JP6506446B2 - Thin film forming apparatus and thin film forming method - Google Patents

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Description

本発明は、インクジェット方式の薄膜形成装置および薄膜形成方法に関する。   The present invention relates to an inkjet thin film forming apparatus and a thin film forming method.

インクジェット方式とは、塗布ヘッドとしての気泡または圧電素子を利用したインクジェット塗布ヘッドから塗布材料としてのインク液滴を少量ずつ高精度に吐出する方式である。このインク液滴の高精度な吐出によって塗布対象とする部材にインク液滴を塗布する処理を装置化したものが、インクジェット塗布装置である。これは、インクの高精細な塗布を実現できる装置として近年注目されており、紙への印刷に限らず、あらゆる産業分野でその適用可能性が探られており、既に実用化されているものもある。   The ink jet method is a method of discharging ink droplets as a coating material little by little with high accuracy from an ink jet coating head using a bubble as a coating head or a piezoelectric element. An inkjet coating apparatus is a system in which the processing for applying the ink droplets to the member to be coated by the highly accurate discharge of the ink droplets is realized. This has attracted attention in recent years as a device capable of achieving high-definition application of ink, and is not limited to printing on paper, and its applicability has been explored in all industrial fields, and some that have already been put to practical use is there.

塗布ヘッドの下面先端には、複数のノズルが所定のピッチで設けられ、このノズルのピッチによって塗布材料である液滴の吐出間隔が決まる。このノズルのピッチは小さく、ノズルごとに吐出の有無を個別に管理できることから、フレキソ印刷法のような版型を不要として、平面内の自由な形状の塗布が可能となる。   At the lower end of the coating head, a plurality of nozzles are provided at a predetermined pitch, and the pitch of the nozzles determines the discharge interval of droplets as the coating material. Since the pitch of the nozzles is small, and the presence or absence of discharge can be individually controlled for each nozzle, it becomes possible to apply a free shape in a plane without requiring a plate type such as the flexographic printing method.

一方で、ノズルから液滴の吐出が可能なように塗布材料の粘度が調整されることから、吐出された後の基板上で塗布材料の濡れ広がりが発生する。このため、液滴の1滴と隣りの液滴の1滴とが作る面形状の安定性が問題となり、特に面形状の最外周でのライン形状は製作物の品質に大きく影響する。   On the other hand, since the viscosity of the coating material is adjusted so that droplets can be discharged from the nozzle, wetting and spreading of the coating material occurs on the substrate after the discharge. For this reason, the stability of the surface shape formed by one droplet and one adjacent droplet is a problem, and in particular, the line shape at the outermost periphery of the surface shape greatly affects the quality of the manufactured product.

例えば、特許文献1は、インクジェットヘッドにより配向膜材料を吐出して基板上に付着させるものである。乾燥固化させて配向膜を形成する方法において、インクジェットでの吐出に適した粘度とするための配向膜材料に添加する表面張力調整の溶剤や、脱気溶剤が示されている。これは、インクジェットの吐出動作と吐出後の基板上でのレベリング性を向上しようとするものであり、乾燥固化については別工程として次の乾燥させる装置に移されるものである(非特許文献1参照)。   For example, in Patent Document 1, an alignment film material is discharged by an ink jet head to be attached on a substrate. In the method of drying and solidifying to form an alignment film, a solvent for adjusting surface tension and a degassing solvent to be added to the alignment film material for achieving a viscosity suitable for ejection by ink jet are shown. This is intended to improve the discharge operation of the ink jet and the leveling property on the substrate after the discharge, and the drying and solidification are transferred to the next drying apparatus as a separate step (see Non-Patent Document 1). ).

特許第3073493号公報Patent No. 3073493 gazette

岩井善弘・越石健司著、「液晶・PDP・有機EL徹底比較」、初版、株式会社工業調査会、2004年7月、p. 50―58Yoshihiro Iwai and Kenji Koishi, "Comprehensive Comparison of Liquid Crystal, PDP and Organic EL", First Edition, Industrial Research Institute, Inc., July 2004, p. 50-58

これまで、インクジェット方式の塗布における高い塗布位置精度や膜厚の均一性を求める上では、主に、目標とする塗布間隔と塗布ヘッドのノズルピッチとの相対的な位置関係が着目されていた。
しかしながら、インクジェット方式の塗布を様々な分野で活用していく上では、塗布する時点の動作に加えて、塗布した直後から乾燥して基板上に固着するまでをいかに管理するかも重要である。
Heretofore, in order to obtain high application position accuracy and film thickness uniformity in the application of the inkjet method, attention has mainly been focused on the relative positional relationship between the target application interval and the nozzle pitch of the application head.
However, in addition to the operation at the time of application, it is also important how to control from drying immediately after application to adhesion to the substrate in order to utilize the application of the ink jet system in various fields.

特に、液晶ガラス基板の製造に適用した事例では、基板の大型化が進むにつれ、どのような固着状態となるかが極めて重要となる。このため、インクジェット方式により位置を管理して塗布し、管理された位置を保持できるよう速やかに乾燥させることが望ましい。
しかしながら、非特許文献1に示すような従来の方法では、一連の塗布処理が終了した後に、乾燥処理が行われる。このため、塗布処理開始から乾燥装置にセットされ乾燥処理が開始されるまでの間に、乾燥処理が行われないこととなる。このため、乾燥処理を開始するまでの間にガラス基板に塗布された液滴が動いてしまったり、液滴間のオーバーラップによるレベリングが意図しない状態で連鎖的に発生したりするおそれがある。
In particular, in the case applied to the manufacture of a liquid crystal glass substrate, as the size of the substrate increases, it becomes extremely important what kind of adhering state will be. For this reason, it is desirable that the position be managed and applied by the ink jet method, and the coating be rapidly dried so that the managed position can be held.
However, in the conventional method as shown in Non-Patent Document 1, the drying process is performed after the series of application processes are completed. Therefore, the drying process is not performed between the start of the coating process and the setting of the drying device to the start of the drying process. For this reason, the droplets applied to the glass substrate may move during the start of the drying process, or leveling due to overlap between droplets may be generated in an unintended state in a chained manner.

そこで、本発明は、高精度で均一な塗布が可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供することを課題とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a thin film forming apparatus and a thin film forming method capable of highly accurate and uniform coating.

このような課題を解決するために、本発明は、塗布対象物を吸着保持する吸着テーブルと、吸着テーブルに吸着保持された前記塗布対象物の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッドと、該塗布ヘッドを前記塗布対象物の上方位置で移動させるガントリと、前記ガントリに、前記塗布対象物の表面を加熱する赤外線、可視光線または紫外線照射を含む熱源装置と、を備える薄膜形成装置であって、前記吸着テーブルは、Z軸方向の軸を回転軸として回転角θだけ回転させるθ回転機構を備え、前記塗布ヘッドが外枠パターンを形成する領域を通過するように移動させるとともに、前記ガントリを所定方向に移動させ、かつ、前記塗布ヘッドのノズルから塗布材を吐出して、かつ、前記ガントリの移動方向と反対の方向に配置された前記熱源装置を用いて前記吐出した塗布材を乾燥させて外枠パターンを形成し、前記外枠パターンを形成された後に、前記塗布ヘッドを前記インクジェット式ノズルのノズルピッチの1/N(Nは所定の塗布回数)移動させながら、N回塗布して前記外枠パターンで囲まれた内面に塗布材を塗布すると共に、真空チャンバに接続され、前記Z軸方向に見て前記塗布ヘッドと位置が対応するように配置された吸込口を具備したヘッド回復装置を備えることを特徴とする。 In order to solve such a subject, in the present invention, an adsorption table for adsorbing and holding an application object, and a thin film while discharging a coating material from an ink jet type nozzle onto the surface of the application object adsorbed and held by the adsorption table A plurality of coating heads for forming, a gantry for moving the coating head at a position above the application object, and a heat source apparatus including infrared radiation, visible light or ultraviolet radiation for heating the surface of the application object to the gantry And the suction table includes a θ rotation mechanism that rotates the rotational axis about the axis in the Z axis direction by a rotational angle θ, and the application head passes through the area where the outer frame pattern is to be formed. While moving the gantry in a predetermined direction, and discharging a coating material from the nozzle of the coating head, and The discharged coating material is dried using the heat source device disposed in the direction opposite to the moving direction to form an outer frame pattern, and after the outer frame pattern is formed, the coating head is subjected to the inkjet type nozzle The coating material is applied to the inner surface surrounded by the outer frame pattern N times while being moved 1 / N (N is a predetermined number of times of application) of the nozzle pitch of It is characterized by comprising a head recovery device provided with a suction port disposed so as to correspond in position to the application head when viewed in a direction.

本発明によれば、高精度で均一な塗布が可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a thin film forming apparatus and a thin film forming method capable of highly accurate and uniform coating.

本実施形態に係る薄膜形成装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the thin film forming apparatus which concerns on this embodiment. ガントリの背面側の構造を説明する構成模式図である。It is a structural schematic diagram explaining the structure of the back side of a gantry. ヘッド回復装置の拡大図である。It is an enlarged view of a head recovery device. ヘッド回復装置の動作を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining operation | movement of a head recovery device. 制御部の機能を説明する機能ブロック図である。It is a functional block diagram explaining the function of a control part. 本実施形態に係る薄膜形成装置の薄膜形成方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the thin film forming method of the thin film forming apparatus which concerns on this embodiment. 外枠塗布工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining an outer frame application process. 内面塗布工程を説明するフローチャートである。It is a flow chart explaining an inside application process. 本実施形態に係る薄膜形成装置の外枠塗布工程を説明する模式図であり、(a)が往路時を(b)が復路時を示す。It is a schematic diagram explaining the outer frame application | coating process of the thin film forming apparatus which concerns on this embodiment, (a) shows the time of going forward, and (b) shows the time of returning. 変形例に係る薄膜形成装置のガントリの構造を説明する構成模式図である。It is a structure schematic diagram explaining the structure of the gantry of the thin film forming apparatus which concerns on a modification. 変形例に係る薄膜形成装置の外枠塗布工程を説明する模式図であり、(a)が往路時を(b)が復路時を示す。It is a schematic diagram explaining the outer frame application | coating process of the thin film forming apparatus which concerns on a modification, (a) shows the time of going-forward, (b) shows the time of returning.

以下、本発明を実施するための形態(以下「実施形態」という)について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “embodiments”) will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. In each of the drawings, the same reference numerals are given to the common parts, and the duplicated explanation is omitted.

図1は、本実施形態に係る薄膜形成装置1の構成を示す斜視図である。
本実施形態に係る薄膜形成装置1は、フラット・パネル・ディスプレイや、電気泳動方式などを応用したフレキシブル・ディスプレイと呼ばれるしなやかに曲がる電子ペーパなど、多種多様な用途がある。以下の説明において、本実施形態に係る薄膜形成装置1は、フラット・パネル・ディスプレイに用いられるガラス基板100に対してポリイミドの薄膜を形成(塗布)するものとして説明する。なお、本実施形態に係る薄膜形成装置1でガラス基板100上に形成(塗布)されたポリイミドの薄膜は、本乾燥処理および配向処理(ラビング)をされることにより、配向膜となるものであるが、本説明においては、本乾燥処理・配向処理前の薄膜も「配向膜」と称するものとする。
FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of a thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment.
The thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment has various applications such as a flat panel display and a flexible display which is called a flexible display to which an electrophoresis method or the like is applied. In the following description, the thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment will be described as forming (applying) a thin film of polyimide on a glass substrate 100 used for a flat panel display. The polyimide thin film formed (coated) on the glass substrate 100 by the thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment is to be an alignment film by being subjected to the main drying process and the alignment process (rubbing). However, in the present description, the thin film before the main drying process / alignment process is also referred to as an “alignment film”.

薄膜形成装置1は、架台2と、ガントリ3と、複数の塗布ヘッド4を有する塗布ヘッドユニット5と、X軸移動機構6と、Y軸移動機構7と、Z軸移動機構8と、配向膜を形成(塗布)する対象であるガラス基板100を真空吸着して固定する吸着テーブル9と、ヘッド回復装置10と、熱源装置31と、アライメントカメラ32(図2参照)と、アライメントカメラ移動機構33(図2参照)と、制御部50(図5参照)と、を備えている。   The thin film forming apparatus 1 includes a gantry 2, a gantry 3, a coating head unit 5 having a plurality of coating heads 4, an X-axis moving mechanism 6, a Y-axis moving mechanism 7, a Z-axis moving mechanism 8, and an alignment film. , The head recovery device 10, the heat source device 31, the alignment camera 32 (see FIG. 2), and the alignment camera moving mechanism 33. (Refer FIG. 2) and the control part 50 (refer FIG. 5).

なお、以下の説明において、図1に示すように、架台2の長手方向(ガントリ3の移動方向)をX軸とし、架台2の幅方向(水平面上でX軸と直交する方向)をY軸とし、鉛直方向をZ軸とするものとして説明する。また、ガントリ3がX軸の正方向に移動することを往路とし、X軸の負方向に移動することを復路とするものとして説明する。   In the following description, as shown in FIG. 1, the longitudinal direction of the gantry 2 (moving direction of the gantry 3) is taken as the X axis, and the width direction of the gantry 2 (direction orthogonal to the X axis on the horizontal surface) is taken as the Y axis It is assumed that the vertical direction is the Z axis. The movement of the gantry 3 in the positive direction of the X axis will be described as the forward path, and the movement in the negative direction of the X axis will be described as the return path.

ガントリ3は、架台2との間に開口3aを有する門型ガントリであり、X軸移動機構6を介して、架台2の上に設けられている。
ガントリ3の復路側には、Y軸移動機構7およびZ軸移動機構8を介して、複数の塗布ヘッド4を有する塗布ヘッドユニット5が設けられている。
ガントリ3の往路側には、熱源装置31が設けられている。また、ガントリ3の往路側は、アライメントカメラ移動機構33(図2参照)を介して、アライメントカメラ32(図2参照)が設けられている。
The gantry 3 is a portal gantry having an opening 3 a between itself and the gantry 2, and is provided on the gantry 2 via the X-axis moving mechanism 6.
An application head unit 5 having a plurality of application heads 4 is provided on the return path side of the gantry 3 via the Y-axis moving mechanism 7 and the Z-axis moving mechanism 8.
A heat source device 31 is provided on the forward path side of the gantry 3. Further, on the forward path side of the gantry 3, an alignment camera 32 (see FIG. 2) is provided via an alignment camera moving mechanism 33 (see FIG. 2).

X軸移動機構6は、架台2に設けられた固定子(マグネットプレート)6aと、ガントリ3に設けられた可動子(コイル)6bとからなるリニアモータアクチュエータであり、架台2に対してガントリ3をX軸方向に移動させることができるようになっている。
Y軸移動機構7は、ガントリ3に設けられた固定子(マグネットプレート)7aと、塗布ヘッドユニット5に設けられた可動子(コイル)7bとからなるリニアモータアクチュエータであり、ガントリ3に対して塗布ヘッドユニット5をY軸方向に移動させることができるようになっている。
Z軸移動機構8は、サーボモータからなり、ガントリ3に対して塗布ヘッドユニット5をZ軸方向に移動させることができるようになっている。
即ち、塗布ヘッドユニット5(塗布ヘッド4,後述するノズル4a)は、X軸移動機構6によりX軸方向に移動することができるようになっており、Y軸移動機構7によりY軸方向に移動することができるようになっており、Z軸移動機構8によりZ軸方向に移動することができるようになっている。
なお、X軸移動機構6、Y軸移動機構7およびZ軸移動機構8は、制御部50により制御されるようになっている。
The X-axis moving mechanism 6 is a linear motor actuator composed of a stator (magnet plate) 6 a provided on the gantry 2 and a mover (coil) 6 b provided on the gantry 3. Can be moved in the X-axis direction.
The Y-axis moving mechanism 7 is a linear motor actuator composed of a stator (magnet plate) 7 a provided on the gantry 3 and a mover (coil) 7 b provided on the application head unit 5. The coating head unit 5 can be moved in the Y-axis direction.
The Z-axis moving mechanism 8 is composed of a servomotor, and can move the coating head unit 5 in the Z-axis direction with respect to the gantry 3.
That is, the coating head unit 5 (coating head 4, nozzles 4a described later) can be moved in the X axis direction by the X axis moving mechanism 6, and is moved in the Y axis direction by the Y axis moving mechanism 7. And can be moved in the Z-axis direction by the Z-axis moving mechanism 8.
The X-axis moving mechanism 6, the Y-axis moving mechanism 7 and the Z-axis moving mechanism 8 are controlled by the control unit 50.

複数の塗布ヘッド4を有する塗布ヘッドユニット5が設けられている。配向膜材料を吐出するノズルのピッチの連続性を確保するために、塗布ヘッド4が複数設けられている。図1に示す例において、塗布ヘッドユニット5には、4個の塗布ヘッド4がY軸方向に沿って一列に配置され、その塗布ヘッド4の列がX軸方向に3列配置されることが図示されている。
さらに、一つの塗布ヘッド4に対して配向膜材料を吐出するノズル(図示せず)がY軸方向に沿って一列に複数配置され、そのノズルの列が複数列配置されている(図示せず)。なお、塗布ヘッド4は、圧電素子等を利用してノズルから少量の液滴を高精度に吐出するインクジェットヘッドである。
なお、制御部50は、塗布ヘッド4の各ノズルごとに配向膜材料の吐出の有無やタイミング、吐出する配向膜材料の量を制御することができるようになっている。
A coating head unit 5 having a plurality of coating heads 4 is provided. A plurality of coating heads 4 are provided to ensure continuity of the pitch of the nozzles for discharging the alignment film material. In the example shown in FIG. 1, in the coating head unit 5, four coating heads 4 are arranged in a row along the Y-axis direction, and three rows of the coating heads 4 are arranged in the X-axis direction. It is illustrated.
Further, a plurality of nozzles (not shown) for discharging the alignment film material to one application head 4 are arranged in one row along the Y-axis direction, and a plurality of rows of the nozzles are arranged (not shown) ). The coating head 4 is an inkjet head that discharges a small amount of droplets from the nozzles with high accuracy using a piezoelectric element or the like.
The control unit 50 can control, for each nozzle of the coating head 4, the presence or absence and timing of discharge of the alignment film material, and the amount of alignment film material to be discharged.

図2は、ガントリ3の背面側の構造を説明する構成模式図である。なお、図2において、X軸移動機構6の可動子6b、Y軸移動機構7、Z軸移動機構8は省略して図示している。
図2に示すように、ガントリ3の往路側(図1の背面側)に配置される熱源装置31は、例えば、赤外線ランプで構成され、略鉛直方向に赤外線を照射することができるようになっている。即ち、ガントリ3の復路時にガントリ3の開口3a(図1参照)を通過した対象(ガラス基板100)に対して赤外線を照射することができるようになっている。
なお、熱源装置31は、制御部50によりその点灯・消灯が制御されるようになっている。
FIG. 2 is a schematic structural view for explaining the structure on the back side of the gantry 3. In FIG. 2, the mover 6 b of the X-axis moving mechanism 6, the Y-axis moving mechanism 7, and the Z-axis moving mechanism 8 are not shown.
As shown in FIG. 2, the heat source device 31 disposed on the forward path side (rear side in FIG. 1) of the gantry 3 is, for example, an infrared lamp and can emit infrared light in a substantially vertical direction. ing. That is, it is possible to irradiate an infrared ray to an object (glass substrate 100) which has passed through the opening 3a (see FIG. 1) of the gantry 3 when the gantry 3 is returned.
The heat source device 31 is controlled to be turned on / off by the control unit 50.

なお、本実施形態に係る薄膜形成装置1は、熱源装置31として赤外線ランプを用いるものとして説明するが、これに限られるものではなく、可視光線を照射する可視光線ランプ(図示せず)であってもよく、紫外線を照射する紫外線ランプ(図示せず)であってもよく、ガラス基板100に塗布された配向膜材料を加熱することができるものであればよい。
ちなみに、熱源装置31として紫外線ランプ(図示せず)を用いる場合、紫外線ランプの電源投入から照射される紫外線の強度が安定するまでに時間を要するため、シャッタ(図示せず)を設けて、紫外線ランプの点灯・消灯を制御するのにかえて、シャッタの開閉により照射開始と照射停止を制御するようにするのが望ましい。
また、熱源装置31として、塵埃等を含まない清浄な空気(クリーンエア)を加熱して対象(ガラス基板100)に吹き付ける熱風送風装置(図示せず)であってもよい。加熱された清浄な空気を熱媒体として対象に吹き付けることにより、対象(ガラス基板100)をより加熱することができる。また、熱風送風装置と赤外線ランプ(可視光線ランプ、紫外線ランプ)を組み合せたものであってもよい。
In addition, although the thin film forming apparatus 1 which concerns on this embodiment is demonstrated as what uses an infrared lamp as the heat-source apparatus 31, it is not restricted to this, It is a visible ray lamp (not shown) which irradiates a visible ray. It may be an ultraviolet lamp (not shown) that emits ultraviolet light, as long as it can heat the alignment film material applied to the glass substrate 100.
Incidentally, when an ultraviolet lamp (not shown) is used as the heat source device 31, it takes time for the intensity of the ultraviolet light to be stabilized after turning on the power of the ultraviolet lamp, so a shutter (not shown) is provided to Instead of controlling the lighting and extinguishing of the lamp, it is preferable to control the start and stop of irradiation by opening and closing the shutter.
The heat source device 31 may be a hot-air blower (not shown) that heats clean air (clean air) that does not contain dust and the like and blows it to an object (glass substrate 100). The object (glass substrate 100) can be further heated by blowing the heated clean air as a heat medium onto the object. In addition, a combination of a hot air blower and an infrared lamp (visible light lamp, ultraviolet lamp) may be used.

アライメントカメラ32は、吸着テーブル9に吸着されたガラス基板100との位置決め用に使用されるほか、塗布ヘッド4から吐出してガラス基板100に塗布された配向膜材料を観察するためのカメラである。
アライメントカメラ移動機構33は、ガントリ3に対してアライメントカメラ32をY軸方向に移動させることができるようになっている。即ち、アライメントカメラ32は、X軸移動機構6によりX軸方向に移動することができるようになっており、アライメントカメラ移動機構33によりY軸方向に移動することができるようになっている。
なお、X軸移動機構6およびアライメントカメラ移動機構33は、制御部50により制御されるようになっている。また、アライメントカメラ32で撮像された画像は、制御部50に送信され、塗布ヘッド4の位置補正に用いられる。
The alignment camera 32 is used for positioning with the glass substrate 100 adsorbed to the suction table 9 and is a camera for observing the alignment film material discharged from the application head 4 and applied to the glass substrate 100. .
The alignment camera moving mechanism 33 can move the alignment camera 32 in the Y-axis direction with respect to the gantry 3. That is, the alignment camera 32 can be moved in the X-axis direction by the X-axis moving mechanism 6, and can be moved in the Y-axis direction by the alignment camera moving mechanism 33.
The X-axis moving mechanism 6 and the alignment camera moving mechanism 33 are controlled by the control unit 50. Further, the image captured by the alignment camera 32 is transmitted to the control unit 50 and used for position correction of the application head 4.

図1に戻り、吸着テーブル9は、ガラス基板100を真空吸着して固定することができるようになっている。また、吸着テーブル9は、サーボモータからなるθ回転機構(図示せず)を備えており、Z軸方向の軸を回転軸として回転角θだけ回転させることができるようになっている。
なお、吸着テーブル9は、制御部50によりガラス基板100の着脱および回転角θが制御されるようになっている。
Returning to FIG. 1, the suction table 9 is configured to be able to vacuum-suck and fix the glass substrate 100. Further, the suction table 9 is provided with a θ rotation mechanism (not shown) composed of a servomotor, and can be rotated by a rotation angle θ with an axis in the Z axis direction as a rotation axis.
In addition, attachment and detachment of the glass substrate 100 and the rotation angle θ are controlled by the control unit 50 of the suction table 9.

次に、ヘッド回復装置10について、図3および図4を用いて更に説明する。図3は、ヘッド回復装置10の拡大図である。
ヘッド回復装置10は、塗布ヘッド4のノズルから吐出させて、ノズルの目詰まりを防止するとともに、目詰まりの回復を検出する装置である。
ヘッド回復装置10は、吸込口11と、LED(Light Emitting Diode;発光ダイオード)12と、カメラ13と、LED12をY軸方向に移動させるLED移動機構12Aと、カメラ13をY軸方向に移動させるカメラ移動機構13Aと、電子天秤14と、を備えている。電子天秤14では、配向膜材料を塗布ヘッド4のノズルから吐出させて、各塗布ヘッド4間の1回あたりの吐出量を調整する。
Next, the head recovery device 10 will be further described using FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is an enlarged view of the head recovery device 10.
The head recovery device 10 is a device that discharges from the nozzle of the coating head 4 to prevent clogging of the nozzle and detect the recovery of the clogging.
The head recovery device 10 moves the suction port 11, the LED (Light Emitting Diode; light emitting diode) 12, the camera 13, the LED moving mechanism 12A for moving the LED 12 in the Y axis direction, and the camera 13 in the Y axis direction. The camera moving mechanism 13A and the electronic balance 14 are provided. In the electronic balance 14, the alignment film material is discharged from the nozzle of the coating head 4, and the discharge amount per application between the coating heads 4 is adjusted.

吸込口11は、真空チャンバ(図示せず)等に接続され、Z軸方向に見て塗布ヘッドユニット5に設けられた複数の塗布ヘッド4と位置が対応するように配置されている。即ち、図1に示す塗布ヘッドユニット5に対応して、4個の吸込口11がY軸方向に沿って一列に配置され、その吸込口11の列がX軸方向に3列配置されている。   The suction port 11 is connected to a vacuum chamber (not shown) or the like, and is disposed so as to correspond in position to the plurality of coating heads 4 provided in the coating head unit 5 when viewed in the Z-axis direction. That is, corresponding to the coating head unit 5 shown in FIG. 1, four suction ports 11 are arranged in a line along the Y-axis direction, and the suction port 11 is arranged in three lines in the X-axis direction .

LED12は、塗布ヘッドユニット5に設けられたY軸方向に沿って一列に配置された塗布ヘッド4と位置が対応するように配置されている。即ち、図1に示す塗布ヘッドユニット5に対応して、4個のLED12がY軸方向に沿って一列に配置されている。また、LED12は、LED移動機構12AによりY軸方向に移動することができるようになっている。
なお、LED12は、制御部50によりその点灯・消灯が制御されるようになっている。
The LEDs 12 are arranged such that the positions correspond to the coating heads 4 arranged in a line along the Y-axis direction provided in the coating head unit 5. That is, four LEDs 12 are arranged in a line along the Y-axis direction corresponding to the coating head unit 5 shown in FIG. Further, the LED 12 can be moved in the Y-axis direction by the LED moving mechanism 12A.
The control of the LED 12 is controlled by the control unit 50.

カメラ13は、塗布ヘッドユニット5に設けられたY軸方向に沿って一列に配置された塗布ヘッド4と位置が対応するように配置されている。即ち、図1に示す塗布ヘッドユニット5に対応して、4個のカメラ13がY軸方向に沿って一列に配置されている。また、カメラ13は、カメラ移動機構13AによりY軸方向に移動することができるようになっている。
なお、カメラ13で撮像された画像は、制御部50に送信される。
The camera 13 is disposed so that the position corresponds to that of the coating heads 4 arranged in a line along the Y-axis direction provided in the coating head unit 5. That is, four cameras 13 are arranged in a line along the Y-axis direction corresponding to the coating head unit 5 shown in FIG. Also, the camera 13 can be moved in the Y-axis direction by the camera moving mechanism 13A.
The image captured by the camera 13 is transmitted to the control unit 50.

図4は、ヘッド回復装置10の動作を説明する模式図である。なお、図4は、図1のX−Z平面でみた模式図である。また、図1において、X軸方向に複数の塗布ヘッド4および吸込口11が配置されているが、検査対象のノズルと対応する塗布ヘッド4および吸込口11以外のものは、この図4では図示を省略している。   FIG. 4 is a schematic view for explaining the operation of the head recovery device 10. As shown in FIG. FIG. 4 is a schematic view seen from the XZ plane of FIG. Further, in FIG. 1, although a plurality of application heads 4 and suction ports 11 are disposed in the X-axis direction, those other than the application heads 4 and suction ports 11 corresponding to the nozzles to be inspected are illustrated in FIG. Is omitted.

まず、制御部50(後述するヘッド回復制御部51)は、X軸移動機構6およびY軸移動機構7を制御して、吸込口11と対応するように塗布ヘッド4を移動させる。また、制御部50(ヘッド回復制御部51)は、LED移動機構12Aおよびカメラ移動機構13Aを制御して、LED12およびカメラ13のY軸座標が検査対象のノズル4aのY軸座標と一致するように移動させる。また、カメラ13は、X軸方向の移動機構(図示せず)を有しており、撮像の焦点位置を検査対象のノズル4aのX軸座標と一致するように移動させる。   First, the control unit 50 (head recovery control unit 51 described later) controls the X-axis moving mechanism 6 and the Y-axis moving mechanism 7 to move the application head 4 so as to correspond to the suction port 11. Further, the control unit 50 (head recovery control unit 51) controls the LED moving mechanism 12A and the camera moving mechanism 13A so that the Y-axis coordinates of the LED 12 and the camera 13 coincide with the Y-axis coordinates of the nozzle 4a to be inspected. Move to The camera 13 also has a moving mechanism (not shown) in the X-axis direction, and moves the focal position of imaging so as to coincide with the X-axis coordinates of the nozzle 4a to be inspected.

次に、制御部50(ヘッド回復制御部51)は、塗布ヘッド4を制御して、ノズル4aから配向膜材料の液滴4bを吐出させる回復運転を行う。なお、吐出された配向膜材料の液滴4bは、吸込口11に入る。
この際、制御部50(ヘッド回復制御部51)は、LED12を点灯させ、カメラ13で撮像する。吐出された配向膜材料の液滴4bは、カメラ13で撮像する画像において、影として撮像される。これにより、ノズル4aの目詰まりの回復を検知することができる。
Next, the control unit 50 (head recovery control unit 51) controls the coating head 4 to perform recovery operation for discharging the droplets 4b of the alignment film material from the nozzles 4a. The discharged droplets 4 b of the alignment film material enter the suction port 11.
At this time, the control unit 50 (head recovery control unit 51) turns on the LED 12 and causes the camera 13 to capture an image. The droplets 4 b of the ejected alignment film material are imaged as shadows in the image imaged by the camera 13. Thereby, the recovery of the clogging of the nozzle 4a can be detected.

なお、ノズル4aの目詰まりは、配向膜材料の液滴4bを吐出することによって解消するが、吐出制御のみで目詰まりが解消できない場合、制御部50(ヘッド回復制御部51)は、Z軸移動機構8(図1参照)を制御して、塗布ヘッド4を吸込口11と接触するように降下させ、吸引回復を行ってもよい。そして、制御部50(ヘッド回復制御部51)は、Z軸移動機構8(図1参照)を制御して、所定の高さまで戻し、ノズル4aから配向膜材料の液滴4bを吐出させ、カメラ13で撮像して回復を確認する。   The clogging of the nozzle 4a is eliminated by discharging the droplet 4b of the alignment film material, but when the clogging can not be eliminated only by the discharge control, the control unit 50 (head recovery control unit 51) performs the Z axis. The transfer mechanism 8 (see FIG. 1) may be controlled to lower the application head 4 so as to come in contact with the suction port 11 to perform suction recovery. Then, the control unit 50 (head recovery control unit 51) controls the Z-axis moving mechanism 8 (see FIG. 1) to return it to a predetermined height, and discharges droplets 4b of alignment film material from the nozzle 4a. Image at 13 to confirm recovery.

図5は、制御部50の機能を説明する機能ブロック図である。
制御部50は、X軸移動機構6、Y軸移動機構7、Z軸移動機構8、LED移動機構12A、カメラ移動機構13Aおよびアライメントカメラ移動機構33の移動位置を制御することができるようになっている。
また、制御部50は、吸着テーブル9において、ガラス基板100の着脱および回転角θを制御することができるようになっている。
また、制御部50は、LED12および熱源装置31の点灯・消灯を制御することができるようになっている。
また、制御部50は、複数ある塗布ヘッド4のノズルごとに配向膜材料の吐出の有無やタイミングを制御することができるようになっている。
また、制御部50は、カメラ13およびアライメントカメラ32で撮像された画像が入力されるようになっている。
FIG. 5 is a functional block diagram for explaining the function of the control unit 50. As shown in FIG.
The control unit 50 can control the moving positions of the X-axis moving mechanism 6, the Y-axis moving mechanism 7, the Z-axis moving mechanism 8, the LED moving mechanism 12A, the camera moving mechanism 13A, and the alignment camera moving mechanism 33. ing.
Further, the control unit 50 is configured to be able to control the attachment / detachment of the glass substrate 100 and the rotation angle θ in the suction table 9.
Further, the control unit 50 can control turning on / off of the LED 12 and the heat source device 31.
Further, the control unit 50 can control the presence or absence and timing of discharge of the alignment film material for each nozzle of the plurality of application heads 4.
Further, the control unit 50 is configured to receive an image captured by the camera 13 and the alignment camera 32.

制御部50は、ヘッド回復制御部51と、外枠塗布工程制御部52と、内面塗布工程制御部53と、を備えている。
ヘッド回復制御部51は、塗布ヘッド4のノズルを回復させる制御を行うようになっている。
外枠塗布工程制御部52は、ガラス基板100に塗布する配向膜の外枠を形成する制御を行うようになっている。
内面塗布工程制御部53は、外枠塗布工程制御部52により形成された配向膜の外枠の内部に配向膜材料を塗布する制御を行うようになっている。
The control unit 50 includes a head recovery control unit 51, an outer frame application process control unit 52, and an inner surface application process control unit 53.
The head recovery control unit 51 performs control to recover the nozzle of the application head 4.
The outer frame coating process control unit 52 is configured to perform control to form an outer frame of the alignment film applied to the glass substrate 100.
The inner surface coating process control unit 53 performs control of coating the alignment film material on the inside of the outer frame of the alignment film formed by the outer frame coating process control unit 52.

次に図6から図8を用いて、本実施形態に係る薄膜形成装置1の薄膜形成方法を説明する。   Next, a thin film forming method of the thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment will be described using FIGS. 6 to 8.

ステップS1において、制御部50のヘッド回復制御部51は、塗布ヘッド4のノズルから配向膜材料を正常に滴下できるか確認する。また、電子天秤14を用いて、塗布ヘッド4のノズルからの配向膜材料の吐出量を調整する。
具体的には、ヘッド回復制御部51は、X軸移動機構6およびY軸移動機構7を制御して、吸込口11と対応するように塗布ヘッド4を移動させる。また、LED移動機構12Aおよびカメラ移動機構13Aを制御して、LED12およびカメラ13のY軸座標が検査対象のノズルのY軸座標と一致するように移動させる。
そして、ヘッド回復制御部51は、塗布ヘッド4を制御して、ノズルから配向膜材料を吐出させ、吐出された配向膜材料の液滴をカメラ13で撮像して確認する。
なお、ノズルに目詰まりが発生し、滴下されない場合、前述した吸引回復を実行する。
塗布ヘッド4のノズルから正常に滴下できることを確認したら、ステップS2に進む。
In step S1, the head recovery control unit 51 of the control unit 50 confirms whether or not the alignment film material can be normally dropped from the nozzle of the application head 4. Further, the discharge amount of the alignment film material from the nozzle of the coating head 4 is adjusted using the electronic balance 14.
Specifically, the head recovery control unit 51 controls the X-axis moving mechanism 6 and the Y-axis moving mechanism 7 to move the application head 4 so as to correspond to the suction port 11. Further, the LED movement mechanism 12A and the camera movement mechanism 13A are controlled to move the Y-axis coordinates of the LED 12 and the camera 13 so as to coincide with the Y-axis coordinates of the nozzle to be inspected.
Then, the head recovery control unit 51 controls the coating head 4 to eject the alignment film material from the nozzles, and images and checks the droplets of the discharged alignment film material with the camera 13.
When the nozzle is clogged and is not dropped, the suction recovery described above is performed.
If it is confirmed that the droplet can be normally dropped from the nozzle of the coating head 4, the process proceeds to step S2.

ステップS2において、制御部50は、吸着テーブル9を制御して、外部の基板装填機構(図示せず)により吸着テーブル9上に配置されたガラス基板100を吸着させる(基板ロード)。また、制御部50は、X軸移動機構6およびアライメントカメラ移動機構33を制御してアライメントカメラ32を移動させ、アライメントカメラ32で撮像された画像に基づいて吸着テーブル9に吸着されたガラス基板100の位置を確認する。制御部50は、ここで確認されたガラス基板100の位置情報に基づいて、後述する塗布ヘッド4の移動を制御する。   In step S2, the control unit 50 controls the suction table 9 to suction the glass substrate 100 disposed on the suction table 9 by an external substrate loading mechanism (not shown) (substrate load). Further, the control unit 50 controls the X-axis moving mechanism 6 and the alignment camera moving mechanism 33 to move the alignment camera 32, and the glass substrate 100 is attracted to the suction table 9 based on the image captured by the alignment camera 32. Check the position of. The control unit 50 controls the movement of the application head 4 described later, based on the position information of the glass substrate 100 confirmed here.

ステップS3において、制御部50の外枠塗布工程制御部52は、ガラス基板100上に配向膜の外枠を塗布して形成する。ここで、図7を用いてステップS3に示す外枠塗布工程を更に説明する。
まず、ステップS31において、外枠塗布工程制御部52は、Y軸移動機構7を制御して、後述するステップS32において塗布ヘッド4が外枠パターン110(図9(a)参照)を形成する領域を通過するように、Y軸の位置を移動させる(塗布ヘッドY軸位置合わせ)。
In step S <b> 3, the outer frame coating process control unit 52 of the control unit 50 coats and forms the outer frame of the alignment film on the glass substrate 100. Here, the outer frame coating step shown in step S3 will be further described using FIG.
First, in step S31, the outer frame coating process control unit 52 controls the Y-axis moving mechanism 7 to form an area in which the coating head 4 forms the outer frame pattern 110 (see FIG. 9A) in step S32 described later. To move the Y-axis position (coating head Y-axis alignment).

ステップS32において、図9(a)に示すように、外枠塗布工程制御部52は、X軸移動機構6を制御して、ガントリ3を往路方向に移動させるとともに、塗布ヘッド4を制御して、塗布ヘッド4のノズルから配向膜材料の液滴を滴下するタイミングを制御する。
これにより、ガラス基板100に配向膜の外枠パターン110が塗布される。
In step S32, as shown in FIG. 9A, the outer frame coating process control unit 52 controls the X-axis moving mechanism 6 to move the gantry 3 in the forward direction, and controls the coating head 4 The timing at which the droplet of the alignment film material is dropped from the nozzle of the coating head 4 is controlled.
Thereby, the outer frame pattern 110 of the alignment film is applied to the glass substrate 100.

ガントリ3の往路方向の移動が終了すると、ステップS33に進む。
ステップS33において、外枠塗布工程制御部52は、熱源装置31である赤外線ランプを点灯させる(熱源装置ON)。
When the forward movement of the gantry 3 is completed, the process proceeds to step S33.
In step S33, the outer frame coating process control unit 52 turns on the infrared lamp that is the heat source device 31 (heat source device ON).

ステップS34において、図9(b)に示すように、外枠塗布工程制御部52は、X軸移動機構6を制御して、ガントリ3を復路方向に移動させる。こうして、ガントリ3の開口3a(図1参照)を通過したガラス基板100に対して、赤外線(加熱領域)34を照射する。
これにより、ステップS32でガラス基板100に塗布された配向膜の外枠パターン110を乾燥させる。
In step S34, as shown in FIG. 9B, the outer frame coating process control unit 52 controls the X-axis moving mechanism 6 to move the gantry 3 in the backward direction. Thus, infrared light (heated region) 34 is irradiated to the glass substrate 100 which has passed through the opening 3 a (see FIG. 1) of the gantry 3.
Thereby, the outer frame pattern 110 of the alignment film applied to the glass substrate 100 in step S32 is dried.

ガントリ3の復路方向の移動が終了すると、ステップS35に進む。
ステップS35において、外枠塗布工程制御部52は、熱源装置31である赤外線ランプを消灯させる(熱源装置OFF)。
When the movement of the gantry 3 in the backward direction is completed, the process proceeds to step S35.
In step S35, the outer frame coating process control unit 52 turns off the infrared lamp that is the heat source device 31 (heat source device OFF).

ステップS36において、外枠塗布工程制御部52は、所定の回数が終了したか否かを判定する。
ステップS3に示す外枠塗布工程において、外枠パターン110を所定の高さとするために、外枠パターン110の塗布と乾燥を複数回繰り返すようになっており、所定の回数が終了していない場合(S36・No)、外枠塗布工程制御部52の処理は、ステップS31に戻る。所定の回数が終了した場合(S36・Yes)、図7に示す外枠塗布工程(ステップS3)を終了し、図6のステップS4に進む。
In step S36, the outer frame application process control unit 52 determines whether the predetermined number of times has ended.
In the outer frame applying step shown in step S3, the application and drying of the outer frame pattern 110 are repeated a plurality of times in order to set the outer frame pattern 110 to a predetermined height, and the predetermined number of times has not been completed. (S36 · No), the process of the outer frame coating process control unit 52 returns to step S31. If the predetermined number of times has ended (S36: Yes), the outer frame coating step (step S3) shown in FIG. 7 is ended, and the process proceeds to step S4 in FIG.

図6に戻り、ステップS4において、制御部50の内面塗布工程制御部53は、ステップS3で形成された外枠パターン110(図9参照)で囲まれた内面に配向膜材料を塗布する。ここで、図8を用いてステップS4に示す内面塗布工程を更に説明する。
ステップS41において、内面塗布工程制御部53は、Y軸移動機構7を制御して、塗布ヘッド4がY軸方向の初期位置に配置されるように、Y軸の位置を移動させる(塗布ヘッドY軸位置合わせ)。
Returning to FIG. 6, in step S4, the inner surface application process control unit 53 of the control unit 50 applies an alignment film material to the inner surface surrounded by the outer frame pattern 110 (see FIG. 9) formed in step S3. Here, the inner surface applying step shown in step S4 will be further described using FIG.
In step S41, the inner surface application process control unit 53 controls the Y axis moving mechanism 7 to move the position of the Y axis so that the application head 4 is disposed at the initial position in the Y axis direction (application head Y Axis alignment).

ステップS42において、内面塗布工程制御部53は、X軸移動機構6を制御して、ガントリ3を移動させるとともに、塗布ヘッド4を制御して、ノズルから配向膜材料の液滴を滴下するタイミングを制御する(ガントリ移動・塗布)。なお、S42におけるガントリ3の移動は、往路、復路を問わない。
これにより、ステップS3で形成された外枠パターン110(図9参照)で囲まれた内面に配向膜材料が塗布される。
In step S42, the inner surface application process control unit 53 controls the X-axis moving mechanism 6 to move the gantry 3 and controls the application head 4 so that the timing for dropping the droplets of the alignment film material from the nozzles can be controlled. Control (Gantry movement, application). In addition, the movement of the gantry 3 in S42 does not matter whether it is an outward trip or a return trip.
Thus, the alignment film material is applied to the inner surface surrounded by the outer frame pattern 110 (see FIG. 9) formed in step S3.

ステップS43において、内面塗布工程制御部53は、所定の塗布回数(N回)が終了したか否かを判定する。
後述するように、外枠パターン110で囲まれた内面の塗布は、塗布ヘッド4をノズルピッチの1/N移動させながら、N回塗布する。これにより、外枠パターン110で囲まれた内面に滴下される液滴のピッチは、塗布ヘッド4のノズルピッチの1/Nとなる。これにより、膜厚を均一化させることができる。
所定の塗布回数が終了していない場合(S43・No)、ステップS44に進み、内面塗布工程制御部52は、Y軸移動機構7を制御して、塗布ヘッド4を1/Nノズルピッチ移動させる。そしてステップS42に戻る。
所定の塗布回数が終了した場合(S43・Yes)、図8に示す内面塗布工程(ステップS4)を終了し、図6のステップS5に進む。
In step S43, the inner surface application process control unit 53 determines whether or not the predetermined number of times of application (N times) has ended.
As described later, the application of the inner surface surrounded by the outer frame pattern 110 is performed N times while moving the application head 4 1 / N of the nozzle pitch. Thus, the pitch of the droplets dropped on the inner surface surrounded by the outer frame pattern 110 is 1 / N of the nozzle pitch of the coating head 4. Thereby, the film thickness can be made uniform.
If the predetermined number of times of application has not been completed (S43, No), the process proceeds to step S44, and the inner surface application process control unit 52 controls the Y axis moving mechanism 7 to move the application head 4 by 1 / N nozzle pitch. . Then, the process returns to step S42.
If the predetermined number of times of application has been completed (S43: Yes), the inner surface application step (step S4) shown in FIG. 8 is completed, and the process proceeds to step S5 in FIG.

ステップS5において、制御部50は、吸着テーブル9を制御して、吸着テーブル9上に配置されたガラス基板100の吸着を解除する。配向膜が塗布されたガラス基板100は外部の基板装填機構(図示せず)により薄膜形成装置1から摘出される(基板アンロード)。
なお、薄膜形成装置1から摘出されたガラス基板100は、本乾燥処理を行う乾燥処理装置(図示せず)へと送られる。
In step S <b> 5, the control unit 50 controls the suction table 9 to release the suction of the glass substrate 100 disposed on the suction table 9. The glass substrate 100 to which the alignment film has been applied is extracted from the thin film forming apparatus 1 by an external substrate loading mechanism (not shown) (substrate unloading).
The glass substrate 100 extracted from the thin film forming apparatus 1 is sent to a drying processing apparatus (not shown) that performs the main drying processing.

このように、本実施形態に係る薄膜形成装置1は、インクジェット方式を用いて配向膜を形成するので、従来のフレキソ印刷法のような版型を必要とせず、少量・多品種の配向膜形成(換言すれば、少量・多品種のフラット・パネル・ディスプレイの製造)に対応することができる。   As described above, since the thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment forms the alignment film by using the inkjet method, it does not require a plate type as in the conventional flexo printing method, and forms a small amount and various types of alignment film. (In other words, it can correspond to the manufacture of a small amount and a wide variety of flat panel displays).

また、本実施形態に係る薄膜形成装置1は、ガラス基板100に配向膜を形成する際、配向膜の外枠パターン110を形成し、その後、枠内に配向膜材料を塗布する。
ここで、図9に示すように、配向膜の外枠パターン110を形成する際、赤外線ランプ等の熱源装置31により、ガラス基板100上に塗布された配向膜材料を加熱するので、塗布された配向膜材料がガラス基板100上の塗布された位置から広がることを低減させることができる。これにより、配向膜形成領域からのはみ出しを低減させ、配向膜材料を効率的に使用することができる。
また、配向膜のエッジの直線性を向上させることができる。これにより、フラット・パネル・ディスプレイの非表示部面積の更なる縮小化を図ることができる。また、多面取りをするガラス基板においては、隣接する配向膜パターン間を縮小することができ、1枚のガラス基板から取り出せるフラット・パネル・ディスプレイの枚数を向上させることができる。
In addition, when forming the alignment film on the glass substrate 100, the thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment forms the outer frame pattern 110 of the alignment film, and then applies the alignment film material in the frame.
Here, as shown in FIG. 9, when forming the outer frame pattern 110 of the alignment film, the alignment film material coated on the glass substrate 100 is heated by a heat source device 31 such as an infrared lamp, so that the coating is performed. The spread of the alignment film material from the applied position on the glass substrate 100 can be reduced. Thereby, the protrusion from the alignment film formation region can be reduced, and the alignment film material can be efficiently used.
In addition, the linearity of the edge of the alignment film can be improved. Thus, the non-display area of the flat panel display can be further reduced. In addition, in the case of multiple glass substrates, the distance between adjacent alignment film patterns can be reduced, and the number of flat panel displays that can be taken out from one glass substrate can be improved.

次に、枠内に塗布された配向膜材料は、外枠により堰き止められ、それ以上広がらないようになっている。これにより、配向膜形成領域からのはみ出し(濡れ広がり)を低減させ、配向膜材料を効率的に使用することができる。   Next, the alignment film material applied in the frame is blocked by the outer frame so as not to spread further. Thereby, the protrusion (wet spread) from the alignment film formation region can be reduced, and the alignment film material can be used efficiently.

また、本実施形態に係る薄膜形成装置1は、吸着テーブル9に隣接して、ヘッド回復装置10が設けられている。これにより、塗布ヘッド4の目詰まりを防止するとともに、ノズルを回復(清掃)することができ、塗布ヘッド4のノズルから滴下する配向膜材料の液滴の量と滴下するタイミングを好適に制御することができる。
また、塗布ヘッド4から吐出する配向膜材料をカメラ13で撮像することにより、目詰まりなく正しく吐出されているか否かを確認することができる。
なお、熱源装置31の照射領域(図9(b)に示す加熱領域34)は、ガラス基板100にガントリ3の下方へと向けられているため、塗布ヘッド4の目詰まりを助長することがないようになっている。
Further, in the thin film forming apparatus 1 according to the present embodiment, the head recovery device 10 is provided adjacent to the suction table 9. As a result, clogging of the coating head 4 can be prevented, and the nozzle can be recovered (cleaned), and the amount and timing of droplets of alignment film material to be dropped from the nozzle of the coating head 4 can be suitably controlled. be able to.
Further, by imaging the alignment film material discharged from the coating head 4 with the camera 13, it is possible to check whether the discharge is performed correctly without clogging.
In addition, since the irradiation area | region (heating area | region 34 shown in FIG.9 (b)) of the heat-source apparatus 31 is turned to the downward direction of the gantry 3 to the glass substrate 100, clogging of the application head 4 is not promoted. It is supposed to be.

<変形例>
なお、本実施形態に係る薄膜形成装置は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。
図10は、変形例に係る薄膜形成装置のガントリ3の構造を説明する構成模式図である。本実施形態に係るガントリ3(図2参照)と比較して、変形例に係るガントリ3(図10参照)は、ガントリ3の復路側(図1の正面側)にも熱源装置35を備えている。熱源装置35は、熱源装置31と同様に、例えば、赤外線ランプで構成され、略鉛直方向に赤外線を照射することができるようになっている。即ち、熱源装置35は、ガントリ3の往路時にガントリ3の開口3a(図1参照)を通過した対象に対して赤外線を照射することができるようになっている。
なお、熱源装置35は、制御部50によりその点灯・消灯が制御されるようになっている。
<Modification>
The thin film forming apparatus according to the present embodiment is not limited to the configuration of the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
FIG. 10 is a structural schematic view for explaining the structure of the gantry 3 of the thin film forming apparatus according to the modification. Compared with the gantry 3 (see FIG. 2) according to the present embodiment, the gantry 3 (see FIG. 10) according to the modification includes the heat source device 35 also on the return path side (front side in FIG. 1) of the gantry 3 There is. The heat source device 35 is, for example, an infrared lamp in the same manner as the heat source device 31 and can emit infrared light in a substantially vertical direction. That is, the heat source device 35 can irradiate infrared light to the object that has passed through the opening 3 a (see FIG. 1) of the gantry 3 when going forward of the gantry 3.
The heat source device 35 is controlled by the control unit 50 to be turned on / off.

図11は、変形例に係る薄膜形成装置の外枠塗布工程を説明する模式図であり、(a)が往路時を(b)が復路時を示す。
図11(a)に示すように、ガントリ3を往路方向に移動させる際、塗布ヘッド4を制御して、塗布ヘッド4のノズルから配向膜材料の液滴を滴下するタイミングを制御するとともに、熱源装置35を点灯させることによりガラス基板100に対して赤外線(加熱領域)36を照射する。
また、図11(b)に示すように、ガントリ3を復路方向に移動させる際、塗布ヘッド4を制御して、塗布ヘッド4のノズルから配向膜材料の液滴を滴下するタイミングを制御するとともに、熱源装置31を点灯させることによりガラス基板100に対して赤外線(加熱領域)34を照射する。
このように、変形例に係る薄膜形成装置によれば、往路時にも復路時にも配向膜材料の滴下と乾燥を行うことができ、外枠を形成するタクトタイムを短縮することができる。
また、塗布(配向膜材料の液滴の滴下)から乾燥(赤外線の照射)までの時間を短縮することができるので、外枠の直線性が更に向上する。
FIG. 11 is a schematic view for explaining the outer frame coating process of the thin film forming apparatus according to the modification, and (a) shows the time of forward movement and (b) shows the time of backward movement.
As shown in FIG. 11A, when moving the gantry 3 in the forward direction, the application head 4 is controlled to control the timing at which the droplets of the alignment film material are dropped from the nozzles of the application head 4 and By turning on the device 35, the glass substrate 100 is irradiated with infrared rays (heating area) 36.
Further, as shown in FIG. 11B, when moving the gantry 3 in the backward direction, the application head 4 is controlled to control the timing at which droplets of alignment film material are dropped from the nozzles of the application head 4. By heating the heat source device 31, the glass substrate 100 is irradiated with infrared rays (heating area) 34.
As described above, according to the thin film forming apparatus according to the modification, the alignment film material can be dropped and dried both in the forward pass and the return pass, and the tact time for forming the outer frame can be shortened.
Moreover, since the time from application (dropping of droplets of alignment film material) to drying (irradiation of infrared rays) can be shortened, the linearity of the outer frame is further improved.

また、吸着テーブル9(図1参照)に吸着したガラス基板100を加熱する加熱手段(図示せず)を更に備え、外枠形成工程(ステップS3)においてガラス基板100を加熱することにより、滴下された配向膜材料の液滴の乾燥を促進させるようにしてもよい。   In addition, heating means (not shown) for heating the glass substrate 100 adsorbed on the adsorption table 9 (see FIG. 1) is further provided, and the glass substrate 100 is dropped by heating in the outer frame forming step (step S3). Drying of the droplets of the alignment film material may be promoted.

1 薄膜形成装置
2 架台
3 ガントリ
3a 開口
4 塗布ヘッド
4a ノズル
4b 配向膜材料の液滴
5 塗布ヘッドユニット
6 X軸移動機構
6a 固定子
6b 可動子
7 Y軸移動機構
7a 固定子
7b 可動子
8 Z軸移動機構
9 吸着テーブル
10 ヘッド回復装置
11 吸込口(吐出位置)
12 LED(撮像装置)
12A LED移動機構(撮像装置)
13 カメラ(撮像装置)
13A カメラ移動機構(撮像装置)
31 熱源装置
32 アライメントカメラ
33 アライメントカメラ移動機構
34 赤外線(加熱領域)
35 熱源装置
36 赤外線(加熱領域)
50 制御ユニット
51 ヘッド回復制御部
52 外枠塗布工程制御部
53 内面塗布工程制御部
100 ガラス基板(塗布対象物)
110 外枠パターン
Reference Signs List 1 thin film forming apparatus 2 gantry 3 gantry 3a opening 4 coating head 4a nozzle 4b droplet of alignment film material 5 coating head unit 6 X axis moving mechanism 6a stator 6b mover 7 Y axis moving mechanism 7a stator 7b mover 8 Z Shaft moving mechanism 9 Suction table 10 Head recovery device 11 Suction port (discharge position)
12 LED (imaging device)
12A LED moving mechanism (imaging device)
13 Camera (imaging device)
13A Camera moving mechanism (imaging device)
31 heat source device 32 alignment camera 33 alignment camera moving mechanism 34 infrared ray (heating area)
35 heat source device 36 infrared (heating area)
Reference Signs List 50 control unit 51 head recovery control unit 52 outer frame coating process control unit 53 inner surface coating process control unit 100 glass substrate (object to be coated)
110 Outer frame pattern

Claims (5)

塗布対象物を吸着保持する吸着テーブルと、
該吸着テーブルに吸着保持された前記塗布対象物の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッドと、
該塗布ヘッドを前記塗布対象物の上方位置で移動させるガントリと、
前記ガントリに、前記塗布対象物の表面を加熱する赤外線、可視光線または紫外線照射を含む熱源装置と、を備える薄膜形成装置であって、
前記吸着テーブルは、Z軸方向の軸を回転軸として回転角θだけ回転させるθ回転機構を備え、
前記塗布ヘッドが外枠パターンを形成する領域を通過するように移動させるとともに、前記ガントリを所定方向に移動させ、かつ、前記塗布ヘッドのノズルから塗布材を吐出して、かつ、前記ガントリの移動方向と反対の方向に配置された前記熱源装置を用いて前記吐出した塗布材を乾燥させて外枠パターンを形成し、前記外枠パターンを形成された後に、前記塗布ヘッドを前記インクジェット式ノズルのノズルピッチの1/N(Nは所定の塗布回数)移動させながら、N回塗布して前記外枠パターンで囲まれた内面に塗布材を塗布すると共に、真空チャンバに接続され、前記Z軸方向に見て前記塗布ヘッドと位置が対応するように配置された吸込口を具備したヘッド回復装置を備えることを特徴とする薄膜形成装置。
An adsorption table for adsorbing and holding an application object;
A plurality of coating heads for forming thin films while discharging a coating material from an ink jet type nozzle onto the surface of the application object held by suction on the suction table;
A gantry for moving the coating head at a position above the object to be coated;
It is a thin film forming apparatus provided with the heat source apparatus containing the infrared rays, visible light, or ultraviolet irradiation which heats the surface of the said coating object to the said gantry, Comprising:
The suction table includes a θ rotation mechanism that rotates by an angle of rotation θ with an axis in the Z axis direction as a rotation axis,
The coating head is moved so as to pass through the area forming the outer frame pattern, and the gantry is moved in a predetermined direction, and the coating material is discharged from the nozzle of the coating head, and the gantry is moved. The heat source apparatus disposed in the direction opposite to the direction is used to dry the discharged coating material to form an outer frame pattern, and after the outer frame pattern is formed, the coating head is used for the inkjet nozzle. The coating material is applied N times while moving 1 / N (N is a predetermined number of times of application) of the nozzle pitch and the coating material is applied to the inner surface surrounded by the outer frame pattern and connected to a vacuum chamber, the Z axis direction What is claimed is: 1. A thin film forming apparatus comprising: a head recovery device having a suction port disposed so as to correspond to the position of the coating head as viewed in FIG.
前記ヘッド回復装置は、前記吸着テーブルに隣接して配置されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜形成装置。The thin film forming apparatus according to claim 1, wherein the head recovery device is disposed adjacent to the suction table. 内面の塗布は、前記外枠パターンにより堰き止められるように、前記塗布材をN回塗布する
ことを特徴とする請求項1に記載の薄膜形成装置。
The thin film forming apparatus according to claim 1, wherein the coating material is applied N times so that the inner surface is blocked by the outer frame pattern.
前記塗布ヘッドのノズルから吐出された塗布材を撮像する撮像装置を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の薄膜形成装置。
The thin film forming apparatus according to claim 1, further comprising an imaging device configured to image a coating material discharged from a nozzle of the coating head.
前記塗布材は、ポリイミドの薄膜材料からなる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載の薄膜形成装置。
The thin film forming apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein the coating material is made of a thin film material of polyimide.
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