" Commercial products such as “San Aid SI-100L” and “San Aid SI-150L” (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) can be used. Examples of the aluminum chelate include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like. Moreover, as said boron trifluoride amine complex, a boron trifluoride monoethylamine complex, a boron trifluoride imidazole complex, a boron trifluoride piperidine complex etc. are mentioned, for example.

なお、本発明の硬化性組成物において硬化触媒は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   In the curable composition of the present invention, one kind of curing catalyst may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

本発明の硬化性組成物における上記硬化触媒の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン100重量部に対して、0.01〜3.0重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜3.0重量部、さらに好ましくは0.1〜1.0重量部(例えば、0.3〜1.0重量部)である。硬化触媒の含有量を0.01重量部以上とすることにより、硬化反応を効率的に十分に進行させることができ、硬化物の表面硬度や接着性がより向上する傾向がある。一方、硬化触媒の含有量を3.0重量部以下とすることにより、硬化性組成物の保存性がいっそう向上したり、硬化物の着色が抑制される傾向がある。   The content (blending amount) of the curing catalyst in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but 0.01 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosilsesquioxane of the present invention Is more preferably 0.05 to 3.0 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 1.0 parts by weight (e.g. 0.3 to 1.0 parts by weight). By setting the content of the curing catalyst to 0.01 parts by weight or more, the curing reaction can be efficiently advanced sufficiently, and the surface hardness and adhesiveness of the cured product tend to be further improved. On the other hand, when the content of the curing catalyst is 3.0 parts by weight or less, the storability of the curable composition tends to be further improved, and the coloring of the cured product tends to be suppressed.

本発明の硬化性組成物は、さらに、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン以外のカチオン硬化性化合物(「その他のカチオン硬化性化合物」と称する場合がある)を含んでいてもよい。その他のカチオン硬化性化合物としては、公知乃至慣用のカチオン硬化性化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン以外のエポキシ化合物(「その他のエポキシ化合物」と称する場合がある)、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。なお、本発明の硬化性組成物においてその他のカチオン硬化性化合物は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The curable composition of the present invention may further contain a cationic curable compound other than the polyorganosilsesquioxane of the present invention (sometimes referred to as "other cationic curable compound"). As other cationically curable compounds, known or commonly used cationically curable compounds can be used and are not particularly limited. For example, epoxy compounds other than the polyorganosilsesquioxane of the present invention ("Other epoxy compounds And the like), an oxetane compound, a vinyl ether compound and the like. In the curable composition of the present invention, other cationically curable compounds can be used alone or in combination of two or more.

上記その他のエポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。   As the above-mentioned other epoxy compounds, known or common compounds having one or more epoxy groups (oxirane ring) in the molecule can be used, and although not particularly limited, for example, alicyclic epoxy compounds (alicyclic Epoxy resin), aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin), aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin), etc. may be mentioned.

上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。   Examples of the above-mentioned alicyclic epoxy compounds include known and commonly used compounds having one or more alicyclic groups and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) A compound having an epoxy group (referred to as "alicyclic epoxy group") composed of two adjacent carbon atoms constituting an alicyclic ring and an oxygen atom; (2) the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond (3) compounds having an alicyclic and glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compounds) and the like.

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。
As a compound which has an alicyclic epoxy group in the said (1) molecule | numerator, the compound represented by following formula (i) is mentioned.

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。   In said Formula (i), Y shows a single bond or a coupling group (bivalent group which has one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which a part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and the like. And the like.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. As a C1-C18 linear or branched alkylene group, a methylene group, a methyl methylene group, dimethyl methylene group, ethylene group, a propylene group, trimethylene group etc. are mentioned, for example. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include a 1,2-cyclopentylene group, a 1,3-cyclopentylene group, a cyclopentylidene group, a 1,2-cyclohexylene group, and a 1,3-disubstituted cycloaliphatic hydrocarbon group. Examples thereof include divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group and cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。   The alkenylene group in the above-mentioned alkenylene group (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized is, for example, vinylene group, propenylene group, 1-butenylene group And C2-C8 linear or branched alkenylene groups such as 2-butenylene group, butadienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group and the like. In particular, as the above-mentioned epoxidized alkenylene group, an alkenylene group in which all of carbon-carbon double bonds are epoxidized is preferable, and more preferably, all of carbon-carbon double bonds have 2 to 4 carbon atoms having epoxidized all of carbon-carbon double bonds. It is an alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、3,4,3',4'−ジエポキシビシクロヘキサン、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR'は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エタン、2,3−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)オキシラン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。
As a typical example of the alicyclic epoxy compound represented by said Formula (i), 3,4,3 ', 4'- diepoxy bi cyclohexane, following formula (i-1)-(i-10) And the like. In the following formulas (i-5) and (i-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R 'in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as methylene, ethylene, propylene or isopropylene. Like alkylene groups are preferred. N1 to n6 in the following formulas (i-9) and (i-10) each represent an integer of 1 to 30. Moreover, as an alicyclic epoxy compound represented by said Formula (i), the other, for example, 2, 2-bis (3, 4- epoxycyclohexyl) propane, 1, 2- bis (3, 4- epoxycyclohexyl, And ethane), 2,3-bis (3,4-epoxycyclohexyl) oxirane, and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether.

上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。
Examples of the compound in which an epoxy group is directly bonded to the (2) alicyclic ring described above by a single bond include a compound represented by the following formula (ii), and the like.

式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R ′ ′ is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the polyhydric alcohol [R ′ (OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms), and the like. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in the respective groups in () (outside parentheses) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, And trade name "EHPE 3150" (manufactured by Daicel Co., Ltd.) and the like.

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。   Examples of the compound having an alicyclic and glycidyl ether group in the (3) molecule described above include glycidyl ethers of alicyclic alcohols (particularly, alicyclic polyhydric alcohols). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy)] Compound (hydrogenated bisphenol A epoxy compound) obtained by hydrogenating a bisphenol A epoxy compound such as cyclohexyl] propane; bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2, 2, Compound obtained by hydrogenating a bisphenol F-type epoxy compound such as 3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound Hydrogenated biphenol type epoxy compound; hydrogenated phenol novolac type epoxy compound; hydrogenated cresol novolac type epoxy compound; hydrogenated cresol novolac type epoxy compound of bisphenol A; hydrogenated naphthalene type epoxy compound; epoxy compound obtained from trisphenolmethane Hydrogenated epoxy compounds; hydrogenated epoxy compounds of the following aromatic epoxy compounds, and the like.

上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。   As the above-mentioned aromatic epoxy compound, for example, an epi-bis-type glycidyl ether type epoxy resin obtained by condensation reaction of bisphenols [eg bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol etc.] with epihalohydrin; High molecular weight epi-bis-type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further addition reaction of bis-type glycidyl ether type epoxy resin with the above-mentioned bisphenol; phenols [eg phenol, cresol, xylenol, resorcinol, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehydes [eg, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicylic acid Novolak alkyl type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further condensation reaction of polyhydric alcohol obtained by condensation reaction with aldehyde etc. with epihalohydrin; two phenol skeletons bonded to position 9 of fluorene ring And the epoxy compound etc. which the glycidyl group has couple | bonded directly or via the alkylene oxy group to the oxygen atom which remove | eliminated the hydrogen atom from the hydroxyl group of these phenol frame | skeleton are mentioned, respectively.

上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。   Examples of the aliphatic epoxy compounds include glycidyl ethers of alcohols having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); monohydric or polyhydric carboxylic acids [eg, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, Glycidyl esters of adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.]; Epoxides of fats and oils with double bonds such as epoxidized linseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil, etc .; Epoxides of (including alkadiene) and the like can be mentioned. Examples of the above-mentioned alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 And a dihydric alcohol such as 3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol and the like; And trivalent or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and sorbitol. That. Also, the q-valent alcohol may be polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyolefin polyol or the like.

上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。   Examples of the oxetane compounds include known and commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3-) Oxetanyl)] methyl} ether, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bisi Clohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3- {[(3-Ethyl oxetan-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bis oxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanyl silsesquioxane And phenol novolac oxetane.

上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。   As the vinyl ether compound, known or commonly used compounds having one or more vinyl ether groups in the molecule can be used, and although not particularly limited, for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxy isopropyl vinyl ether, 4-hydroxy butyl vinyl ether, 3-hydroxy butyl vinyl ether, 2-hydroxy butyl vinyl ether, 3-hydroxy isobutyl vinyl ether, 2-hydroxy isobutyl vinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethyl propyl vinyl ether 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexane dimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexane Methanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexane dimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexane dimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexane dimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether P-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xylene Glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, penta Ethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol Cole divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanorbornene divinyl ether, phenyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, Droquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxa norbornane methanol divinyl ether, 4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether and the like.

本発明の硬化性組成物においては、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとともにその他のカチオン硬化性化合物としてビニルエーテル化合物を併用することが好ましい。これにより、硬化物の表面硬度がより高くなる傾向がある。特に、本発明の硬化性組成物を活性エネルギー線(特に紫外線)の照射により硬化させる場合には、活性エネルギー線の照射量を低くした場合であっても表面硬度が非常に高い硬化物が優れた生産性で(例えば、エージングのための熱処理を施す必要がない等)得られるという利点がある。このため、硬化物やハードコートフィルムの製造ライン速度をより高くすることが可能となり、これらの生産性がいっそう向上する。   In the curable composition of the present invention, it is preferable to use a vinyl ether compound in combination with the polyorganosilsesquioxane of the present invention as another cationically curable compound. This tends to further increase the surface hardness of the cured product. In particular, when the curable composition of the present invention is cured by irradiation with active energy rays (in particular, ultraviolet rays), cured products having very high surface hardness are excellent even when the irradiation amount of active energy rays is lowered. There is an advantage that it can be obtained with high productivity (for example, it is not necessary to apply a heat treatment for aging). For this reason, it is possible to further increase the production line speed of the cured product and the hard coat film, and the productivity thereof is further improved.

また、その他のカチオン硬化性化合物として、特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物を使用した場合には、表面硬度がより高く、さらに、耐熱黄変性(加熱による黄変が生じにくい特性)に優れた硬化物が得られるという利点がある。このため、いっそう高品質かつ高耐久性の硬化物やハードコートフィルムが得られる。分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物が分子内に有する水酸基の数は、特に限定されないが、1〜4個が好ましく、より好ましくは1又は2個である。具体的には、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル等が挙げられる。   In addition, particularly when a vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is used as another cationically curable compound, the surface hardness is higher, and further, heat yellowing resistance (yellowing hardly occurs due to heating) It has the advantage that a cured product excellent in the properties) can be obtained. For this reason, a cured product or hard coat film of higher quality and higher durability can be obtained. The number of hydroxyl groups in the molecule of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited, but is preferably 1 to 4 and more preferably 1 or 2. Specifically, as a vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule, for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxy isopropyl Vinylether, 4-hydroxybutylvinylether, 3-hydroxybutylvinylether, 2-hydroxybutylvinylether, 3-hydroxyisobutylvinylether, 2-hydroxyisobutylvinylether, 1-methyl-3-hydroxypropylvinylether, 1-methyl-2-hydroxypropyl Vinyl ether, 1-hydroxymethyl propyl vinyl ether, 4-hydroxy cyclohexyl vinyl ether, 1, 6-hexa Diol monovinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether m-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol Monovinyl ether, tetra B propylene glycol monomethyl ether, pentaethylene glycol monomethyl ether, oligo propylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, dipentaerythritol penta vinyl ether.

本発明の硬化性組成物におけるその他のカチオン硬化性化合物の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、50重量%以下(例えば、0〜50重量%)が好ましく、より好ましくは30重量%以下(例えば、0〜30重量%)、さらに好ましくは10重量%以下である。その他のカチオン硬化性化合物の含有量を50重量%以下(特に10重量%以下)とすることにより、硬化物の耐擦傷性がより向上する傾向がある。一方、その他のカチオン硬化性化合物の含有量を10重量%以上とすることにより、硬化性組成物や硬化物に対して所望の性能(例えば、硬化性組成物に対する速硬化性や粘度調整等)を付与することができる場合がある。   The content (blending amount) of the other cationically curable compound in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount (100% by weight) of the polyorganosilsesquioxane of the present invention and the other cationically curable compound 50% by weight or less (eg, 0 to 50% by weight) is preferable, more preferably 30% by weight or less (eg, 0 to 30% by weight), further preferably 10% by weight based on the total amount of the cationically curable compound % Or less. By setting the content of the other cationically curable compound to 50% by weight or less (particularly 10% by weight or less), the scratch resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the content of the other cationically curable compound to 10% by weight or more, desired performance with respect to the curable composition and the cured product (for example, rapid curing and viscosity adjustment for the curable composition, etc.) May be granted.

本発明の硬化性組成物におけるビニルエーテル化合物(特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサンとその他のカチオン硬化性化合物の総量(100重量%;カチオン硬化性化合物の全量)に対して、0.01〜10重量%が好ましく、より好ましくは0.05〜9重量%、さらに好ましくは1〜8重量%である。ビニルエーテル化合物の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化物の表面硬度がより高くなり、活性エネルギー線(例えば、紫外線)の照射量を低くした場合であっても表面硬度が非常に高い硬化物が得られる傾向がある。特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化物の表面硬度が特に高くなることに加えて、その耐熱黄変性もいっそう向上する傾向がある。   The content (blending amount) of the vinyl ether compound (in particular, the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule) in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but the polyorganosilsesquioxane of the present invention The amount is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 9% by weight, and still more preferably 1 to 10% by weight, based on the total amount (100% by weight; the total amount of the cation curable compounds) of the other cationically curable compounds. It is 8% by weight. By controlling the content of the vinyl ether compound in the above range, the surface hardness of the cured product becomes higher, and the curing is very high in surface hardness even when the irradiation amount of active energy rays (for example, ultraviolet light) is lowered. There is a tendency for things to be obtained. In particular, by controlling the content of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule within the above range, in addition to the surface hardness of the cured product becoming particularly high, its heat resistant yellowing tends to be further improved. is there.

本発明の硬化性組成物は、さらに、その他任意の成分として、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、硬化助剤、溶剤(有機溶剤等)、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤、重金属不活性化剤など)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤など)、難燃助剤、補強材(他の充填剤など)、核剤、カップリング剤(シランカップリング剤等)、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、透明化剤、レオロジー調整剤(流動性改良剤など)、加工性改良剤、着色剤(染料、顔料など)、帯電防止剤、分散剤、表面調整剤(消泡剤、レベリング剤、ワキ防止剤など)、表面改質剤(スリップ剤など)、艶消し剤、消泡剤、抑泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、光増感剤、発泡剤などの慣用の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。   The curable composition of the present invention may further contain, as other optional components, precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, calcium carbonate Inorganic fillers such as carbon black, silicon carbide, silicon nitride and boron nitride; inorganic fillers obtained by treating these fillers with organosilicon compounds such as organohalosilanes, organoalkoxysilanes and organosilazanes; silicone resins, epoxy resins Organic resin fine powder such as fluorocarbon resin; Filler such as conductive metal powder such as silver and copper, curing agent, solvent (organic solvent etc.), stabilizer (antioxidant, ultraviolet absorber, light stabilizer) , Heat stabilizers, heavy metal deactivators etc., flame retardants (phosphorus flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants etc), flame retardants Agents, reinforcing agents (such as other fillers), nucleating agents, coupling agents (such as silane coupling agents), lubricants, waxes, plasticizers, mold release agents, impact modifiers, hue improvers, clarifying agents, Rheology modifiers (such as flow improvers), processability improvers, colorants (such as dyes and pigments), antistatic agents, dispersants, surface conditioners (such as antifoaming agents, leveling agents, anti-slip agents), surfaces Conventional agents such as modifiers (slip agents, etc.), matting agents, antifoaming agents, foam inhibitors, defoamers, antibacterial agents, preservatives, viscosity modifiers, thickeners, photosensitizers, foaming agents, etc. It may contain an additive. These additives may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で又は必要に応じて加熱しながら攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。   Although the curable composition of the present invention is not particularly limited, it can be prepared by stirring and mixing the above-mentioned components at room temperature or while heating as needed. In addition, the curable composition of this invention can also be used as a one-component composition which uses what was mixed each component beforehand as it is, for example, two or more components stored separately It can also be used as a composition of a multi-component system (for example, a two-component system) which is used by mixing at a predetermined ratio before use.

本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。より具体的には、本発明の硬化性組成物は、溶媒20%に希釈した液[特に、メチルイソブチルケトンの割合が20重量%である硬化性組成物(溶液)]の25℃における粘度として、300〜20000mPa・sが好ましく、より好ましくは500〜10000mPa・s、さらに好ましくは1000〜8000mPa・sである。上記粘度を300mPa・s以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、上記粘度を20000mPa・s以下とすることにより、硬化性組成物の調製や取り扱いが容易となり、また、硬化物中に気泡が残存しにくくなる傾向がある。なお、本発明の硬化性組成物の粘度は、粘度計(商品名「MCR301」、アントンパール社製)を用いて、振り角5%、周波数0.1〜100(1/s)、温度:25℃の条件で測定される。   The curable composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably liquid at normal temperature (about 25 ° C.). More specifically, the curable composition of the present invention has a viscosity at 25 ° C. of a liquid diluted in a solvent 20% [in particular, a curable composition (solution) in which the proportion of methyl isobutyl ketone is 20% by weight]. The viscosity is preferably 300 to 20,000 mPa · s, more preferably 500 to 10,000 mPa · s, and still more preferably 1,000 to 8,000 mPa · s. By setting the viscosity to 300 mPa · s or more, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, by setting the viscosity to 20000 mPa · s or less, preparation and handling of the curable composition become easy, and bubbles tend not to remain in the cured product. The viscosity of the curable composition of the present invention was measured using a viscometer (trade name "MCR301" manufactured by Anton Paar Co., Ltd.), with a 5% swing angle, a frequency of 0.1 to 100 (1 / s), and a temperature: Measured under conditions of 25 ° C.

[硬化物]
本発明の硬化性組成物におけるカチオン硬化性化合物(本発明のポリオルガノシルセスキオキサン等)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができ、硬化物(「本発明の硬化物」と称する場合がある)を得ることができる。硬化の方法は、周知の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
[Cured product]
The curable composition can be cured by advancing the polymerization reaction of a cationic curable compound (such as the polyorganosilsesquioxane of the present invention) in the curable composition of the present invention, and a cured product ("This The cured product of the invention may be referred to as The method of curing can be appropriately selected from known methods, and is not particularly limited, and examples thereof include irradiation with active energy rays and / or a method of heating. As the active energy ray, any of infrared ray, visible light, ultraviolet ray, X-ray, electron beam, α-ray, β-ray, γ-ray and the like can be used, for example. Among them, ultraviolet light is preferable in terms of excellent handleability.

本発明の硬化性組成物を活性エネルギー線の照射により硬化させる際の条件(活性エネルギー線の照射条件等)は、照射する活性エネルギー線の種類やエネルギー、硬化物の形状やサイズ等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、紫外線を照射する場合には、例えば1〜1000mJ/cm2程度とすることが好ましい。なお、活性エネルギー線の照射には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、LEDランプ、レーザー等を使用することができる。活性エネルギー線の照射後には、さらに加熱処理(アニール、エージング)を施してさらに硬化反応を進行させることができる。 The conditions for curing the curable composition of the present invention by irradiation with active energy rays (such as irradiation conditions with active energy rays) depend on the type and energy of the active energy ray to be irradiated, the shape and size of the cured product, etc. Although it can adjust suitably and it does not specifically limit, When irradiating an ultraviolet-ray, it is preferable to set it as about 1-1000 mJ / cm < 2 >, for example. For irradiation with active energy rays, for example, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, sunlight, an LED lamp, a laser or the like can be used. After irradiation with active energy rays, heat treatment (annealing, aging) can be further performed to further promote the curing reaction.

一方、本発明の硬化性組成物を加熱により硬化させる際の条件は、特に限定されないが、例えば、30〜200℃が好ましく、より好ましくは50〜190℃である。硬化時間は適宜設定可能である。   On the other hand, conditions for curing the curable composition of the present invention by heating are not particularly limited, but for example, 30 to 200 ° C. are preferable, and more preferably 50 to 190 ° C. The curing time can be set appropriately.

本発明の硬化性組成物は上述のように、硬化させることによって、高い表面硬度かつ耐熱性を有し、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できる。従って、本発明の硬化性組成物は、特に、ハードコートフィルムにおけるハードコート層を形成するための「ハードコート層形成用硬化性組成物」(「ハードコート液」や「ハードコート剤」等と称される場合がある)として特に好ましく使用できる。本発明の硬化性組成物をハードコート層形成用硬化性組成物として用い、該組成物より形成されたハードコート層を有するハードコートフィルムは、高硬度及び高耐熱性を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロールでの製造や加工が可能である。   As described above, the curable composition of the present invention can be cured to form a cured product having high surface hardness and heat resistance and excellent in flexibility and processability. Therefore, the curable composition of the present invention is, in particular, a "curable composition for forming a hard coat layer" (a "hard coat solution", a "hard coat agent", etc.) for forming a hard coat layer in a hard coat film. It can be particularly preferably used as sometimes referred to). A hard coat film having a hard coat layer formed from the composition using the curable composition of the present invention as a hard coat layer-forming curable composition is flexible while maintaining high hardness and high heat resistance. It can be manufactured and processed by roll-to-roll.

[ハードコートフィルム]
本発明のハードコートフィルムは、基材と、該基材の少なくとも一方の表面に形成されたハードコート層とを有するフィルムであって、上記ハードコート層が、本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)により形成されたハードコート層(本発明の硬化性組成物の硬化物層)であることを特徴としている。なお、本明細書においては、本発明の硬化性組成物により形成された上記ハードコート層を、「本発明のハードコート層」と称する場合がある。
[Hard coat film]
The hard coat film of the present invention is a film having a substrate and a hard coat layer formed on at least one surface of the substrate, and the above hard coat layer is a curable composition of the present invention (hard It is characterized in that it is a hard coat layer (cured product layer of the curable composition of the present invention) formed by the curable composition for forming a coat layer). In the present specification, the above-mentioned hard coat layer formed of the curable composition of the present invention may be referred to as "the hard coat layer of the present invention".

なお、本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、上記基材の一方の表面(片面)のみに形成されていてもよいし、両方の表面(両面)に形成されていてもよい。   The hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention may be formed only on one surface (one side) of the above-mentioned substrate, or may be formed on both surfaces (both sides) .

また、本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、上記基材のそれぞれの表面において、一部のみに形成されていてもよいし、全面に形成されていてもよい。   In addition, the hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention may be formed only on a part of the surface of each of the above-mentioned substrates, or may be formed on the entire surface.

本発明のハードコートフィルムにおける基材は、ハードコートフィルムの基材であって、本発明のハードコート層以外を構成する部分をいう。上記基材としては、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材(木製基材)、表面が塗装表面である基材等の公知乃至慣用の基材を用いることができ、特に限定されない。中でも、プラスチック基材(プラスチック材料により構成された基材)が好ましい。   The base material in the hard coat film of the present invention is a base material of a hard coat film, and refers to a portion which constitutes other than the hard coat layer of the present invention. As the above-mentioned substrate, publicly known materials such as plastic substrates, metal substrates, ceramic substrates, semiconductor substrates, glass substrates, paper substrates, wood substrates (wood substrates), substrates whose surfaces are coated surfaces, etc. Conventional substrates can be used without particular limitation. Among them, plastic substrates (substrates made of plastic materials) are preferable.

上記プラスチック基材を構成するプラスチック材料は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル;ポリイミド;ポリカーボネート;ポリアミド;ポリアセタール;ポリフェニレンオキサイド;ポリフェニレンサルファイド;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ノルボルネン系モノマーの単独重合体(付加重合体や開環重合体等)、ノルボルネンとエチレンの共重合体等のノルボルネン系モノマーとオレフィン系モノマーの共重合体(付加重合体や開環重合体等の環状オレフィンコポリマー等)、これらの誘導体等の環状ポリオレフィン;ビニル系重合体(例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン樹脂(ABS樹脂)等);ビニリデン系重合体(例えば、ポリ塩化ビニリデン等);トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂;エポキシ樹脂;フェノール樹脂;メラミン樹脂;ユリア樹脂;マレイミド樹脂;シリコーン等の各種プラスチック材料が挙げられる。なお、上記プラスチック基材は、1種のみのプラスチック材料により構成されたものであってもよいし、2種以上のプラスチック材料により構成されたものであってもよい。   The plastic material constituting the plastic substrate is not particularly limited, but, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyimides; polycarbonates; polyamides; polyacetals; polyacetals; polyphenylene oxides; polyphenylene sulfides; Sulfone: Polyether ether ketone; Homopolymer of norbornene monomer (addition polymer, ring opening polymer, etc.), copolymer of norbornene monomer and olefin monomer such as copolymer of norbornene and ethylene (addition polymer And cyclic olefin copolymers such as ring-opening polymers), cyclic polyolefins such as derivatives thereof; vinyl polymers (for example, acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA); , Polyvinyl chloride, acrylonitrile-styrene-butadiene resin (ABS resin etc.); vinylidene polymers (eg polyvinylidene chloride etc); cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC); epoxy resin; phenol resin; Melamine resin; urea resin; maleimide resin; various plastic materials such as silicone. The plastic base may be made of only one type of plastic material, or may be made of two or more types of plastic materials.

中でも、上記プラスチック基材としては、本発明のハードコートフィルムとして透明性に優れたハードコートフィルムを得ることを目的とする場合には、透明性に優れた基材(透明基材)を用いることが好ましく、より好ましくはポリエステルフィルム(特に、PET、PEN)、環状ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルム、PMMAフィルムである。   Among them, when it is intended to obtain a hard coat film excellent in transparency as the hard coat film of the present invention as the above-mentioned plastic base material, a substrate excellent in transparency (transparent base material) should be used. And more preferably polyester films (especially, PET, PEN), cyclic polyolefin films, polycarbonate films, TAC films, PMMA films.

上記プラスチック基材は、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定剤、結晶核剤、難燃剤、難燃助剤、充填剤、可塑剤、耐衝撃性改良剤、補強剤、分散剤、帯電防止剤、発泡剤、抗菌剤等のその他の添加剤を含んでいてもよい。なお、添加剤は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。   The above-mentioned plastic substrate is, if necessary, an antioxidant, an ultraviolet light absorber, a light stabilizer, a thermal stabilizer, a crystal nucleating agent, a flame retardant, a flame retardant auxiliary, a filler, a plasticizer, an impact modifier Other additives such as a reinforcing agent, a dispersing agent, an antistatic agent, a foaming agent and an antibacterial agent may be included. In addition, an additive can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

上記プラスチック基材は、単層の構成を有していてもよいし、多層(積層)の構成を有していてもよく、その構成(構造)は特に限定されない。例えば、上記プラスチック基材は、プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に本発明のハードコート層以外の層(「その他の層」と称する場合がある)が形成された、「プラスチックフィルム/その他の層」又は「その他の層/プラスチックフィルム/その他の層」等の積層構成を有するプラスチック基材であってもよい。上記その他の層としては、例えば、本発明のハードコート層以外のハードコート層等が挙げられる。なお、上記その他の層を構成する材料としては、例えば、上述のプラスチック材料等が挙げられる。   The plastic substrate may have a single-layer structure or a multi-layer (laminated) structure, and the structure (structure) is not particularly limited. For example, the above plastic substrate is a “plastic film / other layer” in which a layer other than the hard coat layer of the present invention (sometimes referred to as “other layer”) is formed on at least one surface of the plastic film. Alternatively, it may be a plastic substrate having a laminated structure such as “other layer / plastic film / other layer”. As said other layer, hard-coat layers other than the hard-coat layer of this invention etc. are mentioned, for example. In addition, as a material which comprises said other layer, the above-mentioned plastic material etc. are mentioned, for example.

上記プラスチック基材の表面の一部又は全部には、粗化処理、易接着処理、静電気防止処理、サンドブラスト処理(サンドマット処理)、コロナ放電処理、プラズマ処理、ケミカルエッチング処理、ウォーターマット処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理、酸化処理、紫外線照射処理、シランカップリング剤処理等の公知乃至慣用の表面処理が施されていてもよい。なお、上記プラスチック基材は、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルム(一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルム等)であってもよい。   Roughening treatment, adhesion facilitation treatment, antistatic treatment, sand blasting treatment (sand mat treatment), corona discharge treatment, plasma treatment, chemical etching treatment, water mat treatment, flame on a part or all of the surface of the plastic substrate Well-known or usual surface treatments, such as treatment, acid treatment, alkali treatment, oxidation treatment, ultraviolet irradiation treatment, silane coupling agent treatment, may be applied. In addition, an unstretched film may be sufficient as the said plastic base material, and a stretched film (a uniaxial stretched film, a biaxial stretched film, etc.) may be sufficient as it.

上記プラスチック基材は、例えば、上述のプラスチック材料をフィルム状に成形してプラスチック基材(プラスチックフィルム)とする方法、必要に応じてさらに上記プラスチックフィルムに対して適宜な層(例えば、上記その他の層等)を形成したり、適宜な表面処理を施す方法等の、公知乃至慣用の方法により製造することができる。なお、上記プラスチック基材としては、市販品を使用することもできる。   The above-mentioned plastic substrate is, for example, a method of forming the above-mentioned plastic material into a film to form a plastic substrate (plastic film), and, if necessary, a layer suitable for the above-mentioned plastic film It can manufacture by the well-known thru | or conventional method, such as the method of forming a layer etc., or giving an appropriate surface treatment. In addition, a commercial item can also be used as said plastic base material.

上記基材の厚みは、特に限定されないが、例えば、0.01〜10000μmの範囲から適宜選択することができる。   Although the thickness of the said base material is not specifically limited, For example, it can select suitably from the range of 0.01-10000 micrometers.

本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、本発明のハードコートフィルムにおける少なくとも一方の表面層を構成する層であり、本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)を硬化させることにより得られる硬化物(樹脂硬化物)により形成された層(硬化物層)である。   The hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention is a layer constituting at least one surface layer in the hard coat film of the present invention, and the curable composition of the present invention (curable composition for forming hard coat layer) (The cured product layer) formed of the cured product (the cured resin product) obtained by curing the product.

本発明のハードコート層の厚み(基材の両面に本発明のハードコート層を有する場合は、それぞれのハードコート層の厚み)は、特に限定されないが、1〜200μmが好ましく、より好ましくは3〜150μmである。特に、本発明のハードコート層は、薄い場合(例えば、厚み5μm以下の場合)であっても、表面の高硬度を維持すること(例えば、鉛筆硬度をH以上とすること)が可能である。また、厚い場合(例えば、厚み50μm以上の場合)であっても、硬化収縮等に起因するクラック発生等の不具合が生じにくいため、厚膜化によって鉛筆硬度を著しく高めること(例えば、鉛筆硬度を9H以上とすること)が可能である。   The thickness of the hard coat layer of the present invention (when the hard coat layer of the present invention is provided on both sides of the substrate, the thickness of each hard coat layer) is not particularly limited, but preferably 1 to 200 μm, more preferably 3 It is ̃150 μm. In particular, the hard coat layer of the present invention is capable of maintaining high surface hardness (e.g., setting the pencil hardness to H or more) even when thin (e.g., when the thickness is 5 [mu] m or less). . In addition, even when it is thick (for example, when the thickness is 50 μm or more), it is difficult to cause a defect such as a crack due to curing shrinkage etc., therefore, pencil hardness is significantly increased by thickening (for example, pencil hardness 9H or more) is possible.

本発明のハードコート層のヘイズは、特に限定されないが、50μmの厚みの場合で、1.5%以下が好ましく、より好ましくは1.0%以下である。なお、ヘイズの下限は、特に限定されないが、例えば、0.1%である。ヘイズを特に1.0%以下とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコート層のヘイズは、JIS K7136に準拠して測定することができる。   The haze of the hard coat layer of the present invention is not particularly limited, but in the case of a thickness of 50 μm, 1.5% or less is preferable, and 1.0% or less is more preferable. The lower limit of the haze is not particularly limited, and is, for example, 0.1%. By setting the haze to 1.0% or less in particular, for example, there is a tendency to be suitable for use in applications where very high transparency is required (for example, a surface protective sheet of a display such as a touch panel). The haze of the hard coat layer of the present invention can be measured in accordance with JIS K7136.

本発明のハードコート層の全光線透過率は、特に限定されないが、50μmの厚みの場合で、85%以上が好ましく、より好ましくは90%以上である。なお、全光線透過率の上限は、特に限定されないが、例えば、99%である。全光線透過率を85%以上とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコート層の全光線透過率は、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。   The total light transmittance of the hard coat layer of the present invention is not particularly limited, but in the case of a thickness of 50 μm, 85% or more is preferable, and 90% or more is more preferable. The upper limit of the total light transmittance is not particularly limited, and is, for example, 99%. By making the total light transmittance 85% or more, for example, there is a tendency to be suitable for use in applications where very high transparency is required (for example, a surface protective sheet of a display such as a touch panel). The total light transmittance of the hard coat layer of the present invention can be measured in accordance with JIS K7361-1.

本発明のハードコートフィルムは、さらに、本発明のハードコート層表面に表面保護フィルムを有していてもよい。本発明のハードコートフィルムが表面保護フィルムを有することにより、ハードコートフィルムの打ち抜き加工性がいっそう向上する傾向がある。このように表面保護フィルムを有する場合には、例えば、ハードコート層の硬度が非常に高く、打ち抜き加工時に基材からの剥離やクラックが発生しやすいものであっても、このような問題を生じさせることなくトムソン刃を使用した打ち抜き加工を行うことができる。   The hard coat film of the present invention may further have a surface protective film on the surface of the hard coat layer of the present invention. The hard coat film of the present invention having a surface protective film tends to further improve the punching processability of the hard coat film. When the surface protective film is provided as described above, for example, such a problem occurs even if the hardness of the hard coat layer is very high and peeling or cracking from the base material is likely to occur during punching. It is possible to carry out punching using a Thomson blade without causing it.

上記表面保護フィルムとしては、公知乃至慣用の表面保護フィルムを使用することができ、特に限定されないが、例えば、プラスチックフィルムの表面に粘着剤層を有するものが使用できる。上記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン等)、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチック材料より形成されたプラスチックフィルムが挙げられる。上記粘着剤層としては、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体系粘着剤、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体系粘着剤、スチレン−イソプレンブロック共重合体系粘着剤、スチレン−ブタジエンブロック共重合体系粘着剤等の公知乃至慣用の粘着剤の1種以上より形成された粘着剤層が挙げられる。上記粘着剤層中には、各種の添加剤(例えば、帯電防止剤、スリップ剤等)が含まれていてもよい。なお、プラスチックフィルム、粘着剤層は、それぞれ単層構成を有していてもよいし、多層(複層)構成を有していてもよい。また、表面保護フィルムの厚みは、特に限定されず、適宜選択することができる。   As the surface protective film, known or conventional surface protective films can be used, and although not particularly limited, for example, those having a pressure-sensitive adhesive layer on the surface of a plastic film can be used. Examples of the plastic film include polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyolefin (polyethylene, polypropylene, cyclic polyolefin, etc.), polystyrene, acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, fluorine resin, silicone resin, diacetate resin, Examples thereof include plastic films formed from plastic materials such as triacetate resin, polyarylate, polyvinyl chloride, polysulfone, polyether sulfone, polyether ether imide, polyimide, and polyamide. Examples of the pressure-sensitive adhesive layer include acrylic pressure-sensitive adhesives, natural rubber-based pressure-sensitive adhesives, synthetic rubber-based pressure-sensitive adhesives, ethylene-vinyl acetate copolymer-based pressure-sensitive adhesives, ethylene- (meth) acrylate copolymer-based pressure-sensitive adhesives Examples thereof include pressure-sensitive adhesive layers formed of one or more of known or commonly used pressure-sensitive adhesives such as styrene-isoprene block copolymer-based pressure-sensitive adhesives and styrene-butadiene block copolymer-based pressure-sensitive adhesives. The pressure-sensitive adhesive layer may contain various additives (for example, an antistatic agent, a slip agent, and the like). Each of the plastic film and the pressure-sensitive adhesive layer may have a single-layer structure, or may have a multilayer (multi-layer) structure. Moreover, the thickness of a surface protection film is not specifically limited, It can select suitably.

表面保護フィルムとしては、例えば、商品名「サニテクト」シリーズ((株)サンエー化研製)、商品名「E−MASK」シリーズ(日東電工(株)製)、商品名「マスタック」シリーズ(藤森工業(株)製)、商品名「ヒタレックス」シリーズ(日立化成工業(株)製)、商品名「アルファン」シリーズ(王子エフテックス(株)製)等の市販品が市場より入手可能である。   As the surface protective film, for example, trade name "Sanitekto" series (manufactured by San Akaken Co., Ltd.), trade name "E-MASK" series (manufactured by Nitto Denko Corp.), trade name "Mastax" series (Fujimori Kogyo Co., Ltd. Commercial products such as those manufactured by Co., Ltd., trade name "Hitarex" series (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.), trade name "Alfan" series (made by Oji F-Tex Co., Ltd.) are available from the market.

本発明のハードコートフィルムは、公知乃至慣用のハードコートフィルムの製造方法に準じて製造することができ、その製造方法は特に限定されないが、例えば、上記基材の少なくとも一方の表面に本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)を塗布し、必要に応じて溶剤を乾燥によって除去した後、該硬化性組成物(硬化性組成物層)を硬化させることにより製造できる。硬化性組成物を硬化させる際の条件は、特に限定されず、例えば、上述の硬化物を形成する際の条件から適宜選択可能である。   The hard coat film of the present invention can be produced according to a known or commonly used method for producing a hard coat film, and the production method is not particularly limited. For example, the present invention The composition can be produced by applying a curable composition (hardenable composition for forming a hard coat layer) and optionally removing the solvent by drying and then curing the curable composition (curable composition layer) . The conditions for curing the curable composition are not particularly limited, and can be appropriately selected from the conditions for forming the above-mentioned cured product, for example.

特に、本発明のハードコートフィルムにおける本発明のハードコート層は、可とう性及び加工性に優れた硬化物を形成できる本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)より形成されたハードコート層であるため、本発明のハードコートフィルムは、ロールトゥロール方式での製造が可能である。本発明のハードコートフィルムをロールトゥロール方式で製造することにより、その生産性を著しく高めることが可能である。本発明のハードコートフィルムをロールトゥロール方式で製造する方法としては、公知乃至慣用のロールトゥロール方式の製造方法を採用することができ、特に限定されないが、例えば、ロール状に巻いた基材を繰り出す工程(工程A)と、繰り出した基材の少なくとも一方の表面に本発明の硬化性組成物(ハードコート層形成用硬化性組成物)を塗布し、次いで、必要に応じて溶剤を乾燥によって除去した後、該硬化性組成物(硬化性組成物層)を硬化させることにより本発明のハードコート層を形成する工程(工程B)と、その後、得られたハードコートフィルムを再びロールに巻き取る工程(工程C)とを必須の工程として含み、これら工程(工程A〜C)を連続的に実施する方法等が挙げられる。なお、当該方法は、工程A〜C以外の工程を含んでいてもよい。   In particular, the hard coat layer of the present invention in the hard coat film of the present invention can be formed from the curable composition of the present invention (curable composition for forming a hard coat layer) capable of forming a cured product excellent in flexibility and processability. Because of the hard coat layer formed, the hard coat film of the present invention can be manufactured by a roll-to-roll method. By producing the hard coat film of the present invention by a roll-to-roll method, it is possible to remarkably improve the productivity. As a method for producing the hard coat film of the present invention by a roll-to-roll method, any known or commonly used roll-to-roll method can be adopted, and it is not particularly limited. Applying the curable composition (curable composition for forming a hard coat layer) of the present invention on at least one surface of the drawn-out substrate (step A) and the drawn-out substrate, and then, if necessary, drying the solvent The step of forming the hard coat layer of the present invention by curing the curable composition (curable composition layer) after removing by the step (step B), and thereafter, the obtained hard coat film is rolled again The method etc. which include the process (step C) of winding up as an essential process, and implement these processes (process AC) continuously are mentioned. In addition, the said method may include processes other than process AC.

本発明のハードコートフィルムの厚みは、特に限定されず、1〜10000μmの範囲から適宜選択することができる。   The thickness of the hard coat film of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected from the range of 1 to 10000 μm.

本発明のハードコートフィルムの本発明のハードコート層表面の鉛筆硬度は、特に限定されないが、H以上が好ましく、より好ましくは2H以上、さらに好ましくは6H以上である。なお、鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4に記載の方法に準じて評価することができる。   The pencil hardness of the hard coat layer surface of the hard coat film of the present invention is not particularly limited, but is preferably H or more, more preferably 2 H or more, and still more preferably 6 H or more. In addition, pencil hardness can be evaluated according to the method of JISK5600-5-4.

本発明のハードコートフィルムのヘイズは、特に限定されないが、1.5%以下が好ましく、より好ましくは1.0%以下である。なお、ヘイズの下限は、特に限定されないが、例えば、0.1%である。ヘイズを特に1.0%以下とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコートフィルムのヘイズは、例えば、基材として上述の透明基材を使用することによって容易に上記範囲に制御することができる。なお、ヘイズは、JIS K7136に準拠して測定することができる。   The haze of the hard coat film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1.5% or less, more preferably 1.0% or less. The lower limit of the haze is not particularly limited, and is, for example, 0.1%. By setting the haze to 1.0% or less in particular, for example, there is a tendency to be suitable for use in applications where very high transparency is required (for example, a surface protective sheet of a display such as a touch panel). The haze of the hard coat film of the present invention can be easily controlled within the above range, for example, by using the above-mentioned transparent substrate as a substrate. The haze can be measured in accordance with JIS K7136.

本発明のハードコートフィルムの全光線透過率は、特に限定されないが、85%以上が好ましく、より好ましくは90%以上である。なお、全光線透過率の上限は、特に限定されないが、例えば、99%である。全光線透過率を特に90%以上とすることにより、例えば、非常に高い透明性が要求される用途(例えば、タッチパネル等のディスプレイの表面保護シート等)への使用に適する傾向がある。本発明のハードコートフィルムの全光線透過率は、例えば、基材として上述の透明基材を使用することによって容易に上記範囲に制御することができる。なお、全光線透過率は、JIS K7361−1に準拠して測定することができる。   The total light transmittance of the hard coat film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 85% or more, more preferably 90% or more. The upper limit of the total light transmittance is not particularly limited, and is, for example, 99%. By making the total light transmittance particularly 90% or more, for example, there is a tendency to be suitable for use in applications where very high transparency is required (for example, a surface protective sheet of a display such as a touch panel). The total light transmittance of the hard coat film of the present invention can be easily controlled within the above range, for example, by using the above-mentioned transparent substrate as a substrate. The total light transmittance can be measured in accordance with JIS K7361-1.

本発明のハードコートフィルムは、高硬度及び高耐熱性を維持しながら、可とう性を有し、ロールトゥロール方式での製造や加工が可能であるため、高い品質を有し、生産性にも優れる。特に、本発明のハードコート層表面に表面保護フィルムを有する場合には、打ち抜き加工性にも優れる。このため、このような特性が要求されるあらゆる用途に好ましく使用することができる。本発明のハードコートフィルムは、例えば、各種製品における表面保護フィルム、各種製品の部材又は部品における表面保護フィルム等として使用することもできるし、また、各種製品やその部材又は部品の構成材として使用することもできる。上記製品としては、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどの表示装置;タッチパネルなどの入力装置:太陽電池;各種家電製品;各種電気・電子製品;携帯電子端末(例えば、ゲーム機器、パソコン、タブレット、スマートフォン、携帯電話等)の各種電気・電子製品;各種光学機器等が挙げられる。また、本発明のハードコートフィルムが各種製品やその部材又は部品の構成材として使用される態様としては、例えば、タッチパネルにおけるハードコートフィルムと透明導電フィルムの積層体等に使用される態様等が挙げられる。   The hard coat film of the present invention has flexibility and can be manufactured and processed by a roll-to-roll method while maintaining high hardness and high heat resistance, and thus has high quality and productivity. Also excellent. In particular, when the surface protective film is provided on the surface of the hard coat layer of the present invention, the punching processability is also excellent. For this reason, it can be preferably used for all the applications where such a characteristic is required. The hard coat film of the present invention can be used, for example, as a surface protection film in various products, a surface protection film in members or parts of various products, etc., and also used as a component of various products or their members or parts You can also Examples of the product include: display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays; input devices such as touch panels: solar cells; various home appliances; various electric and electronic products; portable electronic terminals (for example, game machines, personal computers, tablets, Examples include various electric and electronic products such as smartphones and mobile phones, and various optical devices. Further, as an embodiment in which the hard coat film of the present invention is used as a component of various products and their members or parts, for example, a mode in which a hard coat film and a transparent conductive film in a touch panel are used. Be

本発明の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物は、上述の表面硬度、耐熱性、可とう性、及び加工性の点で優れるのみならず、さらに、被着体に対する優れた接着性及び密着性を発揮する。従って、本発明の硬化性組成物は、接着剤(「接着剤用組成物」と称する場合がある)としても好ましく使用できる。本発明の硬化性組成物を接着剤用組成物として得られる接着剤は、硬化させることにより、表面硬度、耐熱性、可とう性、加工性、接着性、及び密着性に優れた接着材へと転化させることができる。上記接着剤は、例えば、本発明の硬化性組成物が硬化触媒として光カチオン重合開始剤を含む場合には光硬化性接着剤として、熱カチオン重合開始剤を含む場合には熱硬化性接着剤として使用することができる。   The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention is excellent not only in the above-mentioned surface hardness, heat resistance, flexibility and processability but also excellent adhesion to an adherend. Exerts a sense of Therefore, the curable composition of the present invention can also be preferably used as an adhesive (sometimes referred to as "adhesive composition"). The adhesive obtained as the adhesive composition for the curable composition of the present invention is cured to an adhesive excellent in surface hardness, heat resistance, flexibility, processability, adhesiveness, and adhesiveness. Can be converted to The above-mentioned adhesive is, for example, a thermosetting adhesive when the curable composition of the present invention contains a photocationic polymerization initiator as a curing catalyst, and a thermosetting cationic polymerization initiator as a photocurable adhesive. It can be used as

本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)を用いることにより、基材と、該基材上の接着剤層とを少なくとも有する接着シートであって、上記接着剤層が本発明の硬化性組成物の層(「本発明の接着剤層」と称する場合がある)である接着シート(「本発明の接着シート」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の接着シートには、シート状のみならず、フィルム状、テープ状、板状等のシート状に類する形態が包含される。本発明の接着シートは、特に限定されないが、例えば、基材に本発明の硬化性組成物を塗布し、さらに、必要に応じて乾燥させることによって得ることができる。塗布の方法は特に限定されず、周知慣用の手段を利用することができる。また、乾燥の手段や条件も特に限定されず、溶媒等の揮発分をできるだけ除去できる条件を設定することができ、周知慣用の手段を用いることができる。   An adhesive sheet comprising at least a substrate and an adhesive layer on the substrate by using the curable composition (adhesive composition) of the present invention, wherein the adhesive layer is a cured product of the present invention An adhesive sheet (sometimes referred to as "the adhesive sheet of the present invention") that is a layer of the sex composition (sometimes referred to as the "adhesive layer of the present invention") can be obtained. The adhesive sheet of the present invention includes not only sheet-like but also sheet-like forms such as film-like, tape-like and plate-like. Although the adhesive sheet of the present invention is not particularly limited, it can be obtained, for example, by applying the curable composition of the present invention to a substrate and further, if necessary, drying. The method of application is not particularly limited, and known means may be used. Further, the means and conditions for drying are not particularly limited, and conditions capable of removing volatile matter such as solvent can be set as much as possible, and well-known and commonly used means can be used.

本発明の接着シートは、基材の片面側のみに接着剤層を有する片面接着シートであってもよいし、基材の両面側に接着剤層を有する両面接着シートであってもよい。本発明の接着シートが両面接着シートである場合、少なくとも一方の接着剤層が本発明の接着剤層であればよく、他方は、本発明の接着剤層であってもよいし、その他の接着剤層であってもよい。   The adhesive sheet of the present invention may be a single-sided adhesive sheet having an adhesive layer only on one side of the substrate, or may be a double-sided adhesive sheet having an adhesive layer on both sides of the substrate. When the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet, at least one adhesive layer may be the adhesive layer of the present invention, and the other may be the adhesive layer of the present invention, or other adhesive It may be an agent layer.

本発明の接着シートにおける基材としては、周知慣用の基材(接着シートに使用される基材)を使用することができ、特に限定されないが、例えば、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材、表面が塗装表面である基材等が挙げられ、具体的には、本発明のハードコートフィルムにおける基材と同様のものが例示される。また、本発明の接着シートにおける基材は、いわゆる剥離ライナーであってもよく、例えば、本発明のハードコートフィルムにおける表面保護フィルムと同様のものを使用することもできる。なお、本発明の接着シートは、基材を1層のみ有するものであってもよいし、2層以上有するものであってもよい。また、上記基材の厚みは特に限定されず、例えば、1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。   As a substrate in the adhesive sheet of the present invention, a well-known and commonly used substrate (a substrate used in an adhesive sheet) can be used, and it is not particularly limited, but for example, plastic substrates, metal substrates, ceramic groups Materials, semiconductor substrates, glass substrates, paper substrates, wood substrates, substrates whose surfaces are coated surfaces, etc. Specifically, those similar to the substrate in the hard coat film of the present invention It is illustrated. Moreover, the base material in the adhesive sheet of this invention may be what is called a release liner, for example, the thing similar to the surface protection film in the hard coat film of this invention can also be used. The adhesive sheet of the present invention may have only one layer of the base material, or may have two or more layers. Moreover, the thickness of the said base material is not specifically limited, For example, it can select suitably in the range of 1-10000 micrometers.

本発明の接着シートは、本発明の接着剤層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着剤層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。その他の接着剤層(本発明の接着剤層以外の接着剤層)についても同様である。   The adhesive sheet of the present invention may have only one layer of the adhesive layer of the present invention, or may have two or more types. Moreover, the thickness of the adhesive bond layer of this invention is not specifically limited, For example, it can select suitably in 0.1-10,000 micrometers. The same applies to the other adhesive layers (adhesive layers other than the adhesive layer of the present invention).

本発明の接着シートは、基材と接着剤層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層等)を有するものであってもよい。   The adhesive sheet of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, etc.) in addition to the substrate and the adhesive layer.

本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)を用いることにより、3層以上(少なくとも3層)で構成される積層物(積層体)であって、2層の被接着層と、これらの被接着層の間に位置する接着層(上記被接着層同士を接着する層)とを少なくとも有し、上記接着層が本発明の硬化性組成物の硬化物の層(「本発明の接着層」と称する場合がある)である積層物(「本発明の積層物」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の積層物は、特に限定されないが、例えば、一方の被接着層に本発明の接着剤層を形成し(例えば、本発明の接着シートにおける接着剤層と同様に形成できる)、さらに、当該接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、光照射や加熱等によって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。また、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが片面接着シートである場合には、本発明の接着シートを被接着層に貼り合わせ、次いで、光照射や加熱等によって上記接着シート中の本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。この場合、本発明の接着シートにおける基材が被接着層に当たる積層物が得られる。さらに、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが両面接着シートであって基材が剥離ライナーである場合には、本発明の接着シートを一方の被接着層に貼り合わせ、剥離ライナーを剥離し、次いで、露出させた接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、光照射や加熱等によって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。但し、本発明の積層物の製造方法は、これらの方法に限定されない。   It is a laminate (laminate) constituted by three or more layers (at least three layers) by using the curable composition (composition for adhesives) of the present invention, which comprises two adherent layers, And at least an adhesive layer located between the adhesive layers (a layer for adhering the above-mentioned adhesive layers), the adhesive layer being a layer of a cured product of the curable composition of the present invention ("the adhesive of the present invention A laminate (sometimes referred to as a “layer of the present invention”) that is sometimes referred to as a layer can be obtained. The laminate of the present invention is not particularly limited, but, for example, the adhesive layer of the present invention is formed on one adhesive layer (for example, it can be formed similarly to the adhesive layer in the adhesive sheet of the present invention) It can obtain by bonding the other adhesion layer to the said adhesive bond layer, and hardening the adhesive bond layer of this invention by light irradiation, heating, etc. after that. In the laminate of the present invention, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a single-sided adhesive sheet, the adhesive sheet of the present invention is bonded to an adherend layer and then the above adhesive sheet is irradiated with light or the like. It can be obtained by curing the adhesive layer of the present invention. In this case, a laminate is obtained in which the substrate in the adhesive sheet of the present invention is the adhesive layer. Furthermore, in the laminate of the present invention, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet and the substrate is a release liner, the adhesive sheet of the present invention is laminated to one adherend layer and peeled off. It can be obtained by peeling the liner, then bonding the other adhesive layer to the exposed adhesive layer, and then curing the adhesive layer of the present invention by light irradiation, heating or the like. However, the method for producing the laminate of the present invention is not limited to these methods.

本発明の積層物における被接着体は特に限定されず、例えば、本発明のハードコートフィルムにおける基材と同様のものが例示される。なお、本発明の積層物は、被接着体を2層のみ有するものであってもよいし、3層以上有するものであってもよい。また、被接着体の厚みは特に限定されず、例えば、1〜100000μmの範囲で適宜選択できる。被接着体は、厳密な層状の形態を有していなくてもよい。   The adherend in the laminate of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include the same as the substrate in the hard coat film of the present invention. The laminate of the present invention may have only two adherends, or may have three or more adherends. Moreover, the thickness of a to-be-adhered body is not specifically limited, For example, it can select suitably in the range of 1-100000 micrometers. The adherend may not have a strictly layered form.

本発明の積層物は、本発明の接着層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。   The laminate of the present invention may have only one layer of the adhesive layer of the present invention, or may have two or more. Moreover, the thickness of the adhesive layer of this invention is not specifically limited, For example, it can select suitably in the range of 0.1-10000 micrometers.

本発明の積層物は、上記被接着体と本発明の接着層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層、その他の接着層等)を有するものであってもよい。   The laminate of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, other adhesive layers, etc.) in addition to the adherend and the adhesive layer of the present invention.

本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)は、上述の本発明の接着シートや本発明の積層物を得るための用途に限定されず、所望の物品(部品等)同士を接着する各種用途に使用することができる。   The curable composition (composition for adhesives) of the present invention is not limited to the use for obtaining the adhesive sheet of the present invention described above or the laminate of the present invention, and bonds desired articles (parts etc.) It can be used for various applications.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、生成物の分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃により行った。また、生成物におけるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]の測定は、JEOL ECA500(500MHz)による29Si−NMRスペクトル測定により行った。生成物のTd5(5%重量減少温度)は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定した。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail based on examples given below, but the present invention is not limited by these examples. In addition, the measurement of the molecular weight of a product can be performed using Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractive Index Detector 2414 (manufactured by Waters), column: Tskgel GMH HR- M × 2 (manufactured by Tosoh Corp.), guard column: Tskgel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corporation), column oven: cOLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), the solvent was performed by 40 ° C.: THF, measuring conditions. Moreover, the measurement of the ratio [T3 body / T2 body] of T2 body and T3 body in a product was performed by 29 Si-NMR spectrum measurement by JEOL ECA500 (500 MHz). The T d5 (5% weight loss temperature) of the product was measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere at a temperature elevation rate of 5 ° C./min.

なお、以下において商品名「HS−1PC」、「CPI−101A」、「UV9380C」、「HS−1A」、「SI−100L」の配合量は、固形分換算の量で示した。   In addition, the compounding quantity of brand name "HS-1PC", "CPI-101A", "UV9380C", "HS-1A", and "SI-100L" was shown by the quantity of solid content conversion below.

実施例1
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「EMS」と称する)161.5ミリモル(39.79g)、フェニルトリメトキシシラン(以下、「PMS」と称する)9ミリモル(1.69g)、及びアセトン165.9gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.70g(炭酸カリウムとして1.7ミリモル)を5分で滴下した後、水1700ミリモル(30.60g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1911であり、分子量分散度は1.47であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.3であった。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、40℃の条件で上層液から溶媒を留去し、無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。上記生成物のTd5は370℃であった。
Example 1
2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “EMS”) in a nitrogen stream to a 300 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube. ), 9 mmol (1.69 g) of phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “PMS”), and 165.9 g of acetone were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. After adding 4.70 g of a 5% aqueous solution of potassium carbonate (1.7 mmol as potassium carbonate) dropwise over 5 minutes to the mixture thus obtained, 1700 mmol (30.60 g) of water was dropped over 20 minutes. . Note that no significant temperature rise occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 4 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Analysis of the product in the reaction solution after the polycondensation reaction showed that the number average molecular weight was 1911 and the molecular weight dispersion degree was 1.47. The ratio of T2 body to T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the above product was 10.3.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and the upper layer solution is separated, and then the solvent is distilled off from the upper layer solution under the conditions of 1 mmHg and 40 ° C. to form a colorless and transparent liquid The product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained. The T d5 of the above product was 370 ° C.

実施例2〜6、比較例1、2(実施例4、5は参考例とする)
原料(EMS及びPMS)の使用量、溶媒の種類及び使用量、反応温度、5%炭酸カリウム水溶液の使用量、水の使用量、反応時間を表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンを製造した。各実施例において得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量(Mn)、分子量分散度、T3体とT2体の割合[T3体/T2体]、及びTd5を表1に示した。なお、表1中のTd5の単位は「℃」である。
Examples 2 to 6, Comparative Examples 1 and 2 (Examples 4 and 5 are reference examples)
The amount of the raw materials (EMS and PMS) used, the type and amount of the solvent, the reaction temperature, the amount of the 5% aqueous solution of potassium carbonate, the amount of water used, and the reaction time as shown in Table 1 In the same manner as in 1, an epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane was produced. Number average molecular weight (Mn), molecular weight dispersion degree, ratio of T3 body to T2 body [T3 body / T2 body], and T d5 of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane obtained in each example are shown in Table 1 Indicated. The unit of T d5 in Table 1 is “° C.”.

なお、実施例1〜6で得られたポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルを上述の方法で測定したところ、いずれも1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することが確認された。 In addition, when the FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Examples 1 to 6 was measured by the above-mentioned method, it was confirmed that each had one inherent absorption peak in the vicinity of 1100 cm -1 . .

実施例7
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び硬化触媒1([ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート])1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが5μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):312mJ/cm2、照射強度:80W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 7
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and curing catalyst 1 ([diphenyl [4- A mixed solution of 1 part by weight of (phenylthio) phenyl] sulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate] was prepared and used as a hard coat solution (curable composition).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 5 μm. The mixture was cast and cast, then allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount: 312 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 80 W / cm 2 )). Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

実施例8〜17、19、比較例3、4(実施例13は参考例とする)
ハードコート液(硬化性組成物)の組成及びハードコート層の厚みを表2に示すように変更したこと以外は実施例7と同様にして、ハードコート液を作製した。該ハードコート液を使用し、ハードコート層の厚みを表2に示すように変更したこと以外は実施例7と同様にして、ハードコートフィルムを作製した。なお、表2に記載の硬化性組成物の原料の配合量の単位は、重量部である。
Examples 8 to 17 and 19 and Comparative Examples 3 and 4 (Example 13 is a reference example)
A hard coat solution was produced in the same manner as in Example 7 except that the composition of the hard coat solution (curable composition) and the thickness of the hard coat layer were changed as shown in Table 2. A hard coat film was produced in the same manner as in Example 7 except that the hard coat solution was used and the thickness of the hard coat layer was changed as shown in Table 2. In addition, the unit of the compounding quantity of the raw material of the curable composition of Table 2 is a weight part.

実施例18
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び商品名「SI−100L」(熱酸発生剤、三新化学工業(株)製)1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが25μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置し、次いで150℃で1時間熱処理することによって、上記ハードコート液の塗工膜を熱硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 18
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and trade name "SI-100L" (thermal A mixed solution of 1 part by weight of an acid generator, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., was prepared and used as a hard coat liquid (curable composition).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 25 μm. And cast, and then allowed to stand in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then heat treated at 150 ° C. for 1 hour to thermally cure the coating film of the above-mentioned hard coating solution, thereby providing a hard coating having a hard coating layer A film was made.

上記で得たハードコートフィルムについて、以下の方法により各種評価を行った。結果を表2に示す。   The hard coat film obtained above was subjected to various evaluations by the following method. The results are shown in Table 2.

(1)ヘイズ及び全光線透過率
上記で得たハードコートフィルムのヘイズ及び全光線透過率を、ヘイズメータ(日本電色工業(株)製、NDH−300A)を使用して測定した。
(1) Haze and total light transmittance The haze and total light transmittance of the hard coat film obtained above were measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., NDH-300A).

(2)表面硬度(鉛筆硬度)
上記で得たハードコートフィルムにおけるハードコート層表面の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4に準じて評価した。
(2) Surface hardness (pencil hardness)
The pencil hardness of the hard coat layer surface in the hard coat film obtained above was evaluated according to JIS K5600-5-4.

(3)耐熱性(5%重量減少温度(Td5))
PETフィルムの代わりにガラス板を用いたこと以外は、上記と同様の方法で得たハードコートフィルムにおけるハードコート層を、カッターを使用して約5mg削り出してこれをサンプルとした。示差熱重量分析装置(セイコーインスツル(株)製、TG/DTA 6300)を用いて、下記の条件で上記サンプルの5%重量減少温度を測定した。
測定温度範囲:25〜550℃
昇温速度:10℃/分
ガス雰囲気:窒素
(3) Heat resistance (5% weight loss temperature (T d5 ))
Using a cutter, the hard coat layer in the hard coat film obtained by the same method as described above except that a glass plate was used instead of the PET film, was used as a sample as a sample. The 5% weight loss temperature of the above sample was measured under the following conditions using a differential thermal gravimetric analyzer (manufactured by Seiko Instruments Inc., TG / DTA 6300).
Measurement temperature range: 25-550 ° C
Heating rate: 10 ° C / min Gas atmosphere: nitrogen

(4)耐擦傷性
上記で得たハードコートフィルムにおけるハードコート層表面に対し、#0000スチールウールを荷重1000g/cm2にて100往復させ、ハードコート層表面に付いた傷の有無及びその本数を確認し、以下の基準で耐擦傷性を評価した。
◎(耐擦傷性が極めて良好):傷の本数が0本
○(耐擦傷性が良好):傷の本数が1〜10本
×(耐擦傷性が不良):傷の本数が10本を超える
(4) Scratch resistance With respect to the hard coat layer surface in the hard coat film obtained above, # 0000 steel wool is reciprocated 100 times with a load of 1000 g / cm 2 and the presence or absence of scratches attached to the hard coat layer surface Were evaluated, and the scratch resistance was evaluated according to the following criteria.
((Very good scratch resistance): 0 number of scratches ○ (good scratch resistance): 1 to 10 scratches × (poor scratch resistance): more than 10 scratches

(5)耐屈曲性(円筒形マンドレル法);マンドレル試験による
上記で得たハードコートフィルムの耐屈曲性を、円筒形マンドレルを使用してJIS K5600−5−1に準じて評価した。
(5) Flexibility (cylindrical mandrel method); Flexural resistance of the hard coat film obtained above by a mandrel test was evaluated according to JIS K5600-5-1 using a cylindrical mandrel.

表2に示す略号は、以下の通りである。なお、ポリオルガノシルセスキオキサンのサンプル名は、表1に示すサンプル名に対応する。
硬化触媒1:[ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート]、光酸発生剤
HS−1PC:商品名「HS−1PC」(サンアプロ(株)製)、光酸発生剤
CPI−101A:商品名「CPI−101A」(サンアプロ(株)製)、光酸発生剤
UV9380C:商品名「UV9380C」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン(株)製)、光酸発生剤
HS−1A:商品名「HS−1A」(サンアプロ(株)製)、光酸発生剤
SI−100L:商品名「サンエイドSI−100L」(三新化学工業(株)製)、熱酸発生剤
The abbreviations shown in Table 2 are as follows. The sample name of polyorganosilsesquioxane corresponds to the sample name shown in Table 1.
Curing catalyst 1: [diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate], photo acid generator HS-1PC: trade name “HS-1PC” (manufactured by San-Apro Co., Ltd.), light Acid generator CPI-101A: trade name "CPI-101A" (San-Apro Co., Ltd. product), photo-acid generator UV 9380C: trade name "UV 9380 C" (momentive performance materials Japan Co., Ltd. product), photo acid Generator HS-1A: trade name "HS-1A" (San-Apro Co., Ltd.), photo acid generator SI-100 L: trade name "San-Aid SI-100 L" (sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), thermal acid Generator

実施例20
実施例14で得られたハードコートフィルムのハードコート層表面に表面保護フィルム(藤森工業(株)製、マスタックNBO−0424)を貼付して、表面保護フィルムを有するハードコートフィルムを作製した。このハードコートフィルムについて、スーパーダンベルカッター(形式:SDK−500−D、JIS K−7133−2号規格に準拠)を装着したダンベル試料裁断機を用いて打ち抜きを行った。その結果、ハードコート層の基材からの剥離、ハードコート層のクラックを生じることなく、ハードコートフィルムの打ち抜き加工が可能であることが確認された。
図1には、上記で得た打ち抜き加工後のハードコートフィルムの端部について、デジタルマイクロスコープにて撮影した顕微鏡写真(倍率:100倍)を示す。図1に示すように、基材からのハードコート層の剥離、ハードコート層中のクラックは発生していない。
Example 20
A surface protective film (Mustrax NBO-0424 manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) was attached to the surface of the hard coat layer of the hard coat film obtained in Example 14 to prepare a hard coat film having a surface protective film. About this hard coat film, punching was performed using a dumbbell sample cutter equipped with a super dumbbell cutter (type: SDK-500-D, in accordance with JIS K-7133-2 standard). As a result, it was confirmed that the hard coat film can be punched without peeling of the hard coat layer from the substrate and cracking of the hard coat layer.
FIG. 1 shows a photomicrograph (magnification: 100 times) of the end of the hard coat film after punching obtained as described above, which was taken with a digital microscope. As shown in FIG. 1, peeling of the hard coat layer from the substrate and cracking in the hard coat layer have not occurred.

実施例21
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び商品名「HS−1PC」(光酸発生剤、サンアプロ(株)製)1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、厚さ78μmのTACフィルム(#80、(株)ダイセル製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが50μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):312mJ/cm2、照射強度:80W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 21
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and a trade name "HS-1 PC" A mixed solution of 1 part by weight of an acid generator and San-Apro Co., Ltd. was prepared and used as a hard coat liquid (curable composition).
Using the hard coat solution obtained above on a 78 μm thick TAC film (# 80, manufactured by Daicel Co., Ltd.), use a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 50 μm. After cast coating, it was allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 312 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 80 W / cm 2 ). Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

実施例22
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び商品名「HS−1PC」(光酸発生剤、サンアプロ(株)製)1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、厚さ300μmのシクロオレフィンコポリマーフィルム(商品名「TOPAS 6013」、ポリプラスチックス(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが45μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):312mJ/cm2、照射強度:80W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 22
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and a trade name "HS-1 PC" A mixed solution of 1 part by weight of an acid generator and San-Apro Co., Ltd. was prepared and used as a hard coat liquid (curable composition).
The hard coat solution obtained above is applied to a 300 μm thick cycloolefin copolymer film (trade name “TOPAS 6013”, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.), and the thickness of the hard coat layer after curing is 45 μm. After cast-coating using a wire bar, it was allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 312 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 80 W / Cm 2 ). Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

実施例23
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び商品名「HS−1PC」(光酸発生剤、サンアプロ(株)製)1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、厚さ2024μmのアクリルポリマーフィルム(商品名「スミペックスX」、住友化学(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが32μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):312mJ/cm2、照射強度:80W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 23
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and a trade name "HS-1 PC" A mixed solution of 1 part by weight of an acid generator and San-Apro Co., Ltd. was prepared and used as a hard coat liquid (curable composition).
The hard coat solution obtained above was applied to a 2024 μm thick acrylic polymer film (trade name “Sumipex X, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) so that the thickness of the hard coat layer after curing was 32 μm. After cast coating using a wire bar, it was allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 312 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 80 W / cm 2 ). Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

実施例24
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び商品名「HS−1PC」(光酸発生剤、サンアプロ(株)製)1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、厚さ129μmのPENフィルム(商品名「テオネックス#125」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが34μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):312mJ/cm2、照射強度:80W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 24
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and a trade name "HS-1 PC" A mixed solution of 1 part by weight of an acid generator and San-Apro Co., Ltd. was prepared and used as a hard coat liquid (curable composition).
The hard coat solution obtained above is formed on a 129 μm thick PEN film (trade name “Teonex # 125”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) so that the thickness of the hard coat layer after curing is 34 μm. The solution was cast coated using a wire bar, allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 312 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 80 W / cm 2 ). Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

実施例25
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)100重量部、メチルイソブチルケトン(関東化学(株)製)20重量部、及び商品名「HS−1PC」(光酸発生剤、サンアプロ(株)製)1重量部の混合溶液を作製し、これをハードコート液(硬化性組成物)として使用した。
上記で得られたハードコート液を、厚さ100μmのポリカーボネートフィルム(商品名「ポリカエース」、住友ベークライト(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが45μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):312mJ/cm2、照射強度:80W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 25
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) obtained in Example 1, 20 parts by weight of methyl isobutyl ketone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and a trade name "HS-1 PC" A mixed solution of 1 part by weight of an acid generator and San-Apro Co., Ltd. was prepared and used as a hard coat liquid (curable composition).
Using the hard coat solution obtained above on a 100 μm thick polycarbonate film (trade name “POLYCAACE”, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing becomes 45 μm The solution was cast and applied, and then allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount: 312 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 80 W / cm 2 )) . Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

実施例21〜25で得られたハードコートフィルムについて、ヘイズ、全光線透過率、及びハードコート層表面の鉛筆硬度を測定及び評価した。なお、ヘイズ、全光線透過率、及び鉛筆硬度は、上述の方法により測定及び評価した。
なお、表3には、実施例21〜25で得られたハードコートフィルムにおける基材についての(基材のみの)、ヘイズ、全光線透過率、及び鉛筆硬度(基材表面)の測定及び評価結果も合わせて示した。
The haze, the total light transmittance, and the pencil hardness of the hard coat layer surface of the hard coat films obtained in Examples 21 to 25 were measured and evaluated. In addition, the haze, the total light transmittance, and the pencil hardness were measured and evaluated by the above-mentioned method.
In Table 3, the measurement and evaluation of the haze (for only the substrate), the total light transmittance, and the pencil hardness (surface of the substrate) of the substrate in the hard coat film obtained in Examples 21 to 25 The results are also shown.

表2及び表3に示すように、本発明のハードコートフィルムは、本発明のハードコート層を有しない基材と比較して極めて高い表面硬度を有しており、また、基材と同等の光学特性(透明性)を維持していた。さらに、本発明のハードコートフィルムにおける基材として、多様な基材を適用できることが確認された。   As shown in Tables 2 and 3, the hard coat film of the present invention has an extremely high surface hardness as compared to the substrate without the hard coat layer of the present invention, and is equivalent to the substrate The optical properties (transparency) were maintained. Furthermore, it was confirmed that various substrates can be applied as a substrate in the hard coat film of the present invention.

実施例26
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた5リットルのセパラブルフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシルエチルトリメトキシシラン(EMS)1757.5ミリモル(433.0g)、フェニルトリメトキシシラン(PMS)93ミリモル(18.34g)、及びアセトン1805.4gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液51.14g(炭酸カリウムとして18.5ミリモル)を5分で滴下した後、水18.5モル(333.0g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で5時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1800であり、分子量分散度は1.55であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.3であった。
その後、反応溶液を冷却すると同時に、メチルイソブチルケトン902.7gと5%食塩水660gとを投入し水洗を行った。分液後水層を抜き取り、再度メチルイソブチルケトンを902.7g投入し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液から溶媒を留去し、メチルイソブチルケトンを27.23重量%含有する無色透明で液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン;エポキシ基95mol%、フェニル基5mol%のポリオルガノシルセスキオキサン)を約457g得た。
Example 26
2- (3,4-epoxy) cyclohexylethyltrimethoxysilane (EMS) in a nitrogen stream to a 5-liter separable flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube 1757.5 mmol (433.0 g), 93 mmol (18.34 g) of phenyltrimethoxysilane (PMS), and 1805.4 g of acetone were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. After adding 51.14 g of a 5% aqueous solution of potassium carbonate (18.5 mmol as potassium carbonate) dropwise over 5 minutes to the mixture thus obtained, 18.5 moles (333.0 g) of water is added over 20 minutes. It dripped. Note that no significant temperature rise occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 5 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
The product in the reaction solution after the polycondensation reaction was analyzed to find that the number average molecular weight was 1800 and the molecular weight dispersion degree was 1.55. The ratio of T2 body to T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the above product was 10.3.
Thereafter, while cooling the reaction solution, 902.7 g of methyl isobutyl ketone and 660 g of 5% saline solution were added and water washing was performed. After separation, the aqueous layer is removed, 902.7 g of methyl isobutyl ketone is again added, and the lower layer solution is washed with water until neutral, and the upper layer solution is separated, and the solvent is extracted from the upper layer solution under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. Is removed by distillation, and a colorless, transparent, liquid product containing 27.23% by weight of methyl isobutyl ketone (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane; polyorganosilsesquioxane containing 95 mol% of epoxy group and 5 mol% of phenyl group) ) Was obtained.

実施例27
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた5リットルのセパラブルフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシ)シクロヘキシルエチルトリメトキシシラン(EMS)200.0ミリモル(49.29g)、及びアセトン197.1gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液5.53g(炭酸カリウムとして2.0ミリモル)を5分で滴下した後、水2.0モル(36.0g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で5時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1720であり、分子量分散度は1.55であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は11.0であった。
その後、反応溶液を冷却すると同時に、メチルイソブチルケトン98.4gと5%食塩水68.2gとを投入し水洗を行った。分液後水層を抜き取り、再度メチルイソブチルケトンを98.4g投入し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液から溶媒を留去し、メチルイソブチルケトンを33.78重量%含有する無色透明で液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン;エポキシ基100mol%のポリオルガノシルセスキオキサン)を約53g得た。
Example 27
2- (3,4-epoxy) cyclohexylethyltrimethoxysilane (EMS) in a nitrogen stream to a 5-liter separable flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube 200.0 mmol (49.29 g) and 197.1 g of acetone were charged, and the temperature was raised to 50.degree. To the mixture thus obtained, 5.53 g of a 5% aqueous solution of potassium carbonate (2.0 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes, and then 2.0 moles (36.0 g) of water was added over 20 minutes. It dripped. Note that no significant temperature rise occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 5 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Analysis of the product in the reaction solution after the polycondensation reaction revealed that the number average molecular weight was 1720 and the molecular weight dispersion degree was 1.55. The ratio of T2 body to T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the above product was 11.0.
Thereafter, while cooling the reaction solution, 98.4 g of methyl isobutyl ketone and 68.2 g of 5% saline were added and washed with water. After separation, the aqueous layer is removed, 98.4 g of methyl isobutyl ketone is again added, and the lower layer solution is washed with water until neutral, and the upper layer solution is separated, and the solvent is extracted from the upper layer solution under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. To give about 53 g of a colorless, transparent, liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane; 100 mol% of epoxy group polyorganosilsesquioxane) containing 33.78% by weight of methyl isobutyl ketone The

なお、実施例26で得られたシルセスキオキサンの[T3体/T2体]は10.3であり、実施例27で得られたシルセスキオキサンの[T3体/T2体]は11.0であり、いずれも一部にT2体が存在することが確認された。   [T3 body / T2 body] of silsesquioxane obtained in Example 26 is 10.3, and [T3 body / T2 body] of silsesquioxane obtained in Example 27 is 11.3. It was 0, and it was confirmed that T2 body existed in part in all.

実施例28
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた500ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(EMS)237.5ミリモル(58.52g)、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(以下、「GMS」と称する)13ミリモル(2.95g)、及びアセトン245.9gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液6.91g(炭酸カリウムとして2.5ミリモル)を5分で滴下した後、水2500ミリモル(45.00g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で5時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1782であり、分子量分散度は1.52であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は9.5/1であった。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液から溶媒を留去し、MIBKを17.81重量%含有する無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を60g得た。
Example 28
2- (3,4-Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (EMS) 237. under a stream of nitrogen into a 500 ml flask (reaction vessel) fitted with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and nitrogen inlet tube. 5 mmol (58.52 g), 13 mmol (2.95 g) of 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as "GMS"), and 245.9 g of acetone were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. After adding 6.91 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (2.5 mmol as potassium carbonate) dropwise over 5 minutes to the mixture thus obtained, 2500 mmol (45.00 g) of water was dropped over 20 minutes. . Note that no significant temperature rise occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 5 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Analysis of the product in the reaction solution after the polycondensation reaction revealed that the number average molecular weight was 1782, and the molecular weight dispersion degree was 1.52. The ratio of T2 form to T3 form [T3 form / T2 form] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the above product was 9.5 / 1.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and the upper layer solution is separated, and then the solvent is distilled off from the upper layer solution under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. 60 g of a colorless and transparent liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained.

実施例29
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた500ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(EMS)200.0ミリモル(49.28g)、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GMS)50ミリモル(11.82g)、及びアセトン244.4gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液6.91g(炭酸カリウムとして2.5ミリモル)を5分で滴下した後、水2500ミリモル(45.00g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で5時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1725であり、分子量分散度は1.47であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.5/1であった。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液から溶媒を留去し、MIBKを25.84重量%含有する無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を60g得た。
Example 29
In a 500 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (EMS) 200. 0 mmol (49.28 g), 50 mmol (11.82 g) of 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (GMS), and 244.4 g of acetone were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. After adding 6.91 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (2.5 mmol as potassium carbonate) dropwise over 5 minutes to the mixture thus obtained, 2500 mmol (45.00 g) of water was dropped over 20 minutes. . Note that no significant temperature rise occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 5 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
The product in the reaction solution after the polycondensation reaction was analyzed to find that the number average molecular weight was 1725 and the molecular weight dispersity was 1.47. The ratio of T2 body to T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the above product was 10.5 / 1.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and the upper layer solution is separated, and then the solvent is distilled off from the upper layer solution under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. 60 g of a colorless and transparent liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane) was obtained.

実施例30
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた1000ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(EMS)150.0ミリモル(36.96g)、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GMS)350ミリモル(82.72g)、及びアセトン478.7gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液13.82g(炭酸カリウムとして5ミリモル)を5分で滴下した後、水5000ミリモル(90.00g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で5時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1500であり、分子量分散度は1.36であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は8/1であった。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、50℃の条件で上層液から溶媒を留去し、MIBK26.36重量%含有する無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を114g得た。
Example 30
In a 1000 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (EMS) 150 under a nitrogen stream. 0 mmol (36.96 g), 350 mmol (82.72 g) of 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (GMS), and 478.7 g of acetone were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. After 13.82 g of a 5% aqueous solution of potassium carbonate (5 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes to the mixture thus obtained, 5000 mmol (90.00 g) of water was added dropwise over 20 minutes. Note that no significant temperature rise occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was performed for 5 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
Analysis of the product in the reaction solution after the polycondensation reaction revealed that the number average molecular weight was 1,500 and the molecular weight dispersity was 1.36. The ratio of T2 body to T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the above product was 8/1.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and the upper layer solution is separated, and then the solvent is distilled off from the upper layer solution under the conditions of 1 mmHg and 50 ° C. There were obtained 114 g of a colorless and transparent liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane).

実施例31
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例26で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK27.23重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)14.6mg[50%溶液として14.6mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.5mg、及びメチルイソブチルケトン0.253gを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):430mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)。最後に80℃で2時間熱処理(エージング)することによって、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 31
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 27.23% by weight] obtained in Example 26; trade name “WPI-124” (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ), 50% solution of photo acid generator) 14.6 mg [14.6 mg as a 50% solution], trade name "BYK-307" (manufactured by Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.5 mg, and methyl isobutyl ketone 0.253 g was added and stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. The mixture was cast and cast, then allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 430 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 160 W / cm 2 ). Finally, the coated film of the hard coat solution was cured by heat treatment (aging) at 80 ° C. for 2 hours to prepare a hard coat film having a hard coat layer.

なお、表4及び表5に記載の硬化性組成物の原料の配合量の単位は、重量部である。また、表4及び表5における「実施例26で得られたシルセスキオキサン」、「実施例27で得られたシルセスキオキサン」、「実施例28で得られたシルセスキオキサン」、「実施例29で得られたシルセスキオキサン」、及び「実施例30で得られたシルセスキオキサン」の配合量は、MIBKを除いた量として示した。さらに、表4及び表5における「WPI−124」の配合量は、溶媒を除いた量として示した。表4及び5においては、溶媒の含有量は省略している。   In addition, the unit of the compounding quantity of the raw material of the curable composition of Table 4 and Table 5 is a weight part. In addition, “silsesquioxane obtained in Example 26”, “silsesquioxane obtained in Example 27”, “silsesquioxane obtained in Example 28” in Tables 4 and 5; The compounding amounts of “silsesquioxane obtained in Example 29” and “silsesquioxane obtained in Example 30” are shown as amounts excluding MIBK. Furthermore, the compounding quantity of "WPI-124" in Table 4 and Table 5 was shown as the quantity except the solvent. In Tables 4 and 5, the content of the solvent is omitted.

実施例32
実施例31で調製した硬化性組成物(ハードコート液)をPETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):430mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 32
The thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Film Co., Ltd.) and the curable composition (hard coat liquid) prepared in Example 31 After cast-coating using a wire bar, it was allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays (irradiation conditions (irradiation amount): 430 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 160 W / The coated film of the above hard coating solution was cured by conducting (cm 2 ) (without subsequent heat treatment) to prepare a hard coated film having a hard coated layer.

実施例33
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例26で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK27.23重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)14.6mg[50%溶液として14.6mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.5mg、メチルイソブチルケトン0.253g、エチレングリコールモノビニルエーテル(東京化成工業(株)製)36.4mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 33
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 27.23% by weight] obtained in Example 26; trade name “WPI-124” (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ), 50% solution of photo acid generator) 14.6 mg [14.6 mg as a 50% solution], trade name "BYK-307" (manufactured by Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.5 mg, methyl isobutyl ketone 0 .253 g and 36.4 mg of ethylene glycol monovinyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added, and mixed by stirring with a vibrator to prepare a curable composition (hard coat liquid).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例34
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1,3mg、メチルイソブチルケトン 0.104g、及びエチレングリコールモノビニルエーテル(東京化成工業(株)製)33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 34
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name "BYK-307" (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1, 3 mg, methyl isobutyl ketone 0 .104 g and 33.1 mg of ethylene glycol monovinyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added, and mixed by stirring with a vibrator to prepare a curable composition (hard coat liquid).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例35
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びシクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 35
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of cyclohexanedimethanol monovinyl ether, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coat liquid).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例36
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びトリエチレングリコールモノビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 36
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of triethylene glycol monovinyl ether, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例37
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びジエチレングリコールモノビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 37
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of diethylene glycol monovinyl ether, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coat liquid).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例38
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びヒドロキシブチルビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 38
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of hydroxybutyl vinyl ether, the mixture was stirred and mixed with a vibrator to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例39
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びイソブチルビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 39
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of isobutyl vinyl ether, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例40
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例27で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びシクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 40
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 27; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of cyclohexanedimethanol divinyl ether, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coat liquid).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例41
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例26で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK33.78重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)13.2mg[50%溶液として13.2mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミー(株)製、レベリング剤)1.3mg、メチルイソブチルケトン0.104g、及びジエチレングリコールジビニルエーテル33.1mgを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 41
In a 6 cc brown-brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 33.78% by weight] obtained in Example 26; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Made in a 50% solution of a photoacid generator) 13.2 mg [13.2 mg as a 50% solution], trade name “BYK-307” (Bick Chemie Co., Ltd., leveling agent) 1.3 mg, methyl isobutyl ketone 0 After adding .104 g and 33.1 mg of diethylene glycol divinyl ether, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coat liquid).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 30 μm. after casting and coating and, allowed to stand for 10 minutes in an oven at 70 ° C. and (prebaked), followed by irradiation with ultraviolet rays (irradiation conditions (dose): 155mJ / cm 2, irradiation intensity: 160 W / cm 2) by The coated film of the hard coating solution was cured (without the subsequent heat treatment) to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例42
実施例31で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが30μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射(照射条件(照射量):155mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)することによって(その後の熱処理なしで)、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 42
A wire bar was prepared so that the hard coat layer obtained in Example 31 had a thickness of 30 μm after curing on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.). The solution is cast and applied, and then left (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation condition (irradiation amount): 155 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 160 W / cm 2 ) Accordingly (without subsequent heat treatment), the coating film of the hard coating solution was cured to prepare a hard coating film having a hard coating layer.

実施例43
ハードコート液の構成成分としてビニルエーテル化合物を添加しなかったこと以外は、実施例34と同じ手順及び条件にてハードコートフィルムを作製した。
Example 43
A hard coat film was produced under the same procedure and conditions as in Example 34 except that no vinyl ether compound was added as a constituent of the hard coat solution.

実施例44
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例28で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK17.81重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)16.4mg[50%溶液として16.4mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミ−(株)製、レベリング剤)、及びメチルイソブチルケトン0.37gを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが40μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):430mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)。その後、80℃のオーブン内で2時間放置(ポストベイク)して、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 44
In a 6 cc brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 17.81% by weight] obtained in Example 28; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (A 50% solution of a photoacid generator) 16.4 mg [16.4 mg as a 50% solution], trade name "BYK-307" (manufactured by Bick Chem., Ltd., leveling agent), and methyl isobutyl ketone 0.2. 37 g was added and stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Film Co., Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 40 μm. The mixture was cast and cast, then allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 430 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 160 W / cm 2 ). Thereafter, the coated film of the above-mentioned hard coating solution was cured by being left (post-baked) in an oven at 80 ° C. for 2 hours to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例45
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例29で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK25.84重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)14.8mg[50%溶液として14.8mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミ−(株)製、レベリング剤)、及びメチルイソブチルケトン0.24gを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが40μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):430mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)。その後、80℃のオーブン内で2時間放置(ポストベイク)して、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 45
In a 6 cc brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 25.84% by weight] obtained in Example 29; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. 14.8 mg [as a 50% solution, 14.8 mg], trade name “BYK-307” (manufactured by Bick Chem., Ltd., leveling agent), and methyl isobutyl ketone 0. The mixture was stirred with a vibrator and mixed to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Film Co., Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 40 μm. The mixture was cast and cast, then allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 430 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 160 W / cm 2 ). Thereafter, the coated film of the above-mentioned hard coating solution was cured by being left (post-baked) in an oven at 80 ° C. for 2 hours to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例46
6ccの茶褐色サンプル瓶に、実施例30で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン1g[MIBK26.36重量%含有物として1g]、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液)14.7mg[50%溶液として14.7mg]、商品名「BYK−307」(ビックケミ−(株)製、レベリング剤)、及びメチルイソブチルケトン0.23gを入れて、バイブレーターで攪拌混合し、硬化性組成物(ハードコート液)を作製した。
上記で得られたハードコート液を、PETフィルム(商品名「KEB03 W」、帝人デュポンフィルム(株)製)上に、硬化後のハードコート層の厚さが40μmとなるようにワイヤーバーを使用して流延塗布した後、70℃のオーブン内で10分間放置(プレベイク)し、次いで紫外線を照射した(照射条件(照射量):430mJ/cm2、照射強度:160W/cm2)。その後、80℃のオーブン内で2時間放置(ポストベイク)して、上記ハードコート液の塗工膜を硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルムを作製した。
Example 46
In a 6 cc brown sample bottle, 1 g of epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane [1 g as a content of MIBK 26.36% by weight] obtained in Example 30; trade name "WPI-124" (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. A 50% solution of a photoacid generator) 14.7 mg [14.7 mg as a 50% solution], trade name "BYK-307" (manufactured by Bick Chem., Ltd., leveling agent), and methyl isobutyl ketone 0.2. After putting 23 g, the mixture was stirred and mixed by a vibrator to prepare a curable composition (hard coating solution).
The hard coat solution obtained above is used on a PET film (trade name “KEB03 W”, manufactured by Teijin DuPont Film Co., Ltd.) using a wire bar so that the thickness of the hard coat layer after curing is 40 μm. The mixture was cast and cast, then allowed to stand (prebaked) in an oven at 70 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light (irradiation conditions (irradiation amount): 430 mJ / cm 2 , irradiation intensity: 160 W / cm 2 ). Thereafter, the coated film of the above-mentioned hard coating solution was cured by being left (post-baked) in an oven at 80 ° C. for 2 hours to produce a hard coated film having a hard coating layer.

実施例31〜46で得た各ハードコートフィルムについて、以下の方法により各種評価を行った。結果を表4及び表5に示す。   About each hard coat film obtained in Examples 31-46, various evaluation was performed by the following methods. The results are shown in Tables 4 and 5.

(1)ヘイズ及び全光線透過率
ハードコートフィルムのヘイズ及び全光線透過率を、ヘイズメータ(日本電色工業(株)製、NDH−300A)を使用して測定した。
(1) Haze and total light transmittance The haze and total light transmittance of the hard coat film were measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., NDH-300A).

(2)黄色度b*
ハードコートフィルムの黄色度b*を、色差計(日本電色工業(株)製、NDH−300A)を使用して測定した。
(2) Yellowness b *
The yellowness b * of the hard coat film was measured using a color difference meter (NDH-300A, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.).

(3)表面硬度(鉛筆硬度)
ハードコートフィルムにおけるハードコート層表面の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4に準じて評価した。
(3) Surface hardness (pencil hardness)
The pencil hardness of the surface of the hard coat layer in the hard coat film was evaluated according to JIS K5600-5-4.

(4)硬化後の加熱黄変
実施例34〜41で得た各ハードコートフィルムについて、表4の「硬化後の加熱黄変」の欄に記載の加熱温度及び加熱時間で加熱処理を行い、その後のハードコートフィルムの黄色度b*を、色差計(日本電色工業(株)製、NDH−300A)を使用して測定した。結果を表4に示す。
(4) Heated yellowing after curing The hard coat films obtained in Examples 34 to 41 are subjected to heat treatment at the heating temperature and heating time described in the column "Heating yellowing after curing" in Table 4, The yellowness b * of the hard coat film after that was measured using a color difference meter (NDH-300A manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.). The results are shown in Table 4.

表4及び表5に示す略号は、以下の通りである。
EGVE:エチレングリコールモノビニルエーテル
CHXDM−VE:シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル
TEG−VE:トリエチレングリコールモノビニルエーテル
DEG−VE:ジエチレングリコールモノビニルエーテル
HBVE:ヒドロキシブチルビニルエーテル
IBVE:イソブチルビニルエーテル
CHXDMDVE:シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル
DEGDVE:ジエチレングリコールジビニルエーテル
WPI−124:商品名「WPI−124」、和光純薬工業(株)製、光酸発生剤の50%溶液
The abbreviations shown in Tables 4 and 5 are as follows.
EGVE: ethylene glycol monovinyl ether CHXDM-VE: cyclohexanedimethanol monovinyl ether TEG-VE: triethylene glycol monovinyl ether DEG-VE: diethylene glycol monovinyl ether HBVE: hydroxybutyl vinyl ether IBVE: isobutyl vinyl ether CHXDMDVE: cyclohexane dimethanol divinyl ether DEGDVE: diethylene glycol Divinyl ether WPI-124: trade name "WPI-124", manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 50% solution of photoacid generator

表4及び表5に示すように、本発明のハードコートフィルム(実施例31〜46)はいずれも高い表面硬度を有しており、また、透明性にも優れていた。
特に、カチオン硬化性化合物としてビニルエーテル化合物を併用した場合(例えば、実施例33〜41)は、ビニルエーテル化合物を併用しない場合(例えば、実施例31、32、42、43)と比較して、紫外線照射量を低くした場合であっても、非常に高い表面硬度を有するハードコートフィルムが得られた。このため、カチオン硬化性化合物としてビニルエーテル化合物を併用することにより、製造に際してライン速度をより高くすることが可能であり、非常に優れた生産性でハードコートフィルムを製造することができる。
さらに、カチオン硬化性化合物として水酸基を有するビニルエーテル化合物を併用した場合(例えば、実施例34〜38)は、水酸基を有しないビニルエーテル化合物を併用した場合(例えば、実施例39〜41)と比較して、より高い表面硬度を有し、さらに、より耐熱黄変性に優れたハードコートフィルムを製造することができる。
As shown in Tables 4 and 5, all of the hard coat films (Examples 31 to 46) of the present invention had high surface hardness and were also excellent in transparency.
In particular, when a vinyl ether compound is used in combination as a cationically curable compound (for example, Examples 33 to 41), ultraviolet irradiation is performed as compared with the case where a vinyl ether compound is not used in combination (for example, Examples 31, 32, 42, 43). Even at low amounts, hard coat films having very high surface hardness were obtained. Therefore, by using a vinyl ether compound in combination as a cationically curable compound, the line speed can be further increased in the production, and a hard coat film can be produced with very excellent productivity.
Furthermore, when a vinyl ether compound having a hydroxyl group is used in combination as a cationically curable compound (for example, Examples 34 to 38), a vinyl ether compound having no hydroxyl group is used in combination (for example, Example 39 to 41) It is possible to produce a hard coat film having higher surface hardness and further excellent in heat resistance yellowing.

なお、実施例31〜46で得た各ハードコートフィルムについて、上述の方法で耐熱性(Td5)及び耐屈曲性を評価したところ、いずれもTd5は380℃以上であって耐熱性に優れており、またマンドレル試験の結果がいずれもハードコート層の膜厚30μmにおいて直径25mm以下であって屈曲性及び加工性にも優れていた。 Note that each of the hard coat film obtained in Example 31 to 46 was evaluated for heat resistance (T d5) and flexibility in the manner described above, both T d5 is excellent in heat resistance comprising at 380 ° C. or higher The results of the mandrel test were all 25 mm or less in diameter at a film thickness of 30 μm of the hard coat layer, and also excellent in flexibility and processability.

実施例47
(接着剤用組成物の調製)
実施例1で得られたエポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン(S−1)(カチオン重合性化合物)100重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50重量部、商品名「サンエイドSI−150L」(三新化学工業(株)製、アンチモン系スルホニウム塩)0.1重量部、及び商品名「サンエイドSI助剤」(三新化学工業(株)製、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト))0.005重量部を混合し、接着剤用組成物(接着剤組成物)を得た。
Example 47
(Preparation of adhesive composition)
100 parts by weight of the epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane (S-1) (cationically polymerizable compound) obtained in Example 1, 50 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, trade name "Sanaid SI-150L" 0.1 parts by weight of an antimonial sulfonium salt, manufactured by Shin Chemical Industry Co., Ltd., and a trade name “San-Aid SI aid” (manufactured by Sanshin Chemical Industries, Ltd., (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium methyl sulfite) 3.) 0.005 parts by weight was mixed to obtain an adhesive composition (adhesive composition).

実施例48
(接着剤層の作製)
ガラス板(4インチ、SCHOTT日本(株)製)の片面にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製)をスピンコートで塗布し、100℃で15分間加熱した後、さらに実施例47で得られた接着剤用組成物をスピンコートで塗布し、次いで、60℃で10分加熱して膜厚5μmの接着剤層を作製し、接着剤層付きガラス板(「ガラス板/シランカップリング剤層/接着剤層」の層構成を有する)を得た。
Example 48
(Preparation of adhesive layer)
A silane coupling agent (trade name "KBE 403", Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is applied by spin coating on one side of a glass plate (4 inches, SCHOTT made by Japan Ltd.) and heated at 100 ° C for 15 minutes Further, the adhesive composition obtained in Example 47 is applied by spin coating, and then heated at 60 ° C. for 10 minutes to prepare an adhesive layer having a film thickness of 5 μm, and a glass plate with an adhesive layer (“ (Layer structure of glass plate / silane coupling agent layer / adhesive layer) was obtained.

(シランカップリング剤層の作製)
ガラス板(4インチ、SCHOTT日本(株)製)の片面にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製)をスピンコートで塗布し、100℃で15分間加熱してシランカップリング剤層を作製し、シランカップリング剤層付きガラス板(「ガラス板/シランカップリング剤層」の層構成を有する)を得た。
(Preparation of Silane Coupling Agent Layer)
A silane coupling agent (trade name "KBE 403", Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is spin coated on one side of a glass plate (4 inches, SCHOTT made by Japan Ltd.) and heated at 100 ° C for 15 minutes. A silane coupling agent layer was produced to obtain a glass plate with a silane coupling agent layer (having a layer configuration of "glass plate / silane coupling agent layer").

(接着物(積層体)の作製)
上記で得られた接着剤層付きガラス板と上記で得られたシランカップリング剤層付きガラス板とを、前者の接着剤層と後者のシランカップリング剤層とが向かい合うように、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力を加えて貼り合わせた後、150℃で30分間加熱し、次いで、170℃で30分間加熱することによって、接着体(積層物;「ガラス板/シランカップリング剤層/接着剤用組成物の硬化物層(接着層)/シランカップリング剤層/ガラス板」の層構成を有する)を得た。
(Production of adhesive (laminated body))
The glass plate with an adhesive layer obtained above and the glass plate with a silane coupling agent layer obtained above are set to 60 ° C. so that the former adhesive layer and the latter silane coupling agent layer face each other. Adhesive body by applying a pressure of 200 g / cm 2 while heating, heating at 150 ° C. for 30 minutes, and then heating at 170 ° C. for 30 minutes (laminate; “glass plate / silane coupling Agent layer / cured material layer of adhesive composition (adhesive layer) / silane coupling agent layer / glass plate) was obtained.

上記で得られた接着剤用組成物及び接着体(積層物)について、以下の評価を行った。   The following evaluation was performed about the composition for adhesive agents and adhesive body (laminate) which were obtained above.

(密着性評価)
実施例47で得られた接着剤用組成物を用いて得られる塗膜(接着層)の密着性を、JIS K5400−8.5に従って、碁盤目テープ試験によって評価した。なお、試料としては、実施例48で作製した接着剤層付きガラス板を150℃で30分間加熱し、次いで、170℃で30分間加熱することによって得られるものを使用した(即ち、塗膜は、実施例47で得られた接着剤用組成物の硬化物層である)。
上記碁盤目テープ試験の結果、ガラス板(「ガラス板/シランカップリング剤層」の層構成を有する)からの塗膜の剥離は見られず、上記塗膜は優れた密着性を有することが確認された。
(Evaluation of adhesion)
The adhesion of the coating film (adhesive layer) obtained using the adhesive composition obtained in Example 47 was evaluated by the cross cut tape test according to JIS K5400-8.5. In addition, as a sample, what was obtained by heating the adhesive layer-coated glass plate prepared in Example 48 at 150 ° C. for 30 minutes and then heating at 170 ° C. for 30 minutes was used (that is, the coating film was Example 47, the cured product layer of the adhesive composition obtained in Example 47).
As a result of the cross-cut tape test, no peeling of the coating film from the glass plate (having a layer constitution of "glass plate / silane coupling agent layer") is observed, and the coating film has excellent adhesion. confirmed.

(接着性評価)
実施例48で得られた接着体(積層物)の接着界面にカミソリ刃を挿入したところ、接着面での剥離は生じず、上記接着体における接着層は優れた接着性を有することが確認された。
(Adhesive evaluation)
When a razor blade is inserted into the adhesive interface of the adhesive body (laminate) obtained in Example 48, no peeling on the adhesive surface occurs, and it is confirmed that the adhesive layer in the adhesive body has excellent adhesiveness. The

Claims (9)

下記式(1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
で表される構成単位、及び下記式(2)
[式(2)中、R 2 は、置換若しくは無置換のアリール基を示す。]
で表される構成単位を有し、下記式(I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。]
で表される構成単位と、下記式(II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上11以下であり、シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。]
で表される構成単位の割合が95モル%以上100モル%未満であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であることを特徴とするポリオルガノシルセスキオキサン。
ここで、上記モル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]は、上記ポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位におけるケイ素原子のピークの積分値と上記式(II)で表される構成単位におけるケイ素原子のピークの積分値を測定し、以下の式により算出されるものである。
Following formula (1)
[In Formula (1), R 1 represents a group containing an epoxy group. ]
And a structural unit represented by the following formula (2)
[In Formula (2), R 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group. ]
And a structural unit represented by formula (I) below
[In Formula (I), R a represents a group containing an epoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group . ]
And a structural unit represented by the following formula (II)
[In Formula (II), R b represents a group containing an epoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group . R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
The molar ratio of the structural unit represented by [structural unit represented by formula (I) / structural unit represented by formula (II)] is 5 or more and 11 or less, and the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit The structural unit represented by the above formula (1) for
[In Formula (4), R 1 is the same as in Formula (1). R c is the same as in formula (II). ]
The proportion of the structural unit represented by is 95 mol% or more and less than 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion degree (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. Polyorganosilsesquioxane characterized by
Here, the molar ratio [constituent unit represented by formula (I) / constituent unit represented by formula (II)] is the formula (I) in the 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane. The integral value of the peak of the silicon atom in the constituent unit represented by () and the integral value of the peak of the silicon atom in the constituent unit represented by the above formula (II) are measured, and calculated according to the following formula.
上記R1が、下記式(1a)
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、又は、下記式(1d)
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基である請求項1に記載のポリオルガノシルセスキオキサン。
Said R 1 is a following formula (1a)
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by the following formula (1b)
[In Formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by the following formula (1c)
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
Or a group represented by the following formula (1d)
[In Formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
The polyorganosilsesquioxane according to claim 1, which is a group represented by
請求項1又は2に記載のポリオルガノシルセスキオキサンを含む硬化性組成物。 A curable composition comprising the polyorganosilsesquioxane according to claim 1 or 2 . さらに、硬化触媒を含む請求項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 3 , further comprising a curing catalyst. 前記硬化触媒が光カチオン重合開始剤である請求項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 4 , wherein the curing catalyst is a photocationic polymerization initiator. 前記硬化触媒が熱カチオン重合開始剤である請求項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 4 , wherein the curing catalyst is a thermal cationic polymerization initiator. さらに、ビニルエーテル化合物を含む請求項のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 3 to 6 , further comprising a vinyl ether compound. さらに、分子内に水酸基を有するビニルエーテル化合物を含む請求項のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 3 to 7 , further comprising a vinyl ether compound having a hydroxyl group in the molecule. 請求項のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the curable composition according to any one of claims 3 to 8 .
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