JP6519982B2 - Method of manufacturing capacitor - Google Patents
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Description
本発明は、固体電解コンデンサなどのコンデンサの製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a capacitor such as a solid electrolytic capacitor.
固体電解コンデンサなどのコンデンサでは、素子体を形成し、該素子体に固体電解質層を生成させている。 In a capacitor such as a solid electrolytic capacitor, an element body is formed, and a solid electrolyte layer is generated in the element body.
この固体電解質層を形成したコンデンサ素子を備えるコンデンサに関し、導電性高分子分散体溶液を用いてコンデンサ素子中に導電性高分子層を形成することが知られている(たとえば、特許文献1)。
It is known that a conductive polymer layer is formed in a capacitor element using a conductive polymer dispersion solution in a capacitor including a capacitor element in which the solid electrolyte layer is formed (for example, Patent Document 1).
ところで、このような導電性高分子層を形成したコンデンサ素子を備えるコンデンサでは、高耐圧化が可能である。このため、使用電圧が20〔WV〕から35〔WV〕へと上昇しているたとえば、車載用途、インバータなど、各種の用途に適している。 By the way, in a capacitor including a capacitor element in which such a conductive polymer layer is formed, it is possible to increase the withstand voltage. For this reason, it is suitable for various uses, such as a car-mounted use and an inverter etc. whose working voltage is rising from 20 [WV] to 35 [WV].
しかしながら、導電性高分子の分散体溶液の導電性高分子の微粒子の濃度は低いため、固体電解質層がコンデンサ素子内に十分に充填されない場合があり、コンデンサ素子の保形性が維持できず、その変形によって漏れ電流が大きくなることが確認されている。 However, since the concentration of the conductive polymer microparticles in the dispersion solution of the conductive polymer is low, the solid electrolyte layer may not be sufficiently filled in the capacitor element, and the shape retention property of the capacitor element can not be maintained, It has been confirmed that the leakage current is increased by the deformation.
図4は、樹脂モールドによってコンデンサ素子に変形を生じたコンデンサを示している。コンデンサ102では、コンデンサ素子104の形成の後、導電性高分子の分散体溶液による固体電解質層を形成した後、モールド処理によって樹脂モールド層106が形成されている。導電性高分子の分散体溶液による固体電解質層が形成されたコンデンサ素子104には電極箔間に空隙108が生じる。 FIG. 4 shows a capacitor in which the capacitor element is deformed by resin molding. In the capacitor 102, after the formation of the capacitor element 104, the solid electrolyte layer is formed of the dispersion solution of the conductive polymer, and then the resin mold layer 106 is formed by molding. A void 108 is generated between the electrode foils in the capacitor element 104 in which the solid electrolyte layer is formed of the dispersion solution of the conductive polymer.
このような空隙108を有するコンデンサ素子104を成形金型のキャビティ内に設置し、モールド樹脂を注入すると、このモールド樹脂の射出成形の圧力がコンデンサ素子104に作用する。この射出成形の圧力は大きく、コンデンサ素子104の保形耐圧を超える。このため、コンデンサ素子104は、射出成形圧力に耐えられず、図4に示すように、真円に近い円筒体に屈曲部110を生ずるなど、素子変形が発生する。 When the capacitor element 104 having such an air gap 108 is placed in the cavity of a molding die and a mold resin is injected, the pressure for injection molding of the mold resin acts on the capacitor element 104. The pressure of the injection molding is large and exceeds the shape retention pressure of the capacitor element 104. For this reason, the capacitor element 104 can not withstand the injection molding pressure, and as shown in FIG. 4, element deformation occurs such that a bent portion 110 is produced in a cylindrical body close to a perfect circle.
このような変形は電極箔間の間隔が歪になるなど、コンデンサ素子104の漏れ電流特性を変化させることになる。このようなコンデンサ素子104を備えるコンデンサ102では、漏れ電流が増大するなどの課題がある。 Such deformation changes the leakage current characteristics of the capacitor element 104, such as distortion of the distance between the electrode foils. The capacitor 102 having such a capacitor element 104 has problems such as an increase in leakage current.
そこで、本発明の目的は上記課題に鑑み、固体電解質層が形成されたコンデンサ素子の保形性を高め、樹脂モールドによる素子の劣化を防止することにある。
Then, in view of the above-mentioned subject, the object of the present invention is to improve shape retention of a capacitor element in which a solid electrolyte layer is formed, and to prevent deterioration of the element due to resin molding.
上記目的を達成するため、本発明のコンデンサの製造方法は、電極箔とセパレータを巻回して素子体を形成する工程と、前記素子体に導電性高分子の分散体溶液または可溶性導電性高分子溶液を含浸して固体電解質層を形成してコンデンサ素子を形成する工程と、前記コンデンサ素子の前記電極箔間および前記電極箔と前記セパレータの間に生じた空隙内に素子形状を保持する保形材料を充填する工程と、前記保形材料を充填したコンデンサ素子の外周囲に樹脂モールド層を形成する工程とを含んでいる。
In order to achieve the above object, the method for producing a capacitor according to the present invention comprises the steps of winding an electrode foil and a separator to form a device body, a dispersion solution of a conductive polymer in the device body or a soluble conductive polymer shape retention for holding and forming a capacitor element solution was impregnated to form a solid electrolyte layer, the element shape in the gap generated between the said electrode foil and between the electrode foil of the capacitor element separator The steps of: filling the material; and forming a resin mold layer on the outer periphery of the capacitor element filled with the shape-retaining material .
本発明によれば、次のような効果が得られる。 According to the present invention, the following effects can be obtained.
(1) コンデンサ素子の空隙に保形材料が充填されているので、コンデンサ素子の保形性が高められ、樹脂モールド圧力による素子変形を防止できる。 (1) Since the shape retaining material is filled in the air gap of the capacitor element, the shape retaining property of the capacitor element can be enhanced, and element deformation due to resin mold pressure can be prevented.
(2) 素子変形が抑制され、漏れ電流を低減でき、コンデンサ特性を改善できる。 (2) Element deformation is suppressed, leakage current can be reduced, and capacitor characteristics can be improved.
(3) コンデンサ素子内に保形材料を充填することによってコンデンサ素子の保形性を向上させるので、コンデンサ素子が大きくなりにくく、小型化の要求に対応できる。 (3) Since the shape retention property of the capacitor element is improved by filling the shape retaining material in the capacitor element, the capacitor element is unlikely to be large, and the demand for miniaturization can be met.
そして、本発明の他の目的、特徴および利点は、添付図面および各実施の形態を参照することにより、一層明確になるであろう。
And, other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent by referring to the attached drawings and the respective embodiments.
図1は、本発明の一実施の形態に係るコンデンサの製造工程を示している。この製造工程は、本発明のコンデンサの製造方法の一例である。 FIG. 1 shows a manufacturing process of a capacitor according to an embodiment of the present invention. This manufacturing process is an example of the method of manufacturing the capacitor of the present invention.
この製造工程には、素子形成工程(S11)、固体電解質層形成工程(S12)、ガラス充填工程(S13)および樹脂モールド工程(S14)の各工程が含まれる。 The manufacturing process includes the element forming process (S11), the solid electrolyte layer forming process (S12), the glass filling process (S13), and the resin molding process (S14).
素子形成工程は陽極箔および陰極箔を含む巻回素子を形成する。巻回素子の形成ではたとえば、陽極箔および陰極箔の間にセパレータを挟み込んで巻回し、円筒状の巻回素子を形成する。陽極箔および陰極箔はたとえば、アルミニウム箔で形成される。 The element formation process forms a wound element including an anode foil and a cathode foil. In the formation of the wound element, for example, the separator is sandwiched between the anode foil and the cathode foil and wound to form a cylindrical wound element. The anode foil and the cathode foil are formed of, for example, aluminum foil.
固体電解質層形成工程では、素子形成工程で形成された巻回素子の陽極箔および陰極箔の表面に固体電解質層を形成し、コンデンサ素子を形成する。 In the solid electrolyte layer forming step, a solid electrolyte layer is formed on the surfaces of the anode foil and the cathode foil of the wound element formed in the element forming step to form a capacitor element.
ガラス充填工程では、固体電解質層形成工程で固定電解質層が形成されたコンデンサ素子に生じている空隙に液状ガラスを充填する。この液状ガラスは、コンデンサ素子の素子形状を保持する保形材料の一例である。 In the glass filling step, the liquid glass is filled in the space generated in the capacitor element on which the fixed electrolyte layer is formed in the solid electrolyte layer forming step. This liquid glass is an example of a shape-retaining material that retains the element shape of the capacitor element.
樹脂モールド工程では、ガラス充填によって保形性が高められたコンデンサ素子の外面に樹脂モールド処理により樹脂モールド層を形成する。 In the resin molding step, a resin mold layer is formed by resin molding on the outer surface of the capacitor element whose shape retention has been enhanced by glass filling.
図2は、製造されたコンデンサの断面を示している。このコンデンサ2はたとえば、固体電解コンデンサである。
FIG. 2 shows a cross section of the manufactured capacitor. This
このコンデンサ2には既述の巻回素子であるコンデンサ素子4を備えており、このコンデンサ素子4の周囲には樹脂モールド層6が形成されている。コンデンサ素子4は、素子中心8を中心に巻回され、空隙10には液状ガラス12が充填されている。これにより、コンデンサ素子4は、巻回素子の原型が保持され、この実施の形態では、真円に近い円形断面を持つ円筒体を成している。コンデンサ素子4には陽極側および陰極側の外部端子14−1、14−2が引き出されている。陽極側の外部端子14−1はたとえば、陽極箔に接続され、陰極側の外部端子14−2は陰極箔に接続されている。
The
この実施の形態では、液状ガラス12が充填されている空隙10を素子中心8および外部端子14−1、14−2の引出部に明示しているが、これに限定されるものではない。電極箔間や電極箔・セパレータ間に生じた空隙10にも同様に液状ガラス12が充填される。これにより、巻回状態の素子形状が保持される。
In this embodiment, the
<一実施の形態の効果> <Effect of one embodiment>
(1) 巻回素子であるコンデンサ素子4は液状ガラス12の充填により、巻回素子としての原型形状に保形される。
(1) The capacitor element 4 which is a winding element is held in the original shape as a winding element by filling the
(2) このようなコンデンサ素子4を成形型のキャビティに設置すれば、樹脂モールドの射出圧力に耐え、コンデンサ素子4の素子変形を防止できる。 (2) If such a capacitor element 4 is installed in a cavity of a mold, it can withstand the injection pressure of the resin mold, and element deformation of the capacitor element 4 can be prevented.
(3) このように素子変形のないコンデンサ素子4を備えるコンデンサ2では、素子変形による漏れ電流を低減できる。
(3) In the
(4) コンデンサ素子4を被覆し、この被覆によりコンデンサ素子の硬度を高める従来技術と比較し、コンデンサ素子4内に液状ガラス12を充填することによってコンデンサ素子4の保形性を向上させるので、コンデンサ素子4を小さくでき、コンデンサ素子4やコンデンサ2を小型化できる。
(4) Since the capacitor element 4 is filled with the
図3は、本発明の実施例に係るコンデンサの製造工程を示している。 FIG. 3 shows a manufacturing process of a capacitor according to an embodiment of the present invention.
この製造工程は一例として固体電解コンデンサの製造工程である。この製造工程には、巻回工程(S21)、固体電解質層形成工程(S22、S23)、保形処理工程(S24、S25)、樹脂モールド工程(S26)およびエージング工程(S27)が含まれる。 This manufacturing process is a manufacturing process of a solid electrolytic capacitor as an example. The manufacturing process includes a winding process (S21), a solid electrolyte layer forming process (S22, S23), a shape retaining process (S24, S25), a resin molding process (S26) and an aging process (S27).
巻回工程(S21)では、素子材料である陽極箔、陰極箔およびセパレータを巻回する。一例として陽極箔の表裏面にセパレータが重ねられ、このセパレータを介在させて陰極箔が設置される。この積層材料を巻回する。このような巻回処理により、固体電解質層形成前の素子体が形成される。 In the winding step (S21), an anode foil, a cathode foil and a separator which are element materials are wound. As an example, separators are superimposed on the front and back surfaces of the anode foil, and the cathode foil is placed with the separator interposed. The laminated material is wound. By such a winding process, an element before forming the solid electrolyte layer is formed.
固体電解質層形成工程(S22、S23)では、巻回工程で得られた素子体に固体電解質層を形成する。固体電解質にはたとえば、導電性高分子が用いられる。この固体電解質層の形成には浸漬工程(S22)および乾燥工程(S23)が含まれる。 In the solid electrolyte layer forming step (S22, S23), a solid electrolyte layer is formed on the element body obtained in the winding step. For example, a conductive polymer is used for the solid electrolyte. The formation of the solid electrolyte layer includes an immersion step (S22) and a drying step (S23).
浸漬工程(S22)では、導電性高分子の分散体溶液に素子を浸漬し、減圧環境下で素子体に固体電解質を含浸する。つまり、浸漬工程は分散体溶液の含浸工程である。コンデンサ素子4の素子体に含浸する導電性高分子の分散体溶液は、溶媒に導電性高分子の微粒子を分散させた溶液である。この導電性高分子の微粒子は、概してその粒径は、100〔nm〕以下と極めて小さいものである。導電性高分子としては、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、およびこれらの共重合体などが挙げられる。中でも重合の容易さ、空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類およびポリアニリン類が好ましい。ポリチオフェン類の中では、ポリエチレンジオキシチオフェンが酸化形態で非常に高い導電性を有するので好ましい。導電性高分子の分散体溶液の溶媒としては、水および/または有機溶剤が挙げられる。この分散体溶液には、ポリスチレンスルホン酸等のスルホン酸系のドーパントを含有させることが好ましく、その他、界面活性剤や有機バインダー等を含有させてもよい。この導電性高分子の分散体溶液は、pH調整剤等を利用してそのpHを3未満としている。したがって、分散体溶液の酸性度は高いものとなっている。また導電性高分子の分散体溶液中の導電性高分子の微粒子の濃度は1〜5〔wt%〕の範囲が好ましい。ここでいう含浸とは、素子体中に分散体溶液を含ませる処理をいい、たとえば素子体を分散体溶液に浸漬することで素子体中に分散体溶液を含ませることもできる。この含浸工程は、常圧化で行うこともできるが、減圧下または加圧下で行うことで、陽極箔および陰極箔のエッチングピットの深部にまで、導電性高分子層を形成することができる。固体電解質層を生成させた素子体を乾燥工程(S23)により乾燥させる。 In the immersion step (S22), the element is immersed in a dispersion solution of a conductive polymer, and the element body is impregnated with a solid electrolyte under a reduced pressure environment. That is, the immersing step is a step of impregnating the dispersion solution. The dispersion solution of the conductive polymer impregnated in the element body of the capacitor element 4 is a solution in which fine particles of the conductive polymer are dispersed in a solvent. Generally, the particle size of the conductive polymer fine particles is as small as 100 nm or less. Examples of the conductive polymer include polypyrroles, polythiophenes, polyacetylenes, polyphenylenes, polyphenylene vinylenes, polyanilines, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers of these. Among them, polypyrroles, polythiophenes and polyanilines are preferable from the viewpoint of easiness of polymerization and stability in air. Among polythiophenes, polyethylenedioxythiophene is preferred because it has very high conductivity in the oxidized form. The solvent of the dispersion solution of the conductive polymer includes water and / or an organic solvent. The dispersion solution preferably contains a sulfonic acid based dopant such as polystyrene sulfonic acid, and may further contain a surfactant, an organic binder and the like. The pH value of the dispersion solution of the conductive polymer is adjusted to less than 3 using a pH adjuster or the like. Therefore, the acidity of the dispersion solution is high. The concentration of the fine particles of the conductive polymer in the dispersion solution of the conductive polymer is preferably in the range of 1 to 5 wt%. The term "impregnation" as used herein refers to a treatment in which the dispersion solution is contained in the element body, and for example, the dispersion body can be contained in the element body by immersing the element body in the dispersion solution. This impregnation step can be carried out under normal pressure, but by carrying out under reduced pressure or under pressure, the conductive polymer layer can be formed to the deep part of the etching pits of the anode foil and the cathode foil. The element having the solid electrolyte layer formed thereon is dried in the drying step (S23).
乾燥工程(S23)では、乾燥炉中の雰囲気温度たとえば、150〔℃〕に維持し、一定時間としてたとえば、30〔分〕放置する。この乾燥工程(S23)によって、導電性高分子の分散体溶液から溶媒等を除去して、素子体の陽極箔と陰極箔間に導電性高分子層を形成する。なお、導電性高分子の分散体溶液の導電性高分子の微粒子の濃度は低いため、素子体中への導電性高分子の搭載量を確保するにも、浸漬工程(S22)−乾燥工程(S23)は複数回たとえば、3回程度繰り返すことが好ましい。これにより、素子体がコンデンサ素子4として形成される。 In the drying step (S23), the atmosphere temperature in the drying furnace, for example, is maintained at 150 ° C., and left for 30 minutes, for example, as a fixed time. In the drying step (S23), the solvent and the like are removed from the dispersion solution of the conductive polymer to form a conductive polymer layer between the anode foil and the cathode foil of the element body. In addition, since the concentration of the fine particles of the conductive polymer in the dispersion solution of the conductive polymer is low, the immersion step (S22) -drying step (S22) is also performed to secure the loading amount of the conductive polymer in the element body. S23) is preferably repeated several times, for example, three times. Thus, the element body is formed as the capacitor element 4.
保形処理工程(S24、S25)には、保形材料の浸漬工程(S24)および保形材料の硬化工程(S25)が含まれる。保形材料には充填材料が用いられ、この充填材料として液状ガラスが用いられる。 The shape retaining treatment step (S24, S25) includes a step of immersing the shape retaining material (S24) and a step of curing the shape retaining material (S25). A filler material is used as the shape retaining material, and liquid glass is used as the filler material.
浸漬工程(S24)では、液状ガラス12に素子体を浸漬し、該素子体の空隙10に液状ガラス12を充填する。これにより、素子体の電極箔上の固体電解質層に生じている空隙10に液状ガラス12が充填される。そして、硬化工程(S25)では、コンデンサ素子4の空隙10中の液状ガラス12を硬化させる。空隙10に充填された液状ガラス12は硬化して固形化する。これにより、コンデンサ素子4が巻回素子の原型状態に維持される。
In the immersing step (S24), the element body is immersed in the
樹脂モールド工程(S26)では、保形処理されたコンデンサ素子4を成形型のキャビティ内に装填し、該キャビティに流動化しているモールド樹脂を注入する。これにより、キャビティ内形状に外観形状が成形された樹脂モールド層6がコンデンサ素子4の外周囲に形成される。 In the resin molding step (S26), the capacitor element 4 subjected to shape retention processing is loaded into the cavity of the mold, and the fluidized mold resin is injected into the cavity. Thereby, the resin mold layer 6 in which the external shape is formed into the shape in the cavity is formed on the outer periphery of the capacitor element 4.
この樹脂モールド処理の際、キャビティ内で射出成形されるモールド樹脂から射出圧力がコンデンサ素子4に作用する。この射出圧力の作用に対し、コンデンサ素子4はガラス充填によって保形強度が強化され、その保形性によって素子変形が阻止される。 During the resin molding process, injection pressure acts on the capacitor element 4 from the mold resin which is injection-molded in the cavity. In response to the action of the injection pressure, the shape retention strength of the capacitor element 4 is enhanced by the glass filling, and the shape retention property prevents the element deformation.
エージング工程(S27)では、樹脂モールド処理されたコンデンサ2にエージング処理が施され、製品としてのコンデンサ2が製造される。
In the aging step (S27), the resin-molded
この製造工程では、固体電解質層の形成に導電性高分子の分散体溶液を用いたが、導電性高分子を溶解した導電性高分子溶液たとえば、可溶性導電性高分子溶液を用いて固体電解質層を形成してもよい。前者は分散体であることから、導電性高分子が溶液に溶けず分散しているのに対し、後者の可溶性導電性高分子溶液では導電性高分子が溶液に溶けている状態である点で相違する。いずれの処理によって、コンデンサ素子4に固体電解質層を形成してもよく、本発明はこれらの方法に限定されるものではない。 In this manufacturing process, a dispersion solution of a conductive polymer was used to form a solid electrolyte layer, but a conductive polymer solution in which the conductive polymer is dissolved, for example, a solid electrolyte layer using a soluble conductive polymer solution May be formed. Since the former is a dispersion, the conductive polymer is not dissolved in the solution but dispersed, while the soluble conductive polymer solution of the latter is in the state where the conductive polymer is dissolved in the solution. It is different. The solid electrolyte layer may be formed on the capacitor element 4 by any treatment, and the present invention is not limited to these methods.
〔実験結果〕 〔Experimental result〕
<コンデンサ素子4の充填率> <Packing factor of capacitor element 4>
固体電解質層形成前(巻回直後)のコンデンサ素子4、固体電解質層形成後のコンデンサ素子4および液状ガラス12の充填後のコンデンサ素子4の充填率を測定した。コンデンサ素子の充填率は以下の通りである。このコンデンサ4の充填率は、固体電解質層形成後であれば、コンデンサ素子形成直後(固体電解質形成前の素子)に存在する素子中の空隙における固体電解質が充填されている率であり、液状ガラス充填後であれば、コンデンサ素子形成直後(固体電解質形成前の素子)に存在する素子中の空隙における固体電解質および液状ガラスが充填されている率である。
The filling factor of capacitor element 4 before solid electrolyte layer formation (immediately after winding), capacitor element 4 after solid electrolyte layer formation, and capacitor element 4 after filling of
固体電解質層形成後 :20〜35〔%〕
液状ガラス充填後 :70〜80〔%〕
After solid electrolyte layer formation: 20 to 35 [%]
After filling with liquid glass: 70 to 80 [%]
上記の通り、液状ガラス12をコンデンサ素子4に充填することによって、コンデンサ素子4の充填率は大幅に向上している。そのため、外装樹脂の注入時の圧力によるコンデンサ素子4の変形を防止すると考えられる。
As described above, by filling the
<コンデンサ素子の硬度> <Hardness of capacitor element>
液状ガラス12を充填しないコンデンサ素子4と充填したコンデンサ素子4の硬度を比較した。硬度は、直径5.66〔mm〕、高さ1.6〔mm〕のコンデンサ素子に、直径方向に一定の荷重を加えたときのコンデンサ素子4の変形率で確認した。つまり、コンデンサ素子4の側面をコンデンサ素子4の中心側に向かって荷重を加える。コンデンサ素子4の変形率は表1の通りである。
The hardness of the capacitor element 4 not filled with the
上記の通り、液状ガラス12を充填することによって、コンデンサ素子4は変形し難くなっている。
As described above, the filling of the
なお、コンデンサ素子の充填率および硬度を測定した上記実験は、いずれも導電性高分子の分散体溶液によって固体電解質層を形成したコンデンサを用いているが、可溶性導電性高分子溶液によって固体電解質層を形成したコンデンサにおいても同様の結果となる。 Although the above experiments in which the filling rate and hardness of the capacitor element were measured all used a capacitor in which a solid electrolyte layer was formed by a dispersion solution of a conductive polymer, but a solid electrolyte layer was formed by a soluble conductive polymer solution. The same result is obtained for the capacitor in which
〔漏れ電流の測定〕 [Measurement of leakage current]
この漏れ電流の測定には、液状ガラスにより保形処理した複数(たとえば、n=9、但しnは個数)のコンデンサと、未処理の複数(たとえば、n=9)のコンデンサを用意した各コンデンサは同一特性のものであり、組立、エージング処理後の各コンデンサの漏れ電流を測定した。固体電解質層の形成に導電性高分子の分散体溶液または可溶性導電性高分子溶液を用いたコンデンサの漏れ電流の初期値は以下の通りである。 For the measurement of the leakage current, each capacitor is prepared with a plurality of (for example, n = 9, but n is the number) capacitors which are shape-retained with liquid glass and a plurality of unprocessed (for example, n = 9) capacitors Of the same characteristics, the leakage current of each capacitor after assembly and aging was measured. The initial value of the leakage current of a capacitor using a dispersion solution of a conductive polymer or a soluble conductive polymer solution for forming a solid electrolyte layer is as follows.
<固体電解質層の形成に導電性高分子の分散体溶液を用いたもの> <Use of dispersion solution of conductive polymer for formation of solid electrolyte layer>
a ガラス充填無しのもの:漏れ電流=198.17〔μA〕 a Without glass filling: Leakage current = 198. 17 [μA]
b ガラス充填有りのもの:漏れ電流=0.13〔μA〕 b With glass filling: Leakage current = 0.13 [μA]
<固体電解質層の形成に可溶性導電性高分子溶液を用いたもの> <Use of soluble conductive polymer solution for formation of solid electrolyte layer>
a ガラス充填無しのもの:漏れ電流=20935.89〔μA〕 a Without glass filling: Leakage current = 20935.89 [μA]
b ガラス充填有りのもの:漏れ電流=153.58〔μA〕 b With glass filling: Leakage current = 153.58 [μA]
この実験から明らかなように、保形処理したコンデンサの漏れ電流は極めて少なく、未処理のコンデンサの漏れ電流に対し、1000分の1程度の大幅な削減効果が得られることが確認されている。コンデンサ素子4に対する樹脂モールド処理前の保形処理が漏れ電流削減に大きく貢献し、コンデンサの信頼性を高めることが理解されよう。 As is clear from this experiment, it is confirmed that the leakage current of the capacitor for which shape retention has been processed is extremely small, and a significant reduction effect of about 1/1000 can be obtained with respect to the leakage current of the unprocessed capacitor. It will be understood that the shape-retaining treatment prior to the resin molding treatment for the capacitor element 4 contributes significantly to the reduction of the leakage current and enhances the reliability of the capacitor.
〔他の実施の形態〕 Other Embodiments
(1) 上記実施の形態では、固体電解コンデンサの製造工程を例示したが、電解コンデンサなどのコンデンサであってもよい。 (1) Although the manufacturing process of a solid electrolytic capacitor was illustrated in the above-mentioned embodiment, capacitors, such as an electrolytic capacitor, may be used.
(2) 上記実施の形態では、コンデンサ素子4に生じる空隙10について、巻回中心部や外部端子の巻き込み部分を明示しているが、これに限定されるものではなく、コンデンサ素子4の電極箔の固体電解質層に生じる空隙を含むものである。
(2) In the above embodiment, the winding center portion and the winding portion of the external terminal are clearly indicated for the
(3) 上記実施の形態では保形材料に液状ガラス12を例示したが、液状ガラス12以外の他の充填物であってもよく、充填物は導電性または非導電性のいずれであってもよい。たとえば、ポリウレタン樹脂、ナイロン、ポリエステル、ポリエステルイミド、ポリエステルイミドナイロン、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、フェノール樹脂、アミノ樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル、アルキド、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、シリコーンオイル、シリコーンゲル、フッ素樹脂、アルコキシシラン、アルコキシシランエポキシ複合樹脂、セルロース、アミロース、液晶ポリマー、ポリアニオン、ポリカチオン、水溶性単分子化合であり2個以上のヒドロキシル基を有する化合物を用いても上記実施の形態と同様な効果を得ることができる。
(3) Although
なお、本発明は、上記実施の形態や実施例の記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載され、または発明を実施するための形態に開示された発明の要旨に基づき、当業者において様々な変形や変更が可能である。斯かる変形や変更が、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
Note that the present invention is not limited to the description of the above-described embodiment and examples, but is based on the gist of the invention described in the claims or disclosed in the modes for carrying out the invention. Various modifications and changes are possible at the vendor. It goes without saying that such variations and modifications are included in the scope of the present invention.
本発明のコンデンサの製造方法は、樹脂モールド層で被覆されるコンデンサ素子の空隙内に素子形状を保持する保形材料を充填し、保形性を高めたので、モールド処理による素子変形を防止でき、素子変形による漏れ電流の増加を抑制できる。
In the method of manufacturing a capacitor according to the present invention, since the shape retaining material for retaining the element shape is filled in the air gap of the capacitor element covered with the resin mold layer, and the shape retaining property is enhanced. The increase in the leakage current due to the element deformation can be suppressed.
2 コンデンサ
4 コンデンサ素子
6 樹脂モールド層
8 素子中心
10 空隙
12 液状ガラス
14−1 陽極側の外部端子
14−2 陰極側の外部端子
102 コンデンサ
104 コンデンサ素子
106 樹脂モールド層
108 空隙
110 屈曲部
DESCRIPTION OF
Claims (1)
前記素子体に導電性高分子の分散体溶液または可溶性導電性高分子溶液を含浸して固体電解質層を形成してコンデンサ素子を形成する工程と、
前記コンデンサ素子の前記電極箔間および前記電極箔と前記セパレータの間に生じた空隙内に素子形状を保持する保形材料を充填する工程と、
前記保形材料を充填したコンデンサ素子の外周囲に樹脂モールド層を形成する工程と、
を含むことを特徴とするコンデンサの製造方法。 Winding an electrode foil and a separator to form an element;
Impregnating the element body with a dispersion solution of a conductive polymer or a soluble conductive polymer solution to form a solid electrolyte layer to form a capacitor element;
Filling a shape-retaining material for retaining the shape of the element in the gaps formed between the electrode foils of the capacitor element and between the electrode foil and the separator;
Forming a resin mold layer on the outer periphery of the capacitor element filled with the shape retaining material;
A method of manufacturing a capacitor comprising:
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