JP6518460B2 - Method of manufacturing heat dissipation device - Google Patents

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本発明は、熱交換器の外面に発熱を伴う部品を良好に面接合された放熱装置の製造方法およびその関連技術に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a heat dissipation device in which components with heat generation are well surface-joined to the outer surface of a heat exchanger, and related techniques.

絶縁基板にアルミニウム回路層を接合した電子素子搭載用基板をヒートシンクにろう付した放熱装置において、熱抵抗が低減して良好な放熱性が得られることは特許文献1に示されている。また、前記放熱装置では、絶縁基板とヒートシンクとの間に発生する応力を緩和するために応力吸収空間として複数の貫通穴を有する応力緩和層を介在させている。かかる積層構造の放熱装置では、応力緩和層が電子素子搭載用基板に搭載した電子素子の排熱経路となる。   It is disclosed in Patent Document 1 that the heat resistance is reduced in the heat dissipation device in which the electronic element mounting substrate in which the aluminum circuit layer is joined to the insulating substrate is brazed to the heat sink. Further, in the heat dissipation device, a stress relaxation layer having a plurality of through holes is interposed as a stress absorption space in order to relieve the stress generated between the insulating substrate and the heat sink. In the heat dissipation device having such a laminated structure, the stress relieving layer serves as a heat removal path of the electronic element mounted on the electronic element mounting substrate.

また、特許文献2には、自動車用熱交換器のチューブ用材料として、Mn、Cu、Si、Feを含むアルミニウム合金心材の一方の面に犠牲腐食層を積層し、他方の面にろう材を積層したろう付用クラッド材が記載されている。前記クラッド材は犠牲腐食層が内側となるように曲成し、外面に波形フィンをろう付するチューブの内面防食を図ったものである。   In Patent Document 2, a sacrificial corrosion layer is laminated on one surface of an aluminum alloy core material containing Mn, Cu, Si, and Fe as a tube material of a heat exchanger for automobiles, and a brazing material is formed on the other surface. A laminated brazing clad material is described. The clad material is bent so that the sacrificial corrosion layer is inside, and the inner surface of the tube brazed with a corrugated fin on the outer surface is protected.

特開2006−294699号公報JP, 2006-294699, A 特開2000−202680号公報JP 2000-202680 A

特許文献2に記載されたチューブの外面にろう付されるのは波形のフィンであるから、接合部は線状であり接合面積は小さい。一方、特許文献1の放熱装置ではヒートシンクの外面は応力緩和層と広い面積で接合される。前記応力緩和層の貫通穴は冷熱サイクル下の応力吸収空間として必要であり、ろう付時に酸化膜を排出する空間としても必要であるが、ヒートシンクに排熱する際の熱抵抗を低減し、また放熱装置の設計自由度を向上のために、貫通穴の面積を可及的に小さくすることが求められている。このため、ヒートシンクと応力緩和層とは広い面積でろう付される。広い面積を良好にろう付する場合は、線状のろう付よりもさらにろうの濡れ拡がり性を高めて酸化膜の排出を促す必要がある。   Since it is a corrugated fin that is brazed to the outer surface of the tube described in Patent Document 2, the junction is linear and the junction area is small. On the other hand, in the heat dissipation device of Patent Document 1, the outer surface of the heat sink is joined to the stress relieving layer over a wide area. The through holes of the stress relieving layer are necessary as a stress absorbing space under thermal cycle, and also as a space for discharging an oxide film at the time of brazing, but the thermal resistance at the time of exhausting heat to the heat sink is reduced. In order to improve the design freedom of the heat dissipation device, it is required to reduce the area of the through hole as much as possible. For this reason, the heat sink and the stress relaxation layer are brazed in a large area. In the case of good brazing of a large area, it is necessary to further enhance the wettability and spreadability of the braze to promote the discharge of the oxide film more than the linear brazing.

また、ヒートシンクの作動流体として水を用いる場合は内面においても高い耐食性が求められる。   Moreover, when using water as a working fluid of a heat sink, high corrosion resistance is calculated | required also on the inner surface.

しかしながら、特許文献2に記載されたろう付用クラッド材は波形フィンを線状に接合するために使用されるものであり、広い面積をろう付するためにはさらにろう材の濡れ拡がり性の良い材料が必要である。   However, the brazing clad material described in Patent Document 2 is used to join corrugated fins in a linear manner, and in order to braze a large area, a material having better wettability and spreadability of the brazing material. is necessary.

本発明は上述した背景技術に鑑み、熱交換器の外面におけるろう付性を良好にして、優れた放熱性能を有する放熱装置の製造方法の提供を目的とする。   An object of the present invention is, in view of the background art described above, to provide a method of manufacturing a heat dissipation device having excellent heat dissipation performance by improving the brazability of the outer surface of the heat exchanger.

即ち、本発明は下記[1]〜[10]に記載の構成を有する。   That is, this invention has the structure as described in following [1]-[10].

[1]熱交換器を構成するアルミニウム合金材が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであり、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品を、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.3質量%を超え1.5質量%以下のBiを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて面接合することを特徴とする放熱装置の製造方法。
[1] The aluminum alloy material constituting the heat exchanger comprises Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass and Si: 0.05 to 0.4% by mass And the area ratio of the Al—Fe intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the average particle size of the crystals is 50 to 500 μm,
On the outer surface of the heat exchanger made of the aluminum alloy material, parts with heat generation are contained with 0.02 to 0.7% by mass of Fe and 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less of Bi A method of manufacturing a heat dissipating device characterized by surface bonding using an Al-Si based alloy brazing material.

[2]前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面を前記熱交換器の外面に面接合する前項1に記載の放熱装置の製造方法。   [2] The component accompanied by heat generation is an electronic device mounting substrate to which an aluminum circuit layer mounting the electronic device is brazed to one surface of the insulating substrate, and the opposite of the aluminum circuit layer of the electronic device mounting substrate The method of manufacturing a heat dissipation device according to claim 1, wherein the side surface is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

[3]前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、さらにCu:0.2〜0.7質量%、Mg:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.4質量%、V:0.05〜0.4質量%およびTi:0.05〜0.4質量%のうちの少なくとも1種を含有する前項1または2に記載の放熱装置の製造方法。   [3] The aluminum alloy material constituting the heat exchanger further contains Cu: 0.2 to 0.7% by mass, Mg: 0.05 to 0.4% by mass, and Zr: 0.05 to 0.4% 3. The method for producing a heat dissipation device according to the above 1 or 2, which contains at least one of%, V: 0.05 to 0.4% by mass, and Ti: 0.05 to 0.4% by mass.

[4]前記Al−Si系合金ろう材はSr:0.005〜0.2質量%を含有する前項1〜3のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [4] The method for manufacturing a heat dissipation device according to any one of the aforementioned Items 1 to 3, wherein the Al—Si alloy brazing material contains Sr: 0.005 to 0.2 mass%.

[5]前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、600〜640℃で6〜24時間の均質化処理が施された合金材である前項1〜4のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [5] The aluminum alloy material constituting the heat exchanger is an alloy material subjected to homogenization treatment at 600 to 640 ° C. for 6 to 24 hours according to any one of the preceding items 1 to 4. Method of manufacturing a heat dissipation device.

[6]前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、350〜450℃で1〜12時間の焼鈍が施された合金材である前項1〜5のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [6] The heat dissipation device according to any one of the preceding items 1 to 5, wherein the aluminum alloy material constituting the heat exchanger is an alloy material subjected to annealing at 350 to 450 ° C. for 1 to 12 hours. Manufacturing method.

[7]前記電子素子搭載用基板と熱交換器との間に応力緩和層を介在させ、前記応力緩和層を熱交換器の外面に前記Al−Si系合金ろう付を用いて面接合する前項2〜6のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [7] The preceding item wherein a stress relieving layer is interposed between the electronic element mounting substrate and the heat exchanger, and the stress relieving layer is surface-joined to the outer surface of the heat exchanger using the Al-Si based alloy brazing. The manufacturing method of the heat radiating device of any one of 2-6.

[8]前記熱交換器の中空部を循環する作動流体が水である前項1〜7のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [8] The method for manufacturing a heat dissipation device as recited in any one of the aforementioned Items 1 to 7, wherein the working fluid circulating in the hollow portion of the heat exchanger is water.

[9]熱交換器が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであるアルミニウム合金材で構成され、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品が、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.3質量%を超え1.5質量%以下のBiを含有するAl−Si系合金ろう材によって面接合されていることを特徴とする放熱装置。
[9] The heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass and Si: 0.05 to 0.4% by mass, and Al— It is composed of an aluminum alloy material in which the area ratio of the Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the average particle size of crystals is 50 to 500 μm,
Parts with heat generation contain 0.02 to 0.7% by mass of Fe and 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less of Bi on the outer surface of the heat exchanger made of the aluminum alloy material. A heat dissipation device characterized in that surface bonding is performed by using an Al-Si based alloy brazing material.

[10]前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面が前記熱交換器の外面に面接合されている前項9に記載の放熱装置。   [10] The component with heat generation is an electronic device mounting substrate to which an aluminum circuit layer for mounting the electronic device is brazed to one surface of the insulating substrate, and the opposite of the aluminum circuit layer of the electronic device mounting substrate The heat dissipation device according to the above 9, wherein the side surface is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

[1]に記載の発明によれば、熱交換器を構成するアルミニウム合金材の化学組成および金属組織が規定され、さらにこの熱交換器の外面に発熱を伴う部品をFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて接合するので、ろう材が十分に濡れ拡がって良好に面接合することができる。熱交換器と発熱を伴う部品とを良好に面接合することができるので、前記部品が発生する熱を熱交換器に排熱する際の熱抵抗が少なく優れた放熱性能を有する放熱装置を製造できる。また、熱交換器を構成するアルミニウム合金材は耐食性に優れているので、耐食性に優れた放熱装置を製造できる。   According to the invention described in [1], the chemical composition and metallographic structure of the aluminum alloy material that constitutes the heat exchanger are defined, and further, the part with heat generation on the outer surface of the heat exchanger is made of Al containing Fe and Bi. -Since bonding is performed using a Si-based alloy brazing material, the brazing material can be sufficiently wet-spreaded to achieve good surface bonding. Since the heat exchanger and parts with heat generation can be surface-joined favorably, a heat dissipation device having excellent heat dissipation performance with little heat resistance when exhausting the heat generated by the parts to the heat exchanger is manufactured. it can. Moreover, since the aluminum alloy material which comprises a heat exchanger is excellent in corrosion resistance, it can manufacture the thermal radiation apparatus excellent in corrosion resistance.

[2]に記載の発明によれば、熱交換器の外面に電子素子搭載用基板を面接合する放熱装置の製造において上記の効果を得ることができる。   According to the invention described in [2], the above effect can be obtained in the manufacture of a heat dissipation device in which the electronic element mounting substrate is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

[3]に記載の発明によれば、アルミニウム合金材中にCu、Mg、Zr、V、Tiのうちの1種以上の元素が添加されているので、さらに高いろう付性および耐食性が得られる。   According to the invention described in [3], since one or more elements of Cu, Mg, Zr, V, and Ti are added to the aluminum alloy material, higher brazability and corrosion resistance can be obtained. .

[4]に記載の発明によれば、FeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材にSrが添加されているので、さらに高いろう付性が得られる。   According to the invention described in [4], since Sr is added to the Al-Si based alloy brazing material containing Fe and Bi, higher brazability can be obtained.

[5]に記載の発明によれば、熱交換器を構成するアルミニウム合金材に所定の均質化処理を行うことにより、Al−Fe系金属間化合物の面積率を0.3〜1.5%、結晶の平均粒径50〜500μmの範囲に制御することができる。   According to the invention described in [5], the area ratio of the Al-Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1.5% by performing predetermined homogenization treatment on the aluminum alloy material constituting the heat exchanger. The average particle diameter of the crystals can be controlled in the range of 50 to 500 μm.

[6]に記載に発明によれば、熱交換器を構成するアルミニウム合金材に所定の焼鈍を行うことにより、Al−Fe系金属間化合物の面積率を0.3〜1.5%、結晶の平均粒径50〜500μmの範囲に制御することができる。   According to the invention described in [6], by subjecting the aluminum alloy material constituting the heat exchanger to a predetermined annealing, the area ratio of the Al-Fe based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the crystal is It can be controlled in the range of 50 to 500 μm in average particle diameter.

[7]に記載の発明によれば、熱交換器と電子素子搭載用基板とを応力緩和層を介して面接合する放熱装置の製造において上記の効果を得ることができる。   According to the invention described in [7], the above effect can be obtained in the manufacture of the heat dissipation device in which the heat exchanger and the electronic element mounting substrate are surface-bonded via the stress relaxation layer.

[8]に記載の発明によれば、熱交換器の作動流体として水を使用する厳しい腐食環境で使用する放熱装置の製造において上記効果が得られる。   According to the invention described in [8], the above effect can be obtained in the manufacture of a heat dissipation device used in a severe corrosive environment where water is used as a working fluid of a heat exchanger.

[9]に記載の発明によれば、放熱装置は、熱交換器を構成するアルミニウム合金材の化学組成および金属組織が規定され、さらにこの熱交換器の外面に発熱を伴う部品がFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて接合されているので、ろう材が十分に濡れ拡がって良好に面接合されている。かかる放熱装置では、前記部品が発生する熱を熱交換器に排熱する際の熱抵抗が少なく優れた放熱性能を有している。また、熱交換器を構成するアルミニウム合金材は耐食性に優れているので、耐食性にも優れている。   According to the invention described in [9], in the heat dissipation device, the chemical composition and metallographic structure of the aluminum alloy material constituting the heat exchanger are defined, and further, the parts with heat generation on the outer surface of the heat exchanger are Fe and Bi. Since it is joined using an Al-Si based alloy brazing material containing Al, the brazing material sufficiently wets and spreads and is well surface-joined. Such a heat dissipation device has excellent heat dissipation performance with little heat resistance when the heat generated by the components is exhausted to the heat exchanger. Moreover, since the aluminum alloy material which comprises a heat exchanger is excellent in corrosion resistance, it is excellent also in corrosion resistance.

[10]に記載の発明によれば、熱交換器の外面に電子素子搭載用基板が面接合された放熱装置において上記の効果を得ることができる。   According to the invention described in [10], the above effect can be obtained in the heat dissipation device in which the electronic element mounting substrate is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

本発明の方法によって製造する放熱装置の一実施形態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of an embodiment of a heat dissipation device manufactured by the method of the present invention. 本発明の方法によって製造する放熱装置の他の実施形態を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another embodiment of a heat dissipation device manufactured by the method of the present invention. 本発明の方法によって製造する放熱装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing still another embodiment of the heat dissipation device manufactured by the method of the present invention.

[放熱装置の構造]
図1は、本発明の方法により製造する放熱装置の一実施形態であり、ヒートシンク10と電子素子搭載用基板20とを応力緩和層30を挟んで積層した放熱装置1の仮組物を、構成部材が積層する方向で切断した断面で示している。
[Structure of heat dissipation device]
FIG. 1 shows an embodiment of a heat dissipation device manufactured according to the method of the present invention, which is a temporary assembly of the heat dissipation device 1 in which the heat sink 10 and the electronic element mounting substrate 20 are stacked with the stress relieving layer 30 interposed therebetween. It shows in a cross section cut in the direction in which the members are stacked.

ヒートシンク10は、凹部12を有する2枚の皿状部材11を合わせることによって形成される扁平中空部が作動流体を循環させる作動流体通路13となされ、この作動流体通路13に波板形のインナーフィン14が内挿されている。前記皿状部材11は、心材15の一方に面にろう材16を積層した平板状のクラッド材を、ろう材16が凹部12の内側となるようにプレス加工し、凹部12の開口周縁から略水平方向に延びる部分を接合用周縁部17としたものである。前記ヒートシンク10は2枚の皿状部材11をろう材16が内側となるように向かい合わせに配置し、凹部12でインナーフィン14を挟み付け、互いの接合用周縁部17が当接し、作動流体通路13の内壁にインナーフィン14が当接した状態に仮組されている。   The heat sink 10 has a flat hollow portion formed by combining two plate-like members 11 having a recess 12 as a working fluid passage 13 for circulating the working fluid, and the working fluid passage 13 has a corrugated inner fin 14 is interpolated. The plate-like member 11 is formed by pressing a flat clad material in which the brazing material 16 is laminated on one surface of the core material 15 so that the brazing material 16 is on the inside of the recess 12. The portion extending in the horizontal direction is the bonding peripheral edge portion 17. The heat sink 10 arranges the two plate-like members 11 so as to face each other so that the brazing material 16 is on the inner side, sandwiches the inner fins 14 with the recesses 12 and abuts the bonding peripheral edge portions 17 with each other. The inner fins 14 are temporarily assembled in a state of being in contact with the inner wall of the passage 13.

電子素子搭載用基板20は、絶縁基板21と、この絶縁基板21の一方の面に重ねられたアルミニウム回路層22と、他方の面に重ねられたアルミニウム層23とで構成されている。これらの部材21、22、23はろう材箔24、25を挟んで仮組みされている。   The electronic element mounting substrate 20 includes an insulating substrate 21, an aluminum circuit layer 22 stacked on one surface of the insulating substrate 21, and an aluminum layer 23 stacked on the other surface. These members 21, 22, 23 are temporarily assembled with the brazing foil 24, 25 interposed therebetween.

前記電子素子搭載用基板20とヒートシンク10とは応力緩和層30を介して積層されている。前記応力緩和層30は心材31の両面にろう材32、33を積層したアルミニウムクラッド材であり、クラッド後に応力吸収空間として複数の円形貫通穴34を穿設したパンチングメタルである。なお、本発明の放熱装置1に用いる応力緩和層30は貫通穴34の有るものに限定されないし、応力吸収空間の形状も限定されない。   The electronic element mounting substrate 20 and the heat sink 10 are laminated via a stress relieving layer 30. The stress relieving layer 30 is an aluminum clad material in which brazing materials 32, 33 are laminated on both sides of a core material 31, and is a punching metal in which a plurality of circular through holes 34 are formed as a stress absorbing space after cladding. The stress relieving layer 30 used in the heat dissipation device 1 of the present invention is not limited to the one having the through holes 34, and the shape of the stress absorbing space is also not limited.

前記放熱装置1は前記仮組物を一括してろう付加熱され、全ての部材がろう付される。即ち、ヒートシンク10のろう付においては、皿状部材11を構成するクラッド材のろう材16によって接合用周縁部17がろう付されて作動流体通路13が形成されるとともに、作動流体通路13の壁面にインナーフィン14がろう付される。また、電子素子搭載用基板20の各層間がろう付され、ヒートシンク10の外面に応力緩和層30を介して電子素子搭載用基板20がろう付される。その後アルミニウム回路層22上に電子素子(図示省略)が搭載されてはんだ付される。ろう付後の放熱装置1において、アルミニウム回路層22が絶縁基板21、アルミニウム層23および応力緩和層30を介してヒートシンク16と熱的に結合され、電子素子が発する熱はヒートシンク10に排熱される。   The heat radiating device 1 is brazed collectively to the temporary assembly, and the entire assembly is brazed. That is, in brazing of the heat sink 10, the bonding peripheral edge portion 17 is brazed by the brazing material 16 of the clad material constituting the plate-like member 11 to form the working fluid passage 13 and the wall surface of the working fluid passage 13 The inner fins 14 are brazed to the Further, the respective layers of the electronic element mounting substrate 20 are brazed, and the electronic element mounting substrate 20 is brazed to the outer surface of the heat sink 10 via the stress relaxation layer 30. Thereafter, an electronic element (not shown) is mounted on the aluminum circuit layer 22 and soldered. In the heat dissipation device 1 after brazing, the aluminum circuit layer 22 is thermally coupled to the heat sink 16 via the insulating substrate 21, the aluminum layer 23 and the stress relaxation layer 30, and the heat generated by the electronic element is dissipated to the heat sink 10 .

前記放熱装置1において、ヒートシンク10は本発明における熱交換器に対応し、電子素子搭載用基板20は同じく発熱を伴う部品に対応する。また、前記ヒートシンク10の皿状部材11の材料であるクラッド材の心材15が本発明における熱交換器を構成するアルミニウム合金材に対応し、応力緩和層30の材料であるクラッド材のヒートシンク10側のろう材33が同じくFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材に対応する。   In the heat dissipation device 1, the heat sink 10 corresponds to the heat exchanger in the present invention, and the electronic element mounting substrate 20 corresponds to a component that also generates heat. Further, the core material 15 of the clad material which is the material of the plate-like member 11 of the heat sink 10 corresponds to the aluminum alloy material constituting the heat exchanger in the present invention, and the heat sink 10 side of the clad material which is the material of the stress relaxation layer 30. The brazing filler metal 33 corresponds to an Al-Si based alloy brazing filler metal also containing Fe and Bi.

前記ヒートシンク10は、内面にあっては、作動流体として水を用いた場合でも十分に長い寿命が得られるように高い耐食性が求められる。また、外面にあっては、応力緩和層30がヒートシンク10への排熱経路となる構造であり、ろう付不良によるろう付面積の低下は放熱性能の低下となるため、ヒートシンク10の外面と応力緩和層30は良好に面接合されていることが求められる。前記ヒートシンク10と応力緩和層30のろう付においては、酸化膜がろう材の濡れ拡がりによって接合部の外周部および貫通穴34に排出されることによって良好なろう付が達成される。   The inner surface of the heat sink 10 is required to have high corrosion resistance so that a sufficiently long life can be obtained even when water is used as the working fluid. In addition, on the outer surface, the stress relieving layer 30 is a heat exhaust path to the heat sink 10, and the decrease in the brazing area due to the brazing defect results in a decrease in the heat radiation performance. The relaxation layer 30 is required to be well surface-bonded. In brazing of the heat sink 10 and the stress relieving layer 30, good brazing is achieved by the oxide film being discharged to the outer peripheral portion of the joint and the through hole 34 by the wetting and spreading of the brazing material.

本発明における面接合とは接合部の短辺が5mm以上の接合を意味する。接合部の形状は限定されず、幅が5mm以上の線状接合部、直径5mm以上の円形接合部は面接合に該当する。前記放熱装置1においては、ヒートシンク10と応力緩和層30との接合部が面接合であり、またインナーフィン14と作動流体通路13の壁面との接合部を除く接合部も面接合である。   The face bonding in the present invention means bonding in which the short side of the bonding portion is 5 mm or more. The shape of the bonding portion is not limited, and a linear bonding portion having a width of 5 mm or more and a circular bonding portion having a diameter of 5 mm or more correspond to surface bonding. In the heat dissipation device 1, the joint between the heat sink 10 and the stress relieving layer 30 is surface joint, and the joint except the joint between the inner fin 14 and the wall surface of the working fluid passage 13 is also surface joint.

本発明の放熱装置の製造方法は、熱交換器用を構成するアルミニウム合金材を規定し、さらに熱交換器の外面に発熱を伴う部品を面接合するろう材を規定することによって、熱交換器の良好な耐食性と、熱交換器の外面における良好な面ろう付性を得ている。   The method of manufacturing a heat dissipation device according to the present invention defines an aluminum alloy material that constitutes a heat exchanger, and further defines a brazing material that surface-joins parts with heat generation on the outer surface of the heat exchanger. Good corrosion resistance and good surface brazing on the outer surface of the heat exchanger are obtained.

[熱交換器を構成するアルミニウム合金材]
熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、アルミニウム合金中のAl−Fe系金属間化合物が耐食性とろう付性に影響を及ぼし、結晶径がろう付性に影響を及ぼすことに着目し、アルミニウム合金の化学組成を規定した上で、金属組織においてAl−Fe系金属間化合物量を任意の断面における面積率および結晶の平均粒径を規定する。上述したように、前記ヒートシンク10においては、ヒートシンク外面となるクラッド材11の心材15が前記アルミニウム合金材に対応する。
[Aluminum alloy material of heat exchanger]
With regard to the aluminum alloy material constituting the heat exchanger, attention is paid to the fact that the Al-Fe based intermetallic compound in the aluminum alloy affects the corrosion resistance and the brazeability, and the crystal diameter influences the brazeability, In the metallographic structure, the amount of Al—Fe-based intermetallic compounds is defined as the area ratio in any cross section and the average grain size of crystals. As described above, in the heat sink 10, the core material 15 of the clad material 11 to be the heat sink outer surface corresponds to the aluminum alloy material.

以下に、アルミニウム合金材の化学組成および金属組織について詳述する。   The chemical composition and metal structure of the aluminum alloy material will be described in detail below.

前記アルミニウム合金材は、所定量のMn、FeおよびSiを含有するアルミニウム合金を用いる。また、前記アルミニウム合金の任意添加元素として、Cu、Mg、Zr、V、Tiを推奨できる。以下に各元素の含有意義と濃度範囲の限定理由について詳述する。   The aluminum alloy material is an aluminum alloy containing predetermined amounts of Mn, Fe and Si. In addition, Cu, Mg, Zr, V, and Ti can be recommended as optional additional elements of the aluminum alloy. The significance of containing each element and the reason for limiting the concentration range will be described in detail below.

Feは、Al−Fe系金属間化合物の面積率を上記範囲内に制御するためにその濃度を0.02〜0.7質量%とする。Fe濃度が0.05質量%未満ではAl−Fe系金属間化合物量が少ないためにろう付性が低下し、かつ材料精製の点においても不経済である。一方、0.5質量%を超えるとAl−Fe系金属間化合物量が増えて耐食性が低下する。好ましいFe濃度は0.1〜0.45質量%である。   In order to control the area ratio of an Al-Fe-based intermetallic compound within the above range, the concentration of Fe is set to 0.02 to 0.7% by mass. If the Fe concentration is less than 0.05% by mass, the amount of Al-Fe based intermetallic compounds is small, so the brazing property is lowered, and it is uneconomical in terms of material purification. On the other hand, if it exceeds 0.5% by mass, the amount of Al-Fe based intermetallic compounds increases and the corrosion resistance is lowered. The preferred Fe concentration is 0.1 to 0.45 mass%.

Mnは、Al−Fe−Mn系金属間化合物量を制御するためにその濃度を0.7〜1.2質量%とする。Mn濃度が0.7質量%未満ではAl−Fe−Mn系金属間化合物量が少なくなって上述した金属間化合物の面積率が得られず、ろう付性が低下する。一方、1.2質量%を超えるとAl−Fe−Mn系金属間化合物量が増えて耐食性が低下する。好ましいMn濃度は0.7〜1.2質量%である。   In order to control the amount of Al-Fe-Mn-based intermetallic compounds, the concentration of Mn is set to 0.7 to 1.2% by mass. If the Mn concentration is less than 0.7% by mass, the amount of the Al-Fe-Mn based intermetallic compound decreases, the area ratio of the above-described intermetallic compound can not be obtained, and the brazing property is reduced. On the other hand, when it exceeds 1.2% by mass, the amount of Al-Fe-Mn based intermetallic compound increases and the corrosion resistance is lowered. The preferred Mn concentration is 0.7 to 1.2% by mass.

Siは、Al−Fe−Si系金属間化合物量を制御するためにその濃度を0.05〜0.4質量%とする。Si濃度が0.05質量%未満ではAl−Fe−Si系金属間化合物量が少なくなって上述した金属間化合物の面積率が得られず、ろう付性が低下する。一方、0.4質量%を超えるとAl−Fe−Si系金属間化合物量が増えて耐食性が低下する。好ましいSi濃度は0.1〜0.3質量%である。   The concentration of Si is set to 0.05 to 0.4% by mass in order to control the amount of the Al-Fe-Si intermetallic compound. If the Si concentration is less than 0.05% by mass, the amount of the Al-Fe-Si based intermetallic compound decreases, the area ratio of the above-described intermetallic compound can not be obtained, and the brazing property is reduced. On the other hand, when it exceeds 0.4% by mass, the amount of Al-Fe-Si based intermetallic compound increases and the corrosion resistance is lowered. The preferred Si concentration is 0.1 to 0.3% by mass.

Cu、Mg、Zr、V、Tiは耐食性に影響を及ぼす元素であり、これらのうちの少なくとも1種を添加することによって耐食性を向上させることができる。これらの元素を添加する場合、合金中のCu濃度が0.2〜0.7質量%、Mg濃度が0.05〜0.4質量%、Zr濃度が0.05〜0.4質量%、V濃度が0.05〜0.4質量%、Ti濃度が0.05〜0.4質量%となるように添加する。各元素の濃度が下限値未満では耐食性向上効果が得られず、上限値を超える添加は不経済である。各元素の特に好ましい濃度は、Cu:0.25〜0.65質量%、Mg:0.1〜0.35質量%、Zr:0.1〜0.3質量%、V:0.1〜0.3質量%、Ti:0.1〜0.3質量%である。   Cu, Mg, Zr, V, and Ti are elements that affect the corrosion resistance, and the corrosion resistance can be improved by adding at least one of them. When these elements are added, the Cu concentration in the alloy is 0.2 to 0.7% by mass, the Mg concentration is 0.05 to 0.4% by mass, and the Zr concentration is 0.05 to 0.4% by mass, The V concentration is 0.05 to 0.4% by mass, and the Ti concentration is 0.05 to 0.4% by mass. If the concentration of each element is less than the lower limit value, the effect of improving the corrosion resistance can not be obtained, and the addition exceeding the upper limit value is uneconomical. Particularly preferable concentrations of each element are Cu: 0.25 to 0.65 mass%, Mg: 0.1 to 0.35 mass%, Zr: 0.1 to 0.3 mass%, V: 0.1 to 0.1 0.3 mass%, Ti: 0.1 to 0.3 mass%.

心材15を構成するアルミニウム合金の化学組成において、残部はAlおよび不可避不純物である。   In the chemical composition of the aluminum alloy constituting the core material 15, the balance is Al and unavoidable impurities.

アルミニウム合金材の金属組織において、Al−Fe系金属間化合物の面積率は0.3〜1.5%とし、結晶の平均粒径は50〜500μmとする。   In the metal structure of the aluminum alloy material, the area ratio of the Al—Fe based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the average particle size of the crystals is 50 to 500 μm.

本発明において、「Al−Fe系金属間化合物」はAlおよびFeを含有する全て金属間化合物を意味し、アルミニウム合金材を構成するアルミニウム合金において形成されるAl−Fe系金属間化合物は、Al−Fe、Al−Fe−Si、Al−Fe−Mn、Al−Fe−Si−Mn等であり、これらのAl−Fe系金属間化合物の全てが面積率の規定の対象となる。前記Al−Fe系金属間化合物の面積率が0.3%未満ではろう材の濡れ広がりが悪くなってろう付性が低下する。一方、1.5%を超えるAl−Fe系金属間化合物が存在すると耐食性が悪くなる。好ましいAl−Fe系金属間化合物の面積率は0.3〜1%である。   In the present invention, "Al-Fe-based intermetallic compound" means all intermetallic compounds containing Al and Fe, and Al-Fe-based intermetallic compounds formed in the aluminum alloy constituting the aluminum alloy material are Al -Fe, Al-Fe-Si, Al-Fe-Mn, Al-Fe-Si-Mn, etc., and all of these Al-Fe-based intermetallic compounds are targets of area ratio definition. If the area ratio of the Al-Fe-based intermetallic compound is less than 0.3%, the wetting and spreading of the brazing material worsens and the brazing property decreases. On the other hand, if the Al-Fe based intermetallic compound exceeds 1.5%, the corrosion resistance is deteriorated. The area ratio of a preferable Al-Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1%.

また、結晶の平均粒径が50μm未満では結晶粒界が多くなってろう材が心材を侵食するためにろう材の流動性が悪くなる。一方、平均粒径が500μmを超えると結晶粒界が少なくなるので結晶粒界に存在するAl−Fe系金属間化合物量も少なくなり、その結果ろう材の流動性が悪くなる。従って、結晶の平均粒径が50μm未満および500μm超ではろう付性が低下する。結晶の平均粒径の好ましい範囲は50〜300μmである。   In addition, if the average grain size of the crystals is less than 50 μm, grain boundaries increase and the brazing material corrodes the core material, so that the flowability of the brazing material deteriorates. On the other hand, when the average particle size exceeds 500 μm, the grain boundaries are reduced, so the amount of Al-Fe based intermetallic compounds present in the grain boundaries is also reduced, and as a result, the fluidity of the brazing material is deteriorated. Therefore, if the average grain size of the crystals is less than 50 μm and more than 500 μm, the brazing property is reduced. The preferred range of the average particle size of the crystals is 50 to 300 μm.

また、本実施形態では前記アルミニウム合金材を心材15とし、ろう材16を一体化したクラッド材11としてヒートシンク10の製造に用いている。   Further, in the present embodiment, the aluminum alloy material is used as the core material 15, and the clad material 11 in which the brazing material 16 is integrated is used for manufacturing the heat sink 10.

前記ろう材16は限定されず、例えばAl−Si系合金ろう材を用いることができる。Al−Si系合金ろう材における好ましいSi濃度は6〜12質量%である。また、ろう付方法はフラックスろう付でも真空ろう付でも良く、真空ろう付の場合はMg濃度が0.5〜2質量%のAl−Si−Mg系合金を推奨でき、フラックスろう付の場合はMg濃度が0.1質量%以下のろう材を使用することが好ましい。いずれのろう材においても残部はAlおよび不可避不純物である。また、ろう付性を高めるために、これらのろう材にBiおよびSrのうちの少なくとも1種を添加することが好ましい。これらの元素を添加する場合、Al−Si系合金中のBi濃度が0.03〜1.5質量%、Sr濃度が0.005〜0.2質量%となるように添加することが好ましい。各元素の濃度の下限値未満ではろう付性向上効果が得られず、上限値を超える多量添加は不経済である。各元素の特に好ましい濃度は、Bi:0.05〜1.0質量%、Sr:0.01〜0.1質量%である。   The brazing material 16 is not limited, and, for example, an Al-Si based alloy brazing material can be used. The preferred Si concentration in the Al—Si alloy brazing material is 6 to 12 mass%. Also, the brazing method may be flux brazing or vacuum brazing, and in the case of vacuum brazing, an Al-Si-Mg based alloy having a Mg concentration of 0.5 to 2% by mass can be recommended, and in the case of flux brazing It is preferable to use a brazing material having an Mg concentration of 0.1% by mass or less. The balance in any of the brazing materials is Al and unavoidable impurities. Moreover, in order to improve the brazeability, it is preferable to add at least one of Bi and Sr to these brazing materials. When adding these elements, it is preferable to add so that Bi density | concentration in Al-Si type alloy may become 0.03-1.5 mass%, and Sr density | concentration may become 0.005-0.2 mass%. If it is less than the lower limit of the concentration of each element, the effect of improving the brazability can not be obtained, and a large amount addition exceeding the upper limit is uneconomical. Particularly preferable concentrations of the respective elements are Bi: 0.05 to 1.0% by mass and Sr: 0.01 to 0.1% by mass.

本発明は前記ヒートシンク10の材料としてクラッド材を用いることに限定されず、上述した心材15の化学組成および金属組織を有するベア材を用いた場合も本発明に含まれる。   The present invention is not limited to the use of a clad material as the material of the heat sink 10, but is also included in the present invention when a bear material having the above-described chemical composition and metal structure of the core material 15 is used.

なお、本発明は、熱交換器の構造は図示例のものに限定するものではないが、本発明に用いる熱交換器用アルミニウム合金材は高耐食性であるから、作動流体として水を循環させる構造の熱交換器の製造に適している。また、熱交換器の用途も限定されず、電子素子冷却用熱交換器、蒸発器、凝縮器、ヒータコア、オイルクーラ、インタークーラ等を例示できる。また、熱交換器の形状、平板形状のアルミニウム合金材やクラッド材からの成形方法も限定されない。   In the present invention, the structure of the heat exchanger is not limited to that of the illustrated example, but the aluminum alloy material for heat exchanger used in the present invention has high corrosion resistance, so water is circulated as the working fluid. Suitable for the production of heat exchangers. Further, the application of the heat exchanger is not limited, and an electronic element cooling heat exchanger, an evaporator, a condenser, a heater core, an oil cooler, an intercooler, and the like can be exemplified. Further, the shape of the heat exchanger, the method of forming from the flat aluminum alloy material and the clad material are not limited.

[アルミニウム合金材の製造方法]
前記クラッド材は、上述した化学組成の心材とろう材とを重ねて熱間圧延してクラッドし、要すればさらに所要厚さに圧延することにより作製される。この工程において、圧延前の心材、即ち本発明におけるアルミニウム合金材に所定の均質化処理を施すことによって金属間化合物量および結晶粒径を制御し、金属組織においてAl−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を本発明の範囲内とすることができる。
[Method of manufacturing aluminum alloy material]
The clad material is produced by overlapping the core material of the above-described chemical composition and the brazing material, hot rolling and cladding, and if necessary, rolling to a desired thickness. In this step, the core material before rolling, that is, the aluminum alloy material in the present invention, is subjected to a predetermined homogenization treatment to control the amount of intermetallic compounds and the crystal grain size, and the area of the Al-Fe intermetallic compound in the metal structure. The rate and average grain size of the crystals can be within the scope of the present invention.

心材の均質化処理は600〜640℃で6〜24時間保持することにより行う。600℃未満または6時間未満では所期する金属組織が得られず、良好なろう付性と耐食性が得られない。一方、640℃または24時間の処理を行えば所期する金属組織が得られるので、それを超える高温または長時間の処理はエネルギー面で不経済である。均質化処理の好ましい温度は600〜630℃であり、好ましい処理時間は8〜20時間である。   The homogenization treatment of the core material is carried out by maintaining at 600 to 640 ° C. for 6 to 24 hours. If it is less than 600 ° C. or less than 6 hours, the desired metallographic structure can not be obtained, and good brazability and corrosion resistance can not be obtained. On the other hand, since the desired metallographic structure can be obtained by performing the treatment at 640 ° C. or for 24 hours, the treatment at a high temperature or for a long time beyond that is uneconomical in energy. The preferred temperature of the homogenization treatment is 600-630 ° C., and the preferred treatment time is 8-20 hours.

またに、350〜450℃で1〜12時間の焼鈍を行うことも好ましい。上記条件で焼鈍することによって所期する金属組織の形成をより確実なものとして、より高いろう付性および耐食性が得られる金属組織を形成することができる。特に好ましい焼鈍温度は360〜430℃であり、特に好ましい焼鈍時間は2〜10時間である。前記焼鈍の好ましい処理時期は、前記均質化処理した材料を熱交換器用材料の厚さに加工した後である。前記クラッド材の場合は、均質化処理に所定厚さにクラッド圧延した後に焼鈍を行うことが好ましい。   It is also preferable to perform annealing at 350 to 450 ° C. for 1 to 12 hours. By annealing under the above conditions, the desired formation of the metallographic structure can be made more secure, and a metallographic structure that can provide higher brazability and corrosion resistance can be formed. The particularly preferred annealing temperature is 360 to 430 ° C., and the particularly preferred annealing time is 2 to 10 hours. The preferred treatment time of the annealing is after processing the homogenized material to the thickness of the heat exchanger material. In the case of the clad material, it is preferable to perform annealing after clad rolling to a predetermined thickness in the homogenization treatment.

また、熱交換器用材料としてベア材を用いる場合は、前記均質化処理を施した材料を所定厚さに加工し、その後に上記の条件で焼鈍を行う。ベア材においてもこれらの熱処理を行うことによって、金属間化合物量および結晶粒径を制御し、金属組織においてAl−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を本発明の範囲内とすることができる。   Moreover, when using a bear material as a material for heat exchangers, the material which gave the said homogenization process is processed into a predetermined | prescribed thickness, and annealing is performed on said conditions after that. Also in the case of the bare material, the amount of the intermetallic compound and the crystal grain size are controlled by performing these heat treatments, and in the metal structure, the area ratio of the Al-Fe intermetallic compound and the average grain size of the crystals are within the scope of the present invention can do.

[Al−Si系合金ろう材]
上述したヒートシンク10の外面における面接合に用いるAl−Si系合金ろう材は、応力緩和層30を構成するクラッド材のろう材33として放熱装置1の仮組体に組み込まれている。
[Al-Si based alloy brazing material]
The Al—Si based alloy brazing material used for surface bonding on the outer surface of the heat sink 10 described above is incorporated in the temporary assembly of the heat dissipation device 1 as the brazing material 33 of the clad material constituting the stress relaxation layer 30.

前記ろう材33は、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.3質量%を超え1.5質量%以下のBiを含有するAl−Si系合金ろう材である。このFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材において、Feは接合界面においてAl−Fe系金属間化合物を形成してろうの流れ性を促して面ろう付性を良好にする元素である。ろう材中のFe濃度が0.02質量%未満ではろうの流れ性を促す効果がなく、0.7質量%を超える添加は不経済である。特に好ましいFe濃度は0.05〜0.6質量%である。Biはろう付性を高める元素であり、Bi濃度を0.3質量%を超え1.5質量%以下とする。Bi濃度が1.5質量%を超える多量の添加は不経済である。特に好ましいBi濃度は0.05〜1.0質量%である。また、好ましいSi濃度は6〜12質量%である。また、ろう付方法はフラックスろう付でも真空ろう付でも良く、真空ろう付の場合はMg濃度が0.5〜2質量%のAl−Si−Mg系合金を推奨でき、フラックスろう付の場合はMg濃度が0.1質量%以下のろう材を使用することが好ましい。いずれのろう材においても残部はAlおよび不可避不純物である。   The brazing filler metal 33 is an Al-Si based alloy brazing filler material containing 0.02 to 0.7% by mass of Fe and 0.3 to 1.5% by mass or less of Bi. In this Al-Si alloy brazing material containing Fe and Bi, Fe is an element that forms an Al-Fe intermetallic compound at the bonding interface to promote the flowability of the brazing material and to improve the surface brazing property. . If the Fe concentration in the brazing material is less than 0.02% by mass, there is no effect to promote the flowability of the braze, and the addition exceeding 0.7% by mass is uneconomical. Particularly preferable Fe concentration is 0.05 to 0.6% by mass. Bi is an element that improves the brazing property, and the Bi concentration is more than 0.3% by mass and 1.5% by mass or less. Addition of a large amount of Bi concentration exceeding 1.5% by mass is uneconomical. Particularly preferable Bi concentration is 0.05 to 1.0% by mass. Moreover, preferable Si concentration is 6-12 mass%. Also, the brazing method may be flux brazing or vacuum brazing, and in the case of vacuum brazing, an Al-Si-Mg based alloy having a Mg concentration of 0.5 to 2% by mass can be recommended, and in the case of flux brazing It is preferable to use a brazing material having an Mg concentration of 0.1% by mass or less. The balance in any of the brazing materials is Al and unavoidable impurities.

また、ろう付性を高めるために、これらのろう材にSrを添加することが好ましい。Srを添加する場合、Al−Si系合金中のSr濃度が0.005〜0.2質量%となるように添加することが好ましい。Srの濃度の下限値未満ではろう付性向上効果が得られず、上限値を超える多量添加は不経済である。特に好ましいSr濃度は0.01〜0.1質量%である。   Moreover, it is preferable to add Sr to these brazing materials in order to improve brazeability. When adding Sr, it is preferable to add so that Sr density | concentration in an Al-Si type alloy may become 0.005-0.2 mass%. If it is less than the lower limit value of the concentration of Sr, the effect of improving the brazing property can not be obtained, and large amount addition exceeding the upper limit value is uneconomical. The particularly preferred Sr concentration is 0.01 to 0.1% by mass.

[電子素子搭載用基板および応力緩和層]
電子素子搭載用基板は絶縁基板21の少なくとも一方の面にアルミニウム回路層22が接合されていれば足り、他方の面は図1のようにアルミニウム層23が接合されていても良いし、図2および図3の電子素子搭載用基板26のように他面側にアルミニウム層が無く絶縁基板21が直接応力緩和層30、37に接合されていても良い。さらには、絶縁基板21が直接ヒートシンク10に接合されている場合(図示なし)も本発明に含まれる。
[Substrate for mounting electronic device and stress relaxation layer]
The electronic element mounting substrate is sufficient if the aluminum circuit layer 22 is bonded to at least one surface of the insulating substrate 21, and the other surface may be bonded to the aluminum layer 23 as shown in FIG. And like the board | substrate 26 for electronic element mounting of FIG. 3, there may not be an aluminum layer in the other surface side, and the insulation board | substrate 21 may be directly joined to the stress relaxation layers 30 and 37. Furthermore, the case where the insulating substrate 21 is directly bonded to the heat sink 10 (not shown) is also included in the present invention.

電子素子搭載用基板において、絶縁基板21を構成する材料としては、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化ジルコニウム、炭化ケイ素等のセラミックを例示できる。これらのセラミックは電気絶縁性が優れていることはもとより、熱伝導性が良く放熱性が優れている点で推奨できる。また、アルミニウム回路層22およびアルミニウム層23は導電性および伝熱性の良い高純度アルミニウムを推奨できる。   In the electronic device mounting substrate, as a material of which the insulating substrate 21 is made, ceramics such as aluminum nitride, aluminum oxide, silicon nitride, zirconium oxide, silicon carbide and the like can be exemplified. These ceramics can be recommended not only because they have excellent electrical insulation but also because they have good thermal conductivity and excellent heat dissipation. Further, as the aluminum circuit layer 22 and the aluminum layer 23, it is possible to recommend high purity aluminum having good conductivity and heat conductivity.

また、応力緩和層は伝熱性の良い1000系や3000系のアルミニウム合金を用いることが好ましい。形状は、応力吸収空間となりかつろう付時に酸化膜の排出場所となる貫通穴を有するものが好ましいが、本発明は貫通穴の無い応力緩和層を排除するものではない。   In addition, it is preferable to use a 1000 series or 3000 series aluminum alloy having good heat conductivity, as the stress relaxation layer. The shape is preferably one having a through hole which becomes a stress absorbing space and becomes a discharge place of an oxide film at the time of brazing, but the present invention does not exclude a stress relaxation layer having no through hole.

また、本発明は熱交換器の外面に面接合する部品を電子素子搭載用基板に限定するものではなく、ろう付可能な発熱を伴う部品であれば本発明の方法を適用できる。   Further, the present invention does not limit the parts surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger to the electronic element mounting substrate, and the method of the present invention can be applied to any parts having heat generation that can be brazed.

[熱交換器の外面におけるろう材の供給]
ヒートシンク外面におけるろう付は、相手材が電子素子搭載用基板および応力緩和層のいずれであっても面接合であり、上述したFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材を用いる。ろう材の供給方法は限定されず、相手材にクラッドして一体化しても良いし、ろう材箔やろう材粉末として供給することもできる。また、ヒートシンクと相手材とを両面にろう材をクラッドしたブレージングシートでろう付することもできる。
[Supply of brazing material on the outer surface of heat exchanger]
The brazing on the outer surface of the heat sink is surface bonding regardless of whether the counterpart material is the electronic element mounting substrate or the stress relieving layer, and the above-described Al-Si based alloy brazing material containing Fe and Bi is used. The supply method of the brazing material is not limited, and it may be integrated by being clad on a mating material, or may be supplied as brazing material foil or brazing material powder. Further, it is also possible to braze the heat sink and the mating material with a brazing sheet clad on both sides with a brazing material.

図1〜3の放熱装置1、2、3はいずれもヒートシンク10のろう付の相手材が応力緩和層であり、ろう材の供給方法が異なる。図1の放熱装置1では、応力緩和層の材料として、心材31にFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材33をクラッドしたクラッド材30で用い、ろう付後は心材31が実質的に応力緩和層となる。図2の放熱装置2では、応力緩和層36としてベア材を使用し、FeおよびBiを含有するAl−Si系合金からなるろう材箔38を組み付けた例である。図3の放熱装置3もベア材からなる応力緩和層37を使用したものであるが、ヒートシンク10との接合には両面ブレージングシート39を用いている。前記両面ブレージングシート39は応力緩和層37の貫通穴34に重なる位置に同寸の貫通穴39aが穿設されており、ヒートシンク10側のろう材39bがFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材である。   The heat dissipation devices 1, 2 and 3 of FIGS. 1 to 3 all have a stress relieving layer as the mating material of the heat sink 10 for brazing, and the method of supplying the brazing material is different. In the heat dissipation device 1 of FIG. 1, the core material 31 is a clad material 30 in which a core material 31 is clad with an Al—Si alloy brazing filler metal 33 containing Fe and Bi as a material of a stress relieving layer. Become a stress relaxation layer. The heat dissipation device 2 of FIG. 2 is an example in which a brazing material is used as the stress relieving layer 36 and a brazing material foil 38 made of an Al-Si based alloy containing Fe and Bi is assembled. The heat dissipation device 3 of FIG. 3 also uses the stress relieving layer 37 made of a bear material, but the double-sided brazing sheet 39 is used for bonding with the heat sink 10. The double-sided brazing sheet 39 has an equal-sized through hole 39a at a position overlapping the through hole 34 of the stress relaxation layer 37, and the brazing material 39b on the heat sink 10 side contains Fe and Bi. It is a brazing material.

本発明の放熱装置の製造方法によれば、熱交換器の外面において発熱を伴う部品を良好に面接合でき、製造された放熱装置は部品が発する熱を熱交換器に排熱する際の熱抵抗が少なく、優れた放熱性能を有するものとなる。また、熱交換器を構成するアルミニウム合金材は耐食性が優れているので、より厳しい腐食環境で使用される熱交換器の材料としての適用意義が大きい。そのような熱交換器の一つの例が、図1〜3に示した放熱装置1、2、3に組み込んで電子素子を冷却するヒートシンク10である。前記ヒートシンク10は外面に電子素子搭載用基板20が直接または応力緩和層30を介して面接合され、かつ作動流体が水である場合は外面のみならず内面においても高い耐食性が要求されるからである。   According to the method of manufacturing the heat dissipation device of the present invention, components with heat generation can be surface-joined well on the outer surface of the heat exchanger, and the produced heat dissipation device dissipates heat emitted from the components to the heat exchanger. It has low resistance and excellent heat dissipation performance. Moreover, since the aluminum alloy material which comprises a heat exchanger is excellent in corrosion resistance, the application meaning as a material of the heat exchanger used by more severe corrosion environment is large. One example of such a heat exchanger is the heat sink 10 which is incorporated into the heat dissipating devices 1, 2, 3 shown in FIGS. In the heat sink 10, the electronic element mounting substrate 20 is surface-bonded to the outer surface directly or through the stress relieving layer 30, and when the working fluid is water, high corrosion resistance is required not only on the outer surface but also on the inner surface. is there.

クラッド材を用いてヒートシンクおよび応力緩和層を作製し、他の部材とともに図1に参照される放熱装置1を作製した。
[実施例1〜12、比較例1〜5]
図1に示したヒートシンク10の皿状部材11の材料となる二層クラッド材を作製した。実施例1〜12および比較例1〜5においてクラッド材の心材15およびろう材16を構成するアルミニウム合金の化学組成は表1に示すとおりであり、クラッド材の製造条件は共通である。
The heat sink and the stress relaxation layer were produced using the clad material, and the heat dissipation device 1 referred to in FIG. 1 was produced together with other members.
[Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 5]
A two-layer clad material to be a material of the plate-like member 11 of the heat sink 10 shown in FIG. 1 was produced. The chemical compositions of the aluminum alloys constituting the core material 15 of the clad material and the brazing material 16 in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 5 are as shown in Table 1, and the manufacturing conditions of the clad material are common.

心材用のアルミニウム合金塊に対して620℃×12時間の均質化処理を施し、ろう材用のアルミニウム合金塊と重ねて熱間圧延してクラッドし、総厚0.8mm、ろう材のクラッド率7%の二層クラッド材とし、このクラッド材を400℃×4時間の焼鈍を行った。   The aluminum alloy ingot for core material is subjected to homogenization treatment at 620 ° C for 12 hours, overlaid with the aluminum alloy ingot for brazing material, hot-rolled and clad, and the cladding thickness of the total thickness 0.8 mm, brazing material The clad material was annealed at 400 ° C. for 4 hours to form a 7% bilayer clad material.

作製したクラッド材11について、Al−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を調べたところ、表1に示すものであった。また、作製したクラッド材はプレス成形により図1に示す皿状部材11とした。   The area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound and the average particle size of the crystals of the produced cladding material 11 were examined. Moreover, the produced clad material was made into the plate shaped member 11 shown in FIG. 1 by press molding.

応力緩和層30の材料は、心材31が3003アルミニウム合金、電子素子搭載用基板20側のろう材32がAl−10質量%Si−1質量%Mg合金からなり、ヒートシンク10側ろう材33が表1に示す化学組成のアルミニウム合金からなる三層クラッド材である。前記三層クラッド材は、総厚が1mm、ろう材32、33のクラッド率が片面につき4%である。応力緩和層30は、前記三層クラッド材を28mm×28mmに切断し、さらに切削加工を施して直径2mmの円形の12個の貫通穴34を形成して作製した。   The material of the stress relaxation layer 30 is such that the core material 31 is made of a 3003 aluminum alloy, the brazing material 32 on the electronic element mounting substrate 20 side is made of Al-10 mass% Si-1 mass% Mg alloy, and the heat sink 10 side brazing material 33 It is a three-layer clad material made of an aluminum alloy of a chemical composition shown in 1. The three-layer clad material has a total thickness of 1 mm, and the clad ratio of the brazing filler metals 32, 33 is 4% per side. The stress relaxation layer 30 was produced by cutting the three-layer clad material into 28 mm × 28 mm and further cutting to form 12 circular through holes 34 having a diameter of 2 mm.

また、放熱装置1における他の部材は以下のとおりである。   Moreover, the other members in the heat dissipation device 1 are as follows.

波形のインナーフィン14は、厚さ1.2mmの3000系合金板を曲成したものである。絶縁基板21は窒化アルミニウムからなる30mm×30mm×厚さ0.6mmの平板である。アルミニウム回路層22およびアルミニウム層23は純度99.99%以上の高純度アルミニウムからなる厚さ0.6mmの平板である。ろう材箔24、25はAl−10質量%Si−1質量%Mg合金からなり、箔厚は30μmである。   The corrugated inner fins 14 are formed by bending a 1.2 mm thick 3000 series alloy plate. The insulating substrate 21 is a flat plate of 30 mm × 30 mm × 0.6 mm thick made of aluminum nitride. The aluminum circuit layer 22 and the aluminum layer 23 are flat plates of 0.6 mm thick made of high purity aluminum having a purity of 99.99% or more. The brazing material foils 24 and 25 are made of Al-10% by mass Si-1% by mass Mg alloy, and the foil thickness is 30 μm.

さらに、各部材を図1に示す構造の積層体に仮組し、仮組物を7×10−4Paの真空中で600℃×20分で真空ろう付した。ろう付した放熱装置1について面ろう付性および耐食性を下記の方法で試験し評価した。評価結果を表1に示す。
(面ろう付性)
ヒートシンク10と応力緩和層30の接合界面を超音波探傷装置で探傷し、応力緩和層30の貫通穴34を除く面積(28×28−12×π mm)に対して接合されている面積の割合を調べた。接合面積率が97%以上を「○」、95%以上97%未満を「△」、95%以下を「×」と評価した。
(耐食性)
ヒートシンク10の作動流体としてOY水(Cl:195ppm、SO 2−:60ppm、Fe3+:30ppm、Cu2+:1ppm)を用い、80℃×8時間、常温×16時間を1サイクルとし、20サイクル(480時間)の腐食促進試験を行った。
Furthermore, each member was temporarily assembled into a laminate having a structure shown in FIG. 1, and the temporary assembly was vacuum brazed at 600 ° C. for 20 minutes in a vacuum of 7 × 10 −4 Pa. The surface brazing and corrosion resistance of the brazed heat dissipation device 1 were tested and evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 1.
(Face solderability)
The bonding interface of the heat sink 10 and the stress relieving layer 30 is flawed with an ultrasonic flaw detector, and the area of the stress relieving layer 30 bonded to the area (28 × 28-12 × π mm 2 ) excluding the through holes 34 I checked the ratio. A bonding area ratio of 97% or more was evaluated as “o”, 95% or more and less than 97% as “Δ”, and 95% or less as “x”.
(Corrosion resistance)
OY water as the working fluid of the heat sink 10 (Cl -: 195ppm, SO 4 2-: 60ppm, Fe 3+: 30ppm, Cu 2+: 1ppm) using, and 80 ° C. × 8 hours, and 1 cycle at normal temperature × 16 h, 20 A cyclic (480 hours) corrosion promotion test was conducted.

前記腐食促進試験後のヒートシンク10の内面における腐食深さを測定し、腐食深さが300μm未満を「○」、300μm以上600μm未満を「△」、600μm以上を「×」と評価した。
[実施例13〜15]
実施例2と同じ心材材料とろう材材料を用い、心材の均質化条件およびクラッド後の焼鈍条件を変えて二層クラッド材を作製した。各例の均質化条件および焼鈍条件は表2に示すとおりである。
The corrosion depth of the inner surface of the heat sink 10 after the corrosion promotion test was measured, and the corrosion depth of less than 300 μm was evaluated as “o”, 300 μm or more and less than 600 μm as “Δ”, and 600 μm or more as “x”.
[Examples 13 to 15]
A two-layer clad material was manufactured using the same core material and brazing material as in Example 2 but changing the homogenization conditions of the core material and the annealing conditions after cladding. The homogenization conditions and the annealing conditions of each example are as shown in Table 2.

作製した二層クラッド材についてAl−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を調べた。また、この二層クラッド材でヒートシンク10用の皿状部材11を成形した。この皿状部材11以外は実施例2と同じ部材を用いて放熱装置1を仮組し、仮組物を7×10−4Paの真空中で600℃×20分で真空ろう付し、面ろう付性および耐食性を実施例1等と同じ方法で試験し評価した。評価結果を表2に示す。 The area ratio of the Al—Fe based intermetallic compound and the average grain size of the crystals were examined for the produced two-layer clad material. Moreover, the dish-shaped member 11 for the heat sink 10 was shape | molded with this two-layer clad material. The heat radiating device 1 is temporarily assembled using the same members as in Example 2 except for the plate-like member 11, and the temporary assembly is vacuum brazed at 600 ° C. for 20 minutes in a vacuum of 7 × 10 −4 Pa. The brazeability and corrosion resistance were tested and evaluated in the same manner as in Example 1 and the like. The evaluation results are shown in Table 2.

表1、2に示したとおり、所定のヒートシンク用材料およびヒートシンクの外面ろう付用のろう材を用いた熱交換器は広い面積のろう付においても良好なろう付が達成され、かつ耐食性が優れている。   As shown in Tables 1 and 2, a heat exchanger using a predetermined heat sink material and a brazing material for external brazing of the heat sink achieves good brazing even in large area brazing and has excellent corrosion resistance. ing.

本発明は、熱交換器の外面に電子素子搭載用基板と熱交換器とを広い面積でろう付する放熱装置の製造に好適に用いることができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be suitably used for manufacturing a heat dissipation device in which an electronic element mounting substrate and a heat exchanger are brazed in a wide area to the outer surface of the heat exchanger.

1、2、3…放熱装置
10…ヒートシンク(熱交換器)
11…皿状部材
15…心材(アルミニウム合金材)
20、26…電子素子搭載用基板(発熱を伴う部品)
21…絶縁基板
22…アルミニウム回路層
30、36、37…応力緩和層
34…貫通穴
33、38、39b…ろう材(FeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材)
1, 2, 3 ... Heat dissipation device 10 ... Heat sink (heat exchanger)
11 ... dish-like member 15 ... core material (aluminum alloy material)
20, 26 ... Substrates for mounting electronic elements (parts with heat generation)
21 ... Insulating substrate 22 ... Aluminum circuit layer 30, 36, 37 ... Stress relieving layer 34 ... Through hole 33, 38, 39b ... Brazing material (Al-Si alloy brazing material containing Fe and Bi)

Claims (10)

熱交換器を構成するアルミニウム合金材が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、残部がAlおよび不可避不純物からなり、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであり、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品を、0.02〜0.7質量%のFe0.3質量%を超え1.5質量%以下のBi、6〜12質量%のSiおよび0.5〜2質量%のMgを含有し、残部がAlおよび不可避不純物からなるAl−Si系合金ろう材を用いて面接合することを特徴とする放熱装置の製造方法。
The aluminum alloy material constituting the heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass, and Si: 0.05 to 0.4% by mass , The balance consists of Al and unavoidable impurities, and the area ratio of the Al—Fe based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the average particle size of the crystals is 50 to 500 μm,
The aluminum on the outer surface of the heat exchanger constituted of an alloy material, the component with fever, 0.02 to 0.7 mass% of Fe, beyond following 1.5 wt% 0.3 wt% Bi, 6 Manufacturing a heat dissipating device characterized by surface bonding using an Al-Si alloy brazing material containing 12 mass% of Si and 0.5 to 2 mass% of Mg and the balance being Al and unavoidable impurities Method.
前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面を前記熱交換器の外面に面接合する請求項1に記載の放熱装置の製造方法。   The component accompanied by the heat generation is an electronic device mounting substrate to which an aluminum circuit layer for mounting the electronic device is brazed to one surface of the insulating substrate, and the surface of the electronic device mounting substrate opposite to the aluminum circuit layer. The method of manufacturing a heat dissipation device according to claim 1, wherein the heat exchanger is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger. 前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、さらにCu:0.2〜0.7質量%、Mg:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.4質量%、V:0.05〜0.4質量%およびTi:0.05〜0.4質量%のうちの少なくとも1種を含有する請求項1または2に記載の放熱装置の製造方法。   The aluminum alloy material constituting the heat exchanger further contains Cu: 0.2 to 0.7% by mass, Mg: 0.05 to 0.4% by mass, Zr: 0.05 to 0.4% by mass, V The method for manufacturing a heat dissipation device according to claim 1, wherein the heat sink contains at least one of 0.05 to 0.4% by mass and Ti: 0.05 to 0.4% by mass. 前記Al−Si系合金ろう材はSr:0.005〜0.2質量%を含有する請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The method for manufacturing a heat dissipation device according to any one of claims 1 to 3, wherein the Al-Si based alloy brazing material contains Sr: 0.005 to 0.2 mass%. 前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、600〜640℃で6〜24時間の均質化処理が施された合金材である請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The heat radiating device according to any one of claims 1 to 4, wherein the aluminum alloy material constituting the heat exchanger is an alloy material subjected to homogenization treatment at 600 to 640 ° C for 6 to 24 hours. Manufacturing method. 前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、350〜450℃で1〜12時間の焼鈍が施された合金材である請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The aluminum alloy material which comprises the said heat exchanger is an alloy material to which annealing for 1 to 12 hours was performed at 350-450 degreeC, Manufacture of the heat dissipation device of any one of Claims 1-5. Method. 前記電子素子搭載用基板と熱交換器との間に応力緩和層を介在させ、前記応力緩和層を熱交換器の外面に前記Al−Si系合金ろうを用いて面接合する請求項2〜6のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。 A stress relieving layer is interposed between the electronic element mounting substrate and the heat exchanger, and the stress relieving layer is surface-joined to the outer surface of the heat exchanger using the Al-Si based alloy brazing material . 6. The manufacturing method of the heat dissipation device according to any one of 6. 前記熱交換器の中空部を循環する作動流体が水である請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The method for manufacturing a heat dissipation device according to any one of claims 1 to 7, wherein the working fluid circulating in the hollow portion of the heat exchanger is water. 熱交換器が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、残部がAlおよび不可避不純物からなり、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであるアルミニウム合金材で構成され、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品が0.02〜0.7質量%のFe、0.3質量%を超え1.5質量%以下のBi、6〜12質量%のSiおよび0.5〜2質量%のMgを含有し、残部がAlおよび不可避不純物からなるAl−Si系合金ろう材によって面接合されていることを特徴とする放熱装置。
The heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass and Si: 0.05 to 0.4% by mass, with the balance being Al and unavoidable impurities And the area ratio of the Al-Fe based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the average grain size of the crystal is 50 to 500 .mu.m.
Parts with heat generation of 0.02 to 0.7% by mass of Fe, 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less of Bi on the outer surface of the heat exchanger made of the aluminum alloy material What is claimed is: 1. A heat dissipating device characterized by containing 12% by mass of Si and 0.5 to 2% by mass of Mg and being surface-joined by an Al—Si alloy brazing filler metal composed of Al and unavoidable impurities with the balance being Al .
前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面が前記熱交換器の外面に面接合されている請求項9に記載の放熱装置。   The component accompanied by the heat generation is an electronic device mounting substrate to which an aluminum circuit layer for mounting the electronic device is brazed to one surface of the insulating substrate, and the surface of the electronic device mounting substrate opposite to the aluminum circuit layer. The heat dissipation device according to claim 9, wherein the heat exchanger is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.
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