JP6520495B2 - Process for producing aromatic polyketone - Google Patents

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Description

本発明は、芳香族ポリケトンの製造方法に関する。 The present invention relates to the production how aromatic polyketones.

芳香族ポリイミドは、優れた耐熱性及び機械特性を有し、エンジニアリングプラスチックとして注目されている(例えば、非特許文献1参照)。また、芳香族ポリイミドと同様に、主鎖に芳香環とカルボニル基を有する芳香族ポリケトンも、優れた耐熱性及び耐薬品性を有し、エンジニアリングプラスチックとして注目されている(例えば、特許文献1及び非特許文献2参照)。更に、芳香族ポリケトンに脂環構造を導入することで、優れた耐熱性及び透明性を有する芳香族ポリケトンが得られることが知られており(例えば、特許文献2参照)、光学素子等への利用が期待されている。   Aromatic polyimides have excellent heat resistance and mechanical properties, and are attracting attention as engineering plastics (see, for example, Non-Patent Document 1). Further, as with aromatic polyimides, aromatic polyketones having an aromatic ring and a carbonyl group in the main chain also have excellent heat resistance and chemical resistance, and are attracting attention as engineering plastics (for example, Patent Document 1 and See Non-Patent Document 2). Furthermore, it is known that an aromatic polyketone having excellent heat resistance and transparency can be obtained by introducing an alicyclic structure into the aromatic polyketone (see, for example, Patent Document 2), an optical element etc. It is expected to be used.

また近年、携帯電話に代表されるような持ち運びが可能な画像表示装置(モバイルディスプレイ)に対する需要が高まっており、画像表示装置等の光学素子の軽量化が求められている。このような要求に対し、ガラスに代わる高い透明を有し軽量な高分子材料(ガラス代替材)を適用することが提案されている。   Further, in recent years, the demand for a portable image display device (mobile display) represented by a mobile phone is increasing, and weight reduction of optical elements such as the image display device is required. In order to meet such requirements, it has been proposed to apply a lightweight, high-transparent, lightweight polymeric material (glass substitute) to replace glass.

一方で、光学部品の小型化による発熱量の増加に伴い、樹脂の熱による黄変、クラック等が問題となっている(例えば、特許文献3参照)。ガラスを樹脂で代替するためには、高い透明性及び強度とともに、耐熱性が求められる。   On the other hand, with the increase of the calorific value due to the miniaturization of optical parts, yellowing due to the heat of the resin, cracks and the like have become problems (for example, see Patent Document 3). In order to replace glass with resin, heat resistance is required along with high transparency and strength.

特開2005−272728号公報JP, 2005-272728, A 特開2013−53194号公報JP, 2013-53194, A 特開2009−280768号公報JP, 2009-280768, A

日本ポリイミド研究会編「最新ポリイミド〜基礎と応用〜」(2002年)Japan Polyimide Research Group, "Latest Polyimide-Basics and Applications" (2002) 未来材料、2008年、8巻、8号、42〜47ページFuture Materials, 2008, Vol. 8, No. 8, pages 42-47

特許文献1では、芳香族ポリケトンのキャスト膜を水中に浸漬した後、60℃で加熱して乾燥させた膜を、電気二重層キャパシタ用セパレータとして適用している。しかし、この膜は微多孔質であるため、強度が低く、ガラス代替材へ適用することは難しい。
特許文献2に記載の芳香族ポリケトンは透明であることから、ガラス代替材への適用が期待できる。ただし、特許文献2に記載の製造方法では、得られるポリケトンの分子量が低く、十分な強度及び耐熱性を発揮できない。
In patent document 1, after immersing the cast film of aromatic polyketone in water, the film heated and dried at 60 degreeC is applied as a separator for electric double layer capacitors. However, since the membrane is microporous, it has low strength and is difficult to apply to glass substitutes.
Since the aromatic polyketone described in Patent Document 2 is transparent, application to a glass substitute can be expected. However, in the production method described in Patent Document 2, the molecular weight of the obtained polyketone is low, and sufficient strength and heat resistance can not be exhibited.

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、透明性及び耐熱性に優れ、分子量の高い芳香族ポリケトンを得る芳香族ポリケトンの製造方法、並びに、透明性、耐熱性及び強度に優れる芳香族ポリケトン、芳香族ポリケトン膜、芳香族ポリケトン膜付基材、光学素子及び画像表示装置を提供する。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is excellent in transparency and heat resistance, a method for producing an aromatic polyketone for obtaining an aromatic polyketone having a high molecular weight, and excellent in transparency, heat resistance and strength. Provided are an aromatic polyketone, an aromatic polyketone film, a substrate with an aromatic polyketone film, an optical element, and an image display.

本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、芳香族ポリケトンの構造単位となるモノマーを溶解した溶液又は分散したスラリーの状態で重合する際に、モノマーの仕込み比を工夫することで、平均分子量(特に、重量平均分子量(Mw))の高い芳香族ポリケトンが得られることを見出した。さらに、芳香族ポリケトンの反応液又は芳香族ポリケトンの溶液を、芳香族ポリケトンに対する貧溶媒に投入して芳香族ポリケトンを析出させて濾過し、析出した芳香族ポリケトンを溶媒で洗浄して低分子量不純物を除去する工程を工夫することで、効果的に精製でき、更に平均分子量(特に、数平均分子量(Mn))の高い芳香族ポリケトンが得られることを見出した。
以上から、本発明は、上記課題を解決するために、下記の態様を含む。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors devise the preparation ratio of monomers when polymerizing in the state of a solution or a slurry in which the monomers to be structural units of aromatic polyketone are dissolved. It has been found that an aromatic polyketone having a high average molecular weight (especially weight average molecular weight (Mw)) can be obtained. Furthermore, the reaction liquid of aromatic polyketone or the solution of aromatic polyketone is introduced into a poor solvent for aromatic polyketone to precipitate aromatic polyketone, followed by filtration, and the deposited aromatic polyketone is washed with a solvent to remove low molecular weight impurities. It has been found that, by devising the step of removing C, it is possible to effectively purify and to obtain an aromatic polyketone having a high average molecular weight (in particular, a number average molecular weight (Mn)).
As mentioned above, in order to solve the above-mentioned subject, the present invention contains the following modes.

<1> 下記一般式(1)、下記一般式(2)及び下記一般式(4)からなる群より選択される少なくとも1種の芳香族モノマーと、下記一般式(5)で表される少なくとも1種のジカルボン酸モノマーとを、ジカルボン酸モノマーに対する芳香族モノマーのモル比(芳香族モノマー/ジカルボン酸モノマー)が0.5以上1未満の範囲で、酸性媒体中で縮合反応させる、芳香族ポリケトンの製造方法。 <1> At least one aromatic monomer selected from the group consisting of the following general formula (1), the following general formula (2) and the following general formula (4), and at least one represented by the following general formula (5) An aromatic polyketone which causes a condensation reaction with one kind of dicarboxylic acid monomer in an acidic medium at a molar ratio of aromatic monomer to dicarboxylic acid monomer (aromatic monomer / dicarboxylic acid monomer) in the range of 0.5 or more and less than 1. Manufacturing method.

一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (1), each R 1 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and each R 2 independently represents a hydrogen atom or a substituent It shows the C1-C30 hydrocarbon group which may have.

一般式(2)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは酸素原子又は下記一般式(3)で表される2価の基を示す。 In general formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X is an oxygen atom or the following general formula (3) The bivalent group represented is shown.

一般式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (3), R 3 and R 4 each independently represents a hydrocarbon group having a hydrogen atom or a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a.

一般式(4)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (4), each R 5 is independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a.

一般式(5)中、Yは炭素数1〜30の2価の炭化水素基を示す。   In general formula (5), Y shows a C1-C30 bivalent hydrocarbon group.

<2> 前記一般式(5)において、Yが、2価の飽和炭化水素基である、前記<1>に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 The manufacturing method of the aromatic polyketone as described in said <1> whose Y is a bivalent saturated hydrocarbon group in <2> said General formula (5).

<3> 前記一般式(5)において、Yが、飽和脂環式炭化水素基を含む炭素数6〜30の2価の炭化水素基である、前記<1>又は<2>に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 <3> The fragrance according to the above <1> or <2>, wherein in the general formula (5), Y is a divalent hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms including a saturated alicyclic hydrocarbon group. Of making polynuclear polyketones.

<4> 前記縮合反応の後に得られる芳香族ポリケトンを含有する液を、芳香族ポリケトンの良溶媒と芳香族ポリケトンの貧溶媒とを含む溶液に接触させる、前記<1>〜<3>のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 <4> Any of the above <1> to <3>, wherein a solution containing an aromatic polyketone obtained after the condensation reaction is brought into contact with a solution containing a good solvent of an aromatic polyketone and a poor solvent of an aromatic polyketone The manufacturing method of the aromatic polyketone as described in any one of-.

<5> 前記<1>〜<4>のいずれか1項に記載の製造方法により得られる芳香族ポリケトン。 <5> An aromatic polyketone obtainable by the method according to any one of <1> to <4>.

<6> 前記<5>に記載の芳香族ポリケトンを含有する芳香族ポリケトン膜。 <6> An aromatic polyketone film containing the aromatic polyketone as described in <5>.

<7> 基材と、
前記基材の表面の少なくとも一部に設けられる前記<6>に記載の芳香族ポリケトン膜と、
を有する芳香族ポリケトン膜付基材。
<7> base material,
The aromatic polyketone film according to <6>, provided on at least a part of the surface of the substrate;
A substrate with an aromatic polyketone film having

<8> 前記<6>に記載の芳香族ポリケトン膜又は前記<7>に記載の芳香族ポリケトン膜付基材を有する光学素子。 <8> An optical element having the aromatic polyketone film as set forth in <6> or the base material with an aromatic polyketone film as set forth in <7>.

<9> 前記<6>に記載の芳香族ポリケトン膜又は前記<7>に記載の芳香族ポリケトン膜付基材を有する画像表示装置。 <9> An image display device having the aromatic polyketone film according to <6> or the substrate with an aromatic polyketone film according to <7>.

本発明によれば、透明性及び耐熱性に優れ、分子量の高い芳香族ポリケトンを得る芳香族ポリケトンの製造方法、並びに、透明性、耐熱性及び強度に優れる芳香族ポリケトン、芳香族ポリケトン膜、芳香族ポリケトン膜付基材、光学素子及び画像表示装置を提供することができる。   According to the present invention, a method for producing an aromatic polyketone which is excellent in transparency and heat resistance and obtains a high molecular weight aromatic polyketone, and an aromatic polyketone excellent in transparency, heat resistance and strength, an aromatic polyketone film, an aroma It is possible to provide a substrate having a group polyketone film, an optical element and an image display device.

以下、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合、原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。
本明細書において「工程」とは、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the constituent elements (including the element steps and the like) are not essential unless clearly indicated otherwise in principle, in the case where it is clearly indicated in principle. The same applies to numerical values and ranges thereof, and does not limit the present invention.
In the present specification, “step” is not limited to an independent step, and can be included in the term if the intended function of the step is achieved even if it can not be clearly distinguished from other steps.

本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本明細書において「膜」とは、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構成に加え、一部に形成されている形状の構成も包含される。本明細書において「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構成に加え、一部に形成されている形状の構成も包含される。「積層」との語は、層を積み重ねることを示し、二以上の層が結合されていてもよく、二以上の層が着脱可能であってもよい。
The numerical range shown using "-" in this specification shows the range which includes the numerical value described before and after "-" as minimum value and the maximum value, respectively.
In the present specification, the “film” includes the configuration of a shape formed in part, in addition to the configuration of the shape formed on the entire surface when observed as a plan view. In the present specification, the term “layer” includes the configuration of a shape formed in part, in addition to the configuration of a shape formed on the entire surface when observed as a plan view. The term "stacking" refers to stacking layers, two or more layers may be combined, and two or more layers may be removable.

本明細書において「透明性」とは、可視光の透過性、少なくとも波長400nmの可視光の透過性が80%以上(膜厚1μm換算)であることを意味する。
本明細書において「耐熱性」とは、芳香族ポリケトンを含む部材において、加熱よる黄変及びクラックの発生が抑制されていることを意味する。
In the present specification, “transparency” means that the visible light transmittance and the visible light transmittance of at least 400 nm are at least 80% (film thickness is 1 μm).
In the present specification, “heat resistance” means that generation of yellowing and cracking due to heating is suppressed in a member containing an aromatic polyketone.

また、本明細書において「貧溶媒」とは、芳香族ポリケトンに対して貧溶媒であることを意味し、具体的には、溶媒100g中に芳香族ポリケトンが0.01g以下しか溶解しない溶媒を意味する。そして、「良溶媒」とは、芳香族ポリケトンに対して良溶媒であることを意味し、具体的には、溶媒100g中に芳香族ポリケトンが1g以上溶解する溶媒を意味する。   Moreover, in the present specification, "poor solvent" means being a poor solvent for aromatic polyketones, specifically, a solvent in which only 0.01 g or less of aromatic polyketone is dissolved in 100 g of solvent is used. means. And a "good solvent" means being a good solvent to aromatic polyketone, and specifically means a solvent in which 1 g or more of aromatic polyketone is dissolved in 100 g of solvent.

<芳香族ポリケトンの製造方法>
芳香族ポリケトンの製造方法は、下記一般式(1)、下記一般式(2)及び下記一般式(4)からなる群より選択される少なくとも1種の芳香族モノマーと、下記一般式(5)で表される少なくとも1種のジカルボン酸モノマーとを、ジカルボン酸モノマーに対する芳香族モノマーのモル比(芳香族モノマー/ジカルボン酸モノマー)が0.5以上1未満の範囲で、酸性媒体中で縮合反応させる。この製造方法によって得られる芳香族ポリケトンを、以下、「特定芳香族ポリケトン」とも称する。
<Method of producing aromatic polyketone>
The method for producing an aromatic polyketone comprises at least one aromatic monomer selected from the group consisting of the following general formula (1), the following general formula (2) and the following general formula (4), and the following general formula (5) Condensation reaction in an acidic medium with a molar ratio of aromatic monomer to dicarboxylic acid monomer (aromatic monomer / dicarboxylic acid monomer) in a range of 0.5 or more and less than 1 with at least one dicarboxylic acid monomer represented by Let The aromatic polyketone obtained by this production method is hereinafter also referred to as "specific aromatic polyketone".

一般的には、分子内に同一の官能基Aを2つ以上もつモノマーA’と、A’と反応する官能基Bを分子内に2つ以上もつモノマーB’とを用いてポリマーを重合する際には、モノマーA’とモノマーB’を等量で仕込む場合に、分子量が最も高くなりやすい。   Generally, a polymer is polymerized using a monomer A ′ having two or more identical functional groups A in the molecule and a monomer B ′ having two or more functional groups B capable of reacting with A ′ in the molecule. In the case where the monomer A ′ and the monomer B ′ are charged in equal amounts, the molecular weight tends to be the highest.

しかし、本発明者らは鋭意検討の結果、特定芳香族ポリケトンの縮合反応においては、ジカルボン酸モノマーを芳香族モノマーに対して等量よりも多く仕込むことで、分子量が高くなりやすいことを見出した。分子量が高くなるほど、耐熱性と強度が向上する傾向にある。   However, as a result of intensive studies, the present inventors have found that, in the condensation reaction of a specific aromatic polyketone, the molecular weight tends to be high by charging a dicarboxylic acid monomer to the aromatic monomer in a larger amount than the equivalent amount. . The higher the molecular weight, the better the heat resistance and the strength.

一方で、芳香族モノマーに対するジカルボン酸モノマーの仕込み量が多くなるにつれ、反応生成物である芳香族ポリケトンが赤色又は黄色に着色する。芳香族ポリケトンの着色は、芳香族ポリケトンを良溶媒に溶解した溶液を、貧溶媒に接触させて、芳香族ポリケトンを洗浄することによって除くことができる。しかし、芳香族ポリケトンの着色が強い場合、透明樹脂として利用可能なまでに色を除くためには複数回の洗浄工程が必要であり、生産性に劣る。   On the other hand, as the preparation amount of the dicarboxylic acid monomer to the aromatic monomer increases, the aromatic polyketone which is the reaction product is colored in red or yellow. The coloring of the aromatic polyketone can be removed by bringing a solution of the aromatic polyketone in a good solvent into contact with a poor solvent to wash the aromatic polyketone. However, when the coloring of the aromatic polyketone is strong, a plurality of washing steps are required to remove the color before it can be used as a transparent resin, and the productivity is inferior.

本発明者らは鋭意検討の結果、特定芳香族ポリケトンの縮合反応においては、ジカルボン酸モノマーに対する芳香族モノマーのモル比(芳香族モノマー/ジカルボン酸モノマー)(以下、「モル比(A/C)ともいう」)を0.5以上1未満の範囲とし、芳香族モノマーのモル数よりもジカルボン酸モノマーのモル数が多くなるように仕込むことにより、3回以内の再沈殿による洗浄で除去可能な程度に着色を抑えつつ、分子量の高い特定芳香族ポリケトンが得られることを見出した。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that, in the condensation reaction of a specific aromatic polyketone, the molar ratio of aromatic monomer to dicarboxylic acid monomer (aromatic monomer / dicarboxylic acid monomer) (hereinafter referred to as “molar ratio (A / C) It can be removed by washing by reprecipitation within 3 times by setting the range of 0.5 or more and less than 1) and setting the number of moles of dicarboxylic acid monomer to be larger than the number of moles of aromatic monomer. It has been found that specific aromatic polyketones with high molecular weight can be obtained while suppressing the coloration to some extent.

着色を抑え洗浄工程を簡便にし、得られる特定芳香族ポリケトンの透明性を向上させる観点からは、モル比(A/C)の範囲は、3/5以上1未満がより好ましく、3/4以上1未満が更に好ましい。
また、特定芳香族ポリケトンの耐熱性及び特定芳香族ポリケトンを用いる部材の強度の観点からは、モル比(A/C)の範囲は、3/5以上95/105以下がより好ましい。
From the viewpoint of suppressing coloring and simplifying the washing step and improving the transparency of the specific aromatic polyketone to be obtained, the range of the molar ratio (A / C) is preferably 3/5 or more and less than 1, more preferably 3/4 or more Less than 1 is more preferred.
Further, from the viewpoint of the heat resistance of the specific aromatic polyketone and the strength of the member using the specific aromatic polyketone, the range of the molar ratio (A / C) is more preferably 3/5 or more and 95/105 or less.

一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Rとしては、炭素数1〜10の炭化水素基が好ましく、反応制御の観点から、炭素数1〜5の炭化水素基がより好ましい。
また、Rにおける置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。尚、炭化水素基が置換基を有する場合、炭化水素基の炭素数には、置換基の炭素数を含めないものとする。以降、同様である。
In general formula (1), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent. From the viewpoint of heat resistance, R 1 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and from the viewpoint of reaction control, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable.
As the substituent in R 1, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms. When the hydrocarbon group has a substituent, the carbon number of the hydrocarbon group does not include the carbon number of the substituent. The same applies thereafter.

で示される炭化水素基としては、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基等が挙げられる。また、これらの炭化水素基を組み合わせたものでもよい。 Examples of the hydrocarbon group represented by R 1 include saturated aliphatic hydrocarbon groups, unsaturated aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups and the like. Moreover, what combined these hydrocarbon groups may be used.

で示される飽和脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、neo−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−イコサニル基、n−トリアコンタニル基等が挙げられる。 As a saturated aliphatic hydrocarbon group shown by R 1 , methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group , Isopentyl group, sec-pentyl group, neo-pentyl group, t-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-icosanyl group, n -Triacontanyl group etc. are mentioned.

で示される不飽和脂肪族炭化水素基としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、エチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。 Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 include alkenyl groups such as vinyl group and allyl group, and alkynyl groups such as ethynyl group.

で示される脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基等のシクロアルキル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基などが挙げられる。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 1 include cycloalkyl groups such as cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and norbornyl, and cycloalkenyl groups such as cyclohexenyl.

一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Rとしては、水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (1), R 2 each independently represents a hydrocarbon group having a hydrogen atom or a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a. From the viewpoint of heat resistance, R 2 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. As such a hydrocarbon group, those similar to those exemplified for R 1 in the general formula (1) can be mentioned. Moreover, a halogen atom, a C1-C5 alkoxy group, a C2-C5 acyl group etc. are mentioned as a substituent.

一般式(2)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(2)中のRの詳細は、一般式(1)中のRと同様である。 In the general formula (2), R 1 each independently represents a hydrocarbon group having a hydrogen atom or a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a. The general formula (2) R 1 in detail, is the same as R 1 in general formula (1).

一般式(2)中、Xは、酸素原子又は一般式(3)で表される2価の基を示す。   In general formula (2), X shows an oxygen atom or a divalent group represented by general formula (3).

一般式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。尚、波線を付した部分は、結合手を意味する。以降、化学式中の波線については同様である。耐熱性の観点から、R及びRとしては、それぞれ独立に、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (3), R 3 and R 4 each independently represents a hydrocarbon group having a hydrogen atom or a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a. In addition, the part which attached the wavy line means a bond. Hereinafter, the same applies to the wavy line in the chemical formula. From the viewpoint of heat resistance, R 3 and R 4 are preferably each independently a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. As such a hydrocarbon group, those similar to those exemplified for R 1 in the general formula (1) can be mentioned. Moreover, a halogen atom, a C1-C5 alkoxy group, a C2-C5 acyl group etc. are mentioned as a substituent.

一般式(4)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Rとしては、それぞれ独立に、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (4), each R 5 is independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a. From the viewpoint of heat resistance, R 5 is preferably independently a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. As such a hydrocarbon group, those similar to those exemplified for R 1 in the general formula (1) can be mentioned. Moreover, a halogen atom, a C1-C5 alkoxy group, a C2-C5 acyl group etc. are mentioned as a substituent.

一般式(5)中、Yは炭素数1〜30の2価の炭化水素基を示す。Yで表される2価の基は、耐熱性の観点から、炭素数が6〜30であることが好ましい。   In general formula (5), Y shows a C1-C30 bivalent hydrocarbon group. The divalent group represented by Y preferably has 6 to 30 carbon atoms from the viewpoint of heat resistance.

また、Yで表される2価の基は、炭化水素基であり、透明性の観点から、飽和炭化水素基を含むことが好ましい。飽和炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であっても、飽和脂環式炭化水素基であってもよい。より高い耐熱性と透明性の両立の観点から、Yで表される2価の基は、飽和脂環式炭化水素基を含むことが好ましい。また、嵩高い脂環式炭化水素基を含むと、高い耐熱性と透明性を維持したまま、溶媒への溶解性を高くすることができる傾向にある。また、Yで表される2価の基は、複数の脂肪族炭化水素基、複数の脂環式炭化水素基、又はそれらを組み合わせてもよい。   The divalent group represented by Y is a hydrocarbon group, and preferably contains a saturated hydrocarbon group from the viewpoint of transparency. The saturated hydrocarbon group may be a saturated aliphatic hydrocarbon group or a saturated alicyclic hydrocarbon group. From the viewpoint of achieving both higher heat resistance and transparency, the divalent group represented by Y preferably contains a saturated alicyclic hydrocarbon group. Moreover, when it contains bulky alicyclic hydrocarbon group, it exists in the tendency which can make high the solubility to a solvent, maintaining high heat resistance and transparency. In addition, the divalent group represented by Y may be a plurality of aliphatic hydrocarbon groups, a plurality of alicyclic hydrocarbon groups, or a combination thereof.

飽和脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、1−メチルトリメチレン基、エチルエチレン基、ジメチルエチレン基、ペンチレン基、n−メチルテトラメチレン基、1−エチルトリメチレン基、1,1−ジメチルトリメチレン基、プロピルエチレン基、エチルメチルエチレン基、ヘキシレン基、1−メチルペンチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルトリメチレン基、ブチルエチレン基、1,1−ジメチルテトラメチレン基、トリメチルトリメチレン基、1,1−エチルメチルトリメチレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、イコサニレン基、トリアコンタニレン基等が挙げられる。   Examples of saturated aliphatic hydrocarbon groups include methylene, ethylene, trimethylene, methylethylene, tetramethylene, 1-methyltrimethylene, ethylethylene, dimethylethylene, pentylene and n-methyltetramethylene 1-ethyltrimethylene group, 1,1-dimethyltrimethylene group, propyl ethylene group, ethyl methyl ethylene group, hexylene group, 1-methyl pentylene group, 1-ethyl tetramethylene group, 1-propyl trimethylene group, Butyl ethylene, 1,1-dimethyltetramethylene, trimethyltrimethylene, 1,1-ethylmethyltrimethylene, heptylene, octylene, nonylene, nonylene, decylene, icosanylene, triacontanylene etc. Be

耐熱性の観点から、飽和脂肪族炭化水素基としては、ヘキシレン基、1−メチルペンチレン基、1−エチルテトラメチレン基、1−プロピルトリメチレン基、ブチルエチレン基、1,1−ジメチルテトラメチレン基、トリメチルトリメチレン基、1,1−エチルメチルトリメチレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、イコサニレン基、トリアコンタニレン基等が好ましい。   From the viewpoint of heat resistance, as a saturated aliphatic hydrocarbon group, a hexylene group, 1-methyl pentylene group, 1-ethyl tetramethylene group, 1-propyl trimethylene group, butyl ethylene group, 1,1-dimethyl tetramethylene Groups, trimethyltrimethylene group, 1,1-ethylmethyltrimethylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group, decylene group, decylene group, icosanylene group, triacontanylene group and the like are preferable.

飽和脂環式炭化水素基としては、シクロプロパン骨格、シクロブタン骨格、シクロペンタン骨格、シクロヘキサン骨格、シクロヘプタン骨格、シクロオクタン骨格、キュバン骨格、ノルボルナン骨格、トリシクロ[5.2.1.0]デカン骨格、アダマンタン骨格、ジアダマンタン骨格、ビシクロ[2.2.2]オクタン骨格等の2価の基が挙げられる。   As a saturated alicyclic hydrocarbon group, cyclopropane skeleton, cyclobutane skeleton, cyclopentane skeleton, cyclohexane skeleton, cycloheptane skeleton, cycloheptane skeleton, cyclooctane skeleton, cubane skeleton, norbornane skeleton, tricyclo [5.2.1.0] decane skeleton And bivalent groups such as adamantane skeleton, diadamantane skeleton and bicyclo [2.2.2] octane skeleton.

耐熱性の観点から、飽和脂環式炭化水素基としては、シクロヘキサン骨格、シクロヘプタン骨格、シクロオクタン骨格、キュバン骨格、ノルボルナン骨格、トリシクロ[5.2.1.0]デカン骨格、アダマンタン骨格、ジアダマンタン骨格、ビシクロ[2.2.2]オクタン骨格等の2価の基が好ましい。   From the viewpoint of heat resistance, examples of the saturated alicyclic hydrocarbon group include a cyclohexane skeleton, a cycloheptane skeleton, a cyclooctane skeleton, a cubane skeleton, a norbornane skeleton, a tricyclo [5.2.1.0] decane skeleton, an adamantane skeleton, and di Preferred are divalent groups such as adamantane skeleton and bicyclo [2.2.2] octane skeleton.

芳香族モノマー及びジカルボン酸モノマーは、それぞれ1種単独のモノマーを用いても、2種以上のモノマーを用いてもよい。
反応性の観点から、芳香族モノマーの合計量中、一般式(1)、一般式(2)及び一般式(4)で表される芳香族化合物を30質量%以上含むことが望ましく、50質量%以上含むことが更に望ましい。また、反応性の観点から、ジカルボン酸モノマーの合計量中、一般式(5)で表されるジカルボン酸化合物を30質量%以上含むことが望ましく、50質量%以上含むことが更に望ましい。
The aromatic monomer and the dicarboxylic acid monomer may each be used alone or in combination of two or more.
From the viewpoint of reactivity, the total amount of aromatic monomers desirably contains 30% by mass or more of the aromatic compound represented by the general formula (1), the general formula (2) and the general formula (4), 50% by mass It is more desirable to include% or more. From the viewpoint of reactivity, the total amount of dicarboxylic acid monomers preferably contains 30% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more of the dicarboxylic acid compound represented by General Formula (5).

縮合反応は酸性媒体中で行う。用いる酸性媒体は特に限定されず、例えば、五酸化二リンとpKaが−3.0以上(水溶液)の有機スルホン酸(以下、「特定有機スルホン酸」ともいう)との混合物を用いることができる。   The condensation reaction is carried out in an acidic medium. The acidic medium to be used is not particularly limited, and, for example, a mixture of diphosphorus pentaoxide and an organic sulfonic acid having a pKa of -3.0 or more (aqueous solution) (hereinafter, also referred to as "specified organic sulfonic acid") can be used. .

五酸化二リンと特定有機スルホン酸との混合物を用いる方法では、特定有機スルホン酸として、例えば、炭素数1〜5のアルカンスルホン酸を用いることができ、得られるポリケトンの透明性の観点からは、メタンスルホン酸が好ましい。   In the method using a mixture of phosphorus pentoxide and a specific organic sulfonic acid, for example, an alkanesulfonic acid having 1 to 5 carbon atoms can be used as the specific organic sulfonic acid, and from the viewpoint of the transparency of the resulting polyketone, And methanesulfonic acid are preferred.

五酸化二リンと特定有機スルホン酸との配合比は、粘性及び縮合剤としての機能を考慮すると、質量比で、五酸化二リン:特定有機スルホン酸が1:3〜1:30であることが好ましく、1:10〜1:20であることがより好ましい。   The compounding ratio of diphosphorus pentoxide to the specific organic sulfonic acid is 1: 3 to 1:30 by mass ratio of diphosphorus pentoxide: specific organic sulfonic acid in consideration of the viscosity and the function as a condensing agent. Is preferable, and 1:10 to 1:20 is more preferable.

縮合反応における五酸化二リンと特定有機スルホン酸の使用量は、芳香族モノマーとジカルボン酸モノマーを溶解し得る量であれば特に限定されず、いわゆる触媒量から溶媒量までの範囲で用いることができる。反応性と扱いやすさの観点から、ジカルボン酸モノマー1質量部に対して、五酸化二リンと特定有機スルホン酸との混合物を5質量部〜100質量部の範囲で使用することが好ましい。   The use amount of diphosphorus pentoxide and the specific organic sulfonic acid in the condensation reaction is not particularly limited as long as it can dissolve the aromatic monomer and the dicarboxylic acid monomer, and it can be used in a range from a so-called catalytic amount to a solvent amount it can. From the viewpoint of reactivity and handleability, it is preferable to use a mixture of phosphorus pentoxide and a specific organic sulfonic acid in an amount of 5 parts by mass to 100 parts by mass with respect to 1 part by mass of the dicarboxylic acid monomer.

芳香族モノマーとジカルボン酸モノマーとの縮合反応を終えた後、芳香族ポリケトンを含有する液(例えば、縮合反応後の反応液、又は芳香族ポリケトンを溶解した溶液)と貧溶媒とを接触させて芳香族ポリケトンを析出させ、不純物を貧溶媒層に抽出し、析出した芳香族ポリケトンを濾過、デカンテーション、遠心分離等の方法で液体から分離する。さらにこの後、分離した芳香族ポリケトンを再度、良溶媒に溶解させ、再び貧溶媒と接触させて芳香族ポリケトンを析出させ、不純物を貧溶媒層に抽出し、析出した芳香族ポリケトンを濾過、デカンテーション、遠心分離等の方法で液体から分離してもよい。この操作を繰り返すことで、樹脂から不純物をより十分に取り除くことができる。   After completion of the condensation reaction of the aromatic monomer and the dicarboxylic acid monomer, a solution containing the aromatic polyketone (for example, a reaction solution after the condensation reaction or a solution in which the aromatic polyketone is dissolved) is brought into contact with the poor solvent The aromatic polyketone is precipitated, impurities are extracted into a poor solvent layer, and the precipitated aromatic polyketone is separated from the liquid by filtration, decantation, centrifugation or the like. After this, the separated aromatic polyketone is again dissolved in a good solvent and brought into contact with a poor solvent again to precipitate an aromatic polyketone, the impurities are extracted into a poor solvent layer, and the precipitated aromatic polyketone is filtered, decane It may be separated from the liquid by a method such as filtration or centrifugation. By repeating this operation, impurities can be more sufficiently removed from the resin.

芳香族ポリケトンを含有する液と貧溶媒を接触させて芳香族ポリケトンを析出させる工程では、芳香族ポリケトンを含有する液を、貧溶媒と良溶媒とを含む溶液に接触させることが好ましく、貧溶媒と良溶媒とを混合して用いることがより好ましい。貧溶媒と良溶媒とを混合して用いることにより、効果的に低分子量成分を除去し、分子量の高い特定芳香族ポリケトンを得ることができる。   In the step of contacting the liquid containing the aromatic polyketone with the poor solvent to precipitate the aromatic polyketone, it is preferable to bring the liquid containing the aromatic polyketone into contact with a solution containing the poor solvent and the good solvent. It is more preferable to mix and use a good solvent. By mixing and using a poor solvent and a good solvent, low molecular weight components can be effectively removed, and a specific aromatic polyketone having a high molecular weight can be obtained.

貧溶媒と良溶媒を混合して用いる場合の貧溶媒と良溶媒の配合比は特に限定されず、特定芳香族ポリケトンの構造、及び所望する分子量に応じて適宜設定することができる。収率の観点から、良溶媒に対する貧溶媒の配合比(貧溶媒/良溶媒)は、体積基準で、1/4を超えることが好ましい。さらに、特定芳香族ポリケトンの耐熱性及び特定芳香族ポリケトンを用いる部材の強度の観点から、良溶媒に対する貧溶媒の配合比(貧溶媒/良溶媒)は、体積基準で、1/4を超え1/1以下がより好ましく、1/4を超え2/3以下であることがさらに好ましい。   When the poor solvent and the good solvent are mixed and used, the blending ratio of the poor solvent and the good solvent is not particularly limited, and can be appropriately set according to the structure of the specific aromatic polyketone and the desired molecular weight. From the viewpoint of yield, the compounding ratio of the poor solvent to the good solvent (poor solvent / good solvent) is preferably more than 1/4 on a volume basis. Furthermore, from the viewpoint of the heat resistance of the specific aromatic polyketone and the strength of the member using the specific aromatic polyketone, the compounding ratio of the poor solvent to the good solvent (poor solvent / good solvent) exceeds 1/4 on a volume basis 1 / 1 or less is more preferable, and more than 1/4 and 2/3 or less is more preferable.

本発明において、良溶媒は特定芳香族ポリケトンを溶解するものであれば特に制限はなく、当該技術分野で使用される溶媒を使用できる。良溶媒の例としては、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、n−ブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、3−メチルメトキシプロピオネート、N−メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルアミド、テトラメチレンスルホン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、ジイソプロピルベンゼン、ヘキシルベンゼン、アニソール、ジグライム、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの良溶媒は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   In the present invention, the good solvent is not particularly limited as long as it dissolves the specific aromatic polyketone, and any solvent used in the art can be used. Examples of good solvents include γ-butyrolactone, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butyl acetate, benzyl acetate, n-butyl acetate, ethoxyethyl propionate, 3-methyl methoxy propionate, N-methyl-2 -Pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphorylamide, tetramethylene sulfone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone, propylene Glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, xylene, Ren, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, diisopropylbenzene, hexyl benzene, anisole, diglyme, dimethyl sulfoxide, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, chlorobenzene and tetrahydrofuran. These good solvents can be used singly or in combination of two or more.

本発明において、貧溶媒は特定芳香族ポリケトンを析出させるものであれば特に制限はなく、当該技術分野で使用される溶媒を使用できる。貧溶媒の例としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   In the present invention, the poor solvent is not particularly limited as long as it precipitates the specific aromatic polyketone, and any solvent used in the art can be used. Examples of poor solvents include water, methanol, ethanol, propanol, butanol, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, methyl amyl ketone, n-hexane, n-heptane and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

<特定芳香族ポリケトン>
特定芳香族ポリケトンは、上述の製造方法により得られる。具体的には、特定芳香族ポリケトンは、下記一般式(1’)、下記一般式(2’)及び下記一般式(4’)からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位と、下記一般式(5’)で表される少なくとも1種の構造単位とを有する。特定芳香族ポリケトンは、着色が抑えられつつ、高い分子量を有する。
<Specific aromatic polyketone>
The specific aromatic polyketone is obtained by the above-mentioned production method. Specifically, the specific aromatic polyketone is at least one structural unit selected from the group consisting of the following general formula (1 ′), the following general formula (2 ′) and the following general formula (4 ′), and And at least one structural unit represented by the general formula (5 '). The specific aromatic polyketone has high molecular weight while the coloration is suppressed.

一般式(1’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(1’)中のR及びRのそれぞれの詳細は、一般式(1)中のR及びRとそれぞれ同様である。 In general formula (1 ′), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent The C1-C30 hydrocarbon group which may have a group is shown. Of each of the detailed general formula (1 ') R 1 and R 2 in, which is the general formula (1) and R 1 and R 2 in the same respectively.

一般式(2’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは、酸素原子又は下記一般式(3’)で表される2価の基を示す。一般式(2’)中のRの詳細は、一般式(1)中のRと同様である。 In general formula (2 ′), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X is an oxygen atom or the following general formula (3) 'Shows a divalent group represented by'). The general formula (2 ') of R 1 in detail, is the same as R 1 in general formula (1).

一般式(3’)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(3’)中のR及びRのそれぞれの詳細は、一般式(3)中のR及びRとそれぞれ同様である。 In General Formula (3 ′), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent. Of each of the detailed general formula (3 ') in R 3 and R 4, are each similar to the general formula (3) R 3 and R 4 in.

一般式(4’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(4’)中のRの詳細は、一般式(4)中のRと同様である。 In the general formula (4 '), each R 5 is independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a. Details of the general formula (4 ') in R 5, is the same as R 5 in the general formula (4).

一般式(5’)中、Yは炭素数1〜30の2価の基を示す。一般式(5’)中のYの詳細は、一般式(5)中のYと同様である。   In general formula (5 '), Y shows a C1-C30 bivalent group. The details of Y in the general formula (5 ') are the same as Y in the general formula (5).

<特定芳香族ポリケトン膜>
芳香族ポリケトン膜(以下、「特定芳香族ポリケトン膜」ともいう)は、上述の芳香族ポリケトンを含有するものである。芳香族ポリケトン膜は、強度、透明性及び耐熱性に優れる。
<Specific aromatic polyketone membrane>
The aromatic polyketone film (hereinafter also referred to as "specific aromatic polyketone film") contains the above-mentioned aromatic polyketone. The aromatic polyketone film is excellent in strength, transparency and heat resistance.

特定芳香族ポリケトン膜の製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、特定芳香族ポリケトンを含む塗布液を用いて得ることができる。塗布液に含まれる溶媒、添加剤等の特定芳香族ポリケトン以外の成分及び塗布液の製膜方法は特に限定されない。特定芳香族ポリケトンを含む特定芳香族ポリケトン膜は、モル比(A/C)が1以上の製造方法で得られる芳香族ポリケトン膜よりも、強度及び透明性及び耐熱性に優れる。   The method for producing the specific aromatic polyketone film is not particularly limited. For example, it can be obtained using a coating solution containing a specific aromatic polyketone. There are no particular limitations on the components of the coating solution other than the specific aromatic polyketone such as the solvent and the additives contained in the coating solution and the film forming method of the coating solution. The specific aromatic polyketone film containing the specific aromatic polyketone is superior in strength, transparency and heat resistance to an aromatic polyketone film obtained by the production method having a molar ratio (A / C) of 1 or more.

塗布液に含有させることが可能な溶媒の例としては、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、n−ブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、3−メチルメトキシプロピオネート、N−メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルアミド、テトラメチレンスルホン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、ジイソプロピルベンゼン、ヘキシルベンゼン、アニソール、ジグライム、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the solvent which can be contained in the coating solution include γ-butyrolactone, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butyl acetate, benzyl acetate, n-butyl acetate, ethoxyethyl propionate, 3-methyl methoxy pro Peonate, N-methyl-2-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphorylamide, tetramethylene sulfone, diethyl ketone, diisobutyl ketone Methyl amyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomer Ether, xylene, mesitylene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, diisopropylbenzene, hexyl benzene, anisole, diglyme, dimethyl sulfoxide, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, chlorobenzene and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

塗布液は、芳香族ポリケトン及び溶媒以外に、更に添加剤等を含んでいてもよい。塗布液に含有させることが可能な添加剤の例としては、接着助剤、界面活性剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤等が挙げられる。   The coating solution may further contain additives and the like in addition to the aromatic polyketone and the solvent. Examples of additives that can be contained in the coating solution include adhesion assistants, surfactants, leveling agents, antioxidants, and ultraviolet light deterioration inhibitors.

特定芳香族ポリケトン膜の強度を高くし、特定芳香族ポリケトン膜を用いる基材、光学素子及び画像表示装置の信頼性を向上させる観点から、特定芳香族ポリケトン膜は、ナノインデンテーション法によって測定した際に、弾性率が5.0GPa〜15GPaであって、硬度が0.35GPa〜1.0GPaであることが好ましく、弾性率が6.0GPa〜15GPaであって、硬度が0.40GPa〜1.0GPaであることがより好ましい。   From the viewpoint of enhancing the strength of the specific aromatic polyketone film and improving the reliability of the substrate, optical element and image display device using the specific aromatic polyketone film, the specific aromatic polyketone film was measured by the nanoindentation method. In this case, the elastic modulus is preferably 5.0 GPa to 15 GPa and the hardness is preferably 0.35 GPa to 1.0 GPa, and the elastic modulus is 6.0 GPa to 15 GPa and the hardness is 0.40 GPa to 1.G. More preferably, it is 0 GPa.

ナノインデンテーション法は、市販のナノインデンターを用い、公知の方法を適用することができる。ナノインデンテーション法における測定では、特定芳香族ポリケトン膜を有する基材(以下、「特定芳香族ポリケトン膜付基材」ともいう)を用いる。
例えば、ナノインデンター(Agilent Technologies(株)、Nano Indenter SA2/DCM)を用いて、三角錐ダイヤモンドを端子として使用し、測定周波数60MHz、押込み深さ0nm〜500nm及び測定温度23℃の条件下で、特定芳香族ポリケトン膜付基材の特定芳香族ポリケトン膜の弾性率及び硬度を測定することができる。
A nanoindentation method can apply a well-known method using a commercially available nanoindenter. In the measurement in the nanoindentation method, a substrate having a specific aromatic polyketone film (hereinafter, also referred to as a “specific aromatic polyketone film-coated substrate”) is used.
For example, using a nano indenter (Agilent Technologies Inc., Nano Indenter SA2 / DCM), triangular pyramid diamond is used as a terminal, under conditions of measurement frequency 60 MHz, indentation depth 0 nm to 500 nm, and measurement temperature 23 ° C. The elastic modulus and hardness of the specific aromatic polyketone film of the specific aromatic polyketone film-coated substrate can be measured.

<特定芳香族ポリケトン膜付基材>
特定芳香族ポリケトン膜付基材は、基材と、この基材の表面の少なくとも一部に設けられる特定芳香族ポリケトン膜と、を有する。
特定芳香族ポリケトン膜付基材において、基材は特に限定されず、ガラス基材、半導体基材、金属酸化物絶縁体基材(例えば、酸化チタン基材及び酸化ケイ素基材)、窒化ケイ素基材、トリアセチルセルロース、透明ポリイミド、ポリカルボナート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂等の透明樹脂基材などを例示することができる。基材の形状は特に限定されず、板状又はフィルム状であってもよい。
<Base material with specified aromatic polyketone film>
The specific aromatic polyketone film-coated substrate has a substrate and a specific aromatic polyketone film provided on at least a part of the surface of the substrate.
In the specific aromatic polyketone film-coated substrate, the substrate is not particularly limited, and a glass substrate, a semiconductor substrate, a metal oxide insulator substrate (for example, a titanium oxide substrate and a silicon oxide substrate), a silicon nitride group And transparent resin base materials such as triacetyl cellulose, transparent polyimide, polycarbonate, acrylic resin, cycloolefin resin and the like. The shape of the substrate is not particularly limited, and may be plate-like or film-like.

特定芳香族ポリケトン膜付基材において、特定芳香族ポリケトン膜は、基材の少なくとも一方の面に設けられていればよく、基材の両面に設けられていてもよい。また、特定芳香族ポリケトン膜付基材において、特定芳香族ポリケトン膜は、一層の単層構造であっても、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。   In the substrate with a specific aromatic polyketone film, the specific aromatic polyketone film may be provided on at least one surface of the substrate, and may be provided on both sides of the substrate. In the specific aromatic polyketone film-attached base material, the specific aromatic polyketone film may have a single-layer structure of one layer or a multi-layer structure in which two or more layers are laminated.

<光学素子及び画像表示装置>
光学素子及び画像表示装置は、特定芳香族ポリケトン膜又は特定芳香族ポリケトン膜付基材を有する。光学素子及び画像表示装置は、例えば、特定芳香族ポリケトン膜付基材を構成する透明樹脂フィルム等の基材側を、粘着剤、接着剤等を介してLCD(液晶ディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネッセンスディスプレイ)等に用いられている部材に貼り合せることにより、得ることができる。
<Optical element and image display device>
The optical element and the image display apparatus have a specific aromatic polyketone film or a specific aromatic polyketone film-coated substrate. The optical element and the image display apparatus may be, for example, a liquid crystal display (LCD) or an ELD (electroluminescence) through a pressure-sensitive adhesive, an adhesive, or the like on the substrate side such as a transparent resin film constituting the substrate with the specific aromatic polyketone film. It can obtain by pasting to the member used for displays etc.).

特定芳香族ポリケトン膜又は特定芳香族ポリケトン膜付基材を用いる偏光板等の各種光学素子は、液晶表示装置等の各種画像表示装置に好ましく用いることができる。本実施形態の画像表示装置は、特定芳香族ポリケトン膜又は特定芳香族ポリケトン膜付基材を用いる以外は、従来の画像表示装置と同様の構成であってもよい。画像表示装置が液晶表示装置である場合は、液晶セル、偏光板等の光学素子、及び必要に応じ照明システム(バックライト等)等の各構成部品を常法により組み立てて、駆動回路を組み込むことなどにより製造できる。液晶セルとしては、特に制限されず、例えば、TN型、STN型、π型等の様々なタイプを使用できる。   Various optical elements such as a polarizing plate using a specific aromatic polyketone film or a specific aromatic polyketone film-attached substrate can be preferably used for various image display devices such as liquid crystal display devices. The image display device of the present embodiment may have the same configuration as that of the conventional image display device except that a specific aromatic polyketone film or a specific aromatic polyketone film-attached substrate is used. When the image display device is a liquid crystal display device, assemble a component such as a liquid crystal cell, an optical element such as a polarizing plate, and an illumination system (backlight or the like) if necessary, and incorporate a drive circuit. It can be manufactured by The liquid crystal cell is not particularly limited, and various types such as TN type, STN type, and π type can be used, for example.

画像表示装置は、任意の適切な用途に使用される。その用途は、例えば、デスクトップパソコン、ノートパソコン、コピー機等のOA機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末(PDA)、携帯ゲーム機等の携帯機器、ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器、監視用モニター等の警備機器、介護用モニター等の介護機器、医療用モニター等の医療機器などが挙げられる。   The image display is used for any suitable application. The applications are, for example, desktop computers, notebook computers, office automation equipment such as copiers, mobile phones, watches, digital cameras, portable information terminals (PDAs), portable devices such as portable game machines, video cameras, televisions, microwave ovens, etc. Home electric appliances, back monitors, monitors for car navigation systems, in-car devices such as car audio, display devices such as information monitors for commercial stores, security devices such as monitoring monitors, care devices such as nursing care monitors, Medical devices, such as a medical monitor, etc. are mentioned.

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、これら実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。   Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples unless it deviates from the gist thereof. In addition, unless there is particular notice, "part" and "%" are mass references.

(合成例1)
ポリケトンPK1−1〜PK1−4を、芳香族モノマーとジカルボン酸モノマーの仕込み量を表1に示すように変える以外は共通にして、以下の合成法で得た。
2,2’−ジメトキシビフェニル及び3−ヘキセン二酸が計8.0mmol入ったフラスコに、五酸化二リン及びメタンスルホン酸の混合液(質量比1:10)を12ml加え、60℃で撹拌し反応させた。反応後、内容物をメタノール200ml中に投じ、生成した析出物を濾取した。得られた固体を蒸留水とメタノールで洗浄した後、乾燥し、ポリケトンを得た。
このとき、得られたポリケトンが目視で着色している場合には、ポリケトンをN−メチル−2−ピロリドン(NMP)5gに溶解し、その溶液を蒸留水200ml中に投じ、生成した析出物を濾取し、洗浄し、そして乾燥する工程を、ポリケトンの着色が目視でなくなるまで繰り返した。
表1に、モノマー仕込み量の比、反応時間、洗浄回数、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
Synthesis Example 1
The polyketones PK1-1 to PK1-4 were obtained by the following synthesis method in common except changing the preparation amounts of the aromatic monomer and the dicarboxylic acid monomer as shown in Table 1.
To a flask containing a total of 8.0 mmol of 2,2'-dimethoxybiphenyl and 3-hexenoic acid, 12 ml of a mixed solution of phosphorus pentoxide and methanesulfonic acid (mass ratio 1:10) was added and stirred at 60 ° C. It was made to react. After the reaction, the contents were poured into 200 ml of methanol, and the formed precipitate was collected by filtration. The obtained solid was washed with distilled water and methanol and then dried to obtain a polyketone.
At this time, when the obtained polyketone is visually colored, the polyketone is dissolved in 5 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), the solution is poured into 200 ml of distilled water, and the formed precipitate is The steps of filtration, washing and drying were repeated until the polyketone color disappeared visually.
Table 1 shows the ratio of charged monomers, the reaction time, the number of washings, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(合成例2)
3−ヘキセン二酸の代わりにドデカン二酸を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK2−1〜PK2−4を得た。表1に、モノマー仕込み量の比、反応時間、洗浄回数、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Composition example 2)
Polyketones PK2-1 to PK2-4 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that dodecanedioic acid was used instead of 3-hexenedioic acid. Table 1 shows the ratio of charged monomers, the reaction time, the number of washings, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(合成例3)
3−ヘキセン二酸の代わりにシクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK3−1〜PK3−4を得た。表1に、モノマー仕込み量の比、反応時間、洗浄回数、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Composition example 3)
Polyketones PK3-1 to PK3-4 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid was used instead of 3-hexenedioic acid. Table 1 shows the ratio of charged monomers, the reaction time, the number of washings, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(合成例4)
3−ヘキセン二酸の代わりにアダマンタン−1,3−ジカルボン酸を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK4−1〜PK4−4を得た。表1に、モノマー仕込み量の比、反応時間、洗浄回数、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Composition example 4)
Polyketones PK4-1 to PK4-4 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that adamantane-1,3-dicarboxylic acid was used instead of 3-hexenedioic acid. Table 1 shows the ratio of charged monomers, the reaction time, the number of washings, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(分子量の測定)
上記ポリケトンの分子量は、溶離液として、硝酸テトラブチルアンモニウム(TBA・NO)が0.1%となるように溶解させたテトラヒドロフラン(THF)又は1−メチルー2ピロリドン(NMP)を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によって測定し、標準ポリスチレン換算にて求めた。詳細は次のとおりである。
(Measurement of molecular weight)
The molecular weight of the above polyketone is gelated using tetrahydrofuran (THF) or 1-methyl-2-pyrrolidone (NMP) dissolved so that tetrabutylammonium nitrate (TBA · NO 3 ) is 0.1% as an eluent. It measured by the permeation chromatography (GPC) method, and calculated | required by standard polystyrene conversion. The details are as follows.

・装置名:RI−8020(検出器)、DP−8020(ポンプ)、SD−8022(デガッサ)(東ソー株式会社)
・カラム:Gelpack GL−A150、GL−A160、GL−A170(製品名、日立化成株式会社)
・検出器:RI検出器
・流速:1ml/分
-Device name: RI-8020 (detector), DP-8020 (pump), SD-8022 (Degassa) (Tosoh Corporation)
Column: Gelpack GL-A150, GL-A160, GL-A170 (product name, Hitachi Chemical Co., Ltd.)
-Detector: RI detector-Flow rate: 1 ml / min


(合成例1’)
ポリケトンPK1−5〜PK1−8を、反応後の反応液を投入するメタノールとテトラヒドロフランの混合液中のメタノールとテトラヒドロフランの量を変える以外は共通に以下の合成法で得た。
2,2’−ジメトキシビフェニル3.5mmol及び3−ヘキセン二酸4.5mmolが入ったフラスコに、五酸化二リン及びメタンスルホン酸の混合液(質量比1:10)を12ml加え、60℃で撹拌した。反応後、内容物をメタノールとテトラヒドロフランの混合液200ml中に投じ、生成した析出物を濾取した。得られた固体を蒸留水とメタノールで洗浄した後、乾燥し、ポリケトンを得た。
このとき、得られたポリケトンが目視で着色している場合には、ポリケトンをNMP5gに溶解し、その溶液を蒸留水200ml中に投じ、生成した析出物を濾取し、洗浄し、そして乾燥する工程を、ポリケトンの着色が目視でなくなるまで繰り返した。
表2に、反応後の反応液を投入するメタノールとテトラヒドロフランの混合液中のメタノールとテトラヒドロフランの量、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Composition example 1 ')
The polyketones PK1-5 to PK1-8 were commonly obtained by the following synthesis method except that the amounts of methanol and tetrahydrofuran in the mixture of methanol and tetrahydrofuran to which the reaction solution after reaction was charged were changed.
In a flask containing 3.5 mmol of 2,2'-dimethoxybiphenyl and 4.5 mmol of 3-hexenedioate, 12 ml of a mixed solution of phosphorus pentoxide and methanesulfonic acid (mass ratio 1:10) is added, and the solution is heated to 60 ° C. It stirred. After the reaction, the contents were poured into 200 ml of a mixture of methanol and tetrahydrofuran, and the formed precipitate was collected by filtration. The obtained solid was washed with distilled water and methanol and then dried to obtain a polyketone.
At this time, if the obtained polyketone is visually colored, the polyketone is dissolved in 5 g of NMP, the solution is poured into 200 ml of distilled water, and the formed precipitate is collected by filtration, washed and dried. The process was repeated until the polyketone color disappeared visually.
Table 2 shows the amounts of methanol and tetrahydrofuran in a mixture of methanol and tetrahydrofuran into which the reaction liquid after reaction is charged, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(合成例2’)
3−ヘキセン二酸の代わりにドデカン二酸を用いた以外は合成例1’と同様にして、ポリケトンPK2−5〜PK2−8を得た。表2に、反応後の反応液を投入するメタノールとテトラヒドロフランの混合液中のメタノールとテトラヒドロフランの量、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Composition example 2 ')
Polyketones PK2-5 to PK2-8 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 'except that dodecanedioic acid was used instead of 3-hexenedioic acid. Table 2 shows the amounts of methanol and tetrahydrofuran in a mixture of methanol and tetrahydrofuran into which the reaction liquid after reaction is charged, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(合成例3’)
3−ヘキセン二酸の代わりにシクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK3−5〜PK3−8を得た。表2に、反応後の反応液を投入するメタノールとテトラヒドロフランの混合液中のメタノールとテトラヒドロフランの量、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Synthesis example 3 ')
Polyketones PK3-5 to PK3-8 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid was used instead of 3-hexene diacid. Table 2 shows the amounts of methanol and tetrahydrofuran in a mixture of methanol and tetrahydrofuran into which the reaction liquid after reaction is charged, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(合成例4’)
3−ヘキセン二酸の代わりにアダマンタン−1,3−ジカルボン酸を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK4−5〜PK4−8を得た。表2に、反応後の反応液を投入するメタノールとテトラヒドロフランの混合液中のメタノールとテトラヒドロフランの量、及び得られたポリケトンの分子量を示す。
(Composition example 4 ')
Polyketones PK4-5 to PK4-8 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that adamantane-1,3-dicarboxylic acid was used instead of 3-hexene diacid. Table 2 shows the amounts of methanol and tetrahydrofuran in a mixture of methanol and tetrahydrofuran into which the reaction liquid after reaction is charged, and the molecular weight of the obtained polyketone.

(比較合成例:ポリイミド前駆体PIの合成)
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル4.0gを、十分に脱水したN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)34gに溶解した。その後、この溶液に、4,4’−カルボニルビス(ベンゼン−1,2−ジカルボン酸)1,2:1’,2’−二無水物3.2gとベンゼン−1,2,4,5−テトラカルボン酸1,2:4,5−二無水物2.2gとの混合物を徐々に加えた。その後、得られた溶液を室温(25℃)で24時間撹拌し、ポリアミド酸(ポリイミド前駆体)PIのDMAc溶液を得た。
ポリイミド前駆体PIのGPC法の標準ポリスチレン換算により求めた重量平均分子量は50,000であった。
(Comparative Synthesis Example: Synthesis of Polyimide Precursor PI)
4.0 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether was dissolved in 34 g of fully dehydrated N, N-dimethylacetamide (DMAc). Then, to this solution, 3.2 g of 4,4'-carbonylbis (benzene-1,2-dicarboxylic acid) 1,2: 1 ', 2'-dianhydride and benzene-1,2,4,5- A mixture of 2.2 g of tetracarboxylic acid 1,2: 4,5-dianhydride was slowly added. Then, the obtained solution was stirred at room temperature (25 ° C.) for 24 hours to obtain a DMAc solution of polyamic acid (polyimide precursor) PI.
The weight average molecular weight calculated | required by standard polystyrene conversion of the GPC method of polyimide precursor PI was 50,000.

(熱分解温度の測定)
合成例で得たポリケトン又は比較合成例で得たポリイミド前駆体の粉末をアルミカップに量り取り、熱重量天秤((株)日立ハイテクサイエンス、TG−DTA6300)を用いて重量減少を測定した。加熱により重量が大きく減少する曲線の接線の交点を熱分解温度と定義する。それぞれのポリケトンの熱分解温度を表3に示す。
(Measurement of thermal decomposition temperature)
The powder of the polyketone obtained in the synthesis example or the powder of the polyimide precursor obtained in the comparative synthesis example was weighed in an aluminum cup, and the weight loss was measured using a thermogravimetric balance (Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., TG-DTA6300). The point of intersection of the tangents of the curve whose weight is greatly reduced by heating is defined as the thermal decomposition temperature. The thermal decomposition temperature of each polyketone is shown in Table 3.

(製膜)
合成例で得たポリケトンをNMPに溶解した溶液、又は比較合成例で得たポリイミド前駆体のN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)溶液を、ポリテトラフルオロエチレン製のメンブレンフィルター(孔径5μm)で濾過し、塗布液を得た。
得られた塗布液をシリコン基材又はガラス基材上にスピンコーター((株)ミカサ、MS−A)を用いて均一な厚さになるように塗布し、120℃のホットプレート上で3分間加熱した。これを、窒素置換した高温クリーンオーブン(光洋サーモシステム(株)、CLH−21CD(III))に入れ、25℃から200℃まで1時間で昇温し、更に200℃で1時間加熱して硬化させ、200℃から80℃まで1時間で降温し、実施例及び比較例に用いる試験基板を得た。得られた試験基板における芳香族ポリケトン膜又はポリイミド膜の厚さは1μm〜3μmであった。
(Film formation)
A solution of the polyketone obtained in the synthesis example in NMP or an N, N-dimethylacetamide (DMAc) solution of the polyimide precursor obtained in the comparative synthesis example is filtered with a membrane filter (pore diameter 5 μm) made of polytetrafluoroethylene The coating solution was obtained.
The resulting coating solution is coated on a silicon substrate or glass substrate using a spin coater (Mikasa Co., Ltd., MS-A) to a uniform thickness, and heated for 3 minutes on a hot plate at 120 ° C. Heated. This is put in a high-temperature clean oven (Koyo Thermo System Co., Ltd., CLH-21CD (III)) purged with nitrogen, heated from 25 ° C to 200 ° C in 1 hour, and further heated at 200 ° C for 1 hour to cure The temperature was lowered from 200.degree. C. to 80.degree. C. for 1 hour to obtain test substrates used in Examples and Comparative Examples. The thickness of the aromatic polyketone film or polyimide film in the obtained test substrate was 1 μm to 3 μm.

(弾性率及び硬度の測定)
実施例及び比較例の芳香族ポリケトン膜付シリコン基材及びポリイミド膜付きシリコン基材を用い、弾性率及び硬度をナノインデンターNano Indenter SA2/DCM(Agilent Technologies(株))を用いて測定した。端子として三角錐ダイヤモンドを使用し、測定周波数60MHz、押込み深さ0nm〜500nm、測定温度23℃の条件下で測定した。その結果を表3に示す。
(Measurement of elastic modulus and hardness)
The elastic modulus and hardness were measured using a nano indenter Nano Indenter SA2 / DCM (Agilent Technologies, Inc.) using the silicon substrate with aromatic polyketone film and the silicon substrate with polyimide film of Examples and Comparative Examples. A triangular pyramid diamond was used as a terminal, and measurement was performed under the conditions of measurement frequency 60 MHz, indentation depth 0 nm to 500 nm, and measurement temperature 23 ° C. The results are shown in Table 3.

(透過率の測定)
実施例及び比較例の芳香族ポリケトン膜付ガラス基材及びポリイミド膜付きガラス基材の400nmにおける紫外光の透過率を、紫外可視分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ、U−3310 Spectrophotometer)を用いた紫外可視吸収スペクトル法によって測定した。膜の付いていないガラス基材をリファレンスとして、膜厚1μmに換算した膜の透過率を表3に示す。
(Measurement of transmittance)
The transmittance of ultraviolet light at 400 nm of the glass substrate with an aromatic polyketone film and the glass substrate with a polyimide film of Examples and Comparative Examples was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (U-3310 Spectrophotometer, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). It was measured by the UV-visible absorption spectrum method used. The transmittance of the film converted to a film thickness of 1 μm is shown in Table 3 with the glass substrate without the film as a reference.

(加熱試験)
実施例又は比較例の芳香族ポリケトン膜付ガラス基材又はポリイミド膜付きガラス基材の400nmにおける紫外光の透過率を、紫外可視分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ、U−3310 Spectrophotometer)を用いた紫外可視吸収スペクトル法によって測定した。また、芳香族ポリケトン膜付ガラス基材又はポリイミド膜付きガラス基材を200℃のオーブンに72時間静置した後、同様の方法で、400nmにおける紫外光の透過率を測定した。膜の付いていないガラス基材をリファレンスとして、膜厚1μmに換算した膜の加熱後透過率を表3に示す。
(Heating test)
The transmittance of ultraviolet light at 400 nm of the glass substrate with an aromatic polyketone film or the glass substrate with a polyimide film of Example or Comparative Example was measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (U-3310 Spectrophotometer, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). It was measured by the UV-visible absorption spectrum method used. Further, after the aromatic polyketone film-coated glass substrate or the polyimide film-coated glass substrate was allowed to stand in an oven at 200 ° C. for 72 hours, the transmittance of ultraviolet light at 400 nm was measured by the same method. The post-heating transmittance of the film converted to a film thickness of 1 μm is shown in Table 3 using the glass substrate without the film as a reference.


表1に示すとおり、本発明の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンは、ジカルボン酸モノマーに対する芳香族モノマーのモル比(A/C)を1以上で仕込む比較例の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンに比べ、重量平均分子量及び数平均分子量が高い。   As shown in Table 1, the aromatic polyketone obtained by the production method of the present invention is an aroma obtained by the production method of the comparative example in which the molar ratio (A / C) of the aromatic monomer to the dicarboxylic acid monomer is 1 or more. The weight average molecular weight and the number average molecular weight are higher than those of group

また、縮合反応後の精製工程は任意であるが、表2に示すとおり、縮合反応の後に得られる芳香族ポリケトンを含有する液を、良溶媒と貧溶媒とを含む溶液に接触させることによって、重量平均分子量及び数平均分子量が更に高い芳香族ポリケトンを効率よく得ることができる。メタノールとテトラヒドロフランの体積比率(メタノール:テトラヒドロフラン)が40:160の場合には、ポリケトンPK1−8、PK2−8、PK3−8及びPK4−8の回収が困難であった。しかし、表2にはテトラヒドロフランの比率が多くなるほど分子量が高くなる傾向が示されていることから、PK1−8、PK2−8、PK3−8及びPK4−8の分子量は、比較例のPK1−4、PK2−4、PK3−4及びPK4−4の分子量に比べて高くなることが分かる。   Also, although the purification step after the condensation reaction is optional, as shown in Table 2, the solution containing the aromatic polyketone obtained after the condensation reaction is brought into contact with a solution containing a good solvent and a poor solvent, Aromatic polyketones having higher weight average molecular weight and number average molecular weight can be efficiently obtained. When the volume ratio of methanol to tetrahydrofuran (methanol: tetrahydrofuran) was 40: 160, recovery of the polyketones PK1-8, PK2-8, PK3-8 and PK4-8 was difficult. However, since it is shown in Table 2 that the molecular weight tends to increase as the ratio of tetrahydrofuran increases, the molecular weights of PK1-8, PK2-8, PK3-8 and PK4-8 are the same as PK1-4 of the comparative example. It can be seen that the molecular weight of PK2-4, PK3-4 and PK4-4 is higher than that of

表3の実施例1〜6と比較例1〜4を比べて分かるように、本発明の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンは、比較例の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンに比べ熱分解温度が高い。また、本発明の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンを含む芳香族ポリケトン膜は、比較例の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンを含むポリケトン膜よりも強度が高く、加熱による透過率の低下が少ない。
また、比較例5に示すとおり、耐熱性の高い熱硬化性樹脂であるポリイミドを含むポリイミド膜と比べて、本発明の製造方法によって得られた芳香族ポリケトンを含む芳香族ポリケトン膜は強度及び透明性に優れる。
As can be seen by comparing Examples 1 to 6 of Table 3 and Comparative Examples 1 to 4, the aromatic polyketone obtained by the production method of the present invention has a heat compared to the aromatic polyketone obtained by the production method of the Comparative Example. Decomposition temperature is high. Moreover, the aromatic polyketone film containing the aromatic polyketone obtained by the manufacturing method of the present invention is higher in strength than the polyketone film containing the aromatic polyketone obtained by the manufacturing method of the comparative example, and the transmittance decreases due to heating. Less is.
Further, as shown in Comparative Example 5, the aromatic polyketone film containing the aromatic polyketone obtained by the production method of the present invention is stronger and more transparent than the polyimide film containing the polyimide which is a thermosetting resin having high heat resistance. Excellent in quality.

Claims (4)

下記一般式(1)、下記一般式(2)及び下記一般式(4)からなる群より選択される少なくとも1種の芳香族モノマーと、下記一般式(5)で表される少なくとも1種のジカルボン酸モノマーとを、ジカルボン酸モノマーに対する芳香族モノマーのモル比(芳香族モノマー/ジカルボン酸モノマー)が0.5以上1未満の範囲で、酸性媒体中で縮合反応させる、芳香族ポリケトンの製造方法。


〔一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。〕


〔一般式(2)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは酸素原子又は下記一般式(3)で表される2価の基を示す。〕


〔一般式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。〕


〔一般式(4)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。〕


〔一般式(5)中、Yは炭素数1〜30の2価の炭化水素基を示す。〕
At least one aromatic monomer selected from the group consisting of the following general formula (1), the following general formula (2) and the following general formula (4), and at least one kind of one represented by the following general formula (5) A method for producing an aromatic polyketone, in which a dicarboxylic acid monomer is condensation-reacted in an acidic medium at a molar ratio of aromatic monomer to dicarboxylic acid monomer (aromatic monomer / dicarboxylic acid monomer) in the range of 0.5 or more and less than 1. .


[In general formula (1), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent] The C1-C30 hydrocarbon group which may have a group is shown. ]


[In general formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X represents an oxygen atom or the following general formula (3) And a divalent group represented by ]


[In the general formula (3), R 3 and R 4 each independently represents a hydrocarbon group having a hydrogen atom or a substituent 1 to 30 carbon atoms which may have a. ]


[In general formula (4), R < 5 > shows a hydrogen atom or a C1-C30 hydrocarbon group which may have a substituent each independently. ]


[In general formula (5), Y shows a C1-C30 bivalent hydrocarbon group. ]
前記一般式(5)において、Yが、2価の飽和炭化水素基である、請求項1に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。   The method for producing an aromatic polyketone according to claim 1, wherein Y in the general formula (5) is a divalent saturated hydrocarbon group. 前記一般式(5)において、Yが、飽和脂環式炭化水素基を含む炭素数6〜30の2価の炭化水素基である、請求項1又は請求項2に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。   The aromatic polyketone according to claim 1 or 2, wherein in the general formula (5), Y is a C6-C30 divalent hydrocarbon group containing a saturated alicyclic hydrocarbon group. Method. 前記縮合反応の後に得られる芳香族ポリケトンを含有する液を、芳香族ポリケトンの良溶媒と芳香族ポリケトンの貧溶媒とを含む溶液に接触させる、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 The liquid containing the aromatic polyketone obtained after the said condensation reaction is made to contact with the solution containing the good solvent of aromatic polyketone and the poor solvent of aromatic polyketone to any one of Claims 1-3. producing how aromatic polyketone according.
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