JP2016160492A - Manufacturing method of heat radiator - Google Patents

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和彦 南
一博 小堀
Kazuhiro Kobori
一博 小堀
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a heat radiator having excellent heat radiation performance by making solderability on an outside surface of a heat exchanger.SOLUTION: An aluminum alloy material 15 constituting a heat exchanger 10 contains Mn:0.7 to 1.2 mass%, Fe:0.02 to 0.7 mass% and Si:0.05 to 0.4 mass% and has area percentage of an Al-Fe-based intermetallic compound of 0.3 to 1.5% and average particle diameter of crystal of 50 to 500 μm and a component 20 with heat radiation is face jointed to an outer surface of the heat exchanger 10 constituted by the aluminum alloy material 15 by using an Al-Si-based alloy brazing material 33 containing 0.02 to 0.7 mass% of Fe and 0.05 to 2.0 mass% of Mg.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、熱交換器の外面に発熱を伴う部品を良好に面接合された放熱装置の製造方法およびその関連技術に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a heat radiating device in which components that generate heat are favorably surface-bonded to the outer surface of a heat exchanger and related technology.

絶縁基板にアルミニウム回路層を接合した電子素子搭載用基板をヒートシンクにろう付した放熱装置において、熱抵抗が低減して良好な放熱性が得られることは特許文献1に示されている。また、前記放熱装置では、絶縁基板とヒートシンクとの間に発生する応力を緩和するために応力吸収空間として複数の貫通穴を有する応力緩和層を介在させている。かかる積層構造の放熱装置では、応力緩和層が電子素子搭載用基板に搭載した電子素子の排熱経路となる。   Patent Document 1 discloses that in a heat dissipation device in which an electronic element mounting substrate in which an aluminum circuit layer is bonded to an insulating substrate is brazed to a heat sink, thermal resistance is reduced and good heat dissipation is obtained. Moreover, in the said heat radiating device, in order to relieve the stress which generate | occur | produces between an insulated substrate and a heat sink, the stress relaxation layer which has a some through-hole as a stress absorption space is interposed. In the heat dissipation device having such a laminated structure, the stress relaxation layer serves as a heat exhaust path for the electronic element mounted on the electronic element mounting substrate.

また、特許文献2には、自動車用熱交換器のチューブ用材料として、Mn、Cu、Si、Feを含むアルミニウム合金心材の一方の面に犠牲腐食層を積層し、他方の面にろう材を積層したろう付用クラッド材が記載されている。前記クラッド材は犠牲腐食層が内側となるように曲成し、外面に波形フィンをろう付するチューブの内面防食を図ったものである。   In Patent Document 2, a sacrificial corrosion layer is laminated on one surface of an aluminum alloy core material containing Mn, Cu, Si, and Fe as a tube material for an automotive heat exchanger, and a brazing material is disposed on the other surface. A laminated brazing clad material is described. The clad material is bent so that the sacrificial corrosion layer is on the inside, and the inner surface of the tube is brazed with corrugated fins on the outer surface to prevent corrosion.

特開2006−294699号公報JP 2006-294699 A 特開2000−202680号公報JP 2000-202680 A

特許文献2に記載されたチューブの外面にろう付されるのは波形のフィンであるから、接合部は線状であり接合面積は小さい。一方、特許文献1の放熱装置ではヒートシンクの外面は応力緩和層と広い面積で接合される。前記応力緩和層の貫通穴は冷熱サイクル下の応力吸収空間として必要であり、ろう付時に酸化膜を排出する空間としても必要であるが、ヒートシンクに排熱する際の熱抵抗を低減し、また放熱装置の設計自由度を向上のために、貫通穴の面積を可及的に小さくすることが求められている。このため、ヒートシンクと応力緩和層とは広い面積でろう付される。広い面積を良好にろう付する場合は、線状のろう付よりもさらにろうの濡れ拡がり性を高めて酸化膜の排出を促す必要がある。   Since the corrugated fins are brazed to the outer surface of the tube described in Patent Document 2, the joint is linear and the joint area is small. On the other hand, in the heat radiating device of Patent Document 1, the outer surface of the heat sink is bonded to the stress relaxation layer with a large area. The through hole of the stress relaxation layer is necessary as a stress absorption space under a cooling cycle, and is also necessary as a space for discharging the oxide film during brazing, but reduces the thermal resistance when exhausting heat to the heat sink, In order to improve the design freedom of the heat dissipation device, it is required to reduce the area of the through hole as much as possible. For this reason, the heat sink and the stress relaxation layer are brazed in a wide area. When brazing a large area well, it is necessary to enhance the wettability of the brazing further than the linear brazing and promote the discharge of the oxide film.

また、ヒートシンクの作動流体として水を用いる場合は内面においても高い耐食性が求められる。   In addition, when water is used as the working fluid for the heat sink, high corrosion resistance is also required on the inner surface.

しかしながら、特許文献2に記載されたろう付用クラッド材は波形フィンを線状に接合するために使用されるものであり、広い面積をろう付するためにはさらにろう材の濡れ拡がり性の良い材料が必要である。   However, the brazing clad material described in Patent Document 2 is used for joining corrugated fins in a linear shape, and in order to braze a large area, the material having better wettability of the brazing material. is necessary.

本発明は上述した背景技術に鑑み、熱交換器の外面におけるろう付性を良好にして、優れた放熱性能を有する放熱装置の製造方法の提供を目的とする。   In view of the background art described above, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a heat dissipation device having excellent heat dissipation performance by improving the brazing property on the outer surface of a heat exchanger.

即ち、本発明は下記[1]〜[10]に記載の構成を有する。   That is, this invention has the structure as described in following [1]-[10].

[1]熱交換器を構成するアルミニウム合金材が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであり、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品を、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.05〜2.0質量%のMgを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて面接合することを特徴とする放熱装置の製造方法。
[1] The aluminum alloy material constituting the heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass, and Si: 0.05 to 0.4% by mass. And the area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, the average grain size of the crystals is 50 to 500 μm,
Al-Si containing 0.02 to 0.7% by mass of Fe and 0.05 to 2.0% by mass of Mg on the outer surface of the heat exchanger made of the aluminum alloy material. A method for manufacturing a heat radiating device, characterized in that surface bonding is performed using a brazing alloy brazing material.

[2]前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面を前記熱交換器の外面に面接合する前項1に記載の放熱装置の製造方法。   [2] The component that generates heat is an electronic element mounting board in which an aluminum circuit layer for mounting an electronic element is brazed to one surface of an insulating substrate, and is opposite to the aluminum circuit layer of the electronic element mounting board. 2. The method for manufacturing a heat radiating device according to item 1, wherein the side surface is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

[3]前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、さらにCu:0.2〜0.7質量%、Mg:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.4質量%、V:0.05〜0.4質量%およびTi:0.05〜0.4質量%のうちの少なくとも1種を含有する前項1または2に記載の放熱装置の製造方法。   [3] The aluminum alloy material constituting the heat exchanger is further Cu: 0.2-0.7 mass%, Mg: 0.05-0.4 mass%, Zr: 0.05-0.4 mass %, V: 0.05-0.4 mass%, and Ti: 0.05-0.4 mass% The manufacturing method of the heat radiator of the preceding clause 1 or 2 containing at least 1 sort (s).

[4]前記Al−Si系合金ろう材はBi:0.03〜1.5質量%およびSr:0.005〜0.2質量%のうちの少なくとも1種を含有する前項1〜3のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [4] Among the preceding items 1 to 3, wherein the Al—Si based alloy brazing material contains at least one of Bi: 0.03 to 1.5 mass% and Sr: 0.005 to 0.2 mass%. The manufacturing method of the thermal radiation apparatus of any one of these.

[5]前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、600〜640℃で6〜24時間の均質化処理が施された合金材である前項1〜4のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [5] The aluminum alloy material constituting the heat exchanger is an alloy material subjected to homogenization treatment at 600 to 640 ° C. for 6 to 24 hours, according to any one of the preceding items 1 to 4. Manufacturing method of heat dissipation device.

[6]前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、350〜450℃で1〜12時間の焼鈍が施された合金材である前項1〜5のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [6] The heat dissipation device according to any one of 1 to 5 above, wherein the aluminum alloy material constituting the heat exchanger is an alloy material annealed at 350 to 450 ° C. for 1 to 12 hours. Manufacturing method.

[7]前記電子素子搭載用基板と熱交換器との間に応力緩和層を介在させ、前記応力緩和層を熱交換器の外面に前記Al−Si系合金ろう付を用いて面接合する前項2〜6のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [7] The preceding item in which a stress relaxation layer is interposed between the electronic element mounting substrate and the heat exchanger, and the stress relaxation layer is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger using the Al—Si based alloy brazing. The manufacturing method of the thermal radiation apparatus of any one of 2-6.

[8]前記熱交換器の中空部を循環する作動流体が水である前項1〜7のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   [8] The method for manufacturing a heat dissipation device according to any one of items 1 to 7, wherein the working fluid circulating in the hollow portion of the heat exchanger is water.

[9]熱交換器が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであるアルミニウム合金材で構成され、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品が、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.05〜2.0質量%のMgを含有するAl−Si系合金ろう材によって面接合されていることを特徴とする放熱装置。
[9] The heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass and Si: 0.05 to 0.4% by mass, and Al— The area ratio of the Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and is composed of an aluminum alloy material having an average crystal grain size of 50 to 500 μm.
On the outer surface of the heat exchanger composed of the aluminum alloy material, a part with heat generation is Al—Si containing 0.02 to 0.7 mass% Fe and 0.05 to 2.0 mass% Mg. A heat radiating device characterized by being surface-bonded by a system alloy brazing material.

[10]前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面が前記熱交換器の外面に面接合されている前項9に記載の放熱装置。   [10] The component that generates heat is an electronic element mounting board in which an aluminum circuit layer for mounting an electronic element is brazed to one surface of an insulating substrate, and is opposite to the aluminum circuit layer of the electronic element mounting board. 10. The heat dissipation device according to item 9, wherein a side surface is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

[1]に記載の発明によれば、熱交換器を構成するアルミニウム合金材の化学組成および金属組織が規定され、さらにこの熱交換器の外面に発熱を伴う部品をFeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて接合するので、ろう材が十分に濡れ拡がり、特に真空ろう付においてはMgが蒸発しながら酸化膜を破壊することで酸化膜が除去されて、良好に面接合することができる。熱交換器と発熱を伴う部品とを良好に面接合することができるので、前記部品が発生する熱を熱交換器に排熱する際の熱抵抗が少なく優れた放熱性能を有する放熱装置を製造できる。また、熱交換器を構成するアルミニウム合金材は耐食性に優れているので、耐食性に優れた放熱装置を製造できる。   According to the invention described in [1], the chemical composition and the metal structure of the aluminum alloy material constituting the heat exchanger are defined, and a part that generates heat on the outer surface of the heat exchanger is further changed to Al containing Fe and Mg. -Because the brazing material is joined using the Si-based alloy brazing material, the brazing material is sufficiently wetted and spread, especially in vacuum brazing, the oxide film is removed by destroying the oxide film while Mg evaporates, and surface bonding is excellent. can do. Since the heat exchanger and heat-generating components can be surface-bonded well, manufacturing a heat dissipation device with excellent heat dissipation performance with low heat resistance when the heat generated by the components is exhausted to the heat exchanger it can. Moreover, since the aluminum alloy material which comprises a heat exchanger is excellent in corrosion resistance, the heat radiating device excellent in corrosion resistance can be manufactured.

[2]に記載の発明によれば、熱交換器の外面に電子素子搭載用基板を面接合する放熱装置の製造において上記の効果を得ることができる。   According to invention of [2], said effect can be acquired in manufacture of the thermal radiation apparatus which carries out surface bonding of the board | substrate for electronic element mounting to the outer surface of a heat exchanger.

[3]に記載の発明によれば、アルミニウム合金材中にCu、Mg、Zr、V、Tiのうちの1種以上の元素が添加されているので、さらに高いろう付性および耐食性が得られる。   According to the invention described in [3], since one or more elements of Cu, Mg, Zr, V, and Ti are added to the aluminum alloy material, higher brazing and corrosion resistance can be obtained. .

[4]に記載の発明によれば、FeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材にSrが添加されているので、さらに高いろう付性が得られる。   According to the invention described in [4], since Sr is added to the Al—Si based alloy brazing material containing Fe and Bi, higher brazing properties can be obtained.

[5]に記載の発明によれば、熱交換器を構成するアルミニウム合金材に所定の均質化処理を行うことにより、Al−Fe系金属間化合物の面積率を0.3〜1.5%、結晶の平均粒径50〜500μmの範囲に制御することができる。   According to the invention described in [5], by performing a predetermined homogenization treatment on the aluminum alloy material constituting the heat exchanger, the area ratio of the Al—Fe intermetallic compound is 0.3 to 1.5%. The average crystal grain size can be controlled in the range of 50 to 500 μm.

[6]に記載に発明によれば、熱交換器を構成するアルミニウム合金材に所定の焼鈍を行うことにより、Al−Fe系金属間化合物の面積率を0.3〜1.5%、結晶の平均粒径50〜500μmの範囲に制御することができる。   According to the invention described in [6], the aluminum alloy material constituting the heat exchanger is subjected to predetermined annealing, whereby the area ratio of the Al—Fe intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, The average particle size can be controlled in the range of 50 to 500 μm.

[7]に記載の発明によれば、熱交換器と電子素子搭載用基板とを応力緩和層を介して面接合する放熱装置の製造において上記の効果を得ることができる。   According to the invention described in [7], the above-described effect can be obtained in the manufacture of a heat radiating device in which the heat exchanger and the electronic element mounting substrate are surface-bonded via the stress relaxation layer.

[8]に記載の発明によれば、熱交換器の作動流体として水を使用する厳しい腐食環境で使用する放熱装置の製造において上記効果が得られる。   According to the invention described in [8], the above-described effect can be obtained in the manufacture of a heat dissipation device used in a severe corrosive environment using water as a working fluid of a heat exchanger.

[9]に記載の発明によれば、放熱装置は、熱交換器を構成するアルミニウム合金材の化学組成および金属組織が規定され、さらにこの熱交換器の外面に発熱を伴う部品がFeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて接合されているので、ろう材が十分に濡れ拡がり、特に真空ろう付においてはMgが蒸発しながら酸化膜を破壊することで酸化膜が除去されて、良好に面接合されている。かかる放熱装置では、前記部品が発生する熱を熱交換器に排熱する際の熱抵抗が少なく優れた放熱性能を有している。また、熱交換器を構成するアルミニウム合金材は耐食性に優れているので、耐食性にも優れている。   According to the invention described in [9], in the heat radiating device, the chemical composition and the metal structure of the aluminum alloy material constituting the heat exchanger are defined, and further, the parts that generate heat on the outer surface of the heat exchanger are Fe and Mg. The brazing material is sufficiently wetted and spread, especially in vacuum brazing, and the oxide film is removed by destroying the oxide film while Mg evaporates. The surface is well bonded. Such a heat dissipating device has excellent heat dissipating performance with little heat resistance when the heat generated by the components is exhausted to the heat exchanger. Moreover, since the aluminum alloy material which comprises a heat exchanger is excellent in corrosion resistance, it is excellent also in corrosion resistance.

[10]に記載の発明によれば、熱交換器の外面に電子素子搭載用基板が面接合された放熱装置において上記の効果を得ることができる。   According to the invention described in [10], the above effect can be obtained in the heat dissipation device in which the electronic element mounting substrate is surface-bonded to the outer surface of the heat exchanger.

本発明の方法によって製造する放熱装置の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the thermal radiation apparatus manufactured with the method of this invention. 本発明の方法によって製造する放熱装置の他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the thermal radiation apparatus manufactured with the method of this invention. 本発明の方法によって製造する放熱装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the heat sink manufactured by the method of this invention.

[放熱装置の構造]
図1は、本発明の方法により製造する放熱装置の一実施形態であり、ヒートシンク10と電子素子搭載用基板20とを応力緩和層30を挟んで積層した放熱装置1の仮組物を、構成部材が積層する方向で切断した断面で示している。
[Structure of heat dissipation device]
FIG. 1 shows an embodiment of a heat radiating device manufactured by the method of the present invention, and a temporary assembly of a heat radiating device 1 in which a heat sink 10 and an electronic element mounting substrate 20 are stacked with a stress relaxation layer 30 interposed therebetween is configured. A cross section cut in the direction in which the members are stacked is shown.

ヒートシンク10は、凹部12を有する2枚の皿状部材11を合わせることによって形成される扁平中空部が作動流体を循環させる作動流体通路13となされ、この作動流体通路13に波板形のインナーフィン14が内挿されている。前記皿状部材11は、心材15の一方に面にろう材16を積層した平板状のクラッド材を、ろう材16が凹部12の内側となるようにプレス加工し、凹部12の開口周縁から略水平方向に延びる部分を接合用周縁部17としたものである。前記ヒートシンク10は2枚の皿状部材11をろう材16が内側となるように向かい合わせに配置し、凹部12でインナーフィン14を挟み付け、互いの接合用周縁部17が当接し、作動流体通路13の内壁にインナーフィン14が当接した状態に仮組されている。   In the heat sink 10, a flat hollow portion formed by combining two dish-like members 11 having recesses 12 serves as a working fluid passage 13 for circulating a working fluid. 14 is interpolated. The dish-shaped member 11 is formed by pressing a flat clad material in which a brazing material 16 is laminated on one surface of a core material 15 so that the brazing material 16 is inside the recess 12, and is substantially from the opening periphery of the recess 12. The part extending in the horizontal direction is the peripheral edge 17 for bonding. The heat sink 10 has two plate-like members 11 arranged face-to-face so that the brazing material 16 is on the inside, the inner fin 14 is sandwiched between the recesses 12, and the joining peripheral edge portions 17 are in contact with each other. The inner fin 14 is temporarily assembled in contact with the inner wall of the passage 13.

電子素子搭載用基板20は、絶縁基板21と、この絶縁基板21の一方の面に重ねられたアルミニウム回路層22と、他方の面に重ねられたアルミニウム層23とで構成されている。これらの部材21、22、23はろう材箔24、25を挟んで仮組みされている。   The electronic element mounting substrate 20 includes an insulating substrate 21, an aluminum circuit layer 22 superimposed on one surface of the insulating substrate 21, and an aluminum layer 23 superimposed on the other surface. These members 21, 22, and 23 are temporarily assembled with the brazing material foils 24 and 25 interposed therebetween.

前記電子素子搭載用基板20とヒートシンク10とは応力緩和層30を介して積層されている。前記応力緩和層30は心材31の両面にろう材32、33を積層したアルミニウムクラッド材であり、クラッド後に応力吸収空間として複数の円形貫通穴34を穿設したパンチングメタルである。なお、本発明の放熱装置1に用いる応力緩和層30は貫通穴34の有るものに限定されないし、応力吸収空間の形状も限定されない。   The electronic element mounting substrate 20 and the heat sink 10 are laminated via a stress relaxation layer 30. The stress relieving layer 30 is an aluminum clad material in which brazing materials 32 and 33 are laminated on both surfaces of a core material 31, and is a punching metal in which a plurality of circular through holes 34 are formed as a stress absorbing space after clad. In addition, the stress relaxation layer 30 used for the heat radiating device 1 of this invention is not limited to the thing with the through-hole 34, and the shape of stress absorption space is not limited.

前記放熱装置1は前記仮組物を一括してろう付加熱され、全ての部材がろう付される。即ち、ヒートシンク10のろう付においては、皿状部材11を構成するクラッド材のろう材16によって接合用周縁部17がろう付されて作動流体通路13が形成されるとともに、作動流体通路13の壁面にインナーフィン14がろう付される。また、電子素子搭載用基板20の各層間がろう付され、ヒートシンク10の外面に応力緩和層30を介して電子素子搭載用基板20がろう付される。その後アルミニウム回路層22上に電子素子(図示省略)が搭載されてはんだ付される。ろう付後の放熱装置1において、アルミニウム回路層22が絶縁基板21、アルミニウム層23および応力緩和層30を介してヒートシンク16と熱的に結合され、電子素子が発する熱はヒートシンク10に排熱される。   The heat dissipating device 1 is subjected to brazing heat for the temporary assembly all together, and all members are brazed. That is, in the brazing of the heat sink 10, the joining peripheral edge portion 17 is brazed by the brazing material 16 of the clad material constituting the dish-like member 11 to form the working fluid passage 13, and the wall surface of the working fluid passage 13. Inner fins 14 are brazed to each other. Each layer of the electronic element mounting substrate 20 is brazed, and the electronic element mounting substrate 20 is brazed to the outer surface of the heat sink 10 via the stress relaxation layer 30. Thereafter, an electronic element (not shown) is mounted on the aluminum circuit layer 22 and soldered. In the heat dissipation device 1 after brazing, the aluminum circuit layer 22 is thermally coupled to the heat sink 16 via the insulating substrate 21, the aluminum layer 23, and the stress relaxation layer 30, and the heat generated by the electronic elements is exhausted to the heat sink 10. .

前記放熱装置1において、ヒートシンク10は本発明における熱交換器に対応し、電子素子搭載用基板20は同じく発熱を伴う部品に対応する。また、前記ヒートシンク10の皿状部材11の材料であるクラッド材の心材15が本発明における熱交換器を構成するアルミニウム合金材に対応し、応力緩和層30の材料であるクラッド材のヒートシンク10側のろう材33が同じくFeおよびBiを含有するAl−Si系合金ろう材に対応する。   In the heat radiating device 1, the heat sink 10 corresponds to the heat exchanger according to the present invention, and the electronic element mounting board 20 corresponds to a component that similarly generates heat. The core material 15 of the clad material that is the material of the dish-like member 11 of the heat sink 10 corresponds to the aluminum alloy material constituting the heat exchanger in the present invention, and the heat sink 10 side of the clad material that is the material of the stress relaxation layer 30. The brazing material 33 corresponds to an Al—Si alloy brazing material containing Fe and Bi.

前記ヒートシンク10は、内面にあっては、作動流体として水を用いた場合でも十分に長い寿命が得られるように高い耐食性が求められる。また、外面にあっては、応力緩和層30がヒートシンク10への排熱経路となる構造であり、ろう付不良によるろう付面積の低下は放熱性能の低下となるため、ヒートシンク10の外面と応力緩和層30は良好に面接合されていることが求められる。前記ヒートシンク10と応力緩和層30のろう付においては、酸化膜がろう材の濡れ拡がりによって接合部の外周部および貫通穴34に排出されることによって良好なろう付が達成される。   On the inner surface of the heat sink 10, high corrosion resistance is required so that a sufficiently long life can be obtained even when water is used as a working fluid. On the outer surface, the stress relaxation layer 30 serves as a heat exhaust path to the heat sink 10, and a reduction in brazing area due to a brazing failure results in a decrease in heat dissipation performance. The relaxing layer 30 is required to be satisfactorily surface-bonded. In the brazing of the heat sink 10 and the stress relieving layer 30, good brazing is achieved by discharging the oxide film to the outer peripheral portion of the joint and the through hole 34 by wet spreading of the brazing material.

本発明における面接合とは接合部の短辺が5mm以上の接合を意味する。接合部の形状は限定されず、幅が5mm以上の線状接合部、直径5mm以上の円形接合部は面接合に該当する。前記放熱装置1においては、ヒートシンク10と応力緩和層30との接合部が面接合であり、またインナーフィン14と作動流体通路13の壁面との接合部を除く接合部も面接合である。   The surface bonding in the present invention means bonding in which the short side of the bonding portion is 5 mm or more. The shape of the bonding portion is not limited, and a linear bonding portion having a width of 5 mm or more and a circular bonding portion having a diameter of 5 mm or more correspond to surface bonding. In the heat dissipation device 1, the joint between the heat sink 10 and the stress relaxation layer 30 is a surface joint, and the joint excluding the joint between the inner fin 14 and the wall surface of the working fluid passage 13 is also a surface joint.

本発明の放熱装置の製造方法は、熱交換器用を構成するアルミニウム合金材を規定し、さらに熱交換器の外面に発熱を伴う部品を面接合するろう材を規定することによって、熱交換器の良好な耐食性と、熱交換器の外面における良好な面ろう付性を得ている。   The method for manufacturing a heat dissipation device of the present invention defines an aluminum alloy material that constitutes a heat exchanger, and further defines a brazing material for surface-joining a part that generates heat on the outer surface of the heat exchanger. It has good corrosion resistance and good surface brazing on the outer surface of the heat exchanger.

[熱交換器を構成するアルミニウム合金材]
熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、アルミニウム合金中のAl−Fe系金属間化合物が耐食性とろう付性に影響を及ぼし、結晶径がろう付性に影響を及ぼすことに着目し、アルミニウム合金の化学組成を規定した上で、金属組織においてAl−Fe系金属間化合物量を任意の断面における面積率および結晶の平均粒径を規定する。上述したように、前記ヒートシンク10においては、ヒートシンク外面となるクラッド材11の心材15が前記アルミニウム合金材に対応する。
[Aluminum alloy material constituting the heat exchanger]
The aluminum alloy material that constitutes the heat exchanger is based on the fact that the Al-Fe intermetallic compound in the aluminum alloy affects the corrosion resistance and brazing property, and the crystal diameter affects the brazing property. After defining the chemical composition, the amount of Al—Fe-based intermetallic compound in the metal structure is defined as the area ratio in an arbitrary cross section and the average crystal grain size. As described above, in the heat sink 10, the core material 15 of the clad material 11 serving as the outer surface of the heat sink corresponds to the aluminum alloy material.

以下に、アルミニウム合金材の化学組成および金属組織について詳述する。   Below, the chemical composition and metal structure of an aluminum alloy material are explained in full detail.

前記アルミニウム合金材は、所定量のMn、FeおよびSiを含有するアルミニウム合金を用いる。また、前記アルミニウム合金の任意添加元素として、Cu、Mg、Zr、V、Tiを推奨できる。以下に各元素の含有意義と濃度範囲の限定理由について詳述する。   As the aluminum alloy material, an aluminum alloy containing a predetermined amount of Mn, Fe and Si is used. Further, Cu, Mg, Zr, V, and Ti can be recommended as optional additional elements of the aluminum alloy. Hereinafter, the contents of each element and the reasons for limiting the concentration range will be described in detail.

Feは、Al−Fe系金属間化合物の面積率を上記範囲内に制御するためにその濃度を0.02〜0.7質量%とする。Fe濃度が0.05質量%未満ではAl−Fe系金属間化合物量が少ないためにろう付性が低下し、かつ材料精製の点においても不経済である。一方、0.5質量%を超えるとAl−Fe系金属間化合物量が増えて耐食性が低下する。好ましいFe濃度は0.1〜0.45質量%である。   Fe has a concentration of 0.02 to 0.7% by mass in order to control the area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound within the above range. If the Fe concentration is less than 0.05% by mass, the amount of Al—Fe-based intermetallic compound is small, so that the brazing property is lowered and it is uneconomical in terms of material purification. On the other hand, if it exceeds 0.5% by mass, the amount of Al—Fe-based intermetallic compound increases and the corrosion resistance decreases. A preferable Fe concentration is 0.1 to 0.45 mass%.

Mnは、Al−Fe−Mn系金属間化合物量を制御するためにその濃度を0.7〜1.2質量%とする。Mn濃度が0.7質量%未満ではAl−Fe−Mn系金属間化合物量が少なくなって上述した金属間化合物の面積率が得られず、ろう付性が低下する。一方、1.2質量%を超えるとAl−Fe−Mn系金属間化合物量が増えて耐食性が低下する。好ましいMn濃度は0.7〜1.2質量%である。   Mn has a concentration of 0.7 to 1.2% by mass in order to control the amount of Al—Fe—Mn intermetallic compound. If the Mn concentration is less than 0.7% by mass, the amount of Al—Fe—Mn intermetallic compound decreases, and the above-mentioned area ratio of the intermetallic compound cannot be obtained, and the brazing property is lowered. On the other hand, if it exceeds 1.2 mass%, the amount of Al-Fe-Mn intermetallic compound increases and the corrosion resistance decreases. A preferable Mn concentration is 0.7 to 1.2% by mass.

Siは、Al−Fe−Si系金属間化合物量を制御するためにその濃度を0.05〜0.4質量%とする。Si濃度が0.05質量%未満ではAl−Fe−Si系金属間化合物量が少なくなって上述した金属間化合物の面積率が得られず、ろう付性が低下する。一方、0.4質量%を超えるとAl−Fe−Si系金属間化合物量が増えて耐食性が低下する。好ましいSi濃度は0.1〜0.3質量%である。   Si has a concentration of 0.05 to 0.4 mass% in order to control the amount of Al—Fe—Si intermetallic compound. If the Si concentration is less than 0.05% by mass, the amount of the Al—Fe—Si intermetallic compound decreases, and the area ratio of the intermetallic compound described above cannot be obtained, and the brazing property is lowered. On the other hand, when it exceeds 0.4 mass%, the amount of Al—Fe—Si intermetallic compounds increases and the corrosion resistance decreases. A preferable Si concentration is 0.1 to 0.3% by mass.

Cu、Mg、Zr、V、Tiは耐食性に影響を及ぼす元素であり、これらのうちの少なくとも1種を添加することによって耐食性を向上させることができる。これらの元素を添加する場合、合金中のCu濃度が0.2〜0.7質量%、Mg濃度が0.05〜0.4質量%、Zr濃度が0.05〜0.4質量%、V濃度が0.05〜0.4質量%、Ti濃度が0.05〜0.4質量%となるように添加する。各元素の濃度が下限値未満では耐食性向上効果が得られず、上限値を超える添加は不経済である。各元素の特に好ましい濃度は、Cu:0.25〜0.65質量%、Mg:0.1〜0.35質量%、Zr:0.1〜0.3質量%、V:0.1〜0.3質量%、Ti:0.1〜0.3質量%である。   Cu, Mg, Zr, V, and Ti are elements that affect the corrosion resistance, and the corrosion resistance can be improved by adding at least one of them. When these elements are added, the Cu concentration in the alloy is 0.2 to 0.7 mass%, the Mg concentration is 0.05 to 0.4 mass%, the Zr concentration is 0.05 to 0.4 mass%, The V concentration is 0.05 to 0.4% by mass and the Ti concentration is 0.05 to 0.4% by mass. If the concentration of each element is less than the lower limit, the effect of improving corrosion resistance cannot be obtained, and addition exceeding the upper limit is uneconomical. Particularly preferable concentrations of each element are Cu: 0.25 to 0.65 mass%, Mg: 0.1 to 0.35 mass%, Zr: 0.1 to 0.3 mass%, V: 0.1 to 0.1 mass%. 0.3 mass%, Ti: 0.1-0.3 mass%.

心材15を構成するアルミニウム合金の化学組成において、残部はAlおよび不可避不純物である。   In the chemical composition of the aluminum alloy constituting the core material 15, the balance is Al and inevitable impurities.

アルミニウム合金材の金属組織において、Al−Fe系金属間化合物の面積率は0.3〜1.5%とし、結晶の平均粒径は50〜500μmとする。   In the metal structure of the aluminum alloy material, the area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and the average crystal grain size is 50 to 500 μm.

本発明において、「Al−Fe系金属間化合物」はAlおよびFeを含有する全て金属間化合物を意味し、アルミニウム合金材を構成するアルミニウム合金において形成されるAl−Fe系金属間化合物は、Al−Fe、Al−Fe−Si、Al−Fe−Mn、Al−Fe−Si−Mn等であり、これらのAl−Fe系金属間化合物の全てが面積率の規定の対象となる。前記Al−Fe系金属間化合物の面積率が0.3%未満ではろう材の濡れ広がりが悪くなってろう付性が低下する。一方、1.5%を超えるAl−Fe系金属間化合物が存在すると耐食性が悪くなる。好ましいAl−Fe系金属間化合物の面積率は0.3〜1%である。   In the present invention, “Al—Fe intermetallic compound” means all intermetallic compounds containing Al and Fe, and the Al—Fe intermetallic compound formed in the aluminum alloy constituting the aluminum alloy material is Al -Fe, Al-Fe-Si, Al-Fe-Mn, Al-Fe-Si-Mn, etc., and all of these Al-Fe-based intermetallic compounds are subject to area ratio regulation. When the area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound is less than 0.3%, the wetting and spreading of the brazing material becomes worse and the brazing property is lowered. On the other hand, if the Al-Fe intermetallic compound exceeds 1.5%, the corrosion resistance is deteriorated. A preferable area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1%.

また、結晶の平均粒径が50μm未満では結晶粒界が多くなってろう材が心材を侵食するためにろう材の流動性が悪くなる。一方、平均粒径が500μmを超えると結晶粒界が少なくなるので結晶粒界に存在するAl−Fe系金属間化合物量も少なくなり、その結果ろう材の流動性が悪くなる。従って、結晶の平均粒径が50μm未満および500μm超ではろう付性が低下する。結晶の平均粒径の好ましい範囲は50〜300μmである。   On the other hand, if the average crystal grain size is less than 50 μm, the crystal grain boundaries increase and the brazing material erodes the core material, so that the fluidity of the brazing material is deteriorated. On the other hand, when the average particle size exceeds 500 μm, the crystal grain boundary decreases, so the amount of Al—Fe intermetallic compound present at the crystal grain boundary decreases, and as a result, the fluidity of the brazing material deteriorates. Therefore, when the average grain size of the crystal is less than 50 μm and more than 500 μm, the brazing property is lowered. A preferable range of the average grain size of the crystals is 50 to 300 μm.

また、本実施形態では前記アルミニウム合金材を心材15とし、ろう材16を一体化したクラッド材11としてヒートシンク10の製造に用いている。   In this embodiment, the aluminum alloy material is used as the core material 15 and the clad material 11 in which the brazing material 16 is integrated is used for manufacturing the heat sink 10.

前記ろう材16は限定されず、例えばAl−Si系合金ろう材を用いることができる。Al−Si系合金ろう材における好ましいSi濃度は6〜12質量%である。また、ろう付方法はフラックスろう付でも真空ろう付でも良く、真空ろう付の場合はMg濃度が0.5〜2質量%のAl−Si−Mg系合金を推奨でき、フラックスろう付の場合はMg濃度が0.1質量%以下のろう材を使用することが好ましい。いずれのろう材においても残部はAlおよび不可避不純物である。また、ろう付性を高めるために、これらのろう材にBiおよびSrのうちの少なくとも1種を添加することが好ましい。これらの元素を添加する場合、Al−Si系合金中のBi濃度が0.03〜1.5質量%、Sr濃度が0.005〜0.2質量%となるように添加することが好ましい。各元素の濃度の下限値未満ではろう付性向上効果が得られず、上限値を超える多量添加は不経済である。各元素の特に好ましい濃度は、Bi:0.05〜1.0質量%、Sr:0.01〜0.1質量%である。   The brazing material 16 is not limited, and for example, an Al—Si alloy brazing material can be used. The preferable Si concentration in the Al—Si based alloy brazing material is 6 to 12% by mass. The brazing method may be flux brazing or vacuum brazing. In the case of vacuum brazing, an Al-Si-Mg based alloy having an Mg concentration of 0.5 to 2% by mass can be recommended. It is preferable to use a brazing material having an Mg concentration of 0.1% by mass or less. In any brazing material, the balance is Al and inevitable impurities. Moreover, in order to improve brazing property, it is preferable to add at least one of Bi and Sr to these brazing materials. When adding these elements, it is preferable to add such that the Bi concentration in the Al-Si alloy is 0.03 to 1.5 mass% and the Sr concentration is 0.005 to 0.2 mass%. If the concentration of each element is less than the lower limit value, the effect of improving brazability cannot be obtained, and adding a large amount exceeding the upper limit value is uneconomical. Particularly preferable concentrations of each element are Bi: 0.05 to 1.0% by mass and Sr: 0.01 to 0.1% by mass.

本発明は前記ヒートシンク10の材料としてクラッド材を用いることに限定されず、上述した心材15の化学組成および金属組織を有するベア材を用いた場合も本発明に含まれる。   The present invention is not limited to the use of a clad material as the material of the heat sink 10, and the present invention includes a case where the bare material having the chemical composition and metal structure of the core material 15 described above is used.

なお、本発明は、熱交換器の構造は図示例のものに限定するものではないが、本発明に用いる熱交換器用アルミニウム合金材は高耐食性であるから、作動流体として水を循環させる構造の熱交換器の製造に適している。また、熱交換器の用途も限定されず、電子素子冷却用熱交換器、蒸発器、凝縮器、ヒータコア、オイルクーラ、インタークーラ等を例示できる。また、熱交換器の形状、平板形状のアルミニウム合金材やクラッド材からの成形方法も限定されない。   In the present invention, the structure of the heat exchanger is not limited to the illustrated example, but the aluminum alloy material for the heat exchanger used in the present invention has high corrosion resistance, so that water is circulated as a working fluid. Suitable for manufacturing heat exchangers. Further, the use of the heat exchanger is not limited, and examples thereof include an electronic element cooling heat exchanger, an evaporator, a condenser, a heater core, an oil cooler, and an intercooler. In addition, the shape of the heat exchanger, the forming method from the flat plate-shaped aluminum alloy material or the clad material is not limited.

[アルミニウム合金材の製造方法]
前記クラッド材は、上述した化学組成の心材とろう材とを重ねて熱間圧延してクラッドし、要すればさらに所要厚さに圧延することにより作製される。この工程において、圧延前の心材、即ち本発明におけるアルミニウム合金材に所定の均質化処理を施すことによって金属間化合物量および結晶粒径を制御し、金属組織においてAl−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を本発明の範囲内とすることができる。
[Method for producing aluminum alloy material]
The clad material is produced by laminating the core material and the brazing material having the above-described chemical composition, hot rolling and clad, and if necessary, further rolling to a required thickness. In this step, the core material before rolling, that is, the aluminum alloy material in the present invention is subjected to predetermined homogenization treatment to control the amount of intermetallic compound and the crystal grain size, and the area of the Al—Fe intermetallic compound in the metal structure. The rate and the average grain size of the crystals can be within the scope of the present invention.

心材の均質化処理は600〜640℃で6〜24時間保持することにより行う。600℃未満または6時間未満では所期する金属組織が得られず、良好なろう付性と耐食性が得られない。一方、640℃または24時間の処理を行えば所期する金属組織が得られるので、それを超える高温または長時間の処理はエネルギー面で不経済である。均質化処理の好ましい温度は600〜630℃であり、好ましい処理時間は8〜20時間である。   The homogenization treatment of the core material is performed by holding at 600 to 640 ° C. for 6 to 24 hours. If it is less than 600 ° C. or less than 6 hours, the desired metal structure cannot be obtained, and good brazing and corrosion resistance cannot be obtained. On the other hand, if a treatment at 640 ° C. or 24 hours is performed, a desired metal structure can be obtained. Therefore, treatment at a higher temperature or longer time is uneconomical in terms of energy. The preferable temperature of the homogenization treatment is 600 to 630 ° C., and the preferred treatment time is 8 to 20 hours.

またに、350〜450℃で1〜12時間の焼鈍を行うことも好ましい。上記条件で焼鈍することによって所期する金属組織の形成をより確実なものとして、より高いろう付性および耐食性が得られる金属組織を形成することができる。特に好ましい焼鈍温度は360〜430℃であり、特に好ましい焼鈍時間は2〜10時間である。前記焼鈍の好ましい処理時期は、前記均質化処理した材料を熱交換器用材料の厚さに加工した後である。前記クラッド材の場合は、均質化処理に所定厚さにクラッド圧延した後に焼鈍を行うことが好ましい。   It is also preferable to perform annealing at 350 to 450 ° C. for 1 to 12 hours. By performing annealing under the above conditions, it is possible to form a metal structure with higher brazability and corrosion resistance by ensuring the formation of the desired metal structure. A particularly preferable annealing temperature is 360 to 430 ° C., and a particularly preferable annealing time is 2 to 10 hours. A preferable processing time for the annealing is after the homogenized material is processed into the thickness of the heat exchanger material. In the case of the clad material, it is preferable to perform annealing after clad rolling to a predetermined thickness in the homogenization treatment.

また、熱交換器用材料としてベア材を用いる場合は、前記均質化処理を施した材料を所定厚さに加工し、その後に上記の条件で焼鈍を行う。ベア材においてもこれらの熱処理を行うことによって、金属間化合物量および結晶粒径を制御し、金属組織においてAl−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を本発明の範囲内とすることができる。   Moreover, when using a bare material as a heat exchanger material, the material which performed the said homogenization process is processed into predetermined thickness, and it anneals on said conditions after that. By performing these heat treatments on the bare material as well, the amount of intermetallic compounds and the crystal grain size are controlled, and the area ratio of Al—Fe intermetallic compounds and the average grain size of crystals in the metal structure are within the scope of the present invention. can do.

[Al−Si系合金ろう材]
上述したヒートシンク10の外面における面接合に用いるAl−Si系合金ろう材は、応力緩和層30を構成するクラッド材のろう材33として放熱装置1の仮組体に組み込まれている。
[Al-Si alloy brazing material]
The Al—Si based brazing material used for the surface bonding on the outer surface of the heat sink 10 described above is incorporated in the temporary assembly of the heat dissipation device 1 as the brazing material 33 of the clad material constituting the stress relaxation layer 30.

前記ろう材33は、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.05〜2.0質量%のMgを含有するAl−Si系合金ろう材である。このFeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材において、Feは接合界面においてAl−Fe系金属間化合物を形成してろうの流れ性を促して面ろう付性を良好にする元素である。ろう材中のFe濃度が0.02質量%未満ではろうの流れ性を促す効果がなく、0.7質量%を超える添加は不経済である。特に好ましいFe濃度は0.05〜0.6質量%である。Mgはろう材の流動性を良好にするともに、真空ろう付においては蒸発しながら被ろう付部材表面の酸化膜を破壊することで酸化膜を除去してろう付性を向上させる元素である。ろう材中のMg濃度が0.05質量%未満では上記効果が少ない。一方、Mg濃度が2.0質量%を超えるとMgO等の酸化膜が成長しすぎてろう付性が低下する。好ましいMg濃度は0.3〜1.7質量%である。また、好ましいSi濃度は6〜12質量%である。上記ろう材おいて残部はAlおよび不可避不純物である。   The brazing material 33 is an Al—Si alloy brazing material containing 0.02 to 0.7 mass% Fe and 0.05 to 2.0 mass% Mg. In this Al-Si alloy brazing material containing Fe and Mg, Fe is an element that forms an Al-Fe intermetallic compound at the joint interface and promotes the flowability of the brazing to improve the surface brazing property. . When the Fe concentration in the brazing material is less than 0.02% by mass, there is no effect of promoting the flowability of the brazing, and addition exceeding 0.7% by mass is uneconomical. A particularly preferable Fe concentration is 0.05 to 0.6% by mass. Mg is an element that improves the brazing property by removing the oxide film by destroying the oxide film on the surface of the member to be brazed while evaporating in vacuum brazing while improving the fluidity of the brazing material. When the Mg concentration in the brazing material is less than 0.05% by mass, the above effect is small. On the other hand, if the Mg concentration exceeds 2.0% by mass, an oxide film such as MgO grows too much and the brazing property is lowered. A preferable Mg concentration is 0.3 to 1.7% by mass. The preferable Si concentration is 6 to 12% by mass. The balance of the brazing material is Al and inevitable impurities.

また、ろう付方法はフラックスろう付でも真空ろう付でも良い。   The brazing method may be flux brazing or vacuum brazing.

また、ろう付性を高めるために、前記ろう材にBiおよびSrのうちの少なくとも1種を添加することが好ましい。これらの元素を添加する場合、Al−Si系合金中のBi濃度が0.03〜1.5質量%、Sr濃度が0.005〜0.2質量%となるように添加することが好ましい。各元素の濃度の下限値未満ではろう付性向上効果が得られず、上限値を超える多量添加は不経済である。各元素の特に好ましい濃度は、Bi:0.05〜1.0質量%、Sr:0.01〜0.1質量%である。   Moreover, in order to improve brazing property, it is preferable to add at least one of Bi and Sr to the brazing material. When adding these elements, it is preferable to add such that the Bi concentration in the Al-Si alloy is 0.03 to 1.5 mass% and the Sr concentration is 0.005 to 0.2 mass%. If the concentration of each element is less than the lower limit value, the effect of improving brazability cannot be obtained, and adding a large amount exceeding the upper limit value is uneconomical. Particularly preferable concentrations of each element are Bi: 0.05 to 1.0% by mass and Sr: 0.01 to 0.1% by mass.

[電子素子搭載用基板および応力緩和層]
電子素子搭載用基板は絶縁基板21の少なくとも一方の面にアルミニウム回路層22が接合されていれば足り、他方の面は図1のようにアルミニウム層23が接合されていても良いし、図2および図3の電子素子搭載用基板26のように他面側にアルミニウム層が無く絶縁基板21が直接応力緩和層30、37に接合されていても良い。さらには、絶縁基板21が直接ヒートシンク10に接合されている場合(図示なし)も本発明に含まれる。
[Electronic element mounting substrate and stress relaxation layer]
The electronic element mounting substrate only needs to have the aluminum circuit layer 22 bonded to at least one surface of the insulating substrate 21, and the other surface may have the aluminum layer 23 bonded as shown in FIG. Further, like the electronic element mounting substrate 26 of FIG. 3, the insulating substrate 21 may be directly joined to the stress relaxation layers 30 and 37 without the aluminum layer on the other surface side. Furthermore, the case where the insulating substrate 21 is directly bonded to the heat sink 10 (not shown) is also included in the present invention.

電子素子搭載用基板において、絶縁基板21を構成する材料としては、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化ジルコニウム、炭化ケイ素等のセラミックを例示できる。これらのセラミックは電気絶縁性が優れていることはもとより、熱伝導性が良く放熱性が優れている点で推奨できる。また、アルミニウム回路層22およびアルミニウム層23は導電性および伝熱性の良い高純度アルミニウムを推奨できる。   In the electronic element mounting substrate, examples of the material constituting the insulating substrate 21 include ceramics such as aluminum nitride, aluminum oxide, silicon nitride, zirconium oxide, and silicon carbide. These ceramics are recommended not only because of their excellent electrical insulation, but also because they have good thermal conductivity and excellent heat dissipation. For the aluminum circuit layer 22 and the aluminum layer 23, high-purity aluminum having good conductivity and heat conductivity can be recommended.

また、応力緩和層は伝熱性の良い1000系や3000系のアルミニウム合金を用いることが好ましい。形状は、応力吸収空間となりかつろう付時に酸化膜の排出場所となる貫通穴を有するものが好ましいが、本発明は貫通穴の無い応力緩和層を排除するものではない。   The stress relaxation layer is preferably made of a 1000 series or 3000 series aluminum alloy having good heat conductivity. The shape preferably has a through hole that becomes a stress absorbing space and serves as a discharge location of the oxide film during brazing, but the present invention does not exclude a stress relaxation layer having no through hole.

また、本発明は熱交換器の外面に面接合する部品を電子素子搭載用基板に限定するものではなく、ろう付可能な発熱を伴う部品であれば本発明の方法を適用できる。   In addition, the present invention is not limited to the electronic element mounting substrate, but the method of the present invention can be applied to any component that generates heat that can be brazed.

[熱交換器の外面におけるろう材の供給]
ヒートシンク外面におけるろう付は、相手材が電子素子搭載用基板および応力緩和層のいずれであっても面接合であり、上述したFeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材を用いる。ろう材の供給方法は限定されず、相手材にクラッドして一体化しても良いし、ろう材箔やろう材粉末として供給することもできる。また、ヒートシンクと相手材とを両面にろう材をクラッドしたブレージングシートでろう付することもできる。
[Supply of brazing material on the outer surface of the heat exchanger]
Brazing on the outer surface of the heat sink is surface bonding regardless of whether the counterpart material is an electronic element mounting substrate or a stress relaxation layer, and the above-described Al—Si based alloy brazing material containing Fe and Mg is used. The method for supplying the brazing material is not limited, and the brazing material may be clad and integrated, or may be supplied as a brazing material foil or brazing material powder. Further, the heat sink and the mating material can be brazed with a brazing sheet in which a brazing material is clad on both sides.

図1〜3の放熱装置1、2、3はいずれもヒートシンク10のろう付の相手材が応力緩和層であり、ろう材の供給方法が異なる。図1の放熱装置1では、応力緩和層の材料として、心材31にFeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材33をクラッドしたクラッド材30で用い、ろう付後は心材31が実質的に応力緩和層となる。図2の放熱装置2では、応力緩和層36としてベア材を使用し、FeおよびMgを含有するAl−Si系合金からなるろう材箔38を組み付けた例である。図3の放熱装置3もベア材からなる応力緩和層37を使用したものであるが、ヒートシンク10との接合には両面ブレージングシート39を用いている。前記両面ブレージングシート39は応力緩和層37の貫通穴34に重なる位置に同寸の貫通穴39aが穿設されており、ヒートシンク10側のろう材39bがFeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材である。   In each of the heat dissipating devices 1, 2, and 3 in FIGS. 1 to 3, the mating material of the heat sink 10 is a stress relaxation layer, and the brazing material supplying method is different. In the heat radiating device 1 of FIG. 1, the material for the stress relaxation layer is the clad material 30 in which the core material 31 is clad with an Al—Si alloy brazing material 33 containing Fe and Mg, and the core material 31 is substantially after brazing. It becomes a stress relaxation layer. 2 is an example in which a bare material is used as the stress relaxation layer 36 and a brazing material foil 38 made of an Al—Si based alloy containing Fe and Mg is assembled. The heat radiating device 3 in FIG. 3 also uses a stress relaxation layer 37 made of a bare material, but a double-sided brazing sheet 39 is used for joining to the heat sink 10. In the double-sided brazing sheet 39, a through hole 39a of the same size is formed at a position overlapping the through hole 34 of the stress relaxation layer 37, and the brazing material 39b on the heat sink 10 side contains an Fe—Mg alloy. It is a brazing material.

本発明の放熱装置の製造方法によれば、熱交換器の外面において発熱を伴う部品を良好に面接合でき、製造された放熱装置は部品が発する熱を熱交換器に排熱する際の熱抵抗が少なく、優れた放熱性能を有するものとなる。また、熱交換器を構成するアルミニウム合金材は耐食性が優れているので、より厳しい腐食環境で使用される熱交換器の材料としての適用意義が大きい。そのような熱交換器の一つの例が、図1〜3に示した放熱装置1、2、3に組み込んで電子素子を冷却するヒートシンク10である。前記ヒートシンク10は外面に電子素子搭載用基板20が直接または応力緩和層30を介して面接合され、かつ作動流体が水である場合は外面のみならず内面においても高い耐食性が要求されるからである。   According to the method for manufacturing a heat radiating device of the present invention, it is possible to satisfactorily surface-join components that generate heat on the outer surface of the heat exchanger, and the manufactured heat radiating device is heat generated when heat generated by the components is exhausted to the heat exchanger. It has low resistance and has excellent heat dissipation performance. Moreover, since the aluminum alloy material which comprises a heat exchanger is excellent in corrosion resistance, the application significance as a material of the heat exchanger used in a severer corrosive environment is large. One example of such a heat exchanger is a heat sink 10 that is incorporated in the heat dissipating devices 1, 2, and 3 shown in FIGS. When the electronic element mounting substrate 20 is surface-bonded to the outer surface directly or via the stress relaxation layer 30 and the working fluid is water, high heat resistance is required not only on the outer surface but also on the inner surface. is there.

クラッド材を用いてヒートシンクおよび応力緩和層を作製し、他の部材とともに図1に参照される放熱装置1を作製した。
[実施例1〜12、比較例1〜5]
図1に示したヒートシンク10の皿状部材11の材料となる二層クラッド材を作製した。実施例1〜12および比較例1〜5においてクラッド材の心材15およびろう材16を構成するアルミニウム合金の化学組成は表1に示すとおりであり、クラッド材の製造条件は共通である。
A heat sink and a stress relaxation layer were produced using the clad material, and a heat radiating device 1 referred to FIG. 1 was produced together with other members.
[Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 5]
A two-layer clad material as a material of the dish-like member 11 of the heat sink 10 shown in FIG. 1 was produced. In Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 5, the chemical composition of the aluminum alloy constituting the core material 15 and the brazing material 16 of the clad material is as shown in Table 1, and the production conditions of the clad material are common.

心材用のアルミニウム合金塊に対して620℃×12時間の均質化処理を施し、ろう材用のアルミニウム合金塊と重ねて熱間圧延してクラッドし、総厚0.8mm、ろう材のクラッド率7%の二層クラッド材とし、このクラッド材を400℃×4時間の焼鈍を行った。   The aluminum alloy lump for the core material is homogenized at 620 ° C. for 12 hours, and is hot rolled and clad with the aluminum alloy lump for the brazing material. The total thickness is 0.8 mm. A 7% double-layer clad material was used, and the clad material was annealed at 400 ° C. for 4 hours.

作製したクラッド材11について、Al−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を調べたところ、表1に示すものであった。また、作製したクラッド材はプレス成形により図1に示す皿状部材11とした。   The produced cladding material 11 was examined for the area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound and the average grain size of the crystals, and the results are shown in Table 1. The produced clad material was formed into a dish-like member 11 shown in FIG. 1 by press molding.

応力緩和層30の材料は、心材31が3003アルミニウム合金、電子素子搭載用基板20側のろう材32がAl−10質量%Si−1質量%Mg合金からなり、ヒートシンク10側ろう材33が表1に示す化学組成のアルミニウム合金からなる三層クラッド材である。前記三層クラッド材は、総厚が1mm、ろう材32、33のクラッド率が片面につき4%である。応力緩和層30は、前記三層クラッド材を28mm×28mmに切断し、さらに切削加工を施して直径2mmの円形の12個の貫通穴34を形成して作製した。   As for the material of the stress relaxation layer 30, the core material 31 is made of 3003 aluminum alloy, the brazing material 32 on the electronic device mounting substrate 20 side is made of Al-10 mass% Si-1 mass% Mg alloy, and the heat sink 10 side brazing material 33 is represented. 1 is a three-layer clad material made of an aluminum alloy having the chemical composition shown in FIG. The three-layer clad material has a total thickness of 1 mm, and the clad rate of the brazing materials 32 and 33 is 4% per side. The stress relaxation layer 30 was produced by cutting the three-layer clad material into 28 mm × 28 mm and further cutting to form 12 circular through holes 34 having a diameter of 2 mm.

また、放熱装置1における他の部材は以下のとおりである。   Moreover, the other member in the thermal radiation apparatus 1 is as follows.

波形のインナーフィン14は、厚さ1.2mmの3000系合金板を曲成したものである。絶縁基板21は窒化アルミニウムからなる30mm×30mm×厚さ0.6mmの平板である。アルミニウム回路層22およびアルミニウム層23は純度99.99%以上の高純度アルミニウムからなる厚さ0.6mmの平板である。ろう材箔24、25はAl−10質量%Si−1質量%Mg合金からなり、箔厚は30μmである。   The corrugated inner fin 14 is formed by bending a 3000 series alloy plate having a thickness of 1.2 mm. The insulating substrate 21 is a 30 mm × 30 mm × 0.6 mm thick flat plate made of aluminum nitride. The aluminum circuit layer 22 and the aluminum layer 23 are 0.6 mm thick flat plates made of high-purity aluminum having a purity of 99.99% or more. The brazing foils 24 and 25 are made of an Al-10 mass% Si-1 mass% Mg alloy, and the foil thickness is 30 μm.

さらに、各部材を図1に示す構造の積層体に仮組し、仮組物を7×10−4Paの真空中で600℃×20分で真空ろう付した。ろう付した放熱装置1について面ろう付性および耐食性を下記の方法で試験し評価した。評価結果を表1に示す。
(面ろう付性)
ヒートシンク10と応力緩和層30の接合界面を超音波探傷装置で探傷し、応力緩和層30の貫通穴34を除く面積(28×28−12×π mm)に対して接合されている面積の割合を調べた。接合面積率が97%以上を「○」、95%以上97%未満を「△」、95%以下を「×」と評価した。
(耐食性)
ヒートシンク10の作動流体としてOY水(Cl:195ppm、SO 2−:60ppm、Fe3+:30ppm、Cu2+:1ppm)を用い、80℃×8時間、常温×16時間を1サイクルとし、20サイクル(480時間)の腐食促進試験を行った。
Furthermore, each member was temporarily assembled on the laminate having the structure shown in FIG. 1, and the temporary assembly was vacuum brazed in a vacuum of 7 × 10 −4 Pa at 600 ° C. for 20 minutes. The brazed heat dissipation device 1 was tested and evaluated for surface brazing and corrosion resistance by the following methods. The evaluation results are shown in Table 1.
(Face brazing)
The bonding interface between the heat sink 10 and the stress relaxation layer 30 is detected with an ultrasonic flaw detector and the area bonded to the area (28 × 28−12 × π mm 2 ) excluding the through hole 34 of the stress relaxation layer 30 is obtained. The proportion was examined. A bonding area ratio of 97% or more was evaluated as “◯”, 95% or more and less than 97% as “Δ”, and 95% or less as “×”.
(Corrosion resistance)
OY water (Cl : 195 ppm, SO 4 2− : 60 ppm, Fe 3+ : 30 ppm, Cu 2+ : 1 ppm) was used as the working fluid of the heat sink 10, and one cycle of 80 ° C. × 8 hours and room temperature × 16 hours was used. A cycle (480 hours) corrosion acceleration test was conducted.

前記腐食促進試験後のヒートシンク10の内面における腐食深さを測定し、腐食深さが300μm未満を「○」、300μm以上600μm未満を「△」、600μm以上を「×」と評価した。
[実施例13〜15]
実施例2と同じ心材材料とろう材材料を用い、心材の均質化条件およびクラッド後の焼鈍条件を変えて二層クラッド材を作製した。各例の均質化条件および焼鈍条件は表2に示すとおりである。
The corrosion depth on the inner surface of the heat sink 10 after the corrosion acceleration test was measured, and the corrosion depth was evaluated as “◯” when less than 300 μm, “Δ” when 300 μm or more and less than 600 μm, and “×” when 600 μm or more.
[Examples 13 to 15]
Using the same core material and brazing material as in Example 2, the two-layer clad material was produced by changing the homogenization condition of the core material and the annealing condition after clad. The homogenization conditions and annealing conditions for each example are as shown in Table 2.

作製した二層クラッド材についてAl−Fe系金属間化合物の面積率および結晶の平均粒径を調べた。また、この二層クラッド材でヒートシンク10用の皿状部材11を成形した。この皿状部材11以外は実施例2と同じ部材を用いて放熱装置1を仮組し、仮組物を7×10−4Paの真空中で600℃×20分で真空ろう付し、面ろう付性および耐食性を実施例1等と同じ方法で試験し評価した。評価結果を表2に示す。 The area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound and the average grain size of the crystals were examined for the produced two-layer clad material. Further, a dish-like member 11 for the heat sink 10 was formed with this two-layer clad material. Except for the dish-like member 11, the heat radiating device 1 is temporarily assembled using the same members as in Example 2, and the temporary assembly is vacuum brazed at 600 ° C. for 20 minutes in a vacuum of 7 × 10 −4 Pa. Brazing and corrosion resistance were tested and evaluated in the same manner as in Example 1 and the like. The evaluation results are shown in Table 2.

表1、2に示したとおり、所定のヒートシンク用材料およびヒートシンクの外面ろう付用のろう材を用いた熱交換器は広い面積のろう付においても良好なろう付が達成され、かつ耐食性が優れている。   As shown in Tables 1 and 2, the heat exchanger using the predetermined heat sink material and the brazing material for brazing the outer surface of the heat sink achieves good brazing even in large area brazing and has excellent corrosion resistance. ing.

本発明は、熱交換器の外面に電子素子搭載用基板と熱交換器とを広い面積でろう付する放熱装置の製造に好適に用いることができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be suitably used for manufacturing a heat dissipation device that brazes an electronic element mounting substrate and a heat exchanger over a large area on the outer surface of a heat exchanger.

1、2、3…放熱装置
10…ヒートシンク(熱交換器)
11…皿状部材
15…心材(アルミニウム合金材)
20、26…電子素子搭載用基板(発熱を伴う部品)
21…絶縁基板
22…アルミニウム回路層
30、36、37…応力緩和層
34…貫通穴
33、38、39b…ろう材(FeおよびMgを含有するAl−Si系合金ろう材)
1, 2, 3 ... Radiating device 10 ... Heat sink (heat exchanger)
11 ... Plate-like member 15 ... Core material (aluminum alloy material)
20, 26 ... Electronic device mounting substrate (components that generate heat)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Insulating substrate 22 ... Aluminum circuit layer 30, 36, 37 ... Stress relaxation layer 34 ... Through-hole 33, 38, 39b ... Brazing material (Al-Si type alloy brazing material containing Fe and Mg)

Claims (10)

熱交換器を構成するアルミニウム合金材が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであり、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品を、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.05〜2.0質量%のMgを含有するAl−Si系合金ろう材を用いて面接合することを特徴とする放熱装置の製造方法。
The aluminum alloy material constituting the heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass and Si: 0.05 to 0.4% by mass, And the area ratio of the Al—Fe-based intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, the average grain size of the crystals is 50 to 500 μm,
Al-Si containing 0.02 to 0.7% by mass of Fe and 0.05 to 2.0% by mass of Mg on the outer surface of the heat exchanger made of the aluminum alloy material. A method for manufacturing a heat radiating device, characterized in that surface bonding is performed using a brazing alloy brazing material.
前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面を前記熱交換器の外面に面接合する請求項1に記載の放熱装置の製造方法。   The component that generates heat is an electronic element mounting substrate in which an aluminum circuit layer on which an electronic element is mounted is brazed on one surface of an insulating substrate, and the surface on the opposite side of the aluminum circuit layer of the electronic element mounting substrate The manufacturing method of the heat radiating device according to claim 1, wherein surface bonding is performed on the outer surface of the heat exchanger. 前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、さらにCu:0.2〜0.7質量%、Mg:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.4質量%、V:0.05〜0.4質量%およびTi:0.05〜0.4質量%のうちの少なくとも1種を含有する請求項1または2に記載の放熱装置の製造方法。   The aluminum alloy material constituting the heat exchanger is further Cu: 0.2-0.7 mass%, Mg: 0.05-0.4 mass%, Zr: 0.05-0.4 mass%, V The manufacturing method of the thermal radiation apparatus of Claim 1 or 2 containing at least 1 sort (s): 0.05-0.4 mass% and Ti: 0.05-0.4 mass%. 前記Al−Si系合金ろう材はBi:0.03〜1.5質量%およびSr:0.005〜0.2質量%のうちの少なくとも1種を含有する請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The Al-Si alloy brazing material contains at least one of Bi: 0.03 to 1.5 mass% and Sr: 0.005 to 0.2 mass%. A method for manufacturing the heat dissipation device according to claim 1. 前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、600〜640℃で6〜24時間の均質化処理が施された合金材である請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The heat dissipation device according to any one of claims 1 to 4, wherein the aluminum alloy material constituting the heat exchanger is an alloy material subjected to a homogenization treatment at 600 to 640 ° C for 6 to 24 hours. Manufacturing method. 前記熱交換器を構成するアルミニウム合金材は、350〜450℃で1〜12時間の焼鈍が施された合金材である請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The aluminum alloy material that constitutes the heat exchanger is an alloy material that has been annealed at 350 to 450 ° C for 1 to 12 hours, and manufacturing the heat dissipation device according to any one of claims 1 to 5. Method. 前記電子素子搭載用基板と熱交換器との間に応力緩和層を介在させ、前記応力緩和層を熱交換器の外面に前記Al−Si系合金ろう付を用いて面接合する請求項2〜6のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   A stress relaxation layer is interposed between the electronic element mounting substrate and the heat exchanger, and the stress relaxation layer is surface bonded to the outer surface of the heat exchanger using the Al-Si alloy brazing. 6. A method for manufacturing a heat dissipation device according to claim 1. 前記熱交換器の中空部を循環する作動流体が水である請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の放熱装置の製造方法。   The manufacturing method of the heat radiating device according to any one of claims 1 to 7, wherein the working fluid circulating through the hollow portion of the heat exchanger is water. 熱交換器が、Mn:0.7〜1.2質量%、Fe:0.02〜0.7質量%およびSi:0.05〜0.4質量%を含有し、かつAl−Fe系金属間化合物の面積率が0.3〜1.5%であり、結晶の平均粒径が50〜500μmであるアルミニウム合金材で構成され、
前記アルミニウム合金材で構成された熱交換器の外面に、発熱を伴う部品が、0.02〜0.7質量%のFeおよび0.05〜2.0質量%のMgを含有するAl−Si系合金ろう材によって面接合されていることを特徴とする放熱装置。
The heat exchanger contains Mn: 0.7 to 1.2% by mass, Fe: 0.02 to 0.7% by mass and Si: 0.05 to 0.4% by mass, and an Al—Fe-based metal The area ratio of the intermetallic compound is 0.3 to 1.5%, and is composed of an aluminum alloy material having an average crystal grain size of 50 to 500 μm,
On the outer surface of the heat exchanger composed of the aluminum alloy material, a part with heat generation is Al—Si containing 0.02 to 0.7 mass% Fe and 0.05 to 2.0 mass% Mg. A heat radiating device characterized by being surface-bonded by a system alloy brazing material.
前記発熱を伴う部品が、絶縁基板の一方の面に電子素子を搭載するアルミニウム回路層がろう付される電子素子搭載用基板であり、前記電子素子搭載用基板のアルミニウム回路層の反対側の面が前記熱交換器の外面に面接合されている請求項9に記載の放熱装置。
The component that generates heat is an electronic element mounting substrate in which an aluminum circuit layer on which an electronic element is mounted is brazed on one surface of an insulating substrate, and the surface on the opposite side of the aluminum circuit layer of the electronic element mounting substrate The heat radiating device according to claim 9, wherein the surface is joined to an outer surface of the heat exchanger.
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