JP6505752B2 - 誘電加熱によってエアロゲルを製造するための方法 - Google Patents
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Description
1)ゾルの形成、特に溶媒中における前駆体の加水分解および縮合による形成;
2)ゼリー化と、その後に続く
3)熟成(aging)(これら2つのステップはリオゲルの形成につながる);
4)任意選択で、疎水性のリオゲルを生じさせる疎水化;
5)エアロゲルを生じさせる乾燥(亜臨界または超臨界)。
1)二酸化ケイ素ゾルの調製;
2)湿ったゲルの調製;および
3)原液の熟成および常圧下での乾燥。
a)ゾルを、任意選択で補強材および/または添加剤の存在下、形成するまたは反応器に注ぐステップ;
b)前記ゾルをリオゲルに完全にゼリー化するステップ;
c)任意選択で、前記リオゲルを疎水化して疎水性のリオゲルを生じさせるステップ;
d)前記任意選択で生じさせた疎水性のリオゲルを乾燥してエアロゲルを得るステップ
を含むエアロゲル製造方法に関し、
前記方法は、完全なゼリー化ステップb)が、100℃〜200℃、好ましくは100℃〜150℃の範囲の完全なゼリー化設定値温度Tbに達する温度の上昇を引き起こす誘電加熱を含み、温度Tbが、前記リオゲルの完全なゼリー化の終点、とりわけ、前記リオゲルのシネレシスの完了に達するのに十分な時間t1の間、この範囲内に保たれることを特徴とする。
「誘電加熱」は、本発明の意味において、電磁波の印加による加熱を意味する。本発明は、次の2つの周波数範囲に関する:
−通常の周波数が、300〜0.75mの範囲の波長に対応する1〜400MHzの間にある高周波(HF)放射;および
−75〜1.6mの範囲の波長に対応する400〜18,000MHzの間で周波数が変化するマイクロ波(MW)放射。
重合(例えば、ブラウン運動およびネットワークの柔軟性による、新しい結合、または架橋の形成による、特に縮合による強化ステップ);
硬化(溶解および再沈殿のプロセス)、これは基本的には無機のリオゲルの場合に観察される;および
溶媒の排出を伴う材料の収縮による相転移またはシネレシス。
a)ゾルを、任意選択で補強材および/または添加剤の存在下、形成するまたは反応器に注ぐステップ;
b)前記ゾルをリオゲルに完全にゼリー化するステップ;
c)任意選択で、前記リオゲルを疎水化して疎水性のリオゲルを生じさせるステップ;
d)前記任意選択で生じさせた疎水性のリオゲルを乾燥してエアロゲルを得るステップ
を含む、エアロゲル製造方法に関し;
前記方法は、完全なゼリー化ステップb)が、100℃〜200℃、好ましくは100℃〜150℃の範囲の完全なゼリー化設定値温度Tbに達する温度の上昇を引き起こすマイクロ波または高周波電磁照射による誘電加熱を含み、温度Tbが、前記リオゲルの完全なゼリー化の終点、とりわけ、リオゲルのシネレシスの完了に達するのに十分な時間t1の間、この範囲内に保たれることを特徴とする。
ゾルは、前駆体および溶媒を含む。この溶媒は有機性または水性にすることができる。1つの好ましい実施形態において、溶媒はアルコール、好ましくはエタノールである。別の実施形態では、溶媒は水である。
ステップb)の誘電加熱は、マイクロ波照射または高周波照射のいずれかによって施すことができる。有利には、印加される電磁場の周波数は、3MHz〜3000MHzの間、さらにより有利には3〜2500MHzの間に含まれる。
好ましくは、ステップd)の乾燥が亜臨界条件下で行われるとき、疎水化ステップc)は任意選択ではない。
乾燥ステップd)は好ましくは、得られるエアロゲルが、規格EN/ISO3251に従って、3%(重量%)以下の重量、好ましくは1%(重量%)の溶媒の残量を有するように実施される。用いられるプロトコルは、1gの本発明によるエアロゲルを取り、これを秤量し、次にこれを105℃のオーブン内で3時間乾燥し、次にこうして乾燥されたエアロゲルを秤量するステップからなる。乾燥後に得られるエアロゲルの重量に対するこれら2つの重量間の差の比は、重量%で溶媒の残量を求めることを可能にする。
好ましくは、ステップb)、c)またはd)の間に(好ましくは、マイクロ波または高周波照射による)誘電加熱のために印加される電磁場はリオゲル中で均質である。
dp=c/(2√(2)*πf√{ε’r[√(1+(ε’’r/ε’r)2)−1]})
式中:
−dpは、マイクロ波電力が、表面に印加される電力の1/3(3分の1)に達する浸透深さ(メートル)を表し;
−cは光速(m/s−1)を表し
−fは印加される電磁場の周波数(Hz)を表し
−ε’rは比誘電率(無次元)を表し
−ε’’rは誘電損失(無次元)を表す。
本発明による方法によって得られるエアロゲルは、顆粒またはモノリシックエアロゲルの形態で存在する。
本発明による方法によって得られるエアロゲルは、断熱材として、特に産業システムまたは方法の建築構造または断熱のために用いることができる。したがって、本発明による方法によって得られるエアロゲルは有利には、建材、特に壁および間仕切り、ならびに床または天井の製造、あるいは工業配管の断熱に用いられる。
以下の組成を有するシリカゾル:塩酸の存在下でテトラエトキシシラン(TEOS)の部分加水分解により得られるポリエトキシジシロキサンの20%エタノール溶液36.2%、エタノール54.3%、脱イオン水8.9%およびアンモニア0.6%。
実施例1の2Lのシリカゾルを、ゼリー化の前に、閉じたチャンバーに注いだ(ステップa)。次に、マイクロ波場の印加により、反応物全体において約120℃の温度に達するまで(完全なゼリー化設定値温度)反応器を加熱する(ステップb)。このとき、反応器内の絶対圧力は5バールである。完全なゼリー化設定値温度は120℃である。ステップb)の時間(tg1)は7.5分である。
実施例1の2Lのシリカゾルを、ゼリー化の前に、閉じたチャンバー内の50×20×10mm3のメラミン発泡体ウェブの上に注いだ(ステップa)。
これらの試験に用いられるプロトコルは以下の通りである。
実施例1の2Lのシリカゾルを、ゼリー化の前に、閉じたチャンバーに注いだ(ステップa)。次に、マイクロ波場の印加により、反応物全体において約120℃の温度に達するまで(完全なゼリー化設定値温度)反応器を加熱する(ステップb)。このとき、反応器内の絶対圧力は5バールである。完全なゼリー化設定値温度は約120℃である。ステップb)の期間は6分である(tg1)。
実施例1の2Lのシリカゾルを、ゼリー化の前に、閉じたチャンバーに注いだ(ステップa)。次に、マイクロ波場の印加により、反応物全体において約120℃の温度に達するまで(完全なゼリー化設定値温度)反応器を加熱する(ステップb)。このとき、反応器内の絶対圧力は5バールである。完全なゼリー化設定値温度は約120℃であり、ステップb)の時間は7.5分(tg1)である。
実施例1の100mLのシリカゾルを、ゼリー化の前に、閉じたチャンバーに注いだ(ステップa)。次に、オートクレーブをオーブン内で120℃の温度(ステップb)で30分間(tg1)加熱する。
Claims (17)
- 以下の連続するステップ:
a)ゾルを生成するか、または、ゾルを、任意選択で補強材および/または添加剤の存在下、反応器に注ぐステップ;
b)前記ゾルをリオゲルにゼリー化するステップ;
d)前記リオゲルを乾燥してエアロゲルを得るステップを含む、エアロゲル製造方法であって、
ゼリー化ステップb)が、110℃〜130℃の範囲のゼリー化設定値温度Tbに達する温度の上昇を引き起こすマイクロ波または高周波による電磁照射による誘電加熱を含み、温度Tbが、前記リオゲルのゼリー化の終点に達するのに十分な時間t1の間、この範囲内に保たれ、
ステップd)の終了時に得られる前記エアロゲルが、規格NF EN 12667の保護熱板法に従って20℃、大気圧で測定される25mW/m.K以下の熱伝導率λを有することを特徴とする、エアロゲル製造方法。 - 以下の連続するステップ:
a)ゾルを形成するか、または、ゾルを、任意選択で補強材および/または添加剤の存在下、反応器に注ぐステップ;
b)前記ゾルをリオゲルにゼリー化するステップ;
c)前記リオゲルを疎水化して疎水性のリオゲルを生じさせるステップ;
d)前記疎水性のリオゲルを乾燥してエアロゲルを得るステップを含む、エアロゲル製造方法であって、
ゼリー化ステップb)が、110℃〜130℃の範囲のゼリー化設定値温度T b に達する温度の上昇を引き起こすマイクロ波または高周波による電磁照射による誘電加熱を含み、温度T b が、前記リオゲルのゼリー化の終点に達するのに十分な時間t 1 の間、この範囲内に保たれ、
ステップd)の終了時に得られる前記エアロゲルが、規格NF EN 12667の保護熱板法に従って20℃、大気圧で測定される25mW/m.K以下の熱伝導率λを有することを特徴とする、エアロゲル製造方法。 - 時間t1が、6分以上かつ1時間以下である、請求項1または2に記載の方法。
- 温度Tbが、高周波またはマイクロ波電磁照射を用いる誘電加熱により、110℃〜130℃の間に保たれる、請求項1または2に記載の方法。
- ステップb)における高周波またはマイクロ波電磁照射による総誘電加熱時間tg1が、7分以上かつ1時間以下である、請求項4に記載の方法。
- 疎水化ステップc)が、60℃〜200℃の範囲の疎水化設定値温度Tcに達するための加熱を含み、温度Tcが、前記リオゲルの疎水化を達成するのに十分な時間t2の間、この範囲内に保たれる、請求項2に記載の方法。
- ステップc)の前記加熱が、高周波またはマイクロ波電磁照射を用いる誘電加熱により実施される、請求項6に記載の方法。
- 時間t2が、6分以上かつ1時間以下である、請求項7に記載の方法。
- 温度Tcが温度Tbと等しい、請求項6に記載の方法。
- ステップb)および/またはc)および/またはd)における誘電加熱のために印加される高周波またはマイクロ波電磁場が、前記リオゲル中で均質である、請求項2に記載の方法。
- 前記ゾルが無機シリカゾルである、請求項1または2に記載の方法。
- 前記リオゲルがアルコゲルである、請求項1または2に記載の方法。
- 乾燥ステップd)が、亜臨界条件の下で実施される、請求項2に記載の方法。
- 乾燥ステップd)が、熱的または誘電乾燥の下で実施される、請求項13に記載の方法。
- 前記方法によって得られる前記エアロゲルが、150kg/m3以下の見掛け密度を有する、請求項1または2に記載の方法。
- Tcが70℃〜150℃の範囲である、請求項7に記載の方法。
- 前記エアロゲルが、規格NF EN 12667の保護熱板法に従って20℃、大気圧で測定される21mW/m.K以下の熱伝導率λを有する、請求項1または2に記載の方法。
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