JP6759682B2 - Branched aromatic polyketone, method for producing branched aromatic polyketone, branched aromatic polyketone composition, branched aromatic polyketone film, optical element, image display device and substrate with branched aromatic polyketone film - Google Patents

Branched aromatic polyketone, method for producing branched aromatic polyketone, branched aromatic polyketone composition, branched aromatic polyketone film, optical element, image display device and substrate with branched aromatic polyketone film Download PDF

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本発明は、芳香族ポリケトン、芳香族ポリケトンの製造方法、芳香族ポリケトン組成物、芳香族ポリケトン膜、光学素子、画像表示装置及び芳香族ポリケトン膜付基材に関する。 The present invention relates to an aromatic polyketone, a method for producing an aromatic polyketone, an aromatic polyketone composition, an aromatic polyketone film, an optical element, an image display device, and a substrate with an aromatic polyketone film.

主鎖に芳香環とカルボニル基を有する芳香族ポリケトンは、優れた耐熱性と機械特性を有しており、エンジニアリングプラスチックとして利用されている。芳香族ポリケトンに属する高分子のほとんどは、求核芳香族置換反応を利用して重合された芳香族ポリエーテルケトンであり、主鎖にエーテル結合も有している。これに対し、主鎖にエーテル結合を有していない芳香族ポリケトンは、芳香族ポリエーテルケトンよりもさらに優れた耐熱性及び耐薬品性を発揮しうる(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。 Aromatic polyketones having an aromatic ring and a carbonyl group in the main chain have excellent heat resistance and mechanical properties, and are used as engineering plastics. Most of the polymers belonging to the aromatic polyketone are aromatic polyetherketones polymerized by utilizing the nucleophilic aromatic substitution reaction, and also have an ether bond in the main chain. On the other hand, an aromatic polyketone that does not have an ether bond in the main chain can exhibit even better heat resistance and chemical resistance than the aromatic polyetherketone (see, for example, Patent Documents 1 and 2). ).

近年、脂環式ジカルボン酸と2,2’−ジアルコキシビフェニル化合物とをFriedel−Craftsアシル化により直接重合することで、高い透明性と耐熱性を両立した芳香族ポリケトンを得ることができることが報告され(例えば、特許文献3参照)、光学部品への応用が期待されている。 In recent years, it has been reported that an aromatic polyketone having both high transparency and heat resistance can be obtained by directly polymerizing an alicyclic dicarboxylic acid and a 2,2'-dialkoxybiphenyl compound by Friedel-Crafts acylation. (See, for example, Patent Document 3), and is expected to be applied to optical components.

特開昭62−7730号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-7730 特開2005−272728号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-272728 特開2013−53194号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-53194

樹脂材料を適用した光学部品に対しては、無機材料では得られない特性を有することが期待される。例えば、無機材料に比べた軽量さ及び柔軟さが挙げられる。樹脂材料の適応先としては、例えば、軽量さを活かしたコート材、ガラス代替材等、及び柔軟さを活かしたフレキシブルディスプレイ等が挙げられる。 Optical components to which a resin material is applied are expected to have properties that cannot be obtained with an inorganic material. For example, it is lighter and more flexible than inorganic materials. Examples of the application destination of the resin material include a coating material utilizing light weight, a glass substitute material, and a flexible display utilizing flexibility.

さらに樹脂材料に対しては、適用部位において所望の厚さの層又は膜を成形可能であることが求められる。また、コート材として使用する際には、形成された層又は膜が高い表面硬度を有することも要求される。一方で、樹脂材料から成形した成形品をフレキシブルディスプレイ等に使用する際には、成形品が優れた柔軟性を持つことが要求されている。 Further, the resin material is required to be able to form a layer or film having a desired thickness at the application site. Further, when used as a coating material, the formed layer or film is also required to have a high surface hardness. On the other hand, when a molded product molded from a resin material is used for a flexible display or the like, the molded product is required to have excellent flexibility.

ここで、特許文献3に記載の芳香族ポリケトンは、膜を形成したときに膜の厚さを厚くすると、表面にクラックが発生する場合がある。また、この芳香族ポリケトンを用いた成形品は伸び率が低く、表面硬度及び柔軟性が低いという課題も有している。 Here, in the aromatic polyketone described in Patent Document 3, if the thickness of the film is increased when the film is formed, cracks may occur on the surface. Further, the molded product using this aromatic polyketone has a problem that the elongation rate is low and the surface hardness and flexibility are low.

本発明は、上記現状に鑑みなされたものであり、優れた耐熱性と透明性を有し、膜を形成したときに伸び率に優れ、厚さの厚い膜を成形しても表面のクラックの発生が抑えられる芳香族ポリケトン及び芳香族ポリケトンの製造方法、並びに前記芳香族ポリケトンを用いる芳香族ポリケトン組成物、芳香族ポリケトン膜、光学素子、画像表示装置及び芳香族ポリケトン膜付基材を提供する。 The present invention has been made in view of the above situation, has excellent heat resistance and transparency, has an excellent elongation rate when a film is formed, and has cracks on the surface even when a thick film is formed. Provided are a method for producing an aromatic polyketone and an aromatic polyketone whose generation is suppressed, and an aromatic polyketone composition using the aromatic polyketone, an aromatic polyketone film, an optical element, an image display device, and a base material with an aromatic polyketone film. ..

本発明は、以下の実施態様を含む。 The present invention includes the following embodiments.

<1> 下記一般式(1)、下記一般式(2)及び下記一般式(4)からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位と、下記一般式(5)で表される構造単位と、下記一般式(6)で表される構造単位と、を有する芳香族ポリケトン。 <1> At least one structural unit selected from the group consisting of the following general formula (1), the following general formula (2), and the following general formula (4), and the structural unit represented by the following general formula (5). And an aromatic polyketone having a structural unit represented by the following general formula (6).

一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (1), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent, and R 2 is an independent hydrogen atom or a substituent. Indicates a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have.

一般式(2)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは酸素原子又は下記一般式(3)で表される2価の基を示す。 In the general formula (2), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X is an oxygen atom or the following general formula (3). The divalent group represented is shown.

一般式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (3), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.

一般式(4)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (4), R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.

一般式(5)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を表す。 In the general formula (5), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent, and R 6 independently represents a hydrogen atom or a substituent. Represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have.

一般式(6)中、Yは飽和脂環式炭化水素骨格を有する二価の炭化水素基を表す。 In the general formula (6), Y represents a divalent hydrocarbon group having a saturated alicyclic hydrocarbon skeleton.

<2> 前記一般式(6)における前記飽和脂環式炭化水素骨格の炭素数が、3〜30である<1>に記載の芳香族ポリケトン。 <2> The aromatic polyketone according to <1>, wherein the saturated alicyclic hydrocarbon skeleton in the general formula (6) has 3 to 30 carbon atoms.

<3> 前記一般式(6)のYが、下記一般式(7)及び下記一般式(8)からなる群より選択される少なくとも1種で表される基である<1>又は<2>に記載の芳香族ポリケトン。 <3> Y of the general formula (6) is a group represented by at least one selected from the group consisting of the following general formula (7) and the following general formula (8) <1> or <2>. Aromatic polyketone described in.

一般式(7)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。 In the general formula (7), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom.

一般式(8)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Zはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の2価の飽和炭化水素基を示す。 In the general formula (8), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom. Z each independently represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent.

<4> 前記一般式(5)で表される構造単位の占める割合が、1mol%〜10mol%である<1>〜<3>のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトン。 <4> The aromatic polyketone according to any one of <1> to <3>, wherein the ratio of the structural unit represented by the general formula (5) is 1 mol% to 10 mol%.

<5> 下記一般式(1’)、下記一般式(2’)及び下記一般式(4’)からなる群より選択される少なくとも1種の芳香族モノマと、下記一般式(5’)で表される芳香族モノマと、下記一般式(6’)で表されるジカルボン酸とを、酸性媒体中において縮合反応させる芳香族ポリケトンの製造方法。 <5> With at least one aromatic monomer selected from the group consisting of the following general formula (1'), the following general formula (2'), and the following general formula (4'), and the following general formula (5'). A method for producing an aromatic polyketone in which an aromatic monomer represented by the above and a dicarboxylic acid represented by the following general formula (6') are condensed and reacted in an acidic medium.

一般式(1’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (1'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 2 is an independent hydrogen atom or a substituent. A hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a group is shown.

一般式(2’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは酸素原子又は下記一般式(3’)で表される2価の基を示す。 In the general formula (2'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X is an oxygen atom or the following general formula (3'). ) Indicates a divalent group.

一般式(3’)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (3'), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.

一般式(4’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。 In the general formula (4'), R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.

一般式(5’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を表す。 In the general formula (5'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 6 independently represents a hydrogen atom or a substituent. Represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a group.

一般式(6’)中、Yは飽和脂環式炭化水素骨格を有する二価の炭化水素基を表す。 In the general formula (6'), Y represents a divalent hydrocarbon group having a saturated alicyclic hydrocarbon skeleton.

<6> 前記一般式(6’)における前記飽和脂環式炭化水素骨格の炭素数が、3〜30である<5>に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 <6> The method for producing an aromatic polyketone according to <5>, wherein the saturated alicyclic hydrocarbon skeleton in the general formula (6') has 3 to 30 carbon atoms.

<7> 前記一般式(6’)のYが、下記一般式(7’)及び下記一般式(8’)からなる群より選択される少なくとも1種で表される基である<5>又は<6>に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 <7> Y of the general formula (6') is a group represented by at least one selected from the group consisting of the following general formula (7') and the following general formula (8') <5> or The method for producing an aromatic polyketone according to <6>.

一般式(7’)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。 In the general formula (7'), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom.

一般式(8’)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Zはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の2価の飽和炭化水素基を示す。 In the general formula (8'), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom. Z each independently represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent.

<8> <1>〜<4>のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトンと、溶媒と、含有する芳香族ポリケトン組成物。 <8> An aromatic polyketone composition containing the aromatic polyketone according to any one of <1> to <4>, a solvent, and the like.

<9> <1>〜<4>のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトンを含有する芳香族ポリケトン膜。 <9> An aromatic polyketone film containing the aromatic polyketone according to any one of <1> to <4>.

<10> <9>に記載の芳香族ポリケトン膜を有する光学素子。 <10> An optical element having the aromatic polyketone film according to <9>.

<11> <9>に記載の芳香族ポリケトン膜を有する画像表示装置。 <11> An image display device having the aromatic polyketone film according to <9>.

<12> <9>に記載の芳香族ポリケトン膜と、基材と、を有する芳香族ポリケトン膜付基材。 <12> A base material with an aromatic polyketone film comprising the aromatic polyketone film according to <9> and a base material.

本発明によれば、優れた耐熱性及び透明性を有し、膜を形成したときに伸び率に優れ、厚さの厚い膜を成形しても表面のクラックの発生が抑えられる芳香族ポリケトン及び芳香族ポリケトンの製造方法、並びに前記芳香族ポリケトンを用いる芳香族ポリケトン組成物、芳香族ポリケトン膜、光学素子、画像表示装置及び芳香族ポリケトン膜付基材を提供することができる。 According to the present invention, an aromatic polyketone having excellent heat resistance and transparency, excellent elongation when a film is formed, and suppressing the occurrence of surface cracks even when a thick film is formed. It is possible to provide a method for producing an aromatic polyketone, an aromatic polyketone composition using the aromatic polyketone, an aromatic polyketone film, an optical element, an image display device, and a base material with an aromatic polyketone film.

以下、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the components (including element steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to the numerical values and their ranges, and does not limit the present invention.

本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において組成物中の各成分の含有率は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率を意味する。
本明細書において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
本明細書において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
In the present specification, the numerical range indicated by using "~" indicates a range including the numerical values before and after "~" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present specification, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. Good. Further, in the numerical range described in the present specification, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
In the present specification, the content of each component in the composition is the total of the plurality of substances present in the composition unless otherwise specified, when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition. Means the content rate of.
In the present specification, the term "layer" or "membrane" refers to a part of the region in addition to the case where the layer or the membrane is formed in the entire region when the region where the layer or the membrane exists is observed. The case where only is formed is also included.
In the present specification, the term "process" includes not only a process independent of other processes but also the process if the purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from the other process. Is done.

本明細書において「透明性」とは、可視光の透過性(少なくとも波長400nmの可視光の透過性)が80%以上(膜厚1μm換算)であることを意味する。
本明細書において「耐熱性」とは、芳香族ポリケトンを含む部材において、加熱による透明性の低下が抑えられていることを意味する。
本明細書において「伸び率に優れる」とは、形成した膜の破断伸び率が2%以上であることを意味する。
As used herein, the term "transparency" means that the transparency of visible light (transparency of visible light having a wavelength of at least 400 nm) is 80% or more (converted to a film thickness of 1 μm).
As used herein, the term "heat resistance" means that the decrease in transparency due to heating is suppressed in a member containing an aromatic polyketone.
In the present specification, "excellent in elongation" means that the elongation at break of the formed film is 2% or more.

<芳香族ポリケトン>
芳香族ポリケトンは、下記一般式(1)、下記一般式(2)及び下記一般式(4)からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位と、下記一般式(5)で表される構造単位と、一般式(6)で表される構造単位と、を有する。尚、化学式中の波線を付した部分は、結合手を意味する。以降、化学式中の波線については同様である。
<Aromatic polyketone>
The aromatic polyketone is represented by at least one structural unit selected from the group consisting of the following general formula (1), the following general formula (2) and the following general formula (4), and the following general formula (5). It has a structural unit and a structural unit represented by the general formula (6). The wavy portion in the chemical formula means a bond. Hereinafter, the same applies to the wavy lines in the chemical formula.

一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、耐熱性の観点から、Rとしては、炭素数1〜10の炭化水素基が好ましく、反応制御の観点から、炭素数1〜5の炭化水素基がより好ましい。 In the general formula (1), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent, and from the viewpoint of heat resistance, R 1 is carbon. A hydrocarbon group having a number of 1 to 10 is preferable, and a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable from the viewpoint of reaction control.

で示される炭化水素基としては、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基等が挙げられる。また、これらの炭化水素基を組み合わせたものでもよい。 Examples of the hydrocarbon group represented by R 1 include a saturated aliphatic hydrocarbon group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, and an alicyclic hydrocarbon group. Further, a combination of these hydrocarbon groups may be used.

で示される飽和脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、neo−ペンチル基、t−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−イコサニル基、n−トリアコンタニル基等が挙げられる。 The saturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, neo-pentyl group, t-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-icosanyl group, n -Examples include a triacanthanyl group.

で示される不飽和脂肪族炭化水素基としては、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、エチニル基等のアルキニル基などが挙げられる。 Examples of the unsaturated aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 include an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group, and an alkynyl group such as an ethynyl group.

で示される脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基等のシクロアルキル基、シクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基などが挙げられる。 Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by R 1 include a cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and a norbornyl group, and a cycloalkenyl group such as a cyclohexenyl group. Group etc. can be mentioned.

で表される炭化水素基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。尚、炭化水素基が置換基を有する場合、炭化水素基の炭素数には、置換基の炭素数を含めないものとする。以降、同様である。 When the hydrocarbon group represented by R 1 has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms. When the hydrocarbon group has a substituent, the carbon number of the hydrocarbon group does not include the carbon number of the substituent. The same applies thereafter.

一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Rとしては、水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (1), R 2 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. From the viewpoint of heat resistance, R 2 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of such hydrocarbon groups include the same ones as exemplified for R 1 of the general formula (1). Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms.

一般式(2)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、一般式(2)中のRの詳細は、一般式(1)中のRと同様である。 In the general formula (2), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent, and details of R 1 in the general formula (2) are described. , The same as R 1 in the general formula (1).

一般式(2)中、Xは、酸素原子又は下記一般式(3)で表される2価の基を示す。 In the general formula (2), X represents an oxygen atom or a divalent group represented by the following general formula (3).

一般式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、R及びRとしては、それぞれ独立に、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (3), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. From the viewpoint of heat resistance, hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms are preferable as R 3 and R 4 , respectively. Examples of such hydrocarbon groups include the same ones as exemplified for R 1 of the general formula (1). Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms.

一般式(4)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Rとしては、それぞれ独立に、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (4), R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. From the viewpoint of heat resistance, the R 5, each independently, preferably a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of such hydrocarbon groups include the same ones as exemplified for R 1 of the general formula (1). Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms.

一般式(5)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。このRの詳細は、一般式(1)中のRと同様である。Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Rとしては、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、一般式(1)中のRで例示したものと同様のものが挙げられる。また置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 In the general formula (5), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. This of more R 1, is the same as R 1 in general formula (1). Each of R 6 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. From the viewpoint of heat resistance, the R 6, preferably a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of such hydrocarbon groups include the same ones as exemplified for R 1 of the general formula (1). Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms.

芳香族ポリケトン中、一般式(5)で表される構造単位の占める割合は、溶媒への溶解性と厚さの厚い膜を成形しても表面のクラックの発生を抑えることを両立させる観点から、1mol%〜10mol%であることが好ましく、1mol%〜7mol%であることがより好ましく、1mol%〜5mol%であることがさらに好ましい。 The proportion of the structural unit represented by the general formula (5) in the aromatic polyketone is from the viewpoint of achieving both solubility in a solvent and suppression of surface cracks even when a thick film is formed. It is preferably 1 mol% to 10 mol%, more preferably 1 mol% to 7 mol%, and further preferably 1 mol% to 5 mol%.

一般式(6)中、Yは、飽和脂環式炭化水素骨格を有する二価の炭化水素基を表す。Yにおける飽和脂環式炭化水素骨格は、炭素数が3〜30であることが好ましく、6〜30であることがより好ましい。飽和脂環式炭化水素骨格の炭素数が3〜30であると、表面硬度又は柔軟性に優れたポリケトン膜が得られる傾向にある。 In the general formula (6), Y represents a divalent hydrocarbon group having a saturated alicyclic hydrocarbon skeleton. The saturated alicyclic hydrocarbon skeleton in Y preferably has 3 to 30 carbon atoms, and more preferably 6 to 30 carbon atoms. When the saturated alicyclic hydrocarbon skeleton has 3 to 30 carbon atoms, a polyketone film having excellent surface hardness or flexibility tends to be obtained.

飽和脂環式炭化水素骨格としては、シクロプロパン骨格、シクロブタン骨格、シクロペンタン骨格、シクロヘキサン骨格、シクロヘプタン骨格、シクロオクタン骨格、キュバン骨格、ノルボルナン骨格、トリシクロ[5.2.1.0]デカン骨格、アダマンタン骨格、ジアダマンタン骨格、ビシクロ[2.2.2]オクタン骨格等が挙げられる。 Saturated alicyclic hydrocarbon skeletons include cyclopropane skeleton, cyclobutane skeleton, cyclopentane skeleton, cyclohexane skeleton, cycloheptane skeleton, cyclooctane skeleton, cubane skeleton, norbornane skeleton, and tricyclo [5.2.1.0] decane skeleton. , Adamantane skeleton, diadamantane skeleton, bicyclo [2.2.2] octane skeleton and the like.

一般式(6)におけるYは、下記一般式(7)及び下記一般式(8)からなる群より選択される少なくとも1種で表される基であることが好ましい。Yが一般式(7)で表される基であると、表面硬度に優れる膜が得られる傾向にある。また、Yが一般式(8)で表される基であると、柔軟性に優れる膜が得られる傾向にある。 Y in the general formula (6) is preferably a group represented by at least one selected from the group consisting of the following general formula (7) and the following general formula (8). When Y is a group represented by the general formula (7), a film having excellent surface hardness tends to be obtained. Further, when Y is a group represented by the general formula (8), a film having excellent flexibility tends to be obtained.

一般式(7)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。 In the general formula (7), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom.

一般式(8)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。また、Zはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の2価の飽和炭化水素基を示す。耐熱性の観点から、Zは炭素数1〜5の飽和炭化水素基であることが好ましい。 In the general formula (8), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom. Further, Z independently represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. From the viewpoint of heat resistance, Z is preferably a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.

Zで表される2価の飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、1−メチルトリメチレン基、2−メチルトリメチレン基、エチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレン基、1,2−ジメチルエチレン基、ペンチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−エチルトリメチレン基、2−エチルトリメチレン基、1,1−ジメチルトリメチレン基、2,2−ジメチルトリメチレン基、1,2−ジメチルトリメチレン基、プロピルエチレン基、エチルメチルエチレン基、ヘキシレン基、1−メチルペンチレン基、2−メチルペンチレン基、3−メチルペンチレン基、1−エチルテトラメチレン基、2−エチルテトラメチレン基、1−プロピルトリメチレン基、2−プロピルトリメチレン基、ブチルエチレン基、1,1−ジメチルテトラメチレン基、2,2−ジメチルテトラメチレン基、1,2−ジメチルテトラメチレン基、1,3−ジメチルテトラメチレン基、1,4−ジメチルテトラメチレン基、1,2,3−トリメチルトリメチレン基、1,1,2−トリメチルトリメチレン基、1,1,3−トリメチルトリメチレン基、1,2,2−トリメチルトリメチレン基、1−エチル−1−メチルトリメチレン基、2−エチル−2−メチルトリメチレン基、1−エチル−2−メチルトリメチレン基、2−エチル−1−メチルトリメチレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基等が挙げられる。 Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by Z include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a methylethylene group, a tetramethylene group, a 1-methyltrimethylene group, a 2-methyltrimethylene group and an ethylethylene group. 1,1-dimethylethylene group, 1,2-dimethylethylene group, pentylene group, 1-methyltetramethylene group, 2-methyltetramethylene group, 1-ethyltrimethylene group, 2-ethyltrimethylene group, 1,1 -Dimethyltrimethylene group, 2,2-dimethyltrimethylene group, 1,2-dimethyltrimethylene group, propylethylene group, ethylmethylethylene group, hexylene group, 1-methylpentylene group, 2-methylpentylene group, 3-Methylpentylene group, 1-ethyltetramethylene group, 2-ethyltetramethylene group, 1-propyltrimethylene group, 2-propyltrimethylene group, butylethylene group, 1,1-dimethyltetramethylene group, 2, 2-Dimethyltetramethylene group, 1,2-dimethyltetramethylene group, 1,3-dimethyltetramethylene group, 1,4-dimethyltetramethylene group, 1,2,3-trimethyltrimethylene group, 1,1,2 -Trimethyltrimethylene group, 1,1,3-trimethyltrimethylene group, 1,2,2-trimethyltrimethylene group, 1-ethyl-1-methyltrimethylene group, 2-ethyl-2-methyltrimethylene group, Examples thereof include 1-ethyl-2-methyltrimethylene group, 2-ethyl-1-methyltrimethylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group and decylene group.

Zで表される2価の飽和炭化水素基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数2〜5のアシル基等が挙げられる。 When the divalent saturated hydrocarbon group represented by Z has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 5 carbon atoms.

<芳香族ポリケトンの製造方法>
本実施形態の芳香族ポリケトンの製造方法は特に限定されない。例えば、下記一般式(1’)、下記一般式(2’)及び下記一般式(4’)からなる群より選択される少なくとも1種の芳香族モノマと、下記一般式(5’)で表される芳香族モノマと、下記一般式(6’)で表されるジカルボン酸とを酸性媒体中において縮合反応させて得ることができる。以下、芳香族モノマとジカルボン酸とを「原料」と称する場合がある。
<Manufacturing method of aromatic polyketone>
The method for producing the aromatic polyketone of the present embodiment is not particularly limited. For example, at least one aromatic monomer selected from the group consisting of the following general formula (1'), the following general formula (2') and the following general formula (4'), and the following general formula (5') are shown. It can be obtained by subjecting the aromatic monomer to a condensation reaction in an acidic medium with a dicarboxylic acid represented by the following general formula (6'). Hereinafter, the aromatic monomer and the dicarboxylic acid may be referred to as "raw materials".

一般式(1’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(1’)におけるR及びRのそれぞれの詳細は、一般式(1)におけるR及びRと同様である。 In the general formula (1'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 2 is an independent hydrogen atom or a substituent. A hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a group is shown. More general formula (1 ') in R 1 and R 2 each is the same as R 1 and R 2 in the general formula (1).

一般式(2’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(2’)におけるRの詳細は、一般式(2)におけるRと同様である。Xは、酸素原子又は下記一般式(3’)で表される2価の基を示す。 In the general formula (2'), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. The details of R 1 in the general formula (2') are the same as those in R 1 in the general formula (2). X represents an oxygen atom or a divalent group represented by the following general formula (3').

一般式(3’)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(3’)におけるR及びRのそれぞれの詳細は、一般式(3)におけるR及びRとそれぞれ同様である。
In the general formula (3'), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. Each of the details of the general formula (3 ') in R 3 and R 4, are the same respectively as R 3 and R 4 in the general formula (3).

一般式(4’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(4’)におけるRの詳細は、一般式(4)におけるRと同様である。 In the general formula (4'), R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. The details of R 5 in the general formula (4') are the same as those in R 5 in the general formula (4).

一般式(5’)中、Rはそれぞれ独立に、炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。一般式(5’)におけるR及びRのそれぞれの詳細は、一般式(5)におけるR及びRとそれぞれ同様である。 In the general formula (5'), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 6 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent. Shows 30 hydrocarbon groups. The general formula (5 ') Details of each of R 1 and R 6 in the same respectively as R 1 and R 6 in the general formula (5).

一般式(6’)中、Yは、飽和脂環式炭化水素骨格を有する二価の炭化水素基を表す。一般式(6’)におけるYの詳細は、一般式(6)におけるYと同様である。一般式(6’)におけるYは、下記一般式(7’)及び下記一般式(8’)からなる群より選択される少なくとも1種で表される基であることが好ましい。 In the general formula (6'), Y represents a divalent hydrocarbon group having a saturated alicyclic hydrocarbon skeleton. The details of Y in the general formula (6') are the same as those in Y in the general formula (6). Y in the general formula (6') is preferably a group represented by at least one selected from the group consisting of the following general formula (7') and the following general formula (8').

一般式(7’)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。 In the general formula (7'), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom.

一般式(8’)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Zはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の2価の飽和炭化水素基を示す。一般式(8’)におけるZの詳細は、一般式(8)におけるZと同様である。 In the general formula (8'), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom. Z each independently represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. The details of Z in the general formula (8') are the same as those in Z in the general formula (8).

縮合反応に用いる酸性媒体は特に限定されず、例えば、塩化アルミニウムの有機溶媒溶液、トリフルオロアルカンスルホン酸の有機溶媒溶液、ポリリン酸、及び五酸化二リンと有機スルホン酸との混合物を用いることができる。反応性と扱いやすさの観点から、酸性媒体には五酸化二リンと有機スルホン酸との混合物を用いることが好ましく、さらに、有機スルホン酸としてはメタンスルホン酸が好ましい。 The acidic medium used for the condensation reaction is not particularly limited, and for example, an organic solvent solution of aluminum chloride, an organic solvent solution of trifluoroalcan sulfonic acid, polyphosphoric acid, and a mixture of diphosphorus pentoxide and organic sulfonic acid may be used. it can. From the viewpoint of reactivity and ease of handling, it is preferable to use a mixture of diphosphorus pentoxide and organic sulfonic acid as the acidic medium, and methanesulfonic acid is preferable as the organic sulfonic acid.

五酸化二リンと有機スルホン酸との混合物中で、五酸化二リンが少なすぎると、反応性に劣る傾向にある。混合比は、混合比の制御及び反応性の観点から、質量比で五酸化二リン:有機スルホン酸=1:5〜1:20が好ましく、1:5〜1:10がより好ましい。 If the amount of diphosphorus pentoxide is too small in the mixture of diphosphorus pentoxide and organic sulfonic acid, the reactivity tends to be poor. The mixing ratio is preferably diphosphorus pentoxide: organic sulfonic acid = 1: 5 to 1:20, more preferably 1: 5 to 1:10, in terms of mass ratio, from the viewpoint of controlling the mixing ratio and reactivity.

原料に対する酸性媒体の配合量は、原料を溶解し得る量であれば特に限定されず、触媒量から溶媒量までの範囲で用いることができる。反応性と扱いやすさの観点から、ジカルボン酸1質量部に対して5質量部〜100質量部の範囲が好ましい。 The blending amount of the acidic medium with respect to the raw material is not particularly limited as long as it can dissolve the raw material, and can be used in the range from the catalyst amount to the solvent amount. From the viewpoint of reactivity and ease of handling, the range of 5 parts by mass to 100 parts by mass is preferable with respect to 1 part by mass of the dicarboxylic acid.

反応の温度は、反応生成物の着色及び副反応を防ぐ観点からは、10℃〜100℃であることが好ましく、反応速度を上げて生産性を向上する観点からは、20℃〜100℃であることがより好ましい。 The reaction temperature is preferably 10 ° C. to 100 ° C. from the viewpoint of preventing coloring of the reaction product and side reactions, and 20 ° C. to 100 ° C. from the viewpoint of increasing the reaction rate and improving productivity. More preferably.

反応の雰囲気は特に限定されず、開放系で行うこともできる。しかし、水分の存在により酸性媒体の反応性が低下するため、乾燥空気、窒素、アルゴン等を用いることが好ましい。想定外の副反応を防ぐため、窒素又はアルゴンを用いることがより好ましい。 The atmosphere of the reaction is not particularly limited, and the reaction can be carried out in an open system. However, since the reactivity of the acidic medium decreases due to the presence of water, it is preferable to use dry air, nitrogen, argon or the like. It is more preferable to use nitrogen or argon to prevent unexpected side reactions.

反応液を撹拌することで、反応を促進することができる。撹拌方法は特に限定されず、マグネチックスターラ、メカニカルスターラ等の攪拌機を用いることができる。 The reaction can be promoted by stirring the reaction solution. The stirring method is not particularly limited, and a stirrer such as a magnetic stirrer or a mechanical stirrer can be used.

反応時間は、反応温度、目標とする芳香族ポリケトンの分子量、反応に用いるモノマの種類等によって変動しうる。十分に分子量の高いポリケトンを得るために、反応時間は1時間〜120時間程度が好ましく、生産性の観点から、1時間〜72時間がより好ましい。 The reaction time can vary depending on the reaction temperature, the target molecular weight of the aromatic polyketone, the type of monomer used in the reaction, and the like. In order to obtain a polyketone having a sufficiently high molecular weight, the reaction time is preferably about 1 hour to 120 hours, more preferably 1 hour to 72 hours from the viewpoint of productivity.

反応の圧力は特に限定されず、常圧下、加圧下、又は減圧下のいずれで行ってもよい。コストの観点から、常圧下で反応を行うことが好ましい。 The pressure of the reaction is not particularly limited, and the reaction may be carried out under normal pressure, pressurized pressure, or reduced pressure. From the viewpoint of cost, it is preferable to carry out the reaction under normal pressure.

反応を終えた後、反応液と貧溶媒を接触させて樹脂を析出させ、不純物を貧溶媒層に抽出し、析出した樹脂を濾過、デカンテーション、遠心分離等の方法で液体から分離することができる。さらにこの後、分離した樹脂を再度良溶媒に溶解させ、再び貧溶媒と接触させて樹脂を析出させ、不純物を貧溶媒層に抽出し、析出した樹脂を濾過、デカンテーション、遠心分離等の方法で液体から分離する工程を繰り返してもよい。 After the reaction is completed, the reaction solution can be brought into contact with a poor solvent to precipitate a resin, impurities can be extracted into the poor solvent layer, and the precipitated resin can be separated from the liquid by a method such as filtration, decantation, or centrifugation. it can. After that, the separated resin is dissolved again in a good solvent, contacted with a poor solvent again to precipitate the resin, impurities are extracted into the poor solvent layer, and the precipitated resin is filtered, decanted, centrifuged, or the like. The step of separating from the liquid may be repeated.

<芳香族ポリケトン組成物>
芳香族ポリケトン組成物は、本実施形態の芳香族ポリケトンと、溶媒と、を含有する。芳香族ポリケトン組成物は、本実施形態の芳香族ポリケトンを溶媒に溶解させること等により得ることができる。芳香族ポリケトンを溶媒に溶解させる方法は特に限定されず、当該技術分野で既知の方法を用いることができる。また、必要に応じて、溶解後に、不溶成分を濾別してもよい。
<Aromatic polyketone composition>
The aromatic polyketone composition contains the aromatic polyketone of the present embodiment and a solvent. The aromatic polyketone composition can be obtained by dissolving the aromatic polyketone of the present embodiment in a solvent or the like. The method for dissolving the aromatic polyketone in the solvent is not particularly limited, and a method known in the art can be used. Further, if necessary, the insoluble component may be filtered off after dissolution.

溶媒としては、例えば、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エトキシエチルプロピオネート、3−メチルメトキシプロピオネート、N−メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルアミド、テトラメチレンスルホン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、ジイソプロピルベンゼン、ヘキシルベンゼン、アニソール、ジグライム、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、及びクロロベンゼンが挙げられる。これらの溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the solvent include γ-butyrolactone, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butyl acetate, benzyl acetate, ethoxyethyl propionate, 3-methylmethoxypropionate, N-methyl-2-pyrrolidone, and N-cyclohexyl. -2-Pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphorylamide, tetramethylenesulfone, diethylketone, diisobutylketone, methylamylketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol Examples thereof include monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, xylene, mesityrene, ethylbenzene, propylbenzene, cumene, diisopropylbenzene, hexylbenzene, anisole, diglime, dimethyl sulfoxide, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, and chlorobenzene. .. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

芳香族ポリケトン組成物は、芳香族ポリケトン及び溶媒以外に、さらに添加剤等を含有してもよい。添加剤としては、接着助剤、界面活性剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤等が挙げられる。 The aromatic polyketone composition may further contain additives and the like in addition to the aromatic polyketone and the solvent. Examples of the additive include an adhesive aid, a surfactant, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet deterioration inhibitor and the like.

<芳香族ポリケトン膜>
芳香族ポリケトン膜は、本実施形態の芳香族ポリケトンを含有する。芳香族ポリケトン膜は、例えば、上述の芳香族ポリケトン組成物を用いて得ることができる。本実施形態の芳香族ポリケトン膜は、従来の芳香族ポリケトン膜(例えば、脂環式ジカルボン酸と2,2’−ジアルコキシビフェニル化合物のみから重合される芳香族ポリケトンを含有する芳香族ポリケトン膜)よりも、厚くして作製することができる。本実施形態の芳香族ポリケトン膜は、厚さの厚い膜を成形しても表面のクラックの発生が抑えられる。
<Aromatic polyketone membrane>
The aromatic polyketone membrane contains the aromatic polyketone of the present embodiment. The aromatic polyketone film can be obtained, for example, by using the above-mentioned aromatic polyketone composition. The aromatic polyketone film of the present embodiment is a conventional aromatic polyketone film (for example, an aromatic polyketone film containing an aromatic polyketone polymerized only from an alicyclic dicarboxylic acid and a 2,2'-dialkoxybiphenyl compound). It can be made thicker than that. The aromatic polyketone film of the present embodiment suppresses the occurrence of surface cracks even when a thick film is formed.

芳香族ポリケトン膜は、例えば、以下の方法で作製することができる。まず、芳香族ポリケトン組成物を基材の少なくとも一部の表面に付与して組成物層を形成する。芳香族ポリケトン組成物を基材に付与する方法としては、組成物層を基材上の任意の場所に任意の形状で形成可能な手法であれば特に限定されない。例えば、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、回転塗布法等が好適に用いられる。 The aromatic polyketone film can be produced, for example, by the following method. First, the aromatic polyketone composition is applied to the surface of at least a part of the base material to form a composition layer. The method for imparting the aromatic polyketone composition to the base material is not particularly limited as long as the composition layer can be formed at any place on the base material in any shape. For example, a dipping method, a spray method, a screen printing method, a rotary coating method and the like are preferably used.

芳香族ポリケトン組成物を付与する基材は特に限定されず、ガラス、半導体、金属酸化物絶縁体(酸化チタン、酸化ケイ素等)、窒化ケイ素、トリアセチルセルロース、透明ポリイミド、ポリカルボナート、アクリル系ポリマー、シクロオレフィン樹脂等の透明樹脂などで構成される透明基材を例示することができる。基材の形状は特に限定されず、板状又はフィルム状であってもよい。膜にしたときに表面硬度に優れる本実施形態の芳香族ポリケトンは、基材のコート材として好適に用いることができる。 The base material to which the aromatic polyketone composition is applied is not particularly limited, and is glass, semiconductor, metal oxide insulator (titanium oxide, silicon oxide, etc.), silicon nitride, triacetyl cellulose, transparent polyimide, polycarbonate, acrylic type. A transparent base material composed of a transparent resin such as a polymer or a cycloolefin resin can be exemplified. The shape of the base material is not particularly limited, and may be plate-shaped or film-shaped. The aromatic polyketone of the present embodiment, which has excellent surface hardness when formed into a film, can be suitably used as a coating material for a base material.

芳香族ポリケトン組成物を基材に付与(塗布)して組成物層を形成した後、乾燥工程において組成物層を乾燥させ、芳香族ポリケトン膜を得る。乾燥方法としては特に限定されず、例えば、ホットプレート、オーブン等の装置を用いて加熱する方法が挙げられる。 After applying (coating) the aromatic polyketone composition to the substrate to form the composition layer, the composition layer is dried in the drying step to obtain an aromatic polyketone film. The drying method is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating using a device such as a hot plate or an oven.

必要に応じて、乾燥した芳香族ポリケトン膜をさらに熱処理してもよい。熱処理の方法は特に限定されず、箱型乾燥機、熱風式コンベアー型乾燥機、石英チューブ炉、ホットプレート、ラピッドサーマルアニール、縦型拡散炉、赤外線硬化炉、電子線硬化炉、マイクロ波硬化炉等の装置を用いて行なうことができる。また、熱処理工程における雰囲気条件としては、大気中又は窒素等の不活性雰囲気中のいずれであってもよい。 If necessary, the dried aromatic polyketone membrane may be further heat-treated. The heat treatment method is not particularly limited, and is a box type dryer, a hot air type conveyor type dryer, a quartz tube furnace, a hot plate, a rapid thermal annealing, a vertical diffusion furnace, an infrared curing furnace, an electron beam curing furnace, and a microwave curing furnace. It can be carried out using a device such as. The atmospheric conditions in the heat treatment step may be either in the atmosphere or in an inert atmosphere such as nitrogen.

芳香族ポリケトン膜は、必要に応じて、基材から剥がして用いることもできる。 The aromatic polyketone membrane can also be used by peeling it from the substrate, if necessary.

<芳香族ポリケトン膜付基材>
芳香族ポリケトン膜付基材は、本実施形態の芳香族ポリケトン膜と、基材と、を有する。基材としては特に限定されず、上述の芳香族ポリケトン膜を製造する際に用いた基材を剥がし取らずにそのまま利用してもよい。また、基材が透明基材であれば、後述の光学素子に好適に用いることができる。透明基材としては、芳香族ポリケトン膜の製造で例示したものが挙げられる。
<Base material with aromatic polyketone film>
The base material with an aromatic polyketone film has the aromatic polyketone film of the present embodiment and the base material. The base material is not particularly limited, and the base material used for producing the above-mentioned aromatic polyketone film may be used as it is without being peeled off. Further, if the base material is a transparent base material, it can be suitably used for the optical element described later. Examples of the transparent substrate include those exemplified in the production of an aromatic polyketone film.

芳香族ポリケトン膜付基材において、芳香族ポリケトン膜は、基材の表面の少なくとも一部に設けられていればよく、基材の一方の面のみに設けられても、両面に設けられてもよい。また、芳香族ポリケトン膜付基材において、芳香族ポリケトン膜は、一層でも、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。 In the base material with an aromatic polyketone film, the aromatic polyketone film may be provided on at least a part of the surface of the base material, and may be provided on only one surface of the base material or on both sides. Good. Further, in the base material with an aromatic polyketone film, the aromatic polyketone film may have one layer or a multi-layer structure in which two or more layers are laminated.

<光学素子及び画像表示装置>
光学素子及び画像表示装置は、それぞれ本実施形態の芳香族ポリケトン膜を有する。光学素子及び画像表示装置における芳香族ポリケトン膜は、上述の芳香族ポリケトン膜付基材であってもよい。
<Optical element and image display device>
The optical element and the image display device each have the aromatic polyketone film of the present embodiment. The aromatic polyketone film in the optical element and the image display device may be the above-mentioned base material with the aromatic polyketone film.

光学素子及び画像表示装置は、例えば、芳香族ポリケトン膜付基材における基材側を、粘着剤、接着剤等を介してLCD(液晶ディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネッセンスディスプレイ)等の適用箇所に貼り付けて得ることができる。 In the optical element and the image display device, for example, the base material side of the base material with an aromatic polyketone film is attached to an application place such as an LCD (liquid crystal display) or an ELD (electroluminescence display) via an adhesive or an adhesive. You can get it with it.

芳香族ポリケトン膜及びこれを用いた偏光板等の各種光学素子は、液晶表示装置等の各種画像表示装置に好ましく用いることができる。画像表示装置は、本実施形態の芳香族ポリケトン膜を用いる以外は、従来の画像表示装置と同様の構成であってよい。本実施形態の画像表示装置が液晶表示装置である場合は、液晶セル、偏光板等の光学素子、及び必要に応じ照明システム(バックライト等)等の各構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むことなどにより製造できる。液晶セルとしては、特に制限されず、例えば、TN型、STN型、π型等の様々なタイプを使用できる。 Various optical elements such as an aromatic polyketone film and a polarizing plate using the same can be preferably used in various image display devices such as a liquid crystal display device. The image display device may have the same configuration as the conventional image display device except that the aromatic polyketone film of the present embodiment is used. When the image display device of the present embodiment is a liquid crystal display device, each component such as a liquid crystal cell, an optical element such as a polarizing plate, and a lighting system (backlight or the like) is appropriately assembled to form a drive circuit. It can be manufactured by incorporating it. The liquid crystal cell is not particularly limited, and various types such as TN type, STN type, and π type can be used.

画像表示装置の用途としては、デスクトップパソコン、ノートパソコン、コピー機等のOA機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末(PDA)、携帯ゲーム機等の携帯機器、ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器、監視用モニター等の警備機器、介護用モニター、医療用モニター等の介護・医療機器などが挙げられる。 Applications of image display devices include OA devices such as desktop PCs, laptop computers, and copy machines, mobile devices such as mobile phones, clocks, digital cameras, mobile information terminals (PDAs), and portable game machines, video cameras, televisions, and electronic devices. Household electrical equipment such as range, back monitor, car navigation system monitor, in-vehicle equipment such as car audio, exhibition equipment such as information monitor for commercial stores, security equipment such as monitoring monitor, nursing monitor, medical use Examples include nursing care / medical equipment such as monitors.

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、これら実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples as long as it does not deviate from the gist thereof.

(1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼンの合成)
フラスコに、1,3,5−トリブロモベンゼン5.0mmolと、2−メトキシフェニルボロン酸45.0mmolと、炭酸ナトリウム30.0mmolと、ジメチルホルムアミド100mlと、純水100mlとを入れ、そこに酢酸パラジウムが1.5mol%となるように加え、窒素風船をつけて60℃で12時間撹拌した。この反応液を室温(25℃程度)に戻し、純水500mlを加え、酢酸エチル500mlで3回抽出した。その後、有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで脱水した。次いで、減圧濃縮して残留物を得た。この残留物をシリカゲルカラムで精製し、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼンを得た(収率43質量%)。
(Synthesis of 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene)
In a flask, 5.0 mmol of 1,3,5-tribromobenzene, 45.0 mmol of 2-methoxyphenylboronic acid, 30.0 mmol of sodium carbonate, 100 ml of dimethylformamide, and 100 ml of pure water are placed, and acetic acid is placed therein. Palladium was added so as to be 1.5 mol%, and a nitrogen balloon was attached and the mixture was stirred at 60 ° C. for 12 hours. The reaction solution was returned to room temperature (about 25 ° C.), 500 ml of pure water was added, and the mixture was extracted 3 times with 500 ml of ethyl acetate. Then, the organic layer was washed with water and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. Then, it was concentrated under reduced pressure to obtain a residue. The residue was purified on a silica gel column to give 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene (yield 43% by mass).

[合成例1] ポリケトンPK1の合成
フラスコに、2,2’−ジメトキシビフェニル4.9mmolと、1,3−アダマンタンジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン0.1mmolとを入れ、そこに五酸化二リンとメタンスルホン酸の混合液物(質量比(五酸化二リン:メタンスルホン酸)=1:10)を15ml加え、窒素風船をつけて60℃で10時間撹拌した。反応後、反応液をメタノール500ml中に投じ、生成した析出物を濾取した。得られた固体を蒸留水とメタノールで洗浄した後、乾燥し、ポリケトンPK1を得た。得られたポリケトンPK1の重量平均分子量は21,000、数平均分子量は2,800であった。
このとき、得られたポリケトンPK1が目視で着色している場合には、ポリケトンPK1をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)5gに溶解し、その溶液を蒸留水200ml中に投じ、生成した析出物を濾取し、洗浄し、そして乾燥する工程を、ポリケトンPK1の着色が目視でなくなるまで繰り返した。
[Synthesis Example 1] Synthesis of polyketone PK1 In a flask, 4.9 mmol of 2,2'-dimethoxybiphenyl, 5.0 mmol of 1,3-adamantandicarboxylic acid, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene Add 0.1 mmol, add 15 ml of a mixture of diphosphorus pentoxide and methanesulfonic acid (mass ratio (diphosphorus pentoxide: methanesulfonic acid) = 1:10), attach a nitrogen balloon to 60 ° C. Was stirred for 10 hours. After the reaction, the reaction solution was poured into 500 ml of methanol, and the formed precipitate was collected by filtration. The obtained solid was washed with distilled water and methanol and then dried to obtain a polyketone PK1. The obtained polyketone PK1 had a weight average molecular weight of 21,000 and a number average molecular weight of 2,800.
At this time, when the obtained polyketone PK1 is visually colored, the polyketone PK1 is dissolved in 5 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and the solution is poured into 200 ml of distilled water to produce a precipitate. The steps of filtering, washing and drying the material were repeated until the polyketone PK1 was no longer visible.

ポリケトンの分子量(重量平均分子量及び数平均分子量)は、溶離液としてテトラヒドロフラン(THF)を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法によって測定し、標準ポリスチレン換算にて求めた。詳細は次のとおりである。 The molecular weight (weight average molecular weight and number average molecular weight) of the polyketone was measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as an eluent and determined in terms of standard polystyrene. The details are as follows.

・装置名:Ecosec HLC−8320GPC(東ソー株式会社)
・カラム:TSKgel Supermultipore HZ−M(東ソー株式会社)
・検出器:UV検出器、RI検出器併用・流速:0.4ml/min
-Device name: Ecosec HLC-8320GPC (Tosoh Corporation)
-Column: TSKgel Supermultipore HZ-M (Tosoh Corporation)
・ Detector: UV detector and RI detector combined ・ Flow velocity: 0.4 ml / min

[合成例2]ポリケトンPK2の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル4.5mmolと、1,3−アダマンタンジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン0.5mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK2を得た。得られたポリケトンPK2の重量平均分子量は30,000、数平均分子量は3,400であった。
[Synthesis Example 2] Synthesis of polyketone PK2 The raw materials used were 4.5 mmol of 2,2'-dimethoxybiphenyl, 5.0 mmol of 1,3-adamantandicarboxylic acid, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene. Polyketone PK2 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 0.5 mmol. The obtained polyketone PK2 had a weight average molecular weight of 30,000 and a number average molecular weight of 3,400.

[合成例3]ポリケトンPK3の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル4.0mmolと、1,3−アダマンタンジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン1.0mmolとに変えた以外を用いる以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK3を得た。得られたポリケトンPK3の重量平均分子量は45,000、数平均分子量は4,900であった。
[Synthesis Example 3] Synthesis of polyketone PK3 The raw materials used were 2,2'-dimethoxybiphenyl 4.0 mmol, 1,3-adamantane dicarboxylic acid 5.0 mmol, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene. Polyketone PK3 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 1.0 mmol. The obtained polyketone PK3 had a weight average molecular weight of 45,000 and a number average molecular weight of 4,900.

[合成例4]ポリケトンPK4の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル4.5mmolと、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン0.5mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK4を得た。得られたポリケトンPK4の重量平均分子量は15,000、数平均分子量は3,000であった。
[Synthesis Example 4] Synthesis of polyketone PK4 The raw materials used were 4.5 mmol of 2,2'-dimethoxybiphenyl, 5.0 mmol of cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl). Polyketone PK4 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the benzene was changed to 0.5 mmol. The obtained polyketone PK4 had a weight average molecular weight of 15,000 and a number average molecular weight of 3,000.

[合成例5]ポリケトンPK5の合成
原料を、2,2’−ジメトキシジフェニルメタン4.5mmolと、1,3−アダマンタンジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン0.5mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK5を得た。得られたポリケトンPK5の重量平均分子量は20,000、数平均分子量は3,000であった。
[Synthesis Example 5] Synthesis of polyketone PK5 The raw materials used were 4.5 mmol of 2,2'-dimethoxydiphenylmethane, 5.0 mmol of 1,3-adamantane dicarboxylic acid, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene. Polyketone PK5 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 0.5 mmol. The obtained polyketone PK5 had a weight average molecular weight of 20,000 and a number average molecular weight of 3,000.

[合成例6]ポリケトンPK6の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル4.9mmolと、1,3−アダマンタン二酢酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン0.1mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK6得た。得られたポリケトンPK6の重量平均分子量は100,000、数平均分子量は26,000であった。
[Synthesis Example 6] Synthesis of polyketone PK6 The raw materials used were 2,2'-dimethoxybiphenyl 4.9 mmol, 1,3-adamantane diacetic acid 5.0 mmol, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene. Polyketone PK6 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 0.1 mmol. The obtained polyketone PK6 had a weight average molecular weight of 100,000 and a number average molecular weight of 26,000.

[合成例7]ポリケトンPK7の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル4.5mmolと、1,3−アダマンタン二酢酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン0.5mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK7を得た。得られたポリケトンPK7の重量平均分子量は120,000、数平均分子量は32,000であった。
[Synthesis Example 7] Synthesis of polyketone PK7 The raw materials used were 4.5 mmol of 2,2'-dimethoxybiphenyl, 5.0 mmol of 1,3-adamantane diacetic acid, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene. Polyketone PK7 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 0.5 mmol. The obtained polyketone PK7 had a weight average molecular weight of 120,000 and a number average molecular weight of 32,000.

[合成例8]ポリケトンPK8の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル4.0mmolと、1,3−アダマンタン二酢酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン1.0mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK8を得た。得られたポリケトンPK8の重量平均分子量は140,000、数平均分子量は35,000であった。
[Synthesis Example 8] Synthesis of polyketone PK8 Raw materials used were 2,2'-dimethoxybiphenyl 4.0 mmol, 1,3-adamantane diacetic acid 5.0 mmol, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl) benzene. Polyketone PK8 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 1.0 mmol. The weight average molecular weight of the obtained polyketone PK8 was 140,000, and the number average molecular weight was 35,000.

[比較合成例1]ポリケトンPK9の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル5.0mmolと、1,3−アダマンタンジカルボン酸5.0mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK9を得た。得られたPK9の重量平均分子量は21,000、数平均分子量は2,800であった。
[Comparative Synthesis Example 1] Synthesis of polyketone PK9 Polyketone in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the raw materials were changed to 2,2'-dimethoxybiphenyl 5.0 mmol and 1,3-adamantane dicarboxylic acid 5.0 mmol. Obtained PK9. The weight average molecular weight of the obtained PK9 was 21,000, and the number average molecular weight was 2,800.

[比較合成例2]ポリケトンPK10の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル5.0mmolと、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸5.0mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK10を得た。得られたPK10の重量平均分子量は11,000、数平均分子量は2,800であった。
[Comparative Synthesis Example 2] Synthesis of polyketone PK10 The same as in Synthesis Example 1 except that the raw materials were changed to 2,2'-dimethoxybiphenyl 5.0 mmol and cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid 5.0 mmol. Polyketone PK10 was obtained. The weight average molecular weight of the obtained PK10 was 11,000, and the number average molecular weight was 2,800.

[比較合成例3]ポリケトンPK11の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル5.0mmolと、1,3−アダマンタン二酢酸5.0mmolとに変えた以外は合成例1と同様にして、ポリケトンPK11を得た。得られたPK11の重量平均分子量は80,000、数平均分子量は20,000であった。
[Comparative Synthesis Example 3] Synthesis of polyketone PK11 Polyketone in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the raw materials were changed to 2,2'-dimethoxybiphenyl 5.0 mmol and 1,3-adamantane diacetic acid 5.0 mmol. Obtained PK11. The weight average molecular weight of the obtained PK11 was 80,000, and the number average molecular weight was 20,000.

[参考合成例4]ポリケトンPK12の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル3.8mmolと、1,3−アダマンタンジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン1.2mmolとに変えた以外は合成例1と同様にしてポリケトンPK12を得た。しかし、得られたポリケトンPK12はTHFに不溶であったため、分子量を測定することができなかった。
[Reference Synthesis Example 4] Synthesis of polyketone PK12 Raw materials were 2,2'-dimethoxybiphenyl 3.8 mmol, 1,3-adamantane dicarboxylic acid 5.0 mmol, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl). Polyketone PK12 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the benzene was changed to 1.2 mmol. However, since the obtained polyketone PK12 was insoluble in THF, its molecular weight could not be measured.

[参考合成例5]ポリケトンPK13の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル3.8mmolと、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン1.2mmolとに変えた以外は合成例1と同様にしてポリケトンPK13を得た。しかし、得られたポリケトンPK13はTHFに不溶であったため、分子量を測定することができなかった。
[Reference Synthesis Example 5] Synthesis of polyketone PK13 Raw materials were 2,2'-dimethoxybiphenyl 3.8 mmol, cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid 5.0 mmol, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl). ) Polyketone PK13 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the benzene was changed to 1.2 mmol. However, since the obtained polyketone PK13 was insoluble in THF, its molecular weight could not be measured.

[参考合成例6]ポリケトンPK14の合成
原料を、2,2’−ジメトキシビフェニル3.8mmolと、1,3−アダマンタン二酢酸5.0mmolと、1,3,5−トリス(2−メトキシフェニル)ベンゼン1.2mmolとに変えた以外は合成例1と同様にしてポリケトンPK14を得た。しかし、得られたポリケトンPK14はTHFに不溶であったため、分子量を測定することができなかった。
[Reference Synthesis Example 6] Synthesis of polyketone PK14 Raw materials used were 2,2'-dimethoxybiphenyl 3.8 mmol, 1,3-adamantane diacetic acid 5.0 mmol, and 1,3,5-tris (2-methoxyphenyl). Polyketone PK14 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the benzene was changed to 1.2 mmol. However, since the obtained polyketone PK14 was insoluble in THF, its molecular weight could not be measured.

[調製例1]PK1組成物
合成例1で得たポリケトンPK1を、1−メチル−2−ピロリドン(NMP)に濃度が20質量%となるように加え、50℃に加熱し溶解させ、ポリテトラフルオロエチレン製のメンブレンフィルター(孔径5μm)で濾過して、PK1組成物を得た。
[Preparation Example 1] PK1 composition
The polyketone PK1 obtained in Synthesis Example 1 is added to 1-methyl-2-pyrrolidone (NMP) so as to have a concentration of 20% by mass, heated to 50 ° C. to dissolve it, and a membrane filter made of polytetrafluoroethylene (pore size). The mixture was filtered through 5 μm) to obtain a PK1 composition.

[調製例2〜8]PK2〜8組成物
合成例2〜8で得たポリケトンPK2〜8を用いた以外は調製例1と同様にして、PK2〜8組成物を調製した。
[Preparation Examples 2-8] PK2-8 Composition A PK2-8 composition was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the polyketone PK2-8 obtained in Synthesis Examples 2-8 was used.

[比較調製例1〜3]PK9〜11組成物
比較合成例1〜3で得たポリケトンPK9〜11を用いた以外は調製例と同様にして、PK9〜11組成物を調製した。
[Comparative Preparation Examples 1 to 3] PK9 to 11 Compositions PK9 to 11 compositions were prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the polyketones PK9 to 11 obtained in Comparative Synthesis Examples 1 to 3 were used.

[参考調製例4〜6]PK12〜14組成物
参考合成例4〜6で得たポリケトンPK12〜14を1−メチル−2−ピロリドン(NMP)に加え、50℃に加熱したが、溶解せず組成物を調整することができなかった。
[Reference Preparation Examples 4 to 6] PK12 to 14 Composition The polyketones PK12 to 14 obtained in Reference Synthesis Examples 4 to 6 were added to 1-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and heated to 50 ° C., but did not dissolve. The composition could not be adjusted.

[実施例1]PK1膜付基材
調製例1で得られたPK1組成物を、バーコート法によりガラス基材上及びポリイミド基材上に塗布した。そして、120℃に加熱したホットプレート上で3分間乾燥した後、窒素置換した高温クリーンオーブン(光洋サーモシステム(株)、CLH−21CD(III))に入れ、25℃から200℃まで1時間で昇温し、さらに200℃で1時間加熱して硬化させ、200℃から80℃まで1時間で降温して、2種のPK1膜付基材を得た。
なお、厚さの厚い膜を作製する際には、ホットプレート上で3分間乾燥した後、バーコート法によりPK1組成物を塗布し乾燥する工程を繰り返した後、硬化させた。得られたPK1膜付基材について、後述の評価試験を行った。
[Example 1] Base material with PK1 film The PK1 composition obtained in Preparation Example 1 was applied onto a glass base material and a polyimide base material by a bar coating method. Then, after drying for 3 minutes on a hot plate heated to 120 ° C., the mixture is placed in a nitrogen-substituted high-temperature clean oven (Koyo Thermo System Co., Ltd., CLH-21CD (III)) from 25 ° C. to 200 ° C. in 1 hour. The temperature was raised, further heated at 200 ° C. for 1 hour to cure, and then lowered from 200 ° C. to 80 ° C. in 1 hour to obtain two types of PK1 film-coated substrates.
When producing a thick film, the film was dried on a hot plate for 3 minutes, and then the PK1 composition was applied and dried by a bar coating method, and then cured. The obtained base material with a PK1 film was subjected to an evaluation test described later.

[実施例2〜]PK2〜8膜付基材
PK1組成物に代えて、調製例2〜8で得られたPK2〜8組成物を用いた以外は実施例1と同様にして、PK2〜8膜付基材を得て、後述の評価試験を行った。
[Examples 2 to 8 ] PK2 to 8 film-coated base material PK2 to the same as in Example 1 except that the PK2 to 8 compositions obtained in Preparation Examples 2 to 8 were used instead of the PK1 composition. A substrate with 8 films was obtained and the evaluation test described later was performed.

[比較例1〜3]PK9〜11膜付基材
PK1組成物に代えて、比較調製例1〜3で得られたPK9〜11組成物を用いた以外は実施例1と同様にして、PK9〜11膜付基材を得て、評価試験を行った。
[Comparative Examples 1 to 3] PK9 to 11 film-coated substrate PK9 in the same manner as in Example 1 except that the PK9 to 11 compositions obtained in Comparative Preparation Examples 1 to 3 were used instead of the PK1 composition. A substrate with a film of ~ 11 was obtained and an evaluation test was conducted.

(透明性の評価)
実施例1〜8又は比較例1〜3で得たPK1〜11膜付基材のうち基材としてガラスを用いたものについて、400nmにおける紫外光の透過率を、紫外可視分光光度計(「U−3310 Spectrophotometer」日立ハイテク株式会社)を用いた紫外可視吸収スペクトル法によって測定した。膜の付いていないガラス基材をリファレンスとして、膜厚1μmに換算した透過率を表1に示す。
(Evaluation of transparency)
Among the base materials with PK1 to 11 films obtained in Examples 1 to 8 or Comparative Examples 1 to 3, those using glass as the base material were measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer (“U”) for the transmittance of ultraviolet light at 400 nm. It was measured by the ultraviolet-visible absorption spectrum method using -3310 Spectrophotometer (Hitachi High-Tech Co., Ltd.). Table 1 shows the transmittance converted to a film thickness of 1 μm using a glass substrate without a film as a reference.

(耐熱性の評価)
実施例1〜8又は比較例1〜3で得たPK1〜11膜付基材のうち基材としてガラスを用いたものについて、200℃のオーブンに24時間静置し、400nmにおける紫外光の透過率を、紫外可視分光光度計(「U−3310 Spectrophotometer」日立ハイテク株式会社)を用いた紫外可視吸収スペクトル法によって測定した。膜の付いていないガラス基材をリファレンスとして、膜厚1μmに換算した透過率を表1に示す。
(Evaluation of heat resistance)
Among the base materials with PK1 to 11 films obtained in Examples 1 to 8 or Comparative Examples 1 to 3, those using glass as the base material were allowed to stand in an oven at 200 ° C. for 24 hours to transmit ultraviolet light at 400 nm. The rate was measured by an ultraviolet-visible absorption spectrum method using an ultraviolet-visible spectrophotometer (“U-3310 Spectrophotometer”, Hitachi High-Technologies Corporation). Table 1 shows the transmittance converted to a film thickness of 1 μm using a glass substrate without a film as a reference.

(クラック発生膜厚の評価)
前述の方法により実施例1〜8又は比較例1〜3で得たPK1〜11膜付ガラス基材(ガラス基材及びポリイミド基材の両方)の表面にクラックが生じる膜厚を確認した。判定基準は以下の通りである。結果を表1に示す。
A:50μm以上の厚みにしても表面にクラックが発生しない。
B:40μm以上50μm未満の厚みで表面にクラックが発生する。
C:30μm以上40μm未満の厚みで表面にクラックが発生する。
D:20μm以上30μm未満の厚みで表面にクラックが発生する。
E:10μm以上20μm未満の厚みで表面にクラックが発生する。
F:5μm以上10μm未満の厚みで表面にクラックが発生する。
G:5μm未満の厚みで表面にクラックが発生する。
(Evaluation of cracked film thickness)
The film thickness at which cracks were generated on the surface of the PK1-11 film-coated glass substrate (both the glass substrate and the polyimide substrate) obtained in Examples 1 to 8 or Comparative Examples 1 to 3 was confirmed by the above method. The judgment criteria are as follows. The results are shown in Table 1.
A: No cracks occur on the surface even if the thickness is 50 μm or more.
B: Cracks occur on the surface with a thickness of 40 μm or more and less than 50 μm.
C: Cracks occur on the surface with a thickness of 30 μm or more and less than 40 μm.
D: Cracks occur on the surface with a thickness of 20 μm or more and less than 30 μm.
E: Cracks occur on the surface with a thickness of 10 μm or more and less than 20 μm.
F: Cracks occur on the surface with a thickness of 5 μm or more and less than 10 μm.
G: Cracks occur on the surface with a thickness of less than 5 μm.

(鉛筆硬度の評価)
実施例1〜8又は比較例1〜3で得たPK1〜11膜付基材のうち基材としてガラスを用いたものについて、鉛筆硬度試験により評価した。試験はJISK5600−5−4:1999に従って行った。試験結果を表1に示す。
(Evaluation of pencil hardness)
Among the PK1 to 11 film-attached substrates obtained in Examples 1 to 8 or Comparative Examples 1 to 3, those using glass as the substrate were evaluated by a pencil hardness test. The test was performed according to JIS K5600-5-4: 1999. The test results are shown in Table 1.

(耐屈曲性の評価)
実施例1〜8又は比較例1〜3で得たPK1〜11膜付基材のうち基材としてポリイミドを用いたものについて、マンドレル試験(円筒形マンドレル法)により評価した。試験はJIS K5600−5−1:1999に従って行った。マンドレルの直径は25mmから2mmまで変え、クラックの発生有無を目視で確認した。クラックの発生しないマンドレルの最小直径を表1に示す。
(Evaluation of bending resistance)
Among the base materials with PK1 to 11 films obtained in Examples 1 to 8 or Comparative Examples 1 to 3, those using polyimide as the base material were evaluated by a mandrel test (cylindrical mandrel method). The test was carried out according to JIS K5600-5-1: 1999. The diameter of the mandrel was changed from 25 mm to 2 mm, and the presence or absence of cracks was visually confirmed. Table 1 shows the minimum diameter of the mandrel without cracks.

(伸び率測定)
実施例1〜8又は比較例1〜3で得たPK1〜11膜付基材のうち基材としてポリイミドを用いたものについて、芳香族ポリケトン膜を基材から剥がした。そして、剥がした芳香族ポリケトン膜について、AUTOGRAPH EZ−TEST EZ−S((株)島津製作所製))を用いて、5mm/minの速度で引張り試験を行い、伸び率を測定した。その結果を表1に示す。
(Measurement of elongation rate)
The aromatic polyketone film was peeled off from the base material with the PK1-11 film obtained in Examples 1 to 8 or Comparative Examples 1 to 3 using polyimide as the base material. Then, the peeled aromatic polyketone film was subjected to a tensile test at a speed of 5 mm / min using AUTOGRAPH EZ-TEST EZ-S (manufactured by Shimadzu Corporation), and the elongation rate was measured. The results are shown in Table 1.

実施例1〜8と比較例1〜3を比べて分かるように、実施例の芳香族ポリケトンは、比較例のポリケトンに比べて、膜を形成したときに伸び率が高く、膜を厚くすることができる。また、実施例1〜5では、原料として1,3−アダマンタンジカルボン酸又はシクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸を用いることで、透明性、耐熱性及び高い硬度の膜が得られている。一方、実施例6〜8では、原料として1,3−アダマンタン二酢酸を用いることで、透明性、耐熱性及び柔軟性に優れる膜が得られている。このように、目的に応じて、高い鉛筆硬度を有するポリケトン膜と、柔軟性に優れるポリケトンとを作り分けることができる。 As can be seen by comparing Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3, the aromatic polyketone of the example has a higher elongation rate when a film is formed and thickens the film as compared with the polyketone of the comparative example. Can be done. Further, in Examples 1 to 5, by using 1,3-adamantane dicarboxylic acid or cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid as a raw material, a film having transparency, heat resistance and high hardness is obtained. On the other hand, in Examples 6 to 8, a film having excellent transparency, heat resistance and flexibility was obtained by using 1,3-adamantane diacetic acid as a raw material. In this way, a polyketone film having a high pencil hardness and a polyketone having excellent flexibility can be produced according to the purpose.

Claims (12)

下記一般式(1)、下記一般式(2)及び下記一般式(4)からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位と、下記一般式(5)で表される構造単位と、下記一般式(6)で表される構造単位と、を有する芳香族ポリケトン。

(一般式(1)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。)

(一般式(2)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは酸素原子又は下記一般式(3)で表される2価の基を示す。)

(一般式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。)

(一般式(4)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。)

(一般式(5)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を表す。)

(一般式(6)中、Yは飽和脂環式炭化水素骨格を有する二価の炭化水素基を表す。)
At least one structural unit selected from the group consisting of the following general formula (1), the following general formula (2), and the following general formula (4), the structural unit represented by the following general formula (5), and the following An aromatic polyketone having a structural unit represented by the general formula (6).

(In the general formula (1), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 2 is an independent hydrogen atom or a substituent. Indicates a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a group.)

(In the general formula (2), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X is an oxygen atom or the following general formula (3). Indicates a divalent group represented by.)

(In the general formula (3), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.)

(In the general formula (4), R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.)

(In the general formula (5), R 1 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent, and R 6 independently represents a hydrogen atom or a substituent. It represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a group.)

(In the general formula (6), Y represents a divalent hydrocarbon group having a saturated alicyclic hydrocarbon skeleton.)
前記一般式(6)における前記飽和脂環式炭化水素骨格の炭素数が、3〜30である請求項1に記載の芳香族ポリケトン。 The aromatic polyketone according to claim 1, wherein the saturated alicyclic hydrocarbon skeleton in the general formula (6) has 3 to 30 carbon atoms. 前記一般式(6)のYが、下記一般式(7)及び下記一般式(8)からなる群より選択される少なくとも1種で表される基である請求項1又は請求項2に記載の芳香族ポリケトン。

(一般式(7)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。)

(一般式(8)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Zはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の2価の飽和炭化水素基を示す。)
The invention according to claim 1 or 2, wherein Y of the general formula (6) is a group represented by at least one selected from the group consisting of the following general formula (7) and the following general formula (8). Aromatic polyketone.

(In the general formula (7), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom.)

(In the general formula (8), the hydrogen atom of the adamantan skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom. Z has a substituent independently. It shows a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
前記一般式(5)で表される構造単位の占める割合が、1mol%〜10mol%である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトン。 The aromatic polyketone according to any one of claims 1 to 3, wherein the ratio of the structural unit represented by the general formula (5) is 1 mol% to 10 mol%. 下記一般式(1’)、下記一般式(2’)及び下記一般式(4’)からなる群より選択される少なくとも1種の芳香族モノマと、下記一般式(5’)で表される芳香族モノマと、下記一般式(6’)で表されるジカルボン酸とを、酸性媒体中において縮合反応させる芳香族ポリケトンの製造方法。

(一般式(1’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。)

(一般式(2’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Xは酸素原子又は下記一般式(3’)で表される2価の基を示す。)

(一般式(3’)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。)

(一般式(4’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示す。)

(一般式(5’)中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を示し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基を表す。)

(一般式(6’)中、Yは飽和脂環式炭化水素骨格を有する二価の炭化水素基を表す。)
It is represented by at least one aromatic monomer selected from the group consisting of the following general formula (1'), the following general formula (2') and the following general formula (4'), and the following general formula (5'). A method for producing an aromatic polyketone in which an aromatic monomer and a dicarboxylic acid represented by the following general formula (6') are condensed in an acidic medium.

(In the general formula (1'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 2 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Indicates a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.)

(In the general formula (2'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X is an oxygen atom or the following general formula (3). Indicates a divalent group represented by').)

(In the general formula (3'), R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.)

(In the general formula (4'), R 5 independently represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.)

(In the general formula (5'), R 1 independently represents a hydrocarbon atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and R 6 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. It represents a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent.)

(In the general formula (6'), Y represents a divalent hydrocarbon group having a saturated alicyclic hydrocarbon skeleton.)
前記一般式(6’)における前記飽和脂環式炭化水素骨格の炭素数が、3〜30である請求項5に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。 The method for producing an aromatic polyketone according to claim 5, wherein the saturated alicyclic hydrocarbon skeleton according to the general formula (6') has 3 to 30 carbon atoms. 前記一般式(6’)のYが、下記一般式(7’)及び下記一般式(8’)からなる群より選択される少なくとも1種で表される基である請求項5又は請求項6に記載の芳香族ポリケトンの製造方法。

(一般式(7’)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。)

(一般式(8’)中、アダマンタン骨格の水素原子は、炭化水素基、アミノ基、オキソ基、水酸基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Zはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の2価の飽和炭化水素基を示す。)
Claim 5 or claim 6 in which Y of the general formula (6') is a group represented by at least one selected from the group consisting of the following general formula (7') and the following general formula (8'). The method for producing an aromatic polyketone according to.

(In the general formula (7'), the hydrogen atom of the adamantane skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom.)

(In the general formula (8'), the hydrogen atom of the adamantan skeleton may be substituted with a hydrocarbon group, an amino group, an oxo group, a hydroxyl group or a halogen atom. Each Z independently has a substituent. Indicates a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may be used.)
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトンと、溶媒と、含有する芳香族ポリケトン組成物。 The aromatic polyketone composition containing the aromatic polyketone according to any one of claims 1 to 4 and a solvent. 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の芳香族ポリケトンを含有する芳香族ポリケトン膜。 An aromatic polyketone film containing the aromatic polyketone according to any one of claims 1 to 4. 請求項9に記載の芳香族ポリケトン膜を有する光学素子。 The optical element having the aromatic polyketone film according to claim 9. 請求項9に記載の芳香族ポリケトン膜を有する画像表示装置。 An image display device having the aromatic polyketone film according to claim 9. 請求項9に記載の芳香族ポリケトン膜と、基材と、を有する芳香族ポリケトン膜付基材。 A base material with an aromatic polyketone film, which comprises the aromatic polyketone film according to claim 9 and a base material.
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