JP6520299B2 - 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 - Google Patents

電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 Download PDF

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Description

本発明は、ミラーを備えた電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関するものである。
電子機器として、例えば、光源から出射された光をDMD(デジタル・ミラー・デバイス)と呼ばれる電気光学装置の複数のミラー(マイクロミラー)によって変調した後、変調光を投射光学系によって拡大投射することにより、スクリーンに画像を表示する投射型表示装置等が知られている。かかる投射型表示装置等に用いられる電気光学装置は、例えば、図18に示すように、一方面1sにミラー50が設けられた素子基板1と、平面視でミラー50を囲むように素子基板1の一方面1s側に接着されたスペーサー28と、スペーサー28の素子基板1とは反対側の端部に支持された板状の透光性カバー29とを備えている。また、電気光学装置は、例えば、側壁92で囲まれた凹状の基板実装部93が形成された封止基板90を有しており、素子基板1は、基板実装部93の底部に接着剤層97で固定された後、基板実装部93に設けられたエポキシ系等の封止樹脂98によって封止される。
このように構成した電気光学装置において、光は、透光性カバー29を透過してミラー50に入射し、ミラー50で反射した光は、透光性カバー29を透過して出射される。このため、照射された光が原因で透光性カバー29の温度が上昇する。かかる温度上昇は、電気光学装置を温度上昇させる原因となり、電気光学装置の誤動作や寿命低下を発生させるおそれがある。
一方、基板に実装したデバイスの放熱性を高める方法として、デバイスと封止樹脂との接触面積を広くする技術が提案されている(特許文献1参照)。例えば、図18に示すように、封止樹脂98の表面が封止基板90の側壁92と接触する位置より高い位置で、封止樹脂98の表面が透光性カバー29と接する構成とする。かかる構成によれば、透光性カバー29から封止樹脂98への熱の伝達効率を高めることができる。
米国特許 US 7,898,724 B2
しかしながら、図18に示す構成によって、透光性カバー29から封止樹脂98への熱の伝達効率を高めても、封止樹脂98自身の熱伝達効率が低いため、素子基板1の温度上昇を十分に抑制することができないという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ミラーに対して光照射側に配置された透光性カバーの熱を効率よく逃がすことのできる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置の一態様は、基板と、前記基板に搭載された素子基板と、前記素子基板の第1面側に設けられたミラーと、前記素子基板の前記第1面側に設けられ、前記ミラーを駆動する駆動素子と、透光性を有する透光性カバーであって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置するように設けられた前記透光性カバーと、前記素子基板と前記透光性カバーとに接する第1金属部と、を有することを特徴とする。
本発明における「接する」とは、部材同士が直接、接している場合に限らず、部材同士が接着剤層等、熱伝導という観点で略無視できる層を介して接している場合も含む意味である。
本発明に係る電気光学装置において、光は、透光性カバーを透過してミラーに入射し、ミラーで反射した光は、透光性カバーを透過して出射される。このため、照射された光が原因で透光性カバーの温度が上昇しようとする。しかるに本発明に係る電気光学装置では、透光性カバーと素子基板とに接する第1金属部が設けられているため、透光性カバーの熱を、第1金属部、素子基板および基板を介して効率よく逃がすことができる。従って、電気光学装置の温度上昇を抑制することができるので、電気光学装置の誤動作や寿命低下を抑制することができる。
本発明において、前記第1金属部は、平面視で前記ミラーの周りを囲む枠状に設けられていることが好ましい。かかる構成によれば、透光性カバーの熱を、第1金属部、素子基板および基板を介して効率よく逃がすことができる。
本発明において、前記基板と前記透光性カバーとに接する第2金属部を有することが好ましい。かかる構成によれば、透光性カバーの熱を、第2金属部を介して基板に効率よく逃がすことができる。従って、電気光学装置の温度上昇を抑制することができるので、電気光学装置の誤動作や寿命低下を抑制することができる。
本発明において、前記第2金属部は、前記透光性カバーおよび前記基板に固定された金属フレーム態様を採用することができる。
本発明において、前記第2金属部は、さらに前記第1金属部と接していることが好ましい。かかる構成によれば、第1金属部から第2金属部へ熱を逃がすことができる一方、第2金属部から第1金属部へ熱を逃がすこともできる。
本発明において、前記第1金属部は、前記透光性カバーの前記素子基板側の端部と前記素子基板とに接している態様を採用することができる。
本発明において、前記第1金属部は、前記透光性カバーの側面と前記素子基板とに接している態様を採用してもよい。
本発明において、前記第1金属部は、前記素子基板の前記第1面から突出した樹脂部を覆う金属層からなる態様を採用してもよい。
本発明において、前記第2金属部と前記基板との間に、前記素子基板の側面および前記透光性カバーの側面に接する封止樹脂を有する態様を採用してもよい。かかる構成によれば、透光性カバーや素子基板の熱を、封止樹脂を介して逃がすことができる。また、封止樹脂によってミラーが形成された部分への水分の侵入を抑制することができる。
本発明において、前記素子基板の側面および前記透光性カバーの側面に接する封止樹脂と、前記透光性カバーの前記ミラーと対向する面とは反対側の面、および前記封止樹脂の前記基板と対向する面とは反対側の面に積層され、前記基板に接する透光性の無機材料層と、を有している態様を採用してもよい。かかる構成によれば、透光性カバーや素子基板の熱を封止樹脂および無機材料層を介して逃がすことができる。また、無機材料層および封止樹脂によって水分の侵入を抑制することができる。
本発明に係る電気光学装置の製造方法の一態様は、第1面にミラー、および前記ミラーを駆動する駆動素子を備えた素子基板に対して、透光性を有する透光性カバーを設ける配置工程であって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置し、前記透光性カバーと前記素子基板とに第1金属部が接触するように前記透光性カバーを設ける前記配置工程と、基板に前記素子基板を搭載する搭載工程と、を有することを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記配置工程の前に前記素子基板に前記第1金属部を設けておき、前記配置工程では、前記透光性カバーを設ける際、前記透光性カバーと前記第1金属部とを接触させる態様を採用することができる。
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記配置工程の前に前記透光性カバーに前記第1金属部を設けておき、前記配置工程では、前記透光性カバーを設ける際、前記素子基板と前記第1金属部とを接触させる態様を採用してもよい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記透光性カバーと前記基板とに第2金属部が接触した状態とする工程を有することが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記配置工程の前に前記透光性カバーに前記第2金属部を設けておき、前記配置工程では、前記透光性カバーを設ける際、前記基板と前記第2金属部とが接する状態としてもよい。
本発明において、前記基板と前記第2金属部とが接する状態とする際、前記第1金属部と前記第2金属部とが接する状態となることが好ましい。
本発明を適用した電気光学装置は、各種電子機器に用いることができ、この場合、電子機器には、前記ミラーに光源光を照射する光源部が設けられる。また、電子機器として投射型表示装置を構成した場合、電子機器には、さらに、前記ミラーによって変調された光を投射する投射光学系が設けられる。
本発明を適用した電子機器としての投射型表示装置の光学系を示す模式図である。 本発明を適用した電気光学装置の基本構成を模式的に示す説明図である。 本発明を適用した電気光学装置の要部におけるA−A′断面を模式的に示す説明図である。 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置の説明図である。 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置の製造に用いた第1ウエハーの平面図である。 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置の製造方法において、素子基板を基板に実装する工程等を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態2に係る電気光学装置の断面図である。 本発明の実施の形態2に係る電気光学装置の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態2に係る電気光学装置の製造方法において、素子基板を基板に実装する工程等を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態2に係る電気光学装置の別の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態3に係る電気光学装置の断面図である。 本発明の実施の形態3に係る電気光学装置の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態3に係る電気光学装置において、素子基板を基板に実装する工程等を示す工程断面図である。 本発明の実施の形態3に係る電気光学装置に用いた第1金属部の別の構成例を示す断面図である。 本発明の実施の形態4に係る電気光学装置の断面図である。 本発明の実施の形態5に係る電気光学装置の断面図である。 本発明の参考例に係る電気光学装置の断面図である。
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、本発明を適用した電子機器として投射型表示装置を説明する。また、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、図面に示しているミラー等の数は、図面上で認識可能な程度の大きさとなるように設定しているが、この図面に示した数よりも多くのミラー等を設けてもよい。なお、以下の形態において、例えば「第1面側に配置」と記載された場合、第1面に接するように配置される場合、または第1面に他の構成物を介して配置される場合、または第1面に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を含んでもよいものとする。
[実施の形態1]
(電子機器としての投射型表示装置)
図1は、本発明を適用した電子機器としての投射型表示装置の光学系を示す模式図である。図1に示す投射型表示装置1000は、光源部1002と、光源部1002から出射された光を画像情報に応じて変調する電気光学装置100と、電気光学装置100で変調された光を投射画像としてスクリーン等の被投射物1100に投射する投射光学系1004と有している。光源部1002は、光源1020と、カラーフィルター1030とを備えている。光源1020は白色光を出射し、カラーフィルター1030は、回転に伴って各色の光を出射し、電気光学装置100は、カラーフィルター1030の回転に同期したタイミングで、入射した光を変調する。なお、カラーフィルター1030に代えて、光源1020から出射された光を各色の光に変換する蛍光体基板を用いてもよい。また、各色の光毎に光源部1002および電気光学装置100を設けてもよい。
(電気光学装置100の基本構成)
図2は、本発明を適用した電気光学装置100の基本構成を模式的に示す説明図であり、図2(a)、(b)は各々、電気光学装置100の要部を示す説明図、および電気光学装置100の要部の分解斜視図である。図3は、本発明を適用した電気光学装置100の要部におけるA−A′断面を模式的に示す説明図であり、図3(a)、(b)は各々、ミラーが一方側に傾いた状態を模式的に示す説明図、およびミラーが他方側に傾いた状態を模式的に示す説明図である。
図2および図3に示すように、電気光学装置100は、素子基板1の一方面1s(第1面)側に複数のミラー50がマトリクス状に配置されており、ミラー50は素子基板1から離間している。素子基板1は、例えば、シリコン基板である。ミラー50は、1辺の長さが例えば10〜30μmの平面サイズを有するマイクロミラーである。ミラー50は、例えば、800×600から1028×1024の配列をもって配置されており、1つのミラー50が画像の1画素に対応する。
ミラー50の表面はアルミニウム等の反射金属膜からなる反射面になっている。電気光学装置100は、素子基板1の一方面1sに形成された基板側バイアス電極11および基板側アドレス電極12、13等を含む1階部分100aと、高架アドレス電極32、33およびヒンジ35を含む2階部分100bと、ミラー50を含む3階部分100cとを備えている。1階部分100aでは、素子基板1にアドレス指定回路14が形成されている。アドレス指定回路14は、各ミラー50の動作を選択的に制御するためのメモリセルや、ワード線、ビット線の配線15等を備えており、CMOS回路16を備えたRAM(Random Access Memory)に類似した回路構成を有している。
2階部分100bは、高架アドレス電極32、33、ヒンジ35、およびミラーポスト51を含んでいる。高架アドレス電極32、33は、電極ポスト321、331を介して基板側アドレス電極12、13に導通しているとともに、基板側アドレス電極12、13によって支持されている。ヒンジ35の両端からはヒンジアーム36、37が延在している。ヒンジアーム36、37は、アームポスト39を介して基板側バイアス電極11に導通しているとともに、基板側バイアス電極11によって支持されている。ミラー50は、ミラーポスト51を介してヒンジ35に導通しているとともに、ヒンジ35によって支持されている。従って、ミラー50は、ミラーポスト51、ヒンジ35、ヒンジアーム36、37、アームポスト39を介して基板側バイアス電極11に導通しており、基板側バイアス電極11からバイアス電圧が印加される。なお、ヒンジアーム36、37の先端には、ミラー50が傾いたときに当接して、ミラー50と高架アドレス電極32、33との接触を防止するストッパー361、362、371、372が形成されている。
高架アドレス電極32、33は、ミラー50との間に静電力を発生させてミラー50を傾くように駆動する駆動素子30を構成している。また、基板側アドレス電極12、13も、ミラー50との間に静電力を発生させてミラー50を傾くように駆動するように構成される場合があり、この場合、駆動素子30は、高架アドレス電極32、33、および基板側アドレス電極12、13によって構成されることになる。ヒンジ35は、高架アドレス電極32、33に駆動電圧が印加されて、図3に示すように、ミラー50が高架アドレス電極32あるいは高架アドレス電極33に引き寄せられるように傾いた際にねじれ、高架アドレス電極32、33に対する駆動電圧の印加が停止してミラー50に対する吸引力が消失した際、ミラー50を素子基板1に平行な姿勢に戻す力を発揮する。
電気光学装置100において、例えば、図3(a)に示すように、ミラー50が一方側の高架アドレス電極32の側に傾くと、光源部1002から出射された光がミラー50によって投射光学系1004に向けて反射するオン状態となる。これに対して、図3(b)に示すように、ミラー50が他方側の高架アドレス電極33の側に傾くと、光源部1002から出射された光がミラー50によって光吸収装置1005に向けて反射するオフ状態となり、かかるオフ状態では、投射光学系1004に向けて光が反射されない。かかる駆動は、複数のミラー50の各々で行われる結果、光源部1002から出射された光は、複数のミラー50で画像光に変調されて投射光学系1004から投射され、画像を表示する。
なお、基板側アドレス電極12、13と対向する平板状のヨークをヒンジ35と一体に設け、高架アドレス電極32、33とミラー50との間に発生する静電力に加えて、基板側アドレス電極12、13とヨークとの間に作用する静電力も利用してミラー50を駆動することもある。
(電気光学装置100の全体構造)
図4は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100の説明図であり、図4(a)、(b)は、電気光学装置100の平面図、およびA1−A1′断面図である。
図4に示すように、本形態の電気光学装置100において、図2および図3を参照して説明したミラー50および駆動素子30が一方面1sに複数形成された素子基板1は、一方面1sが透光性カバー25によって封止された後、セラミック基板等からなる基板90の実装面90sに銀ペースト等からなる接着剤層97を介して搭載されている。具体的には、素子基板1の一方面1sとは反対側である他方面1tが、基板90の実装面90sに接着剤層97を用いて接着されている。銀ペーストは、熱伝導性の高いので、素子基板1から基板90への熱伝達性に優れている。
素子基板1の一方面1sにおいて、ミラー50と平面視で重ならない端部には複数の端子17が形成されている。本形態において、端子17は、ミラー50を挟むように2列に配置されている。複数の端子17の一部は、図2および図3を参照して説明したアドレス指定回路14や基板側アドレス電極12、13を介して高架アドレス電極32、33(駆動素子30)に電気的に接続されている。複数の端子17の他の一部は、図2および図3を参照して説明したアドレス指定回路14、基板側バイアス電極11およびヒンジ35を介してミラー50に電気的に接続されている。複数の端子17のさらに他の一部は、図2および図3を参照して説明したアドレス指定回路14の前段に設けられた駆動回路等に電気的に接続されている。
端子17は、基板90の実装面90sの側に形成された内部電極94とワイヤーボンディング用のワイヤー99によって電気的に接続されている。基板90は多層配線基板であり、内部電極94は、スルーホールや配線からなる多層配線部95を介して、実装面90sとは反対の面90tに形成された外部電極96と導通している。
(透光性カバー25の構成)
透光性を有する透光性カバー25は、平面視(例えば、素子基板1を一方面1s側から見たときの平面視)でミラー50および駆動素子(図2および図3参照)の周りを囲む枠部251(スペーサー)と、平板部252とを備えており、透光性カバー25においてミラー50が配置されている部分は凹部21になっている。平板部252は、ミラー50に素子基板1とは反対側で対向している。言い換えると、平板部252は、ミラー50が平板部252と素子基板1の間に位置するように設けられている。かかる透光性カバー25は、枠部251の素子基板1側の端部256が、後述する第1金属部71を介して素子基板1に固定されている。この状態で、平板部252は、素子基板1とは反対側でミラー50に対して所定の距離を隔てた位置でミラー50の表面と対向している。
本形態において、透光性カバー25は、枠部251と平板部252とが一体に形成された透光性部材からなる。例えば、透光性カバー25は、枠部251と平板部252とが一体に形成された透光性を有するガラスからなる。このため、枠部251と平板部252とは連続して繋がっており、枠部251と平板部252との間には界面が存在しない。
このように構成した電気光学装置100において、照射された光は、平板部252を透過してミラー50に入射した後、ミラー50で反射し、平板部252を透過して出射される。本形態において、透光性カバー25の内側は、空気が存在する構成、空気に代えて不活性ガス等が充填された構成、あるいは真空となっている構成が採用される。
(第1金属部71の構成)
本形態の電気光学装置100において、枠部251の素子基板1側の端部256は、端子17とミラー50との間で第1金属部71を介して素子基板1に固定されている。従って、第1金属部71は、透光性カバー25と素子基板1とに接している。第1金属部71は、枠部251の端部256に沿って全周にわたって枠状に形成されており、平面視(例えば素子基板1を一方面1s側から見たときの平面視)で、ミラー50が配置されている領域55の周りを囲んでいる。このため、第1金属部71は、全周にわたって枠部251の端部256と素子基板1とに接している。なお、図4(a)で示した領域55の外縁は、複数のミラー50が形成されている領域の外縁を示しており、領域55の一部にミラー50が形成されていなくてよい。
第1金属部71は、例えば、素子基板1側に形成された金属部からなり、この場合、枠部251の端部256は、第1金属部71に接着剤層によって接着される。また、第1金属部71は、枠部251の端部256に形成された金属部からなる場合もあり、この場合、素子基板1は、第1金属部71に接着剤層によって接着される。本形態において、第1金属部71は、素子基板1側に形成された金属部からなる。かかる接着剤層としては、例えば銀ペーストを用いる。
(第2金属部81の構成)
本形態の電気光学装置100には、基板90と透光性カバー25とに接する第2金属部81が設けられている。本形態において、第2金属部81は、透光性カバー25の平板部252のミラー50と対向する面とは反対側の面252s(表面)に接着剤層101によって固定された金属フレーム85である。金属フレーム85は、基板90と対向する端板部86と、端板部86の外縁から基板90に向けて突出した角形の胴部87とを有しており、胴部87の基板90側の端部876が接着剤層によって基板90に接着されている。従って、第2金属部81(金属フレーム85)は、基板90に接している。かかる接着剤層としては、例えば銀ペーストを用いる。また、金属フレーム85は、コバール製や銅製である。

端板部86には、透光性カバー25と平面視で重なる位置に開口部860が形成されている。このため、端板部86は、開口部860側の端部が透光性カバー25の端部に接着剤層101を介して接着されている。従って、透光性カバー25は、端板部86の開口部860から露出した状態にある。また、端板部86は、開口部860を囲む全周にわたって接着剤層101を介して透光性カバー25に接している。かかる接着剤層101としては、例えば銀ペーストを用いる。
(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の電気光学装置100においては、ミラー50に対して光照射側に透光性カバー25が配置されており、光が透光性カバー25を介してミラー50に向けて照射された際、照射された光が原因で透光性カバー25の温度が上昇しようとする。しかるに本形態の電気光学装置100には、透光性カバー25と素子基板1とに接する第1金属部71が設けられている。このため、透光性カバー25の熱を、第1金属部71、素子基板1および基板90を介して効率よく逃がすことができる。また、電気光学装置100には、基板90と透光性カバー25とに接する第2金属部81が設けられている。このため、透光性カバー25の熱を、第2金属部81を介して基板90に効率よく逃がすことができる。従って、電気光学装置100の温度上昇を抑制することができるので、電気光学装置100の誤動作や寿命低下を抑制することができる。
また、第1金属部71は、全周にわたって枠部251の端部256と素子基板1とに接している。このため、透光性カバー25の熱を、第1金属部71を介して効率よく逃がすことができる。また、ミラー50は、透光性カバー25、第1金属部71および素子基板1によって封止されているので、ミラー50が配置されている空間に水分が侵入しにくい。それ故、ミラー50を駆動した際、水滴によってミラー50が傾いたまま周囲の部材に吸着されて移動できなくなる等の不具合が発生しにくい。
また、第2金属部81は、全周にわたって透光性カバー25および基板90に接するように接着された金属フレーム85である。このため、金属フレーム85の内部を封止することができる。従って、ミラー50が配置されている空間に水分が侵入しにくい。また、透光性カバー25では、ミラー50が配置されている領域の周りを囲む枠部251と、ミラー50に対向する平板部252とが一体になっている。このため、枠部251と平板部252との間から水分が侵入するという事態が発生しない。
(電気光学装置100の製造方法)
図5、図6および図7を参照して、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100の製造方法を説明する。図5は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100の製造方法を示す工程断面図である。図6は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100の製造に用いた第1ウエハー10の平面図である。図7は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100の製造方法において、素子基板1を基板90に実装する工程等を示す工程断面図である。なお、図5等では、駆動素子30等の図示を省略するとともに、図4(b)と比べてミラー50の数を減らして2つのミラー50が1枚の素子基板1に形成されるものとして示してある。
本形態の電気光学装置100を製造するには、図5(a)および図6に示すように、第1ウエハー準備工程において、素子基板1を多数取りできる大型の第1ウエハー10(シリコンウエハー)の一方面10s(第1面)に、素子基板1が分割される領域毎に、ミラー50および端子17が形成されるとともに、ミラー50と平面視で重なる位置にミラー50を駆動する駆動素子30(図2および図3を参照)を形成が形成された第1ウエハー10を用意する。さらに、本形態では、第1ウエハー10の一方面10sに対して、素子基板1が分割される領域毎に、金属製の凸部からなる第1金属部71が枠状に形成されている。例えば、図5(a)及び図6に示すように、素子基板1を多数取りできる大型の第1ウエハー10(シリコンウエハー)の一方面10s(第1面)に対して、素子基板1が分割される領域毎に、ミラー50および端子17が形成するとともに、ミラー50と平面視で重なる位置にミラー50を駆動する駆動素子30(図2および図3を参照)を形成する。さらに、第1ウエハー10の一方面10sに対して、素子基板1が分割される領域毎に、金属製の凸部からなる第1金属部71を枠状に形成する。かかる第1金属部71の形成にあたっては、例えば、銅ペースト等の塗布を行う。
また、図5(a)に示すように、第2ウエハー形成工程においては、透光性カバー25を多数取りできる大型の透光性の第2ウエハー20(ガラスウエハー)の一方面20sに、透光性カバー25が分割される領域毎に凹部21を形成する。また、隣り合う凹部21の間に溝22を形成する。かかる凹部21および溝22を形成するには、例えば、第2ウエハー20の一方面20sにレジストマスクを形成した状態で、ドライエッチング、あるいは水酸化カリウム溶液を用いたウエットエッチングを行う。
次に、図5(b)に示す接着工程では、ミラー50に凹部21が平面視(例えば、第1ウエハー10を一方面10s側から見たときの平面視)で重なるように第1ウエハー10の一方面10sと第2ウエハー20の一方面20sとを重ね、銀ペースト等によって接着する。より具体的には、ミラー50に凹部21が平面視(例えば、第1ウエハー10を一方面10s側から見たときの平面視)で重なるように第1ウエハー10の一方面10sと第2ウエハー20に形成した第1金属部71とを接着する。その結果、第1金属部71が、第1ウエハー10(素子基板1)と第2ウエハー20(透光性カバー25)とに接する状態となる。また、ミラー50が第1ウエハー10(素子基板1)と第2ウエハー20(透光性カバー25)の間に位置するようになる(配置工程)。
次に、図5(c)、(d)に示す分割工程において、第1ウエハー10と第2ウエハー20との積層体130を分割して、ミラー50を備えた素子基板1に透光性カバー25が重ねて固定された単品サイズの積層体100sを得る。
かかる分割工程では、まず、第2ウエハーダイシング工程において、第2ウエハー20に対して第1ウエハー10とは反対側から溝22に到達するまでダイシングブレード(図示せず)を進入させて第2ウエハー20を分割する。次に、分割工程では、第1ウエハーダイシング工程において、ダイシングブレード(図示せず)を第2ウエハー20の側から第2ウエハー20での切断個所を通して第1ウエハー10に対して進入させ、第1ウエハー10をダイシングする。その結果、ミラー50が複数形成された素子基板1の一方面1sが、透光性カバー25によって封止された積層体100sが複数製造される。
次に、図7に示す工程を行う。まず、図7(a)に示すように、基板90に対して素子基板1を銀ペースト等からなる接着剤層97によって固定する(搭載工程)。次に、図7(b)に示すように、素子基板1の端子17と基板90の内部電極94とをワイヤーボンディング用のワイヤー99によって電気的に接続する。
次の工程では、図7(c)に示すように、第2金属部81を構成する金属フレーム85を基板90に被せ、図4に示すように、金属フレーム85の胴部87の端部876と基板90とを銀ペースト等からなる接着剤層によって接着する。また、透光性カバー25の端板部86の開口部860の周りを銀ペースト等からなる接着剤層101によって透光性カバー25の端部を接着する。その結果、第2金属部81(金属フレーム85)は、基板90と透光性カバー25とに接することになり、電気光学装置100が完成する。
[実施の形態2]
図8は、本発明の実施の形態2に係る電気光学装置100の断面図である。図9は、本発明の実施の形態2に係る電気光学装置100の製造方法を示す工程断面図である。図10は、本発明の実施の形態2に係る電気光学装置100の製造方法において、素子基板1を基板90に実装する工程等を示す工程断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
図8に示すように、本形態の電気光学装置100においても、実施の形態1と同様、ミラー50等が一方面1sに複数形成された素子基板1は、一方面1sが透光性カバー25によって封止された後、セラミック基板等からなる基板90の実装面90sに、銀ペースト等からなる接着剤層97を介して実装されている。透光性カバー25では、枠部251と平板部252とが一体に構成されている。
このように構成した電気光学装置100において、透光性カバー25の枠部251の端部256は素子基板1に接着されている。本形態では、透光性カバー25の枠部251と端子17との間には、透光性カバー25においてミラー50と反対側に位置する側面257(言い換えると、透光性カバー25の素子基板1と対向する面25tと、その面とは反対側の面25sとを接続する側面257)に沿うように設けられた第1金属部72が設けられている。第1金属部72は、透光性カバー25の側面257のうち、枠部251の側面に接しているとともに、素子基板1の一方面1sに接している。ここで、第1金属部72は、透光性カバー25の側面257に沿って全周にわたって枠状に形成されており、ミラー50が配置されている領域の周りを囲んでいる。このため、第1金属部72は、全周にわたって透光性カバー25の側面257と枠部251の端部256と素子基板1とに接している。
第1金属部72は、例えば、素子基板1側に形成された金属部からなり、この場合、第1金属部72と透光性カバー25の側面257との間に接着剤層102が設けられる。かかる接着剤層102としては、例えば銀ペーストを用いることができる。また、第1金属部72は、図11を参照して後述するように、透光性カバー25に形成された金属部からなる場合もあり、この場合、素子基板1は、第1金属部72に接着剤層によって接着される。この場合でも、透光性カバー25の側面257と第1金属部72との間に隙間が空いている場合、隙間には接着剤層102が設けられる。本形態において、第1金属部72は、素子基板1側に形成された金属部からなる。
また、本形態の電気光学装置100には、基板90と透光性カバー25とに接する第2金属部81が設けられている。本形態において、第2金属部81は、実施の形態1と同様、金属フレーム85であり、胴部87の基板90側の端部876が接着剤層によって基板90に接着されている。従って、第2金属部81(金属フレーム85)は、基板90に接している。かかる接着剤層としては、例えば銀ペーストを用いることができる。
ここで、端板部86の開口部860には透光性カバー25の平板部252が嵌っており、透光性カバー25の側面257のうち、平板部252の側面は、開口部860の内面に銀ペースト等からなる接着剤層102によって接着されている。従って、第2金属部81(金属フレーム85)は、透光性カバー25に接している。
また、第1金属部72の素子基板1とは反対側の端部725は、端板部86の開口部860の周りに接着剤層102を介して接着されており、第2金属部81(金属フレーム85)は、第1金属部72とも接している。
このように構成した電気光学装置100においては、透光性カバー25と素子基板1とに接する第1金属部72が設けられているため、透光性カバー25の熱を、第1金属部72、素子基板1および基板90を介して効率よく逃がすことができる。また、電気光学装置100には、基板90と透光性カバー25とに接する第2金属部81が設けられているため、透光性カバー25の熱を、第2金属部81を介して基板90に効率よく逃がすことができる。また、第2金属部81(金属フレーム85)は、第1金属部72とも接しているため、第1金属部72から第2金属部81へ熱を逃がすことができる一方、第2金属部81から第1金属部72へ熱を逃がすこともできる。従って、電気光学装置100の温度上昇を抑制することができるので、電気光学装置100の誤動作や寿命低下を抑制することができる。
また、ミラー50は、透光性カバー25および素子基板1によって封止されている。また、金属フレーム85は、内部を封止している。さらに、透光性カバー25では、囲む枠部251と平板部252とが一体になっている。このため、ミラー50が配置されている空間に水分が侵入することを防止することができる。
このように構成した電気光学装置100を製造するには、図9(a)に示すように、第1ウエハー準備工程において、素子基板1を多数取りできる大型の第1ウエハー10(シリコンウエハー)の一方面10sに対して、素子基板1が分割される領域毎に、ミラー50および端子17等を形成する。さらに、本形態では、第1ウエハー10の一方面10sに対して、端子17とミラー50との間に第1金属部72を枠状に形成する。かかる第1金属部72の形成にあたっては、例えば、銅ペースト等の塗布等を行う。
また、図9(a)に示すように、第2ウエハー形成工程においては、透光性カバー25を多数取りできる大型の透光性の第2ウエハー20(ガラスウエハー)の一方面20sに凹部21および溝22を形成する。
次に、図9(b)に示す接着工程では、ミラー50に凹部21が平面視(例えば、第1ウエハー10を一方面1s側から見たときの平面視)で重なるように第1ウエハー10の一方面10sと第2ウエハー20の一方面20sとを重ね、接着する。その際、第1金属部72と第1ウエハー10の溝22の側面とを接着剤層102で接着する。その結果、第1金属部72が、第1ウエハー10(素子基板1)と第2ウエハー20(透光性カバー25)とに接する状態となる(配置工程)。
次に、図9(c)、(d)に示す分割工程において、第1ウエハー10と第2ウエハー20との積層体130を分割して、ミラー50を備えた素子基板1に透光性カバー25が重ねて固定された単品サイズの積層体100sを得る。
次に、図10(a)に示すように、基板90に対して素子基板1を銀ペースト等からなる接着剤層97によって固定する(搭載工程)。次に、図10(b)に示すように、素子基板1の端子17と基板90の内部電極94とをワイヤーボンディング用のワイヤー99によって電気的に接続する。
次の工程では、図10(c)に示すように、第2金属部81を構成する金属フレーム85を基板90に被せ、図8に示すように、金属フレーム85の胴部87の端部876と基板90とを銀ペースト等からなる接着剤層によって接着する。また、金属フレーム85の端板部86の開口部860の内面を銀ペースト等からなる接着剤層102によって透光性カバー25の側面257と接着する。その際、金属フレーム85の端板部86と第1金属部72の素子基板1とは反対側の端部725とを接着剤層102によって接着する。従って、基板90と第2金属部81とが接する状態とする際、第1金属部72と第2金属部81とが接する状態となる。その結果、第2金属部81(金属フレーム85)は、基板90、透光性カバー25および第1金属部72に接することになり、電気光学装置100が完成する。
(電気光学装置100の別の製造方法)
図11は、本発明の実施の形態2に係る電気光学装置100の別の製造方法を示す工程断面図である。実施の形態2では、第1ウエハー10(素子基板1)に第1金属部72を設けたが、第2ウエハー20(透光性カバー25)に第1金属部72を設けてもよい。より具体的には、図11(a)に示すように、第1ウエハー準備工程において、素子基板1を多数取りできる大型の第1ウエハー10(素子基板1)の一方面10sに対して、素子基板1が分割される領域毎に、ミラー50および端子17等を形成する。
また、図11(a)に示すように、第2ウエハー形成工程においては、透光性カバー25を多数取りできる大型の透光性の第2ウエハー20(透光性カバー25)の一方面20sに凹部21および溝22を形成する。さらに、本形態では、第2ウエハー20の溝22の内面に第1金属部72を枠状に形成する。かかる第1金属部72の形成にあたっては、例えば、銅ペースト等の塗布等を行う。
次に、図11(b)に示す接着工程では、ミラー50に凹部21が平面視で重なるように第1ウエハー10の一方面10sと第2ウエハー20の一方面20sとを重ね、接着した後、図11(c)、(d)に示す分割工程において、第1ウエハー10と第2ウエハー20との積層体130を分割して、ミラー50を備えた素子基板1に透光性カバー25が重ねて固定された単品サイズの積層体100sを得る。それ以降は、図10に示す工程と同様な工程を行えば、電気光学装置100を得ることができる。但し、本形態では、第2ウエハー20(透光性カバー25)の側に第1金属部72が設けられているため、接着工程では、第1金属部72と素子基板1とを銀ペースト等の接着剤層によって接着する。
[実施の形態3]
図12は、本発明の実施の形態3に係る電気光学装置100の断面図である。図13は、本発明の実施の形態3に係る電気光学装置100の製造方法を示す工程断面図である。図14は、本発明の実施の形態3に係る電気光学装置100において、素子基板1を基板90に実装する工程等を示す工程断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
図12に示すように、本形態の電気光学装置100においても、実施の形態1と同様、ミラー50等が一方面1sに複数形成された素子基板1は、一方面1sが透光性カバー25によって封止されている。また、素子基板1は、セラミック基板等からなる基板90の実装面90sに、銀ペースト等からなる接着剤層97を介して実装されている。
このように構成した電気光学装置100において、透光性カバー25は板状であり、平板部252のみを有している。また、本形態では、素子基板1の一方面1sには、ミラー50と端子17との間に、平面視(例えば、素子基板1を一方面1s側から見たときの平面視)でミラー50が形成されている領域の周りを囲むように枠状の第1金属部73が設けられており、本形態において、第1金属部73は、素子基板1とは反対側の端部735が透光性カバー25に銀ペースト等からなる接着剤層104によって接着されており、透光性カバー25を素子基板1から離間した位置で保持するスペーサーとして機能している。このため、第1金属部73は、全周にわたって透光性カバー25と素子基板1とに接している。
また、本形態の電気光学装置100には、基板90と透光性カバー25とに接する第2金属部81が設けられている。本形態において、第2金属部81は、実施の形態1と同様、金属フレーム85である。金属フレーム85は、胴部87の基板90側の端部876が接着剤層を介して基板90に接着されている。従って、金属フレーム85は、基板90に接している。かかる接着剤層としては、例えば銀ペーストを用いることができる。
ここで、端板部86の開口部860には透光性カバー25が嵌っており、透光性カバー25の側面257は、開口部860の内面に銀ペースト等からなる接着剤層103によって接着されている。従って、第2金属部81(金属フレーム85)は、透光性カバー25に接している。
また、第1金属部73の素子基板1とは反対側の端部735は、端板部86の開口部860の周りに接着剤層104を介して接着されており、第2金属部81(金属フレーム85)は、第1金属部73とも接している。
このように構成した電気光学装置100においては、透光性カバー25と素子基板1とに接する第1金属部73が設けられているため、透光性カバー25の熱を、第1金属部73、素子基板1および基板90を介して効率よく逃がすことができる。また、電気光学装置100には、基板90と透光性カバー25とに接する第2金属部81が設けられているため、透光性カバー25の熱を、第2金属部81を介して基板90に効率よく逃がすことができる。また、第2金属部81(金属フレーム85)は、第1金属部73とも接しているため、第1金属部73から第2金属部81へ熱を逃がすことができる一方、第2金属部81から第1金属部73へ熱を逃がすこともできる。従って、電気光学装置100の温度上昇を抑制することができるので、電気光学装置100の誤動作や寿命低下を抑制することができる。
また、ミラー50は、透光性カバー25、第1金属部73および素子基板1によって封止されている。また、金属フレーム85は、内部を封止している。このため、ミラー50が配置されている空間に水分が侵入することを防止することができる。
このように構成した電気光学装置100を製造するには、図13(a)に示すように、第1ウエハー準備工程において、素子基板1を多数取りできる大型の第1ウエハー10(シリコンウエハー)の一方面10sに対して、素子基板1が分割される領域毎に、ミラー50および端子17等を形成する。さらに、本形態では、第1ウエハー10の一方面10sに対して、端子17とミラー50との間に第1金属部73を枠状に形成する。かかる第1金属部73の形成にあたっては、例えば、銅ペースト等の塗布等を行う。
次に、図13(b)に示すように、ダイシングブレード(図示せず)によって第1ウエハー10を単品サイズの素子基板1に分割する。
次に、図14(a)に示すように、基板90に対して素子基板1を銀ペースト等からなる接着剤層97によって固定する。次に、図14(b)に示すように、素子基板1の端子17と基板90の内部電極94とをワイヤーボンディング用のワイヤー99によって電気的に接続する(搭載工程)。
次に、図14(c)に示すように、接着剤層103によって第2金属部81(金属フレーム85)と一体化された透光性カバー25を基板90に被せ、図12に示すように、金属フレーム85の胴部87の端部876と基板90とを銀ペースト等からなる接着剤層によって接着する。また、透光性カバー25と第1金属部73の素子基板1とは反対側の端部735とを接着剤層104によって接着する(配置工程)。その際、金属フレーム85の端板部86の開口部860の周りと第1金属部73の素子基板1とは反対側の端部735とを接着剤層104によって接着する。従って、基板90と第2金属部81とが接する状態とする際、第1金属部73と第2金属部81とが接する状態となる。その結果、第2金属部81(金属フレーム85)は、基板90、透光性カバー25および第1金属部73に接することになり、電気光学装置100が完成する。
(第1金属部73の別の構成例)
図15は、本発明の実施の形態3に係る電気光学装置100に用いた第1金属部73の別の構成例を示す断面図である。実施の形態3では、銅ペースト等の塗布等によって、第1金属部73を形成したが、図15に示すように、素子基板1の一方面1sから突出した樹脂部731を覆う金属層732によって第1金属部73を構成しても。かかる構成は、樹脂部731を形成した後、金属層732にめっきを行って金属層732を形成することによって実現することができる。
なお、図15に示す構成は、実施の形態3で説明した第1金属部73に限らず、実施の形態1、2で説明した第1金属部71、72に採用してもよい。
[実施の形態4]
図16は、本発明の実施の形態4に係る電気光学装置100の断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。図16に示すように、本形態では、実施の形態1と同様、第1金属部71および第2金属部81(金属フレーム85)が設けられている。ここで、金属フレーム85は、平板状であり、基板90の底板部91から突出した側壁92に接着剤層によって固定されている。従って、第2金属部81(金属フレーム85)は、基板90の側壁92に接している。また、本形態では、基板90の底板部91と金属フレーム85との間には封止樹脂98が設けられており、封止樹脂98は透光性カバー25および素子基板1の周りを囲んで、素子基板1の側面および透光性カバー25の側面に接している。従って、本形態では、透光性カバー25の熱を、封止樹脂98を介して基板90に逃がすことができるとともに、ミラー50が配置されている空間に水分が侵入することを封止樹脂98によって防止することができる。なお、本形態では、実施の形態1に封止樹脂98を追加したが、実施の形態2、3に封止樹脂を追加してもよい。
[実施の形態5]
図17は、本発明の実施の形態5に係る電気光学装置100の断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。図17に示すように、本形態では、実施の形態1と同様、素子基板1は、基板90に実装されているとともに、第1金属部71が設けられている。ここで、基板90の側壁92の内側には、素子基板1の側面および透光性カバー25の側面に接する封止樹脂98が設けられているとともに、透光性カバー25のミラー50と対向する面とは反対側の面252s、および封止樹脂98の基板90と対向する面とは反対側の面に、基板90の側壁92に接する透光性の無機材料層88が積層されている。
ここで、透光性の無機材料層88は、シリコン酸化膜やITO膜等の金属酸化膜であり、封止樹脂98より熱伝導率が高い。従って、透光性カバー25の熱を、封止樹脂98を介して基板90に逃がすことができるとともに、無機材料層88を介して放熱することができる。
[他の実施の形態]
実施の形態1、2、3、4では、第2金属部81として金属フレーム85が用いられていたが、例えば、実施の形態5のように、封止樹脂98の基板90とは反対側の面に、透光性カバー25の側面、および基板90の側壁92に接する金属膜を積層し、かかる金属膜によって第2金属部81を構成してもよい。
上記実施の形態では、第1金属部71、72、73を銅製としたが、アルミニウム製等であってもよい。上記実施の形態では、基板90としてセラミック基板を用いたが、鉄にニッケルを配合した42アロイ等の合金製の基板を用いてもよい。
実施の形態1、2では、透光性カバー25において、枠部251と平板部252とが一体であったが、枠部251と平板部252とが別体である場合に本発明を適用してもよい。
1・・素子基板、11・・基板側バイアス電極、17・・端子、25・・透光性カバー、30・・駆動素子、32、33・・高架アドレス電極、35・・ヒンジ、50・・ミラー、71、72、73・・第1金属部、81・・第2金属部、85・・金属フレーム、86・・端板部、87・・胴部、88・・無機材料層、90・・基板、94・・内部電極、96・・外部電極、97、101、102、103、104・・接着剤層、98・・封止樹脂、99・・ワイヤー、100・・電気光学装置、100s・・積層体、130・・積層体、251・・枠部、252・・平板部、256・・端部、257・・側面、731・・樹脂部、732・・金属層、860・・開口部、1000・・投射型表示装置、1002・・光源部、1004・・投射光学系、1030・・カラーフィルター、1100・・被投射物、1020・・光源

Claims (15)

  1. 基板と、
    前記基板に搭載された素子基板と、
    前記素子基板の第1面側に設けられたミラーと、
    前記素子基板の前記第1面側に設けられ、前記ミラーを駆動する駆動素子と、
    透光性を有する透光性カバーであって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置するように設けられた前記透光性カバーと、
    前記素子基板と前記透光性カバーとに接する第1金属部と、
    を有し、
    前記基板と前記透光性カバーとに接する第2金属部を有することを特徴とする電気光学装置。
  2. 請求項1に記載の電気光学装置において、
    前記第1金属部は、平面視で前記ミラーの周りを囲む枠状に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
  3. 請求項1または2に記載の電気光学装置において、
    前記第2金属部は、前記透光性カバーおよび前記基板に固定された金属フレームであることを特徴とする電気光学装置。
  4. 請求項1乃至3の何れか一項に記載の電気光学装置において、
    前記第2金属部は、さらに前記第1金属部と接していることを特徴とする電気光学装置。
  5. 基板と、
    前記基板に搭載された素子基板と、
    前記素子基板の第1面側に設けられたミラーと、
    前記素子基板の前記第1面側に設けられ、前記ミラーを駆動する駆動素子と、
    透光性を有する透光性カバーであって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置するように設けられた前記透光性カバーと、
    前記素子基板と前記透光性カバーとに接する第1金属部と、
    を有し、
    前記第1金属部は、前記透光性カバーの前記素子基板側の端部と前記素子基板とに接していることを特徴とする電気光学装置。
  6. 基板と、
    前記基板に搭載された素子基板と、
    前記素子基板の第1面側に設けられたミラーと、
    前記素子基板の前記第1面側に設けられ、前記ミラーを駆動する駆動素子と、
    透光性を有する透光性カバーであって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置するように設けられた前記透光性カバーと、
    前記素子基板と前記透光性カバーとに接する第1金属部と、
    を有し、
    前記第1金属部は、前記透光性カバーの側面と前記素子基板とに接していることを特徴とする電気光学装置。
  7. 基板と、
    前記基板に搭載された素子基板と、
    前記素子基板の第1面側に設けられたミラーと、
    前記素子基板の前記第1面側に設けられ、前記ミラーを駆動する駆動素子と、
    透光性を有する透光性カバーであって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置するように設けられた前記透光性カバーと、
    前記素子基板と前記透光性カバーとに接する第1金属部と、
    を有し、
    前記第1金属部は、前記素子基板の前記第1面から突出した樹脂部を覆う金属層からなることを特徴とする電気光学装置。
  8. 請求項に記載の電気光学装置において、
    前記第2金属部と前記基板との間に、前記素子基板の側面および前記透光性カバーの側面に接する封止樹脂を有していることを特徴とする電気光学装置。
  9. 基板と、
    前記基板に搭載された素子基板と、
    前記素子基板の第1面側に設けられたミラーと、
    前記素子基板の前記第1面側に設けられ、前記ミラーを駆動する駆動素子と、
    透光性を有する透光性カバーであって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置するように設けられた前記透光性カバーと、
    前記素子基板と前記透光性カバーとに接する第1金属部と、
    を有し、
    前記素子基板の側面および前記透光性カバーの側面に接する封止樹脂と、
    前記透光性カバーの前記ミラーと対向する面とは反対側の面、および前記封止樹脂の前記基板と対向する面とは反対側の面に積層され、前記基板に接する透光性の無機材料層と、
    を有していることを特徴とする電気光学装置。
  10. 第1面にミラー、および前記ミラーを駆動する駆動素子を備えた素子基板に対して、透光性を有する透光性カバーを設ける配置工程であって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置し、前記透光性カバーと前記素子基板とに第1金属部が接触するように前記透光性カバーを設ける前記配置工程と、
    基板に前記素子基板を搭載する搭載工程と、
    を有し、
    前記配置工程の前に前記素子基板に前記第1金属部を設けておき、
    前記配置工程では、前記透光性カバーを設ける際、前記透光性カバーと前記第1金属部とを接触させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
  11. 第1面にミラー、および前記ミラーを駆動する駆動素子を備えた素子基板に対して、透光性を有する透光性カバーを設ける配置工程であって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置し、前記透光性カバーと前記素子基板とに第1金属部が接触するように前記透光性カバーを設ける前記配置工程と、
    基板に前記素子基板を搭載する搭載工程と、
    を有し、
    前記配置工程の前に前記透光性カバーに前記第1金属部を設けておき、
    前記配置工程では、前記透光性カバーを設ける際、前記素子基板と前記第1金属部とを接触させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
  12. 第1面にミラー、および前記ミラーを駆動する駆動素子を備えた素子基板に対して、透光性を有する透光性カバーを設ける配置工程であって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置し、前記透光性カバーと前記素子基板とに第1金属部が接触するように前記透光性カバーを設ける前記配置工程と、
    基板に前記素子基板を搭載する搭載工程と、
    を有し、
    前記透光性カバーと前記基板とに第2金属部が接触した状態とする工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
  13. 第1面にミラー、および前記ミラーを駆動する駆動素子を備えた素子基板に対して、透光性を有する透光性カバーを設ける配置工程であって、前記ミラーが前記透光性カバーと前記素子基板の間に位置し、前記透光性カバーと前記素子基板とに第1金属部が接触するように前記透光性カバーを設ける前記配置工程と、
    基板に前記素子基板を搭載する搭載工程と、
    を有し、
    前記配置工程の前に前記透光性カバーに前記第2金属部を設けておき、
    前記配置工程では、前記透光性カバーを設ける際、前記基板と前記第2金属部とが接する状態とすることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
  14. 請求項12または13に記載の電気光学装置の製造方法において、
    前記基板と前記第2金属部とが接する状態とする際、前記第1金属部と前記第2金属部とが接する状態となることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
  15. 請求項1乃至の何れか一項に記載の電気光学装置を備えた電子機器であって、
    前記ミラーに光源光を照射する光源部を有することを特徴とする電子機器。
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