JP6511917B2 - PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND OPTICAL FILM - Google Patents

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Description

本発明は、保護層形成、接着剤、封止剤、インクジェット用インク、光学的立体造形などの分野、特に樹脂基材上の保護層形成に好適に用いることができる光硬化性樹脂組成物及びその硬化物に関する。また、本発明は、前記光硬化性樹脂組成物を用いた光学フィルムに関するものである。   The present invention relates to a photocurable resin composition that can be suitably used in the fields of protective layer formation, adhesives, sealants, inkjet inks, optical three-dimensional modeling, etc., particularly for formation of protective layers on resin substrates, and It relates to the cured product. The present invention also relates to an optical film using the photocurable resin composition.

光硬化性樹脂は省エネルギー、生産性向上などの特長を有するため、コーティング材、塗料、印刷インキ、接着剤、封止剤など多方面に現在利用されている.
光硬化性樹脂は、その重合機構によりカチオン重合性樹脂とラジカル重合性樹脂に大別される。カチオン重合性光硬化性樹脂の一種である光硬化型エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂の持つ優れた接着力、高絶縁性、硬化時における低収縮性、耐薬品性の良さなどバランスのとれた特性を有するが、硬化速度が遅いという欠点を有している。一方、ラジカル重合性光硬化性樹脂の一種である光硬化型アクリレート系樹脂は光硬化速度が速いという特長を有しているが、酸素による重合阻害、顕著な硬化収縮の発生等の欠点を有している。
それらの欠点を解消するために、カチオン重合性化合物及びラジカル重合性化合物からなるハイブリッド型光硬化性樹脂の検討がなされ、保護層形成、接着剤、インクジェット用インク、光学的立体造形など多くの分野に展開されている。一方、光硬化性樹脂と共に用いられる光重合開始剤としては、高活性なアンチモン含有カチオン重合開始剤が使用される場合があるが、アンチモンは有毒な重金属であり、環境安全性の点からアンチモンを含まないカチオン重合開始剤を使用することが望まれる。
Photo-curable resins are currently used in many fields such as coating materials, paints, printing inks, adhesives and sealants because they have features such as energy saving and productivity improvement.
Photocurable resins are roughly classified into cationically polymerizable resins and radically polymerizable resins according to their polymerization mechanism. A photocurable epoxy resin, which is a type of cationically polymerizable photocurable resin, has well-balanced properties such as the excellent adhesion, high insulation, low shrinkage at curing, and good chemical resistance of the epoxy resin. However, they have the disadvantage of slow curing speed. On the other hand, photo-curable acrylate resin, which is a kind of radically polymerizable photo-curable resin, has the feature that the photo-curing rate is fast, but it has defects such as polymerization inhibition by oxygen and occurrence of remarkable curing shrinkage. doing.
In order to solve these drawbacks, hybrid type photocurable resins comprising cationically polymerizable compounds and radically polymerizable compounds are studied, and many fields such as protective layer formation, adhesives, inkjet inks, optical three-dimensional modeling, etc. Has been expanded. On the other hand, although a highly active antimony-containing cationic polymerization initiator may be used as a photopolymerization initiator to be used together with a photocurable resin, antimony is a toxic heavy metal, and from the viewpoint of environmental safety, antimony is used. It is desirable to use cationic polymerization initiators that do not contain it.

例えば、特許文献1、2及び3では、樹脂基材の傷つきを防止する保護層として、特定のカチオン重合性化合物と特定のラジカル重合化合物を混合したハイブリッド型光硬化性樹脂組成物を用いて形成すると、高硬度でカールが少なく、塗膜の割れが少ない積層体を得ることができると記載されている。
しかしながら特許文献1、2の実施例では、六フッ化リンイオンを有するカチオン重合開始剤の添加量が多く、このような光硬化膜を高温高湿度環境下に長時間おくと、カチオン重合開始剤から発生する酸に由来する析出物が膜表面にでてきて白化したり、黄変するという問題がある。一方で、析出物や着色を抑制するために、特許文献2の実施例に記載のカチオン重合開始剤UVI−6990とラジカル重合開始剤の組合せを用いて、カチオン重合開始剤の添加量を減らすと、カチオン重合性が低下し、カールが悪化するという問題が生じる。
For example, in Patent Documents 1, 2 and 3, a protective layer for preventing damage to a resin substrate is formed using a hybrid photocurable resin composition in which a specific cationically polymerizable compound and a specific radically polymerizable compound are mixed. Then, it is described that it is possible to obtain a laminate having high hardness, less curling and less cracking of the coating.
However, in the examples of Patent Documents 1 and 2, the addition amount of the cationic polymerization initiator having phosphorus hexafluoride ion is large, and when such a photocured film is left under a high temperature and high humidity environment for a long time, the cationic polymerization initiator There is a problem that precipitates derived from the generated acid come to the film surface to be whitened or yellowed. On the other hand, when the combination of the cationic polymerization initiator UVI-6990 and the radical polymerization initiator described in the example of Patent Document 2 is used to reduce the amount of the cationic polymerization initiator in order to suppress precipitation and coloring. The problem is that the cationic polymerizability is lowered and the curling is deteriorated.

一方で、ジフェニルヨードニウム塩系カチオン重合開始剤では、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンやビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドの光反応によって生成した電子供与性の高いラジカルがジフェニルヨードニウム塩を還元的に分解し、酸を発生することが知られている(非特許文献1)。この系においては、前記ラジカル重合開始剤が酸発生の際の増感剤のように機能する。
特許文献3では、特定のカチオン重合性化合物と特定のラジカル重合性化合物混合系光硬化性組成物において、ジフェニルヨードニウム塩と1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの組合せが使用されているが、この組み合わせにおいても、後述の比較例に示したように、光硬化膜を高温高湿度環境下に長時間おくと、カチオン重合開始剤から発生する酸に由来する析出物が膜表面にでてきて白化する問題が生じる。更に、ジフェニルヨードニウム塩を含む光硬化性樹脂組成物は、組成物としての安定性が低く、経時で増粘するという欠点がある。
On the other hand, diphenyliodonium salt-based cationic polymerization initiators have high electron-donating properties generated by photoreaction of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide It is known that a radical reductively decomposes a diphenyliodonium salt to generate an acid (Non-patent Document 1). In this system, the radical polymerization initiator functions as a sensitizer during acid generation.
In Patent Document 3, a combination of diphenyliodonium salt and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is used in a specific cationically polymerizable compound and a specific radically polymerizable compound mixed system photocurable composition. Also in the combination, as shown in a comparative example described later, when the photo-cured film is left in a high temperature and high humidity environment for a long time, the precipitate derived from the acid generated from the cationic polymerization initiator comes out on the film surface and whitens Problems arise. Furthermore, the photocurable resin composition containing a diphenyl iodonium salt has a disadvantage that the stability as a composition is low and the viscosity increases with time.

また、特許文献4では、ラジカル開始剤(A)が活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)が酸発生剤(B)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(I)が酸であり、前記重合反応と並行して酸発生剤(B)に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質(D)の重合反応が進行すること、が記載されている。しかしながら、当該特許文献4は、照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合でも少エネルギーで硬化可能な感光性組成物を提供することを主な目的にしており、360nm〜830nmの波長を有する活性光線を利用するため、360nm以上の波長に吸収を有する化合物を使用しており、得られる硬化物は実施例の組成物から着色剤や金属粒子を抜いた組成であっても黄色味がかるという問題がある。   Further, in Patent Document 4, the radical initiator (A) generates an active species (H) by irradiation with an actinic ray, and the active species (H) react with the acid generator (B) to produce a new active species ( I) is formed to proceed with the polymerization reaction of the polymerizable substance (D) by the new active species (I), the active species (I) is an acid, and the acid generator It is described that the polymerization reaction of the polymerizable substance (D) proceeds with B) by the acid generated by the irradiation with the actinic ray. However, the main object of the patent document 4 is to provide a photosensitive composition which can be cured with a small amount of energy even when a substance such as a coloring agent which attenuates or shields the irradiated light is present at a high concentration. In order to use actinic radiation having a wavelength of 360 nm to 830 nm, a compound having absorption at a wavelength of 360 nm or more is used, and the resulting cured product has a composition obtained by removing the colorant and metal particles from the composition of the examples. Even there is a problem that yellowish.

特開平8−73771号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-73771 特開2003−147017号公報Japanese Patent Application Publication No. 2003-147017 特開2007−237483号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-237483 特開2012−167271号公報JP, 2012-167271, A

Polymer(2003),44(24),7389−7396Polymer (2003), 44 (24), 7389-7396

光硬化性樹脂の用途の1つに光学フィルムの保護層があるが、近年、画像表示装置の薄膜化に伴い、光学フィルムも薄膜化が要求されている。従来の光透過性基材の膜厚は最も薄膜もので40μm程度であったが、近年の基材の薄膜技術の進化により、基材膜厚が25μmのものがある。このような基材の薄膜化により、基材自体の硬さ及び堅さが低下するため、従来の光硬化性樹脂組成物では、硬度および硬化収縮性が不十分であった。すなわち、薄膜の基材上に形成した、薄膜の保護層を形成した場合であっても一定の硬度を有し、且つ、保護層成分の硬化収縮による積層体全体の反り(所謂カール)が抑制される光硬化性樹脂組成物が求められている。当該カールの発生は光透過性基材の厚みを薄くすると特に顕著となるものである。   Although there is a protective layer of an optical film as one of the uses of a photocurable resin, in recent years, with the thinning of an image display device, the thinning of an optical film is also required. The film thickness of the conventional light transmitting base material is about 40 μm at most, but due to the recent progress of thin film technology of the base material, the base film thickness is 25 μm. Such thinning of the substrate reduces the hardness and hardness of the substrate itself, so that the conventional photocurable resin composition has insufficient hardness and curing shrinkage. That is, even when a thin film protective layer is formed on a thin film base, it has a certain hardness, and warpage (so-called curl) of the entire laminate due to curing shrinkage of protective layer components is suppressed Photocurable resin compositions are sought. The occurrence of the curl is particularly noticeable when the thickness of the light transmitting substrate is reduced.

本発明は以上のような状況下になされたものであり、本発明の第一の目的は、毒性の高いアンチモンを含まない組成物で、光硬化性が良好で高温高湿環境下での耐久性が高く白化現象が抑制され、且つ黄色みが少ない硬化物が得られる、光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供することである。
また、本発明の第二の目的は、薄膜の基材上に形成した、薄膜の硬化膜であっても一定の硬度を有し、且つ、積層体のカールが抑制される、光硬化性樹脂組成物、及びその硬化物、並びに当該光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む光学フィルムを提供することである。
The present invention has been made under the circumstances as described above, and the first object of the present invention is a highly toxic antimony-free composition, which is excellent in photocurability and durability under high temperature and high humidity environment. It is an object of the present invention to provide a photocurable resin composition and a cured product thereof, which are high in properties and capable of suppressing a whitening phenomenon and obtaining a cured product with less yellowing.
In addition, a second object of the present invention is a photocurable resin having a certain hardness even if it is a cured film of a thin film formed on a thin film base, and curling of a laminate is suppressed. An optical film comprising the composition, its cured product, and the cured product of the photocurable resin composition.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを含有した樹脂組成物において、特定の構造を有する光酸発生剤と、特定の構造を有するラジカル重合開始剤とを組み合わせて用いることにより、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することが抑制され、且つ黄色味が少ない硬化物が得られ、更に、薄膜の基材上に形成した、薄膜の硬化膜であっても一定の硬度を有し、且つ、積層体のカールが抑制される、光硬化性樹脂組成物となるとの知見を得た。
本発明は、係る知見に基づいて完成したものである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have identified a photoacid generator having a specific structure and a resin composition containing a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound, and In combination with a radical polymerization initiator having the following structure, precipitation and whitening of precipitates are suppressed on the surface of the cured film under a high temperature and high humidity environment, and a cured product with less yellowish color is obtained, Furthermore, it was found that even a cured film of a thin film formed on a thin film base has a certain hardness, and a curling of the laminate is suppressed, resulting in a photocurable resin composition. .
The present invention has been completed based on such findings.

本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、下記(A)、(B)、及び(C)を含有することを特徴とする。
(A)下記(i)及び(ii)の少なくとも1種である光重合性成分
(i)カチオン重合性基を有する化合物、及び、ラジカル重合性基を有する化合物
(ii)カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物
(B)下記一般式(1)又は一般式(1’)で表される光酸発生剤
(C)α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤、及びベンジルケタール系ラジカル重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも1種のラジカル重合開始剤
The photocurable resin composition according to the present invention is characterized by containing the following (A), (B) and (C).
(A) A photopolymerizable component which is at least one of the following (i) and (ii) (i) a compound having a cationically polymerizable group, and a compound having a radically polymerizable group (ii) a cationically polymerizable group and a radical Compound having a polymerizable group (B) Photoacid generator (C) represented by the following general formula (1) or general formula (1 ′) α-hydroxyacetophenone radical polymerization initiator, acylphosphine oxide radical polymerization Initiator, and at least one radical polymerization initiator selected from the group consisting of benzyl ketal radical polymerization initiators

(一般式(1)及び一般式(1’)中、R、R、及びRは各々独立に、置換基を表す。複数のR、R、又はRは、各々、同一であっても異なっていても良く、また、互いに結合して環状構造を形成していても良く、当該環状構造はヘテロ原子の結合を含んでいても良い。
は、[P(R)6−aであり、Rは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、a=0〜6である。a個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
Aは、n価の化学構造であり、括弧内の構造をn個連結している。nは2以上の整数である。n個のX、(Rp’、(Rq’、及び(Rr’は各々、同一であっても異なっていても良い。
p、q、p’、及びq’は各々独立に、0〜4の整数である。
rは0〜5の整数であり、r’は0〜4の整数である。)
(In the general formula (1) and the general formula (1 ′), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituent. A plurality of R 1 , R 2 or R 3 are each identical) Or may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure may contain a hetero atom bond.
X - is, [P (R f) a F 6-a] - a and, R f represents an alkyl group in which at least 80% of the hydrogen atoms are substituted by fluorine atoms, is a = Less than six. The a number of Rf may be the same or different.
A is a chemical structure of n value, and n structures in parentheses are linked. n is an integer of 2 or more. Each of n pieces of X , (R 1 ) p ′ , (R 2 ) q ′ and (R 3 ) r ′ may be the same or different.
p, q, p 'and q' are each independently an integer of 0-4.
r is an integer of 0-5, r 'is an integer of 0-4. )

本発明に係る光硬化性樹脂組成物においては、前記光重合性成分(A)の合計質量に対して、前記光酸発生剤(B)中のアニオンの含有量が3マイクロモル/g〜50マイクロモル/gであることが、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することがなく、黄色味が少ない硬化物が得られる点から好ましい。   In the photocurable resin composition according to the present invention, the content of the anion in the photoacid generator (B) is 3 micromol / g to 50% of the total mass of the photopolymerizable component (A). It is preferable that it is micromol / g from the point from which a precipitate does not precipitate and whiten on a cured film surface under a high temperature and high humidity environment, and the hardened | cured material with little yellowishness is obtained.

また、本発明に係る光硬化性樹脂組成物においては、前記光重合性成分(A)合計量中に、分子中にラジカル重合性基を有し、カチオン重合性基を有しない化合物が50質量%以上97質量%以下含まれることが、硬度が向上する点から好ましい。ラジカル重合性化合物の量が多く、カチオン重合性化合物の量が少ないと、カチオン重合を進行させるのに多くの光酸発生剤が必要になる場合が多いが、本発明の特定の光酸発生剤と特定のラジカル重合開始剤との組合せによれば少ない光酸発生剤量でカチオン重合を効率的に進行させることができる。そのため、ラジカル重合性基を有し、カチオン重合性基を有しない化合物を上記のような含有量として硬化物の硬度を向上させつつ、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することを抑制できる。   Further, in the photocurable resin composition according to the present invention, 50 mass of the compound having a radically polymerizable group in the molecule and not having a cationically polymerizable group in the total amount of the photopolymerizable component (A) It is preferable from the viewpoint that the hardness is improved to be contained in an amount of not less than 97% by mass. When the amount of radically polymerizable compound is large and the amount of cationically polymerizable compound is small, many photo acid generators are often required to promote cationic polymerization, but the specific photo acid generator of the present invention According to the combination of the above and the specific radical polymerization initiator, the cationic polymerization can be efficiently advanced with a small amount of photoacid generator. Therefore, precipitates are deposited on the surface of the cured film under a high temperature and high humidity environment while improving the hardness of the cured product with a content of a radical polymerizable group and a compound without a cationic polymerizable group as described above. It is possible to suppress the whitening.

また、本発明に係る光硬化性樹脂組成物においては、前記光重合性成分(A)に、分子中に水酸基とラジカル重合性基を少なくとも有する化合物を含むことが、カチオン重合性を向上させ、カール抑制効果が高くなる点から好ましい。   In the photocurable resin composition according to the present invention, the cationic polymerizable property is improved by containing a compound having at least a hydroxyl group and a radical polymerizable group in the molecule in the photopolymerizable component (A), It is preferable from the point which a curl inhibitory effect becomes high.

また、本発明に係る光硬化性樹脂組成物においては、前記光重合性成分(A)に、1分子内に10個以上のカチオン重合性基を有し、カチオン重合性基数に対する分子量の比(分子量/カチオン重合性基数)が80〜150である化合物を少なくとも含むことが、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することを抑制する点から好ましい。   In the photocurable resin composition according to the present invention, the photopolymerizable component (A) has 10 or more cationically polymerizable groups in one molecule, and the ratio of the molecular weight to the number of cationically polymerizable groups ( It is preferable that at least a compound having a molecular weight / number of cationically polymerizable groups) of 80 to 150 is contained to prevent precipitation and whitening on the surface of the cured film under a high temperature and high humidity environment.

また、本発明に係る光硬化性樹脂組成物においては、前記ラジカル重合開始剤(C)に、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを少なくとも含むことが、中でも特に空気中でUV照射する際にも表面の光硬化性に優れることから、高温高湿環境下での硬化膜の耐久性が高くなる点から好ましい。   Further, in the photocurable resin composition according to the present invention, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] may be added to the radical polymerization initiator (C). It is preferable that the cured film in a high temperature and high humidity environment because at least containing phenyl} -2-methyl-propan-1-one is excellent in photocurability of the surface even when irradiated with UV in air, among others. It is preferable from the point which durability becomes high.

本発明はまた、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物も提供する。
更に、本発明は、光透過性基材の一面側に、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む保護層が配置された、光学フィルムも提供する。
The present invention also provides a cured product of the photocurable resin composition according to the present invention.
Furthermore, the present invention also provides an optical film in which a protective layer containing a cured product of the photocurable resin composition according to the present invention is disposed on one side of a light transmitting substrate.

本発明によれば、毒性の高いアンチモンを含まない組成物であって、光硬化性が良好で高温高湿環境下での耐久性が高く白化現象が抑制され、且つ、黄色みが少ない硬化物が得られる、光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供することができる。
また、本発明によれば、薄膜の基材上に形成した、薄膜の硬化膜であっても一定の硬度を有し、且つ、積層体のカールが抑制される、光硬化性樹脂組成物、及びその硬化物、並びに当該光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む光学フィルムを提供することができる。
According to the present invention, it is a highly toxic antimony-free composition which is excellent in photocurability, highly durable in a high temperature and high humidity environment, suppressed in whitening phenomenon, and less in yellowing. A photocurable resin composition and a cured product thereof can be provided.
Further, according to the present invention, a photocurable resin composition which has a certain hardness even if it is a thin film cured film formed on a thin film substrate, and curling of a laminate is suppressed. And the optical film containing the hardened | cured material as well as the hardened | cured material of the said photocurable resin composition can be provided.

図1は、本発明に係る光学フィルムの一例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of an optical film according to the present invention.

以下、本発明に係る光硬化性樹脂組成物、及び光学フィルムについて説明する。
なお、本発明において(メタ)アクリルとは、アクリル及びメタクリルの各々を表し、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表し、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。
Hereinafter, the photocurable resin composition and the optical film according to the present invention will be described.
In the present invention, (meth) acrylic represents each of acrylic and methacrylic, (meth) acryloyl represents each of acryloyl and methacryloyl, and (meth) acrylate represents each of acrylate and methacrylate.

[光硬化性樹脂組成物]
本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、下記(A)、(B)、及び(C)を含有することを特徴とする。
(A)下記(i)及び(ii)の少なくとも1種である光重合性成分
(i)カチオン重合性基を有する化合物、及び、ラジカル重合性基を有する化合物
(ii)カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物
(B)下記一般式(1)又は一般式(1’)で表される光酸発生剤
(C)α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤、及びベンジルケタール系ラジカル重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも1種のラジカル重合開始剤
[Photo-curable resin composition]
The photocurable resin composition according to the present invention is characterized by containing the following (A), (B) and (C).
(A) A photopolymerizable component which is at least one of the following (i) and (ii) (i) a compound having a cationically polymerizable group, and a compound having a radically polymerizable group (ii) a cationically polymerizable group and a radical Compound having a polymerizable group (B) Photoacid generator (C) represented by the following general formula (1) or general formula (1 ′) α-hydroxyacetophenone radical polymerization initiator, acylphosphine oxide radical polymerization Initiator, and at least one radical polymerization initiator selected from the group consisting of benzyl ketal radical polymerization initiators

(一般式(1)及び一般式(1’)中、R、R、及びRは各々独立に、置換基を表す。複数のR、R、又はRは、各々、同一であっても異なっていても良く、また、互いに結合して環状構造を形成していても良く、当該環状構造はヘテロ原子の結合を含んでいても良い。
は、[P(R)6−aであり、Rは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、a=0〜6である。a個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
Aは、n価の化学構造であり、括弧内の構造をn個連結している。nは2以上の整数である。n個のX、(Rp’、(Rq’、及び(Rr’は各々、同一であっても異なっていても良い。
p、q、p’、及びq’は各々独立に、0〜4の整数である。
rは0〜5の整数であり、r’は0〜4の整数である。)
(In the general formula (1) and the general formula (1 ′), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituent. A plurality of R 1 , R 2 or R 3 are each identical) Or may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure may contain a hetero atom bond.
X - is, [P (R f) a F 6-a] - a and, R f represents an alkyl group in which at least 80% of the hydrogen atoms are substituted by fluorine atoms, is a = Less than six. The a number of Rf may be the same or different.
A is a chemical structure of n value, and n structures in parentheses are linked. n is an integer of 2 or more. Each of n pieces of X , (R 1 ) p ′ , (R 2 ) q ′ and (R 3 ) r ′ may be the same or different.
p, q, p 'and q' are each independently an integer of 0-4.
r is an integer of 0-5, r 'is an integer of 0-4. )

ラジカル重合性基を有する化合物(以下、単に「ラジカル重合性化合物」という場合がある)は一般に硬化時に体積が収縮することから、硬度は高くなりやすいものの基材と保護層の積層体に反り(正カール)が発生しやすく、保護層塗工面側に反る(正カール)。一方、カチオン重合性基を有する化合物(以下、単に「カチオン重合性化合物」という場合がある)の中でもエポキシ基を有する化合物は一般に硬化時に体積が膨張することから、ラジカル重合性化合物とは反対側(基材面側)に反り(逆カール)が発生しやすく、高硬度となりにくい。基材と保護層の積層体のカールを抑制するために、正カールが発生しやすいラジカル重合性化合物と逆カールが発生しやすいカチオン重合性化合物とを含有した樹脂組成物を用いることが考えられる。また、前述のようなカチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物各々の欠点を補い合うために、カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを含有した樹脂組成物が多くの分野で求められている。しかしながら、毒性の高いアンチモンを含まない、従来開示されていたカチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを含有した樹脂組成物は、高温高湿度環境下で保管した際に硬化膜表面に白い析出物が見られる(白化現象)という新たな問題が生じた。このような高温高湿度環境下で硬化膜表面に白い析出物が見られる白化現象は、後述の比較例1及び比較例2に示したように、ラジカル重合性化合物のみを用いた場合や、カチオン重合性化合物のみを用いた場合には、見られない現象であった。
発明者が検討の結果、当該白い析出物は、カチオン重合開始剤のリン成分(アニオン部)由来であることがわかった。カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを含有した樹脂組成物においてこのような問題が生じるのは、ラジカル重合反応が速く進行し易い中で、カチオン重合反応の進行が阻害されて密な架橋構造をとりづらくなり、カチオン重合開始剤から発生する酸由来の成分が硬化膜中に多量に存在すると、高温高湿度環境下で硬化膜表面にブリードするためと推定される。
それに対して、本発明においては、カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを含有した樹脂組成物において、カチオン重合開始剤(B)として、特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤と、特定のラジカル重合開始剤とを組み合わせて用いる。
特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤は、特定のラジカル重合開始剤と組み合わせて用いると、同様に特定のラジカル重合開始剤と組み合わせた従来のスルホニウム塩系光酸発生剤やヨードニウム塩系光酸発生剤と比べても、カチオン重合をより進行させ、光硬化性に優れることから、高温高湿環境下での硬化膜の耐久性が高くなり、高温高湿度環境下で保管した際に硬化膜表面に白い析出物が析出することを抑制できるようになる。また、本発明の特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤と、特定のラジカル重合開始剤との組み合わせによれば、光硬化性に優れるため、特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤を少量添加すればよいことから、光酸発生剤自体、又は光酸発生剤から発生する分解物や酸に由来する硬化物への悪影響を減らすことができ、例えば、硬化膜を高温高湿度条件下で保管した際の析出物の発生や、着色を抑制しやすい。
特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤は、従来のスルホニウム塩系光酸発生剤と比べて、前記特定のラジカル重合開始剤の光反応によって生成した電子供与性が高いラジカルによって、還元的に分解されやすく、より酸を発生させやすいことが推定される。
また、特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤は、従来のヨードニウム塩系光酸発生剤と比べて、長波長側のj線(313nm)の吸収が多いため、単独で用いてもカチオン重合性に優れる。そのため、従来のヨードニウム塩系光酸発生剤のように、チオキサントン系増感剤のような増感剤を併用する必要がなく、増感剤による硬化膜の着色を抑制することもできる。
以上のことから、本発明によれば、毒性の高いアンチモンを含まない組成物であって、光硬化性が良好で高温高湿環境下での耐久性が高く、黄色みが少ない硬化物が得られる。
また、本発明の光硬化性樹脂組成物を、薄膜基材への保護層形成用光硬化性組成物として利用すると、保護層形成後のカール低減と硬度を両立できる。また、薄膜基材へのコーティングにおいてはラジカル重合反応時の発熱により基材にシワがよって硬化する現象が起きやすいが、本発明の光硬化性樹脂組成物はカチオン重合が促進され、ラジカル重合の反応が適度な速度となることにより、シワの発生が抑制された硬化膜を得ることができる。
更に、本発明の光硬化性樹脂組成物は、経時で増粘し難く、貯蔵安定性にも優れる。
Since a compound having a radically polymerizable group (hereinafter sometimes simply referred to as "radically polymerizable compound") generally shrinks in volume during curing, the hardness tends to be high, but it is warped to a laminate of a substrate and a protective layer ( Positive curl) is easily generated and warps to the protective layer coated side (positive curl). On the other hand, among compounds having a cationically polymerizable group (hereinafter sometimes simply referred to as "cationically polymerizable compounds"), compounds having an epoxy group generally expand in volume upon curing, so the opposite side to the radically polymerizable compound Warpage (reverse curl) is likely to occur on the (substrate side), and it is difficult to achieve high hardness. In order to suppress the curling of the laminate of the base material and the protective layer, it is conceivable to use a resin composition containing a radically polymerizable compound that easily generates positive curl and a cationically polymerizable compound that easily generates reverse curl. . Further, in order to compensate for the disadvantages of the cationically polymerizable compound and the radically polymerizable compound as described above, resin compositions containing a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound are required in many fields. However, a resin composition containing a conventionally disclosed cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound which does not contain highly toxic antimony is a white precipitate on the surface of the cured film when stored under a high temperature and high humidity environment. New problems have arisen (whitening phenomenon). The whitening phenomenon in which white precipitates are observed on the surface of the cured film under such a high temperature and high humidity environment is, as shown in Comparative Examples 1 and 2 described later, when only a radically polymerizable compound is used, or a cation When only the polymerizable compound was used, this phenomenon was not observed.
As a result of the inventor's examination, it turned out that the said white precipitate originates in the phosphorus component (anion part) of a cationic polymerization initiator. Such problems occur in a resin composition containing a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound because the radical polymerization reaction is likely to proceed rapidly, and the progress of the cationic polymerization reaction is inhibited to form a densely crosslinked structure It is presumed that if the component derived from the acid generated from the cationic polymerization initiator is present in a large amount in the cured film, it will bleed on the surface of the cured film under a high temperature and high humidity environment.
On the other hand, in the present invention, in the resin composition containing a cationically polymerizable compound and a radically polymerizable compound, a photoacid generator having a specific thianthrene ring structure as a cationic polymerization initiator (B), and a specific one In combination with the radical polymerization initiator of
When a photoacid generator having a specific thianthrene ring structure is used in combination with a specific radical polymerization initiator, the conventional sulfonium salt-based photoacid generator or iodonium salt light photoacid generator similarly combined with the specific radical polymerization initiator Compared with the acid generator, the cationic polymerization is further advanced, and the photo-curing property is excellent, so the durability of the cured film under high temperature and high humidity environment becomes high, and curing when stored under high temperature and high humidity environment It becomes possible to suppress the precipitation of white precipitates on the film surface. Further, according to the combination of the photoacid generator having a specific thianthrene ring structure of the present invention and the specific radical polymerization initiator, the photoacid generator having a specific thianthrene ring structure is excellent because the photocurability is excellent Since a small amount may be added, adverse effects on the photoacid generator itself or a cured product derived from the photoacid generator or a decomposition product derived from the acid generator can be reduced. It is easy to suppress the generation of precipitates when stored in
A photoacid generator having a specific thianthrene ring structure is reductively reduced by a radical having a high electron-donating property generated by the photoreaction of the specific radical polymerization initiator, as compared to a conventional sulfonium salt photoacid generator. It is presumed that it is easy to be decomposed and to generate an acid more easily.
In addition, since the photoacid generator having a specific thianthrene ring structure absorbs more j-rays (313 nm) on the longer wavelength side than conventional iodonium salt photoacid generators, cationic polymerization can be used alone. Excellent in quality. Therefore, unlike the conventional iodonium salt photoacid generators, it is not necessary to use a sensitizer such as a thioxanthone sensitizer in combination, and the coloration of the cured film by the sensitizer can be suppressed.
From the above, according to the present invention, a highly toxic antimony-free composition is obtained, and a cured product having good photocurability, high durability in a high temperature and high humidity environment, and low yellowness is obtained. Be
When the photocurable resin composition of the present invention is used as a photocurable composition for forming a protective layer on a thin film substrate, both curl reduction and hardness after forming the protective layer can be achieved. Moreover, in the coating on a thin film substrate, a phenomenon that wrinkles harden by the heat generation at the time of radical polymerization reaction is apt to occur, but the photocurable resin composition of the present invention promotes cationic polymerization and causes radical polymerization. By the reaction being at an appropriate speed, a cured film in which the occurrence of wrinkles is suppressed can be obtained.
Furthermore, the photocurable resin composition of the present invention is difficult to thicken with time and is excellent in storage stability.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、少なくとも前記(A)、(B)、及び(C)を含有するものであり、本発明の効果を損なわない範囲で、更に他の成分を含有してもよいものである。
以下、このような本発明の光硬化性樹脂組成物の各成分について説明するが、本発明に特徴的な前記(B)成分から順に説明する。
The photocurable resin composition of the present invention contains at least the above (A), (B), and (C), and further contains other components within the range not impairing the effects of the present invention. Is also good.
Hereinafter, although each component of the photocurable resin composition of such this invention is demonstrated, it demonstrates in order from the said (B) component characteristic to this invention.

((B)光酸発生剤)
本発明で用いられる光酸発生剤(B)は、下記一般式(1)又は一般式(1’)で表されるように、アニオン部とカチオン部で構成されるオニウム塩からなり、光照射により酸を発生する光酸発生剤である。
((B) Photo acid generator)
The photoacid generator (B) used in the present invention is composed of an onium salt composed of an anion part and a cation part, as represented by the following general formula (1) or general formula (1 ′), and is irradiated with light Is a photoacid generator that generates an acid.

(一般式(1)及び一般式(1’)中、R、R、及びRは各々独立に、置換基を表す。複数のR、R、又はRは、各々、同一であっても異なっていても良く、また、互いに結合して環状構造を形成していても良く、当該環状構造はヘテロ原子の結合を含んでいても良い。
は、[P(R)6−aであり、Rは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、a=0〜6である。a個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
Aは、n価の化学構造であり、括弧内の構造をn個連結している。nは2以上の整数である。n個のX、(Rp’、(Rq’、及び(Rr’は各々、同一であっても異なっていても良い。
p、q、p’、及びq’は各々独立に、0〜4の整数である。
rは0〜5の整数であり、r’は0〜4の整数である。)
(In the general formula (1) and the general formula (1 ′), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituent. A plurality of R 1 , R 2 or R 3 are each identical) Or may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure may contain a hetero atom bond.
X - is, [P (R f) a F 6-a] - a and, R f represents an alkyl group in which at least 80% of the hydrogen atoms are substituted by fluorine atoms, is a = Less than six. The a number of Rf may be the same or different.
A is a chemical structure of n value, and n structures in parentheses are linked. n is an integer of 2 or more. Each of n pieces of X , (R 1 ) p ′ , (R 2 ) q ′ and (R 3 ) r ′ may be the same or different.
p, q, p 'and q' are each independently an integer of 0-4.
r is an integer of 0-5, r 'is an integer of 0-4. )

前記一般式(1’)で表される光酸発生剤は、n価の化学構造である連結基Aにより、括弧内のチアントレン環構造を2個以上有する。前記一般式(1’)で表される光酸発生剤は、連結基の役割を果たす化学構造の選択により、有機溶剤への溶解性や組み合わせる光重合性成分(A)等との親和性を向上させることができる。   The photoacid generator represented by the general formula (1 ') has two or more thianthrene ring structures in the parentheses due to the linking group A which is an n-valent chemical structure. The photoacid generator represented by the above general formula (1 ′) has solubility in organic solvents and affinity with the photopolymerizable component (A) etc. to be combined, by selecting a chemical structure that plays the role of a linking group. It can be improved.

一般式(1’)において、連結基の役割を果たす化学構造Aが直接結合の場合は、一般式(1’)の括弧内の構造を直接2個連結している。ここで本発明において直接結合とは、間に原子が存在しないことを意味する。また、化学構造Aがn価の場合は、括弧内の構造をn個連結している。なお、本発明において化学構造Aの価数には、Aが置換基を有している場合の価数は含まれていない。
一般式(1’)は、例えば、下記のような構造を有する化合物が挙げられる。
In the general formula (1 ′), when the chemical structure A serving as a linking group is a direct bond, two structures in the parenthesis of the general formula (1 ′) are directly linked. Here, in the present invention, direct bonding means that there are no atoms in between. When the chemical structure A is n-valent, n structures in parentheses are linked. In the present invention, the valence of the chemical structure A does not include the valence when A has a substituent.
Examples of the general formula (1 ′) include compounds having the following structures.

(一般式(1’−1)〜(1’−4)において、R、R、R、X、p’、q’、r’及びnは、一般式(1’)と同じである。Aは2価の化学構造、Aは3価の化学構造、Aは4価の化学構造、及びAは重合体の繰り返し単位を表す。) (In the general formulas (1′-1) to (1′-4), R 1 , R 2 , R 3 , X , p ′, q ′, r ′ and n are the same as the general formula (1 ′) A 1 is a divalent chemical structure, A 2 is a trivalent chemical structure, A 3 is a tetravalent chemical structure, and A n is a repeating unit of the polymer.)

上記一般式(1’)に含まれる化学構造Aは2価以上のいかなる化学構造を持つものでも良く、例えば、炭化水素基、−COO−、−OCO−、−CO−、−O−、−S−、−S(=O)―、−S(=O)−、−OS(=O)−、−CONH−、−NHCOO−、アミノ結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:ここでRは水素原子又は1価の炭化水素基)等が挙げられる。上記炭化水素基としては、例えば、直鎖、分岐、若しくは環状の飽和若しくは不飽和の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらの組み合わせ等が挙げられ、その内部に−COO−、−OCO−、−CO−、−O−、−S−、−S(=O)―、−S(=O)−、−OS(=O)−、−CONH−、−NHCOO−、アミノ結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:ここでRは水素原子又は1価の炭化水素基)等の結合を1つ以上有しても良い。その他に、2価以上の化学構造であって炭化水素基以外のものとしては、例えば、シロキサン、シラン、ボラジン等が挙げられる。 The chemical structure A included in the general formula (1 ′) may have any chemical structure having a valence of 2 or more, and examples thereof include a hydrocarbon group, —COO—, —OCO—, —CO—, —O—, — S -, - S (= O ) -, - S (= O) 2 -, - OS (= O) 2 -, - CONH -, - NHCOO-, amino bond, an imino bond (-N = C (-R -, -C (= NR)-: Here, R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group) etc. are mentioned. Examples of the above-mentioned hydrocarbon group include linear, branched or cyclic saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and combinations thereof, and the like, with -COO-, -OCO -, - CO -, - O -, - S -, - S (= O) -, - S (= O) 2 -, - OS (= O) 2 -, - CONH -, - NHCOO-, Amino bond, imino bond (-N = C (-R)-, -C (= NR)-: wherein R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group), and may have one or more bonds . In addition, examples of the chemical structure having a valence of 2 or more other than the hydrocarbon group include, for example, siloxane, silane, borazine and the like.

化学構造Aとしては、中でも入手のしやすさ、合成の簡便さの点から、炭化水素基、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、及びアミノ結合から選択されるいずれか、又はこれらのうち2つ以上を組み合わせた基であることが好ましい。上記炭化水素基としては、中でも、価格や入手のしやすさ、合成の簡便さ、溶解性、耐熱性の観点からは、アルキレン基等の脂肪族炭化水素基が好ましく、その内部にエステル結合、及びエーテル結合の少なくとも1種を含むものも好ましい。
前記炭化水素基としては、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10の直鎖、分岐若しくは環状の脂肪族炭化水素基、及び、炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜10の芳香族炭化水素基、並びに、これらの組み合わせが挙げられる。
また化学構造Aに含まれる炭化水素基は更に置換基を有していても良く、当該置換基としては、後述するRと同様のものが挙げられる。
Chemical structure A is selected from among hydrocarbon groups, ether bonds, thioether bonds, carbonyl bonds, thiocarbonyl bonds, ester bonds, amide bonds, and amino bonds, among others, in view of availability and ease of synthesis. Or a combination of two or more of these. Among the above hydrocarbon groups, aliphatic hydrocarbon groups such as alkylene groups are preferable, among them, from the viewpoints of price and availability, ease of synthesis, solubility, and heat resistance, and an ester bond is preferably contained therein. And those containing at least one of an ether bond are also preferred.
The hydrocarbon group is preferably a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms, more preferably carbon atoms 6-10 aromatic hydrocarbon groups, as well as combinations thereof.
The hydrocarbon group contained in the chemical structure A may further have a substituent, and examples of the substituent include those similar to R 1 described later.

上記一般式(1’)で表される化合物の具体的な構造を例示するが、これらに限定されるものではない。   Specific structures of the compound represented by the above general formula (1 ') are illustrated, but the present invention is not limited thereto.

(Xは、一般式(1’)と同じである。ここでのnは1以上の整数である。) (X is the same as in the general formula (1 ′). Here, n is an integer of 1 or more.)

上記一般式(1’)で表される化合物は、一般式(1’−4)で表される繰り返し単位を含む重合体のように、ポリマー骨格に一般式(1’)の括弧内で表される構造をペンダント状に複数有する構造であっても良い。この場合、上記一般式(1’)で表される化合物には、一般式(1’−4)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位が含まれていても良く、一般式(1’−4)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位とn個のAが、n価の化学構造Xを構成する。また、n個のAは、1種類であっても2種類以上であって異なっていても良い。Aとしては、具体的には例えば、(メタ)アクリロイル基のようなエチレン性不飽和結合を有するモノマーから誘導される構造や、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、又はウレタン結合等を含む構造等が挙げられる。重合体中にどの程度の量の一般式(1’)の括弧内で表される構造を有するかは、組み合わせて用いる光重合性成分や最終塗膜の物性等を考慮し、適宜、最適値を選択できる。
一般式(1’−4)で表される繰り返し単位としては、例えば、以下のような一般式(1’−5)で表される繰り返し単位が好適に用いられる。この場合、一般式(1’−5)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、(メタ)アクリル酸から誘導されるエステル類、アミド類、および芳香族ビニル化合物等適宜、エチレン性不飽和結合を有するモノマー由来の繰り返し単位と、一般式(1’−5)で表される繰り返し単位とを含む共重合体であっても良い。
The compound represented by the above general formula (1 ′) is, like the polymer containing the repeating unit represented by the general formula (1′-4), a table in the parenthesis of the general formula (1 ′) in the polymer skeleton It may be a structure having a plurality of the above-described structures in a pendant manner. In this case, the compound represented by the general formula (1 ′) may contain a repeating unit other than the repeating unit represented by the general formula (1′-4). Repeating units other than the repeating unit represented by 4) and n pieces of An form an n-valent chemical structure X. In addition, n pieces of An may be one kind or two or more kinds and may be different. Specifically, for A n, for example, a structure derived from a monomer having an ethylenically unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group, or a structure containing an ester bond, an ether bond, an amide bond, a urethane bond or the like Etc. The amount of the structure represented in the parenthesis of the general formula (1 ') in the polymer is appropriately determined in consideration of the photopolymerizable component used in combination and the physical properties of the final coating film, etc. You can choose
As a repeating unit represented by General formula (1'-4), the repeating unit represented by General formula (1'-5) as follows is used suitably, for example. In this case, as a repeating unit other than the repeating unit represented by the general formula (1′-5), an ester, an amide, an aromatic vinyl compound, etc. derived from (meth) acrylic acid, etc. are suitably ethylenically unsaturated It may be a copolymer containing a repeating unit derived from a monomer having a bond and a repeating unit represented by the general formula (1′-5).

(一般式(1’−5)において、R、R、R、X、p’、q’、r’及びnは、一般式(1’)と同じである。Rは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。Lは2価の化学構造を表す。) (In the general formula (1′-5), R 1 , R 2 , R 3 , X , p ′, q ′, r ′ and n are the same as in the general formula (1 ′). R 4 is hydrogen Represents an atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, a halogen atom, a cyano group or an alkoxycarbonyl group, L represents a divalent chemical structure)

一般式(1’−5)において、Lは、2価の化学構造を表すが、Lとしては、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、−COO−、−OCO−、−CO−、−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)−、−OS(=O)−、−CONH−、及び−NH−から選択されるいずれか又はそれらの内の2つ以上を組み合わせた基が挙げられる。Lとしては、中でも、−O−、−COO−、−CONH−、アルキレン基、及びアリーレン基から選択されるいずれか又はそれらの内の2つ以上を組み合わせた基が好ましい。
は水素原子、又はアルキル基であることが好ましく、更に水素原子又はメチル基であることが好ましい。
In the general formula (1′-5), L represents a divalent chemical structure, and as L, an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, -COO-, -OCO-, -CO-, -O -, - S -, - S (= O) -, - S (= O) 2 -, - OS (= O) 2 -, - CONH-, and or any one selected from -NH- among them And groups in which two or more of them are combined. As L, among others, a group selected from -O-, -COO-, -CONH-, an alkylene group, and an arylene group or a combination of two or more of them is preferable.
R 4 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ポリマー骨格に一般式(1’)の括弧内で表される構造をペンダント状に複数有する場合の具体的な構造を例示するが、これらに限定されるものではない。   Although the specific structure in the case where it has two or more structures represented within the parenthesis of General formula (1 ') in a pendant form in a polymer frame is illustrated, it is not limited to these.

(R、R、R、R、X、p’、q’、r’及びnは、一般式(1’−5)と同じである。) (R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , X , p ′, q ′, r ′ and n are the same as in general formula (1′-5).)

前記一般式(1)又は一般式(1’)において、R、R、及びRは各々独立に、置換基を表し、複数のR、R、又はRは、各々、同一であっても異なっていても良く、また、互いに結合して環状構造を形成していても良く、当該環状構造はヘテロ原子の結合を含んでいても良いものである。
前記一般式(1)又は一般式(1’)において、置換基は、例えば、光吸収波長の調整、溶剤に対する溶解性、光重合性成分との相溶性を目的として、適宜選択して用いられればよい。
In the general formula (1) or the general formula (1 ′), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituent, and a plurality of R 1 , R 2 or R 3 are each identical Or may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure may contain a hetero atom bond.
In the general formula (1) or the general formula (1 ′), the substituent is appropriately selected and used, for example, for the purpose of adjusting the light absorption wavelength, solubility in a solvent, and compatibility with a photopolymerizable component. Just do it.

、R、及びRにおける1価の置換基としては、特に制限は無いが、例えば、ハロゲン原子、直鎖、分岐若しくは環状のアルキル基、直鎖、分岐若しくは環状のアルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH)2)、ホスファト基(−OPO(OH)2)、スルファト基(−OSO3H)、及び、前記いずれかの置換基に含まれる炭化水素基に更に前記いずれかの置換基が置換した基、並びにその他の公知の置換基が例として挙げられる。 The monovalent substituent in R 1 , R 2 and R 3 is not particularly limited, and examples thereof include a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkenyl group, and alkynyl Group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxy group, alkoxy group, aryloxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxy group Carbonyloxy, amino (including anilino), ammonio, acylamino, aminocarbonylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, sulfamoylamino, alkyl and arylsulfonylamino, mercapto , Alkylthio, a Arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, arylazo group, heterocyclic ring Azo group, imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyl oxy group, phosphinyl amino group, phosphono group, silyl group, hydrazino group, ureido group, boronic acid group (-B (OH) 2), phosphato group (-OPO (OH) 2), sulfato group (-OSO 3 H), and a group in which any of the above substituents is further substituted on the hydrocarbon group contained in any of the above substituents, and other known substituents Are mentioned as an example.

1価の置換基としては、好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、シリル基、ウレイド基、前記いずれかの置換基に含まれる炭化水素基に更に前記いずれかの置換基が置換した基であり、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、前記いずれかの置換基に含まれる炭化水素基に更に前記いずれかの置換基が置換した基である。
1価の置換基としては、より更に好ましくは、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基、ヒドロキシアルキルチオ基、及びヒドロキシアルキルスルホニル基よりなる群から選択される少なくとも1種である。
また、当該1価の置換基は炭素数20以下が好ましく、炭素数15以下がより好ましい。
The monovalent substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a cyano group, a hydroxy group, a carboxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, an acylamino group. Group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, alkylthio group, arylthio group, sulfamoyl group, alkyl and arylsulfonyl group, aryloxycarbonyl group Or an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imide group, a silyl group, a ureido group, or a group in which any of the above-mentioned substituents is further substituted on the hydrocarbon group contained in any of the above-mentioned substituents; Atoms, alkyl groups, aryl groups, cyano groups, hydroxy groups, alkoxy groups, acyloxy groups, acylamino groups, aminocarbonylamino groups, alkoxycarbonylamino groups, alkyl and arylsulfonylamino groups, alkylthio groups, sulfamoyl groups, alkyl and aryl A sulfonyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a hydrocarbon group contained in any of the above-mentioned substituents are further substituted with any of the above-mentioned substituents.
The monovalent substituent is more preferably at least selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxy group, a hydroxyalkylthio group, and a hydroxyalkylsulfonyl group. It is one kind.
Moreover, carbon number 20 or less is preferable, and, as for the said monovalent substituent, carbon number 15 or less is more preferable.

また、複数のR同士、複数のR同士、又は複数のR同士は、互いに結合して環状構造を形成していても良く、当該環状構造はヘテロ原子の結合を含んでいても良いものである。当該環状構造としては、芳香族若しくは非芳香族の炭化水素環、又は複素環が挙げられ、多環縮合環であってもよい。環状構造の具体例としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ナフタセン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、フェナジン環、チオキサントン環等が挙げられる。また、下記の構造のように、チアントレン環のベンゼン環にジカルボン酸イミド基が環状構造を形成して置換し、当該ベンゼン環がフタルイミドとなっている場合が挙げられる。 In addition, a plurality of R 1 's , a plurality of R 2' s , or a plurality of R 3 's may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure may contain a hetero atom bond It is a thing. The cyclic structure includes an aromatic or non-aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring, and may be a polycyclic fused ring. Specific examples of the cyclic structure include, for example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, fluorene ring, triphenylene ring, naphthacene ring, biphenyl ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring , Pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, indolizine ring, indole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, dibenzothiophene ring, isobenzofuran ring, quinolizine ring, quinoline ring, phthalazine ring, naphthyridine ring, quinoxaline ring, Quinoxazoline ring, isoquinoline ring, carbazole ring, phenanthridine ring, acridine ring, phenanthroline ring, thianthrene ring, chromene ring, xanthene ring, phenoxathiin ring, phenothiazine ring, phenazine ring, Xanthone ring, and the like. Moreover, as in the following structure, the case where a dicarboximide group forms a cyclic structure to be substituted on the benzene ring of a thianthrene ring and the benzene ring is phthalimide is mentioned.

(R、R、X、p、rは、一般式(1)と同じである。) (R 1 , R 3 , X , p and r are the same as in the general formula (1).)

中でも、隣接するR同士が結合して、ジベンゾチオフェン環、又はチオキサントン環を形成した構造は、長波長域の活性光線に対する感度の点から好ましく用いられる。
また、隣接するR同士、又はR同士が結合して、前記ジカルボン酸イミド基が環状構造を形成して置換した構造は、長波長域のi線(波長365nm)に対する感度、溶媒への溶解性、樹脂との相溶性の点から好ましく用いられる。
Among them, by bonding adjacent R 3 together, the structure forming a dibenzothiophene ring, or thioxanthone ring, are preferably used from the viewpoint of sensitivity to actinic rays in the long wavelength region.
Further, among R 1 adjacent, or R 2 together are bonded, structures the dicarboximide group is substituted to form a cyclic structure, sensitivity to the long wavelength region of the i-line (wavelength 365 nm), in a solvent It is preferably used in view of solubility and compatibility with the resin.

また、複数のR同士、複数のR同士、又は複数のR同士は、互いに結合した環状構造には、更に、置換基を有していてもよく、このような更なる置換基の具体例は、前記の1価の置換基の具体例と同様である。 In addition, a plurality of R 1 's , a plurality of R 2' s , or a plurality of R 3 's may further have a substituent in the cyclic structure bonded to each other, and such a further substituent The specific example is the same as the specific example of the above-mentioned monovalent substituent.

p、q、p’、及びq’は各々独立に、0〜4の整数であり、0〜2が好ましい。また、rは0〜5の整数であり、r’は0〜4の整数であり、0〜2が好ましい。
一般式(1)又は一般式(1’)の括弧内のカチオン部の置換基の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
p, q, p ', and q' are respectively independently an integer of 0-4, and 0-2 are preferable. Moreover, r is an integer of 0-5, r 'is an integer of 0-4, and 0-2 are preferable.
Although the following structures are mentioned as an example of a substituent of the cation part in the parenthesis of General formula (1) or General formula (1 '), for example, it is not limited to these.

(Xは、一般式(1)と同じである。) (X is the same as in the general formula (1).)

一般式(1)又は一般式(1’)の括弧内のカチオン部は、適宜公知の方法で調製すればよい。例えば特表2005−501040、特表2006−518322号、国際公開公報03/002557号、特表2011−523971号、特開2012−48075号等に記載の方法を参考にして調製できる。   The cation moiety in the parenthesis of the general formula (1) or the general formula (1 ') may be appropriately prepared by a known method. For example, it can be prepared with reference to the methods described in JP 2005-501040, JP 2006-518322, WO 03/002557, JP 2011-523971, JP 2012-48075, and the like.

は、[P(R)6−aであり、Rは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、a=0〜6である。a個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
は、PF -、又はa=1〜6のフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンである。フッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンにおいて、Rはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、好ましい炭素数は1〜8、さらに好ましい炭素数は1〜4である。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチルなどの直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの分岐アルキル基;さらにシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロアルキル基などが挙げられ、当該アルキル基の水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されている。当該フッ素原子で置換された割合は、80%以上であるが、好ましくは90%以上、さらに好ましくは100%である。フッ素原子の置換率が80%未満では、カチオン重合開始能が低下するからである。
X - is, [P (R f) a F 6-a] - a and, R f represents an alkyl group in which at least 80% of the hydrogen atoms are substituted by fluorine atoms, is a = Less than six. The a number of Rf may be the same or different.
X - it is, PF 6 -, or a fluorinated alkyl fluorophosphate anion a = 1 to 6. In the fluorinated alkyl fluorophosphate anion, R f represents an alkyl group substituted with a fluorine atom, preferably having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl and octyl; branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl; and further cyclopropyl, cyclobutyl and cyclopentyl And a cycloalkyl group such as cyclohexyl, and 80% or more of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with a fluorine atom. The proportion of substitution by a fluorine atom is 80% or more, preferably 90% or more, and more preferably 100%. If the substitution rate of the fluorine atom is less than 80%, the cationic polymerization initiation ability is reduced.

特に好ましいRfは、炭素数が1〜4、かつフッ素原子の置換率が100%の直鎖または分岐のパーフルオロアルキル基であり、具体例としては、CF3、CF3CF2、(CF32CF、CF3CF2CF2、CF3CF2CF2CF、(CF32CFCF2、CF3CF2(CF3)CF、(CF33Cが挙げられる。 Particularly preferable Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a 100% substitution of a fluorine atom, and specific examples thereof include CF 3 , CF 3 CF 2 , (CF 3 ) 2 CF, CF 3 CF 2 CF 2, CF 3 CF 2 CF 2 CF, (CF 3) 2 CFCF 2, CF 3 CF 2 (CF 3) CF, include (CF 3) 3 C.

Rfの個数aは、0〜6の整数であるが、好ましくは0〜4の整数である。aが1以上の場合には、アニオン部に必ずフッ素化アルキル基を含むことから、PF に比べて疎水性が高くなり、且つ分子量が大きくなるため、高温高湿度環境下においても、硬化膜表面にブリードアウトし難くなり、析出物がより析出し難くなる。一方、Rfの個数が大きくなりすぎると、分子量も大きくなり過ぎて、カチオン重合反応が進行し難くなり、カール抑制効果が発現され難くなる恐れがある。Rfの個数aは、より好ましくは0〜3であり、特に好ましくは0〜2である。なお、a個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。 The number a of Rf is an integer of 0 to 6, but is preferably an integer of 0 to 4. When a is 1 or more, because they contain always fluorinated alkyl group in the anion portion, PF 6 - hydrophobic becomes higher than that, and increases the molecular weight, even under high temperature and high humidity environment, curing It becomes difficult to bleed out on the film surface, and the precipitates become more difficult to deposit. On the other hand, when the number of Rf is too large, the molecular weight is too large, and it is difficult for the cationic polymerization reaction to proceed, which may make it difficult to exhibit the curl suppression effect. The number a of Rf is more preferably 0 to 3, and particularly preferably 0 to 2. The a number of Rf may be the same or different.

好ましいフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンの具体例としては、[(CF32PF4、[(CF33PF3、[(CF3CF22PF4、[(CF3CF23PF3、[((CF32CF)2PF4、[((CF32CF)3PF3、[(CF3CF2CF22PF4、及び[(CF3CF2CF2)3PF3等が挙げられる。これらのうち、[(CF33PF3、(CF3CF22PF4、及び[(CF3CF23PF3よりなる群から選択される少なくとも1種が特に好ましい。 [(CF 3 ) 2 PF 4 ] , [(CF 3 ) 3 PF 3 ] , [(CF 3 CF 2 ) 2 PF 4 ] , [[CF 3 ) 2 PF 4 ] , [] (CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 ] , [((CF 3 ) 2 CF) 2 PF 4 ] , [(CF 3 ) 2 CF) 3 PF 3 ] , [(CF 3 CF 2 CF 2) ) 2 PF 4] -, and [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 3PF 3] - , and the like. Among these, at least one selected from the group consisting of [(CF 3 ) 3 PF 3 ] , (CF 3 CF 2 ) 2 PF 4 ] , and [(CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 ] Is particularly preferred.

前記光酸発生剤(B)において、アニオン部は、分子量が140〜800であることが好ましく、更に140〜450であることが好ましい。本発明のカチオン重合性化合物及びラジカル重合性化合物からなるハイブリッド型光硬化性組成物においては、ラジカル重合性基の重合の方が反応が早く、ラジカル重合性基の架橋が進行した膜中を酸が移動してカチオン重合を進行する。光酸発生剤のアニオン部の分子量が高すぎると発生する酸の分子量が高く、架橋膜中を移動しづらくなる恐れがある。   In the photoacid generator (B), the anion part preferably has a molecular weight of 140 to 800, and more preferably 140 to 450. In the hybrid type photocurable composition comprising the cationically polymerizable compound and the radically polymerizable compound of the present invention, the reaction of the radically polymerizable group is faster in the polymerization of the radically polymerizable group, and the acid in the film where the crosslinking of the radically polymerizable group has progressed. Move to promote cationic polymerization. When the molecular weight of the anion portion of the photoacid generator is too high, the molecular weight of the generated acid is high, and there is a possibility that it will be difficult to move in the crosslinked film.

aが1〜6であるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンについても、適宜公知の方法で調製すればよい。例えば国際公開公報2005/116038号に記載の方法を参考にして調製できる。   The fluorinated alkyl fluorophosphate anion in which a is 1 to 6 may also be suitably prepared by a known method. For example, it can be prepared with reference to the method described in WO 2005/116038.

前記光酸発生剤(B)は、重合体でない場合には、分子量は特に限定されないが、通常5000以下である。
一方、前記光酸発生剤(B)が重合体の場合には、数平均分子量が1500〜40000であることが好ましく、更に2000〜20000であることが溶剤への溶解性及び後述する光重合性成分(A)との相溶性の点から好ましい。
When the photoacid generator (B) is not a polymer, the molecular weight is not particularly limited, but is usually 5000 or less.
On the other hand, when the photoacid generator (B) is a polymer, the number average molecular weight is preferably 1,500 to 40,000, and further preferably 2,000 to 20,000, solubility in a solvent and photopolymerization described later It is preferable from the point of compatibility with the component (A).

本発明に係る光硬化性樹脂組成物においては、後述する光重合性成分(A)の合計質量に対して、前記光酸発生剤(B)中のアニオンの含有量が3マイクロモル/g以上、更に5マイクロモル/g以上、より更に10マイクロモル/g以上、特に20マイクロモル/g以上であることが、カールを抑制する点から好ましい。一方で、後述する光重合性成分(A)の合計質量に対して、前記光酸発生剤(B)中のアニオンの含有量が50マイクロモル/g以下、更に41マイクロモル/g以下、より更に25マイクロモル/g以下であることが、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することがなく、黄色味が少ない硬化物が得られる点から好ましい。   In the photocurable resin composition according to the present invention, the content of the anion in the photoacid generator (B) is 3 μmol / g or more based on the total mass of the photopolymerizable component (A) described later It is preferable from the viewpoint of suppressing curling that the amount is 5 micromoles / g or more, further 10 micromoles / g or more, and particularly 20 micromoles / g or more. On the other hand, the content of the anion in the photoacid generator (B) is 50 micromol / g or less, further 41 micromol / g or less, based on the total mass of the photopolymerizable component (A) described later. Furthermore, it is preferable that it is 25 micromol / g or less from the point which precipitates do not precipitate and whiten on the cured film surface under high temperature and high humidity environment, and the hardened | cured material with little yellowishness is obtained.

本発明で用いられる(B)成分は、1種又は2種以上混合して用いることができる。
本発明で用いられる(B)成分は、光硬化性樹脂組成物の固形分中に0.5〜4質量%含まれることが好ましく、更に、0.5〜2質量%含まれることが好ましい。(B)成分の含有量が下限値よりも少ないと、カチオン重合性化合物の硬化反応の進行が不十分となって、カール抑制効果が低下する恐れがある。一方、(B)成分の含有量が上限値よりも多いと、高温高湿度環境下での硬化膜表面に析出物が析出する恐れがある。
The (B) component used by this invention can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.
It is preferable that 0.5-4 mass% is contained in solid content of a photocurable resin composition, and, as for (B) component used by this invention, it is more preferable that 0.5-2 mass% is contained. When the content of the component (B) is less than the lower limit value, the progress of the curing reaction of the cationically polymerizable compound may be insufficient, and the curl suppressing effect may be reduced. On the other hand, when the content of the component (B) is more than the upper limit value, there is a possibility that precipitates may be deposited on the surface of the cured film under high temperature and high humidity environment.

((A)光重合性成分)
本発明で用いられる光重合性成分(A)は、下記(i)及び(ii)の少なくとも1種である光重合性成分である。
(i)カチオン重合性基を有する化合物、及び、ラジカル重合性基を有する化合物
(ii)カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物
ここで、(i)におけるカチオン重合性基を有する化合物は、カチオン重合性基を有するが、ラジカル重合性基を有しない化合物(i-1)を表し、(i)におけるラジカル重合性基を有する化合物は、ラジカル重合性基を有するが、カチオン重合性基を有しない化合物(i-2)を表す。
本発明で用いられる光重合性成分(A)は、前記(i)及び(ii)の少なくとも1種であれば良く、以下の(1)〜(5)の態様が包含される。
(1)カチオン重合性基を有する化合物(i-1)、及び、ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)
(2)カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)
(3)カチオン重合性基を有する化合物(i-1)、及び、カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)
(4)ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)、及び、カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)
(5)カチオン重合性基を有する化合物(i-1)、ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)、及び、カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)
中でも、上記(1)、(4)、又は(5)が好適に用いられる。
((A) photopolymerizable component)
The photopolymerizable component (A) used in the present invention is a photopolymerizable component which is at least one of the following (i) and (ii).
(I) Compound having cationically polymerizable group, and compound having radically polymerizable group (ii) Compound having cationically polymerizable group and radically polymerizable group Here, the compound having cationically polymerizable group in (i) is Represents a compound (i-1) having a cationically polymerizable group but not having a radically polymerizable group, and the compound having a radically polymerizable group in (i) has a radically polymerizable group, but the cationically polymerizable group And a compound (i-2) having no
The photopolymerizable component (A) used in the present invention may be at least one of the above (i) and (ii), and includes the following embodiments (1) to (5).
(1) Compound (i-1) having a cationically polymerizable group, and compound (i-2) having a radically polymerizable group
(2) Compound having cationically polymerizable group and radically polymerizable group (ii)
(3) Compound (i-1) having a cationically polymerizable group, and compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group
(4) Compound (i-2) having a radically polymerizable group, and compound having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group (ii)
(5) Compound (i-1) having a cationically polymerizable group, compound (i-2) having a radically polymerizable group, and compound having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group (ii)
Among them, the above (1), (4) or (5) is preferably used.

<カチオン重合性基を有する化合物(i-1)>
カチオン重合性基を有する化合物(i-1)は、1分子中にカチオン重合性基を1個以上有するが、ラジカル重合性基を有しない化合物である。カチオン重合性基としては、カチオン重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基などが挙げられる。なお、カチオン重合性基を有する化合物(i-1)が2個以上のカチオン重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。カチオン重合性基としては、中でも、逆カールの程度及び反応性の高さの点から、エポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種であることが好ましい。逆カールの点でからはエポキシ基が特に好ましい。
<Compound (i-1) having a cationically polymerizable group>
The compound (i-1) having a cationically polymerizable group is a compound having one or more cationically polymerizable groups in one molecule but having no radically polymerizable group. The cationically polymerizable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of causing a cationic polymerization reaction, and examples thereof include an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. When the compound (i-1) having a cationically polymerizable group has two or more cationically polymerizable groups, these cationically polymerizable groups may be identical to or different from each other. Among them, at least one of an epoxy group and an oxetanyl group is preferable as the cationically polymerizable group from the viewpoint of the degree of reverse curl and the degree of reactivity. From the viewpoint of reverse curl, epoxy groups are particularly preferred.

エポキシ基を有する化合物としては、硬化速度、硬化物の耐熱性の観点で、1分子中に1個以上の脂環構造(脂肪族環構造)と1個以上のエポキシ基とを有するエポキシ化合物(「脂環式エポキシ化合物」と称する)が好ましい。上記脂環式エポキシ化合物としては、具体的には、例えば、(i−1−a)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物、(i−1−b)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物などが挙げられる。   As a compound having an epoxy group, an epoxy compound having one or more alicyclic structure (aliphatic ring structure) and one or more epoxy group in one molecule from the viewpoint of curing speed and heat resistance of cured product ( “Alicyclic epoxy compounds” are preferred. Specifically as the above-mentioned alicyclic epoxy compound, for example, an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms constituting an (i-1-a) alicyclic ring and an oxygen atom And compounds having an epoxy group directly bonded to the (i-1-b) alicyclic ring by a single bond.

上述の(i−1−a)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物としては、公知のものの中から任意に選択して使用することができる。中でも、上記脂環エポキシ基としては、シクロヘキサン環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成される基(シクロヘキセンオキシド基)が好ましい。   The compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms constituting the above (i-1-a) alicyclic ring and an oxygen atom is arbitrarily selected from known compounds. Can be used. Among them, as the above-mentioned alicyclic epoxy group, a group (cyclohexene oxide group) constituted by two adjacent carbon atoms constituting a cyclohexane ring and an oxygen atom is preferable.

上述の(i−1−b)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記一般式(I)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the compound in which an epoxy group is directly bonded to the above (i-1-b) alicyclic ring by a single bond include a compound represented by the following general formula (I).

(一般式(I)中、R’はp価のアルコールからp個の−OHを除した基(残基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。) (In general formula (I), R ′ is a group (residue) obtained by removing p —OH from p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number.)

前記p価のアルコール[R’−(OH)p]としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール等の脂肪族アルコール、ベンジルアルコールのような芳香族アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール)、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの多価アルコール等の多価アルコールなどが挙げられる。当該多価アルコールの炭素数は、4〜15であることが好ましく、更に4〜10であることが好ましい。
pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの{ }内の基におけるnは同一でもよいし異なっていてもよい。
Examples of the p-valent alcohol [R ′-(OH) p] include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol and octanol, aromatic alcohols such as benzyl alcohol, ethylene glycol , Diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, neopentyl hydroxypivalate Glycol esters, cyclohexanedimethanol, glycerin, diglycerin, polyglycerin, trimethylolpropane (2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol), tri Chiroruetan, pentaerythritol, and polyhydric alcohols such as polyhydric alcohols such as dipentaerythritol. The number of carbon atoms of the polyhydric alcohol is preferably 4 to 15, and more preferably 4 to 10.
p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in {} may be the same or different.

上記化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物などが挙げられる。
本発明に用いられる上記一般式(I)で表されるエポキシ樹脂の市販品としては、ダイセル化学工業株式会社製、EHPE3150(nの和が平均15)を好適なものとして挙げられる。
Specific examples of the compound include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol.
As a commercial item of the epoxy resin represented by the said general formula (I) used for this invention, Daicel Chemical Industries, Ltd. make, EHPE3150 (sum of n is an average of 15) is mentioned as a suitable thing.

本発明においては、1分子中にカチオン重合性基を4個以上有する化合物が含まれることが好ましい。
カール抑制効果、硬度、密着性、及び、高温高湿度環境下での白化抑制の点から、1分子中にカチオン重合性基を4個以上有する化合物は、カチオン重合性基を有する化合物(i-1)及びカチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)の合計量に対して、70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることが、好ましい。
また、カール抑制効果、硬度、密着性、及び、高温高湿度環境下での白化抑制の点から、1分子中にカチオン重合性基を4個以上有する化合物は、カチオン重合性基を有する化合物(i-1)中に、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることが更に好ましく、95質量%以上であることがより更に好ましく、100質量%であることが、特に好ましい。
In the present invention, a compound having four or more cationically polymerizable groups in one molecule is preferably contained.
Compounds having four or more cationically polymerizable groups in one molecule are compounds having a cationically polymerizable group (i-- from the viewpoint of curl suppressing effect, hardness, adhesion, and whitening suppression under high temperature and high humidity environment). The total amount of 1) and the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group is preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more.
In addition, a compound having four or more cationically polymerizable groups in one molecule is a compound having a cationically polymerizable group (from a point of curl suppression effect, hardness, adhesion, and whitening suppression under high temperature and high humidity environment) In i-1), the content is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, still more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably 100% by mass. .

1分子中にカチオン重合性基を4個以上有する化合物としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル(デナコールEX−611、デナコールEX−612、デナコールEX−614、デナコールEX−614B、デナコールEX−622:ナガセケムテック製)、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル(デナコールEX−411:ナガセケムテック製)等の1分子中に4個以上の水酸基を有する脂肪族多価アルコールのポリグリシジルエーテル類;1分子中に4個以上の水酸基を有する脂肪族多価アルコールに一種又は二種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;1分子中に4個以上の水酸基を有するフェノール類にアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのポリグリシジルエーテル類;
ブタンテトラカルボン酸テトラ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε−カプロラクトン(エポリードGT−401:ダイセル製)、エタンテトラカルボン酸テトラ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)等の、1分子中に4個以上のカルボキシ基を有する脂肪族多価カルボン酸誘導体であって、一種又は二種以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物;
3−エチル−3−オキセタンメタノールとシランテトラオール重縮合物の縮合反応生成物(アロンオキセタンOXT−191(シランテトラオール重縮合物の平均縮合度5):東亞合成工業製)、及び下記化学式(A)等の、シラントリオール若しくはシランテトラオール又はこれらの重縮合物誘導体であって、一種又は二種以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物;
2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物(EHPE3150:ダイセル製、1分子中のエポキシ基数 平均15)等の前記一般式(I)で表される化合物のうち、nの和が4以上の化合物;及び、繰り返し単位中にカチオン性重合性基を含むポリマー;等を挙げることができる。
Examples of the compound having four or more cationically polymerizable groups in one molecule include sorbitol polyglycidyl ether (Denacol EX-611, Denacol EX-612, Denacol EX-614, Denacol EX-614B, Denacol EX-622: Nagase Polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols having four or more hydroxyl groups in one molecule, such as Chemtech), pentaerythritol polyglycidyl ether (Denacol EX-411: Nagase Chemtech), etc .; 4 in one molecule Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols having one or more hydroxyl groups; phenols having four or more hydroxyl groups in one molecule Add alkylene oxide Polyglycidyl ethers of polyether alcohols obtained Te;
Butanetetracarboxylic acid tetra (3,4-epoxycyclohexylmethyl) modified ε-caprolactone (Epolide GT-401: made by Daicel), ethanetetracarboxylic acid tetra (3,4-epoxycyclohexylmethyl), etc. in 4 molecules per molecule An aliphatic polyvalent carboxylic acid derivative having one or more carboxy groups, which is a compound having one or more epoxy groups or oxetanyl groups;
Condensation reaction product of 3-ethyl-3-oxetane methanol and silane tetraol polycondensate (Aron oxetane OXT-191 (average condensation degree of silane tetraol polycondensate 5): manufactured by Toagosei Kogyo Co., Ltd.), Silanetriols or silanetetraols or their polycondensate derivatives, such as A), which have one or more epoxy groups or oxetanyl groups;
The above general formula such as 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (EHPE 3150: manufactured by Daicel, average number of epoxy groups in one molecule: 15) Among the compounds represented by (I), compounds in which the sum of n is 4 or more; and polymers having a cationic polymerizable group in the repeating unit, and the like can be mentioned.

前記繰り返し単位中にカチオン性重合性基を含むポリマーとしては、例えば、下記一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマーが挙げられる。   As a polymer which contains a cationic polymerizable group in the said repeating unit, the polymer containing the repeating unit represented by the following general formula (II) is mentioned, for example.

(式中Rは水素原子又はメチル基を表し、Pはカチオン重合性基を含む一価の基であり、Lは単結合又は二価の連結基である。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, P 1 is a monovalent group containing a cationically polymerizable group, and L 1 is a single bond or a divalent linking group.)

は単結合又は二価の連結基であり、好ましくは単結合、−O−、アルキレン基、アリーレン基、−COO−、−CONH−、−OCO−、−NHCO−である。Pは、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を含む一価の基である。 L 1 is a single bond or a divalent linking group, preferably a single bond, -O-, an alkylene group, an arylene group, -COO-, -CONH-, -OCO- or -NHCO-. P 1 is a monovalent group containing a cationically polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group and a vinyl ether group.

本発明の一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマーは、対応するモノマーを重合させて合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。以下に一般式(II)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記一般式(II−1)〜(II−6)におけるRは一般式(II)と同じである。 The polymer containing the repeating unit represented by the general formula (II) of the present invention is preferably synthesized by polymerizing a corresponding monomer. As the polymerization reaction in this case, radical polymerization is most convenient and preferable. Preferred specific examples of the repeating unit represented by Formula (II) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In addition, R < 1 > in the following general formula (II-1)-(II-6) is the same as general formula (II).

本発明の一般式(II)で表される繰り返し単位のうち、より好ましい例としては、エポキシ基を有する(メタ)アクリレートから誘導される繰り返し単位であり、その中でもグリシジル(メタ)アクリレート又は3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートから誘導される構成単位であることが特に好ましい。また、本発明の一般式(I)で表される繰り返し単位を含むポリマーは、複数種の一般式(II)で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、その中でも特にグリシジル(メタ)アクリレート、又は3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートから誘導される構成単位で構成されたコポリマーとすることでより効果的に硬化収縮を低減できる。   Among the repeating units represented by the general formula (II) of the present invention, more preferable examples are repeating units derived from (meth) acrylate having an epoxy group, and among them, glycidyl (meth) acrylate or 3, Particularly preferred is a structural unit derived from 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate. In addition, the polymer containing the repeating unit represented by the general formula (I) of the present invention may be a copolymer composed of a plurality of repeating units represented by the general formula (II), and among them, glycidyl is particularly preferable. The curing shrinkage can be reduced more effectively by using a copolymer composed of structural units derived from (meth) acrylate or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate.

本発明の一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマーは一般式(II)以外の繰り返し単位を含んだコポリマーであってもよい。例えば、ポリマーのTgや親疎水性を制御したい場合や、ポリマー中のカチオン重合性基の含有量をコントロールする目的で一般式(II)以外の繰り返し単位を含んだコポリマーとすることができる。一般式(II)以外の繰り返し単位の導入方法は、対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好ましい。   The polymer containing the repeating unit represented by the general formula (II) of the present invention may be a copolymer containing repeating units other than the general formula (II). For example, when it is desired to control the Tg or the hydrophilicity or hydrophobicity of a polymer, or in order to control the content of cationically polymerizable groups in the polymer, a copolymer containing repeating units other than the general formula (II) can be used. The method for introducing a repeating unit other than the general formula (II) is preferably a method in which the corresponding monomer is copolymerized and introduced.

一般式(II)以外の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを共重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、(メタ)アクリル酸類から誘導されるエステル類もしくはアミド類(例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート等、N−i−プロピルアクリルアミド等)、(メタ)アクリル酸類((メタ)アクリル酸、イタコン酸など)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル)、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類(マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル等)、マレイミド類(N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミドなど)、マレイン酸、フマル酸、p−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類(例えばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン)、芳香族ビニル化合物類(例えばスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム)、ビニルアルキルエーテル類(例えばメチルビニルエーテル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン等が挙げれる。これらのビニルモノマーは2種類以上組み合わせて使用してもよい。一般式(I)以外の繰り返し単位を誘導するモノマーとしては、中でも、(メタ)アクリル酸から誘導されるエステル類、およびアミド類、マレイミド類、および芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられる。   When a repeating unit other than the general formula (II) is introduced by copolymerizing a corresponding vinyl monomer, preferred monomers to be used include esters or amides derived from (meth) acrylic acids (for example, methyl (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, etc. Ni-propylacrylamide etc.), (meth) acrylic acids ((meth) acrylic acid, itaconic acid etc.), vinyl esters (eg vinyl acetate), esters derived from maleic acid or fumaric acid (dimethyl maleate) , Maleic acid Butyl, diethyl fumarate etc), maleimides (N-cyclohexyl maleimide, N-phenyl maleimide etc), maleic acid, fumaric acid, sodium salt of p-styrenesulfonic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, dienes (eg butadiene, Cyclopentadiene, isoprene), aromatic vinyl compounds (eg, styrene, sodium styrene sulfonate), vinyl alkyl ethers (eg, methyl vinyl ether), ethylene, propylene, 1-butene, isobutene and the like. These vinyl monomers may be used in combination of two or more. Among them, esters derived from (meth) acrylic acid, and amides, maleimides and aromatic vinyl compounds are particularly preferably used as the monomer for inducing a repeating unit other than the general formula (I).

一般式(I)以外の繰り返し単位としてカチオン重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導入することができる。特に、保護層の硬度を高めたい場合や、密着性を改良したい場合、カチオン重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法は好適である。カチオン重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位の導入方法は対応するモノマーを共重合する手法が簡便で好ましい。   Repeating units having reactive groups other than cationically polymerizable groups can also be introduced as repeating units other than the general formula (I). In particular, when it is desired to increase the hardness of the protective layer or to improve the adhesion, a method of using a copolymer containing a reactive group other than the cationically polymerizable group is preferable. As a method of introducing a repeating unit having a reactive group other than a cationically polymerizable group, a method of copolymerizing a corresponding monomer is simple and preferred.

以下にカチオン重合性基以外の反応性基を有するモノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール等)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(例えば、イソシアナトエチル(メタ)アクリレート等)、N−メチロール基含有ビニルモノマー(例えば、N−メチロール(メタ)アクリルアミド等)、カルボキシル基含有ビニルモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル等)、アルキルハライド含有ビニルモノマー(例えばクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート等)、酸無水物含有ビニルモノマー(例えばマレイン酸無水物等)、ホルミル基含有ビニルモノマー(例えばアクロレイン、メタクロレイン等)、活性メチレン含有ビニルモノマー(例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート等)、酸クロライド含有モノマー(例えば(メタ)アクリル酸クロライド等)、アミノ基含有モノマー(例えばアリルアミン)、アルコキシシリル基含有モノマー(例えば(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等)などが挙げられる。
Although the preferable specific example of the monomer which has reactive groups other than a cationically polymerizable group below is shown below, this invention is not limited to these.
Hydroxyl group-containing vinyl monomer (eg, hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl alcohol etc.), isocyanate group-containing vinyl monomer (eg, isocyanatoethyl (meth) acrylate etc.), N-methylol group-containing vinyl monomer (eg, N-methylol group) Methylol (meth) acrylamide etc., carboxyl group-containing vinyl monomer (eg (meth) acrylic acid, itaconic acid, carboxyethyl acrylate, vinyl benzoate etc.), alkyl halide-containing vinyl monomer (eg chloromethylstyrene, 2-hydroxy-3) Chloropropyl methacrylate etc.), acid anhydride containing vinyl monomers (eg maleic anhydride etc.), formyl group containing vinyl monomers (eg acrolein, methacrolein etc.), active methylene containing vinyl mo Monomers (eg acetoacetoxyethyl methacrylate etc.), acid chloride containing monomers (eg (meth) acrylic acid chloride etc), amino group containing monomers (eg allylamine), alkoxysilyl group containing monomers (eg (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Etc.).

本発明の一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマー中、一般式(II)で表される繰り返し単位が含まれる割合は、30質量%以上100質量%以下、好ましくは50質量%以上100質量%以下、特に好ましくは70質量%以上100質量%以下である。一般式(II)以外の繰り返し単位が、反応性基を有さない場合、その含量が多すぎると硬度が低下し、反応性基を有する場合、硬度は維持できることもあるが、硬化収縮が大きくなったり、脆性が悪化する場合がある。特にアルコキシシリル基含有モノマーと一般式(II)で表される繰り返し単位の共重合体を用いる場合などのように架橋反応時に脱水、脱アルコールなどの分子量低下を伴う場合、硬化収縮が大きくなりやすい。このような分子量低下を伴って架橋反応が進行する反応性基を有する繰り返し単位を本発明の一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマーに導入する場合の一般式(II)で表される繰り返し単位が含まれる好ましい割合は、70質量%以上99質量%以下、より好ましくは80質量%以上99質量%以下、特に好ましくは90質量%以上99質量%以下である。   The proportion of the repeating unit represented by the general formula (II) in the polymer containing the repeating unit represented by the general formula (II) of the present invention is 30% by mass or more and 100% by mass or less, preferably 50% by mass The content is 100% by mass or less, particularly preferably 70% by mass to 100% by mass. If the repeating unit other than the general formula (II) does not have a reactive group, the hardness decreases if the content is too large, and if it has a reactive group, the hardness may sometimes be maintained, but the cure shrinkage is large And brittleness may deteriorate. In particular, when the molecular weight reduction such as dehydration or dealcoholation is accompanied during the crosslinking reaction as in the case of using a copolymer of an alkoxysilyl group-containing monomer and a repeating unit represented by the general formula (II), the cure shrinkage tends to be large . When a repeating unit having a reactive group which causes a crosslinking reaction to proceed with such molecular weight reduction is introduced into a polymer containing the repeating unit represented by the general formula (II) of the present invention, a table of the general formula (II) The preferable ratio in which the repeating unit is contained is 70% by mass to 99% by mass, more preferably 80% by mass to 99% by mass, and particularly preferably 90% by mass to 99% by mass.

本発明の一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマーとしては、中でも、ポリグリシジルメタクリレート、ポリ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート)が好ましく用いられる。   Among them, polyglycidyl methacrylate and poly (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate) are preferably used as the polymer containing the repeating unit represented by the general formula (II) of the present invention.

一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリマーの好ましい分子量範囲は重量平均分子量で1000以上100万以下、さらに好ましくは3000以上20万以下である。最も好ましくは5000以上10万以下である。   The preferred molecular weight range of the polymer containing the repeating unit represented by the general formula (II) is 1,000 or more and 1,000,000 or less, more preferably 3,000 or more, and 200,000 or less in weight average molecular weight. Most preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less.

本発明に用いられるカチオン重合性基を有する化合物(i-1)としては、カール抑制効果、硬度、密着性、及び、高温高湿度環境下での白化抑制の点から、カチオン重合性基の官能基当量は、特に限定されないが、350以下が好ましく、より好ましくは300以下、さらに好ましくは250以下である。上記官能基当量が350を超えると、保護層の硬度が低下したり、カールが著しくなる場合があるからである。
本発明に用いられるカチオン重合性基を有する化合物(i-1)としては、カール抑制効果、硬度、密着性、及び、高温高湿度環境下での白化抑制の点から、中でも、カチオン重合性化合物が1分子内に10個以上のカチオン重合性基を有し、カチオン重合性基の官能基当量が250以下である化合物を少なくとも含むことが、好ましい。
なお、カチオン重合性基を有する化合物(i-1)のカチオン重合性基の官能基当量は、下記式により算出することができる。
[カチオン重合性基の官能基当量]=[カチオン重合性基を有する化合物(i-1)の分子量]/[カチオン重合性基を有する化合物(i-1)が有するカチオン重合性基の数]
As the compound (i-1) having a cationically polymerizable group used in the present invention, from the viewpoint of curl suppressing effect, hardness, adhesion, and whitening suppression under high temperature and high humidity environment, functional group of cationically polymerizable group The group equivalent is not particularly limited, but is preferably 350 or less, more preferably 300 or less, and still more preferably 250 or less. If the functional group equivalent exceeds 350, the hardness of the protective layer may decrease or curling may be significant.
As the compound (i-1) having a cationically polymerizable group used in the present invention, a cationically polymerizable compound is preferred among them from the viewpoints of the curl suppressing effect, hardness, adhesion, and whitening suppression under high temperature and high humidity environment. It is preferable that at least one compound has at least 10 cationically polymerizable groups in one molecule, and the functional equivalent of the cationically polymerizable groups is 250 or less.
The functional group equivalent of the cationically polymerizable group of the compound (i-1) having a cationically polymerizable group can be calculated by the following formula.
[Functional group equivalent of cationically polymerizable group] = [molecular weight of compound (i-1) having cationically polymerizable group] / [number of cationically polymerizable groups possessed by compound (i-1) having cationically polymerizable group]

<ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)>
ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)は、1分子中にラジカル重合性基を1個以上有するが、カチオン重合性基を有しない化合物である。ラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、炭素−炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
<Compound Having Radically Polymerizable Group (i-2)>
The compound (i-2) having a radically polymerizable group is a compound having one or more radically polymerizable groups in one molecule but not having a cationically polymerizable group. The radically polymerizable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and more specifically, a vinyl group And (meth) acryloyl groups. When the compound (i-2) having a radically polymerizable group has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be identical to or different from each other.

ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、2個以上であることが好ましく、更に3個以上であることが好ましい。その中でも(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、分子内に2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。   The number of radically polymerizable groups that the compound (i-2) having a radically polymerizable group has in one molecule is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more. Among them, compounds having a (meth) acryloyl group are preferable, and compounds called polyfunctional acrylate monomers having 2 to 6 (meth) acryloyl groups in the molecule, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, Oligomers having a molecular weight of several hundred to several thousand having several (meth) acryloyl groups in a molecule called epoxy (meth) acrylate can be preferably used.

ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)としては、具体的には、例えば、ジビニルベンゼンなどのビニル化合物;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシジ(メタ)アクリレート、9,9−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート(例えば、エトキシ化(エチレンオキサイド変性)ビスフェノールAジ(メタ)アクリレートなど)、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類、ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the compound (i-2) having a radically polymerizable group include vinyl compounds such as divinylbenzene; ethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A epoxy di (meth) acrylate, and 9,9-bis [4- (2- (Meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, alkylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate (eg, ethoxylated (ethylene oxide modified) bisphenol A di (meth) acrylate, etc.), trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, Polyol polyacrylates such as dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, diacrylate of bisphenol A diglycidyl ether, diacrylate of hexanediol diglycidyl ether And epoxy acrylates, urethane acrylate obtained by the reaction of polyisocyanate and hydroxyl group-containing acrylate such as hydroxyethyl acrylate, and the like.

また、繰り返し単位中にラジカル性重合性基を含むポリマーを用いても良く、このようなポリマーとしては、例えば、下記一般式(III)で表される繰り返し単位を含むポリマーが挙げられる。   Moreover, you may use the polymer which contains a radically polymerizable group in a repeating unit, and as such a polymer, the polymer containing the repeating unit represented by the following general formula (III) is mentioned, for example.

(式中Rは水素原子又はメチル基を表し、Pはラジカル重合性基を含む一価の基であり、Lは単結合又は二価の連結基である。) (In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, P 2 is a monovalent group containing a radical polymerizable group, and L 2 is a single bond or a divalent linking group.)

は単結合又は二価の連結基であるが、具体的には、前記Lと同様のものを挙げることができる。
また、Pは、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等のラジカル重合性基を含む一価の基である。以下に一般式(III)で表される繰り返し単位のLとPの組み合わせの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。その他の繰り返し単位としては、特開2003−147017号公報の段落0034〜0038に記載の繰り返し単位を挙げることができ、このような繰り返し単位を含むポリマーの調製は、特開2003−147017号公報の段落0039〜0050等を参照して調製することができる。
L 2 is a single bond or a divalent linking group, and specifically, those similar to the aforementioned L 1 can be mentioned.
P 2 is a monovalent group containing a radical polymerizable group such as a vinyl group and a (meth) acryloyl group. Specific examples of the combination of L 2 and P 2 of the repeating unit represented by General Formula (III) will be shown below, but the present invention is not limited thereto. As other repeating units, the repeating units described in paragraphs 0034 to 0038 of JP-A No. 2003-147017 can be mentioned, and the preparation of a polymer containing such repeating units is It can be prepared with reference to paragraphs 0039 to 0050 and the like.

とPの組み合わせとしては、
−COOCHCH=CH
−COOCHCHOC(=O)CH=CH
−COOCHCHOC(=O)C(CH)=CH
−CONHCHCHOC(=O)CH=CH
−CONHCHCHOC(=O)C(CH)=CH
−COOCHCHOC(=O)Ph−CH=CH(Ph=フェニレン基)
−COOCHCH(OH)CHOC(=O)CH=CH
−COOCHCH(OH)CHOC(=O)C(CH)=CH
−COOCHCHOCHNHC(=O)CH=CH
As a combination of L 2 and P 2 ,
-COOCH 2 CH = CH 2
-COOCH 2 CH 2 OC (= O ) CH = CH 2
-COOCH 2 CH 2 OC (= O ) C (CH 3) = CH 2
-CONHCH 2 CH 2 OC (= O ) CH = CH 2
-CONHCH 2 CH 2 OC (= O ) C (CH 3) = CH 2
-COOCH 2 CH 2 OC (= O ) Ph-CH = CH 2 (Ph = phenylene)
-COOCH 2 CH (OH) CH 2 OC (= O) CH = CH 2
-COOCH 2 CH (OH) CH 2 OC (= O) C (CH 3) = CH 2
—COOCH 2 CH 2 OCH 2 NHC (= O) CH = CH 2

本発明の一般式(III)で表される繰り返し単位を含むポリマー中、硬度を高くする点から、一般式(III)で表される繰り返し単位が含まれる好ましい割合は、30質量%以上100質量%以下、より好ましくは50質量%以上100質量%以下、特に好ましくは70質量%以上100質量%以下である。   In the polymer containing the repeating unit represented by the general formula (III) of the present invention, from the viewpoint of increasing the hardness, the preferable ratio in which the repeating unit represented by the general formula (III) is included is 30% by mass or more and 100% % Or less, more preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, particularly preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less.

本発明の一般式(III)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい分子量範囲は重量平均分子量で1000以上100万以下、さらに好ましくは3000以上20万以下である。最も好ましくは5000以上10万以下である。   The preferred molecular weight range of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (III) of the present invention is 1,000 to 1,000,000, more preferably 3,000 to 200,000, in terms of weight average molecular weight. Most preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less.

本発明に用いられるラジカル重合性基を有する化合物(i-2)としては、カール抑制効果、硬度、密着性、及び、高温高湿度環境下での白化抑制の点から、ラジカル重合性基の官能基当量は、特に限定されないが、300以下が好ましく、より好ましくは275以下、さらに好ましくは250以下である。上記官能基当量が300を超えると、保護層の硬度が低下する場合があるからである。
本発明に用いられるラジカル重合性基を有する化合物(i-2)としては、カール抑制効果、硬度、密着性、及び、高温高湿度環境下での白化抑制の点から、中でもラジカル重合性化合物が1分子内に3個以上のラジカル重合性基を有し、ラジカル重合性基の官能基当量が90〜120である化合物を少なくとも含むことが、好ましい。
なお、ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)のラジカル重合性基の官能基当量は、下記式により算出することができる。
[ラジカル重合性基の官能基当量]=[ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)の分子量]/[ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)が有するラジカル重合性基の数]
As the compound (i-2) having a radically polymerizable group used in the present invention, from the viewpoint of curl suppressing effect, hardness, adhesion, and whitening suppression under high temperature and high humidity environment, functional group of radically polymerizable group The group equivalent is not particularly limited, but is preferably 300 or less, more preferably 275 or less, and still more preferably 250 or less. If the functional group equivalent exceeds 300, the hardness of the protective layer may decrease.
As the compound (i-2) having a radically polymerizable group to be used in the present invention, a radically polymerizable compound is particularly preferred in view of the curling suppressing effect, hardness, adhesion, and whitening suppression under high temperature and high humidity environment It is preferable to include at least a compound having three or more radically polymerizable groups in one molecule and having a functional group equivalent of 90 to 120 of the radically polymerizable groups.
The functional group equivalent of the radically polymerizable group of the compound (i-2) having a radically polymerizable group can be calculated by the following formula.
[Functional group equivalent of radically polymerizable group] = [molecular weight of compound (i-2) having radically polymerizable group] / [number of radically polymerizable groups possessed by compound (i-2) having radically polymerizable group]

また、光硬化性樹脂組成物にて、薄膜基材で低カール性と硬度の両立が要求される場合、ラジカル重合性基を有する化合物(i-2)が1分子中に水酸基を1個以上と(メタ)アクリロイル基を3個以上有し、分子量/(メタ)アクリロイル基数が120以下である化合物を少なくとも含むことが好ましい。水酸基はカチオン重合性基の反応を促進させたり、カチオン重合性基と反応して収縮率が低下するため、カールが低減し、且つ、(メタ)アクリロイル基の密度が高いためラジカル重合により高い架橋密度の膜となるため硬度が維持される。当該化合物の例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートが挙げられる。   In the photocurable resin composition, when coexistence of low curlability and hardness is required in a thin film substrate, the compound (i-2) having a radically polymerizable group has one or more hydroxyl groups in one molecule. It is preferable to include at least a compound having three or more (meth) acryloyl groups and having a molecular weight / number of (meth) acryloyl groups of 120 or less. The hydroxyl group accelerates the reaction of the cationically polymerizable group and reacts with the cationically polymerizable group to decrease the shrinkage rate, thereby reducing the curl and also because the density of the (meth) acryloyl group is high, it is highly crosslinked by radical polymerization. The hardness is maintained because of the density film. Examples of the compound include pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate.

<カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)>
カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)は、1分子中にカチオン重合性基を1個以上とラジカル重合性基を1個以上とを有する化合物である。カチオン重合性基、及びラジカル重合性基としては、前記化合物(i)で例示した官能基と同様のものを用いることができる。なお、カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)が2個以上のカチオン重合性基や2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基やラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
<Compound having cationically polymerizable group and radically polymerizable group (ii)>
The compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group is a compound having one or more cationically polymerizable groups and one or more radically polymerizable groups in one molecule. As the cationically polymerizable group and the radically polymerizable group, the same functional groups as exemplified for the compound (i) can be used. When the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group has two or more cationically polymerizable groups or two or more radically polymerizable groups, these cationically polymerizable groups or radically polymerizable groups Each may be the same or different.

カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)としては、前記一般式(I)で表される繰り返し単位と前記一般式(III)で表される繰り返し単位を含むポリマーが、硬化膜の硬度と耐久性の点から好適に用いられる。当該ポリマーにおいて、前記一般式(I)で表される繰り返し単位と前記一般式(III)で表される繰り返し単位との質量比は、保護層の硬度を向上しつつ硬化後の保護層のカール抑制効果が高くなる点から、50:50〜5:95であることが好ましく、更に20:80〜10:90であることが好ましい。   As the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group, a polymer containing a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the general formula (III) is a cured film Are preferably used in view of the hardness and durability of the In the polymer, the mass ratio of the repeating unit represented by the general formula (I) to the repeating unit represented by the general formula (III) is the curl of the protective layer after curing while improving the hardness of the protective layer. It is preferable that it is 50: 50-5: 95 from the point which a suppression effect becomes high, and it is further more preferable that it is 20: 80-10: 90.

前記一般式(I)で表される繰り返し単位と前記一般式(III)で表される繰り返し単位を含むポリマーは、例えば、前記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する共重合体を合成し、当該前記一般式(I)で表される繰り返し単位に含まれるカチオン重合性基と反応可能な官能基(例えば水酸基やカルボキシ基)と、ラジカル重合性基を有する化合物とを有する化合物をカチオン重合性基に反応させることにより、調製することが可能である。例えば、ポリ(グリシジルメタクリレート)のエポキシ基の一部に、メタクリル酸を反応させることにより、エポキシ基を有する繰り返し単位とメタクリロイル基を有する繰り返し単位とを含む共重合体を得ることができる。   The polymer containing the repeating unit represented by the general formula (I) and the repeating unit represented by the general formula (III) is, for example, a copolymer having the repeating unit represented by the general formula (I) A compound having a functional group (for example, a hydroxyl group or a carboxy group) capable of reacting with a cationically polymerizable group contained in the repeating unit represented by the general formula (I), and a compound having a radically polymerizable group, which is synthesized It is possible to prepare by reacting with a cationically polymerizable group. For example, by reacting methacrylic acid with a part of the epoxy group of poly (glycidyl methacrylate), a copolymer containing a repeating unit having an epoxy group and a repeating unit having a methacryloyl group can be obtained.

或いは、前記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する重合体でなくても、分子中に多数エポキシ基を有する多官能エポキシ化合物のエポキシ基の一部に、例えば(メタ)アクリル酸等のカルボキシ基とラジカル重合性基を有する化合物を反応させることにより、カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物を有する化合物を調製することができる。このように、エポキシ基の一部に、例えば(メタ)アクリル酸等のカルボキシ基とラジカル重合性基を有する化合物を反応させると、反応後に水酸基が生じる。すなわち、1分子中に水酸基とラジカル重合性基と、更にカチオン重合性基を有する化合物が得られるため、カチオン重合性基の反応を促進でき、本発明において好適に用いられる。   Alternatively, even if the polymer is not a polymer having a repeating unit represented by the above general formula (I), for example, (meth) acrylic acid or the like in part of the epoxy group of the polyfunctional epoxy compound having multiple epoxy groups in the molecule A compound having a compound having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group can be prepared by reacting a compound having a carboxy group and a radically polymerizable group. Thus, when a compound having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid and a radically polymerizable group is reacted with a part of the epoxy group, for example, a hydroxyl group is generated after the reaction. That is, since a compound having a hydroxyl group, a radically polymerizable group, and a cationically polymerizable group in one molecule can be obtained, the reaction of the cationically polymerizable group can be promoted, and it is suitably used in the present invention.

上記のような前記一般式(I)で表される繰り返し単位と前記一般式(III)で表される繰り返し単位を含むポリマーや、1分子中に2個以上のラジカル重合性基と2個以上のカチオン重合性基を有する化合物は、光重合性成分(A)としてカチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)のみを用いる態様であっても好適に用いられる。   A polymer comprising the repeating unit represented by the above general formula (I) and the repeating unit represented by the above general formula (III), or two or more radically polymerizable groups in one molecule The compound having a cationically polymerizable group of the above is suitably used even in an embodiment using only the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group as the photopolymerizable component (A).

一方、光重合性成分(A)として前記化合物(i)と共に用いられるカチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)としては、1分子中に1個のラジカル重合性基と1個又は2個のカチオン重合性基を有する化合物も好適に用いられる。
このような1分子中に1個のラジカル重合性基と1個又は2個のカチオン重合性基を有する化合物としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル等が挙げられる。
中でも、カチオン重合性基としてオキセタニル基を有し、且つ、ラジカル重合性基としてエチレン性不飽和結合を含む基を有する化合物が、保護層の硬度を向上しつつ硬化後の保護層のカール抑制効果が高くなり、且つ、耐光試験後の密着性が向上効果が高い点から好ましい。
カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)としては、例えば、下記一般式(IV−1)、(IV−2)及び(IV−3)で表される化合物が挙げられる。
On the other hand, as a compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group used together with the above compound (i) as the photopolymerizable component (A), one radically polymerizable group and one radically polymerizable group are included Alternatively, a compound having two cationically polymerizable groups is also suitably used.
As such a compound having one radically polymerizable group and one or two cationically polymerizable groups in one molecule, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl etc. are mentioned.
Among them, a compound having an oxetanyl group as a cationically polymerizable group and having a group containing an ethylenically unsaturated bond as a radically polymerizable group is effective in suppressing the curling of the protective layer after curing while improving the hardness of the protective layer. And the adhesion after the light resistance test is preferred from the viewpoint that the improvement effect is high.
As a compound (ii) which has a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group, the compound represented by the following general formula (IV-1), (IV-2), and (IV-3) is mentioned, for example.

(一般式(IV−1)において、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。Xは炭素数1〜20のアルキレン基を表し、Xは炭素数1〜5のアルキレン基又はフェニレン基を表す。mは0〜6の整数である。) (In the general formula (IV-1), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. X 1 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. And X 2 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or a phenylene group, m is an integer of 0 to 6)

(一般式(IV−2)において、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。X及びXはそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキレン基を表す。) (In formula (IV-2), R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. And each of X 3 and X 4 independently represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.)

(一般式(IV−3)において、R及びR10はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、X及びXはそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキレン基を表す。) (In General Formula (IV-3), R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and X 5 and X 6 each independently represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.)

一般式(IV−1)又は(IV−2)において、R、R及びRにおける炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル等の直鎖状アルキル基;イソプロピル、イソブチル、t−ブチル等の分岐鎖状アルキル基などの直鎖状又は分岐鎖状炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基が挙げられる。本発明におけるR、R及びRとしては、中でも、メチル基又はエチル基が好ましい。 In the general formula (IV-1) or (IV-2), examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as R 4 , R 7 and R 8 include linear alkyls such as methyl, ethyl and n-propyl. And linear or branched C1 to C6, preferably C1 to C3 alkyl groups such as branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl and t-butyl. Among them, a methyl group or an ethyl group is preferable as R 4 , R 7 and R 8 in the present invention.

一般式(IV−1)において、Xは炭素数1〜20のアルキレン基を表すが、当該アルキレン基は直鎖状であっても分岐鎖状であっても良い。保護層の硬度を向上しつつ硬化後の保護層のカール抑制効果が高くなる点から、直鎖状のアルキレン基であることが好ましく、中でも炭素数1〜5の直鎖状アルキレン基であることが好ましい。 In General Formula (IV-1), X 1 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, but the alkylene group may be linear or branched. It is preferable that it is a linear alkylene group from the point which the curl inhibitory effect of the protective layer after hardening becomes high, improving hardness of a protective layer, and it is a C1-C5 linear alkylene group especially Is preferred.

一般式(IV−1)において、Xは炭素数1〜5のアルキレン基又はフェニレン基を表すが、当該アルキレン基は直鎖状であっても分岐鎖状であっても良い。mは0〜6の整数であり、mが2以上の場合に、2つ以上のXはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
保護層の硬度を向上しつつ硬化後の保護層のカール抑制効果が高くなる点から、Xは、少なくとも1つが直鎖状のアルキレン基であることが好ましく、中でも炭素数1〜5の直鎖状アルキレン基であることが好ましい。
また、mは、硬化膜の硬度の点から、3以下であることが好ましく、更に1以下であることが好ましい。
In General Formula (IV-1), X 2 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or a phenylene group, but the alkylene group may be linear or branched. m is an integer of 0 to 6, and when m is 2 or more, two or more X 2 s may be the same or different.
At least one of X 2 is preferably a linear alkylene group from the viewpoint of improving the hardness of the protective layer and enhancing the curl suppression effect of the protective layer after curing, and in particular, a straight chain having 1 to 5 carbon atoms It is preferably a chain alkylene group.
Further, m is preferably 3 or less, and more preferably 1 or less from the viewpoint of the hardness of the cured film.

一般式(IV−2)において、X及びX、並びに、一般式(IV−3)におけるX及びXは、はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキレン基を表すが、当該アルキレン基は直鎖状であっても分岐鎖状であっても良い。保護層の硬度を向上しつつ硬化後の保護層のカール抑制効果が高くなる点から、直鎖状のアルキレン基であることが好ましく、中でも炭素数1〜2の直鎖状アルキレン基であることが好ましい。 In General Formula (IV-2), X 3 and X 4 and X 5 and X 6 in General Formula (IV-3) each independently represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, The group may be linear or branched. It is preferable that it is a linear alkylene group from the point which the curl inhibitory effect of the protective layer after hardening becomes high, improving hardness of a protective layer, and it is a C1-C2 linear alkylene group especially Is preferred.

一般式(IV−1)、(IV−2)又は(IV−3)で表される化合物としては、中でも、保護層の硬度を向上しつつ硬化後の保護層のカール抑制効果が高くなる点から、(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。
一般式(IV−1)、(IV−2)又は(IV−3)で表される化合物は、市販品を入手しても良いし、特開2011−168561号公報、特開2013−14076号公報の記載を参考に調製することが可能である。一般式(IV−1)、(IV−2)又は(IV−3)で表される化合物の市販品としては、例えば、OXE−10、OXE−30(大阪有機化学工業株式会社製)等が挙げられる。
Among the compounds represented by the general formula (IV-1), (IV-2) or (IV-3), the point at which the curl suppression effect of the protective layer after curing becomes high while improving the hardness of the protective layer It is preferable to use (3-ethyl oxetan-3-yl) methyl (meth) acrylate.
The compounds represented by the general formula (IV-1), (IV-2) or (IV-3) may be commercially available products, and may be JP-A-2011-168561 or JP-A-2013-14076. It is possible to prepare the description of the publication as a reference. As a commercial item of the compound represented by general formula (IV-1), (IV-2) or (IV-3), OXE-10, OXE-30 (Osaka organic chemical industry corporation make) etc. are mentioned, for example It can be mentioned.

本発明に用いられる光重合性成分(A)においては、(A)成分全量中に、少なくともラジカル重合性基を有する化合物が50質量%以上含まれることが好ましい。中でも、硬度を向上する点から、少なくともラジカル重合性基を有する化合物が、(A)成分全量中に70質量%以上含まれることが好ましく、更に80質量%以上含まれることが好ましい。一方、カール抑制の点からは、少なくともラジカル重合性基を有する化合物が、(A)成分全量中に95質量%以下含まれることが好ましく、更に(A)成分全量中に90質量%以下含まれることが好ましい。   In the photopolymerizable component (A) used in the present invention, the total amount of the component (A) preferably contains 50% by mass or more of a compound having at least a radically polymerizable group. Among them, from the viewpoint of improving the hardness, the compound having at least a radically polymerizable group is preferably contained in an amount of 70% by mass or more in the total amount of the component (A), and more preferably 80% by mass or more. On the other hand, from the viewpoint of curl suppression, the compound having at least a radically polymerizable group is preferably contained in an amount of 95% by mass or less in the total amount of component (A), and is further contained in an amount of 90% by mass or less in the total amount of component (A) Is preferred.

中でも、薄膜の基材に薄膜の硬化膜を形成する場合の当該硬化膜の硬度を向上する点から、ラジカル重合性基を有するがカチオン重合性基を有しない化合物(i-2)が、(A)成分全量中に50質量%以上含まれることが好ましく、更に70質量%以上含まれることが好ましく、より更に80質量%以上含まれることが好ましく、特に85質量%以上含まれることが好ましい。一方、カール抑制の点からは、ラジカル重合性基を有するがカチオン重合性基を有しない化合物(i-2)が、(A)成分全量中に97質量%以下含まれることが好ましく、更に95質量%以下含まれることが好ましく、より更に(A)成分全量中に90質量%以下含まれることが好ましい。   Among them, the compound (i-2) having a radically polymerizable group but not having a cationically polymerizable group is preferable from the viewpoint of improving the hardness of the cured film when forming the cured film of the thin film on a thin film substrate The total amount of the component A) is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 85% by mass or more. On the other hand, the compound (i-2) having a radically polymerizable group but not having a cationically polymerizable group is preferably contained in an amount of 97% by mass or less in the total amount of the component (A). It is preferable to be contained by mass% or less, and it is more preferable to further contain 90 mass% or less in the total amount of component (A).

また、本発明に用いられる光重合性成分(A)において、前記化合物(i)と共に用いられるカチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)は、薄膜の硬化膜の硬度を向上しつつ硬化後の積層体のカール抑制効果が高くなり且つ耐光試験後の密着性が向上する点から、(A)成分全量中に1質量%以上含まれることが好ましく、更に2質量%以上含まれることが好ましい。   In the photopolymerizable component (A) used in the present invention, the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group used together with the compound (i) improves the hardness of the cured film of the thin film. However, it is preferably contained in an amount of 1% by mass or more, and further 2% by mass or more in the total amount of the component (A) from the viewpoint that the curl suppression effect of the laminate after curing is enhanced and the adhesion after light resistance test is improved. Is preferred.

また、本発明に用いられる光重合性成分(A)においては、薄膜の硬化膜の硬度を向上しつつ硬化後の積層体のカール抑制効果が高くなる点から、カチオン重合性基を有するがラジカル重合性基を有しない化合物(i-1)とカチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)の合計量が、(A)成分全量中に40質量%以下であることが好ましく、更に30質量%以下であることが好ましく、より更に25質量%以下であることが好ましい。
中でも、薄膜の硬化膜の硬度を向上しつつ硬化後の積層体のカール抑制効果が高くなり且つ耐光試験後の密着性が向上する点から、カチオン重合性基を有するがラジカル重合性基を有しない化合物(i-1)に対する、カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物(ii)の質量比((ii)/(i-1))が0.05以上であることが好ましく、更に0.1以上であることが好ましい。当該質量比が小さすぎると耐光試験後の密着性が不足する場合がある。
In addition, the photopolymerizable component (A) used in the present invention has a cationically polymerizable group from the viewpoint that the curl suppression effect of the laminate after curing is enhanced while the hardness of the cured film of the thin film is improved. The total amount of the compound (i-1) having no polymerizable group and the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group is preferably 40% by mass or less in the total amount of component (A), The content is further preferably 30% by mass or less, and still more preferably 25% by mass or less.
Among them, a cationically polymerizable group is possessed but it has a radically polymerizable group, from the viewpoint that the curl suppression effect of the laminate after curing is enhanced while the hardness of the cured film of the thin film is improved and the adhesion after light resistance test is improved. The mass ratio ((ii) / (i-1)) of the compound (ii) having a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group to the compound (i-1) not to be mixed is preferably 0.05 or more, and more preferably It is preferable that it is 0.1 or more. If the mass ratio is too small, adhesion after the light resistance test may be insufficient.

本発明で用いられる(A)成分は、上述のように1種又は2種以上混合して用いることができる。本発明で用いられる(A)成分の含有量は、その他成分との兼ね合いから適宜選択されれば良く、特に限定されない。本発明で用いられる(A)成分は、光硬化性樹脂組成物の固形分中に30〜98.9質量%含まれることが好ましく、更に、50〜98.5質量%含まれることが好ましい。なおここでの固形分とは、溶剤を除く全ての成分をいい、液状のモノマーも含まれる。また、本発明で用いられる(A)成分は、(A)、(B)、及び(C)成分の合計量に対して80〜98.9質量%含まれることが好ましく、更に、90〜98.5質量%含まれることが好ましい。   The component (A) used in the present invention can be used alone or in combination of two or more as described above. The content of the component (A) used in the present invention may be appropriately selected in consideration of the balance with other components, and is not particularly limited. The component (A) used in the present invention is preferably contained in an amount of 30 to 98.9% by mass, more preferably 50 to 98.5% by mass, in the solid content of the photocurable resin composition. In addition, solid content here means all the components except a solvent, and a liquid monomer is also contained. Moreover, it is preferable that 80-98.9 mass% is contained with respect to the total amount of (A), (B), and (C) component, and (A) component used by this invention is 90-98 preferably. It is preferable that 0.5 mass% be included.

<(C)ラジカル重合開始剤>
本発明において用いられるラジカル重合開始剤は、α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤、及びベンジルケタール系ラジカル重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも1種のラジカル重合開始剤である。
本発明においては、前記特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤(B)に、このような特定のラジカル重合開始剤を組み合わせることにより、前記特定のラジカル重合開始剤の光反応によって生成した電子供与性が高いラジカルによって、前記特定のチアントレン環構造を有する光酸発生剤(B)が還元的に分解されやすくなり、より酸を発生させやすくなり、前述のような本願発明の効果を得ることができると推定される。
<(C) Radical polymerization initiator>
The radical polymerization initiator used in the present invention is at least one selected from the group consisting of an α-hydroxyacetophenone radical polymerization initiator, an acyl phosphine oxide radical polymerization initiator, and a benzyl ketal radical polymerization initiator. It is a radical polymerization initiator.
In the present invention, the photoacid generator (B) having the specific thianthrene ring structure is combined with such a specific radical polymerization initiator to produce an electron generated by the photoreaction of the specific radical polymerization initiator. The photoacid generator (B) having the specific thianthrene ring structure is likely to be reductively decomposed by the radical having high donating ability, thereby more easily generating an acid, and the effect of the present invention as described above can be obtained. It is estimated that

α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤の具体例としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル-プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル-プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−{4−(1−メチルビニル)フェニル}プロパノン]、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−(4−(4−(2−ヒドロキシ−3,5,2−メチルプロピオニル)−ベンジル)−フェニル)−2−メチルプロパン−1−オンなどが挙げられる。   Specific examples of the α-hydroxyacetophenone type radical polymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl ] Phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, oligo [2-hydroxy 2-Methyl-1- {4- (1-methylvinyl) phenyl} propanone], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 2-hydroxy-1- (4- (4) And-(2-hydroxy-3,5,2-methylpropionyl) -benzyl) -phenyl) -2-methylpropan-1-one and the like.

アシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤の具体例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。
また、ベンジルケタール系ラジカル重合開始剤の具体例としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどが挙げられる。
(C)ラジカル重合開始剤としては、単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Specific examples of the acylphosphine oxide radical polymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide and the like. .
Moreover, a 2, 2- dimethoxy- 1, 2- diphenyl ethane 1-one etc. are mentioned as a specific example of a benzyl ketal type radical polymerization initiator.
(C) As a radical polymerization initiator, it can be used individually or in combination of 2 or more types.

本発明で用いられるラジカル重合開始剤としては、中でも酸発生の際の増感作用が高くなり、特にカチオン重合を進行させやすく、さらにラジカル重合開始能も高く、光硬化性に優れるようになる点から、中でも、α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤の少なくとも1種を用いることが好ましい。
中でも、前記ラジカル重合開始剤(C)に、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを少なくとも含むことが、特にカチオン重合を進行させ、酸素の存在によるラジカル重合の阻害が少なく、光硬化性に優れることから、高温高湿環境下での硬化膜の耐久性が高くなる点から好ましい。前記ラジカル重合開始剤(C)に、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを少なくとも含むと、前記光酸発生剤(B)を比較的多く用いた場合で空気中で光照射して光硬化性反応を行う場合など、高温高湿環境下での硬化膜において白化現象が起こり易い状況においても、当該白化現象を抑制することができる。
Among the radical polymerization initiators used in the present invention, the sensitization action during acid generation is particularly high, it is easy to promote cationic polymerization, the radical polymerization initiation ability is also high, and the photocurability is excellent. Among them, it is preferable to use at least one of α-hydroxyacetophenone-based radical polymerization initiators.
Among them, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one may be added to the radical polymerization initiator (C). It is preferable from the viewpoint that the durability of the cured film in a high temperature and high humidity environment becomes high, because at least containing at least the cationic polymerization proceeds, the inhibition of the radical polymerization by the presence of oxygen is small, and the photocurability is excellent. . The radical polymerization initiator (C) is at least 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one. In the case where a relatively large amount of the photoacid generator (B) is used and the photocurable reaction is performed by light irradiation in air, the whitening phenomenon tends to occur in the cured film under a high temperature and high humidity environment. Also in the situation, the whitening phenomenon can be suppressed.

本発明で用いられる(C)成分は、1種又は2種以上混合して用いることができる。
本発明で用いられる(C)成分は、光硬化性樹脂組成物の固形分中に1〜5質量%含まれることが好ましく、更に、1〜3質量%含まれることが好ましい。(C)成分の含有量が下限値よりも少ないと、ラジカル重合性化合物の硬化反応の進行が不十分となって、硬度が低下する恐れがある。一方、(C)成分の含有量が上限値よりも多いと、ラジカル重合反応のみが優先して進行し、カールが顕著となる場合がある。
The (C) component used by this invention can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.
The component (C) used in the present invention is preferably contained in an amount of 1 to 5% by mass, and more preferably 1 to 3% by mass, in the solid content of the photocurable resin composition. If the content of the component (C) is less than the lower limit value, the progress of the curing reaction of the radically polymerizable compound may be insufficient to lower the hardness. On the other hand, when the content of the component (C) is more than the upper limit value, only the radical polymerization reaction preferentially proceeds, and curl may be remarkable.

<その他の成分>
本発明の効果を損なわない範囲内で、必要に応じて他の成分を含有してもよい。例えば、帯電防止剤や防眩剤、防汚剤を含んでなるものが、更に帯電防止性や防眩性、防汚染性を付与できる点から好ましい。更に、硬度を上昇させる点から、シリカ微粒子、樹脂微粒子、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等を混合しても良い。これらの添加剤は、公知の材料を適宜選択して用いることができる。
<Other ingredients>
If necessary, other components may be contained as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, those comprising an antistatic agent, an antiglare agent and an antifouling agent are preferable from the viewpoint of being able to further impart antistatic properties, antiglare properties and antifouling properties. Furthermore, in order to increase the hardness, fine particles of silica, fine particles of resin, reactive or non-reactive leveling agents, various sensitizers, etc. may be mixed. As these additives, known materials can be appropriately selected and used.

本発明の光硬化性樹脂組成物には、更に溶剤を含んでいても良い。溶剤としては、上記成分(A)、成分(B)、成分(C)を溶解する溶剤を適宜選択して用いればよい。例えば、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン系の溶剤が挙げられる。
本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記成分(A)、成分(B)、成分(C)、及び必要に応じて溶剤を、必要に応じて例えば真空下で気泡を排除しつつ、撹拌、混合することにより調製される。撹拌、混合する際の温度は、例えば10〜60℃程度である。撹拌、混合には、公知の装置、例えば、自転公転型ミキサー、1軸又は多軸エクストルーダー、プラネタリーミキサー、ニーダー、ディソルバー等を使用できる。
The photocurable resin composition of the present invention may further contain a solvent. As the solvent, a solvent which dissolves the component (A), the component (B) and the component (C) may be appropriately selected and used. For example, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone may be mentioned.
The photocurable resin composition of the present invention is stirred while the above-mentioned component (A), component (B), component (C), and, if necessary, a solvent are used, for example, while eliminating air bubbles under vacuum. , Prepared by mixing. The temperature at the time of stirring and mixing is, for example, about 10 to 60 ° C. For stirring and mixing, known devices such as, for example, a rotation-revolution type mixer, a single-shaft or multi-shaft extruder, a planetary mixer, a kneader, and a dissolver can be used.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、用いられる用途により、適宜粘度を調整することが好ましい。例えば、薄膜の保護層等の硬化膜として形成するためには、25℃で測定した粘度が0.5〜10mPa・sであることが好ましく、更に1〜5mPa・sであることが好ましい。ここでの粘度は、B型粘度計により測定することができる。   The photocurable resin composition of the present invention is preferably adjusted in viscosity as appropriate depending on the use. For example, in order to form a cured film such as a protective layer of a thin film, the viscosity measured at 25 ° C. is preferably 0.5 to 10 mPa · s, and more preferably 1 to 5 mPa · s. The viscosity here can be measured by a B-type viscometer.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、薄膜の基材上に形成した、薄膜の硬化膜であっても一定の硬度を有し、積層体のカールが抑制される。更に、通常薄膜基材へのコーティングにおいてはラジカル重合反応時の発熱により基材にシワがよって硬化する現象が起きやすいが、本発明の光硬化性樹脂組成物は、カチオン重合が促進され、ラジカル重合の反応が適度な速度となることにより、シワの発生が抑制された硬化膜を得ることができる。更に、本発明の光硬化性樹脂組成物の硬化膜は、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することが抑制される。そのため、中でも、20μm以下の膜厚の保護層形成に適しており、更に10μm以下の膜厚の保護層であっても好適に用いることができる。   Even if it is a cured film of the thin film formed on the base material of a thin film, the photocurable resin composition of this invention has fixed hardness, and the curl of a laminated body is suppressed. Furthermore, in the coating on a thin film substrate, a phenomenon in which wrinkles cure on the substrate due to heat generation during radical polymerization reaction is likely to occur, but the photocurable resin composition of the present invention promotes cationic polymerization and radical By setting the reaction rate of polymerization to an appropriate rate, a cured film in which the generation of wrinkles is suppressed can be obtained. Furthermore, in the cured film of the photocurable resin composition of the present invention, precipitation and precipitation on the surface of the cured film in a high temperature and high humidity environment are suppressed. Therefore, among them, it is suitable for forming a protective layer having a thickness of 20 μm or less, and can be suitably used even for a protective layer having a thickness of 10 μm or less.

[光学フィルム]
本発明に係る光学フィルムは、光透過性基材の一面側に、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層が配置された、光学フィルムである。
図1は、本発明に係る光学フィルムの層構成の一例を模式的に示した断面図である。尚、図1に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向(図の上下方向)の縮尺を幅方向(図の左右方向)の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。
光学フィルム1は、光透過性基材10の一面側に、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層20が設けられている。前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層20は、保護層の他、帯電防止層、防眩層、防汚層等各種機能層として機能する。
[Optical film]
The optical film according to the present invention is an optical film in which a layer containing the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention is disposed on one side of a light transmitting substrate.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the layer configuration of the optical film according to the present invention. In the cross-sectional view shown in FIG. 1, the scale in the thickness direction (vertical direction in the figure) is greatly enlarged and exaggerated than the scale in the lateral direction (horizontal direction in the figure) for ease of explanation. is there.
The optical film 1 is provided with a layer 20 containing a cured product of the photocurable resin composition according to the present invention on one side of the light transmitting substrate 10. The layer 20 containing the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention functions as various functional layers such as an antistatic layer, an antiglare layer, an antifouling layer, as well as a protective layer.

本発明に係る光学フィルムは、光透過性基材の一面側に、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層が配置されていることから、膜厚が薄い光透過性基材に、薄膜の前記硬化物を含む層が形成されていても、一定の硬度を有し、カールが抑制され、シワの発生が抑制された硬化膜が得られ、且つ、高温高湿度環境下で硬化膜表面に析出物が析出して白化することがないことから、薄膜の光学フィルムが得られ、ディスプレイの薄膜化に適している。
以下、本発明の光学フィルムを構成する各層について順に説明する。
The optical film according to the present invention has a thin film thickness since the layer containing the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention is disposed on one side of the light transmitting substrate. Even if a layer containing the cured product of a thin film is formed on a substrate, a cured film having a certain hardness, suppressing curling, and suppressing the occurrence of wrinkles is obtained, and a high temperature and high humidity environment is obtained. Since precipitates do not precipitate on the surface of the cured film and cause whitening, an optical film of a thin film is obtained, which is suitable for thinning of a display.
Hereinafter, each layer which comprises the optical film of this invention is demonstrated in order.

<光透過性基材>
光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、可視光域380〜780nmにおける平均光透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは85%以上である場合が好ましい。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
<Light transmitting base material>
The light transmitting substrate may be transparent, semitransparent, colorless or colored as long as it transmits light, but the average light transmittance in the visible light range of 380 to 780 nm is 50% or more, preferably 70% or more. More preferably, it is 85% or more. In addition, the measurement of light transmittance uses the value measured in room temperature and air | atmosphere using the ultraviolet visible spectrophotometer (For example, Shimadzu Corp. make UV-3100PC).

また、本発明においては、光透過性樹脂基材上に形成しても密着性が良好で、且つ、保護層のカールが抑制されることから、光透過性樹脂基材が好適に用いられる。
本発明においては、光学フィルムが用いられる態様によって、光透過性樹脂基材を選択することが好ましい。例えば、目的とする光学フィルムに光学的等方性が要求される場合は、光透過性樹脂基材として、トリアセテートセルロース(TAC)、ジアセチルセルロース、アセテートプロピオネートセルロース、アセテートブチレートセルロース等のようなセルロースエステル、ポリノルボルネン系透明樹脂の製品名アートン(JSR製)やゼオノア(日本ゼオン製)等のような環状ポリオレフィン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂による易接着処理がされたPET等が用いられることが好ましい。
上記の中でも、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエステルフィルム、及びアクリルフィルムから選ばれる基材フィルムが好ましい。機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に一軸又は二軸延伸加工されたポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)が好ましく、TAC、アクリルは光透過性及び光学的等方性の観点で好適である。
Further, in the present invention, since the adhesion is good even when formed on the light transmitting resin base and curling of the protective layer is suppressed, the light transmitting resin base is preferably used.
In the present invention, it is preferable to select the light transmitting resin substrate depending on the mode in which the optical film is used. For example, in the case where optical isotropy is required for the target optical film, it is possible to use triacetate cellulose (TAC), diacetyl cellulose, acetate propionate cellulose, acetate butyrate cellulose, etc. as the light transmitting resin substrate. Of cellulose ester, polynorbornene type transparent resin product name Artton (made by JSR), cyclic polyolefin such as Zeonor (made by Nippon Zeon), etc., polyester resin, acrylic resin, PET easily treated with polyether resin etc. Preferably it is used.
Among the above, a base film selected from a triacetyl cellulose film, a polyester film, and an acrylic film is preferable. From the viewpoint of mechanical strength and dimensional stability, polyesters (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate) that are drawn, especially uniaxially or biaxially drawn, are preferable, and TAC and acrylic are light transmissive and optically isotropic. It is suitable from the viewpoint.

また、本発明においては、光透過性基材に表面処理(例、鹸化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火炎処理)を実施してもよく、プライマー層(接着剤層)を形成してもよい。   In the present invention, the light-transmitting substrate may be subjected to surface treatment (eg, saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, flame treatment), primer layer (adhesive) Layer) may be formed.

光透過性基材の厚さは、通常、20μm〜200μm程度である。本発明においては、特にカール防止性に優れるようにしたため、光透過性樹脂基材の厚さが薄くてもカール防止性を達成可能になり、20μm以上40μm未満程度の厚さであっても好適に用いることが可能である。   The thickness of the light transmitting substrate is usually about 20 μm to 200 μm. In the present invention, since the anti-curl property is particularly excellent, the anti-curl property can be achieved even if the thickness of the light transmitting resin substrate is thin, and a thickness of about 20 μm or more and less than 40 μm is preferable. It can be used for

<前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層>
光学フィルムにおいて、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層は、通常、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層として形成される。
前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物には、前記光重合性成分(A)の重合物が含まれる。
<Layer Containing Cured Product of Photocurable Resin Composition According to the Present Invention>
In the optical film, the layer containing the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention is usually formed as a layer comprising the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention.
The cured product of the photocurable resin composition according to the present invention contains the polymer of the photopolymerizable component (A).

前記光透過性基材上に、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成する。
塗布方法は、光透過性基材表面に前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
本発明の硬化物は、上記光硬化性樹脂組成物の塗膜に紫外線を照射することにより製造することができる。上記光硬化性樹脂組成物に光を照射すると硬化反応(ラジカル重合反応及びカチオン重合反応)が促進され、硬化物が形成される。
The photocurable resin composition according to the present invention is applied onto the light transmitting substrate to form a coating film.
The application method is not particularly limited as long as it is a method capable of uniformly applying the photocurable resin composition according to the present invention to the surface of the light transmitting substrate, and a spin coating method, a dip method, a spray Various methods such as a method, a slide coating method, a bar coating method, a roll coater method, a meniscus coater method, a flexo printing method, a screen printing method, and a peel coater method can be used.
The hardened | cured material of this invention can be manufactured by irradiating an ultraviolet-ray to the coating film of the said photocurable resin composition. When the photocurable resin composition is irradiated with light, the curing reaction (radical polymerization reaction and cationic polymerization reaction) is promoted to form a cured product.

光照射には、例えば、波長が250〜400nm程度の光を使用し、照射量は、例えば0.1〜100J/cm2程度である。また、光照射後、必要に応じて、例えば50〜200℃程度(好ましくは100〜200℃)の温度で0.5〜5時間程度加熱処理を施してもよい(ポストベーク処理)。ポストベーク処理を行うことにより、重合反応が更に進行し、更に硬度が向上した硬化物を形成することができる。   For light irradiation, for example, light having a wavelength of about 250 to 400 nm is used, and the irradiation amount is, for example, about 0.1 to 100 J / cm 2. After the light irradiation, if necessary, heat treatment may be performed, for example, at a temperature of about 50 to 200 ° C. (preferably 100 to 200 ° C.) for about 0.5 to 5 hours (post-baking treatment). By performing the post-baking treatment, the polymerization reaction further proceeds, and a cured product with further improved hardness can be formed.

上記硬化反応は常圧下で行ってもよく、減圧下又は加圧下で行ってもよい。また、硬化反応の反応雰囲気としては硬化反応を阻害しない限り特に限定されず、例えば、空気雰囲気、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気などの何れであってもよい。   The curing reaction may be carried out under normal pressure, under reduced pressure or under pressure. The reaction atmosphere for the curing reaction is not particularly limited as long as the curing reaction is not inhibited. For example, any of an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, and an argon atmosphere may be used.

本発明に係る前記硬化物を含む層は、薄膜であっても一定の硬度を有し、密着性が良好で、且つ、積層体のカールが抑制されるものであり、中でも、20μm以下の膜厚に適しており、更に10μm以下の膜厚の層としても好適に用いることができる。当該層の膜厚は硬度の点から3μm以上であることが好ましい。   The layer containing the cured product according to the present invention has a certain hardness even if it is a thin film, has good adhesion, and suppresses curling of the laminate, among which a film of 20 μm or less It is suitable for thickness, and can also be suitably used as a layer having a thickness of 10 μm or less. It is preferable that the film thickness of the said layer is 3 micrometers or more from the point of hardness.

前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層においては、付与する機能に応じて、各種添加物を更に添加しても良い。具体的には例えば、帯電防止層の場合には、帯電防止剤、防眩層の場合には防眩剤、防汚層の場合には防汚剤等が挙げられる。   In the layer containing the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention, various additives may be further added according to the function to be imparted. Specifically, examples thereof include an antistatic agent in the case of an antistatic layer, an antiglare agent in the case of an antiglare layer, and an antifouling agent in the case of an antifouling layer.

本発明に係る光学フィルムは、更に、前記本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層とは異なる帯電防止層、防眩層、防汚層、及び反射防止層よりなる群から選択される少なくとも1種の層が配置されていても良い。これらの層は、本発明の効果が損なわれない限り、従来公知の構成を適宜採用することができる。
中でも、ディスプレイ表面における反射を低減する観点からは、光学フィルムはさらに反射防止層を有することが好ましい。この場合、当該光学フィルムは、光透過性基材、本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる保護層、及び反射防止層をこの順に有する構成であり、最表面に反射防止層を有する構成が好ましい。
The optical film according to the present invention further comprises an antistatic layer different from the layer containing the cured product of the photocurable resin composition according to the present invention, an antiglare layer, an antifouling layer, and an antireflective layer. At least one selected layer may be disposed. For these layers, conventionally known constitutions can be appropriately adopted as long as the effects of the present invention are not impaired.
Among them, from the viewpoint of reducing the reflection on the display surface, the optical film preferably further has an antireflective layer. In this case, the optical film has a light transmitting substrate, a protective layer made of a cured product of the photocurable resin composition according to the present invention, and an antireflective layer in this order, and the outermost surface has an antireflective layer. The structure which has is preferable.

反射防止層は、保護層よりも低屈折率の層からなる単層構造でもよい。また、保護層側から順に、高屈折率層と低屈折率層を有し、最表層が低屈折率層であり、かつ各層の厚みdが、d=mλ/4nを満たす多層構造でもよい。ここで、mは正の奇数を表し、nは低屈折率層の屈折率を表し、λは波長を表す。mは好ましくは1である。λは好ましくは450〜700nmであり、より好ましくは500〜600nmである。   The antireflective layer may have a single layer structure composed of a layer having a refractive index lower than that of the protective layer. In addition, it may have a multilayer structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are provided in order from the protective layer side, the outermost layer is a low refractive index layer, and the thickness d of each layer satisfies d = mλ / 4n. Here, m represents a positive odd number, n represents a refractive index of the low refractive index layer, and λ represents a wavelength. m is preferably 1. λ is preferably 450 to 700 nm, more preferably 500 to 600 nm.

低屈折率層及び高屈折率層は、例えば低屈折率微粒子や高屈折率微粒子を用いて、真空蒸着、スパッタリングなどの方法により形成することもできる。低屈折率微粒子としては、例えばSiO(屈折率n=1.45)、MgF(屈折率n=1.38)、LiF(屈折率n=1.36)、NaF(屈折率n=1.33)、CaF(屈折率n=1.44)、3NaF・AlF(屈折率n=1.4)、AlF(屈折率n=1.37)、NaAlF(屈折率n=1.33)などの金属酸化物の微粒子、及び、前記中空粒子などが挙げられる。また高屈折率微粒子としては、Al(屈折率n=1.63)、La(屈折率n=1.95)、ZrO(屈折率n=2.05)、Y(屈折率n=1.87)などの金属酸化物の微粒子が挙げられる。
また、例えば低屈折率層は、上記の低屈折率微粒子、フッ化ビニリデン共重合体やシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体などの含フッ素化合物、1分子中に反応性官能基を2つ以上有する、例えばペンタエリスリトール骨格を有するような含フッ素モノマーを好ましく含む硬化性樹脂組成物を用いて形成してもよい。
The low refractive index layer and the high refractive index layer can also be formed by vacuum evaporation, sputtering, or the like using, for example, low refractive index particles or high refractive index particles. As low refractive index fine particles, for example, SiO 2 (refractive index n = 1.45), MgF 2 (refractive index n = 1.38), LiF (refractive index n = 1.36), NaF (refractive index n = 1) .33), CaF 2 (refractive index n = 1.44), 3NaF · AlF 3 (refractive index n = 1.4), AlF 3 (refractive index n = 1.37), Na 3 AlF 6 (refractive index n And fine particles of metal oxides such as = 1.33), and the above-mentioned hollow particles. Moreover, as high refractive index fine particles, Al 2 O 3 (refractive index n = 1.63), La 2 O 3 (refractive index n = 1.95), ZrO 2 (refractive index n = 2.05), Y 2 Fine particles of metal oxides such as O 3 (refractive index n = 1.87) can be mentioned.
Also, for example, the low refractive index layer has two or more reactive functional groups in one molecule, fluorine-containing compounds such as the above-mentioned low refractive index fine particles, vinylidene fluoride copolymer, silicone-containing vinylidene fluoride copolymer, etc. For example, it may be formed using a curable resin composition which preferably contains a fluorine-containing monomer having a pentaerythritol skeleton.

以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
なお、重量平均分子量はGPCにより標準ポリスチレン換算値として求めた。測定は、東ソー(株)製のHLC−8220GPCを用い、THFを溶離液として、測定カラムとして東ソー(株)製TSKgel SuperHZM−Mを用いて行った。
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. These descriptions do not limit the present invention.
The weight average molecular weight was determined by GPC as a standard polystyrene equivalent value. The measurement was performed using HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corp., using THF as an eluent and TSKgel Super HZM-M manufactured by Tosoh Corp. as a measurement column.

(合成例1)
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートのホモポリマーの合成)
窒素導入口、撹拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた4つ口フラスコに、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート48部、メチルイソブチルケトン(MIBK)50部、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.48部、ドデシルメルカプタン0.49部を入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながら85℃に加熱して3時間反応を行った。得られたポリ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート)溶液の不揮発分は50%であり、当該ポリ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート)は重量平均分子量が15000であった。
Synthesis Example 1
(Synthesis of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate homopolymer)
In a four-necked flask equipped with a nitrogen inlet, a stirrer, a condenser and a thermometer, 48 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, 50 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK), 0 azobisisobutyronitrile (AIBN) .48 parts and 0.49 parts of dodecyl mercaptan were added, and the mixture was heated to 85 ° C. with stirring under a nitrogen atmosphere and reacted for 3 hours. The non-volatile content of the resulting poly (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate) solution was 50%, and the poly (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate) had a weight average molecular weight of 15,000.

(合成例2)
窒素導入口、撹拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた4つ口フラスコに、グリシジルメタクリレート48部、メチルエチルケトン70部、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.48部、ドデシルメルカプタン0.49部を入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながら75℃に加熱して5時間反応を行った。その後、反応系を50℃まで冷却した後、窒素導入管を空気導入管につけ替え、メタクリル酸9.7部、メトキノン0.1部及びトリフェニルフォスフィン0.2部を仕込み混合した後、空気をバブリングし、75℃に加熱して10時間反応を行った。冷却して不揮発分が35%となるようにメチルエチルケトンを加え、エポキシ基及びメタクリロイル基含有ポリマー溶液を調製した。当該エポキシ基及びメタクリロイル基含有ポリマーの重量平均分子量は、25000であり、エポキシ基/メタクリロイル基のモル比は、67/33であった。
(Composition example 2)
In a 4-neck flask equipped with a nitrogen inlet, stirrer, condenser and thermometer, 48 parts of glycidyl methacrylate, 70 parts of methyl ethyl ketone, 0.48 parts of azobisisobutyronitrile (AIBN), 0.49 parts of dodecyl mercaptan The reaction was carried out for 5 hours by heating to 75 ° C. while stirring under a nitrogen atmosphere. Thereafter, the reaction system is cooled to 50 ° C., the nitrogen introducing pipe is replaced with an air introducing pipe, 9.7 parts of methacrylic acid, 0.1 part of methoquinone and 0.2 parts of triphenylphosphine are charged and mixed, and then air The reaction mixture was heated to 75.degree. C. and reacted for 10 hours. The methyl ethyl ketone was added so that the non-volatile content became 35% by cooling, and an epoxy group- and methacryloyl group-containing polymer solution was prepared. The weight average molecular weight of the epoxy group- and methacryloyl group-containing polymer was 25,000, and the molar ratio of epoxy group / methacryloyl group was 67/33.

(実施例1)
(1)光硬化性樹脂組成物の調製
下記に示す組成の光硬化性樹脂組成物を調製した。
<光硬化性樹脂組成物1>
・カチオン重合性化合物(多官能エポキシ、EHPE3150、ダイセル製):10質量部
・ラジカル重合性化合物(多官能アクリレート(2)、商品名アロニックスM−403、東亞合成製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート/ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(水酸基含有)混合物、主成分はジペンタエリスリトールペンタアクリレート):45質量部
・ラジカル重合性化合物(多官能アクリレート(3)、商品名KAYARAD PET−30、日本化薬(株)製、ペンタエリスリトールトリアクリレート(水酸基含有)/ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物):45質量部
・ラジカル重合開始剤(α−ヒドロキシアセトフェノン系(1)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア184、BASF製):4質量部
・光酸発生剤(前記一般式(1)で表される光酸発生剤(1)、下記化学式(B)で表される光酸発生剤、商品名 Esacure1187、Lamberti製、有効成分75質量%プロピレンカーボネート溶液):1.33質量部
・レベリング剤:メガファックF477:0.1質量部
・溶剤:メチルエチルケトン:75質量部
・溶剤:メチルイソブチルケトン:75質量部
Example 1
(1) Preparation of photocurable resin composition The photocurable resin composition of the composition shown below was prepared.
<Photocurable resin composition 1>
· Cationic polymerizable compound (polyfunctional epoxy, EHPE 3150, manufactured by Daicel): 10 parts by mass · Radical polymerizable compound (polyfunctional acrylate (2), trade name Aronix M-403, manufactured by Toagosei, dipentaerythritol hexaacrylate / di Pentaerythritol pentaacrylate (containing hydroxyl group) mixture, main component is dipentaerythritol pentaacrylate: 45 parts by mass Radically polymerizable compound (polyfunctional acrylate (3), trade name KAYARAD PET-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , Pentaerythritol triacrylate (hydroxyl group-containing / pentaerythritol tetraacrylate mixture): 45 parts by mass · Radical polymerization initiator (α-hydroxyacetophenone type (1), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, trade name: IL Gacure 184, manufactured by BASF: 4 parts by mass Photoacid generator (photoacid generator (1) represented by the above general formula (1), photoacid generator represented by the following chemical formula (B), trade name Esacure 1187, manufactured by Lamberti, active ingredient 75% by mass propylene carbonate solution): 1.33 parts by mass, leveling agent: Megafac F 477: 0.1 parts by mass, solvent: methyl ethyl ketone: 75 parts by mass, solvent: methyl isobutyl ketone: 75 parts Department

(2)光学フィルムの製造
光透過性基材として、25μmセルローストリアセテートフィルム(富士写真フィルム(株)製)を用い、当該基材上に、光硬化性樹脂組成物1を硬化後の膜厚が6μmとなるように塗布した。70℃にて60秒乾燥し、窒素雰囲気下で、紫外線150mJ/cmを照射して光学フィルムを製造した。
(2) Production of Optical Film A 25 μm cellulose triacetate film (Fuji Photo Film Co., Ltd.) is used as a light transmitting substrate, and the film thickness after curing of the photocurable resin composition 1 is on the substrate It applied so that it might be set to 6 micrometers. It was dried at 70 ° C. for 60 seconds, and was irradiated with ultraviolet light 150 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere to produce an optical film.

(実施例2〜17、比較例1〜8)
(1)光硬化性樹脂組成物の調製
下記表1に示す組成の実施例2〜17の光硬化性樹脂組成物、及び比較例1〜8の光硬化性樹脂組成物を調製した。
実施例1で用いられた化合物以外の表1中の略称は以下のとおりである。なお、表1中のカチオン重合性化合物、カチオン重合性−ラジカル重合性化合物、光酸発生剤量は、有効成分量を記載している。
(Examples 2 to 17 and Comparative Examples 1 to 8)
(1) Preparation of Photocurable Resin Composition The photocurable resin compositions of Examples 2 to 17 of the compositions shown in the following Table 1 and the photocurable resin compositions of Comparative Examples 1 to 8 were prepared.
Abbreviations in Table 1 other than the compounds used in Example 1 are as follows. In addition, the amount of the cationically polymerizable compound, the cationically polymerizable radically polymerizable compound, and the photoacid generator in Table 1 describes the amount of the active ingredient.

・カチオン重合性化合物(エポキシ基含有ポリマー(1)、マープルーフG−01100(グリシジルメタクリレートユニット含有ポリマー)、日油製)
・カチオン重合性化合物(エポキシ基含有ポリマー(2)、合成例1のポリ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート))
・カチオン重合性ラジカル重合性化合物(エポキシ基及びメタクリロイル基含有ポリマー、合成例2のポリマー)
・カチオン重合性ラジカル重合性化合物(オキセタニル基含有(メタ)アクリレート、(3−エチルオキセタン−3−イル)メチルメタクリレート、大阪有機化学工業製)
・ラジカル重合性化合物(多官能アクリレート(1)、商品名アロニックスM−405、東亞合成製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート/ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(水酸基含有)混合物、主成分はジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
・光酸発生剤(前記一般式(1)で表される光酸発生剤(2)、下記化学式(C)で表される光酸発生剤、WO2005−116038号明細書、及び特表2005−146001号公報に記載の方法に従って合成した。)
・スルホニウム塩系光酸発生剤(1)(商品名CPI−100P、サンアプロ製、有効成分50質量%プロピレンカーボネート溶液)
・スルホニウム塩系光酸発生剤(2)(ビス(ジフェニルスルホニオ)スルフィド、ビス(ヘキサフルオロホスフェイト)と[(フェニルチオ)フェニル]ジフェニルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェイトの混合物、商品名AT−6992、ACETO製、有効成分42質量%プロピレンカーボネート溶液)
・ヨードニウム塩系光酸発生剤(ヨードニウム、(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]−ヘキサフルオロフォスフェート(1−)、)商品名Irg250、BASF製、有効成分75質量%プロピレンカーボネート溶液)
・ラジカル重合開始剤(α−ヒドロキシアセトフェノン系(2)、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル-プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル-プロパン−1−オン、商品名イルガキュア127、BASF製)
・ラジカル重合開始剤(α−ヒドロキシアセトフェノン系(3)、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、商品名イルガキュア2959、BASF製)
・ラジカル重合開始剤(α−ヒドロキシアセトフェノン系(4)、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−{4−(1−メチルビニル)フェニル}プロパノン]、商品名Esacure One、Lamberti製、)
・ラジカル重合開始剤(アシルフォスフィンオキサイド系、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、商品名Lucirin TPO、BASF製)
・ラジカル重合開始剤(ベンジルケタール系、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、商品名イルガキュア651、BASF製)
・ラジカル重合開始剤(α−アミノアルキルフェノン系、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、商品名イルガキュア907、BASF製)
・増感剤(2,4−ジエチルチオキサントン 商品名:KAYACURE DETX−S、日本化薬製)
・ Cationically polymerizable compound (epoxy group-containing polymer (1), merproof G-01100 (glycidyl methacrylate unit-containing polymer), manufactured by NOF Corporation)
・ Cationically polymerizable compound (epoxy group-containing polymer (2), poly (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate) of Synthesis Example 1)
・ Cationically polymerizable radically polymerizable compound (epoxy group and methacryloyl group-containing polymer, polymer of Synthesis Example 2)
・ Cationically polymerizable radically polymerizable compound (oxetanyl group-containing (meth) acrylate, (3-ethyl oxetan-3-yl) methyl methacrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
Radically polymerizable compound (polyfunctional acrylate (1), trade name: Alonix M-405, manufactured by Toagosei, dipentaerythritol hexaacrylate / dipentaerythritol pentaacrylate (containing hydroxyl group) mixture, main component is dipentaerythritol hexaacrylate)
· Photoacid generators (photoacid generators (2) represented by the above general formula (1), photoacid generators represented by the following chemical formula (C), specification of WO 2005-116038, and JP 2005- It synthesize | combined according to the method as described in 146001 gazette.)
-Sulfonium salt-based photoacid generator (1) (trade name CPI-100P, manufactured by San Apro, 50 mass% propylene carbonate solution of active ingredient)
· Sulfonium salt-based photoacid generator (2) (bis (diphenylsulfonio) sulfide, a mixture of bis (hexafluorophosphate) and [(phenylthio) phenyl] diphenylsulfonium hexafluorophosphate, trade name AT-6992 Manufactured by ACETO, 42 mass% propylene carbonate solution of active ingredient)
-Iodonium salt photoacid generator (iodonium, (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] hexafluorophosphate (1-),) trade name Irg 250, manufactured by BASF, 75 mass of active ingredient % Propylene carbonate solution)
・ Radical polymerization initiator (α-hydroxyacetophenone type (2), 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propane- 1-ON, trade name Irgacure 127, manufactured by BASF
· Radical polymerization initiator (α-hydroxyacetophenone type (3), 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, trade name Irgacure 2959 , Made by BASF)
Radical polymerization initiator (α-hydroxyacetophenone type (4), oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- {4- (1-methylvinyl) phenyl} propanone], trade name Esacure One, manufactured by Lamberti)
Radical polymerization initiator (acyl phosphine oxide, 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, trade name Lucirin TPO, manufactured by BASF)
Radical polymerization initiators (benzyl ketals, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, trade name Irgacure 651, manufactured by BASF)
・ Radical polymerization initiator (α-aminoalkylphenone type, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, trade name Irgacure 907, manufactured by BASF)
Sensitizer (2,4-diethylthioxanthone Product name: KAYACURE DETX-S, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

(2)光学フィルムの製造
実施例1の光学フィルムの製造において、実施例1の光硬化性樹脂組成物を、それぞれ実施例2〜17の光硬化性樹脂組成物、及び比較例1〜8の光硬化性樹脂組成物に変更した以外は、実施例1と同様にして光学フィルムを製造した。
(2) Production of Optical Film In the production of the optical film of Example 1, the photocurable resin composition of Example 1 was compared with the photocurable resin compositions of Examples 2 to 17 and Comparative Examples 1 to 8, respectively An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable resin composition was changed.

[評価方法]
実施例1〜17及び比較例1〜8の光学フィルムについて、カール幅、鉛筆硬度、着色、高温高湿度環境下の白化に関して、評価を行った。また、実施例1〜17及び比較例1〜8の光硬化性樹脂組成物について、貯蔵安定性の評価を行った。実施例1〜17及び比較例1〜8について結果を表2に示す。
(1)カール幅
作製した光学フィルムを100mm×100mmに切り出した後、保護層表面を上にして水平な場所に置き、フィルムの両端の距離を定規で計測した。カール幅は光学フィルムを作製1日後に測定した。
保護層塗工面側に反った場合(正カール)には未表示とし、基材面側に反った場合(逆カール)に「(逆)」と表示した。
<評価基準>
評価○: 70mm以上
評価△: 50mm以上〜70mm未満
評価×: 50mm未満
[Evaluation method]
The optical films of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 8 were evaluated for curl width, pencil hardness, coloring, and whitening in a high temperature and high humidity environment. Moreover, the storage stability was evaluated about the photocurable resin composition of Examples 1-17 and Comparative Examples 1-8. The results for Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 8 are shown in Table 2.
(1) Curl Width The produced optical film was cut out to 100 mm × 100 mm, placed on a horizontal place with the protective layer surface up, and the distance between both ends of the film was measured by a ruler. The curl width was measured one day after preparation of the optical film.
When it was warped to the protective layer coated side (normal curl), it was not displayed, and when it was warped to the substrate side (reverse curl), it was displayed as "(reverse)".
<Evaluation criteria>
Evaluation ○: 70 mm or more Evaluation △: 50 mm or more and less than 70 mm Evaluation ×: less than 50 mm

(2)鉛筆硬度
作製した光学フィルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、硬度の評価は、JIS K5600−5−4に準拠する鉛筆硬度試験により実施した。
(2) Pencil Hardness The prepared optical film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then the hardness was evaluated by a pencil hardness test in accordance with JIS K5600-5-4.

(3)着色評価
作製した光学フィルムを分光器(島津製作所製「UVPC2450」を用いて、5か所のb*を透過法で測定し、その平均値から判断した。
<評価基準>
評価○: b*の平均値が0.7以下
評価×: b*の平均値が0.7を超える
(3) Coloring Evaluation The prepared optical film was measured for b * at five locations by a transmission method using a spectroscope (“UVPC2450” manufactured by Shimadzu Corporation), and the value was determined from the average value.
<Evaluation criteria>
Evaluation ○: The average value of b * is 0.7 or less ×: The average value of b * exceeds 0.7

(4)高温高湿度環境下の白化
作製した光学フィルムを高温高湿度環境下(80℃、湿度90%)で24時間放置後に、保護層表面を目視して、表面に析出物が析出して白化しているか否か評価した。
<評価基準>
評価○: 保護層表面に析出物が析出しておらず、白化していない
評価×: 保護層表面に析出物が析出しており、白化している
(4) Whitening under high temperature and high humidity environment After leaving the produced optical film for 24 hours under high temperature and high humidity environment (80 ° C., 90% humidity), the surface of the protective layer is visually observed to precipitate precipitates on the surface It was evaluated whether it was whitening or not.
<Evaluation criteria>
Evaluation ○: No precipitates deposited on the surface of the protective layer and not whitening Evaluation ×: Deposits deposited on the surface of the protective layer and whitened

(5)組成物の貯蔵安定性評価
光硬化性樹脂組成物を調製直後と40℃で7日保存後の粘度を25℃で測定し、増粘の程度で貯蔵安定性を判断した。粘度上昇の割合が小さいほど、組成物の貯蔵安定性がよい。
<評価基準>
評価○: 粘度変化が1.3倍未満
評価×: 粘度変化が1.3倍以上
(5) Evaluation of storage stability of the composition The viscosities of the photocurable resin composition immediately after preparation and after storage at 40 ° C for 7 days were measured at 25 ° C, and storage stability was judged from the degree of thickening. The smaller the rate of viscosity increase, the better the storage stability of the composition.
<Evaluation criteria>
Evaluation ○: Viscosity change is less than 1.3 times Evaluation ×: Viscosity change is 1.3 times or more

(結果のまとめ)
本発明の(B)前記一般式(1)又は一般式(1’)で表される光酸発生剤と、(C)α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤、及びベンジルケタール系ラジカル重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも1種のラジカル重合開始剤とを組み合わせて含有する光硬化性樹脂組成物は、毒性の高いアンチモンを含まず、光硬化性が良好で、カールが抑制され、高温高湿環境下での硬化膜表面の白化が抑制され、黄色みが少ない硬化物が得られることが明らかにされた。
それに対して、スルホニウム系光酸発生剤と、α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤とを組み合わせて含有する比較例3及び比較例6の光硬化性樹脂組成物では、高温高湿度環境下で硬化膜表面に白い析出物が見られ白化することが明らかにされた。
スルホニウム塩系光酸発生剤を用い、有効成分量を低減した比較例7の光硬化性樹脂組成物では、窒素雰囲気下で紫外線照射を行い光学フィルムを作製したため、高温高湿度環境下での硬化膜表面の白化は抑制されたが、カールは悪化した。
また、ヨードニウム系光酸発生剤とアシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤とを組み合わせて含有する比較例4及び比較例5の光硬化性樹脂組成物では、高温高湿度環境下で硬化膜表面に白い析出物が見られ白化することが明らかにされた。更に、比較例4及び比較例5の光硬化性樹脂組成物は、貯蔵安定性も劣ることが明らかにされた。また、比較例4に更に増感剤を加えた比較例5の光硬化性樹脂組成物では、カールは抑制されたものの、着色した硬化物となった。
更に、本発明で用いられる(B)前記一般式(1)又は一般式(1’)で表される光酸発生剤に、本発明とは異なるα−アミノアルキルフェノン系ラジカル重合開始剤を組み合わせた比較例8の光硬化性樹脂組成物では、カールが著しく悪化した。
また、比較例1及び2により、高温高湿度環境下で硬化膜表面に白い析出物が見られる白化現象は、ラジカル重合性化合物のみを用いた場合や、カチオン重合性化合物のみを用いた場合には、見られなかった。
(Summary of results)
The photoacid generator represented by (B) the general formula (1) or the general formula (1 ′) of the present invention, (C) α-hydroxyacetophenone type radical polymerization initiator, acylphosphine oxide type radical polymerization initiation A photocurable resin composition containing a combination of at least one radical polymerization initiator selected from the group consisting of a curing agent and a benzyl ketal radical polymerization initiator does not contain highly toxic antimony, and is photocurable It was revealed that the curling is suppressed, the whitening of the surface of the cured film in a high temperature and high humidity environment is suppressed, and a cured product with less yellowing is obtained.
On the other hand, the photocurable resin compositions of Comparative Example 3 and Comparative Example 6, which contain a sulfonium-based photoacid generator and an α-hydroxyacetophenone-based radical polymerization initiator in combination, cure in a high temperature and high humidity environment. It was revealed that white precipitates were observed on the surface of the membrane and were whitened.
In the photocurable resin composition of Comparative Example 7 in which the amount of the active ingredient was reduced using a sulfonium salt-based photoacid generator, ultraviolet light was irradiated in a nitrogen atmosphere to produce an optical film, so curing under a high temperature and high humidity environment Although the whitening of the film surface was suppressed, the curl was aggravated.
The photocurable resin compositions of Comparative Example 4 and Comparative Example 5 containing an iodonium-based photoacid generator and an acylphosphine oxide-based radical polymerization initiator in combination have a cured film surface under high temperature and high humidity conditions. It was revealed that a white precipitate was seen and whitened. Furthermore, it was revealed that the photocurable resin compositions of Comparative Example 4 and Comparative Example 5 were inferior in storage stability. Moreover, in the photocurable resin composition of Comparative Example 5 in which a sensitizer was further added to Comparative Example 4, although curling was suppressed, a colored cured product was obtained.
Furthermore, the photoacid generator represented by the general formula (1) or the general formula (1 ′) used in the present invention is combined with an α-aminoalkylphenone-based radical polymerization initiator different from the present invention. In the photocurable resin composition of Comparative Example 8, the curl was significantly deteriorated.
Further, according to Comparative Examples 1 and 2, the whitening phenomenon in which white precipitates are observed on the surface of the cured film under a high temperature and high humidity environment is observed when only the radically polymerizable compound is used or when only the cationically polymerizable compound is used. Was not seen.

(実施例18)
光透過性基材として、25μmセルローストリアセテートフィルム(富士写真フィルム(株)製)を用い、当該基材上に、実施例3で得た光硬化性樹脂組成物3を硬化後の膜厚が6μmとなるように塗布した。70℃にて60秒乾燥し、空気中で、紫外線150mJ/cm2を照射して、光透過性基材の一面側に、前記光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層(保護層)が配置された光学フィルムを製造した。
(Example 18)
A 25 μm cellulose triacetate film (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is used as a light transmitting substrate, and the film thickness after curing of the photocurable resin composition 3 obtained in Example 3 is 6 μm on the substrate. It applied so that it might become. The layer is dried at 70 ° C. for 60 seconds, irradiated with ultraviolet light 150 mJ / cm 2 in air, and a layer (protective layer) containing the cured product of the photocurable resin composition on one side of the light transmitting substrate A placed optical film was produced.

(比較例9)
実施例18の光学フィルムの製造において、光硬化性樹脂組成物を、比較例7で得た比較光硬化性樹脂組成物7に変更した以外は、実施例18と同様にして光学フィルムを製造した。
(Comparative example 9)
An optical film was produced in the same manner as in Example 18 except that in the production of the optical film of Example 18, the photocurable resin composition was changed to the comparative photocurable resin composition 7 obtained in Comparative Example 7. .

[評価]
実施例18及び比較例9の光学フィルムについて、実施例1と同様にして高温高湿度環境下の白化評価を行った。
[評価結果]
実施例3の光硬化性樹脂組成物を用いた実施例18では、空気中で紫外線照射を行って光学フィルムを作製しても、実施例3と同様に保護層表面に析出物が析出せず、白化しなかった。それに対し、窒素雰囲気下で紫外線照射を行った比較例7の光学フィルムでは白化しなかったが、同じ比較例7の硬化性樹脂組成物を用いて空気中で紫外線照射を行った比較例9では、保護層表面に析出物が析出して、白化した。
スルホニウム塩系の光酸発生剤を用いた場合、有効成分量を低減して窒素雰囲気下で紫外線照射を行い光学フィルムを作製すると、高温高湿度環境下の白化は抑制されたが(但し、カールは悪化)、同様に有効成分量を低減しても空気中で紫外線照射を行い光学フィルムを作製すると、高温高湿度環境下で白化することが明らかにされた。それに対して、本発明で用いられる式(1)で表される光酸発生剤を用いると、当該比較例と同じ有効成分量で空気中で紫外線照射を行い光学フィルムを作製しても、高温高湿度環境下で白化が抑制されることが明らかにされた。
[Evaluation]
With respect to the optical films of Example 18 and Comparative Example 9, the whitening evaluation in a high temperature and high humidity environment was performed in the same manner as in Example 1.
[Evaluation results]
In Example 18 in which the photocurable resin composition of Example 3 was used, even when ultraviolet light was irradiated in the air to produce an optical film, the precipitates were not deposited on the surface of the protective layer as in Example 3. , Did not whiten. On the other hand, in the optical film of Comparative Example 7 in which ultraviolet irradiation was performed in a nitrogen atmosphere, whitening did not occur, but in Comparative Example 9 in which ultraviolet irradiation was performed in air using the same curable resin composition of Comparative Example 7 Precipitates were deposited on the surface of the protective layer to cause whitening.
When a sulfonium salt photoacid generator is used, when the optical film is produced by reducing the amount of the active ingredient and irradiating ultraviolet light in a nitrogen atmosphere, whitening in a high temperature and high humidity environment is suppressed (however, curling occurs Similarly, when the amount of the active ingredient was reduced and ultraviolet light was irradiated in air to produce an optical film, it was revealed that whitening occurs in a high temperature and high humidity environment. On the other hand, when the photoacid generator represented by the formula (1) used in the present invention is used, even if the ultraviolet irradiation is performed in the air with the same amount of the active ingredient as the comparative example to produce an optical film, It has been clarified that whitening is suppressed under high humidity environment.

1 光学フィルム
10 光透過性基材
20 本発明に係る光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層
1 optical film 10 light transmitting substrate 20 layer containing cured product of photocurable resin composition according to the present invention

Claims (6)

下記(A)、(B)、及び(C)を含有する、光硬化性樹脂組成物。
(A)下記(i)及び(ii)の少なくとも1種である光重合性成分であり、下記(i)及び(ii)の少なくとも1種として、分子中に水酸基とラジカル重合性基を少なくとも有する化合物を含む
(i)カチオン重合性基を有する化合物、及び、ラジカル重合性基を有する化合物
(ii)カチオン重合性基及びラジカル重合性基を有する化合物
(B)下記一般式(1)又は一般式(1’)で表される光酸発生剤
(C)α−ヒドロキシアセトフェノン系ラジカル重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系ラジカル重合開始剤、及びベンジルケタール系ラジカル重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも1種のラジカル重合開始剤
(一般式(1)及び一般式(1’)中、R、R、及びRは各々独立に、置換基を表す。複数のR、R、又はRは、各々、同一であっても異なっていても良く、また、互いに結合して環状構造を形成していても良く、当該環状構造はヘテロ原子の結合を含んでいても良い。
は、[P(R)6−aであり、Rは水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、a=0〜6である。a個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
Aは、n価の化学構造であり、括弧内の構造をn個連結している。nは2以上の整数である。n個のX、(Rp’、(Rq’、及び(Rr’は各々、同一であっても異なっていても良い。
p、q、p’、及びq’は各々独立に、0〜4の整数である。
rは0〜5の整数であり、r’は0〜4の整数である。)
The photocurable resin composition containing following (A), (B), and (C).
(A) A photopolymerizable component which is at least one of the following (i) and (ii), and has at least a hydroxyl group and a radically polymerizable group in the molecule as at least one of the following (i) and (ii) Compound (i) Compound Having a Cationic Polymerizable Group, and Compound Having a Radical Polymerizable Group (ii) Compound Having a Cationic Polymerizable Group and a Radical Polymerizable Group (B) The Following Formula (1) or Formula Photoacid generator (C) represented by (1 ′) is selected from the group consisting of α-hydroxyacetophenone type radical polymerization initiator, acyl phosphine oxide type radical polymerization initiator, and benzyl ketal type radical polymerization initiator At least one radical polymerization initiator
(In the general formula (1) and the general formula (1 ′), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituent. A plurality of R 1 , R 2 or R 3 are each identical) Or may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure may contain a hetero atom bond.
X - is, [P (R f) a F 6-a] - a and, R f represents an alkyl group in which at least 80% of the hydrogen atoms are substituted by fluorine atoms, is a = Less than six. The a number of Rf may be the same or different.
A is a chemical structure of n value, and n structures in parentheses are linked. n is an integer of 2 or more. Each of n pieces of X , (R 1 ) p ′ , (R 2 ) q ′ and (R 3 ) r ′ may be the same or different.
p, q, p 'and q' are each independently an integer of 0-4.
r is an integer of 0-5, r 'is an integer of 0-4. )
前記光重合性成分(A)の合計質量に対して、前記光酸発生剤(B)中のアニオンの含有量が3マイクロモル/g〜50マイクロモル/gである、請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。   The content of the anion in the said photo-acid generator (B) is 3 micromol / g-50 micromol / g with respect to the total mass of the said photopolymerizable component (A). Photocurable resin composition. 前記光重合性成分(A)合計量中に、分子中にラジカル重合性基を有し、カチオン重合性基を有しない化合物が50質量%以上97質量%以下含まれる、請求項1又は2に記載の光硬化性樹脂組成物。   The compound having a radically polymerizable group in the molecule and not having a cationically polymerizable group is contained in an amount of 50% by mass or more and 97% by mass or less in the total amount of the photopolymerizable component (A). The photocurable resin composition as described. 前記ラジカル重合開始剤(C)に、2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを少なくとも含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物。 The radical polymerization initiator (C) is at least 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one. The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 3 , comprising. 請求項1〜のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 4 . 光透過性基材の一面側に、請求項1〜のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層が配置された、光学フィルム。 The optical film by which the layer containing the hardened | cured material of the photocurable resin composition of any one of Claims 1-4 is arrange | positioned at one surface side of a transparent substrate.
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